JP7363535B2 - 誘電体組成物および電子部品 - Google Patents
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Description
[1]ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、
複合酸化物を、組成式BixZnyNbzO1.75+δで表した場合、x、yおよびzは、x+y+z=1.00、x<0.20、0.20≦y≦0.50、0.25≦x/zである関係を満足する誘電体組成物である。
[2]ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、
複合酸化物を、組成式BixZnyNbzO1.75+δで表した場合、x、yおよびzは、x+y+z=1.00、0.20≦y≦0.50、1.5<x/z≦3.0およびz<0.25である関係を満足する誘電体組成物である。
1.薄膜コンデンサ
1.1.薄膜コンデンサの全体構成
1.2.誘電体膜
1.2.1.誘電体組成物
1.2.2.第1の複合酸化物
1.2.3.第2の複合酸化物
1.3.基板
1.4.下部電極
1.5.上部電極
2.薄膜コンデンサの製造方法
3.本実施形態のまとめ
4.変形例
まず、本実施形態に係る電子部品は、高周波領域において使用される電子部品(高周波部品)である。高周波部品として、誘電体層が薄膜状の誘電体膜から構成される薄膜コンデンサについて説明する。
図1に示すように、本実施形態に係る電子部品の一例としての薄膜コンデンサ10は、基板1と、下部電極3と、誘電体膜5と、上部電極4とがこの順序で積層された構成を有している。下部電極3と誘電体膜5と上部電極4とはコンデンサ部を形成しており、下部電極3および上部電極4が外部回路に接続されて電圧が印加されると、コンデンサ部が所定の静電容量を示し、コンデンサとしての機能を発揮することができる。各構成要素についての詳細な説明は後述する。
誘電体膜5は、後述する本実施形態に係る誘電体組成物(第1の誘電体組成物および第2の誘電体組成物)から構成されている。また、本実施形態では、誘電体膜5は、薄膜状であり公知の成膜法により基板上に形成された誘電体堆積膜であることが好ましい。
本実施形態に係る誘電体組成物は、ビスマス(Bi)、亜鉛(Zn)およびニオブ(Nb)を含む複合酸化物(Bi-Zn-Nb-O系酸化物)を主成分として含有している。本実施形態では、主成分とは、誘電体組成物100質量%に対して、90質量%以上を占める成分である。
Bi、ZnおよびNbを含む第1の複合酸化物においては、Znに酸素が配位した多面体の割合が、当該構造の安定性に影響している。本実施形態では、Znの含有割合を示す「y」は、0.20以上0.50以下である。また、「y」は0.30以上であることが好ましい。
Bi、ZnおよびNbを含む第2の複合酸化物においては、Znに酸素が配位した多面体の割合が、当該構造の安定性に影響している。本実施形態では、Znの含有割合を示す「y」は、0.20以上0.50以下である。また、「y」は0.30以上であることが好ましい。
図1に示す基板1は、その上に形成される下地層2、下部電極3、誘電体膜5および上部電極4を支持できる程度の機械的強度を有する材料で構成されていれば特に限定されない。たとえば、Si単結晶、SiGe単結晶、GaAs単結晶、InP単結晶、SrTiO3単結晶、MgO単結晶、LaAlO3単結晶、ZrO2単結晶、MgAl2O4単結晶、NdGaO3単結晶等から構成される単結晶基板;Al2O3多結晶、ZnO多結晶、SiO2多結晶等から構成されるセラミック多結晶基板;Ni、Cu、Ti、W、Mo、Al、Pt等の金属、それらの合金等から構成される金属基板等が例示される。本実施形態では、低コスト、加工性等の観点から、Si単結晶を基板として用いる。
図1に示すように、基板1の上には、下地層2を介して、下部電極3が薄膜状に形成されている。下部電極3は、後述する上部電極4とともに誘電体膜5を挟み、コンデンサとして機能させるための電極である。下部電極3を構成する材料は、導電性を有する材料であれば特に制限されない。たとえば、Pt、Ru、Rh、Pd、Ir、Au、Ag、Cu等の金属、それらの合金、または、導電性酸化物が例示される。
図1に示すように、誘電体膜5の表面には、上部電極4が薄膜状に形成されている。上部電極4は、上述した下部電極3とともに、誘電体膜5を挟み、コンデンサとして機能させるための電極である。したがって、上部電極4は、下部電極3とは異なる極性を有している。
次に、図1に示す薄膜コンデンサ10の製造方法の一例について以下に説明する。
本実施形態ではBi-Zn-Nb-O系酸化物に着目している。Bi-Zn-Nb-O系酸化物は一般式A2B2O7で表される複合酸化物である。この複合酸化物においては、Znは、AサイトおよびBサイトのどちらも占めることができ、2種類の多面体を形成する。本発明者らは、この2種類の多面体の割合を増やすことにより、Bi-Zn-Nb-O系酸化物の構造が安定化し、温度変化による構造変化が生じにくくなることを見出した。そこで、本実施形態では、Bi-Zn-Nb-O系酸化物中のZnの含有割合を上記の範囲内とすることにより、容量温度係数Tccを良好にしている。
上述した実施形態では、誘電体膜が本実施形態に係る誘電体組成物のみで構成される場合を説明したが、本実施形態に係る誘電体組成物から構成される誘電体膜と別の誘電体組成物から構成される膜とを組み合わせた積層構造を有する電子部品でもよい。たとえば、既存のSi3Nx、SiOx、Al2Ox、ZrOx、Ta2Ox等のアモルファス誘電体膜や結晶膜との積層構造とすることで、誘電体膜5のインピーダンスや比誘電率の温度変化を調整することが可能となる。
まず、誘電体膜の形成に必要なターゲットを以下のようにして作製した。
Q値および比誘電率は、薄膜コンデンサ試料に対し、基準温度25℃において、RFインピーダンス/マテリアル・アナライザ(Agilent社製4991A)にて、周波数2GHz、入力信号レベル(測定電圧)0.5Vrmsの条件下で測定された静電容量と、上記で得られた誘電体膜の厚みと、から算出した。本実施例では、Q値は高い方が好ましく、Q値が1000以上である試料を良好であると判断した。また、本実施例では、比誘電率は50以上80未満である試料を良好であると判断した。また、結果を表1に示す。
静電容量の温度係数は、恒温槽を用いて-55℃から125℃まで25℃毎に測定温度を変えて静電容量を測定した以外は、上記と同様に測定温度における静電容量を測定し、基準温度である25℃での静電容量に対する変化率として算出した(単位ppm/℃)。また、静電容量の温度係数は小さい方が好ましく、静電容量の温度係数の絶対値(|Tcc|)が50ppm/℃以内である試料を良好であると判断した。結果を表1に示す。
高温加速寿命として絶縁抵抗寿命を測定した。180℃において、上記で得られた誘電体膜に直流電圧を16V/μm印加して、直流電圧印加前からの絶縁抵抗の経時変化を測定した。誘電体膜の絶縁抵抗が105Ω以下になるまでの時間を寿命とし、20個の試料について寿命を測定し、その平均値を絶縁抵抗(IR)寿命とした。IR寿命は長い方が好ましく、IR寿命が15.0h以上である試料を良好であると判断した。結果を表1に示す。
Bi、ZnおよびNbを含む複合酸化物において、「x」、「y」および「z」の値を表2に示す値とした以外は、実験例1と同じ方法により、誘電体膜を形成し、薄膜コンデンサの試料(実施例11~19および比較例11~16)を得た。得られた薄膜コンデンサの試料に対して、実験例1と同じ評価を行った。結果を表2に示す。なお、比誘電率の評価においては、比誘電率が100以上の試料を良好であると判断した。
1… 基板
2… 下地層
3… 下部電極
4… 上部電極
5… 誘電体膜
Claims (2)
- ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、
前記複合酸化物を、組成式BixZnyNbzO1.75+δで表した場合、前記x、yおよびzは、x+y+z=1.00、x<0.20、0.20≦y≦0.50、0.25≦x/zである関係を満足する誘電体組成物。 - 請求項1に記載の誘電体組成物を含む誘電体層を備える電子部品。
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