JP2003530705A - チューニング可能なフィルタ構成 - Google Patents
チューニング可能なフィルタ構成Info
- Publication number
- JP2003530705A JP2003530705A JP2001574976A JP2001574976A JP2003530705A JP 2003530705 A JP2003530705 A JP 2003530705A JP 2001574976 A JP2001574976 A JP 2001574976A JP 2001574976 A JP2001574976 A JP 2001574976A JP 2003530705 A JP2003530705 A JP 2003530705A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resonator
- capacitor
- tio
- tunable
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 147
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 claims description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 6
- SDTHIDMOBRXVOQ-UHFFFAOYSA-N 5-[bis(2-chloroethyl)amino]-6-methyl-1h-pyrimidine-2,4-dione Chemical compound CC=1NC(=O)NC(=O)C=1N(CCCl)CCCl SDTHIDMOBRXVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910019653 Mg1/3Nb2/3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 66
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 37
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000004964 aerogel Substances 0.000 description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 229910020684 PbZr Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 7
- -1 xerogels Substances 0.000 description 7
- 229910019897 RuOx Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 6
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 6
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L iron(ii) gluconate Chemical compound [Fe+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- GHPYJLCQYMAXGG-WCCKRBBISA-N (2R)-2-amino-3-(2-boronoethylsulfanyl)propanoic acid hydrochloride Chemical compound Cl.N[C@@H](CSCCB(O)O)C(O)=O GHPYJLCQYMAXGG-WCCKRBBISA-N 0.000 description 1
- DGXAGETVRDOQFP-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C=O DGXAGETVRDOQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020781 SixOy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 239000006112 glass ceramic composition Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000090 poly(aryl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000582 polyisocyanurate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/56—Monolithic crystal filters
- H03H9/562—Monolithic crystal filters comprising a ceramic piezoelectric layer
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/02—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
- H03H3/04—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks for obtaining desired frequency or temperature coefficient
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
- H03H9/02086—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02094—Means for compensation or elimination of undesirable effects of adherence
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
- H03H9/02086—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02149—Means for compensation or elimination of undesirable effects of ageing changes of characteristics, e.g. electro-acousto-migration
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/0538—Constructional combinations of supports or holders with electromechanical or other electronic elements
- H03H9/0542—Constructional combinations of supports or holders with electromechanical or other electronic elements consisting of a lateral arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/56—Monolithic crystal filters
- H03H9/566—Electric coupling means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
- Filters And Equalizers (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Oscillators With Electromechanical Resonators (AREA)
Abstract
Description
ューニング可能なフィルタ構成、およびチューニング可能なバルク音響波共振器
を有する送信機、受信機、移動電話装置、コードレスデータ送信システムに関す
る。
ない小型化により、個々の構成要素に課せられる要求は増加して来ている。この
ようにして、他のシステムによる数が増加している潜在的な干渉信号から受信機
を保護するために、高周波数領域での高い選択性が必要になっている。これは、
例えば、限られた帯域の周波数のみを通過させ、その帯域よりも上あるいは下の
すべての周波数を抑制する帯域フィルタにより達成される。
めに使用されている。しかし、これらのフィルタの小型化は、電磁波長によって
制限されている。表面音響波(SAW)フィルタは、実質的に小さくなるように
構成することができる。これは、音響波長が電磁波長よりも4〜5桁小さいため
である。しかし、短所は、表面音響波フィルタは、多くの場合に構造が複雑で、
複雑なハウジングで保護しなけれならないことである。
ルタは、その大きさ、パワー、およびIC適合性に関しては有利である。
成要素は圧電層を含み、音響波を発生する。圧電層の上と下に構成された2つの
電極が、第2の構成要素である。第3の構成要素は、圧電層で発生された振動か
らキャリア基板を音響的に絶縁する働きをする。
は例えば、バリキャップダイオードを共振器やフィルタに結合させることにより
成される。能動要素と受動要素とを組み合わせることは、共振器あるいはフィル
タの製造中に受動要素の材料により能動要素が汚染されるという不利な点がある
。
導体バルク音響波共振器および、半導体基板、第1および第2の電極、その間に
位置するAlNまたはZnOの圧電層を有する半導体バルク音響波フィルタを開
示する。この共振器の共振周波数はDC電圧が電極に印加されることにより変化
する。
成を提供することを目的としている。
パシタに接続された少なくとも2つの相互接続され、前記半導体基板上に設けら
れた共振器の構成、を備えたチューニング可能なフィルタ構成により達成される
。
性、共振周波数、および非共振周波数は変化する。もし共振器がフィルタ構成中
にあるときは、上述のことは全体のフィルタ特性に影響を与える。キャパシタは
調整可能、すなわち、変化しうる容量値を有しているので、これらの変化は程度
の差こそあれ、強く影響される。
とが好ましい。
依存性の誘電率εを有しているキャパシタの第1および第2の電極にDC電圧を
印加したとき、誘電率の値は低下し、そして、キャパシタの容量も低下する。こ
のことは接続されるべき共振器の電気特性に対するキャパシタの影響も変化させ
る。
は含まないPbTi1−xZrxO3(0≦x≦1),ドーパントを含みまたは
含まないBaTiO3,ドーパントを含みまたは含まないSrTiO3,Caお
よびPbドーパントを含みまたは含まないBa1−xSrxTiO3(0<x< 1),Ba1−xSrxTiO3(0<x<1)+MgO,Ba1−xSrxT
iO3−Pb1−yCayTiO3(0<x<1,0<y<1),Biがドープ
されたCaTiO3,Srn+1TinO3n+1(0<n<5),Pb1−x CaxTiO3(0<x<1),VOx(1<x<2.5)および/またはSi
O2を含みまたは含まないBa1−xSrxTiO3(0<x<1),ドーパン
トを含みまたは含まないBa1−xSrxZryTi1−yO3(0<x<1,
0<y<1),過剰の鉛を含みまたは含まないBa1−xPbxTiO3(0< x<1),Ba1−xCaxTiO3(0<x<1),ドーパントを含みまたは
含まないSrZrxTi1−xO3(0<x<1),[Pb(Mg1/3Nb2 /3 )O3]x−[PbTiO3]1−x(0<x<1),(Pb,Ba,Sr
)(Mg1/3Nb2/3)xTiy(Zn1/3Nb2/3)1−yO3(0 < x<1,0<y<1),Pb1−xCaxTiO3(0<x<1),過剰のN
a+を含みまたは含まない(Ba1−x+y/8Srx+y/8)2Na1−y Nb5O15(0<x<1,0<y<1),過剰のK+を含みまたは含まない(
Ba1−xSrx)2K1−3ySEyNb5O15(0<x<1,0<y<1
)ここでSEは希土類から選択されたイオン,Sr2Ba4Ti2Nb8O30 ,VOx(1<x<2.5)および/またはCuOドーパントを含みまたは含ま
ないBiNbO4,(Bi2−xZnx)(Nb2−yZny)Ox,Bi2(
Zn1/3Nb2/3)2O7, a)Pb(Mg1/2W1/2)O3, b)Pb(Fe1/2Nb1/2)O3, c)Pb(Fe2/3W1/3)O3, d)Pb(Ni1/3Nb2/3)O3, e)Pb(Zn1/3Nb2/3)O3, f)Pb(Sc1/2Ta1/2)O3, およびa)からf)までの化合物と過剰の鉛およびBa1−xZrxTiO3(
0<x<1)を含みあるいは含まないPbTiO3および/またはPb(Mg1 /3 Nb2/3)O3の組み合わせ から選択されることが特に好ましい。
。
選択されたものであることが好ましい。
質係数Qおよび高い結合係数kをもって製造することができる。LC共振器は単
純な方法で製造することができる。
寸法で得ることを可能にする。
圧電層を有する共振器ユニットと、前記電極と前記共振器ユニット間に位置する
反射要素を備えたことが特に好ましい。
る。これは共振器の共振周波数は圧電層の厚さにより決まるからである。さらに
、このようなバルク音響波共振器は他の形式のバルク音響波共振器、例えば、単
結晶共振器、膜を有する共振器、エアーギャップを有する共振器よりも明らかに
堅牢である。
れた前記共振器は他のキャパシタにも接続されている。
れた少なくとも一つのキャパシタに直列に接続されたことが特に好ましい。
キャパシタに接続された少なくとも2つの相互接続され、前記半導体基板上に設
けられた共振器の構成、をその上に備えた送信機、受信機、移動電話装置、無線
データ送信システムに関する。
置された圧電層と、前記電極と前記共振器ユニット間に位置する反射要素とを備
え、チューニング可能な容量値を有るキャパシタに接続されたバルク音響波共振
器にも関する。
波共振器の電気的特性を広い範囲にわたって調整できる。
ラス平坦化層を有するセラミック材料、ガラス−セラミック材料、ガラス材料、
シリコン、GaAsまたはサファイアで作られたキャリア基板1を含む。シリコ
ンまたはGaAsがキャリア基板1として使用される場合には、例えばSiO2 またはガラスの不動態化層がさらに形成される。重合体および多孔質物質を含む
グループからの音響反射物質の層である反射要素2が、キャリア基板1上に形成
される。使用される可能性のある音響反射物質は、例えば、エーロゲル、キセロ
ゲル、ガラス発泡体、発泡型接着剤、発泡合成樹脂または低密度の合成樹脂であ
る。使用される可能性のあるエーロゲルは、例えば、シリカゲルまたは多孔質S
iO2構造体で作られた無機エーロゲル、または例えば、レゾシノール−ホルム
アルデヒドエーロゲル、メラミン−ホルムアルデヒドエーロゲルまたはフェノー
ル−ホルムアルデヒドエーロゲルのような有機エーロゲルである。使用される可
能性のあるキセロゲルは、例えば、高濃縮ポリ珪酸のような無機キセロゲル、に
かわまたは寒天のような有機キセロゲルである。使用される可能性のある発泡物
質は、例えば、ポリスチロール、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリウレ
タン、ポリイソシアネート、ポリイソシアヌレート、ポリカルボジイミド、ポリ
メタクリルイミド、ポリアクリルイミド、アクリル−ブタジエン−スチロール共
重合体、ポリプロピレンまたはポリエステルのような化学的に発泡された重合体
または物理的に発泡された重合体である。さらに、例えば、フェノール−ホルム
アルデヒド樹脂またはフラン樹脂のような発泡合成樹脂が使用される可能性があ
り、これらは炭化により高い多孔度を持つ。使用される可能性のある低密度の合
成樹脂は、例えば、架橋ポリビニルエーテル、架橋ポリアリールエーテル、ポリ
テトラフルオロエチレン、ポリ(p−キシリレン)、ポリ(2−クロロ−p−キ
シリレン)、ポリ(ジクロロ−p−キシリレン)、ポリベンゾシクロブテン、ス
チロール−ブタジエン共重合体、エチレン−酢酸ビニル重合体または有機シロキ
サン共重合体である。
振器ユニットは、第1の電極5、圧電層6、および第2の電極7を有する。電極
電極5および7は、低音響減衰の良導電性材料で作られるのが好ましく、例えば
、Ag1−xPtx(0<x<1),50nm〜1μm厚のPt,1〜20nm
厚のTi/20〜600nm厚のPt,1〜20nm厚のTi/20〜600n
m厚のPt/1〜20nm厚のTi,Al,数パーセントのCuがドープされた
Al,数パーセントのSiがドープされたAl,数パーセントのMgがドープさ
れたAl,W,Ni,Mo,Au,Cu,Ti/Pt/Al,Ti/Ag,Ti
/Ag/Ti,Ti/Ag/Ir,Ti/Ir,Ti/Pd,Ti/Ag1−x Ptx(0<x<1),Ti/Ag1−xPdx(0<x<1),Ti/Pt1 −x Alx(0<x<1),Pt1−xAlx(0<x<1),Ti/Ag/P
t1−xAlx(0<x<1),Ti/Ag/Ru,Ti/Ag/Ir/IrOx (0<x<2),Ti/Ag/Ru/RuOx(0<x<2),Ti/Ag/
Ru/RuxPt1−x(0<x<1),Ti/Ag/Ru/RuxPt1−x /RuOy(0<x<1,0<y<2),Ti/Ag/Ru/RuOx/Ruy Pt1−y(0<x<2,0<y<1),Ti/Ag/RuxPt1−x(0< x<1),Ti/Ag/PtxAl1−x(0<x<1),PtxAl1−x/
Ag/PtyAl1−y(0<x<1,0<y<1),Ti/Ag/Pty(R
hOx)1−y(0<x<2,0<y<1),Ti/Ag/Rh/RhOx(0 < x<2),Ti/Ag/PtxRh1−x(0<x<1),Rh,Rh/Rh
O2,Ti/Ag/Pty(RhOx)1−y/PtzRh1−z(0<x<2
,0<y<1,0<z<1),Ti/AgxPt1−x/Ir(0<x<1),
Ti/AgxPt1−x/Ir/IrOy(0<x<1,0<y<2),Ti/
AgxPt1−x/PtyAl1−y(0<x<1,0<y<1),Ti/Agx Pt1−x/Ru(0<x<1),Ti/AgxPt1−x/Ru/RuOy (0<x<1,0<y<2),Ti/Ag/Cr,Ti/Ag/Ti/ITO,
Ti/Ag/Cr/ITO,Ti/Ag/ITO,Ti/Ni/ITO,Ti/
Ni/Al/ITO,Ti/Ni,Ti/W/Ti,WxTi1−x(0<x< 1),WxTi1−x/Al(Cu)(0<x<1),WxTi1−x/Al(
Si)(0<x<1),WxTi1−x/Al(0<x<1),またはTi/C
uを含む可能性がある。
ーパントを含みまたは含まないPbTi1−xZrxO3(0<x<1),Li
NbO3,LiTaO3,PbNb2O6,Pb1−xCaxTiO3(0<x < 1),[Pb(Mg1/3Nb2/3)O3]x−[PbTiO3]1−x(
0<x<1),BaTiO3,K1−xNaxNbO3(0<x<1),(Cd
,Na)NbO3,(Bi,Na)TiO3,(Bi,Na,Pb,Ba)Ti
O3,Bi7Ti4NbO21,(Ba1−xSrx)2NaNb5O15(0 < x<1),(Ba1−xSrx)2KNb5O15(0<x<1),
a)Pb(Mg1/2W1/2)O3, b)Pb(Fe1/2Nb1/2)O3, c)Pb(Fe2/3W1/3)O3, d)Pb(Ni1/3Nb2/3)O3, e)Pb(Zn1/3Nb2/3)O3, f)Pb(Sc1/2Ta1/2)O3, およびa)からf)までの化合物と過剰の鉛を含みあるいは含まないPbTiO3 およびPb(Mg1/3Nb2/3)O3の組み合わせ、およびポリビニルフ
ロライド(PVDF)である可能性がある。
設けられる。キャパシタCAはチューニング可能な容量を有しており、電圧依存
性の誘電率εを持つ誘電体8を有している。キャパシタCBはチューニング可能
な容量を有している必要はなく、誘電体4を有している 共振器の電極5および7は、キャパシタCAおよびCBの一方の電極を形成す
るときに同時に形成される。
部電極を形成するように構成されていてもよい。誘電体8はキャパシタCAの下
部電極の上に設けられ、上部電極9はキャパシタCAの上部電極を形成するよう
に、誘電体8の上に設けられる。
は含まないPbTi1−xZrxO3(0≦x≦1),ドーパントを含みまたは
含まないBaTiO3,ドーパントを含みまたは含まないSrTiO3,Caお
よびPbドーパントを含みまたは含まないBa1−xSrxTiO3(0<x< 1),Ba1−xSrxTiO3(0<x<1)+MgO,Ba1−xSrxT
iO3−Pb1−yCayTiO3(0<x<1,0<y<1),Biがドープ
されたCaTiO3,Srn+1TinO3n+1(0<n<5),Pb1−x CaxTiO3(0<x<1),VOx(1<x<2.5)および/またはSi
O2を含みまたは含まないBa1−xSrxTiO3(0<x<1),ドーパン
トを含みまたは含まないBa1−xSrxZryTi1−yO3(0<x<1,
0<y<1),過剰の鉛を含みまたは含まないBa1−xPbxTiO3(0< x<1),Ba1−xCaxTiO3(0<x<1),ドーパントを含みまたは
含まないSrZrxTi1−xO3(0<x<1),[Pb(Mg1/3Nb2 /3 )O3]x−[PbTiO3]1−x(0<x<1),(Pb,Ba,Sr
)(Mg1/3Nb2/3)xTiy(Zn1/3Nb2/3)1−yO3(0 < x<1,0<y<1),Pb1−xCaxTiO3(0<x<1),過剰のN
a+を含みまたは含まない(Ba1−x+y/8Srx+y/8)2Na1−y Nb5O15(0<x<1,0<y<1),過剰のK+を含みまたは含まない(
Ba1−xSrx)2K1−3ySEyNb5O15(0<x<1,0<y<1
)ここでSEは希土類から選択されたイオン,Sr2Ba4Ti2Nb8O30 ,VOx(1<x<2.5)および/またはCuOドーパントを含みまたは含ま
ないBiNbO4,(Bi2−xZnx)(Nb2−yZny)Ox,Bi2(
Zn1/3Nb2/3)2O7, a)Pb(Mg1/2W1/2)O3, b)Pb(Fe1/2Nb1/2)O3, c)Pb(Fe2/3W1/3)O3, d)Pb(Ni1/3Nb2/3)O3, e)Pb(Zn1/3Nb2/3)O3, f)Pb(Sc1/2Ta1/2)O3, およびa)からf)までの化合物と過剰の鉛およびBa1−xZrxTiO3(
0<x<1)を含みあるいは含まないPbTiO3および/またはPb(Mg1 /3 Nb2/3)O3の組み合わせ から選択される。
のTi/20〜600nm厚のPt,1〜20nm厚のTi/20〜600nm
厚のPt/1〜20nm厚のTi,Al,数パーセントのCuがドープされたA
l,数パーセントのSiがドープされたAl,数パーセントのMgがドープされ
たAl,W,Ni,Mo,Au,Cu,Ti/Pt/Al,Ti/Ag,Ti/
Ag/Ti,Ti/Ag/Ir,Ti/Ir,Ti/Pd,Ti/Ag1−xP
tx(0<x<1),Ti/Ag1−xPdx(0<x<1),Ti/Pt1− x Alx(0<x<1),Pt1−xAlx(0<x<1),Ti/Ag/Pt1−x Alx(0<x<1),Ti/Ag/Ru,Ti/Ag/Ir/IrOx (0<x<2),Ti/Ag/Ru/RuOx(0<x<2),Ti/Ag/R
u/RuxPt1−x(0<x<1),Ti/Ag/Ru/RuxPt1−x/
RuOy(0<x<1,0<y<2),Ti/Ag/Ru/RuOx/RuyP
t1−y(0<x<2,0<y<1),Ti/Ag/RuxPt1−x(0<x < 1),Ti/Ag/PtxAl1−x(0<x<1),PtxAl1−x/A
g/PtyAl1−y(0<x<1,0<y<1),Ti/Ag/Pty(Rh
Ox)1−y(0<x<2,0<y<1),Ti/Ag/Rh/RhOx(0< x<2),Ti/Ag/PtxRh1−x(0<x<1),Rh,Rh/RhO2 ,Ti/Ag/Pty(RhOx)1−y/PtzRh1−z(0<x<2,
0<y<1,0<z<1),Ti/AgxPt1−x/Ir(0<x<1),T
i/AgxPt1−x/Ir/IrOy(0<x<1,0<y<2),Ti/A
gxPt1−x/PtyAl1−y(0<x<1,0<y<1),Ti/Agx Pt1−x/Ru(0<x<1),Ti/AgxPt1−x/Ru/RuOy(
0<x<1,0<y<2),Ti/Ag/Cr,Ti/Ag/Ti/ITO,T
i/Ag/Cr/ITO,Ti/Ag/ITO,Ti/Ni/ITO,Ti/N
i/Al/ITO,Ti/Ni,Ti/W/Ti,WxTi1−x(0<x<1
),WxTi1−x/Al(Cu)(0<x<1),WxTi1−x/Al(S
i)(0<x<1),WxTi1−x/Al(0<x<1),Al,Cuをドー
プしたAl,MgをドープしたAl,SiをドープしたAl,またはTi/Cu
を含む可能性がある。
。共振器の下部電極5は例えば、このキャパシタの上部電極を形成するのと同じ
ように構成することができる。
e,Nd,SmまたはEu),Al2O3,Ba2Ti9O20,Mnドーパン
トを含みあるいは含まないBa2Ti9−xZrxO20(0<x<1),Ba
Ti5O11,BaTi4O9,Nb2O5,TiO2,(Ta2O5)x−(
Al2O3)1−x(0<x<1),(Ta2O5)x.(TiO2)1−x(
0<x<1),(Ta2O5)x−(Nb2O5)1−x(0<x<1),(T
a2O5)x−(SiO2)1−x(0<x<1),(Sr,Ca)(Ti,Z
r)O3,BaO−SrO−Nd2O3−Gd2O3−Nb2O3−TiO2,
CaSm2Ti5O14,Zr(Ti,Sn)O4,BaO−PbO−CaO−
Nd2O3−Pr2O3−Bi2O3−TiO2,Ba(Zr,Zn,Ta)O3 ,CaTiO3−LaAlO3,(Bi3(Ni2Nb)O9)1−x(Bi2 (ZnNb2(1+d)yO3+6y+5yd)x(0<x<1,0.5<y < 1.5,−0.05<d<0.05),VOx(0<x<2.5)のドーパン
トを含みあるいは含まないBiNbO4,Ba(Zr,Ta)O3,(Bi2− x Znx)(Zn2−yNby)O7(0<x<1,0<y<1)あるいはBi2 (Zn1/3Nb2/3)2O7 で構成されても良い。
のTi/20〜600nm厚のPt,1〜20nm厚のTi/20〜600nm
厚のPt/1〜20nm厚のTi,Al,数パーセントのCuがドープされたA
l,数パーセントのSiがドープされたAl,数パーセントのMgがドープされ
たAl,W,Ni,Mo,Au,Cu,Ti/Pt/Al,Ti/Ag,Ti/
Ag/Ti,Ti/Ag/Ir,Ti/Ir,Ti/Pd,Ti/Ag1−xP
tx(0<x<1),Ti/Ag1−xPdx(0<x<1),Ti/Pt1− x Alx(0<x<1),Pt1−xAlx(0<x<1),Ti/Ag/Pt1−x Alx(0<x<1),Ti/Ag/Ru,Ti/Ag/Ir/IrOx (0<x<2),Ti/Ag/Ru/RuOx(0<x<2),Ti/Ag/R
u/RuxPt1−x(0<x<1),Ti/Ag/Ru/RuxPt1−x/
RuOy(0<x<1,0<y<2),Ti/Ag/Ru/RuOx/RuyP
t1−y(0<x<2,0<y<1),Ti/Ag/RuxPt1−x(0<x < 1),Ti/Ag/PtxAl1−x(0<x<1),PtxAl1−x/A
g/PtyAl1−y(0<x<1,0<y<1),Ti/Ag/Pty(Rh
Ox)1−y(0<x<2,0<y<1),Ti/Ag/Rh/RhOx(0< x<2),Ti/Ag/PtxRh1−x(0<x<1),Rh,Rh/RhO2 ,Ti/Ag/Pty(RhOx)1−y/PtzRh1−z(0<x<2,
0<y<1,0<z<1),Ti/AgxPt1−x/Ir(0<x<1),T
i/AgxPt1−x/Ir/IrOy(0<x<1,0<y<2),Ti/A
gxPt1−x/PtyAl1−y(0<x<1,0<y<1),Ti/Agx Pt1−x/Ru(0<x<1),Ti/AgxPt1−x/Ru/RuOy(
0<x<1,0<y<2),Ti/Ag/Cr,Ti/Ag/Ti/ITO,T
i/Ag/Cr/ITO,Ti/Ag/ITO,Ti/Ni/ITO,Ti/N
i/Al/ITO,Ti/Ni,Ti/W/Ti,WxTi1−x(0<x<1
),WxTi1−x/Al(Cu)(0<x<1),WxTi1−x/Al(S
i)(0<x<1),WxTi1−x/Al(0<x<1),Al,Cuをドー
プしたAl,MgをドープしたAl,SiをドープしたAl,またはTi/Cu
を含む可能性がある。
異なる導電層を堆積させたものであっても良い。
、フィルタ構成全体の上に形成することができる。使用される有機材料は、例え
ば、ポリベンゾシクロブテンまたはポリイミドである可能性があり、および使用
される無機材料は、例えば、Si3N4、SiO2またはSixOyNz(0< x<1,0<y<1,0<z<1)である可能性がある。
かエッチングにより開けられる。例えば、Cr/CuまたはCr/Cu/Ni/
Auがコンタクト孔内で成長される。フィルタ入力、フィルタ出力、および接地
へのコンタクトはバンプエンドコンタクトによりなされる。さらに、1ないし1
00Vの範囲のDC電圧は誘電体8の層厚に応じて、キャパシタCAの2つの電
極7、9に印加される。
CAおよびCBの誘電層4,8のバイアを通して、電気的に内部接続される。
ンスである、各層が共振波長λの1/4の厚さを有するいくつかの層で構成する
ことができる。低音響インピーダンスの材料は、例えば、有機または無機のエー
ロゲル、有機または無機のキセロゲル、ガラス発泡体、発泡型接着剤、発泡合成
樹脂または低密度の合成樹脂、またはSiO2である可能性がある。高音響イン
ピーダンスの材料は、例えば、HfO2、Mo、Au、Ni、Cu、W、Ti/
W/Ti、WxTi1−x(0<x<1)、ダイアモンド、AlN,Ta2O5 、Pt、Ti/Pt、または例えば高密度ポリエチレン(HDPE)のような高
密度の合成樹脂である可能性がある。共振器の下部電極5を同時に反射要素2の
λ/4層の上部層とすることもできる。
上部電極7の上に設けることができる。
れた追加の接着層を、反射要素2とキャリア基板1の間に形成する。アクリル酸
にかわは、例えば、接着工程中に重合するアクリルまたはメタクリル単量体を含
むことができる。
iO2で作られた反射要素2の上および/または下に形成することができる。こ
れらのSiO2層、反射要素2,および第2の反射要素は基板1の全領域上、あ
るいは共振ユニットの領域のように部分的に設けることができる。
用コンタクトを設けることができる。電流供給コンタクトは例えば、Cr/Cu
、Ni/SnまたはCr/Cu、Cu/Ni/SnまたはCr/Ni、Pb/S
n、またはCr/Cu,Ni/Auの電気メッキSMDエンドコンタクトまたは
Cr/CuあるいはCr/Cu/Ni/Auのバンプエンドコンタクト、または
コンタクトパッドとして用いることができる。
プを有する共振器などをバルク音響波共振器の代わりに用いることができ、また
、表面音響波フィルタをチューニング可能なフィルタ構成内に電極3,5および
圧電層4の設計を対応して変えるならば用いることができる。コイルとキャパシ
タより構成されるLC共振器を用いることも可能である。
って、例えば、チューニング可能なフィルタ構成は、2つ以上の共振器を有する
ことも可能である。2つ以上の共振器がチューニング可能なフィルタ構成中のチ
ューニング可能な容量値を持つキャパシタと接続されるようにすることもできる
。共振器が複数のキャパシタと接続されるときには、キャパシタは多くの回路の
変形例において共振器と接続されることができる。
発明の多くの可能な実施形態から一つだけを抜き出したもので、フィルタ入力1
1とフィルタ出力12との間に接続された直列共振器R1と並列共振器R2を有
している。キャパシタC1は共振器R1に並列に接続され、キャパシタC2は共
振器R1の下流側でキャパシタC2に直列に接続されている。キャパシタC3は
並列共振器R2に直列に下流側で接続され、キャパシタC4は共振器R2に並列
に接続されている。直列キャパシタC3の第2の端子は接地されている。キャパ
シタC1およびC3はトリミング可能な容量値を有している。
誘電体4、8および圧電層6の可能な設計を示す模式的平面図である。
態が以下に詳細に説明される。
のSiO2層、多孔質SiO2層の反射要素、および30nm厚のSiO2層が
存在する。Pt/Tiの電極5がSiO2層上に存在する。PbZr0.35T
i0.65O3の圧電層6が第1の電極5の上に位置し、Ti/Pt電極7が圧
電層6の上に設けられている。圧電層6および2つの電極5,7は堆積され、2
つの共振器R1およびR2が形成されるように構成されている。電極5は共振器
R2に隣接するキャパシタC4の上部電極をも構成するように堆積され、構成さ
れている。電極7はバルク音響波共振器R2の領域においてキャパシタC2の上
部電極とともにキャパシタC1の下部電極を形成するように、およびバルク音響
波共振器R2の領域においてキャパシタC3の下部電極を形成するように堆積さ
れ、構成される。5%のランタンドーピングを含むPbZr0.53Ti0.4 7 O3の誘電体8がキャパシタC1,C3の下部電極の上にあり、Pt/Tiの
上部電極9はそれぞれの誘電体8の上に設けられている。キャパシタC2および
C4のそれぞれはPt/Tiの上部電極に加えてSi3N4の誘電体および4%
のCuがドープされたAl下部電極3を備えている。
5,7,9へのコンタクトホールが、エッチングにより保護層10に開けられて
いる。Cr/Cu/NI/Auのバンプエンドコンタクトがコンタクトホール内
に成長している。
成のフィルタ入力11に対するコンタクトとして作用し、共振器R2の領域にお
ける電極3に対するそれぞれのバンプエンドコンタクトはフィルタ構成のフィル
タ出力12に対するコンタクトとして作用する。さらに、キャパシタC3の領域
中の電極9に対するバンプエンドコンタクトは接地されている。
誘電体8,および誘電体4中の適当なバイアを通して電気的に内部接続される。
キャパシタC1は共振器R1に並列接続されるが、キャパシタC2は共振器R1
の下流側で直列に接続される。キャパシタC3は共振器R2の下流側で直列に接
続され、キャパシタC4は共振器R2に並列に接続される。
振周波数に対応するように、チューニングされる。フィルタ構成のフィルタ特性
はキャパシタC1、C2にDC電圧を印加することにより変化する。これは誘電
体8中の誘電材料の相対誘電率εが変化するためである。数ボルトのDC電圧の
印加はキャパシタC1およびC3の容量値を係数10まで減少させることができ
る。その結果、共振器R1およびR2の共振周波数および非共振周波数はシフト
され、フィルタ構成のフィルタ曲線は数%シフトする。キャパシタC1およびC
3の電極7および9にはDC電圧がバンプエンドコンタクトを介して印加される
。
を有し、並列共振器R2は共振周波数0.95035GHzを有している。キャ
パシタC1およびC3の電極にDC電圧が印加されないときの4つのキャパシタ
は次の容量値を有している:C1=2pF,C2=100pF,C3=100p
F,C4=10pF。このフィルタ構成のフィルタ特性は曲線13により示され
ている。20VのDC電圧が印加された後には、C1およびC3の容量値は係数
10で減少し、フィルタの帯域は高周波領域にシフトする。曲線14はこの新た
なフィルタ特性に関連する。
チューニング可能な帯域フィルタとして使用される。
のSiO2層、多孔質SiO2層の反射要素、および30nm厚のSiO2層が
存在する。Pt/Tiの電極5がSiO2層上に存在する。AlNの圧電層6が
第1の電極5の上に位置し、Ti/Pt電極7が圧電層6の上に設けられている
。圧電層6および2つの電極5,7は堆積され、直列共振器R1および並列共振
器R2を有するフィルタ構成が形成されるように構成されている。電極5は共振
器R2に隣接するキャパシタC4の上部電極をも構成するように堆積され、構成
されている。電極7はバルク音響波共振器R2の領域においてキャパシタC2の
上部電極とともにキャパシタC1の下部電極を形成するように、およびバルク音
響波共振器R2の領域においてキャパシタC3の下部電極を形成するように堆積
され、構成される。5%のランタンドーピングを含むPbZr0.53Ti0. 47 O3の誘電体8がキャパシタC1,C3の下部電極の上にあり、Pt/Ti
の上部電極9はそれぞれの誘電体8の上に設けられている。キャパシタC2およ
びC4のそれぞれはPt/Tiの上部電極に加えてSi3N4の誘電体および4
%のCuがドープされたAl下部電極3を備えている。
5,7,9へのコンタクトホールが、エッチングにより保護層10に開けられて
いる。Cr/Cu/NI/Auのバンプエンドコンタクトがコンタクトホール内
に成長している。
成のフィルタ入力11に対するコンタクトとして作用し、共振器R2の領域にお
ける電極3に対するそれぞれのバンプエンドコンタクトはフィルタ構成のフィル
タ出力12に対するコンタクトとして作用する。さらに、キャパシタC3の領域
中の電極9に対するバンプエンドコンタクトは接地されている。
誘電体8,および誘電体4中の適当なバイアを通して電気的に内部接続される。
キャパシタC1は共振器R1に並列接続されるが、キャパシタC2は共振器R1
の下流側で直列に接続される。キャパシタC3は共振器R2の下流側で直列に接
続され、キャパシタC4は共振器R2に並列に接続される。
振周波数に対応するように、チューニングされる。フィルタ構成のフィルタ特性
はキャパシタC1、C2にDC電圧を印加することにより変化する。これは誘電
体8中の誘電材料の相対誘電率εが変化するためである。数ボルトのDC電圧の
印加はキャパシタC1およびC3の容量値を係数10まで減少させることができ
る。その結果、共振器R1およびR2の共振周波数および非共振周波数はシフト
され、フィルタ構成のフィルタ曲線は数%シフトする。キャパシタC1およびC
3の電極7および9にはDC電圧がバンプエンドコンタクトを介して印加される
。
チューニング可能な帯域フィルタとして使用される。
。Pt/Tiの電極5が反射要素2の上に存在する。AlNの圧電層6が電極5
の上に位置し、Ti/Pt電極7が圧電層6の上に設けられている。圧電層6お
よび2つの電極5,7は堆積され、直列共振器R1および並列共振器R2を有す
るフィルタ構成が形成されるように構成されている。電極5は共振器R2に隣接
するキャパシタC4の上部電極をも構成するように堆積され、構成されている。
電極7はバルク音響波共振器R2の領域においてキャパシタC2の上部電極とと
もにキャパシタC1の下部電極を形成するように、およびバルク音響波共振器R
2の領域においてキャパシタC3の下部電極を形成するように堆積され、構成さ
れる。5%のランタンドーピングを含むPbZr0.53Ti0.47O3の誘
電体8がキャパシタC1,C3の下部電極の上にあり、Pt/Tiの上部電極9
はそれぞれの誘電体8の上に設けられている。キャパシタC2およびC4のそれ
ぞれはPt/Tiの上部電極に加えてSi3N4の誘電体および4%のCuがド
ープされたAl下部電極3を備えている。
,5,7,9へのコンタクトホールが、エッチングにより保護層10に開けられ
ている。Cr/Cu/NI/Auのバンプエンドコンタクトがコンタクトホール
内に成長している。
成のフィルタ入力11に対するコンタクトとして作用し、共振器R2の領域にお
ける電極3に対するそれぞれのバンプエンドコンタクトはフィルタ構成のフィル
タ出力12に対するコンタクトとして作用する。さらに、キャパシタC3の領域
中の電極9に対するバンプエンドコンタクトは接地されている。
誘電体8,および誘電体4中の適当なバイアを通して電気的に内部接続される。
キャパシタC1は共振器R1に並列接続されるが、キャパシタC2は共振器R1
の下流側で直列に接続される。キャパシタC3は共振器R2の下流側で直列に接
続され、キャパシタC4は共振器R2に並列に接続される。
振周波数に対応するように、チューニングされる。フィルタ構成のフィルタ特性
はキャパシタC1、C2にDC電圧を印加することにより変化する。これは誘電
体8中の誘電材料の相対誘電率εが変化するためである。数ボルトのDC電圧の
印加はキャパシタC1およびC3の容量値を係数10まで減少させることができ
る。その結果、共振器R1およびR2の共振周波数および非共振周波数はシフト
され、フィルタ構成のフィルタ曲線は数%シフトする。キャパシタC1およびC
3の電極7および9にはDC電圧がバンプエンドコンタクトを介して印加される
。
チューニング可能な帯域フィルタとして使用される。
する。Pt/Tiの電極5が反射要素2の上に存在する。AlNの圧電層6が電
極5の上に位置し、Ti/Pt電極7が圧電層6の上に設けられている。圧電層
6および2つの電極5,7は堆積され、直列共振器R1および並列共振器R2を
有するフィルタ構成が形成されるように構成されている。電極5は共振器R2に
隣接するキャパシタC4の上部電極をも構成するように堆積され、構成されてい
る。電極7はバルク音響波共振器R2の領域においてキャパシタC2の上部電極
とともにキャパシタC1の下部電極を形成するように、およびバルク音響波共振
器R2の領域においてキャパシタC3の下部電極を形成するように堆積され、構
成される。5%のランタンドーピングを含むPbZr0.53Ti0.47O3 の誘電体8がキャパシタC1,C3の下部電極の上にあり、Pt/Tiの上部電
極9はそれぞれの誘電体8の上に設けられている。キャパシタC2およびC4の
それぞれはPt/Tiの上部電極に加えてSi3N4の誘電体および4%のCu
がドープされたAl下部電極3を備えている。
,5,7,9へのコンタクトホールが、エッチングにより保護層10に開けられ
ている。Cr/Cu/NI/Auのバンプエンドコンタクトがコンタクトホール
内に成長している。
成のフィルタ入力11に対するコンタクトとして作用し、共振器R2の領域にお
ける電極3に対するそれぞれのバンプエンドコンタクトはフィルタ構成のフィル
タ出力12に対するコンタクトとして作用する。さらに、キャパシタC3の領域
中の電極9に対するバンプエンドコンタクトは接地されている。
誘電体8,および誘電体4中の適当なバイアを通して電気的に内部接続される。
キャパシタC1は共振器R1に並列接続されるが、キャパシタC2は共振器R1
の下流側で直列に接続される。キャパシタC3は共振器R2の下流側で直列に接
続され、キャパシタC4は共振器R2に並列に接続される。
振周波数に対応するように、チューニングされる。フィルタ構成のフィルタ特性
はキャパシタC1、C2にDC電圧を印加することにより変化する。これは誘電
体8中の誘電材料の相対誘電率εが変化するためである。数ボルトのDC電圧の
印加はキャパシタC1およびC3の容量値を係数10まで減少させることができ
る。その結果、共振器R1およびR2の共振周波数および非共振周波数はシフト
され、フィルタ構成のフィルタ曲線は数%シフトする。キャパシタC1およびC
3の電極7および9にはDC電圧がバンプエンドコンタクトを介して印加される
。
チューニング可能な帯域フィルタとして使用される。
O2の交番λ/4層の反射要素2が存在する。Ti/Ptの電極5が反射要素2
の上に存在する。AlNの圧電層6が電極5の上に位置し、Ti/Pt電極7が
圧電層6の上に設けられている。圧電層6および2つの電極5,7は堆積され、
直列共振器R1および並列共振器R2を有するフィルタ構成が形成されるように
構成されている。電極5は共振器R2に隣接するキャパシタC4の上部電極をも
構成するように堆積され、構成されている。電極7はバルク音響波共振器R2の
領域においてキャパシタC2の上部電極とともにキャパシタC1の下部電極を形
成するように、およびバルク音響波共振器R2の領域においてキャパシタC3の
下部電極を形成するように堆積され、構成される。5%のランタンドーピングを
含むPbZr0.53Ti0.47O3の誘電体8がキャパシタC1,C3の下
部電極の上にあり、Pt/Tiの上部電極9はそれぞれの誘電体8の上に設けら
れている。キャパシタC2およびC4のそれぞれはPt/Tiの上部電極に加え
てSi3N4の誘電体およびTi/Ptの下部電極3を備えている。
,5,7,9へのコンタクトホールが、エッチングにより保護層10に開けられ
ている。Cr/Cu/NI/Auのバンプエンドコンタクトがコンタクトホール
内に成長している。
成のフィルタ入力11に対するコンタクトとして作用し、共振器R2の領域にお
ける電極3に対するそれぞれのバンプエンドコンタクトはフィルタ構成のフィル
タ出力12に対するコンタクトとして作用する。さらに、キャパシタC3の領域
中の電極9に対するバンプエンドコンタクトは接地されている。
誘電体8,および誘電体4中の適当なバイアを通して電気的に内部接続される。
キャパシタC1は共振器R1に並列接続されるが、キャパシタC2は共振器R1
の下流側で直列に接続される。キャパシタC3は共振器R2の下流側で直列に接
続され、キャパシタC4は共振器R2に並列に接続される。
振周波数に対応するように、チューニングされる。フィルタ構成のフィルタ特性
はキャパシタC1、C2にDC電圧を印加することにより変化する。これは誘電
体8中の誘電材料の相対誘電率εが変化するためである。数ボルトのDC電圧の
印加はキャパシタC1およびC3の容量値を係数10まで減少させることができ
る。その結果、共振器R1およびR2の共振周波数および非共振周波数はシフト
され、フィルタ構成のフィルタ曲線は数%シフトする。キャパシタC1およびC
3の電極7および9にはDC電圧がバンプエンドコンタクトを介して印加される
。
チューニング可能な帯域フィルタとして使用される。
O2の交番λ/4層の反射要素2が存在する。Ti/Ptの電極5が反射要素2
の上に存在する。AlNの圧電層6が電極5の上に位置し、Ti/Pt電極7が
圧電層6の上に設けられている。圧電層6および2つの電極5,7は堆積され、
直列共振器R1および並列共振器R2を有するフィルタ構成が形成されるように
構成されている。電極5は共振器R2に隣接するキャパシタC4の上部電極をも
構成するように堆積され、構成されている。電極7はバルク音響波共振器R2の
領域においてキャパシタC2の上部電極とともにキャパシタC1の下部電極を形
成するように、およびバルク音響波共振器R2の領域においてキャパシタC3の
下部電極を形成するように堆積され、構成される。5%のランタンドーピングを
含むPbZr0.53Ti0.47O3の誘電体8がキャパシタC1,C3の下
部電極の上にあり、Pt/Tiの上部電極9はそれぞれの誘電体8の上に設けら
れている。キャパシタC2およびC4のそれぞれはPt/Tiの上部電極に加え
てSi3N4の誘電体、および別に堆積され、4%のCuがドープされたAl下
部電極3を備えている。
,5,7,9へのコンタクトホールが、エッチングにより保護層10に開けられ
ている。Cr/Cu/NI/Auのバンプエンドコンタクトがコンタクトホール
内に成長している。
成のフィルタ入力11に対するコンタクトとして作用し、共振器R2の領域にお
ける電極3に対するそれぞれのバンプエンドコンタクトはフィルタ構成のフィル
タ出力12に対するコンタクトとして作用する。さらに、キャパシタC3の領域
中の電極9に対するバンプエンドコンタクトは接地されている。
誘電体8,および誘電体4中の適当なバイアを通して電気的に内部接続される。
キャパシタC1は共振器R1に並列接続されるが、キャパシタC2は共振器R1
の下流側で直列に接続される。キャパシタC3は共振器R2の下流側で直列に接
続され、キャパシタC4は共振器R2に並列に接続される。
振周波数に対応するように、チューニングされる。フィルタ構成のフィルタ特性
はキャパシタC1、C2にDC電圧を印加することにより変化する。これは誘電
体8中の誘電材料の相対誘電率εが変化するためである。数ボルトのDC電圧の
印加はキャパシタC1およびC3の容量値を係数10まで減少させることができ
る。その結果、共振器R1およびR2の共振周波数および非共振周波数はシフト
され、フィルタ構成のフィルタ曲線は数%シフトする。キャパシタC1およびC
3の電極7および9にはDC電圧がバンプエンドコンタクトを介して印加される
。
チューニング可能な帯域フィルタとして使用される。
電極5が圧電層4および反射要素2のある部分上に設けられている。圧電層4お
よび2つの電極3、5は堆積され、図2にしたがった2つの共振器3,5が形成
されるように構成されている。SiO2の保護層7が、フィルタ構成全体の上に
設けられている。第1の電極および第2電極5へのコンタクトホールを、エッチ
ングを用いて保護層7に開けられている。Cr/Cu/NI/Auのバンプエン
ドコンタクトがコンタクトホール内に成長している。共振器R1の領域中の電極
5に対するバンプエンドコンタクトは、フィルタ構成の入力8に対するコンタク
トとして作用し、共振器R1の領域共振器R2の領域における電極3に対するそ
れぞれのバンプエンドコンタクトはフィルタ構成の出力9に対するコンタクトと
して作用する。さらに、共振器R2の領域中の電極5に対するバンプエンドコン
タクトは接地されている。DC電圧がこれらのバンプエンドコンタクトを介して
電極3、5に印加されている。
振周波数に対応するように、チューニングされる。フィルタ構成のフィルタ特性
は2つの共振器にDC電圧を印加することにより変化する。これは圧電層4中の
誘電材料の誘電率εが減少するためである。チューニング可能な共振器の共振周
波数および非共振周波数はそれによってシフトする。
ルタとして使用される。
波共振器を示す断面図である。
ある。
Claims (13)
- 【請求項1】 基板と、 少なくとも1つがチューニング可能な容量を有するキャパシタに接続された少
なくとも2つの相互接続され、前記半導体基板上に設けられた共振器の構成、 を備えたチューニング可能なフィルタ構成。 - 【請求項2】 前記キャパシタは電圧依存性誘電率を有する材料でなる誘電体を備えたことを
特徴とする請求項1に記載のチューニング可能なフィルタ構成。 - 【請求項3】 前記電圧依存性誘電率を有する材料でなる誘電体は、次の群、 La,NbまたはMnのドーパントを含みまたは含まず、過剰の鉛を含みまた
は含まないPbTi1−xZrxO3(0≦x≦1),ドーパントを含みまたは
含まないBaTiO3,ドーパントを含みまたは含まないSrTiO3,Caお
よびPbドーパントを含みまたは含まないBa1−xSrxTiO3(0<x< 1),Ba1−xSrxTiO3(0<x<1)+MgO,Ba1−xSrxT
iO3−Pb1−yCayTiO3(0<x<1,0<y<1),Biがドープ
されたCaTiO3,Srn+1TinO3n+1(0<n<5),Pb1−x CaxTiO3(0<x<1),VOx(1<x<2.5)および/またはSi
O2を含みまたは含まないBa1−xSrxTiO3(0<x<1),ドーパン
トを含みまたは含まないBa1−xSrxZryTi1−yO3(0<x<1,
0<y<1),過剰の鉛を含みまたは含まないBa1−xPbxTiO3(0< x<1),Ba1−xCaxTiO3(0<x<1),ドーパントを含みまたは
含まないSrZrxTi1−xO3(0<x<1),[Pb(Mg1/3Nb2 /3 )O3]x−[PbTiO3]1−x(0<x<1),(Pb,Ba,Sr
)(Mg1/3Nb2/3)xTiy(Zn1/3Nb2/3)1−yO3(0 < x<1,0<y<1),Pb1−xCaxTiO3(0<x<1),過剰のN
a+を含みまたは含まない(Ba1−x+y/8Srx+y/8)2Na1−y Nb5O15(0<x<1,0<y<1),過剰のK+を含みまたは含まない(
Ba1−xSrx)2K1−3ySEyNb5O15(0<x<1,0<y<1
)ここでSEは希土類から選択されたイオン,Sr2Ba4Ti2Nb8O30 ,VOx(1<x<2.5)および/またはCuOドーパントを含みまたは含ま
ないBiNbO4,(Bi2−xZnx)(Nb2−yZny)Ox,Bi2(
Zn1/3Nb2/3)2O7, a)Pb(Mg1/2W1/2)O3, b)Pb(Fe1/2Nb1/2)O3, c)Pb(Fe2/3W1/3)O3, d)Pb(Ni1/3Nb2/3)O3, e)Pb(Zn1/3Nb2/3)O3, f)Pb(Sc1/2Ta1/2)O3, およびa)からf)までの化合物と過剰の鉛およびBa1−xZrxTiO3(
0<x<1)を含みあるいは含まないPbTiO3および/またはPb(Mg1 /3 Nb2/3)O3の組み合わせ、 から選択されたものであることを特徴とする請求項2に記載のチューニング可
能なフィルタ構成。 - 【請求項4】 前記共振器がバルク音響波共振器、表面音響波共振器、およびLC共振器の群
から選択されたものであることを特徴とする請求項1に記載のチューニング可能
なフィルタ構成。 - 【請求項5】 前記共振器が薄膜技術で構成されたものであることを特徴とする請求項4に記
載のチューニング可能なフィルタ構成。 - 【請求項6】 前記バルク音響波共振器のそれぞれは、下部および上部電極とその間に配置さ
れた圧電層を有する共振器ユニットと、前記電極と前記共振器ユニット間に位置
する反射要素を備えたことを特徴とする請求項4に記載のチューニング可能なフ
ィルタ構成。 - 【請求項7】 チューニング可能な容量を有するキャパシタに接続された前記共振器は他のキ
ャパシタにも接続されていることを特徴とする請求項1に記載のチューニング可
能なフィルタ構成。 - 【請求項8】 少なくとも一つのキャパシタが、前記共振器に並列接続された少なくとも一つ
のキャパシタに直列に接続されたことを特徴とするチューニング可能なフィルタ
構成。 - 【請求項9】 基板と、少なくとも1つがチューニング可能な容量を有するキャパシタに接続
された少なくとも2つの相互接続され、前記半導体基板上に設けられた共振器の
構成、をその上に備えた移動電話装置。 - 【請求項10】 基板と、少なくとも1つがチューニング可能な容量を有するキャパシタに接続
された少なくとも2つの相互接続され、前記半導体基板上に設けられた共振器の
構成、をその上に備えた送信機。 - 【請求項11】 基板と、少なくとも1つがチューニング可能な容量を有するキャパシタに接続
された少なくとも2つの相互接続され、前記半導体基板上に設けられた共振器の
構成、をその上に備えた受信機。 - 【請求項12】 基板と、少なくとも強誘電性材料でなる圧電部品を含み、DC電源が接続され
た、相互接続された少なくとも2つの共振器をその上に備えたチューニング可能
なフィルタ構成とを備えた無線データ送信システム。 - 【請求項13】 基板と、その上に設けられ、下部および上部電極との間に配置された圧電層と
、前記電極と前記共振器ユニット間に位置する反射要素とを備え、チューニング
可能な容量値を有るキャパシタに接続されたバルク音響波共振器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP00302923 | 2000-04-06 | ||
EP00302923.8 | 2000-04-06 | ||
PCT/EP2001/003830 WO2001078230A1 (en) | 2000-04-06 | 2001-04-04 | Tunable filter arrangement |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003530705A true JP2003530705A (ja) | 2003-10-14 |
JP5175016B2 JP5175016B2 (ja) | 2013-04-03 |
Family
ID=8172893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001574976A Expired - Fee Related JP5175016B2 (ja) | 2000-04-06 | 2001-04-04 | チューニング可能なフィルタ構成 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6653913B2 (ja) |
EP (1) | EP1290790B1 (ja) |
JP (1) | JP5175016B2 (ja) |
CN (1) | CN100407574C (ja) |
AT (1) | ATE427583T1 (ja) |
DE (1) | DE60138188D1 (ja) |
WO (1) | WO2001078230A1 (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002308673A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-10-23 | Tdk Corp | 圧電電歪磁器 |
JP2005136588A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Sharp Corp | 圧電薄膜共振器、フィルタ、フィルタバンク、フィルタバンク一体型電力増幅器および高周波通信装置 |
JP2007129391A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 音響共振器及びフィルタ |
JP2007181147A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyocera Corp | 薄膜バルク音響波共振子、それを備えるフィルタおよび通信装置ならびに薄膜バルク音響波共振子の製造方法 |
JP2007288321A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Toshiba Corp | 共振回路、フィルタ回路および発振回路 |
JP2008154240A (ja) * | 2007-12-17 | 2008-07-03 | Kyocera Corp | 共振器および電子機器 |
JP2008172713A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Hitachi Media Electoronics Co Ltd | 圧電薄膜共振器および圧電薄膜共振器フィルタおよびその製造方法 |
JP2012519447A (ja) * | 2009-03-04 | 2012-08-23 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 急峻なエッジを有するリアクタンスフィルタ |
TWI420549B (zh) * | 2006-06-30 | 2013-12-21 | Centre Nat Rech Scient | 具有可變電容之裝置及其改變電容之方法 |
JPWO2015119176A1 (ja) * | 2014-02-10 | 2017-03-23 | 株式会社村田製作所 | フィルタ回路および無線通信装置 |
JPWO2015119177A1 (ja) * | 2014-02-10 | 2017-03-23 | 株式会社村田製作所 | 可変フィルタ回路および無線通信装置 |
JPWO2015119178A1 (ja) * | 2014-02-10 | 2017-03-23 | 株式会社村田製作所 | 可変フィルタ回路および無線通信装置 |
JP2018026735A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波デバイスおよびその製造方法 |
JP2020014202A (ja) * | 2018-07-17 | 2020-01-23 | ツー−シックス デラウェア インコーポレイテッドII−VI Delaware,Inc. | 電極画定共振器 |
JP2020152635A (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-24 | Tdk株式会社 | 誘電体組成物および電子部品 |
KR20220126672A (ko) * | 2018-07-17 | 2022-09-16 | 투-식스 델라웨어, 인코포레이티드 | 전극 정의 공진기 |
US11738539B2 (en) | 2018-07-17 | 2023-08-29 | II-VI Delaware, Inc | Bonded substrate including polycrystalline diamond film |
US11750169B2 (en) | 2018-07-17 | 2023-09-05 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Electrode-defined unsuspended acoustic resonator |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030025148A1 (en) * | 2001-05-04 | 2003-02-06 | Jung-Yu Hsieh | Structure of a flash memory |
WO2002093763A1 (fr) * | 2001-05-11 | 2002-11-21 | Ube Electronics, Ltd. | Filtre utilisant un resonateur acoustique en volume a bande plastique et un commutateur transmission/reception |
TW540173B (en) * | 2002-05-03 | 2003-07-01 | Asia Pacific Microsystems Inc | Bulk acoustic device having integrated fine-tuning and trimming devices |
AU2003259512A1 (en) * | 2002-09-12 | 2004-04-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Bulk acoustic wave resonator with means for suppression of pass-band ripple in bulk acoustic wave filters |
DE10246791B4 (de) * | 2002-10-08 | 2017-10-19 | Snaptrack, Inc. | Mit akustischen Volumenwellen arbeitender Resonator und Schaltung mit dem Resonator |
JP3827232B2 (ja) * | 2003-05-13 | 2006-09-27 | Tdk株式会社 | フィルタ装置およびそれを用いた分波器 |
JP4053958B2 (ja) | 2003-09-19 | 2008-02-27 | 株式会社東芝 | 電圧制御発振器 |
US7466213B2 (en) * | 2003-10-06 | 2008-12-16 | Nxp B.V. | Resonator structure and method of producing it |
ATE373892T1 (de) * | 2003-12-22 | 2007-10-15 | Infineon Technologies Ag | Dünnfilmresonator-abzweigfilter und verfahren zur erdung dieser filter |
FR2864727B1 (fr) * | 2003-12-29 | 2007-05-11 | St Microelectronics Sa | Circuit electronique comportant un resonateur destine a etre integre dans un produit semi-conducteur |
JP4053504B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2008-02-27 | 株式会社東芝 | チューナブルフィルタ |
US7623837B2 (en) * | 2004-05-10 | 2009-11-24 | Stmicroelectronics S.A. | Receiver for an integrated heterodyne communication system including BAW-type resonators |
JP2006005485A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Toshiba Corp | フィルタ制御装置とフィルタシステム |
US7091542B1 (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-15 | International Business Machines Corporation | Method of forming a MIM capacitor for Cu BEOL application |
FR2883432B1 (fr) * | 2005-03-18 | 2008-02-22 | St Microelectronics Sa | Circuit de filtrage accordable en frequence integrable, comportant un jeu de resonateurs baw |
DE102005026243B4 (de) * | 2005-06-07 | 2018-04-05 | Snaptrack, Inc. | Elektrisches Bauelement und Herstellungsverfahren |
FR2888060A1 (fr) * | 2005-07-01 | 2007-01-05 | St Microelectronics Sa | Circuit de filtrage passe-bande dote de resonateurs acoustiques |
US20070035364A1 (en) * | 2005-08-11 | 2007-02-15 | Uppili Sridhar | Titanium-tungsten alloy based mirrors and electrodes in bulk acoustic wave devices |
US7675388B2 (en) * | 2006-03-07 | 2010-03-09 | Agile Rf, Inc. | Switchable tunable acoustic resonator using BST material |
US20070228876A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Chien-Min Sung | Diamond Frequency Control Devices and Associated Methods |
FR2904492A1 (fr) * | 2006-07-28 | 2008-02-01 | St Microelectronics Sa | Circuit de filtrage dote de resonateurs acoustiques |
US8641919B2 (en) * | 2006-08-09 | 2014-02-04 | The Johns Hopkins University | Piezoelectric compositions |
DE102007033233B4 (de) * | 2007-07-17 | 2011-03-31 | Epcos Ag | Hochpassfilter und Verwendung |
FR2920612B1 (fr) * | 2007-09-03 | 2009-12-04 | St Microelectronics Sa | Circuit d'accord en frequence pour filtre treillis |
WO2010001344A2 (en) * | 2008-07-01 | 2010-01-07 | Nxp B.V. | Integrating and optimizing different functional components on a single substrate having layer in common |
EP3944497A3 (en) * | 2010-12-10 | 2022-03-30 | pSemi Corporation | A tunable acoustic wave resonator module and method of tuning an acoustic wave filter |
US9300038B2 (en) | 2010-12-10 | 2016-03-29 | Peregrine Semiconductor Corporation | Method, system, and apparatus for resonator circuits and modulating resonators |
WO2012114931A1 (ja) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | 株式会社村田製作所 | 可変容量素子及びチューナブルフィルタ |
CN102130460A (zh) * | 2011-03-11 | 2011-07-20 | 国家电网公司直流建设分公司 | 基于ccc的高压直流输电无功谐波控制实现方法 |
FR2996061B1 (fr) * | 2012-09-27 | 2015-12-25 | Commissariat Energie Atomique | Structure acoustique comportant au moins un resonateur et au moins une capacite cointegree dans une meme couche piezoelectrique ou ferroelectrique |
DE102013100286B3 (de) * | 2013-01-11 | 2014-06-05 | Epcos Ag | Breitbandiges Filter in Abzweigtechnik |
CN104917476B (zh) * | 2015-05-28 | 2022-04-12 | 苏州汉天下电子有限公司 | 一种声波谐振器的制造方法 |
US10305447B2 (en) | 2015-11-13 | 2019-05-28 | Resonant Inc. | Acoustic wave filter with enhanced rejection |
US9608595B1 (en) * | 2015-11-13 | 2017-03-28 | Resonant Inc. | Acoustic wave filter with enhanced rejection |
KR102588800B1 (ko) * | 2016-02-22 | 2023-10-13 | 삼성전기주식회사 | 음향파 필터 장치 및 이의 제조방법 |
US10432167B2 (en) * | 2016-04-01 | 2019-10-01 | Intel Corporation | Piezoelectric package-integrated crystal devices |
US10250214B2 (en) * | 2016-10-31 | 2019-04-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Filter device, multiplexer, radio-frequency front end circuit, and communication device |
WO2018112921A1 (zh) * | 2016-12-23 | 2018-06-28 | 华为技术有限公司 | 滤波器和用于调节滤波器性能的方法 |
KR101942731B1 (ko) * | 2017-04-10 | 2019-01-28 | 삼성전기 주식회사 | 필터 및 필터 모듈 |
WO2019028288A1 (en) * | 2017-08-03 | 2019-02-07 | Akoustis, Inc. | ELLIPTICAL STRUCTURE FOR VOLUME ACOUSTIC WAVE RESONATOR |
CN107707216A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-02-16 | 成都旭思特科技有限公司 | 增强抗干扰能力的滤波器集成滤波方法 |
US10840884B2 (en) | 2018-05-24 | 2020-11-17 | Qualcomm Incorporated | Bulk acoustic wave (BAW) and passive-on-glass (POG) filter co-integration |
CN109095920A (zh) * | 2018-08-31 | 2018-12-28 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种钛酸铋钠基高温稳定的高介陶瓷电容器材料及其制备方法 |
CN109474253A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-03-15 | 天津大学 | 一种柔性基底薄膜体声波谐振器以及形成方法 |
US11323094B2 (en) * | 2018-11-30 | 2022-05-03 | Resonant Inc. | Resonator circuit using an inverter to adjust anti-resonance frequency |
US11146235B1 (en) | 2020-05-15 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Tunable BAW resonator with ion-conductible structure |
US11870422B2 (en) * | 2020-12-03 | 2024-01-09 | Akoustis, Inc. | Bulk acoustic wave resonator filters with integrated capacitors |
CN117318664A (zh) * | 2023-08-30 | 2023-12-29 | 华南理工大学 | 一种声波滤波器组件、声波滤波器及制作方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01162381A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-26 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電圧制御可変キャパシタ及び可変周波数発振器 |
JPH028220U (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-19 | ||
US5166646A (en) * | 1992-02-07 | 1992-11-24 | Motorola, Inc. | Integrated tunable resonators for use in oscillators and filters |
JPH05161877A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-06-29 | Koji Toda | 圧電セラミック振動子 |
JPH0818392A (ja) * | 1994-06-28 | 1996-01-19 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 圧電フィルタ |
JPH10126160A (ja) * | 1996-10-02 | 1998-05-15 | Nokia Mobile Phones Ltd | 振幅変調および位相変調を行うための整調可能な薄膜バルク型音響共振器が組み込まれている装置 |
JPH10209714A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-08-07 | Sharp Corp | 電圧制御通過帯域可変フィルタおよびそれを用いる高周波回路モジュール |
JPH10270979A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-10-09 | Nokia Mobile Phones Ltd | 保護音響ミラーを含む頂部を有するバルク型音波(baw)フィルタ |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6454917A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Sharp Kk | Variable band width band pass filter |
US5512864A (en) * | 1988-05-31 | 1996-04-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method and apparatus for compensating for neutron induced frequency shifts in quartz resonators |
JP2615977B2 (ja) * | 1989-02-23 | 1997-06-04 | 松下電器産業株式会社 | 誘電体磁器組成物およびこれを用いた積層セラミックコンデンサとその製造方法 |
US5194836A (en) * | 1990-03-26 | 1993-03-16 | Westinghouse Electric Corp. | Thin film, microwave frequency manifolded filter bank |
DE4020467A1 (de) * | 1990-06-27 | 1992-01-09 | Siemens Ag | Elektrischer vielschichtkondensator mit von einer angelegten spannung abhaengigen steuerbaren kapazitaet mit zwei kondensatorenelektroden und einer steuerelektrode |
US5291159A (en) * | 1992-07-20 | 1994-03-01 | Westinghouse Electric Corp. | Acoustic resonator filter with electrically variable center frequency and bandwidth |
US5472935A (en) * | 1992-12-01 | 1995-12-05 | Yandrofski; Robert M. | Tuneable microwave devices incorporating high temperature superconducting and ferroelectric films |
US5446306A (en) | 1993-12-13 | 1995-08-29 | Trw Inc. | Thin film voltage-tuned semiconductor bulk acoustic resonator (SBAR) |
JPH08148968A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜圧電素子 |
EP0732805B1 (en) * | 1995-03-15 | 2003-01-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Surface acoustic wave filter |
US5640042A (en) * | 1995-12-14 | 1997-06-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Thin film ferroelectric varactor |
US6097263A (en) * | 1996-06-28 | 2000-08-01 | Robert M. Yandrofski | Method and apparatus for electrically tuning a resonating device |
JPH1146102A (ja) * | 1997-05-30 | 1999-02-16 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体フィルタ、誘電体デュプレクサ及び通信機装置 |
US5933062A (en) * | 1997-11-04 | 1999-08-03 | Motorola Inc. | Acoustic wave ladder filter with effectively increased coupling coefficient and method of providing same |
DE19915247A1 (de) * | 1999-04-03 | 2000-10-05 | Philips Corp Intellectual Pty | Spannungsabhängiger Dünnschichtkondensator |
-
2001
- 2001-04-04 AT AT01927867T patent/ATE427583T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-04-04 WO PCT/EP2001/003830 patent/WO2001078230A1/en active Application Filing
- 2001-04-04 CN CN018015905A patent/CN100407574C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-04 EP EP01927867A patent/EP1290790B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-04 DE DE60138188T patent/DE60138188D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-04 JP JP2001574976A patent/JP5175016B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-05 US US09/826,699 patent/US6653913B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01162381A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-26 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電圧制御可変キャパシタ及び可変周波数発振器 |
JPH028220U (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-19 | ||
JPH05161877A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-06-29 | Koji Toda | 圧電セラミック振動子 |
US5166646A (en) * | 1992-02-07 | 1992-11-24 | Motorola, Inc. | Integrated tunable resonators for use in oscillators and filters |
JPH0818392A (ja) * | 1994-06-28 | 1996-01-19 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 圧電フィルタ |
JPH10126160A (ja) * | 1996-10-02 | 1998-05-15 | Nokia Mobile Phones Ltd | 振幅変調および位相変調を行うための整調可能な薄膜バルク型音響共振器が組み込まれている装置 |
JPH10209714A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-08-07 | Sharp Corp | 電圧制御通過帯域可変フィルタおよびそれを用いる高周波回路モジュール |
JPH10270979A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-10-09 | Nokia Mobile Phones Ltd | 保護音響ミラーを含む頂部を有するバルク型音波(baw)フィルタ |
Cited By (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002308673A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-10-23 | Tdk Corp | 圧電電歪磁器 |
JP2005136588A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Sharp Corp | 圧電薄膜共振器、フィルタ、フィルタバンク、フィルタバンク一体型電力増幅器および高周波通信装置 |
JP2007129391A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 音響共振器及びフィルタ |
JP2007181147A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyocera Corp | 薄膜バルク音響波共振子、それを備えるフィルタおよび通信装置ならびに薄膜バルク音響波共振子の製造方法 |
JP2007288321A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Toshiba Corp | 共振回路、フィルタ回路および発振回路 |
JP4728866B2 (ja) * | 2006-04-13 | 2011-07-20 | 株式会社東芝 | 共振回路、フィルタ回路および発振回路 |
TWI420549B (zh) * | 2006-06-30 | 2013-12-21 | Centre Nat Rech Scient | 具有可變電容之裝置及其改變電容之方法 |
JP2008172713A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Hitachi Media Electoronics Co Ltd | 圧電薄膜共振器および圧電薄膜共振器フィルタおよびその製造方法 |
JP2008154240A (ja) * | 2007-12-17 | 2008-07-03 | Kyocera Corp | 共振器および電子機器 |
JP2012519447A (ja) * | 2009-03-04 | 2012-08-23 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 急峻なエッジを有するリアクタンスフィルタ |
US9595939B2 (en) | 2009-03-04 | 2017-03-14 | Epcos Ag | Reactance filter having a steep edge |
JPWO2015119176A1 (ja) * | 2014-02-10 | 2017-03-23 | 株式会社村田製作所 | フィルタ回路および無線通信装置 |
JPWO2015119177A1 (ja) * | 2014-02-10 | 2017-03-23 | 株式会社村田製作所 | 可変フィルタ回路および無線通信装置 |
JPWO2015119178A1 (ja) * | 2014-02-10 | 2017-03-23 | 株式会社村田製作所 | 可変フィルタ回路および無線通信装置 |
US9780760B2 (en) | 2014-02-10 | 2017-10-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Variable filter circuit and wireless communication apparatus |
US9787277B2 (en) | 2014-02-10 | 2017-10-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Variable filter circuit and wireless communication apparatus |
US9985605B2 (en) | 2014-02-10 | 2018-05-29 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Filter circuit and wireless communication apparatus |
JP2018026735A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波デバイスおよびその製造方法 |
KR20220126672A (ko) * | 2018-07-17 | 2022-09-16 | 투-식스 델라웨어, 인코포레이티드 | 전극 정의 공진기 |
JP2020014202A (ja) * | 2018-07-17 | 2020-01-23 | ツー−シックス デラウェア インコーポレイテッドII−VI Delaware,Inc. | 電極画定共振器 |
US12021499B2 (en) | 2018-07-17 | 2024-06-25 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Electrode defined resonator |
US11121696B2 (en) | 2018-07-17 | 2021-09-14 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Electrode defined resonator |
JP2021182769A (ja) * | 2018-07-17 | 2021-11-25 | ツー−シックス デラウェア インコーポレイテッドII−VI Delaware, Inc. | 電極画定共振器 |
KR102435964B1 (ko) * | 2018-07-17 | 2022-08-25 | 투-식스 델라웨어, 인코포레이티드 | 전극 정의 공진기 |
KR20200008962A (ko) * | 2018-07-17 | 2020-01-29 | 투-식스 델라웨어, 인코포레이티드 | 전극 정의 공진기 |
JP7158348B2 (ja) | 2018-07-17 | 2022-10-21 | ツー-シックス デラウェア インコーポレイテッド | 電極画定共振器 |
US11750169B2 (en) | 2018-07-17 | 2023-09-05 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Electrode-defined unsuspended acoustic resonator |
US11738539B2 (en) | 2018-07-17 | 2023-08-29 | II-VI Delaware, Inc | Bonded substrate including polycrystalline diamond film |
US11652465B2 (en) | 2018-07-17 | 2023-05-16 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Electrode defined resonator |
KR102591286B1 (ko) * | 2018-07-17 | 2023-10-20 | 투-식스 델라웨어, 인코포레이티드 | 전극 정의 공진기 |
JP7363535B2 (ja) | 2019-03-15 | 2023-10-18 | Tdk株式会社 | 誘電体組成物および電子部品 |
JP2020152635A (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-24 | Tdk株式会社 | 誘電体組成物および電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1290790A1 (en) | 2003-03-12 |
ATE427583T1 (de) | 2009-04-15 |
DE60138188D1 (de) | 2009-05-14 |
WO2001078230A1 (en) | 2001-10-18 |
EP1290790B1 (en) | 2009-04-01 |
CN1383609A (zh) | 2002-12-04 |
US6653913B2 (en) | 2003-11-25 |
JP5175016B2 (ja) | 2013-04-03 |
CN100407574C (zh) | 2008-07-30 |
US20010048352A1 (en) | 2001-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5175016B2 (ja) | チューニング可能なフィルタ構成 | |
US6583688B2 (en) | Tunable filter arrangement comprising resonators with reflection layers | |
US6768396B2 (en) | Filter arrangement | |
US6466105B1 (en) | Bulk acoustic wave filter | |
US7675388B2 (en) | Switchable tunable acoustic resonator using BST material | |
US7095298B2 (en) | Film bulk acoustic resonator having supports and manufacturing method therefore | |
US20110018654A1 (en) | Resonator filter with multiple cross-couplings | |
EP1017170A2 (en) | A balanced filter structure | |
KR100541895B1 (ko) | 고주파 필터 | |
KR100809120B1 (ko) | 사다리형 필터, 무선 주파수 대역 통과 필터, 무선 주파수수신기 및/또는 송신기 장치 | |
EP2122743A1 (en) | Bandpass filter and process of fabricating the same | |
US20080253056A1 (en) | Adjustable Capacitor and Circuit Provided Therewith | |
US20070063777A1 (en) | Electrostrictive devices | |
JPH05218304A (ja) | 集積化分布型抵抗−容量および誘導−容量ネットワーク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080403 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20080522 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101026 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110126 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110715 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111014 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111115 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120423 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120803 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121207 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5175016 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |