JP2003520380A - 窒化能動素子及びその製造方法 - Google Patents

窒化能動素子及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 磁気部材を形成するために磁気材料を蒸着するステップと、蒸着ステップの後で、磁気部材を窒化するステップとを含む、磁気ヘッドと一緒に使用するための能動素子の製造方法を提供する。蒸着ステップは、ニッケル鉄合金を蒸着するステップを含み、蒸着窒化ステップは、磁気部材をプラズマ窒化するステップを含むことが好ましい。都合のよいことに、プラズマ窒化ステップは、有機平面のような、能動素子の構成部材に悪影響を与えるのを避けるために、３００℃以下の温度で実行することができる。本発明の方法により製造した能動素子も開示してある。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 ［技術分野］ 本発明は、磁気ヘッドと共に使用される能動素子及びその製造方法に関する。
ここで、上記素子は窒化磁気部材を含む。
【０００２】 ［背景技術］ データ記憶産業の重要で、現在も追求が続けられている目標は、媒体上に記憶
するデータ密度を増大することである。テープ記憶システムの場合には、この目
標を達成するために、磁気テープ内のトラック幅を狭くし、磁気テープ・ヘッド
内のトラック密度を増大しなければならない。同様に、ディスク記憶システムの
場合には、この目標を達成するためには、磁気ディスク内のトラック幅を狭くし
、磁気テープ・ヘッド内のトラック密度を増大しなければならない。テープ・ヘ
ッド及びディスク・ヘッド内のトラック密度が増大すると、テープ・ヘッド及び
ディスク・ヘッド内に位置する記録素子及び／又は読取素子の処理精度を向上さ
せる必要があるし、またその寸法の管理が重要な問題になってくる。
【０００３】 従来の記録素子は、パーマロイのようなニッケル鉄合金からなり、電気メッキ
製造技術で製造される磁極を含む。電気メッキは、寸法上の精度は優れているが
、結果として製造される磁極は、２つの問題を含んでいる。第１の問題は、この
ような磁極は、比抵抗が低く、高周波用の用途には適していないことである。第
２の問題は、上記磁極は比較的軟らかく、そのため、磁極の先端が摩耗し易いこ
とである。
【０００４】 最近では、磁極は、湿式エッチング及び電気化学的エッチングのような減法処
理を受けたコバルト−ジルコニウム−タンタルをスパッタリングした窒化鉄、及
び同じスパッタ処理をしたニッケル−鉄−窒化物のような合金から作られている
。しかし、これらの合金のエッチング特性は、下の層の材質により異なる。それ
故、正確に寸法を管理するのは難しい。
【０００５】 従来の読取素子は、頂部シールドと底部シールドとの間にサンドイッチ状に挟
まれている読取構造体を含む。上記両方のシールドは、フェライトのような磁気
材料からできていて、頂部シールドは、通常、読取構造体の頂部に接着されてい
る。このような構造になっているので、寸法を正確に管理するのは難しい。
【０００６】 他の従来の読取素子は、ニッケル鉄合金からなるシールドを含む。ニッケル鉄
合金は、優れたシールド特性を持っているが、これらの材料は、非常に摩耗し易
く、そのためヘッドの寿命が短い。
【０００７】 ［発明の開示］ 本発明は、磁気ヘッド用に使用するための改良形能動素子、及びその製造方法
を提供することによって先行技術の欠点を克服する。この場合、能動素子は、耐
摩耗性及び／又は比抵抗を増大するために硬化される。
【０００８】 本発明によれば、磁気テープ・ヘッドと一緒に使用するための能動素子の製造
方法は、磁気部材を形成するために磁気材料を蒸着するステップと、この蒸着ス
テップの後で磁気部材を窒化するステップとを含む。
【０００９】 好適には、磁気材料を蒸着するステップは、ニッケル鉄合金を蒸着するステッ
プを含むことが好ましい。さらに、好適には、磁気材料を窒化するステップは、
磁気部材をプラズマ窒化するステップを含むことが好ましい。都合のよいことに
、磁気部材のプラズマ窒化ステップは、能動素子の有機成分への悪影響を避ける
ために、３００℃以下の温度で実行することができる。
【００１０】 さらに、本発明によれば、磁気ヘッドと一緒に使用するための記録素子の製造
方法は、基板の近くにシード層を電着させるステップと；上記シード層上に磁気
導電性材料を蒸着するステップと；硬度及び比抵抗のうちの少なくとも一方を増
大するために、上記材料蒸着後に行われる材料の窒化ステップとを含む。
【００１１】 より詳細に説明すると、磁気ヘッドの製造方法は、基板の近くに第１のシード
層を蒸着するステップと；第１の磁極を形成するために、上記第１のシード層上
にニッケル鉄合金の第１の層を電気メッキするステップと；上記第１の磁極をプ
ラズマ窒化するステップと；上記第１の磁極上にギャップ材料を蒸着するステッ
プと；上記ギャップ層上に第２のシード層を蒸着するステップと；第２の磁極を
形成するために、上記第２のシード層上にニッケル鉄合金の第２の層を電気メッ
キするステップと；上記第２の磁極をプラズマ窒化するステップとを含む。
【００１２】 ある場合には、第１の磁極をプラズマ窒化するステップと、第２の磁極をプラ
ズマ窒化するステップとは同時に行われる。別な方法としては、各磁極を別々に
プラズマ窒化することもできる。
【００１３】 本発明の読取素子の製造方法は、基板の近くに第１のシード層を蒸着するステ
ップと；第１のシールドを形成するために、上記第１のシード層上に磁気材料の
第１の層を電着させるステップと；上記第１のシールドを窒化するステップと；
上記第１のシールド上に読取構造体を蒸着するステップと；上記読取構造体上に
第２のシード層を蒸着するステップと；第２のシールドを形成するために、上記
第２のシード層上に磁気材料の第２の層を電着させるステップと；上記第２のシ
ールドを窒化するステップとを含む。
【００１４】 さらに、本発明によれば、磁気ヘッドと一緒に使用するための能動素子は、必
要な硬度及び必要な比抵抗の中の少なくとも一方を達成するために、電着後に窒
化される電着磁気部材を含む。好適には、磁気部材は、ニッケル鉄合金であるこ
とが好ましい。
【００１５】 本発明の上記及び他の目的、特徴及び利点は、添付の図面を参照しながら、本
発明を実行するための最善の方法の以下の詳細な説明を読めば、容易に理解する
ことができるだろう。
【００１６】 ［本発明の最善の実行方法］ 図１は、書込ギャップ１２及び読取ギャップ１４のような複数の磁気ギャップ
を持つ、本発明の磁気テープ・ヘッド１０である。書込ギャップ１２は、その内
部に配置されている書込み又は記録素子１６のような複数の能動素子を持つ。各
読取ギャップ１４も、その内部に配置されているサーボ素子１８及び読取ギャッ
プ１９のような複数の能動素子を持つ。
【００１７】 図２は、本発明の磁気ディスク・ヘッド２０である。このディスク・ヘッドは
、書込素子１６類似の書込素子１６’、及び読取素子１９類似の読取素子１９’
を含む。本明細書においては、磁気ヘッドという用語は、テープ・ヘッド１０及
びディスク・ヘッド２０の両方を指す場合がある。
【００１８】 図３を参照しながら、記録素子１６及び１６’の製造方法について説明する。
図３に示すように、各記録素子１６及び１６’は、酸化アルミニウム炭化チタン
、フェライト、酸化アルミニウム、又は炭化シリコーン及びその上に蒸着された
絶縁層２２のような任意の適当な材料からできている基板２１を含む。絶縁層２
２は、酸化アルミニウム又はアルミナのような任意の適当な材料から作ることが
できる。別な方法としては、特殊な用途のために、絶縁層２２を必要としない場
合には、絶縁層２２を使用しなくてもよい。例えば、基板層２１が絶縁材料でで
きている場合には、絶縁層２２は必要としない場合がある。
【００１９】 次に、第１のシード層２３が、絶縁層２２上に蒸着される。第１のシード層２
３は、ニッケル鉄合金のような任意の適当な導電性材料を含むことができる。好
適には、０．１〜０．３ミクロンの範囲内の厚さを持つことが好ましい。次に、
好適には、０．５〜５．０ミクロンの範囲内であることが好ましいが、必ずしも
、この範囲内に限定されない厚さを持つ第１の磁気部材又は磁極２４を形成する
ために、磁気導電性材料が、第１のシード層２３上に蒸着される。第１の磁極２
４は、好適には、必要な形状を達成するための周知のマスキング技術を使用して
、第１のシード層２３上に磁気導電性材料を、電気メッキのような電着技術によ
り形成することが好ましい。磁気導電性材料は、好適には、第１のシード層２３
に接着するのが好ましいので、第１のシード層２３も、第１の磁極２４の一部で
あると見なすことができる。第１の磁極２４は、任意の適当な材料を含むことが
できるが、第１の磁極２４は、好適には、ニッケル鉄合金を含むことが好ましい
。さらに、以下にさらに詳細に説明するように、必要な硬度を達成するために、
第１の磁極２４に対して蒸着後窒化処理が行われる。
【００２０】 ホトレジスト材料を含む第１の平面２６が、次に、第１の磁極２４上に蒸着さ
れる。第１の平面２６は、硬質で、平滑な電気絶縁面を形成するために、回転技
術のような方法で処理され、ベーキングされる。次に、銅のような導電性材料が
、誘導コイル２８を形成するために、第１の平面２６上に電気メッキされるか、
又は蒸着される。コイル２８が電気メッキで形成された場合には、コイル２８は
、電気メッキ処理の前に、第１の平面２６上に蒸着されている任意の適当な材料
のシード層（図示せず）を含むことができる。例えば、シード層は、接着層とし
ての働きをする１つのクローム層、及びクローム層上に蒸着されている１つの銅
の層を含むことができる。次に、形状をほぼ平面にするために、コイル２８上に
、第２及び第３の平面３０及び３２が、それぞれ蒸着される。第２及び第３の平
面３０及び３２も、第１の磁極２４に対する開口部又はバイアを形成するために
処理されるホトレジスト材料を含む。
【００２１】 次に、磁気ギャップ３４を形成するために、アルミナのようなギャップ材料が
、第１の磁極２４及び第３の平面３２上に蒸着される。次に、導電性材料の第２
のシード層３６が、磁気ギャップ３４上に蒸着される。第２のシード層３６は、
好適には、０．１〜０．３ミクロンの範囲の厚さを持つことが好ましいが、必ず
しも、この厚さにする必要はない。次に、好適には、０．５〜５．０ミクロンの
範囲内であることが好ましいが、必ずしも、この範囲内に限定されない厚さを持
つ第２の磁気部材又は磁極３８を形成するために、磁気導電性材料が、第２のシ
ード層３６上に蒸着される。第１の磁極２４と同様に、第２の磁極３８は、好適
には、必要な形状を達成するための周知のマスキング技術を使用して、第２のシ
ード層３６上に磁気導電性材料を電着させることにより形成されることが好まし
い。磁気導電性材料は、好適には、第２のシード層３６に接着するのが好ましい
ので、第２のシード層３６も、第２の磁極３８の一部であると見なすことができ
る。第２の磁極３８は、任意の適当な材料を含むことができるが、第２の磁極３
８は、好適には、ニッケル鉄合金を含むことが好ましい。以下にさらに詳細に説
明するように、必要な硬度を達成するために、第２の磁極３８に対して蒸着後窒
化処理が行われる。
【００２２】 各記録素子１６及び１６’は、また、好適には、第２の磁極３８上に蒸着され
ているアルミナ又は他の適当な材料を含むことが好ましい、上塗り層又は閉鎖層
４０を含むことができる。さらに、各記録素子１６及び１６’は、磁気テープ（
図示せず）、又は磁気ディスク（図示せず）に隣接して設置することができる空
気ベアリング端面２４を含む。端面４２は、周知のトリミング及び／又はラッピ
ング技術より形成することができる。
【００２３】 上記の窒化プロセスは、好適には、プラズマ窒化プロセスであることが好まし
い。上記プロセスは、部分的に形成された、又は全部が形成された記録素子１６
又は１６’を、真空チャンバ内で、アノード及びカソードのような２つの電極の
間に位置させるステップを含む。別な方法としては、上記チャンバを、アノード
のような一方の電極として使用し、記録素子１６又は１６’を、カソードのよう
な他方の電極として使用することもできる。チャンバは、次に、水素及び／又は
アルゴンのような他のガスも含むことができる窒素ガス又は窒素ガス混合物で充
填される。次に、アークが発生するように、電極間に電圧が掛けられる。上記ア
ークは、窒化ガスが、磁極２４及び３８の一方又は両方内に拡散し、窒化ニッケ
ル鉄合金を形成するのに必要なエネルギーを供給する。好適には、プラズマ窒化
プロセスは、平面２６、３０及び３２のような記録素子１６又は１６’の残りの
部分への悪影響を避けるために、３００℃以下で実行することが好ましい。
【００２４】 本発明のある実施形態の場合には、プラズマ窒化プロセスは、２つの段階、す
なわち、第１の磁極２４の蒸着段階、及び第２の磁極３８の蒸着段階に分けて実
行することができる。その結果、各磁極２４及び３８を、ほぼ全長にわたって窒
化することができる。この方法の場合には、各磁極２４及び３８は、好適には、
２〜８％の窒化を含むことが好ましい。別な方法としては、磁極２４及び３８は
、磁極２４及び３８の先端が十分に硬化するように、記録素子１６又は１６’の
任意のトリミング及び／又はラッピングの後で、磁極２４及び３８を同時に窒化
することができる。この方法の場合には、好適には、各磁極２４及び３８の先端
は、約２〜８％の窒化を含むことが好ましい。もう１つの別な方法としては、磁
極２４及び３８を適当な窒化プロセスにより窒化することができる。例えば、磁
極２４及び３８を、磁極２４及び３８を加熱し、窒化ガスに露出させることによ
り窒化させることができる。
【００２５】 都合のよいことに、下表に示すように、窒化ニッケル鉄合金（ＮｉＦｅＮ）は
、ニッケル鉄合金（ＮｉＦｅ）及びコバルト−ジルコニウム−タンタル合金（Ｃ
ｏＺｒＴａ）と比較すると優れた硬度を持つ。
【００２６】
【表１】
【００２７】 それ故、本発明の方法により製造された記録素子は、従来の記録素子より耐久
性が高い。さらに、窒化ニッケル鉄合金は、ニッケル鉄合金より優れた比抵抗を
持ち、コバルト−ジルコニウム−タンタル合金より優れた飽和磁化を持つ。
【００２８】 さらに、磁極２４及び３８を、好適には、電着させるのが好ましいので、本発
明の方法は、寸法を正確に管理することができる。例えば、本発明の方法を使用
すれば、０．５ミクロン以下の許容誤差及び８０〜９０度の側壁角を達成するこ
とができる。
【００２９】 図４は、図１及び図２の両方に示す記録素子の他の実施形態を表す別の記録素
子１６”である。記録素子１６”’は、記録素子１６及び１６’に類似していて
、同じ方法で製造される。しかし、記録素子１６”のギャップ材料は、磁気ギャ
ップ３４を形成するために、平面２６、３０及び３２及びコイル２８を蒸着する
前に、第１の磁極２４上に蒸着される。このような構成になっているために、第
２のシード層３６は、磁気ギャップ３４及び第３の平面３２上に蒸着される。
【００３０】 図５を参照しながら、読取素子１９及び１９’の製造方法について説明する。
図５に示すように、各読取素子１９及び１９’は、酸化アルミニウム炭化チタン
、フェライト、酸化アルミニウム、又は炭化シリコーンのような任意の適当な材
料からできている基板４４を含む。ニッケル鉄合金のような第１のシード層４６
は、基板４４上に蒸着される。第１のシード層４６は、好適には、０．１〜０．
３ミクロンの範囲内の厚さを持つことが好ましいが、必ずしも、この範囲の厚さ
にする必要はない。
【００３１】 次に、好適には、２．０〜３．０ミクロンの範囲内の厚さを持つことが好まし
いが、必ずしも、この範囲内の厚さに限定されない厚さを持つ第１の磁気部材又
はシールド４８を形成するために、磁気材料が第１のシード層４６の上に蒸着さ
れる。第１のシールド４８は、好適には、必要な形状を達成するための周知のマ
スキング技術を使用して、第１のシード層４６上に磁気材料を、電気メッキのよ
うな電着技術により形成することが好ましい。磁気材料は、好適には、第１のシ
ード層４６に接着するのが好ましいので、第１のシード層４６も、第１のシール
ド４８の一部であると見なすことができる。第１のシールド４８は、任意の適当
な材料を含むことができるが、第１のシールド４８は、好適には、ニッケル鉄合
金を含むことが好ましい。さらに、必要な硬度及び／又は比抵抗を達成するため
に、第１のシールド４８に対して、上記のプロセスに類似の蒸着後窒化処理が行
われる。
【００３２】 読取構造体５０は、次に、周知の技術により、第１のシールド４８上に蒸着さ
れる。読取構造体５０は、それぞれ、絶縁層５６により分離されている、第１及
び第２の磁気抵抗素子５２及び５４を含むことができる。磁気抵抗素子５２及び
５４は、ニッケル鉄合金又は他の金属のような任意の適当な材料を含むことがで
き、絶縁層５６は、アルミナのような任意の適当な材料を含むことができる。第
１及び第２の導体５８及び６０は、それぞれ、第１及び第２の磁気抵抗素子５２
及び５４に隣接して配置されていて、それぞれ、磁気抵抗素子５２及び５４に、
電流を供給するように構成されている。導体５８及び６０は、任意の適当な材料
を含むことができ、導体５８及び６０は、好適には、金を含むことが好ましい。
読取構造体５０は、さらに、導体５８及び６０を囲むアルミナのような絶縁材料
６２を含む。
【００３３】 次に、導電性材料の第２のシード層６４が、読取構造体５０上に蒸着される。
第２のシード層６４は、ニッケル鉄合金のような任意の適当な材料を含むことが
でき、好適には、０．１〜０．３ミクロンの範囲の厚さを持つことが好ましいが
、必ずしも、この厚さにする必要はない。次に、好適には、２．０〜３．０ミク
ロンの範囲内であることが好ましいが、必ずしも、この範囲内に限定されない厚
さを持つ第２の磁気部材又はシールド６６を形成するために、磁気材料が、第２
のシード層６４上に蒸着される。第２のシード層６６は、好適には、必要な形状
を達成するための周知のマスキング技術を使用して、第２のシード層６４上に、
磁気材料を、電気メッキのような電着技術により形成することが好ましい。磁気
材料は、好適には、第２のシード層６４に接着するのが好ましいので、第２のシ
ード層６４も、第２のシールド６６の一部であると見なすことができる。第２の
シールド６６は、任意の適当な材料を含むことができるが、第２のシールド６６
は、好適には、ニッケル鉄合金を含むことが好ましい。さらに、必要な硬度を達
成するために、第２のシールド６６に対して、上記のプロセスに類似の蒸着後窒
化処理が行われる。
【００３４】 各読取構造体１９及び１９’は、また、磁気テープ（図示せず）、又は磁気デ
ィスク（図示せず）に隣接して設置することができる空気ベアリング端面６８を
持つ。端面６８は、周知のトリミング及び／又はラッピング技術より形成するこ
とができる。
【００３５】 記録素子１６及び１６’の場合のように、各読取素子１９及び１９’に対する
窒化プロセスは、好適には、３００℃以下で実行されるプラズマ窒化プロセスで
あることが好ましい。さらに、上記プロセスは、２つの段階、すなわち、第１の
シールド４８の蒸着段階、及び第２のシールド６６の蒸着段階に分けて実行する
ことができる。その結果、各シールド４８及び６６を、ほぼ全長にわたって窒化
することができる。別な方法としては、シールド４８及び６６は、シールド４８
及び６６の先端が十分に硬化するように、読取素子１９及び１９’の任意のトリ
ミング及び／又はラッピングの後で、シールド４８及び６６を同時に窒化するこ
とがもできる。もう１つの別な方法としては、シールド４８及び６６を、任意の
適当な窒化プロセスにより窒化することもできる。例えば、シールド４８及び６
６を加熱し、シールド４８及び６６を窒化ガスに露出させることにより窒化させ
ることができる。
【００３６】 シールド４８及び６６は、好適には、電着により形成することが好ましいので
、読取素子１９及び１９’は、読取構造体に接着されている１つ又はそれ以上の
シールドを持つ従来の読取素子と比較した場合、読取素子１９及び１９’をもっ
と正確に形成することができる。さらに、シールド４８及び６６は窒化されるの
で、従来の読取素子と比較した場合、読取素子１９及び１９’の耐摩耗性は有意
に向上する。
【００３７】 本発明の実施形態について説明してきたが、これらの実施形態は本発明のすべ
ての可能な形式を図示し説明するためのものではない。それどころか、本明細書
において使用する用語は、本発明を説明するためのものであって、制限するため
のものではない。本発明の精神及び範囲から逸脱することなしに、種々の変更を
行うことができることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】 複数の磁気ギャップ、及び上記磁気ギャップ内に配置されている
、記録素子及び／読取素子のような複数の能動素子を持つ、本発明の磁気テープ
・ヘッドの部分斜視図である。
【図２】 記録素子及び読取素子を持つ、本発明の磁気ディスク・ヘッドの
部分斜視図である。
【図３】 図１及び図２の両方に示す記録素子を表す例示としての記録素子
の断面図である。
【図４】 図１及び図２の両方に示す記録素子の他の実施形態を表す別の記
録素子の断面図である。
【図５】 図１及び図２の両方に示す読取素子を表す例示としての読取素子
の断面図である。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１３年１１月２６日（２００１．１１．２６）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】 図４は、図１及び図２の両方に示す記録素子の他の実施形態を表す別の記録素
子１６”である。記録素子１６”は、記録素子１６及び１６’に類似していて、
同じ方法で製造される。しかし、記録素子１６”のギャップ材料は、磁気ギャッ
プ３４を形成するために、平面２６、３０及び３２及びコイル２８を蒸着する前
に、第１の磁極２４上に蒸着される。このような構成になっているために、第２
のシード層３６は、磁気ギャップ３４及び第３の平面３２上に蒸着される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ， ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ， ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ， ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 スティーブン シー エレーラ アメリカ合衆国 80120 コロラド州 リ トルトン サウス デビース ストリート 7067 Ｆターム(参考） 5D033 BA02 CA03 DA01 DA03 DA04 DA31 5D034 BB08 CA01 DA07 5E049 AA01 AA07 BA12

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 磁気ヘッドと共に使用される能動素子の製造方法であって、 磁気部材を形成するために磁気材料を蒸着するステップと、 前記蒸着ステップの後で、前記磁気部材を窒化するステップと、 の各ステップを含む能動素子の製造方法。
  2. 【請求項２】 磁気材料を蒸着するステップが、ニッケル鉄合金を蒸着する
    ステップを含む、請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記磁気部材を窒化するステップが、前記磁気部材をプラズ
    マ窒化するステップを含む、請求項１に記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記磁気部材をプラズマ窒化するステップが、３００℃以下
    の温度で行われる、請求項３に記載の方法。
  5. 【請求項５】 磁気ヘッドと共に使用される記録素子の製造方法であって、 基板の近くにシード層を蒸着するステップと、 前記シード層上に磁気導電性材料を電着させるステップと、 硬度及び比抵抗の中の少なくとも一方を増大するために、前記材料蒸着後に前
    記材料を窒化するステップと、 の各ステップを含む記録素子の製造方法。
  6. 【請求項６】 さらに、前記基板上に絶縁層を蒸着するステップを含み、シ
    ード層を蒸着するステップが、前記絶縁層上に前記シード層を蒸着するステップ
    を含む、請求項５に記載の方法。
  7. 【請求項７】 磁気導電性材料を電着させるステップが、ニッケル鉄合金を
    電着させるステップを含む、請求項５に記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記材料を窒化するステップが、前記材料をプラズマ窒化す
    るステップを含む、請求項５に記載の方法。
  9. 【請求項９】 前記材料をプラズマ窒化するステップが、３００℃以下の温
    度で行われる、請求項８に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 基板の近くに第１のシード層を蒸着するステップと、 第１の磁極を形成するために、前記第１のシード層上にニッケル鉄合金の第１
    の層を電気メッキするステップと、 前記第１の磁極をプラズマ窒化するステップと、 前記第１の磁極上にギャップ材料を蒸着するステップと、 前記ギャップ層上に第２のシード層を蒸着するステップと、 第２の磁極を形成するために、前記第２のシード層上にニッケル鉄合金の第２
    の層を電気メッキするステップと、 前記第２の磁極をプラズマ窒化するステップと、 の各ステップを含む記録素子の製造方法。
  11. 【請求項１１】 さらに、前記基板上に絶縁層を蒸着するステップを含み、
    第１のシード層を蒸着するステップが、前記絶縁層上に前記第１のシード層を蒸
    着するステップを含む、請求項１０に記載の方法。
  12. 【請求項１２】 前記第１の磁極のプラズマ窒化、及び第２の磁極のプラズ
    マ窒化が同時に行われる、請求項１０に記載の方法。
  13. 【請求項１３】 前記第１の磁極のプラズマ窒化が３００℃以下の温度で行
    われる、請求項１０に記載の方法。
  14. 【請求項１４】 前記第２の磁極のプラズマ窒化が３００℃以下の温度で行
    われる、請求項１３に記載の方法。
  15. 【請求項１５】 さらに、 前記第１の磁極上に第１の平面を蒸着するステップと、 前記第１の平面上にコイルを蒸着するステップと、 前記コイル上に第２の平面を蒸着するステップとを含み、 前記第１の磁極上にギャップ材料を蒸着するステップが、前記第２の平面上に
    前記ギャップ材料を蒸着するステップを含み、前記ギャップ材料上に第２のシー
    ド層を蒸着するステップが、前記第２の平面上に前記第２のシード層を蒸着する
    ステップを含む、請求項１３に記載の方法。
  16. 【請求項１６】 第２の平面を蒸着するステップが、前記コイル上に少なく
    とも２つの平面層を蒸着するステップを含む、請求項１５に記載の方法。
  17. 【請求項１７】 基板の近くに第１のシード層を蒸着するステップと、 第１のシールドを形成するために、前記第１のシード層上に磁気材料の第１の
    層を電着させるステップと、 前記第１のシールドを窒化するステップと、 前記第１のシールド上に読取構造体を蒸着するステップと、 前記読取構造体上に第２のシード層を蒸着するステップと、 第２のシールドを形成するために、前記第２のシード層上に磁気材料の第２の
    層を電着させるステップと、 前記第２のシールドを窒化するステップと、 の各ステップを含む磁気ヘッドと一緒に使用するための読取素子の製造方法。
  18. 【請求項１８】 磁気材料の第１の層を電着させるステップが、ニッケル鉄
    合金の第１の層を電着させるステップを含む、請求項１７に記載の方法。
  19. 【請求項１９】 磁気材料の第２の層を電着させるステップが、ニッケル鉄
    合金の第２の層を電着させるステップを含む、請求項１８に記載の方法。
  20. 【請求項２０】 前記第１のシールドを窒化するステップが、前記第１のシ
    ールドをプラズマ窒化するステップを含み、前記第２のシールドを窒化するステ
    ップが、前記第２のシールドをプラズマ窒化するステップを含む、請求項１７に
    記載の方法。
  21. 【請求項２１】 前記第１のシールドをプラズマ窒化するステップが、３０
    ０℃以下の温度で行われる、請求項２０に記載の方法。
  22. 【請求項２２】 前記第２のシールドをプラズマ窒化するステップが、３０
    ０℃以下の温度で行われる、請求項２１に記載の方法。
  23. 【請求項２３】 前記第１のシールドを窒化するステップと、前記第２のシ
    ールドを窒化するステップが同時に行われる、請求項１７に記載の方法。
  24. 【請求項２４】 磁気ヘッドと一緒に使用するための能動素子であって、必
    要な硬度及び必要な比抵抗の中の少なくとも一方を達成するために、電着後に窒
    化される電着された磁気部材を含む能動素子。
  25. 【請求項２５】 前記材料がニッケル鉄合金を含む、請求項２４に記載の能
    動素子。
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