JPH07311917A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH07311917A JPH07311917A JP10039394A JP10039394A JPH07311917A JP H07311917 A JPH07311917 A JP H07311917A JP 10039394 A JP10039394 A JP 10039394A JP 10039394 A JP10039394 A JP 10039394A JP H07311917 A JPH07311917 A JP H07311917A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3967—Composite structural arrangements of transducers, e.g. inductive write and magnetoresistive read
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 上部シールドと下部磁極が一体磁極構造とな
っている記録再生分離型薄膜磁気ヘッドにおいて、良好
な磁気特性を持たせると共に、磁気誘導型ヘッドのコイ
ルの断線をなくす。 【構成】 磁気誘導型ヘッドのコイルを一体磁極上に形
成されている。
っている記録再生分離型薄膜磁気ヘッドにおいて、良好
な磁気特性を持たせると共に、磁気誘導型ヘッドのコイ
ルの断線をなくす。 【構成】 磁気誘導型ヘッドのコイルを一体磁極上に形
成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はハードディスク装置に使
用される薄膜磁気ヘッドの構造に係り、特に記録再生分
離型ヘッドの磁極構造に関するものである。
用される薄膜磁気ヘッドの構造に係り、特に記録再生分
離型ヘッドの磁極構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、大型コンピュータ、ワークステー
ション、ＯＡ機器、パーソナルコンピュータ等の外部記
憶装置として用いられるハードディスク装置は、小型大
容量化への開発競争が激化している。例を挙げれば、デ
ィスク径は3.5"から2.5"、1.8"へ、更に1.3"へと小型化
の流れがある一方、高記録密度化に対応する磁気ヘッド
は、メタルインギャップ（METAL IN GAP）構造からフォ
トリソグラフィー技術を応用した薄膜磁気ヘッド、さら
には磁気抵抗効果素子を再生に用いて記録用ヘッドと再
生用ヘッドを別個に設けた記録再生分離型磁気ヘッドに
進展している。図２は従来から使用している記録再生分
離型薄膜磁気ヘッドを媒体側から模式的に示した図であ
る。図２に示すように、非磁性基板１の表面に形成され
た絶縁層２の上に、磁気抵抗効果型ヘッド３１を設け、
その上に磁気誘導型ヘッド３２を積層した構造である。
なお、絶縁層２はアルミナ等をイオンプレーティング等
の方法で形成したものである。磁気抵抗効果型ヘッド３
１は再生専用であり、下部シールド１１、磁気抵抗効果
素子（以下ＭＲ素子と省略）１２、一体磁極１３、およ
び絶縁保護層３から構成される。なお一体磁極１３は、
磁気抵抗効果型ヘッド３１の上部シールドと磁気誘導型
ヘッド３２の下部磁極を兼ねたものである。再生時に
は、磁気記録媒体（図示せず）から漏洩する記録信号磁
界（図示せず）をＭＲ素子１２で検出し、電気信号に変
換する。ここではバイアス用導体或いはバイアス用素子
を省略した。図中、ＭＲ素子１２はＷ４（例えば５μ
m）の大きさを持ち、NiFe合金を用い、蒸着、スパッタ
等の製法により２０〜５０ｎｍの厚さに成膜されたもの
である。ここで、一体磁極１３及び下部シールド層１１
は、再生時に外部から侵入する記録信号磁界以外の不要
な磁束を遮蔽する目的で配設されているものである。一
方、記録専用ヘッドとしての磁気誘導型ヘッド３２は、
一体磁極１３、コイル２１、上部磁極１４、非磁性ギャ
ップ層４、層間絶縁膜５及び６等からなる。記録時には
コイル２１に記録信号に応じた大きさの電流を通電する
と、上部磁極１４と一体磁極１３とが対向する磁気ギャ
ップｇに記録電流に応じた磁界が発生し、磁気ギャップ
ｇ近傍の磁気記録媒体（図示せず）を磁化着磁する。コ
イル２１は良導体で構成され、アルミニウム、銅、或い
はその合金等の金属をめっき、またはリフトオフによる
蒸着等の方法を使い、数μm厚さに非磁性ギャップ層４
上に直接、もしくは層間絶縁膜５上に１５〜３０タ−ン
程度の渦巻状コイルとなるように形成したものである。
図２でコイル２１は一層となっているが、２層以上であ
ってもかまわない。記録時のトラック幅は上部磁極１４
の幅Ｗ１で規定される。依って、以上の説明から明らか
なように、一体磁極１３は再生時には不要な磁界である
外部からの侵入磁束を遮蔽し、記録時には記録信号磁界
に対する磁気回路の一部を形成するという二つの機能面
を持っている。非磁性基板１は、Ａｌ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3−
ＴｉＣ、ＭｎＯ−ＮｉＯ系のセラミックス等が挙げられ
る。一方、一体磁極１３、下部シールド層１１、上部磁
極１４等はパーマロイ（NiFe系合金）、センダスト（Fe
AlSi系合金）、強磁性アモルファス材系等の強磁性体が
主に使われ、また非磁性ギャップ層４は非磁性体である
ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等を蒸着或いはスパッタ等の方法で
形成されたものである。
ション、ＯＡ機器、パーソナルコンピュータ等の外部記
憶装置として用いられるハードディスク装置は、小型大
容量化への開発競争が激化している。例を挙げれば、デ
ィスク径は3.5"から2.5"、1.8"へ、更に1.3"へと小型化
の流れがある一方、高記録密度化に対応する磁気ヘッド
は、メタルインギャップ（METAL IN GAP）構造からフォ
トリソグラフィー技術を応用した薄膜磁気ヘッド、さら
には磁気抵抗効果素子を再生に用いて記録用ヘッドと再
生用ヘッドを別個に設けた記録再生分離型磁気ヘッドに
進展している。図２は従来から使用している記録再生分
離型薄膜磁気ヘッドを媒体側から模式的に示した図であ
る。図２に示すように、非磁性基板１の表面に形成され
た絶縁層２の上に、磁気抵抗効果型ヘッド３１を設け、
その上に磁気誘導型ヘッド３２を積層した構造である。
なお、絶縁層２はアルミナ等をイオンプレーティング等
の方法で形成したものである。磁気抵抗効果型ヘッド３
１は再生専用であり、下部シールド１１、磁気抵抗効果
素子（以下ＭＲ素子と省略）１２、一体磁極１３、およ
び絶縁保護層３から構成される。なお一体磁極１３は、
磁気抵抗効果型ヘッド３１の上部シールドと磁気誘導型
ヘッド３２の下部磁極を兼ねたものである。再生時に
は、磁気記録媒体（図示せず）から漏洩する記録信号磁
界（図示せず）をＭＲ素子１２で検出し、電気信号に変
換する。ここではバイアス用導体或いはバイアス用素子
を省略した。図中、ＭＲ素子１２はＷ４（例えば５μ
m）の大きさを持ち、NiFe合金を用い、蒸着、スパッタ
等の製法により２０〜５０ｎｍの厚さに成膜されたもの
である。ここで、一体磁極１３及び下部シールド層１１
は、再生時に外部から侵入する記録信号磁界以外の不要
な磁束を遮蔽する目的で配設されているものである。一
方、記録専用ヘッドとしての磁気誘導型ヘッド３２は、
一体磁極１３、コイル２１、上部磁極１４、非磁性ギャ
ップ層４、層間絶縁膜５及び６等からなる。記録時には
コイル２１に記録信号に応じた大きさの電流を通電する
と、上部磁極１４と一体磁極１３とが対向する磁気ギャ
ップｇに記録電流に応じた磁界が発生し、磁気ギャップ
ｇ近傍の磁気記録媒体（図示せず）を磁化着磁する。コ
イル２１は良導体で構成され、アルミニウム、銅、或い
はその合金等の金属をめっき、またはリフトオフによる
蒸着等の方法を使い、数μm厚さに非磁性ギャップ層４
上に直接、もしくは層間絶縁膜５上に１５〜３０タ−ン
程度の渦巻状コイルとなるように形成したものである。
図２でコイル２１は一層となっているが、２層以上であ
ってもかまわない。記録時のトラック幅は上部磁極１４
の幅Ｗ１で規定される。依って、以上の説明から明らか
なように、一体磁極１３は再生時には不要な磁界である
外部からの侵入磁束を遮蔽し、記録時には記録信号磁界
に対する磁気回路の一部を形成するという二つの機能面
を持っている。非磁性基板１は、Ａｌ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3−
ＴｉＣ、ＭｎＯ−ＮｉＯ系のセラミックス等が挙げられ
る。一方、一体磁極１３、下部シールド層１１、上部磁
極１４等はパーマロイ（NiFe系合金）、センダスト（Fe
AlSi系合金）、強磁性アモルファス材系等の強磁性体が
主に使われ、また非磁性ギャップ層４は非磁性体である
ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等を蒸着或いはスパッタ等の方法で
形成されたものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した記録再生分離
型薄膜磁気ヘッドでは、一体磁極１３上の絶縁層である
非磁性ギャップ層４の上に形成されたコイル２１は、一
体磁極１３の端部と交差する部分で段差（例えば3〜6μ
m程度）が生じている。図２は従来から使用している記
録再生分離型薄膜磁気ヘッドを媒体側から模式的に示し
た図である。図２に示すように、非磁性基板１の表面に
形成された絶縁層２の上に、磁気抵抗効果型ヘッド３１
を設け、その上に磁気誘導型ヘッド３２を積層した構造
である。なお、絶縁層２はアルミナ等をイオンプレーテ
ィング等の方法で形成したものである。一体磁極１３、
下部シールド１１及び上部磁極１４はパーマロイを蒸着
またはスパッタ、めっき等の方法で形成させたものであ
る。ここでパーマロイの替わりに、他のＣｏ系或いはＦ
ｅ系合金の軟磁性膜であってもかまわない。まず非磁性
基板１上に絶縁層２を形成する。絶縁層２上にフォトリ
ソグラフィー技術を用いて蒸着、スパッタ、めっき等で
下部シールド１１、ＭＲ素子１２、一体磁極１３、絶縁
保護層３、および磁気抵抗効果型ヘッド３１を形成す
る。一体磁極１３上に非磁性ギャップ層４、コイル２
１、上部磁極１４、層間絶縁膜５及び６等を形成して磁
気誘導型ヘッド３２が形成される。図４は従来の記録再
生分離型薄膜磁気ヘッドの一実施例を平面的に模式した
もので、特に一体磁極１３、コイル２１、コイル２１と
外部電気回路とを電気的に接続する端子２２、コイル２
１と端子２２を電気的に接続するリード部２３の位置関
係を模式的に示した図である。コイル２１は一体磁極１
３からはみ出しており、コイル２１は一体磁極１３の端
部と交差する部分で段差が生じている。段差の大きさ
は、一体磁極１３の膜厚、または一体磁極１３の膜厚に
非磁性ギャップ層４の膜厚を加えた厚み、または一体磁
極１３の膜厚に非磁性ギャップ層４の膜厚と層間絶縁膜
５の膜厚を加えた厚みである。図６は従来から使用して
いる記録再生分離型薄膜磁気ヘッドの他の実施例を媒体
側から模式的に示した図である。一体磁極１３の幅をＷ
２、下部シールド１１の幅をＷ３とおくと、Ｗ２＞Ｗ３
の関係では、下部シールド１１の端部と交差している一
体磁極１３上に、下部シールド１１の膜厚ｔ３（例えば
2〜4μm）だけ一体磁極１３に段差が生じるため、コイ
ル２１にも段差が生じてしまう。段差部ではコイルや導
体層を形成するためのフォトレジストパターンが正確に
形成することが困難である。これは、この段差部分にめ
っき等によりコイルや導体層を形成するとコイル断面積
が変化しやすいため、電気抵抗のばらつきが大きく、最
悪の場合断線を生じることもある。また基板内にコイル
の良品と不良品が混在しているため、磁気ヘッドに加工
する場合不良品も良品と一緒に加工され、加工能率が低
い問題がある。この段差解消の方法として、例えば特開
平3-286412のように、磁気誘導型ヘッドの下部磁極上に
絶縁層を成膜しフォトレジストを塗布する。成膜した絶
縁層とその上に塗布したフォトレジストのエッチングレ
ートが等しくなるようにイオンミリング装置の操作条件
を設定し、絶縁層の表面を平坦化することにより、絶縁
層上に形成されるコイルに段差を生じないようにしてい
る。しかし、磁気ヘッドの製造工程にこの絶縁層の平坦
化工程が加わるため、薄膜磁気ヘッドの合格率を落とす
要因となる。また絶縁層とフォトレジストのエッチング
レートが常に等しくなるようにロット毎のデ−タをイオ
ンミリング装置にフィードバックする必要があり、時間
が掛かるという問題がある。
型薄膜磁気ヘッドでは、一体磁極１３上の絶縁層である
非磁性ギャップ層４の上に形成されたコイル２１は、一
体磁極１３の端部と交差する部分で段差（例えば3〜6μ
m程度）が生じている。図２は従来から使用している記
録再生分離型薄膜磁気ヘッドを媒体側から模式的に示し
た図である。図２に示すように、非磁性基板１の表面に
形成された絶縁層２の上に、磁気抵抗効果型ヘッド３１
を設け、その上に磁気誘導型ヘッド３２を積層した構造
である。なお、絶縁層２はアルミナ等をイオンプレーテ
ィング等の方法で形成したものである。一体磁極１３、
下部シールド１１及び上部磁極１４はパーマロイを蒸着
またはスパッタ、めっき等の方法で形成させたものであ
る。ここでパーマロイの替わりに、他のＣｏ系或いはＦ
ｅ系合金の軟磁性膜であってもかまわない。まず非磁性
基板１上に絶縁層２を形成する。絶縁層２上にフォトリ
ソグラフィー技術を用いて蒸着、スパッタ、めっき等で
下部シールド１１、ＭＲ素子１２、一体磁極１３、絶縁
保護層３、および磁気抵抗効果型ヘッド３１を形成す
る。一体磁極１３上に非磁性ギャップ層４、コイル２
１、上部磁極１４、層間絶縁膜５及び６等を形成して磁
気誘導型ヘッド３２が形成される。図４は従来の記録再
生分離型薄膜磁気ヘッドの一実施例を平面的に模式した
もので、特に一体磁極１３、コイル２１、コイル２１と
外部電気回路とを電気的に接続する端子２２、コイル２
１と端子２２を電気的に接続するリード部２３の位置関
係を模式的に示した図である。コイル２１は一体磁極１
３からはみ出しており、コイル２１は一体磁極１３の端
部と交差する部分で段差が生じている。段差の大きさ
は、一体磁極１３の膜厚、または一体磁極１３の膜厚に
非磁性ギャップ層４の膜厚を加えた厚み、または一体磁
極１３の膜厚に非磁性ギャップ層４の膜厚と層間絶縁膜
５の膜厚を加えた厚みである。図６は従来から使用して
いる記録再生分離型薄膜磁気ヘッドの他の実施例を媒体
側から模式的に示した図である。一体磁極１３の幅をＷ
２、下部シールド１１の幅をＷ３とおくと、Ｗ２＞Ｗ３
の関係では、下部シールド１１の端部と交差している一
体磁極１３上に、下部シールド１１の膜厚ｔ３（例えば
2〜4μm）だけ一体磁極１３に段差が生じるため、コイ
ル２１にも段差が生じてしまう。段差部ではコイルや導
体層を形成するためのフォトレジストパターンが正確に
形成することが困難である。これは、この段差部分にめ
っき等によりコイルや導体層を形成するとコイル断面積
が変化しやすいため、電気抵抗のばらつきが大きく、最
悪の場合断線を生じることもある。また基板内にコイル
の良品と不良品が混在しているため、磁気ヘッドに加工
する場合不良品も良品と一緒に加工され、加工能率が低
い問題がある。この段差解消の方法として、例えば特開
平3-286412のように、磁気誘導型ヘッドの下部磁極上に
絶縁層を成膜しフォトレジストを塗布する。成膜した絶
縁層とその上に塗布したフォトレジストのエッチングレ
ートが等しくなるようにイオンミリング装置の操作条件
を設定し、絶縁層の表面を平坦化することにより、絶縁
層上に形成されるコイルに段差を生じないようにしてい
る。しかし、磁気ヘッドの製造工程にこの絶縁層の平坦
化工程が加わるため、薄膜磁気ヘッドの合格率を落とす
要因となる。また絶縁層とフォトレジストのエッチング
レートが常に等しくなるようにロット毎のデ−タをイオ
ンミリング装置にフィードバックする必要があり、時間
が掛かるという問題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、記録再生分離型薄膜磁気ヘッドにおいて磁
気誘導型ヘッドのコイルを一体磁極の平坦部上に形成さ
れていることを特徴とするものである。
に本発明は、記録再生分離型薄膜磁気ヘッドにおいて磁
気誘導型ヘッドのコイルを一体磁極の平坦部上に形成さ
れていることを特徴とするものである。
【０００５】
【作用】磁気誘導型ヘッドのコイルを一体磁極の平坦部
上に形成することにより、薄膜磁気ヘッドの製造工程を
増やすことなくコイルの段差を解消して電気抵抗の変化
やコイルの断線のない良好な電気特性を持つコイルが高
い合格率で得られる。
上に形成することにより、薄膜磁気ヘッドの製造工程を
増やすことなくコイルの段差を解消して電気抵抗の変化
やコイルの断線のない良好な電気特性を持つコイルが高
い合格率で得られる。
【０００６】
【実施例】本発明を添付図面を参照して以下に詳細を説
明する。図１は本発明による一実施例を示す磁気ヘッド
断面の媒体側から見た模式図である。一体磁極１３、下
部シールド１１及び上部磁極１４はパーマロイを蒸着ま
たはスパッタ、めっき等の方法で形成させたものであ
る。ここでパーマロイの替わりに、他のＣｏ系或いはＦ
ｅ系合金の軟磁性膜であってもかまわない。まず非磁性
基板１上に絶縁層２を形成する。絶縁層２上にフォトリ
ソグラフィー技術を用いて蒸着、スパッタ、めっき等で
下部シールド１１、ＭＲ素子１２、一体磁極１３、絶縁
保護層３、および磁気抵抗効果型ヘッド３１を形成す
る。一体磁極１３上に非磁性ギャップ層４、コイル２
１、上部磁極１４、層間絶縁膜５及び６等を形成して磁
気誘導型ヘッド３２が形成される。コイル２１が一体磁
極１３の平坦部上に形成されるように、一体磁極１３は
所要の形状に形成されるため、コイル２１には段差が生
じない。磁気誘導型ヘッド３２は記録専用に使われるた
め、コイルのインダクタンスが増加しても特に問題とは
ならない。図３は本発明による記録再生分離型薄膜磁気
ヘッドの一実施例を平面的に模式したもので、特に一体
磁極１３、コイル２１、コイル２１と外部電気回路とを
接続する端子２２、コイル２１と端子２２を電気的に接
続するリード部２３の位置関係を模式的に示した図であ
る。コイル２１は一体磁極１３の平坦部上に形成されて
いるためコイル２１には段差がなく、均一な電気特性が
得られ易い。しかし、リード部２３は一体磁極１３の端
部に生じる段差上に形成されているが、線幅Ｗ５は30μ
m以上と広いため、段差の影響は無視できる。図５は本
発明によるもう一つの実施例を示す磁気ヘッド断面の媒
体側から見た模式図である。一体磁極１３、下部シール
ド１１及び上部磁極１４はパーマロイを蒸着またはスパ
ッタ、めっき等の方法で形成させたものである。ここで
パーマロイの替わりに、他のＣｏ系或いはＦｅ系合金の
軟磁性膜であってもかまわない。まず非磁性基板１上に
絶縁層２を形成する。絶縁層２上にフォトリソグラフィ
ー技術を用いて蒸着、スパッタ、めっき等で下部シール
ド１１、ＭＲ素子１２、一体磁極１３、絶縁保護層３、
および磁気抵抗効果型ヘッド３１を形成する。一体磁極
１３上に非磁性ギャップ層４、コイル２１、上部磁極１
４、層間絶縁膜５及び６等を形成して磁気誘導型ヘッド
３２が形成される。下部シールド１１の幅Ｗ３と一体磁
極１３の幅Ｗ２の間には、Ｗ２≦Ｗ３なる関係があるた
め、下部シールド１１、絶縁保護層３、ＭＲ素子１２、
及び一体磁極１３を形成しても、一体磁極１３は段差無
く形成できる。さらに一体磁極１３上に形成されるコイ
ル２１は、一体磁極１３が所要の形状に形成されるた
め、コイル２１には段差が生じない。ＭＲ素子１２の膜
厚は400A以下と薄いため、一体磁極１３には段差を生じ
ない。
明する。図１は本発明による一実施例を示す磁気ヘッド
断面の媒体側から見た模式図である。一体磁極１３、下
部シールド１１及び上部磁極１４はパーマロイを蒸着ま
たはスパッタ、めっき等の方法で形成させたものであ
る。ここでパーマロイの替わりに、他のＣｏ系或いはＦ
ｅ系合金の軟磁性膜であってもかまわない。まず非磁性
基板１上に絶縁層２を形成する。絶縁層２上にフォトリ
ソグラフィー技術を用いて蒸着、スパッタ、めっき等で
下部シールド１１、ＭＲ素子１２、一体磁極１３、絶縁
保護層３、および磁気抵抗効果型ヘッド３１を形成す
る。一体磁極１３上に非磁性ギャップ層４、コイル２
１、上部磁極１４、層間絶縁膜５及び６等を形成して磁
気誘導型ヘッド３２が形成される。コイル２１が一体磁
極１３の平坦部上に形成されるように、一体磁極１３は
所要の形状に形成されるため、コイル２１には段差が生
じない。磁気誘導型ヘッド３２は記録専用に使われるた
め、コイルのインダクタンスが増加しても特に問題とは
ならない。図３は本発明による記録再生分離型薄膜磁気
ヘッドの一実施例を平面的に模式したもので、特に一体
磁極１３、コイル２１、コイル２１と外部電気回路とを
接続する端子２２、コイル２１と端子２２を電気的に接
続するリード部２３の位置関係を模式的に示した図であ
る。コイル２１は一体磁極１３の平坦部上に形成されて
いるためコイル２１には段差がなく、均一な電気特性が
得られ易い。しかし、リード部２３は一体磁極１３の端
部に生じる段差上に形成されているが、線幅Ｗ５は30μ
m以上と広いため、段差の影響は無視できる。図５は本
発明によるもう一つの実施例を示す磁気ヘッド断面の媒
体側から見た模式図である。一体磁極１３、下部シール
ド１１及び上部磁極１４はパーマロイを蒸着またはスパ
ッタ、めっき等の方法で形成させたものである。ここで
パーマロイの替わりに、他のＣｏ系或いはＦｅ系合金の
軟磁性膜であってもかまわない。まず非磁性基板１上に
絶縁層２を形成する。絶縁層２上にフォトリソグラフィ
ー技術を用いて蒸着、スパッタ、めっき等で下部シール
ド１１、ＭＲ素子１２、一体磁極１３、絶縁保護層３、
および磁気抵抗効果型ヘッド３１を形成する。一体磁極
１３上に非磁性ギャップ層４、コイル２１、上部磁極１
４、層間絶縁膜５及び６等を形成して磁気誘導型ヘッド
３２が形成される。下部シールド１１の幅Ｗ３と一体磁
極１３の幅Ｗ２の間には、Ｗ２≦Ｗ３なる関係があるた
め、下部シールド１１、絶縁保護層３、ＭＲ素子１２、
及び一体磁極１３を形成しても、一体磁極１３は段差無
く形成できる。さらに一体磁極１３上に形成されるコイ
ル２１は、一体磁極１３が所要の形状に形成されるた
め、コイル２１には段差が生じない。ＭＲ素子１２の膜
厚は400A以下と薄いため、一体磁極１３には段差を生じ
ない。
【０００７】
【発明の効果】本発明に依れば、コイルに段差が生じな
いので電気抵抗の変化や断線のない均一な電気特性を得
る事ができるため、高い合格率で薄膜磁気ヘッド用コイ
ルを製造することができ、磁気ヘッドの加工効率も向上
できる。
いので電気抵抗の変化や断線のない均一な電気特性を得
る事ができるため、高い合格率で薄膜磁気ヘッド用コイ
ルを製造することができ、磁気ヘッドの加工効率も向上
できる。
【図１】本発明による録再分離型薄膜磁気ヘッドの一実
施例を媒体側から模式的に示した図。
施例を媒体側から模式的に示した図。
【図２】従来の録再分離型薄膜磁気ヘッドの一実施例を
媒体側から模式的に示した図
媒体側から模式的に示した図
【図３】本発明による録再分離型薄膜磁気ヘッドの一実
施例を平面的に模式した図
施例を平面的に模式した図
【図４】従来の録再分離型薄膜磁気ヘッドの一実施例を
平面的に模式した図
平面的に模式した図
【図５】本発明による録再分離型薄膜磁気ヘッドの他の
実施例を媒体側から模式的に示した図
実施例を媒体側から模式的に示した図
【図６】従来の録再分離型薄膜磁気ヘッドの他の実施例
を媒体側から模式的に示した図
を媒体側から模式的に示した図
１ 基板、２ 絶縁層、３ 絶縁保護層、４ 非磁性ギ
ャップ層、５、 層間絶縁膜、６ 層間絶縁膜、１１
下部シールド層、１２ 磁気抵抗効果素子（ＭＲ素
子）、１３ 一体磁極、１４ 上部磁極、２１ コイ
ル、２２ 端子、２３リード部、３１ 磁気抵抗効果型
ヘッド、３２ 磁気誘導型ヘッド。
ャップ層、５、 層間絶縁膜、６ 層間絶縁膜、１１
下部シールド層、１２ 磁気抵抗効果素子（ＭＲ素
子）、１３ 一体磁極、１４ 上部磁極、２１ コイ
ル、２２ 端子、２３リード部、３１ 磁気抵抗効果型
ヘッド、３２ 磁気誘導型ヘッド。
Claims (2)
- 【請求項１】 非磁性基板上に磁気抵抗効果型ヘッドと
磁気誘導型ヘッドが積層され、前記磁気抵抗効果型ヘッ
ドの上部シールドが前記磁気誘導型ヘッドの下部磁極を
兼ねた一体磁極構造を持つ記録再生分離型薄膜磁気ヘッ
ドにおいて、前記磁気誘導型ヘッドのコイルが前記一体
磁極上に形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドの磁極形状。 - 【請求項２】 非磁性基板上に磁気抵抗効果型ヘッドと
磁気誘導型ヘッドが積層され、前記磁気抵抗効果型ヘッ
ドの上部シールドが前記磁気誘導型ヘッドの下部磁極を
兼ねた一体磁極構造を持つ、請求項１に記載の記録再生
分離型薄膜磁気ヘッドにおいて、前記一体磁極の幅をＷ
２（μm）、前記磁気抵抗効果型ヘッドの下部シールド
の幅をＷ３（μm）とおくと、Ｗ２≦Ｗ３であることを
特徴とする薄膜磁気ヘッドの磁極形状。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10039394A JPH07311917A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10039394A JPH07311917A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07311917A true JPH07311917A (ja) | 1995-11-28 |
Family
ID=14272752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10039394A Pending JPH07311917A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07311917A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5896254A (en) * | 1996-09-10 | 1999-04-20 | Alps Electric Co., Ltd. | Combined read/write thin film magnetic head having a flat upper layer under a coil layer |
| US7392577B2 (en) * | 2003-09-12 | 2008-07-01 | Tdk Corporation | Method for manufacturing a perpendicular magnetic head |
| US7657992B2 (en) * | 2004-05-19 | 2010-02-09 | Headway Technologies, Inc. | Method for making a perpendicular magnetic recording write head with a self aligned stitched write shield |
-
1994
- 1994-05-16 JP JP10039394A patent/JPH07311917A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5896254A (en) * | 1996-09-10 | 1999-04-20 | Alps Electric Co., Ltd. | Combined read/write thin film magnetic head having a flat upper layer under a coil layer |
| US7392577B2 (en) * | 2003-09-12 | 2008-07-01 | Tdk Corporation | Method for manufacturing a perpendicular magnetic head |
| US7657992B2 (en) * | 2004-05-19 | 2010-02-09 | Headway Technologies, Inc. | Method for making a perpendicular magnetic recording write head with a self aligned stitched write shield |
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