JPH06176343A - 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】磁気特性と量産性に優れた垂直磁気記録媒体と
その製造方法の提供。 【構成】基板と、その上に基板に対して実質的に垂直
でかつそれぞれが独立している凸状の強磁性体の集合
層を有する垂直磁気記録媒体であって、その凸状の強
磁性体は、強磁性体のみからなるものであっても良い
し、その強磁性体以外の材料の芯材とその上に被覆され
た強磁性体からなるものであっても良い。上記の記録媒
体は「基板上に電析法、蒸着法あるいはスパッタリング
法などを用いて強磁性体をコーティングし、その強磁性
体の層の上にマスキングをした後、エッチング処理をす
る」、「基板上にマスキングを行って、エッチング処理
を施した後、強磁性材料をコーティングする」、もしく
は「ウィスカーを基板の上に実質的に垂直に成長させ、
更にそのウィスカーの表面を強磁性体で被覆する」こと
によって製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、ハードディスク、磁
気テープなど高密度の磁気記録に好適な垂直磁気記録媒
体とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】高性能の電子計算機用磁気記録装置のハ
ードディスク、オーディオ用の磁気記録テープなどに
は、高保磁力の磁気記録媒体が使用されている。それら
の多くは強磁性を示す微粉末と樹脂とを混ぜ合わせ、ベ
ースとなるフィルムやディスクの表面に塗布したもので
ある。強磁性微粉末には種々の特性が要求されるが最も
重要な特性はその保磁力である。保磁力が大きな磁性体
を用いるほど媒体の記録密度を向上させることができる
からである。

【０００３】上記の記録媒体には、従来、磁気記録時に
その面内方向に磁化を発生させるいわゆる面内磁気記録
方式を用いてきた。ところが最近、高密度の磁気記録方
式として垂直磁気記録方式が注目を集めている。

【０００４】垂直磁気記録方式では、記録媒体となる保
磁力の大きな硬磁性薄膜をその面と垂直な方向に磁化さ
せるのが特徴で、その結果、従来の面内磁気記録方式よ
りも密度の１桁大きな高密度記録が可能となる。

【０００５】垂直磁気記録を行う記録媒体としては、垂
直磁気異方性の Co(コバルト）−Cr（クロム）合金膜の
開発が進められている（例えば、応用物理、第56巻、第
５号、639 頁、参照）。Co−Cr合金はｈｃｐ構造を有す
るので、そのＣ軸を基板に対して垂直に配向させると、
そのときの著しい結晶磁気異方性によって、垂直方向に
磁性が発生する。なお、垂直磁気記録媒体としては、上
記のCo−Cr合金の他、六方晶のBaフェライト（特開昭63
−193506号公報）や、希土類−遷移金属系合金薄膜（特
公平３−54845 号公報) なども開発されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記のようにすでにい
くつかの垂直磁気記録媒体材料が開発されているが、現
在のところ最も有望と考えられているものはCo−Cr合金
膜である。しかしながらCo合金には、基本的にFe合金に
比べて磁化が小さいという欠点がある。しかも、このよ
うにCo合金などを用いる垂直磁気記録方式では、ｈｃｐ
構造、六方晶構造を有する合金のＣ軸方向に磁化しやす
い性質、すなわち結晶磁気異方性を利用するので、他の
構造の強磁性合金を用いることができない。

【０００７】本発明はこのような実状を踏まえてなされ
たもので、保磁力が大きく量産性に優れた垂直磁気記録
媒体、およびその製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記 (1)、
(3) および(5) の垂直磁気記録媒体と、 (2)、(4) およ
び(6) のそれらの製造方法を要旨する。

【０００９】(1) 基板と、その基板上にあって基板面に
対して実質的に垂直でかつそれぞれが独立している凸状
の強磁性体の集合層とを有する垂直磁気記録媒体。

【００１０】(2) 基板上に強磁性体層をコーティング
し、この強磁性体層の上に所望のパターンのマスキング
を施した後エッチング処理を行い、強磁性体層を凸状の
強磁性体の集合層に加工する上記 (1)の垂直磁気記録媒
体の製造方法。

【００１１】(3) 凸状の強磁性体が、芯材とその表面に
被覆された強磁性体層とからなる上記(1) の垂直磁気記
録媒体。

【００１２】(4) 基板上にマスキングを施した後、エッ
チング処理を行って基板の表層部をそれぞれ独立した凸
状の芯材の集合層とし、この芯材の表面に強磁性体層を
コーティングする上記 (3)の垂直磁気記録媒体の製造方
法。

【００１３】(5) 基板と、この基板上に基板面に対して
実質的に垂直に生成した亜鉛−ニッケル合金のウィスカ
ーと、このウィスカーの表面を覆う強磁性体の層を有す
る上記 (3)の垂直磁気記録媒体。

【００１４】(6) 導電性基板の上にＣ軸配向を示す材料
を用いてＣ軸方向と基板面が実質的に垂直になるように
中間層を形成し、この中間層の上に電析法により亜鉛−
ニッケル合金ウィスカーを基板面に対して実質的に垂直
に生成させ、その後前記ウィスカーの表面に強磁性体層
を被着することを特徴とする上記(5) の垂直磁気記録媒
体の製造方法。

【００１５】本明細書において「凸状の強磁性体」とい
うのは、図１〜図４、あるいは図７に示すように柱状、
板状、峰状、針状、あるいは樹状の強磁性体を意味す
る。また、それぞれの凸状の強磁性体が独立していると
は、図１〜図４および図７に示すように凸状の強磁性体
が実質的に分離して無数に存在することを意味する。た
だし、それぞれの凸部が基部において接触していたり、
あるいは連続していても良い。

【００１６】上記凸状の強磁性体は、基板面に対して垂
直であることが望ましいが、基板面に対しておよそ90°
±20°の範囲であれば目的は達せられる。本発明におい
て「実質的に垂直」というのは、凸状の強磁性体の長手
方向の軸が基板面に対しておよそ90°±20°の角度を持
っている、という意味である。そして、これら無数の凸
状体からなる層が基板表面に存在するのが本発明の磁気
記録媒体の特徴である。

【００１７】

【作用】一般に、高保磁力の磁気記録媒体の材料とし
て、鉄 (Fe) 、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)などのよう
に飽和磁気モーメントの大きな強磁性元素あるいはそれ
らを含む合金がある。本発明では、そのようなもののう
ち、基板面上に実質的に垂直の方向に棒状、板状などの
特殊な形状にして配置したときに、いわゆる形状磁気異
方性を示すものを強磁性体として用いるのである。

【００１８】本発明の磁気記録媒体は、形状磁気異方性
を示す強磁性体を基板に対して実質的に垂直でかつそれ
ぞれが独立しているように多数集合させて配置するとこ
ろに大きな特徴がある。このように配置することによっ
て垂直磁気記録媒体に必要な強磁性と、基板と垂直方向
の形状磁気異方性を兼ね備えさせることができる。

【００１９】図１〜図４は、基板上に凸状の多数の強
磁性体が配置されている様子を模式的に示す斜視図で
ある。図１と図２は、凸状の強磁性体が柱状または板状
である場合を表している。この凸部は基板に対して実質
的に垂直に形成され、少なくともその表面が強磁性体で
覆われていれば良いのであるが、アスペクト比が大きい
と保磁力が大きくなるので、図３および図４に示すよう
な針状、峰状などの形状で「高さ／径」が大きい形状が
望ましい。

【００２０】上記のように、本発明の垂直磁気記録媒体
は「基板と、その基板上にあって基板面に対して実質的
に垂直でかつそれぞれが独立している凸状の強磁性体の
集合層を有する垂直磁気記録媒体」である。そして、
その凸状の強磁性体は、全体が強磁性体であってもよ
く、あるいは芯材とその表面に被覆された強磁性体層か
らなるものであっても良い。

【００２１】図５および図６は、前記 (2)または(4) の
方法で本発明の垂直磁気記録媒体を製造する工程を模式
的に示す図である。

【００２２】凸状の強磁性体が強磁性体だけからなる垂
直磁気記録媒体は、図５の(i) および(ii)に示すよう
に、基板上に電析法、蒸着法あるいはスパッタリング
法などを用いて強磁性体層をコーティングし、その強
磁性体層の上にマスクを施した後、エッチング処理を
することによって得ることができる。マスクのパターニ
ングは特に限定されるものではないが、柱状、板状など
目的とする凸部の形状に応じて、例えば図５の(iii) や
(iv)に示すようなパターンのマスクをすれば、マスキン
グした部分がエッチングされずに残って凸状の強磁性体
となる。

【００２３】凸状の強磁性体が、芯材とその上に被覆さ
れた強磁性体からなる前記 (3)の垂直磁気記録媒体の一
つは、図６の (i)〜(iii) に示すように、基板そのも
のの表面にマスクを施し、エッチング処理を行って表
層部を凸状体（芯材）の集合層となし、その表面に強
磁性体の被膜をコーティングして製造することができ
る。あるいは、図７に示すように基板の上にウィスカ
ーを基板面に対して実質的に垂直に成長させ、更にそ
のウィスカーの表面を強磁性体で被覆することによって
製造できる。この時、ウィスカーの基板面にたいして
実質的に垂直な方向への成長を助けるために中間層を
設けても良い。

【００２４】以下、本発明を構成する要件について個別
に説明する。 (a) 基板について：これは、金属や合成樹脂のディス
ク、テープなど、用途に応じてその材質、形状およびサ
イズを選べばよい。

【００２５】(b) 凸状の強磁性体について：凸状の強磁
性体とは、強磁性を示す単金属、合金や化合物、例え
ば、Fe、Co、Niの単体や、これら強磁性を示す元素を主
成分とする種々の強磁性合金、さらには SmCo₅のような
強磁性化合物を少なくともその凸状体の表面全域あるい
は表面の一部にもつ部位である。本発明では、この凸状
の強磁性体は図１や図２のように基板面と垂直の方向に
伸びた形状とするのでその形状磁気異方性により安定し
た垂直磁気異方性を示すのである。この垂直磁気異方性
を大きくするためには、凸部をできるだけ細長く形成す
るのが良い。細長いほど凸部の外周表面が基板面に対し
て垂直になって形状磁気異方性を有効に利用することが
でき、保磁力を大きくすることができるのに加えて、磁
化回転を抑止する効果が大きくなるからである。

【００２６】強磁性体は、前記のようにそれ自体で凸状
の強磁性体を形成しているか、または垂直方向に延びた
芯材の上に被覆されている。

【００２７】基板あるいはウィスカー((e)で後述する）
などの芯材の凸部に強磁性体を被覆する方法としては電
解法を用いて被着させるのが経済的であるが、他の方
法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、無電解め
っき法などを用いてもよい。あらかじめ所望の形状に形
成された材料（芯材）の上に強磁性体を被覆する場合に
は、平均0.01〜１μｍ程度の厚さとするのが望ましい。

【００２８】(c) エッチング処理について：この工程
は、基板上に凸状の強磁性体の集合層を形成するために
行うのであるから、対象物（基板）が所定の形に浸食さ
れる条件でさえあれば種々の方法が採用できる。Fe、C
o、Niのような強磁性体をエッチングする場合には Kr
(クリプトン）＋ Cl(塩素）のＥＣＲプラズマで行う
と、エッチング速度が早く、シャープな形状に加工する
ことができるが、通常のイオンビームエッチングでも差
し支えない。Si（シリコン）基板のエッチングはAr（ア
ルゴン）によるＥＣＲプラズマで行うのが一般的である
が、Si基板のダメージを少なくするために化学エッチン
グを用いてもよい。

【００２９】エッチングしない部分は、図５の (iii)お
よび(iv)に示したように適当なパターンでマスキングし
ておく。このマスキングは垂直磁気記録媒体には不要で
あり、エッチング工程の終了後には除去する必要がある
ので、除去しやすいホトレジスト膜を用いるのが好適で
ある。

【００３０】(d) 芯材について：前記(3) の記録媒体の
凸状の強磁性体は、凸状の芯材の表面に強磁性体を被覆
したものである。この芯材を、前述した図６に示すよう
に、基板自体をエッチングして形成すると、基板と芯材
とが一体であって強度に優れる上に、工程が比較的簡便
であるので好ましい。芯材の材料は、その表面に被覆す
る磁性材料の性質を損なうものでなければよく、材料は
特に限定されない。後述するように、基板上に細い針状
の結晶（ウィスカー）を形成させることができれば、そ
れを芯材としても良い。

【００３１】ウィスカーを芯材にすると前記の「高さ／
径」が大きくなり形状磁気異方性が向上する。以下、芯
材としてウィスカーを用いた垂直磁気記録媒体について
説明する。

【００３２】本発明者は、先に高強度金属繊維等として
使用できる亜鉛−ニッケル合金ウィスカーおよびその効
率的な製造方法を開発して特許出願を行った (特開平１
−312050号公報) 。さらにこのウィスカーを強磁性金属
で被覆した粉末が高密度磁気記録媒体の磁性材料として
有用であることを確認し、特願平４−18783 号として出
願した。

【００３３】亜鉛−ニッケル合金ウィスカーはNiが 0.5
〜15重量％と少なく、残部がZnであるので、それ自体は
強磁性体ではない。そこで、前記特願平４−18783 号の
発明では、亜鉛−ニッケル合金ウィスカーの粉末を強磁
性金属で被覆し、この強磁性層によって高い飽和磁化を
持たせているのである。このZn−Ni合金ウィスカーは導
電性に優れた鋭い針状の結晶であるから、これを基板上
に垂直に成長させれば、先に述べた芯材となり得る。

【００３４】図７は、ウィスカーを芯材として用いる本
発明の磁気記録媒体の縦断面を模式的に描いた図であ
る。図示のとおり、この磁気記録媒体は、導電性の基板
、基板にコーティングされた中間層、中間層から基
板面に対して実質的に垂直に生成した亜鉛−ニッケル合
金のウィスカー（以下、単にウィスカーと記す）とそ
の表面にコーティングされた強磁性体の被膜とで構成
される凸状の強磁性体の集合層からなる。以下、ウ
ィスカーおよび中間層について順次説明する。

【００３５】(e) ウィスカーについて：このウィスカー
は、ニッケルが約 0.5〜15重量％の亜鉛−ニッケル合金
の単結晶で、前述のように基板面に対して実質的に垂直
に、中間層から成長したものである。このウィスカー
の一つ一つの長さは約 0.1〜10μｍで分布密度は１cm²
当たりおよそ５×10⁴ 本が適当である。

【００３６】上記のようなウィスカーは、本発明者が先
に提案した特開平１−312050号公報に記載の方法で形成
させることができる。すなわち、中間層を持つ基板を
Ni²⁺とZn²⁺の比 (Ni²⁺／Zn²⁺）が0.01〜1.0 の電解質溶
液に浸漬し 0.1〜5.0 A/dm²の電流密度で電気分解を行
い、基板上にウィスカーを電析させるのである。この方
法によれば、基板の中間層から実質的に垂直に配向した
ウィスカーが比較的短時間で簡単に電析する。

【００３７】ウィスカーの軸は基板面に対して垂直であ
ることが望ましいが、前述のように基板面に対しておよ
そ90°±20°の範囲であれば目的を達成することができ
る。

【００３８】(f) 中間層について：これは、ウィスカー
の配向を制御するために使用するものである。

【００３９】中間層は、ウィスカーを上記のように成長
させ得るようなものでなければならない。本発明者は、
特に 0.1〜20原子％の燐を含有する亜鉛−燐（Zn−Ｐ）
合金の電析膜を中間層として使用するとウィスカーの軸
の垂直配向を大きく促せることを見いだした。Zn−Ｐ膜
が中間層として存在すると、ウィスカーはその軸方向を
Zn−Ｐ膜のＣ軸と一致させるので、結果的にウィスカー
はほとんど基板に垂直に成長するからであると考えられ
る。したがって、このZn−Ｐ膜を中間層として使用する
ことが望ましい。

【００４０】しかし、中間層はこのZn−Ｐ膜に限られる
のではなく、例えば、Zn−Cu合金のような亜鉛系の合金
および純亜鉛と同じように著しいＣ軸配向を示すもの、
または他の合金系でもウィスカーの軸を前記のように実
質的に基板面に垂直方向に配向させ得るものならば何で
もよい。この中間層の厚さは、均一な厚さの膜にすると
いう観点から、100 Å〜１μｍ程度が望ましい。なお、
上記のような著しいＣ軸配向を示すものを基板として使
用すれば、中間層は不必要である。また、その他の基
板であっても中間層を使用しないでウィスカーを実質的
に基板面に垂直に生成させる技術を用いれば、中間層は
必ずしも必要ではない。

【００４１】基板の上に中間層を形成する方法として
は、蒸着法、スパッタリング法、無電解めっき法等種々
の方法が使用できる。なお、ウィスカーは後述するよう
に電析法で成長させるので、中間層も電析法で形成する
のがよい。そうすれば、電解浴の組成を変えるだけで中
間層の電析とウィスカーの成長を続けて行わせることが
でき、製造プロセスが簡素になるからである。電析法を
用いる場合には基板は導電性である必要がある。

【００４２】以上、図１〜図４および図７に示した本発
明の磁気記録媒体の詳細をその製造方法とともに説明し
たが、こうして得られたものに更に耐摩耗性コーティン
グやその他の処理を施して最終的な磁気記録媒体として
もよい。これらの後処理には一般に行われている方法が
採用できる。

【００４３】

【実施例１】以下に示す方法で垂直磁気記録媒体を製造
し、それぞれの媒体が垂直方向に磁化したときの保持力
（Hc⊥) と飽和磁化（σg)を測定して磁気特性を評価し
た。

【００４４】その結果を表１に示す。

【００４５】〔試験No.1〜３〕図５に示した方法で垂直
磁気記録媒体を作製した。

【００４６】まず２インチ径のＳｉ基板表面に、それぞ
れ５μｍの厚みの純鉄（試験 No.1)、純Co (同 No.2)、
SmCo₅(同 No.3)をＲＦスパッタリング法により蒸着し
た。このときのスパッタリングの条件は次の通りであ
る。 背圧：１×10^-7Torr、 出力：１ｋＷ、 スパッタ粒
子：Ar。

【００４７】この強磁性体の表面にホトレジスト膜を塗
布して図５(iii) に示すようにパターンニングした。そ
の表面をKr＋Cl粒子のＥＣＲプラズマでエッチング処理
し、高さが３μｍで径が１μｍの棒状の突起を配列させ
た強磁性体層を得た。突起の先端に残存するホトレジス
ト膜を剥離液を用いて除去し、強磁性体層の先端を細く
するようなフィールドイオンビームを用いてエッチング
処理を施し、図３に示すような針状の強磁性体層を有す
る垂直磁気記録媒体を作製した。

【００４８】〔試験No.4〜６〕ホトレジスト膜でマスキ
ングし、図５(iv)に示すパターンニングを施した他は試
験No.1〜３と同様にして板状の強磁性体層を得た。その
後、上記試験No.1〜3と同じ条件でエッチング処理を行
って図２に示すような峰状の強磁性体層を有する垂直磁
気記録媒体を作製した。

【００４９】〔試験No.7〜９〕図６に示した方法で垂直
磁気記録媒体を作製した。

【００５０】２インチ径のＳｉ基板表面に、ホトレジス
ト膜を塗布して図５(iii) のようにパターンニングし
た。この表面をAr粒子のＥＣＲプラズマでエッチング処
理し、高さが３μｍで径が１μｍの棒状の突起が配列し
た基板を得た。以下、試験No.１〜３と同じ条件でエッ
チング処理を施して図１に示すような針状の突起が配列
した基板を作製した。

【００５１】この基板に、ＲＦスパッタリング法により
それぞれ 0.2μｍの厚みの純鉄 (試験No.7) 、純Co (同
No.8)、SmCo₅(同 No.9)を蒸着し垂直磁気記録媒体を得
た。

【００５２】このときのスパッタリングの条件は試験N
o.1〜３の場合と同じにした。

【００５３】〔試験No. 10〜12〕ホトレジスト膜でマス
キングして図５(iv)に示すパターンニングを施した他は
試験No.7〜９と同様にして峰状の強磁性体層を有する垂
直磁気記録媒体を得た。

【００５４】〔試験 No.13〜15〕強磁性体として純鉄を
用いた試験No.1、４および７と同様にして高さが３μｍ
で径または幅が２μｍの柱状あるいは板状の強磁性体層
を有する磁気記録媒体を作製した。この試験では針状ま
たは峰状に加工するエッチングは行わなかった。

【００５５】〔試験No. 16〜18（比較例）〕２インチ径
のＳｉ基板表面に、それぞれ３μｍの厚みの純鉄（No.1
6)、純Co (No.17)、SmCo₅ (No.18) をＲＦスパッタリン
グ法により蒸着して磁気記録媒体を得た。

【００５６】

【表１】

【００５７】表１からわかるように、本発明例である試
験No.1〜15の媒体の保磁力および飽和磁化の値は、比較
例の基板上に均一な強磁性体層の膜を持つ媒体のそれら
と比べて、いずれも大きく向上している。

【００５８】

【実施例２】下記の方法で種々の媒体を作製し、得られ
た媒体の磁気特性として、垂直方向に磁化したときの保
磁力と飽和磁化を測定した。その結果を表４にまとめて
示す。なお、比較のために、中間層のない媒体も作製
し、さらに従来の代表的な垂直磁気記録媒体であるCo−
Cr合金膜を持つ媒体を作製し、同じ測定を行った。

【００５９】〔試験No.19 〕まず、純銅板（厚さ 0.4m
m、幅40mm、長さ 160mm）を用意し、その長さ方向端部4
0mmの領域を被めっき面とし、残部を絶縁テープで被覆
することによりめっき基板（陰極）を作製した。同じ方
法で対極（陽極）を作製した。ここでは陽極として純白
金板を用いたが、経済性を重視する場合にはニッケル板
などの可溶性の陽極を用いてもよい。

【００６０】次に表２に示す電解条件で、Zn−Ｐ（５原
子％）のめっき層を 0.5mm厚さまで中間層として形成さ
せた。このときＳＥＭ観察を行いZn−Ｐ膜はほとんどそ
のＣ軸が基板に対し垂直に配向していることを確認し
た。その後、３％Ni−Zn合金ウィスカーを表３に示す条
件で約１μｍの長さまで中間層の上に成長させた。ＳＥ
Ｍ観察で確認したところ、このウィスカーは、すべて基
板面に対してほぼ垂直に成長していた。

【００６１】ウィスカーを生成させた試料の中心部から
10mm×10mmの領域を切り出し、これにＲＦスパッタリン
グ法により純鉄を平均して 0.2μｍの厚さにコーティン
グして表面に強磁性層を形成させ、最終的に図７のよう
な媒体を作製した。

【００６２】〔試験No.20 〕ウィスカーを生成させる工
程までは試験No.19 と同じとし、ウィスカー表面に純鉄
のかわりにＲＦスパッタリング法により純コバルトを平
均して 0.2μｍの厚さにコーティングして媒体を作製し
た。

【００６３】〔試験No.21 〕試験No.20 と同様、ウィス
カーを生成させる工程までは試験No.19 と同じとし、ウ
ィスカー表面に純鉄のかわりにＲＦスパッタリング法に
より SmCo₅被膜を平均して 0.2μｍの厚さにコーティン
グして媒体を作製した。

【００６４】〔試験No.22(比較例) 〕中間層を電析させ
る工程を省き、試験No.19 の条件で銅基板上に直接ウィ
スカーを成長させ、その表面に純鉄をＲＦスパッタリン
グ法により平均 0.2μｍの厚さにコーティングして媒体
を作製した。

【００６５】〔試験No.23(従来例) 〕直流マグネトロン
スパッタリング法により、アルミニウム基板の上にCo−
Cr合金膜（Co: 81.5重量％、Cr: 18.5重量％、膜厚１μ
ｍ）を形成させた。

【００６６】試験No.19 〜23で作製した媒体が垂直方向
に磁化したときの保磁力と飽和磁化を測定した。その結
果を表４に示す。

【００６７】

【表２】

【００６８】

【表３】

【００６９】

【表４】

【００７０】表４からわかるように、本発明例である試
験 No.19、20、21の媒体の保磁力および飽和磁化の値
は、従来のCo−Cr合金膜を持つ媒体のそれらと比べて、
いずれも大きく向上している。なお、試験No.22 では、
中間層を設けなかったためにウィスカーの垂直方向への
配向度が低く保持力（Hc⊥) が小さい。この結果からウ
ィスカーの表面に強磁性体を被着させて優れた保磁力お
よび飽和磁化を持たせる場合には、適切な中間層が存在
するのが良いと言えるが、ウィスカーの垂直方向への配
向度を高める外の方法を採用すれば中間層は必ずしも必
要ではない。

【００７１】

【発明の効果】本発明の垂直磁気記録媒体は、これまで
に知られた代表的な垂直磁気記録媒体であるCo−Cr合金
膜を持つものよりはるかに優れている。本発明の垂直磁
気記録媒体は、前述の製造方法によって比較的安価に量
産することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の垂直磁気記録媒体を模式的に示す斜視
図である（凸状の強磁性体の形状が棒状）。

【図２】本発明の垂直磁気記録媒体を模式的に示す斜視
図である（凸状の強磁性体の形状が板状）。

【図３】本発明の垂直磁気記録媒体を模式的に示す斜視
図である（凸状の強磁性体の形状が針状）。

【図４】本発明の垂直磁気記録媒体を模式的に示す斜視
図である（凸状の強磁性体の形状が峰状）。

【図５】本発明の垂直磁気記録媒体を製造する工程とマ
スキングによるパターンニングの例を説明する図であ
る。

【図６】本発明の垂直磁気記録媒体を製造する工程の他
の例を説明する図である。

【図７】本発明の垂直磁気記録媒体の一例を模式的に示
す縦断面である（凸状の強磁性体がウィスカーを芯材と
するもの) 。

【符号の説明】 基板、 凸状の強磁性体、強磁性体の集合
層、 強磁性体層、マスク、 心材、
強磁性体被膜、 ウィスカー、中間層。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板と、その基板上にあって基板面に対し
   て実質的に垂直でかつそれぞれが独立している凸状の強
   磁性体の集合層とを有する垂直磁気記録媒体。
2. 【請求項２】基板上に強磁性体層をコーティングし、こ
   の強磁性体層の上に所望のパターンのマスキングを施し
   た後エッチング処理を行い、強磁性体層を凸状の強磁性
   体の集合層に加工することを特徴とする請求項１の垂直
   磁気記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】凸状の強磁性体が、芯材とその表面に被覆
   された強磁性体層とからなることを特徴とする請求項１
   の垂直磁気記録媒体。
4. 【請求項４】基板上にマスキングを施した後、エッチン
   グ処理を行って基板の表層部をそれぞれ独立した凸状の
   芯材の集合層とし、この芯材の表面に強磁性体層をコー
   ティングすることを特徴とする請求項３の垂直磁気記録
   媒体の製造方法。
5. 【請求項５】基板と、この基板上に基板面に対して実質
   的に垂直に生成した亜鉛−ニッケル合金のウィスカー
   と、このウィスカーの表面を覆う強磁性体の層を有する
   請求項３の垂直磁気記録媒体。
6. 【請求項６】導電性基板の上にＣ軸配向を示す材料を用
   いてＣ軸方向と基板面が実質的に垂直になるように中間
   層を形成し、この中間層の上に電析法により亜鉛−ニッ
   ケル合金ウィスカーを基板面に対して実質的に垂直に生
   成させ、その後前記ウィスカーの表面に強磁性体層を被
   着することを特徴とする請求項５の垂直磁気記録媒体の
   製造方法。