JP4115730B2 - １，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法 - Google Patents
１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に用いるイエロー色素形成カプラーもしくはその合成中間体、並びに色素、医薬、農薬または電子材料等の合成中間体等として有用な１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
２位が置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアリール基で３位が置換もしくは無置換のアルキル基である１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物は米国特許第３，８４１，８８０号に記載のようにハロゲン化銀写真感光材料のイエロー色素形成カプラーおよびその中間体、あるいは色素、医薬、農薬、電子材料等の合成中間体として有用である。
これらの化合物の合成法としてはこれまで米国特許第３，８４１，８８０号に２−アミノベンゼンスルホンアミドとβ，β−ジエトキシアクリル酸エチルとを反応させて、３−エトキシカルボニルメチル−１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシドを合成する方法が記載されているが、１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の２位に置換基を有する化合物の合成において、閉環反応を完結させるには高い反応温度と長い反応時間が必要であることが問題であった。さらに、該特許には、酢酸を添加することにより反応が促進されることが記載されているがその効果は充分ではなかった。
またＪ．Ｃｈｉｎ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４５，８０５（１９９８）記載のように２位（もしくは４位）が水素の１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物をアルキル化する方法も知られているが、この方法では２位アルキル体と４位アルキル体の混合物となる欠点があった。さらに、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，６，１２２（１９６３）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５１，１９６７（１９８６）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，３９，２０７３（１９８３）に記載のように２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物とオルトエステル化合物を反応させる方法があった。しかしながらこの反応ではいずれも高い反応温度を必要とするという問題があった。Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１６，８１５（１９５１）にも２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物とオルトエステル化合物を反応させる方法が記載されているが、収率が低いという問題があった。またＨｕａｘｕｅ Ｓｈｉｊｉ，２１，２３５（１９９９）に記載のように２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物をアシル化剤でアシル化した後オキシ塩化リンで環化させる方法もあったが、工程数が長く、またアシル部分に官能基を有する場合には環化工程の収率が低いという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、入手の容易な原料から短工程で、温和な反応条件で、収率良く１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物を製造する方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、以下に示す安価な原料から導かれる一般式（III）で表される２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物を経て、以下に示す一般式（II）で表されるイミノエーテル化合物を中間体として合成し、これを塩基の存在下に閉環反応させることにより、以下に示す一般式（Ｉ）で表される１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物が合成できることを見出し、この知見に基づき本発明をなすに至った。
【０００５】
すなわち本発明は、
（１）下記一般式（III）で表される２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物と下記一般式（IV）で表される１，１−ジアルコキシアルケン化合物または下記一般式（Ｖ）で表されるオルトエステル化合物とを酸の存在下に反応させて、下記一般式（II）で表されるイミノエーテル化合物を合成した後、該イミノエーテル化合物を単離することなく塩基の存在下に閉環反応させることを特徴とする下記一般式（Ｉ）で表される１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
【０００６】
【化８】
【０００７】
（式中、Ｒ１は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ３は水素原子または置換基を表す。）
【０００８】
【化９】
【０００９】
（式中、Ｒ１は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ３は水素原子または置換基を表す。Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
【００１０】
【化１０】
【００１１】
（式中、Ｒ１は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。）
【００１２】
【化１１】
【００１３】
（式中、Ｒ３は水素原子または置換基を表す。Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
【００１４】
【化１２】
【００１５】
（式中、Ｒ３は水素原子または置換基を表す。Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
（２）前記塩基が、有機塩基、金属水素化物または金属アルコキサイドであることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（３）前記塩基が、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタンまたは金属アルコキサイドであることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（４）前記塩基が、金属アルコキサイドであることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（５）トルエンまたはキシレンから選択される溶媒を使用することを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の製造方法。
（６）前記塩基存在下の反応が、トルエンまたはキシレン還流下に行われることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１項に記載の製造方法。
（７）前記酸が、ｐ−トルエンスルホン酸であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１項に記載の製造方法。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を詳細に説明する。
式中、Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ２の基の例としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。
【００２１】
なお、上述の基はさらに置換基で置換されていてもよく、該置換基としては上述の基が挙げられる。
【００２２】
以下にＲ２の基の例を更に説明する。
これらの基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル、３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルが挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【００２３】
アルケニル基［直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）が挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）］、やトリシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が得に好ましい。）アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
【００２４】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【００２５】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
【００２６】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００２７】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、Ｎ−１,３，５−トリアジン−２−イルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、
【００２８】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、
【００２９】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、
【００３０】
アルキルまたはアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルまたはアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、
【００３１】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールまたはヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、
【００３２】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
【００３３】
上記の基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００３４】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアリール基を表す。Ｒ１が有しても良い置換基の例としては前記Ｒ２の置換基の例として挙げたものが挙げられる。
【００３５】
好ましくはＲ１は、置換もしくは無置換のアルキル基である。Ｒ１の総炭素数はアルキル基の場合１以上６０以下が好ましく、１以上５０以下がより好ましく、１以上４０以下がさらに好ましい。またアリール基の場合６以上６０以下が好ましく、６以上５０以下がより好ましく、６以上４０以下がさらに好ましい。
【００３６】
一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｒ３は水素原子または置換基を表す。この置換基の例としては前述のＲ２の基の例として挙げたものが挙げられる。好ましくはＲ３は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基である。より好ましくはＲ３は水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基である。
【００３７】
次に本発明の一般式（II）で表される化合物を詳細に説明する。
一般式（II）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎは一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。
一般式（II）において、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。好ましくはＲ４は無置換のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、最も好ましくはエチル基である。
なお一般式（II）で表される化合物の−Ｎ＝Ｃ（ＯＲ４）−ＣＨ２−結合のメチレン基上の水素原子が１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド環上の４位の窒素原子上に移動して−ＮＨ−Ｃ（ＯＲ４）＝ＣＨ−結合となった互変異性体も本発明に含まれる。本明細書に記載された化学構造式は便宜上これらの互変異性体の１つを記載したものであり、いずれの互変異性体も本発明に包含される。
【００３８】
次に本発明の一般式（III）で表される化合物を詳細に説明する。
一般式（III）において、 Ｒ１、Ｒ２、ｎは一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。
【００３９】
一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物を詳細に説明する。
一般式（IV）及び（Ｖ）中、Ｒ３は一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。Ｒ４は一般式（II）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。上記各式において、Ｒ４は複数存在するが、これらの複数のＲ４は互いに同一であっても異なってもよい。本発明においては、同一分子中のＲ４はいずれも同じものが好ましい。
【００４０】
一般式（Ｉ）で表される化合物には、置換基の種類に応じて１個または２個以上の不斉炭素を有する場合があるが、これらの不斉炭素に基づく任意の光学異性体またはジアステレオ異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。また純粋な形態の異性体のほか、それらの任意の混合物、ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。本発明の上記化合物が１個または２個以上の二重結合を含む場合には、これらに二重結合に基づく任意の幾何異性体も本発明の範囲に包含される。
【００４１】
本発明において一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお活性メチレン部の水素原子（Ｒ３が置換した炭素原子上の水素原子）が、１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオン環中のＣ＝Ｎ部の窒素原子（該環の４位の窒素原子）上に移動した互変異性体も本発明に含まれることとする。本明細書に記載された化学構造式は便宜上これらの互変異性体の１つを記載したものであり、いずれの互変異性体も本発明に包含される。
【００４２】
【化１５】
【００４３】
【化１６】
【００４４】
【化１７】
【００４５】
【化１８】
【００４６】
【化１９】
【００４７】
【化２０】
【００４８】
以下に一般式（II）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４９】
【化２１】
【００５０】
【化２２】
【００５１】
【化２３】
【００５２】
【化２４】
【００５３】
【化２５】
【００５４】
【化２６】
【００５５】
一般式（III）で表される化合物の具体例は、上記一般式（II）で表される化合物の具体例で示した化合物から特定される。すなわち、上記各化合物の−Ｎ＝Ｃ（ＯＲ４）ＣＨ２Ｒ３部分が−ＮＨ２である化合物である。本発明においてはこれらに限定されるものではない。
【００５６】
以下に一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５７】
【化２７】
【００５８】
【化２８】
【００５９】
【化２９】
【００６０】
【化３０】
【００６１】
【化３１】
【００６２】
なお、以降の説明において、以上に示された例示化合物を引用する場合、それぞれの例示化合物に付された括弧書きの番号（ｘ）を用いて、「例示化合物（ｘ）」と表示することとする。
【００６３】
本発明は一旦できる一般式（II）で表される中間体を単離せずに、すなわちより具体的には、１ポットで引き続き反応を行うことにより、一般式（Ｉ）で表される化合物を合成するものであるが、一般式（II）で表される中間体を一旦単離あるいは抽出、濃縮等の操作により反応混合物を得てから、さらに、この中間体あるいは反応混合物を別の条件で反応させて一般式（Ｉ）で表される化合物を合成することもできる。
【００６４】
本発明の方法で使用される一般式（III）で表される化合物、一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物は、既知の種々の方法によって合成できる。
一般式（III）で表される化合物は、最も一般的にはオルトニトロベンゼンスルホニルクロライド類とアミン類を反応させた後、ニトロ基を還元することにより、容易に合成できる。
一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物は最も一般的にはニトリル類を、アルコール存在下、エーテル等の溶媒中で酸の存在下に反応させることにより、容易に合成できる。
【００６５】
一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法においては、一般式（III）で表される化合物の合成段階から一般式（Ｉ）で表される化合物自身を合成する工程を、途中の中間体を単離することなく、または／及び単に反応液を抽出、濃縮等の操作で得た反応混合物を使用して、製造することもできる。
具体的には、一般式（III）で表される化合物を合成するための出発原料のオルトニトロベンゼンスルホニルクロライド類とアミン類を反応させた後、単離せずにニトロ基を還元し、生成した一般式（III）で表されるアニリン化合物を単離することなく引き続き一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物と反応させ、一旦できる一般式（II）で表される中間体を単離せずに、１ポット（同一反応釜）で引き続き反応を行って一般式（Ｉ）で表される化合物を合成しても良いし、一般式（II）で表される中間体を一旦単離あるいは抽出、濃縮等の操作により反応混合物を得てから、さらに、この中間体あるいは反応混合物を別の条件で反応させて一般式（Ｉ）で表される化合物を合成してもよい。
生産性向上および製造コスト低減のためには、これらの反応工程を全て１ポットで行うのが好ましい。
【００６６】
ここで用いる一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物とは一般に１０：１〜１：１００のモル比で使用され、好ましくは１０：１〜１：１０のモル比で使用され、さらに好ましくは５：１〜１：５のモル比で使用され、特に好ましくは１：１〜１：３のモル比で使用される。
【００６７】
本発明の反応においては、無溶媒で反応を行ってもよいが、好ましくは適当な溶媒に溶解または分散して行ってもよい。本発明の反応に用いることのできる溶媒としては、例えば水、アルコール系溶媒（例えば、メタノール、イソプロパノール）、塩素系溶媒（例えばジクロロメタン、クロロホルム）、芳香族系溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン）、アミド系溶媒（例えば、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド）、ウレイド系溶媒（例えば１、３―ジメチル−２―イミダゾリジノン）、ニトリル系溶媒（例えば、アセトニトリル）、エーテル系溶媒（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）、スルホン系溶媒（例えば、スルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えば、ジメチルスルホキシド）、リン酸アミド系溶媒（例えば、ヘキサメチルホスホリックトリアミド）、炭化水素系溶媒（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン）が挙げられる。
【００６８】
これら溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量としては、一般式（III）で表される化合物の１質量部当たり、もしくは一般式（II）で表される中間体１質量部当たり、好ましくは０．１ 〜１０００質量部、より好ましくは０．５〜１００質量部、さらに好ましくは１〜５０質量部の割合で使用される。
【００６９】
好ましくは一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応においては芳香族系溶媒を用いることが好ましく、トルエン、キシレンがより好ましい。また一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する段階においても、芳香族系溶媒が好ましく、トルエン、キシレンがより好ましい。
【００７０】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において用いることができる酸としては、塩化水素、臭化水素、沃化水素、硫酸、炭酸等の無機酸類、酢酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、蓚酸、マレイン酸、安息香酸、サリチル酸、フタル酸等の有機カルボン酸類、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸類、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸類等が挙げられる。より好ましいのは硫酸、酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、 ｐ−トルエンスルホン酸であり基質によって選択される。
【００７１】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において、一般式（III）で表される化合物と酸とのモル比は一般に１：０.００１〜１：１００のモル比で使用され、好ましくは１：０.００１〜１：５０のモル比で使用され、さらに好ましくは１：０.００１〜１：１０のモル比で使用され、特に好ましくは１：０.００１〜１：３のモル比で使用される。
【００７２】
一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する反応において用いることができる塩基としては、有機塩基（トリエチルアミン、トリブチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン（ＤＢＮ）１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン等）、金属水素化物（水素化ナトリウム、水素化カリウム等）、金属アルコキサイド（ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサンド、ｔ−ブトキシカリウム、ｔ−ブトキシナトリウム等）、金属水酸化物（水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等）、炭酸塩基（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム）、カルボン酸塩基（酢酸ナトリウム）等を挙げることができる。より好ましいのは１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサンド、ｔ−ブトキシカリウム、ｔ−ブトキシナトリウムが挙げられ、基質により選択される。
【００７３】
一般式（II）で表される化合物を塩基の存在下で閉環する反応において、一般式（II）で表される化合物と使用する塩基とのモル比は一般に１：０.００１〜１：１００のモル比で使用され、好ましくは１：０.０１〜１：５０のモル比で使用され、さらに好ましくは１：０.０１〜１：１０のモル比で使用され、特に好ましくは１：０.０１〜１：３のモル比で使用される。
【００７４】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において、反応温度としては特に制限はないが、０℃から３００℃の範囲で実施可能であり、好ましくは１０℃から２５０℃の範囲で実施でき、さらに好ましくは２０℃から２００℃の範囲で実施できる。また一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する段階において、反応温度は特に制限はないが、０℃から３００℃の範囲で実施可能であり、好ましくは１０℃から２５０℃の範囲で実施でき、さらに好ましくは２０℃から２００℃の範囲で実施でき、基質により選択される。
【００７５】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において、反応時間としては、１分から５０時間の範囲で実施可能であり、好ましくは１分から２０時間の範囲で実施でき、さらに好ましくは１分から５時間の範囲で実施できる。また一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する反応において、反応時間としては、１０分から５０時間の範囲で実施可能であり、好ましくは１０分から２０時間の範囲で実施でき、さらに好ましくは１０分から１０時間の範囲で実施でき、基質により選択される。
【００７６】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７７】
＜実施例１＞ 例示化合物（８）の合成
例示化合物（８）は、以下に示すとおり合成した。
【００７８】
【化３２】
【００７９】
化合物（Ａ−１）１０．０ｇ（２３.６ミリモル）、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）５．３２ｇ（２８.３ミリモル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.０４５ｇ（０.２４ミリモル）にトルエン２０ｍｌを加え、加熱還流を３０分行なった。ｔ−ブトキシナトリウム０.２２６ｇ（２.４ミリモル）を添加した後、加熱還流を５時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを３０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノールにて晶析して目的の例示化合物（８）１１.２ｇを得た。。収率９１．１％。 ｍ．ｐ．８０〜８１℃。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）１１．７２（ｓ、１Ｈ）、７．７８（ｄ、１Ｈ）、７．５８（ｔ、１Ｈ）、７．１９（ｔ、１Ｈ）、７．１０（ｄ、１Ｈ）、４．６１（ｓ、１Ｈ）、４．２０（ｑ、２Ｈ）、２．２７（ｓ、３Ｈ）、１．３２（ｔ、３Ｈ）、（エナミンフォーム）。
【００８０】
＜実施例２＞ 例示化合物（８）の合成
化合物（Ａ−１）８.４９ｇ（２０ミリモル）、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）４．５４ｇ（２４ミリモル）、酢酸０．６０ｇ（６.５２ミリモル）にキシレン２０ｍｌを加え加熱還流を３０分行った。ＤＢＵ３.０４ｇ（２０ミリモル）を添加し、７時間過熱還流を行った。冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを３０ｍｌ加えた。水洗を行った後、硫酸ナトリウムで有機溶媒層を乾燥した。溶媒を減圧留去した後、メタノールで晶析して目的の例示化合物（８）を８.７８ｇ得た。収率８４.０％。
【００８１】
＜実施例３＞ 例示化合物（８）の合成
例示化合物（８）は、以下に示すとおり合成した。
【００８２】
【化３３】
【００８３】
オクタデシルアミン３０ｇ（０.１１１モル）、トリエチルアミン１５.８ｍｌ（０.１１３モル）にキシレン１５０ｍｌを加え、３０℃に加熱した。この溶液にオルトニトロベンゼンスルホニルクロライド（Ｓ−１）２４.７ｇ（０.１１１モル）を分割添加すると発熱により５０℃まで達した。６０℃で２時間攪拌した後、温水で２回洗浄して化合物（Ｓ−２）を含むトルエン溶液を得た。この溶液を５００ｍｌオートクレーブに移し、エタノール３０ｍｌ、Ｒａ−Ｎｉ５ｇを加えた。水素ガスを５０ｋｇ／ｃｍ２充填し８０℃で２時間攪拌を行なった。理論量の水素圧が消費されたのを確認し、触媒を減圧濾過により除去した。この溶液にに含まれるエタノールを減圧下で留去した。この残渣に、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）２５．１ｇ（０.１３３モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.２１２ｇ（１.１１ミリモル）を加え、加熱還流を３０分行なった。ｔ−ブトキシナトリウム１.０７ｇ（１１.１ミリモル）を添加した後、加熱還流を５時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを１５０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノール１８０ｍｌにて晶析して目的の例示化合物（８）５１.０ｇを得た。。収率８７.９％。
＜実施例４＞ 例示化合物（１０）の合成
例示化合物（１０）は、以下に示すとおり合成した。
【００８４】
【化３４】
【００８５】
化合物（Ｂ−１）１０．０ｇ（２２.４ミリモル）、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）５．０６ｇ（２６.９ミリモル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.０４３ｇ（０.２２４ミリモル）にトルエン２０ｍｌを加え、加熱還流を３０分行なった。ｔ−ブトキシナトリウム０.２１５ｇ（２.２４ミリモル）を添加した後、加熱還流を５時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを２０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノールにて晶析して目的の例示化合物（１０）１０.１ｇを得た。収率８３.１％。 ｍ．ｐ．７６〜７７℃。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）１１．８２（ｓ、１Ｈ）、７．７７（ｄ、１Ｈ）、７．５６（ｔ、１Ｈ）、７．２２〜７．０５（ｍ、４Ｈ）、６．７３（ｄ、１Ｈ）、４．８０（ｓ、１Ｈ）、４．２０（ｑ、２Ｈ）、４．１０〜３．９８（ｍ、４Ｈ）、２．３８〜２．２６（ｍ、２Ｈ）、１．８７（ｑ、２Ｈ）、１．６０（ｑ、２Ｈ）、１．３９（ｓ、６Ｈ）、１．３０（ｔ、３Ｈ）、１．２６（ｓ、６Ｈ）、０．６５（ｑ、６Ｈ）、（エナミンフォーム）。
【００８６】
＜実施例５＞ 例示化合物（６）の合成
例示化合物（６）は、下記に示すとおり合成した。
【００８７】
【化３５】
【００８８】
化合物（Ｃ−１）４．２５ｇ（１０.０ミリモル）、オルト酢酸エチル（Ｃ−０）１.４４ｇ（１２.０ミリモル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.０１９ｇ（０.１ミリモル）にトルエン１０ｍｌを加え、加熱還流を１時間行なった。ｔ−ブトキシナトリウム０.０９６ｇ（１.０ミリモル）を添加した後、加熱還流を３時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを１０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノールにて晶析して目的の例示化合物（６）３.６ｇを得た。収率８０.２％。ｍ.ｐ. ４７〜４８℃。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）、７．８５（ｄ、１Ｈ）、７．６０〜７.７０（ｍ、１Ｈ）、７．３８〜７．５２（ｍ、２Ｈ）、３.８１〜３.９５（ｍ、２Ｈ）、２.５１（ｓ、３Ｈ）、１.６９〜１.８１（ｍ、２Ｈ）、１.１３〜１.５０（ｍ、３０Ｈ）、０.８９（ｔ、３Ｈ）。
【００８９】
＜実施例６＞ 例示化合物（７）、（９）、（１２）及び（１４）の合成
なお、例示化合物（７）、（９）及び（１４）も、対応する原料を変更することによって、実施例１に記載の方法で、また例示化合物（１２）も対応する原料を変更することによって、実施例５に記載の方法で、同様に収率よく得ることができた。
【００９０】
【発明の効果】
本発明によれば、入手の容易な原料から短工程で、温和な反応条件で、収率良く１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物を製造する方法を提供できる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に用いるイエロー色素形成カプラーもしくはその合成中間体、並びに色素、医薬、農薬または電子材料等の合成中間体等として有用な１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
２位が置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアリール基で３位が置換もしくは無置換のアルキル基である１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物は米国特許第３，８４１，８８０号に記載のようにハロゲン化銀写真感光材料のイエロー色素形成カプラーおよびその中間体、あるいは色素、医薬、農薬、電子材料等の合成中間体として有用である。
これらの化合物の合成法としてはこれまで米国特許第３，８４１，８８０号に２−アミノベンゼンスルホンアミドとβ，β−ジエトキシアクリル酸エチルとを反応させて、３−エトキシカルボニルメチル−１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシドを合成する方法が記載されているが、１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の２位に置換基を有する化合物の合成において、閉環反応を完結させるには高い反応温度と長い反応時間が必要であることが問題であった。さらに、該特許には、酢酸を添加することにより反応が促進されることが記載されているがその効果は充分ではなかった。
またＪ．Ｃｈｉｎ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４５，８０５（１９９８）記載のように２位（もしくは４位）が水素の１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物をアルキル化する方法も知られているが、この方法では２位アルキル体と４位アルキル体の混合物となる欠点があった。さらに、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，６，１２２（１９６３）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５１，１９６７（１９８６）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，３９，２０７３（１９８３）に記載のように２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物とオルトエステル化合物を反応させる方法があった。しかしながらこの反応ではいずれも高い反応温度を必要とするという問題があった。Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１６，８１５（１９５１）にも２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物とオルトエステル化合物を反応させる方法が記載されているが、収率が低いという問題があった。またＨｕａｘｕｅ Ｓｈｉｊｉ，２１，２３５（１９９９）に記載のように２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物をアシル化剤でアシル化した後オキシ塩化リンで環化させる方法もあったが、工程数が長く、またアシル部分に官能基を有する場合には環化工程の収率が低いという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、入手の容易な原料から短工程で、温和な反応条件で、収率良く１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物を製造する方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、以下に示す安価な原料から導かれる一般式（III）で表される２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物を経て、以下に示す一般式（II）で表されるイミノエーテル化合物を中間体として合成し、これを塩基の存在下に閉環反応させることにより、以下に示す一般式（Ｉ）で表される１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物が合成できることを見出し、この知見に基づき本発明をなすに至った。
【０００５】
すなわち本発明は、
（１）下記一般式（III）で表される２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物と下記一般式（IV）で表される１，１−ジアルコキシアルケン化合物または下記一般式（Ｖ）で表されるオルトエステル化合物とを酸の存在下に反応させて、下記一般式（II）で表されるイミノエーテル化合物を合成した後、該イミノエーテル化合物を単離することなく塩基の存在下に閉環反応させることを特徴とする下記一般式（Ｉ）で表される１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
【０００６】
【化８】
（式中、Ｒ１は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ３は水素原子または置換基を表す。）
【０００８】
【化９】
（式中、Ｒ１は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ３は水素原子または置換基を表す。Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
【００１０】
【化１０】
（式中、Ｒ１は置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。）
【００１２】
【化１１】
（式中、Ｒ３は水素原子または置換基を表す。Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
【００１４】
【化１２】
（式中、Ｒ３は水素原子または置換基を表す。Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
（２）前記塩基が、有機塩基、金属水素化物または金属アルコキサイドであることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（３）前記塩基が、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタンまたは金属アルコキサイドであることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（４）前記塩基が、金属アルコキサイドであることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（５）トルエンまたはキシレンから選択される溶媒を使用することを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の製造方法。
（６）前記塩基存在下の反応が、トルエンまたはキシレン還流下に行われることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１項に記載の製造方法。
（７）前記酸が、ｐ−トルエンスルホン酸であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１項に記載の製造方法。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を詳細に説明する。
式中、Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ２の基の例としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。
【００２１】
なお、上述の基はさらに置換基で置換されていてもよく、該置換基としては上述の基が挙げられる。
【００２２】
以下にＲ２の基の例を更に説明する。
これらの基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル、３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルが挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【００２３】
アルケニル基［直鎖または分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）が挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）］、やトリシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が得に好ましい。）アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
【００２４】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【００２５】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
【００２６】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００２７】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、Ｎ−１,３，５−トリアジン−２−イルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、
【００２８】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、
【００２９】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、
【００３０】
アルキルまたはアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルまたはアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、
【００３１】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールまたはヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、
【００３２】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
【００３３】
上記の基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００３４】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアリール基を表す。Ｒ１が有しても良い置換基の例としては前記Ｒ２の置換基の例として挙げたものが挙げられる。
【００３５】
好ましくはＲ１は、置換もしくは無置換のアルキル基である。Ｒ１の総炭素数はアルキル基の場合１以上６０以下が好ましく、１以上５０以下がより好ましく、１以上４０以下がさらに好ましい。またアリール基の場合６以上６０以下が好ましく、６以上５０以下がより好ましく、６以上４０以下がさらに好ましい。
【００３６】
一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｒ３は水素原子または置換基を表す。この置換基の例としては前述のＲ２の基の例として挙げたものが挙げられる。好ましくはＲ３は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基である。より好ましくはＲ３は水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基である。
【００３７】
次に本発明の一般式（II）で表される化合物を詳細に説明する。
一般式（II）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎは一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。
一般式（II）において、Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。好ましくはＲ４は無置換のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、最も好ましくはエチル基である。
なお一般式（II）で表される化合物の−Ｎ＝Ｃ（ＯＲ４）−ＣＨ２−結合のメチレン基上の水素原子が１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド環上の４位の窒素原子上に移動して−ＮＨ−Ｃ（ＯＲ４）＝ＣＨ−結合となった互変異性体も本発明に含まれる。本明細書に記載された化学構造式は便宜上これらの互変異性体の１つを記載したものであり、いずれの互変異性体も本発明に包含される。
【００３８】
次に本発明の一般式（III）で表される化合物を詳細に説明する。
一般式（III）において、 Ｒ１、Ｒ２、ｎは一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。
【００３９】
一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物を詳細に説明する。
一般式（IV）及び（Ｖ）中、Ｒ３は一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。Ｒ４は一般式（II）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。上記各式において、Ｒ４は複数存在するが、これらの複数のＲ４は互いに同一であっても異なってもよい。本発明においては、同一分子中のＲ４はいずれも同じものが好ましい。
【００４０】
一般式（Ｉ）で表される化合物には、置換基の種類に応じて１個または２個以上の不斉炭素を有する場合があるが、これらの不斉炭素に基づく任意の光学異性体またはジアステレオ異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。また純粋な形態の異性体のほか、それらの任意の混合物、ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。本発明の上記化合物が１個または２個以上の二重結合を含む場合には、これらに二重結合に基づく任意の幾何異性体も本発明の範囲に包含される。
【００４１】
本発明において一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお活性メチレン部の水素原子（Ｒ３が置換した炭素原子上の水素原子）が、１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオン環中のＣ＝Ｎ部の窒素原子（該環の４位の窒素原子）上に移動した互変異性体も本発明に含まれることとする。本明細書に記載された化学構造式は便宜上これらの互変異性体の１つを記載したものであり、いずれの互変異性体も本発明に包含される。
【００４２】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
以下に一般式（II）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４９】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
一般式（III）で表される化合物の具体例は、上記一般式（II）で表される化合物の具体例で示した化合物から特定される。すなわち、上記各化合物の−Ｎ＝Ｃ（ＯＲ４）ＣＨ２Ｒ３部分が−ＮＨ２である化合物である。本発明においてはこれらに限定されるものではない。
【００５６】
以下に一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５７】
【化２７】
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【化３１】
なお、以降の説明において、以上に示された例示化合物を引用する場合、それぞれの例示化合物に付された括弧書きの番号（ｘ）を用いて、「例示化合物（ｘ）」と表示することとする。
【００６３】
本発明は一旦できる一般式（II）で表される中間体を単離せずに、すなわちより具体的には、１ポットで引き続き反応を行うことにより、一般式（Ｉ）で表される化合物を合成するものであるが、一般式（II）で表される中間体を一旦単離あるいは抽出、濃縮等の操作により反応混合物を得てから、さらに、この中間体あるいは反応混合物を別の条件で反応させて一般式（Ｉ）で表される化合物を合成することもできる。
【００６４】
本発明の方法で使用される一般式（III）で表される化合物、一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物は、既知の種々の方法によって合成できる。
一般式（III）で表される化合物は、最も一般的にはオルトニトロベンゼンスルホニルクロライド類とアミン類を反応させた後、ニトロ基を還元することにより、容易に合成できる。
一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物は最も一般的にはニトリル類を、アルコール存在下、エーテル等の溶媒中で酸の存在下に反応させることにより、容易に合成できる。
【００６５】
一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法においては、一般式（III）で表される化合物の合成段階から一般式（Ｉ）で表される化合物自身を合成する工程を、途中の中間体を単離することなく、または／及び単に反応液を抽出、濃縮等の操作で得た反応混合物を使用して、製造することもできる。
具体的には、一般式（III）で表される化合物を合成するための出発原料のオルトニトロベンゼンスルホニルクロライド類とアミン類を反応させた後、単離せずにニトロ基を還元し、生成した一般式（III）で表されるアニリン化合物を単離することなく引き続き一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物と反応させ、一旦できる一般式（II）で表される中間体を単離せずに、１ポット（同一反応釜）で引き続き反応を行って一般式（Ｉ）で表される化合物を合成しても良いし、一般式（II）で表される中間体を一旦単離あるいは抽出、濃縮等の操作により反応混合物を得てから、さらに、この中間体あるいは反応混合物を別の条件で反応させて一般式（Ｉ）で表される化合物を合成してもよい。
生産性向上および製造コスト低減のためには、これらの反応工程を全て１ポットで行うのが好ましい。
【００６６】
ここで用いる一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物とは一般に１０：１〜１：１００のモル比で使用され、好ましくは１０：１〜１：１０のモル比で使用され、さらに好ましくは５：１〜１：５のモル比で使用され、特に好ましくは１：１〜１：３のモル比で使用される。
【００６７】
本発明の反応においては、無溶媒で反応を行ってもよいが、好ましくは適当な溶媒に溶解または分散して行ってもよい。本発明の反応に用いることのできる溶媒としては、例えば水、アルコール系溶媒（例えば、メタノール、イソプロパノール）、塩素系溶媒（例えばジクロロメタン、クロロホルム）、芳香族系溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン）、アミド系溶媒（例えば、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド）、ウレイド系溶媒（例えば１、３―ジメチル−２―イミダゾリジノン）、ニトリル系溶媒（例えば、アセトニトリル）、エーテル系溶媒（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）、スルホン系溶媒（例えば、スルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えば、ジメチルスルホキシド）、リン酸アミド系溶媒（例えば、ヘキサメチルホスホリックトリアミド）、炭化水素系溶媒（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン）が挙げられる。
【００６８】
これら溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量としては、一般式（III）で表される化合物の１質量部当たり、もしくは一般式（II）で表される中間体１質量部当たり、好ましくは０．１ 〜１０００質量部、より好ましくは０．５〜１００質量部、さらに好ましくは１〜５０質量部の割合で使用される。
【００６９】
好ましくは一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応においては芳香族系溶媒を用いることが好ましく、トルエン、キシレンがより好ましい。また一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する段階においても、芳香族系溶媒が好ましく、トルエン、キシレンがより好ましい。
【００７０】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において用いることができる酸としては、塩化水素、臭化水素、沃化水素、硫酸、炭酸等の無機酸類、酢酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、蓚酸、マレイン酸、安息香酸、サリチル酸、フタル酸等の有機カルボン酸類、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸類、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸類等が挙げられる。より好ましいのは硫酸、酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、 ｐ−トルエンスルホン酸であり基質によって選択される。
【００７１】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において、一般式（III）で表される化合物と酸とのモル比は一般に１：０.００１〜１：１００のモル比で使用され、好ましくは１：０.００１〜１：５０のモル比で使用され、さらに好ましくは１：０.００１〜１：１０のモル比で使用され、特に好ましくは１：０.００１〜１：３のモル比で使用される。
【００７２】
一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する反応において用いることができる塩基としては、有機塩基（トリエチルアミン、トリブチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン（ＤＢＮ）１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン等）、金属水素化物（水素化ナトリウム、水素化カリウム等）、金属アルコキサイド（ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサンド、ｔ−ブトキシカリウム、ｔ−ブトキシナトリウム等）、金属水酸化物（水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等）、炭酸塩基（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム）、カルボン酸塩基（酢酸ナトリウム）等を挙げることができる。より好ましいのは１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサンド、ｔ−ブトキシカリウム、ｔ−ブトキシナトリウムが挙げられ、基質により選択される。
【００７３】
一般式（II）で表される化合物を塩基の存在下で閉環する反応において、一般式（II）で表される化合物と使用する塩基とのモル比は一般に１：０.００１〜１：１００のモル比で使用され、好ましくは１：０.０１〜１：５０のモル比で使用され、さらに好ましくは１：０.０１〜１：１０のモル比で使用され、特に好ましくは１：０.０１〜１：３のモル比で使用される。
【００７４】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において、反応温度としては特に制限はないが、０℃から３００℃の範囲で実施可能であり、好ましくは１０℃から２５０℃の範囲で実施でき、さらに好ましくは２０℃から２００℃の範囲で実施できる。また一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する段階において、反応温度は特に制限はないが、０℃から３００℃の範囲で実施可能であり、好ましくは１０℃から２５０℃の範囲で実施でき、さらに好ましくは２０℃から２００℃の範囲で実施でき、基質により選択される。
【００７５】
一般式（III）で表される化合物と一般式（IV）または（Ｖ）で表される化合物との反応において、反応時間としては、１分から５０時間の範囲で実施可能であり、好ましくは１分から２０時間の範囲で実施でき、さらに好ましくは１分から５時間の範囲で実施できる。また一般式（II）で表される中間体から一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する反応において、反応時間としては、１０分から５０時間の範囲で実施可能であり、好ましくは１０分から２０時間の範囲で実施でき、さらに好ましくは１０分から１０時間の範囲で実施でき、基質により選択される。
【００７６】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７７】
＜実施例１＞ 例示化合物（８）の合成
例示化合物（８）は、以下に示すとおり合成した。
【００７８】
【化３２】
化合物（Ａ−１）１０．０ｇ（２３.６ミリモル）、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）５．３２ｇ（２８.３ミリモル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.０４５ｇ（０.２４ミリモル）にトルエン２０ｍｌを加え、加熱還流を３０分行なった。ｔ−ブトキシナトリウム０.２２６ｇ（２.４ミリモル）を添加した後、加熱還流を５時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを３０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノールにて晶析して目的の例示化合物（８）１１.２ｇを得た。。収率９１．１％。 ｍ．ｐ．８０〜８１℃。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）１１．７２（ｓ、１Ｈ）、７．７８（ｄ、１Ｈ）、７．５８（ｔ、１Ｈ）、７．１９（ｔ、１Ｈ）、７．１０（ｄ、１Ｈ）、４．６１（ｓ、１Ｈ）、４．２０（ｑ、２Ｈ）、２．２７（ｓ、３Ｈ）、１．３２（ｔ、３Ｈ）、（エナミンフォーム）。
【００８０】
＜実施例２＞ 例示化合物（８）の合成
化合物（Ａ−１）８.４９ｇ（２０ミリモル）、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）４．５４ｇ（２４ミリモル）、酢酸０．６０ｇ（６.５２ミリモル）にキシレン２０ｍｌを加え加熱還流を３０分行った。ＤＢＵ３.０４ｇ（２０ミリモル）を添加し、７時間過熱還流を行った。冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを３０ｍｌ加えた。水洗を行った後、硫酸ナトリウムで有機溶媒層を乾燥した。溶媒を減圧留去した後、メタノールで晶析して目的の例示化合物（８）を８.７８ｇ得た。収率８４.０％。
【００８１】
＜実施例３＞ 例示化合物（８）の合成
例示化合物（８）は、以下に示すとおり合成した。
【００８２】
【化３３】
オクタデシルアミン３０ｇ（０.１１１モル）、トリエチルアミン１５.８ｍｌ（０.１１３モル）にキシレン１５０ｍｌを加え、３０℃に加熱した。この溶液にオルトニトロベンゼンスルホニルクロライド（Ｓ−１）２４.７ｇ（０.１１１モル）を分割添加すると発熱により５０℃まで達した。６０℃で２時間攪拌した後、温水で２回洗浄して化合物（Ｓ−２）を含むトルエン溶液を得た。この溶液を５００ｍｌオートクレーブに移し、エタノール３０ｍｌ、Ｒａ−Ｎｉ５ｇを加えた。水素ガスを５０ｋｇ／ｃｍ２充填し８０℃で２時間攪拌を行なった。理論量の水素圧が消費されたのを確認し、触媒を減圧濾過により除去した。この溶液にに含まれるエタノールを減圧下で留去した。この残渣に、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）２５．１ｇ（０.１３３モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.２１２ｇ（１.１１ミリモル）を加え、加熱還流を３０分行なった。ｔ−ブトキシナトリウム１.０７ｇ（１１.１ミリモル）を添加した後、加熱還流を５時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを１５０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノール１８０ｍｌにて晶析して目的の例示化合物（８）５１.０ｇを得た。。収率８７.９％。
＜実施例４＞ 例示化合物（１０）の合成
例示化合物（１０）は、以下に示すとおり合成した。
【００８４】
【化３４】
化合物（Ｂ−１）１０．０ｇ（２２.４ミリモル）、３，３−ジエトキシアクリル酸エチル（Ａ−０）５．０６ｇ（２６.９ミリモル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.０４３ｇ（０.２２４ミリモル）にトルエン２０ｍｌを加え、加熱還流を３０分行なった。ｔ−ブトキシナトリウム０.２１５ｇ（２.２４ミリモル）を添加した後、加熱還流を５時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを２０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノールにて晶析して目的の例示化合物（１０）１０.１ｇを得た。収率８３.１％。 ｍ．ｐ．７６〜７７℃。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）１１．８２（ｓ、１Ｈ）、７．７７（ｄ、１Ｈ）、７．５６（ｔ、１Ｈ）、７．２２〜７．０５（ｍ、４Ｈ）、６．７３（ｄ、１Ｈ）、４．８０（ｓ、１Ｈ）、４．２０（ｑ、２Ｈ）、４．１０〜３．９８（ｍ、４Ｈ）、２．３８〜２．２６（ｍ、２Ｈ）、１．８７（ｑ、２Ｈ）、１．６０（ｑ、２Ｈ）、１．３９（ｓ、６Ｈ）、１．３０（ｔ、３Ｈ）、１．２６（ｓ、６Ｈ）、０．６５（ｑ、６Ｈ）、（エナミンフォーム）。
【００８６】
＜実施例５＞ 例示化合物（６）の合成
例示化合物（６）は、下記に示すとおり合成した。
【００８７】
【化３５】
化合物（Ｃ−１）４．２５ｇ（１０.０ミリモル）、オルト酢酸エチル（Ｃ−０）１.４４ｇ（１２.０ミリモル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０.０１９ｇ（０.１ミリモル）にトルエン１０ｍｌを加え、加熱還流を１時間行なった。ｔ−ブトキシナトリウム０.０９６ｇ（１.０ミリモル）を添加した後、加熱還流を３時間行なった。反応液を冷却して室温とした後、希塩酸を加えて中和し、酢酸エチルを１０ｍｌ加えた。有機溶媒層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。メタノールにて晶析して目的の例示化合物（６）３.６ｇを得た。収率８０.２％。ｍ.ｐ. ４７〜４８℃。１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）、７．８５（ｄ、１Ｈ）、７．６０〜７.７０（ｍ、１Ｈ）、７．３８〜７．５２（ｍ、２Ｈ）、３.８１〜３.９５（ｍ、２Ｈ）、２.５１（ｓ、３Ｈ）、１.６９〜１.８１（ｍ、２Ｈ）、１.１３〜１.５０（ｍ、３０Ｈ）、０.８９（ｔ、３Ｈ）。
【００８９】
＜実施例６＞ 例示化合物（７）、（９）、（１２）及び（１４）の合成
なお、例示化合物（７）、（９）及び（１４）も、対応する原料を変更することによって、実施例１に記載の方法で、また例示化合物（１２）も対応する原料を変更することによって、実施例５に記載の方法で、同様に収率よく得ることができた。
【００９０】
【発明の効果】
本発明によれば、入手の容易な原料から短工程で、温和な反応条件で、収率良く１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物を製造する方法を提供できる。
Claims (7)
- 下記一般式（III）で表される２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物と下記一般式（IV）で表される１，１−ジアルコキシアルケン化合物または下記一般式（Ｖ）で表されるオルトエステル化合物とを酸の存在下に反応させて、下記一般式（II）で表されるイミノエーテル化合物を合成した後、該イミノエーテル化合物を単離することなく塩基の存在下に閉環反応させることを特徴とする下記一般式（Ｉ）で表される１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
Ｒ４は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
- 前記塩基が、有機塩基、金属水素化物または金属アルコキサイドであることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
- 前記塩基が、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタンまたは金属アルコキサイドであることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
- 前記塩基が、金属アルコキサイドであることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
- トルエンまたはキシレンから選択される溶媒を使用することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記塩基存在下の反応が、トルエンまたはキシレン還流下に行われることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記酸が、ｐ−トルエンスルホン酸であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
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