JP4217374B2 - 4−チオ置換フェノール又は1−ナフトール化合物の製造方法 - Google Patents
4−チオ置換フェノール又は1−ナフトール化合物の製造方法 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、4位が無置換のフェノール化合物又は1−ナフトール化合物のから一段階で、チオアルキル部に水溶性基を有する4−チオ置換フェノール及び4−チオ置換1−ナフトール誘導体の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
本発明によって得られる4−チオ置換フェノール及び4−チオ置換1−ナフトール誘導体は染料や医薬、農薬及び有機合成中間体などの原料として重要であり、またこれらの化合物は写真化学の分野では2当量シアン発色カプラ−としても有用である。特に本発明の様なチオール離脱基を放出するカプラーは、写真システムにおいて望ましい特徴を得るための貴重なツールとして有用である。例えば、米国特許第3227554号、同4,556,630号、同4,853,319号、特開昭60-50533号、同60-91355号、同61-201247号、同62-173467号にその例を見ることができる。
【0003】
フェノール誘導体及び1−ナフトール誘導体の4位にアルキルチオ基を導入するいくつかの方法が知られている。そのうち、4位が無置換のフェノール及び1−ナフトール誘導体と、開裂基にイオウが結合されているチオール誘導体との反応による合成法の例は、特開平1−186856号記載のハロゲン化スルフェニル、米国特許第4,293,691号及び特開昭59−37890号記載のS−アルキルイソチオ尿素、特開平2−111756号記載のチオールスルホネートを挙げることができる。
【0004】
しかし、本発明の一般式(III−a)又は(III−b)の様な化合物を合成しようとする場合、ハロゲン化スルフェニル法は原料のハロゲン化スルフェニルが不安定で目的物が得られず、S−アルキルイソチオ尿素法は有毒なチオ尿素を原料として使用しなければならない。
【0005】
チオールスルホネート法については、本発明の化合物について一部記載があるがその製造方法についての記載はない。また、混合二硫化物を使用する特開平11−5777号、及び特開平1−186858号が知られているが特開平11−5777号記載の方法は、爆発性の懸念のある複素環スルフェニルクロライトを使用しており、また特開平1−186858号は開裂基部分がフェノール誘導体及び1−ナフトール誘導体の4位と反応してしまった望ましくない化合物が多く生成する。
【0006】
以上の様な事から、簡便に高収率で安全に4位のチオアルキル部に水溶性基を有する、4−チオ置換フェノール及び4−チオ置換1−ナフトール誘導体を製造する方法が望まれていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、高収率且つ簡便に目的とする4位のチオアルキル部に水溶性基を有する、4−チオ置換フェノール及び4−チオ置換1−ナフトール誘導体を製造する製造方法を提供する事である。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、下記一般式(I−a)または、一般式(I−b)で表されるフェノール又は1−ナフトール化合物と、一般式(II)で表されるチオスルホナートを塩基の存在下反応させ、一般式(III−a)または一般式(III−b)で表される4−チオ置換フェノール又は1−ナフトール化合物を得ることを特徴とする4−チオ置換フェノール又は1−ナフトール化合物の製造方法である。
【0009】
【化4】
【0010】
【化5】
【0011】
【化6】
【0012】
式中、R1は、芳香族環に置換可能な基を表す。R2は、アルキル基、アリール基、複素環残基を表す。R3及びR4は同じであっても異なってもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を表し、お互いに結合して環を形成しても良い。R1、R2、R3、及びR4は更に置換基を有しても良い。nは0〜4の、mは0〜6の整数を示す。n又はmが複数の時R1は同じでも異なってもよく、お互いに結合して環を形成しても良い。Xは水溶性基を表し、具体的には、CO 2 M、SO n M(nは1〜3の整数)、PO(OM) 2 を表し、Mは、水素原子、一価又は二価の金属原子、もしくはアンモニウム塩を表す。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下に本発明について詳細に説明する。
一般式(I−a)又は、(I−b)で表される化合物のR1は芳香環に置換可能な基であり、例えば水素原子、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、フォスフィニル基、フォスフィニルオキシ、フォスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【0014】
すなわちR1としてはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基{(好ましくは炭素数1から30のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、エイコシル、2−クロロエチル、2−シアノエチル、2―エチルヘキシル)を表す。シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3から30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、4−n−ドデシルシクロヘキシル)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5から30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル)、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。}。
【0015】
または、R1としては、アルケニル基(好ましくは炭素数2から30の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル)を表す。シクロアルケニル基(好ましくは、炭素数3から30の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3から30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル)、ビシクロアルケニル基(置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル)]を表す。
【0016】
または、R1としては、アルキニル基(好ましくは、炭素数2から30の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基(好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル)を表す。
【0017】
または、R1としては、複素環基(好ましくは5または6員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、ベンゼンのような芳香族炭化水素環が縮合していてもよい。更に好ましくは、炭素数3から30の5もしくは6員の芳香族の複素環基である。例えば、2−フリル、2−チエニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル)を表す。
【0018】
または、R1としては、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、n−オクチルオキシ、2−メトキシエトキシ)、アリールオキシ基(好ましくは、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−t−ブチルフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ)、シリルオキシ基(好ましくは、炭素数3から20のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ)を表す。
【0019】
または、R1としては、複素環オキシ基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換の複素環オキシ基、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、アシルオキシ基(好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2から30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ)、カルバモイルオキシ基(好ましく、炭素数1から30の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ、N−n−オクチルカルバモイルオキシ)を表す。
【0020】
または、R1としては、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、n−オクチルカルボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ)を表す。
【0021】
または、R1としては、アミノ基(好ましくは、アミノ基、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ)、アシルアミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数2から30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数7から33の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ)を表す。
【0022】
または、R1としては、アミノカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、フェニルアミノカルボニルアミノ基、4−シアノフェニルアミノカルボニルアミノ基)、シリル基、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ)を表す。
【0023】
または、R1としては、スルファモイルアミノ基(好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ)、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、p−メチルフェニルスルホニルアミノ)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0から30の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、N−エチルスルファモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N−アセチルスルファモイル、N−ベンゾイルスルファモイル、N−(N’−フェニルカルバモイル)スルファモイル)を表す。
【0024】
または、R1としては、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基(好ましくは、炭素数1から30の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、6から30の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、p−メチルフェニルスルフィニル)、アルキル及びアリールスルホニル基(好ましくは、炭素数1から30の置換または無置換のアルキルスルホニル基、6から30の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、p−メチルフェニルスルホニル)、アシル基(好ましくはホルミル基、炭素数2から30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、2−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル)を表す。
【0025】
または、R1としては、アリールオキシカルボニル基(好ましくは、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、o−クロロフェノキシカルボニル、m−ニトロフェノキシカルボニル、p−t−ブチルフェノキシカルボニル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル)、カルバモイル基(好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル、N−(メチルスルホニル)カルバモイル)を表す。
【0026】
または、R1としては、イミド基(好ましくは、N−スクシンイミド、N−フタルイミド)、ホスフィノ基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ)、ホスフィニル基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル)、ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ)、ホスフィニルアミノ基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ)、シリル基(好ましくは、炭素数3から30の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル)を表わす。
【0027】
上記R1のなかで水素原子を有するものは、これを取り去り更に置換基を有してもよく、そのような置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、p−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【0028】
n又はmが複数の時はR1は同じでも異なってもよく、またお互いに結合して芳香族炭化水素環、脂肪族環又は複素環を形成してもよい。
【0029】
一般式(II)で表される化合物のR2としては、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アリール基及び複素環基を表す。R3及びR4は同じであっても異なってもよくそれぞれ、水素原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アリール基、複素環基、ヒドロキシル基及びカルボキシル基を含む。R3とR4は5員環又は6員環を形成してもよく、環内原子にヘテロ原子を有していても良い。
【0030】
R2〜R4により表されるアルキル基、アリール基及び複素環基を以下に詳細に説明する。
アルキル基{(好ましくは炭素数1から30のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、エイコシル、2−クロロエチル、2−シアノエチル、2―エチルヘキシル)を表す。シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3から30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、4−n−ドデシルシクロヘキシル)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5から30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル)、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。}、アリール基(好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル)、複素環基(好ましくは5または6員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、ベンゼンのような芳香族炭化水素環が縮合していてもよい。更に好ましくは、炭素数3から30の5もしくは6員の芳香族の複素環基である。例えば、2−フリル、2−チエニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル)を表す。
【0031】
Xの表す水溶性基は、CO2M,SOnM(nは1〜3の整数),PO(OM)2を表し、それぞれカルボキシル基、スルフィニル基、スルホ基、スルホニル基、ホスホ基を表す。この内Xとしてはカルボキシル基が好ましい。Mは水素原子、一価又は二価の金属原子及びアンモニウム塩を表す。一価又は二価の金属原子としては、ナトリウム原子、カリウム原子、カルシウム原子、バリウム原子等を挙げる事ができる。四級アンモニウム塩としては、トリエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム等を挙げる事ができる。好ましいMとしては、水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子を挙げる事ができる。
【0032】
一般式(III−a)及び一般式(III−b)において、R1、R3、R4、X、n及びmは上述したR1、R3、R4、X、n及びmとそれぞれ同義である。
一般式(I−a)又は(I−b)で表される化合物のうち、以下の一般式(IV)、(V)で表される化合物が好ましい。
【0033】
【化7】
【0034】
一般式(IV)又は(V)で表される置換基のうち、R1は前述のR1と同義である(ただし、水素原子を除く)。
一般式(IV)で表される化合物のRとしては、{アルキル基(好ましくは炭素数1から30のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、エイコシル、2−クロロエチル、2−シアノエチル、2―エチルヘキシル)、シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3から30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、4−n−ドデシルシクロヘキシル)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5から30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル)、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。}を表す。
【0035】
Arとしては、アリール基(好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル)が挙げられる。
R又はArの置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【0036】
n’は0〜2までの整数を表す。
一般式(V)においてR5は水素原子又はR7−Yを表す。ただし、R7はYでNHと結合するものとする。
ここでR7は水素原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、スルファモイル基、、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、が例として挙げられる。
【0037】
Yはアミノ基、−C(=O)−、−SO2−、−SO−または単結合を表す。
【0038】
m’は0〜4の整数を表す。
一般式(IV)におけるR1とR、一般式(V)におけるR1とR5又は一般式(IV)及び一般式(V)において複数のR1がお互いに結合してそれぞれ環を形成してもよい。R1とR5、R1とRが結合する例として−CH2C(=O)−、−OC(=O)−、−NHC(=O)−、−C(CH3)2C(=O)−、−CH=CHC(=O)−等がある。複数のR1が結合する例として−(CH2)3−、−(CH2)4−、−OC(=O)−、−OCH2CH2O−、−OC(=O)NH−、−NHC(=O)NH−、−(CH=CH)2−、−OCH2O−、−(O=)C(CH3)2O−等がある。
【0039】
一般式(IV)、(V)において好ましいR1はカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−(2−エチルヘキシル)カルバモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル基、N−〔3−(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)プロピル〕カルバモイル基、N−エチル−N−フェニルカルバモイル基、スルファモイル基、N,N−ジエチルスルファモイル基、ピリジノスルフォニル基、N−〔3−(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)プロピル〕スルファモイル基が挙げられる。
【0040】
一般式(IV)における(R1)n’及び一般式(V)における(R1)m’の好ましいn’、m’はともに0であり、ついでn’、m’とも1である。n’又はm’が1の時のR1としてはハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、トリフロメチル基、メトキシ基又はシアノ基が好ましい。R1の置換位置はR5−NH又はNHCORに対して、2位又は4位が好ましい。
一般式(V)のR7−Yにおいて好ましいR7−Yは、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基が挙げられる。
【0041】
一般式(II)で表される化合物は従来公知の方法で合成できる。たとえば、スルフィン酸またはその金属塩とスルフェニルクロライドを反応させる方法、メルカプタンとスルホニルクロライドを反応させる方法、チオスルホン酸塩とハロゲン化合物を反応させる方法、スルホニルクロリドの二分子還元及びジスルフィドの酸化などがある。これらの合成法はケミカルアブストラクツ(Chemical Abstracts)49巻、2346巻、同54巻、16416巻、同63巻及び14739、同64巻14119などに記載されている。
【0042】
本発明において用いられる塩基の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム、トリウムアミド、酸化カルシウム、酸化バリウム、t−ブトキシカリウム、グアニジン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン(DBN)、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、トリメチルシリルオキシカリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、金属ナトリウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウム、ジイソプロピルアミドリチウム等が挙げられる。
【0043】
本発明において好ましく用いられる塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシドナトリウムエトキシド、水素化ナトリウム、水酸化カリウム等が好ましく用いられる。
【0044】
次に本発明の反応条件について詳しく述べる。
本発明において一般式(II)で表されるチオスルホナートの一般式(IV)及び(V)で示される化合物に対するモル比は0.01〜1000であり、好ましくは0.1〜50、更に好ましくは0.5〜10である。
【0045】
本発明の反応に使用可能な溶媒としては、塩化エチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキサイド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、、ジオキサン、ジグライム、ベンゼン、トルエン、、ヘキサメチルホスホリルトリアミドスルホラン、ジエチルカーボネート、1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、メチルセルソルブ、酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、キシレン、酢酸、石油エーテル、水等を挙げることができ、これらは単独または二種以上混合して用いても良い。本発明の溶媒としては、N,N−ジメチルアセトアミド、イソプロパノール、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等が好ましい。
【0046】
反応温度は−78℃〜250℃、好ましくは−20℃〜200℃、更に好ましくは0℃〜100℃である。反応時間は1分〜72時間、好ましくは15分〜48時間、更に好ましくは30分〜12時間である。
塩基の一般式(IV)または(V)で表される化合物に対するモル比は0.01〜1000、好ましくは0.2〜100、更に好ましくは0.5〜20である。
【0047】
以下に本発明を適用する化合物の具体例を示すが、これに限定されるものではない。
【0048】
一般式(I)(一般式(IV)及び(V))で表される化合物の具体例を示す。
【0049】
【化8】
【0050】
【化9】
【0051】
【化10】
【0052】
【化11】
【0053】
【化12】
【0054】
【化13】
【0055】
【化14】
【0056】
以下に一般式(II)で表される化合物の具体例を示す。
【化15】
【0057】
【化16】
【0058】
【化17】
【0059】
【化18】
【0060】
【化19】
【0061】
【化20】
【0062】
以下に一般式(III−a)及び(III−b)で表される化合物の具体例を示す。
【化21】
【0063】
【化22】
【0064】
【化23】
【0065】
【化24】
【0066】
【化25】
【0067】
【化26】
【0068】
【化27】
【0069】
以下に比較化合物を示す。
【化28】
【0070】
【実施例】
以下に本発明の具体的合成例を示すが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
実施例1 化合物(III−13)の合成
例示化合物(I−13)34.0g(0.059mol)、例示化合物(II−1)23.0g(0.0885mol)、及び炭酸カリウム24.4g(0.177mol)にアセトニトリル170mLを加え内温80度で2時間加熱撹拌する。
【0071】
2時間後、内温30度以下まで冷却しこれに水340mLを注加する。この溶液に、12N塩酸27mLを20度以下で30分間にわたって加え、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥して例示化合物(III−13)の粗結晶40g得た。この結晶をトルエン80mLから再結晶して例示化合物(III−13)を35g得た。収率87%。
【0072】
元素分析値:
(実測値) C 67.00 H 7.68 N 4.09;
(計算値) C 67.03 H 7.70 N 4.11。
【0073】
実施例2 化合物(III−11)の合成
例示化合物(I−11) 34.0g(0.097mol)、例示化合物(II−12) 39.3g(0.146mol)、及び炭酸カリウム67g(0.485mol)にトルエン/DMAC(N,N−ジメチルアセトアミド)(10:1)300mLを加え内温80度で2時間加熱撹拌する。
【0074】
2時間後、内温30度以下まで冷却しこれに水300mLを注加する。この溶液に、12N塩酸42mLを20度以下で30分間にわたって加えた後抽出した。これに硫酸マグネシウムを加え一夜放置後減圧濾過、濾液を濃縮乾固し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:nヘキサン=1:3)で精製すると例示化合物(III−11)を35.3g得た。収率80%。
【0075】
元素分析値:
(実測値) C 58.24 H 4.90 N 12.45;
(計算値) C 58.14 H 4.88 N 12.33。
【0076】
実施例3 化合物(III−22)の合成
例示化合物(I−22)20g(0.043mol)、例示化合物(II−15)13.6g(0.064mol)、及びトリエチルアミン17.8mL(0.128mol)にアセトニトリル150mLを加えリフラックス状態で4時間加熱撹拌する。
【0077】
4時間後、内温30度以下まで冷却しこれに水340mLを注加する。この溶液に、12N塩酸11mLを20度以下で30分間にわたって加えるとオイル成分が析出した。上澄みをデカンとして除き、オイル成分を酢酸エチル150mLに加温溶解した。これに硫酸マグネシウムを加え一夜放置後減圧濾過、濾液を濃縮乾固し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:nヘキサン=1:3)で精製すると例示化合物(III−22)を15.9g得た。収率 65%。
【0078】
元素分析値:
(実測値) C 62.60 H 8.00 N 7.10:
(計算値) C 62.80 H 7.55 N 7.32。
【0079】
比較例1
例示化合物(I−13)34.0g(0.059mol)、比較化合物−1を23.0g(0.0885mol)、及び炭酸カリ24.4g(0.177mol)にトルエン/DMAC(N,N−ジメチルアセトアミド)(10:1)200mLを加えリフラックス度で2時間加熱撹拌する。
【0080】
2時間後、内温30度以下まで冷却し反応混合物に酢酸エチル50mLを加え抽出した。これに硫酸マグネシウムを加え一夜放置後減圧濾過、濾液を濃縮乾固し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:nヘキサン=1:15)で精製すると比較化合物−2を34.9g得た。収率 85%
これに、テトラヒドロフラン100mLを加え室温で33wt%NaOHaq6gを加え室温で2時間撹拌後内温30度で1時間更に撹拌を続け、20℃以下まで冷却し6N塩酸9mLを加えた後、反応混合物を酢酸エチル200mLで抽出した。これに硫酸マグネシウムを加え一夜放置後減圧濾過、濾液を濃縮乾固し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:nヘキサン=1:3)で精製すると例示化合物(III−13)を7.2g得た。収率21%。
Claims (1)
- 下記一般式(I−a)または、一般式(I−b)で表されるフェノール又は1−ナフトール化合物と、一般式(II)で表されるチオスルホナートを塩基の存在下で反応させ、一般式(III−a)または一般式(III−b)で表される4−チオ置換フェノール又は1−ナフトール化合物を得ることを特徴とする4−チオ置換フェノール又は1−ナフトール化合物の製造方法。
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