JP2004119532A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】層間絶縁膜を介して互いに対向する下層配線および上層配線を電気的に接続すべく、前記層間絶縁膜の前記下層配線上に該下層配線を露呈させるヴィアホールを形成する工程と、侵食を防止する保護膜を形成する工程と、前記下層配線を前記上層配線に電気的に接続するためのプラグを形成する工程とを含む半導体装置の製造方法において、前記保護膜を、前記ヴィアホールの形成工程で該ホールの内壁に付着する残渣物を覆うべくCVD法により形成する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置および該半導体装置の製造方法に関し、特に詳しくは、多層に配線が施された半導体装置と、その製造方法とに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体素子が高度に集積された半導体装置は、該装置内に多層に配線が施されている。この配線は、半導体素子を高度に集積するために配線幅および配線間隔の縮小化が計られている。そして、配線幅および配線間隔の縮小化による配線間容量の増加により、信号の遅延が増大することから、それを低減するために配線間の層間絶縁膜に低誘電率の材料が用いられている。
低誘電率材としては、例えばシルセスキオキサン(Silsesquioxane;Si2O3)を主原料、あるいはSi−H基またはSi−CH3基を有するシルセスキオキサンを主原料とする誘電率が2.5程度の酸化シリコンが挙げられる。しかしながら、フッ素添加酸化物を除くシルセスキオキサンを主原料にする代表的な低誘電率材は、六フッ化タングステン(WF6)ガスにより、侵食されやすい。また、前記低誘電率材は、一般的に酸素中および酸素プラズマ中での熱処理に弱く、酸素プラズマによるアッシングと称される灰化処理を行うと、酸素プラズマ中に生成される活性酸素により酸化されやすいことも判明している。
【0003】
ここで、この種の半導体装置100の従来の製造方法を図10および図11を参照しながら説明する。
図10は、製造途中の従来の半導体装置100を示す。
図10において、図示しない半導体素子を有する半導体基板11上に、所定の位置に所定のパターンで下層配線12を形成した後、該下層配線12を覆って半導体基板11上に、シルセスキオキサンに代表される低誘電率材を用いた層間絶縁膜13を形成する。その後、層間絶縁膜13上に酸化膜14を形成し、該酸化膜14および層間絶縁膜13に対し、選択的にエッチングを施すためのレジスト膜を用いてヴィアホール16を形成する。次にヴィアホールの形成に用いたレジスト膜をアッシングと称される灰化処理により除去すると共にヴィアホール16の内壁に、二酸化シリコン膜が庇護膜18として形成される。その後、酸化膜14上を覆うバリアメタル膜22を、スパッタ法により形成した後、ヴィアホール16内にプラグを形成する。
【0004】
前記した従来の半導体装置の他に、層間絶縁膜に対する侵食を防止する保護層およびバリアメタル膜を有する従来の半導体装置、有機SOG保護層およびバリアメタル膜を有する従来の半導体装置がある(特許文献1参照。)。
前記保護層および有機SOG保護層は、ヴィアホールの形成に用いたレジスト膜をウエット剥離液で除去するとき、該剥離液による層間絶縁膜に対する侵食を防ぐために形成される。
更に、選択的にエッチングされる層間絶縁膜を用いて形成する半導体装置において、密着層を有する従来の半導体装置と、該密着層に代えてバリア層を有する従来の半導体装置とがある(特許文献2参照。)。
密着層は、ヴィアホール内に形成するプラグと層間絶縁膜との間で、前記プラグを層間絶縁膜に密着させるために形成され、バリア層は、銅配線および銅プラグがヴィアホールから層間絶縁膜に拡散することを防ぐために形成される。
【0005】
【特許文献1】
特開平11−297829号公報(図1および図4)
【特許文献2】
特開2001−118925公報(図1および図2)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来の半導体装置100では、図11に示すように、ヴィアホール16の内壁を庇護膜18およびバリアメタル膜22で保護しているにもかかわらず、プラグ形成に用いる六フッ化タングステン(WF6)ガスにより、ヴィアホールの内壁から侵食が生じていた。
従って、本発明の目的は、ヴィアホールの内壁がプラグ形成時のガスで侵食されることのない半導体装置と、該装置を形成する製造方法とを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
ここで、本発明者は、ヴィアホール16の内壁が侵食される原因をヴィアホール16の形成工程において下層配線12がスパッタエッチングされることに起因していることを見出した。即ち、エッチング処理が進行して下層配線12が露呈すると、該下層配線12上もスパッタリングされて、下層配線12の表面が削れて、その塵が残渣物17(図11参照)としてヴィアホールの内壁に付着することが判明した。そして、残渣物17は、図11に示すように、下層配線12上の非整合な位置にボーダーレスヴィアを形成するとき、顕著に生じることもつきとめた。これは、該下層配線12の端部の強度が弱く、スパッタリングにより下層配線12の端部が削れやすいからと考えられる。
【0008】
一方、ヴィアホールの形成に用いたレジスト膜を除去するとき、上記したように、酸素プラズマを用いたアッシングと称される灰化処理が行われている。しかし、この灰化処理では、酸素プラズマが、ヴィアホール16が形成された層間絶縁膜13の表面から底面へ向かう方向に加速されて照射されるため、酸素プラズマが残渣物17に遮られ、この結果、ヴィアホール16に付着する残渣物の下方の内壁には、庇護膜18が形成されないことも判明した。
更に、残渣物17の下方の内壁に限らず、残渣物17が付着するヴィアホール16の内壁周辺にも庇護膜18が形成されないことも判明した。
【0009】
更に、バリアメタル膜22は、物理的に金属を堆積させるスパッタ法により、チッ化チタン(TiN)を堆積させて形成するが、チッ化チタンを物理的に堆積させると、前記した庇護膜18と同様に、残渣物17に遮られるヴィアホール16の内壁に形成されないことも明らかになった。
【0010】
このように庇護膜18およびバリアメタル膜22がヴィアホール16内壁下方に形成されていない場合には、図11に示すように、プラグを形成するための六フッ化タングステン(WF6)ガスを用いた化学的気相成長(Chemical Vapor Deposition)法が施されると、庇護膜18およびバリアメタル膜22で覆われていないヴィアホール16の内壁下方あるいは残渣物17周辺の内壁において、層間絶縁膜13が侵食する。即ち、前記した低誘電率材を用いた層間絶縁膜13が直接的にWF6ガスに触れることから侵食が生じる。
【0011】
本発明は、以上の点を解決するために、次の構成を採用する。
層間絶縁膜を介して互いに対向する下層配線および上層配線を電気的に接続すべく、前記層間絶縁膜の前記下層配線上に該下層配線を露呈させるヴィアホールを形成する工程と、該ヴィアホールの内壁に前記層間絶縁膜に対する侵食を防止する保護膜を形成する工程と、前記下層配線を前記上層配線に電気的に接続するためのプラグを前記保護膜を介して前記ヴィアホール内に形成する工程とを含む半導体装置の製造方法において、前記保護膜を、前記ヴィアホールの形成工程で該ホールの内壁に付着する残渣物を覆うべくCVD法により形成することを特徴とする。
【0012】
前記層間絶縁膜を、低誘電率材から形成することができる。
前記プラグを、六フッ化タングステンガスを用いた化学的気相成長法により形成することができる。
前記ヴィアホールを、前記下層配線上の非整合な位置にボーダーレスヴィアとして形成することができる。
【0013】
層間絶縁膜に設けたヴィアホールを介して互いに対向する下層配線および上層配線と、前記ヴィアホールの内壁に設けられて前記層間絶縁膜に対する侵食を防止する保護膜と、前記ヴィアホール内に設けられて、前記下層配線と前記上層配線とを電気的に接続するプラグとを有する半導体装置において、前記保護膜は、前記ヴィアホールの形成で該ホールの内壁に付着した残渣物を覆うためにCVD法により形成されていることを特徴とする。
【0014】
前記層間絶縁膜に、低誘電率材を用いることができる。
前記プラグに、タングステンプラグを用いることができる。
前記ヴィアホールは、前記下層配線上の非整合な位置に形成されるボーダーレスヴィアを用いることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図1〜図9を用いて説明する。
図1は、本発明の半導体装置10を示す断面図である。
半導体装置10は、図示しない半導体素子が形成された半導体基板11と、該基板11上の所定の位置に形成された下層配線12と、該下層配線12上に配線を積層するための層間絶縁膜13と、該層間絶縁膜13上に形成された酸化膜14と、下層配線12上の縁部にかかる位置に形成されたボーダーレスヴィアと称されるヴィアホール16と、該ヴィアホール16の内壁に付着する残渣物17と、該残渣物17が付着するヴィアホール16の下方の内壁を除いて庇護する庇護膜18と、該庇護膜18および残渣物17を覆ってヴィアホール16の内壁に形成されている保護膜15と、該保護膜15の形成したヴィアホール内に設けられた下層配線12と上層配線20とを電気的に接続するためのプラグ19とを有する。
【0016】
本発明の半導体装置10において使用される層間絶縁膜13は、低誘電率を有する低誘電率材が用いられる。該低誘電率材としては、例えばシルセスキオキサン(Silsesquioxane;Si2O3)を主原料、あるいはSi−H基またはSi−CH3基を有するシルセスキオキサンを主原料とする誘電率が2.5程度の酸化シリコンが知られている。
フッ素添加酸化物を除くシルセスキオキサンを主原料にする低誘電率材は、酸素中および酸素プラズマ中での熱処理に弱く、アッシングと称される灰化処理を行うと、該アッシングで生じる活性酸素により酸化されやすい。また、前記低誘電率材は、上記したように、六フッ化タングステン(WF6)ガスで侵食される。
【0017】
次に、前記した半導体装置10の製造方法を図1〜図9を用いて説明する。
先ず、図2に示すように、図示しない半導体素子を有する半導体基板11上に所定のパターンで下層配線12を形成する。即ち、半導体基板11上にアルミニウム(Al)合金を成膜した後、反射率の高いアルミニウム合金に対し、所定のパターンニングを行うときの反射防止膜(Anti Reflection Metal)として、かつアルミニウム合金にボイドが生じて断線することがないように、エレクトロマイグレーション耐性の改善のため、更に熱ストレス耐性を向上させるために、前記アルミニウム合金の成膜に続いて例えばチッ化チタン(TiN)の膜を形成する。そして、これらの膜に対し、所定のパターンでエッチングが施されて下層配線12が形成される。
【0018】
下層配線12を形成した後、図3に示すように、半導体基板11上にスピンコーティングと称される塗布法により、前記した低誘電率材の層間絶縁膜13を形成する。該層間絶縁膜13は下層配線12を覆い、半導体基板11上に所定の厚さ寸法で形成される。
次に、層間絶縁膜13を形成した後、図4に示すように層間絶縁膜13上に酸化膜14をプラズマCVD法により形成する。該酸化膜14は、後述するレジスト膜21を除去するとき、前記層間絶縁膜13の上部の表面上からの酸化を防ぐことができる。
【0019】
酸化膜14を形成した後、図5に示すように、該酸化膜14上に、ヴィアホール16を形成するためのレジスト膜21が所定の位置に形成される。
レジスト膜21の形成後、図6に示すように、反応性イオンエッチング法(Reactive Ion Etching)により、レジスト膜21に覆われていない酸化膜14および層間絶縁膜13がエッチングされて、ヴィアホール16が形成される。
本発明で形成するヴィアホール16は、下層配線12の真上に形成するのではなく、該下層配線12に対し、位置ずれして形成される、いわゆるボーダーレスヴィアである。
【0020】
エッチングが下層配線12上まで達すると、図7に示すように、下層配線12上の角がスパッタされる。これによりスパッタされて削られた下層配線12上の縁部の塵が残渣物17としてヴィアホール16の内壁に付着する。
形成される残渣物17の主な構成元素は、層間絶縁膜の低誘電率材、下層配線12のアルミニウム合金からのAl、Cuおよびチッ化チタンからのTi、Nなどであるが、それらの混合比率は各残渣物毎に異なる。従って、各残渣物に対し有効なクリーニング液を用いようとすると、残渣物のみならず、例えば層間絶縁膜13および下層配線12などに、クリーニング液による侵食を生じる恐れがある。このためヴィアホール16内の残渣物17を完全に除去することは困難であり、クリーニングで除去されない残渣物17がヴィアホール16の内壁で残存する。
【0021】
ヴィアホール16の形成を終えると、図8に示すように、半導体基板11上に酸化膜14および層間絶縁膜13を介して形成されたレジスト膜21が、酸素プラズマの反応性イオンエッチング(O2−Reactive Ion Etching;以降O2−RIEと称す)法により除去される。このレジスト膜21の除去方法は、”T. Yoshie, et. al., Advanced Metallization Conference (AMC) 1999,P.193” に開示されている。O2−RIE法は、前記各半導体基板11から成るウエハを、図示しない載置台に配置した後、該載置台に対する電位(バイアス)を制御する。電位は、レジスト膜21の表面からレジスト膜21の裏面に向かう方向、つまりはレジスト膜21表面から半導体基板11へ向かう方向に制御される。この電位が制御されている中で、酸素プラズマを用いたアッシングを行うと、該酸素プラズマから活性酸素を生じながら電位の制御される方向に引き寄せられる。酸素プラズマは、加速しながら前記ウエハに対し、垂直に近い角度で照射される。従って、酸素プラズマはヴィアホール16の内壁に沿って照射されるが、ヴィアホール16に付着した残渣物17が遮る下方の内壁および残渣物17が付着する内壁の周辺には照射されにくい。
【0022】
ところで、前記したように活性酸素を生成する酸素プラズマにより、低誘電率材は酸化されることから、レジスト膜21の除去と同時的に、低誘電率材を用いた層間絶縁膜13に形成されるヴィアホール16の内壁が酸化され、この酸化により生じる二酸化シリコン膜が庇護膜18として形成される。活性酸素を生成する酸素プラズマは、前記したように、ヴィアホール16に付着する残渣物17の下方の内壁および残渣物17の周辺の内壁には照射されにくいことから、該内壁下方および残渣物17が付着する内壁の周辺に庇護膜18は形成されない。
【0023】
また、庇護膜に覆われないヴィアホール16の内壁は低誘電率材を用いた層間絶縁膜13が露出することから、後述するプラグ19を形成するときの六フッ化タングステン(WF6)ガスで侵食される。これを防止するために、図9に示すように、保護膜15を形成する。該保護膜15は、酸化膜14上およびヴィアホール16の内壁を残渣物17と共に覆っている。
前記保護膜15は、CVD法により形成される。該CVD法は、前記した庇護膜18まで形成された半導体基板11から成るウエハを真空排気可能な容器内の所定の位置に配置した後、該ウエハに対し、テトラエトキシシラン(TEOS;Tetraethylorthosilicate;Si(OC2H5)4)と酸素(O2)とを用いて、450度以下の堆積温度および数百Torrの堆積圧力で保護膜15を形成する。これにより、ヴィアホール16内および酸化膜14上に二酸化シリコン膜が保護膜15として形成される。本発明で形成される保護膜15は、従来の半導体装置で形成されていたバリアメタル膜のように、スパッタ法により物理的に形成した膜ではなく、化学反応により堆積させた膜であることから、ヴィアホールに付着する残渣物17の下方の内壁および残渣物17が付着する内壁の周辺でも、段差被覆性良くヴィアホール16の内壁全体に保護膜15が形成される。
【0024】
保護膜15を形成した後、図1に示すように、ヴィアホール16の内壁以外の下層配線12上の不要な保護膜15を、指向性を有するエッチングにより除去した後、六フッ化タングステン(WF6)ガスを用いたW−CVD法により、ヴィアホール内にプラグ19を形成する。プラグ19の形成に六フッ化タングステン(WF6)ガスを用いても、前記した保護膜によりヴィアホールに付着する残渣物17の下方の内壁および残渣物17が付着する内壁の周囲も覆われることから、層間絶縁膜に対する侵食の恐れはない。
プラグ19の形成後、該プラグ19上に、前記した下層配線12と同様な方法により上層配線20を形成する。
【0025】
前記したように、プラグ19の形成に先立ち、ヴィアホールの内壁を庇護膜18で覆い、更に、庇護膜18で覆われないヴィアホールに付着する残渣物17の下方の内壁および残渣物17が付着する内壁の周辺も、残渣物17と共に保護膜で覆うことから、六フッ化タングステン(WF6)ガスにより層間絶縁膜が侵食される恐れはない。
【0026】
本発明によれば、低誘電率材を用いた層間絶縁膜13にヴィアホール16を形成するときに生じる残渣物17が、ヴィアホール16の内壁に付着しても、該ヴィアホール16の内壁を、残渣物17と共にCVD法で形成する保護膜15により覆うことから、プラグ19を形成するときのガスによる侵食を防止することができる。
更に、本発明の製造方法によれば、前記した保護膜15を、特別な装置を用いることなく形成することができることから、設備投資を抑えて本発明の半導体装置10を製造することができる。
【0027】
【発明の効果】
本発明によれば、下層配線上の層間絶縁膜にスパッタエッチングでヴィアホールを形成するとき、スパッタにより生じた残渣物が前記ヴィアホールの内面に付着しても、該ヴィアホールの内面を化学的気相成長(CVD)法を用いて保護膜を形成することにより、ヴィアホールの内壁が残渣物と共に保護膜で覆われることから、ヴィアホール内にプラグを形成するときのガスによる前記層間絶縁膜への侵食を防止することができる。従って、前記層間絶縁膜に対する侵食を防止することにより、侵食による不良品の発生を低減することができ、半導体装置を効率的に生産することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置10の断面図である。
【図2】半導体基板11に形成された下層配線12を示す断面図である。
【図3】半導体基板11上で下層配線12を覆う層間絶縁膜13を示す断面図である。
【図4】層間絶縁膜13上に形成された酸化膜14を示す断面図である。
【図5】酸化膜14上に形成されたレジスト膜21を示す断面図である。
【図6】層間絶縁膜13に形成されるヴィアホール16を示す断面図である。
【図7】ヴィアホール16の内壁に付着する残渣物17を示す断面図である。
【図8】レジスト膜21の除去で形成された庇護膜18を示す断面図である。
【図9】残渣物と共にヴィアホールの内壁を覆う保護膜を示す断面図である。
【図10】バリアメタル膜が形成された従来の半導体装置を示す断面図である。
【図11】六フッ化タングステンガスにより侵食する層間絶縁膜を有する従来の半導体装置を示す断面図である。
【符号の説明】
10 半導体装置
11 半導体基板
12 下層配線
13 層間絶縁膜
14 酸化膜
15 保護膜
16 ヴィアホール
17 残渣物
18 庇護膜
19 プラグ
20 上層配線
21 レジスト膜
22 バリアメタル膜
Claims (8)
- 層間絶縁膜を介して互いに対向する下層配線および上層配線を電気的に接続すべく、前記層間絶縁膜の前記下層配線上に該下層配線を露呈させるヴィアホールを形成する工程と、該ヴィアホールの内壁に前記層間絶縁膜に対する侵食を防止する保護膜を形成する工程と、前記下層配線を前記上層配線に電気的に接続するためのプラグを前記保護膜を介して前記ヴィアホール内に形成する工程とを含む半導体装置の製造方法において、
前記保護膜を、前記ヴィアホールの形成工程で該ホールの内壁に付着する残渣物を覆うべくCVD法により形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記層間絶縁膜を、低誘電率材から形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記プラグを、六フッ化タングステンガスを用いた化学的気相成長法により形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ヴィアホールを、前記下層配線上の非整合な位置にボーダーレスヴィアとして形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 層間絶縁膜に設けたヴィアホールを介して互いに対向する下層配線および上層配線と、前記ヴィアホールの内壁に設けられて前記層間絶縁膜に対する侵食を防止する保護膜と、前記ヴィアホール内に設けられて、前記下層配線と前記上層配線とを電気的に接続するプラグとを有する半導体装置において、
前記保護膜は、前記ヴィアホールの形成で該ホールの内壁に付着した残渣物を覆うためにCVD法により形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記層間絶縁膜は、低誘電率材であることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
- 前記プラグは、タングステンプラグであることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
- 前記ヴィアホールは、前記下層配線上の非整合な位置に形成されるボーダーレスヴィアであることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
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