JP2012519447A - 急峻なエッジを有するリアクタンスフィルタ - Google Patents
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Abstract
Description
AS 音響ミラー
BE 直列共振器のボトム電極
CAP コンデンサ
CH チップ
D 誘電体
DK スルーホールコンタクト
EF 受信フィルタ
HI 音響ミラーの高インピーダンス層、導電性
HM ボトム電極の硬質金属層
IE インピーダンス素子
K1,K2 伝達曲線
KB コンデンサ領域
NI 低インピーダンス層
PR 並列共振器
PS 圧電層
PZ 並列分岐
RB 共振器領域
SA 信号出力部
SAB 共振器(およびコンデンサ)の層構造
SE 信号入力部
SF 送信フィルタ
SR 直列共振器
SU 基板
SZ 直列分岐
T1,T2 接続部
TE 直列共振器のトップ電極
WM ボトム電極の軟質金属層
Claims (17)
- リアクタンスフィルタにおいて、
信号入力部を信号出力部と接続する直列分岐と、
前記直列分岐からアースへ枝分かれする少なくとも1つの並列分岐であって、各々の前記並列分岐に並列共振器が配置されているものと、
前記直列分岐で直列に配線された2つまたはそれ以上の直列共振器とを有しており、
前記直列分岐で前記直列共振器のうちの1つと並列にコンデンサがつながれているリアクタンスフィルタ。 - 前記共振器はBAW共振器として構成されており、基板の上で構造化された層構造として具体化されている、請求項1に記載のリアクタンスフィルタ。
- 前記コンデンサと前記基板の間には絶縁層が配置されており、前記コンデンサは金属1/誘電体/金属2の層列を含んでおり、
前記層列の両方の前記金属層のうち少なくとも1つについて前記直列共振器の電極層の部分面が利用されている、請求項2に記載のリアクタンスフィルタ。 - 前記基板の上に音響ミラーおよびその上に前記直列共振器が装着されており、
前記音響ミラーは金属からなる高インピーダンス層を含んでおり、
前記層列の両方の金属層のうちの少なくとも1つについて前記高インピーダンス層が利用されている、請求項3に記載のリアクタンスフィルタ。 - 前記コンデンサおよび前記直列共振器と前記並列共振器から選択されるすべての前記共振器は相並んで層構造で具体化されている、請求項2から4のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。
- 前記層構造は共振器領域とこれに対して横方向に配置されたコンデンサ領域とに区分され、
前記共振器領域ではボトム電極の上に圧電層およびその上にトップ電極が設けられており、
前記ボトム電極は硬質金属の層と軟質金属の層が組み合わされてなっており、
前記コンデンサ領域では硬質金属または軟質金属からなる両方の前記層のうちの1つが除去されている、請求項2から5のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。 - 前記層構造は前記ボトム電極の下方に導電性の高インピーダンス層を備えた音響ミラーを含んでおり、
前記ボトム電極は前記コンデンサ領域で完全に除去されており、それにより前記コンデンサが前記トップ電極と前記高インピーダンス層との間に形成されている、請求項2から6のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。 - 前記層構造は前記ボトム電極の下方に導電性の高インピーダンス層を備えた音響ミラーを含んでおり、
前記コンデンサは前記ボトム電極と前記高インピーダンス層の間に形成されている、請求項2から6のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。 - 前記トップ電極と前記高インピーダンス層は前記共振器領域の外部に配置されたスルーホールコンタクトを介して導電接続されている、請求項8に記載のリアクタンスフィルタ。
- 前記コンデンサ領域と前記共振器領域は少なくとも部分的に重なり合っている、請求項8または9に記載のリアクタンスフィルタ。
- 前記コンデンサは前記信号入力部のもっとも近傍に位置する前記直列共振器と並列につながれており、
その他の前記直列共振器のうち少なくとも1つは並列につながれたコンデンサなしに構成されている、請求項2から10のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。 - 前記コンデンサは付属の前記直列共振器の静的キャパシタンスの1から50%の間のキャパシタンスを有している、請求項1から11のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。
- 前記コンデンサの共振周波数は前記コンデンサの前記トップ電極に装着された層によって前記共振器に対してシフトしている、請求項1から12のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。
- 前記コンデンサの共振周波数は前記コンデンサが前記共振器よりも1つ少ない層を有することによって前記共振器に対してシフトしている、請求項1から12のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタ。
- CDMAまたはWCDMA移動無線システムのためのデュプレクサの送信フィルタとしての、請求項1から14のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタの利用法。
- PCS移動無線システムのためのデュプレクサの送信フィルタとしての、請求項1から14のいずれか1項に記載のリアクタンスフィルタの利用法。
- 前記デュプレクサは、それぞれ別々の基板に構成された、送信フィルタとしての前記リアクタンスフィルタと、受信フィルタとしての別のフィルタとを含んでいる、請求項15または16に記載の利用法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015532006A (ja) * | 2012-08-30 | 2015-11-05 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | リニアリティ特性が改善されたコンデンサ |
WO2019065274A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 株式会社村田製作所 | フィルタ装置、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置 |
WO2019065669A1 (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及び弾性波装置の製造方法 |
WO2019150689A1 (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-08 | 株式会社村田製作所 | フィルタ装置、高周波フロントエンド回路、および通信装置 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008045346B4 (de) | 2008-09-01 | 2018-06-07 | Snaptrack Inc. | Duplexer und Verfahren zum Erhöhen der Isolation zwischen zwei Filtern |
DE102011100468B4 (de) * | 2011-05-04 | 2013-07-04 | Epcos Ag | Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes BAW-Filter, Herstellungsverfahren hierfür und Duplexer |
CN102761315A (zh) * | 2012-08-06 | 2012-10-31 | 咸阳振峰电子有限公司 | 小群时延晶体滤波器 |
FR2996061B1 (fr) * | 2012-09-27 | 2015-12-25 | Commissariat Energie Atomique | Structure acoustique comportant au moins un resonateur et au moins une capacite cointegree dans une meme couche piezoelectrique ou ferroelectrique |
DE102014112676A1 (de) * | 2014-09-03 | 2016-03-03 | Epcos Ag | Filter mit verbesserter Linearität |
US9602076B1 (en) * | 2015-05-19 | 2017-03-21 | Qorvo Us, Inc. | Resonators with balancing capacitor |
DE102015116223B4 (de) * | 2015-09-25 | 2019-05-09 | Snaptrack, Inc. | SAW-Filter mit unterdrückter Scher-Mode |
DE102015119995B4 (de) * | 2015-11-18 | 2024-05-29 | Snaptrack, Inc. | Filterschaltung mit zusätzlichen Polen außerhalb des Passbands |
JP2017201050A (ja) * | 2016-05-06 | 2017-11-09 | 学校法人早稲田大学 | 圧電体薄膜及びそれを用いた圧電素子 |
DE102016114662B4 (de) | 2016-08-08 | 2022-03-03 | Snaptrack, Inc. | Rekonfigurierbares mikroakustisches Filter und Duplexer mit rekonfigurierbarem mikroakustischem Filter |
DE102016125877B4 (de) * | 2016-12-29 | 2018-08-23 | Snaptrack, Inc. | BAW-Resonator- und Resonator-Anordnung |
US10541665B2 (en) * | 2017-04-05 | 2020-01-21 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | BAW resonator and BAW filter for reducing harmonic distortion |
CN109039297B (zh) * | 2018-07-26 | 2022-11-29 | 开元通信技术(厦门)有限公司 | 一种体声波器件及其制备方法 |
US11870422B2 (en) * | 2020-12-03 | 2024-01-09 | Akoustis, Inc. | Bulk acoustic wave resonator filters with integrated capacitors |
US20230170877A1 (en) * | 2021-11-30 | 2023-06-01 | Texas Instruments Incorporated | Tunable bulk acoustic wave (baw) resonator based on application of radio-frequency (rf) signal to bragg mirror metal layer |
CN116996038B (zh) * | 2022-04-25 | 2024-05-28 | 锐石创芯(重庆)科技有限公司 | 滤波器、多工器及射频前端模组 |
CN115694412A (zh) * | 2022-12-30 | 2023-02-03 | 成都频岢微电子有限公司 | 一种集成电容体声波谐振器、滤波器及制造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003530705A (ja) * | 2000-04-06 | 2003-10-14 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | チューニング可能なフィルタ構成 |
JP2004343168A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Tdk Corp | フィルタ装置およびそれを用いた分波器 |
JP2006013839A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Ube Ind Ltd | 薄膜圧電共振器と薄膜圧電フィルタ |
JP2006502634A (ja) * | 2002-10-08 | 2006-01-19 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | バルク音波によって動作する共振器および該共振器を備えた回路 |
JP2006129445A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-05-18 | Fujitsu Media Device Kk | 分波器 |
JP2007181147A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyocera Corp | 薄膜バルク音響波共振子、それを備えるフィルタおよび通信装置ならびに薄膜バルク音響波共振子の製造方法 |
JP2007281757A (ja) * | 2006-04-05 | 2007-10-25 | Seiko Epson Corp | 圧電薄膜共振子およびその製造方法 |
JP2008048040A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 圧電薄膜共振器およびその製造方法 |
WO2009025055A1 (ja) * | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Fujitsu Limited | 弾性波フィルタ、それを用いたデュプレクサおよびそのデュプレクサを用いた通信機 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3718874A (en) * | 1970-12-29 | 1973-02-27 | Sossen E | Etched inductance bandpass filter |
JPH09167937A (ja) * | 1995-12-18 | 1997-06-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波フィルタ |
DE19932649A1 (de) | 1999-07-13 | 2001-02-08 | Epcos Ag | SAW-Filter des Reaktanzfiltertyps mit verbesserter Sperrbereichsunterdrückung und Verfahren zur Optimierung der Sperrbereichsunterdrückung |
JP2001044790A (ja) | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Kyocera Corp | 弾性表面波装置 |
DE10045090A1 (de) | 2000-09-12 | 2002-03-28 | Infineon Technologies Ag | Akustischer Resonator |
WO2002093763A1 (fr) | 2001-05-11 | 2002-11-21 | Ube Electronics, Ltd. | Filtre utilisant un resonateur acoustique en volume a bande plastique et un commutateur transmission/reception |
JP3937302B2 (ja) | 2001-12-10 | 2007-06-27 | 宇部興産株式会社 | 薄膜圧電共振器を用いたフィルタ及び送受切換器 |
DE10134987A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Epcos Ag | Reaktanzfilter mit verbesserter Flankensteilheit |
US7195931B2 (en) * | 2002-11-27 | 2007-03-27 | Advanced Micro Devices, Inc. | Split manufacturing method for advanced semiconductor circuits |
KR100489828B1 (ko) * | 2003-04-07 | 2005-05-16 | 삼성전기주식회사 | Fbar 소자 및 그 제조방법 |
JP3853303B2 (ja) * | 2003-04-28 | 2006-12-06 | 富士通メディアデバイス株式会社 | 分波器 |
JP4053504B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2008-02-27 | 株式会社東芝 | チューナブルフィルタ |
DE102004053319A1 (de) | 2004-11-04 | 2006-05-11 | Epcos Ag | Frequenzweiche |
JP5081742B2 (ja) * | 2007-06-29 | 2012-11-28 | 日本電波工業株式会社 | アンテナ分波器 |
KR101312222B1 (ko) | 2007-08-14 | 2013-09-27 | 아바고 테크놀로지스 제너럴 아이피 (싱가포르) 피티이 리미티드 | 다층 전극 제조 방법, baw 공진기 및 그 제조 방법 |
-
2009
- 2009-03-04 DE DE102009011639A patent/DE102009011639B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-03-02 KR KR1020117023139A patent/KR101686689B1/ko active IP Right Grant
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003530705A (ja) * | 2000-04-06 | 2003-10-14 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | チューニング可能なフィルタ構成 |
JP2006502634A (ja) * | 2002-10-08 | 2006-01-19 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | バルク音波によって動作する共振器および該共振器を備えた回路 |
JP2004343168A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Tdk Corp | フィルタ装置およびそれを用いた分波器 |
JP2006013839A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Ube Ind Ltd | 薄膜圧電共振器と薄膜圧電フィルタ |
JP2006129445A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-05-18 | Fujitsu Media Device Kk | 分波器 |
JP2007181147A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kyocera Corp | 薄膜バルク音響波共振子、それを備えるフィルタおよび通信装置ならびに薄膜バルク音響波共振子の製造方法 |
JP2007281757A (ja) * | 2006-04-05 | 2007-10-25 | Seiko Epson Corp | 圧電薄膜共振子およびその製造方法 |
JP2008048040A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 圧電薄膜共振器およびその製造方法 |
WO2009025055A1 (ja) * | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Fujitsu Limited | 弾性波フィルタ、それを用いたデュプレクサおよびそのデュプレクサを用いた通信機 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015532006A (ja) * | 2012-08-30 | 2015-11-05 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | リニアリティ特性が改善されたコンデンサ |
US9837214B2 (en) | 2012-08-30 | 2017-12-05 | Snaptrack, Inc. | Capacitor having an improved linear behavior |
WO2019065669A1 (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及び弾性波装置の製造方法 |
KR20200043455A (ko) * | 2017-09-27 | 2020-04-27 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 및 탄성파 장치의 제조 방법 |
JPWO2019065669A1 (ja) * | 2017-09-27 | 2020-07-09 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及び弾性波装置の製造方法 |
KR102374795B1 (ko) | 2017-09-27 | 2022-03-16 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 및 탄성파 장치의 제조 방법 |
US11309866B2 (en) | 2017-09-27 | 2022-04-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Acoustic wave device and method for manufacturing acoustic wave device |
WO2019065274A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 株式会社村田製作所 | フィルタ装置、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置 |
US11082031B2 (en) | 2017-09-28 | 2021-08-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Filter device, multiplexer, radio frequency front-end circuit, and communication device |
WO2019150689A1 (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-08 | 株式会社村田製作所 | フィルタ装置、高周波フロントエンド回路、および通信装置 |
JPWO2019150689A1 (ja) * | 2018-02-05 | 2021-01-14 | 株式会社村田製作所 | フィルタ装置、高周波フロントエンド回路、および通信装置 |
US11728787B2 (en) | 2018-02-05 | 2023-08-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Filter device, radio-frequency front-end circuit, and communication apparatus |
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