JP2003511742A - Ｕｖ吸収性支持層及びそれを含むフレキソ印刷要素 - Google Patents

Ｕｖ吸収性支持層及びそれを含むフレキソ印刷要素

Info

Publication number
JP2003511742A
JP2003511742A JP2001530647A JP2001530647A JP2003511742A JP 2003511742 A JP2003511742 A JP 2003511742A JP 2001530647 A JP2001530647 A JP 2001530647A JP 2001530647 A JP2001530647 A JP 2001530647A JP 2003511742 A JP2003511742 A JP 2003511742A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photocurable
layer
printing element
solid
support layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001530647A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3856697B2 (ja
Inventor
サム カンガ，ラストム
Original Assignee
マクダーミッド グラフィック アーツ インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=23647301&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2003511742(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by マクダーミッド グラフィック アーツ インコーポレーテッド filed Critical マクダーミッド グラフィック アーツ インコーポレーテッド
Publication of JP2003511742A publication Critical patent/JP2003511742A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3856697B2 publication Critical patent/JP3856697B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フロント露出時間とバック露出時間が共に経済効率を満たしている直接像フレキソ印刷要素の製造法を提供する。 【解決手段】 酸素捕捉剤を含有する固体光硬化性物質、化学照射線吸収性化合物を均一に分散した支持層及び光削摩性マスク層からなる少なくとも１の固体光硬化性要素を用意する。化学照射線吸収性化合物を含有する支持層を通してバック露出して固体光硬化性物質中にフロアをつくり、光削摩性マスク層を光削摩してネガ像を直接固体光硬化性物質上に移し、次いでフロント露出して固体光硬化性物質を硬化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光減少化層をもつフレキソ印刷要素、直接像のフレキソ印刷要素上へ
のレリーフ像の形成、及びより具体的には、直接像フレキソ印刷要素の製造にお
いて均一フロアを達成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術とその課題】
レリーフ像印刷板は、紙、波板、フィルム、箔及び積層体を含む種々の基材上
に印刷を行うフレキソ印刷法及び活版印刷法の両方で使われている。レリーフ要
素は典型的には支持層と光硬化性ポリマーの１以上の層を固体シートの形で含む
。典型的にはプリンターがこの要素からカバーシートをはがして光硬化性ポリマ
ーを露出し、この光ポリマー上にハロゲン化銀写真ネガ又は他のマスク装置を配
する。プリンターがネガを通してこのネガ担持要素を紫外（ＵＶ）線に露出して
この要素の露出部分を硬化又は架橋させる。この要素の非硬化部分を除き、硬化
したポリマーをレリーフ印刷表面として残す。
【０００３】 これらの方法で用いうるネガはコストが問題であり、その製造に要する時間は
、特にネガを自ら製造できない印刷業者にとってはかなりのものとなる。また印
刷に用いるネガはほぼ完全なものであることを要する。小さな欠点でも各印刷物
に現れてしまう。そこでネガを正確につくることを確実にする努力が払われてい
る。またネガは一般に高価で廃棄時に環境汚染源となりうるハロゲン化銀化合物
を用いてつくられている。
【０００４】 フレキソ印刷分野では、この種ネガを用いない方法が開発され、コスト効率、
環境問題、便利さ及び像品質等で従来法より有利となっている。多くのこれらの
方法はダイレクト・ツー・プレート（ＤＴＰ）法と称されている。ＤＴＰ法の一
つは米国特許第５，８４６，６９１号に開示されている。そこにはインクジェッ
トプリントヘッドからネガ形成性インクを直接印刷要素上に射出することによっ
て感光性印刷要素上にコンピュータによるネガを形成する技術が開示されている
。また米国特許第５，９２５，５００号にはスリップフィルムをＵＶ吸収剤で改
質し、このスリップフィルムを選択的に削摩するためにレーザーを用いることに
よるレーザー像印刷板が開示されている。この方法ではスリップフィルムは硬化
されるべき感光性ポリマーの部分だけが化学照射線に露出されてネガとなる。米
国特許第５，２６２，２７５号に開示されている別のＤＴＰ法はレーザー削摩性
で赤外線感応性の材料の層を印刷要素の表面上に配している。
【０００５】 ＤＴＰ技術は多くの点で従来型の印刷板製造技術とは顕著に異なる。たとえば
、ＤＴＰ板は典型的には板上に直接光削摩性マスクを有する。またＤＴＰ技術で
は、面露出、即ちレリーフをもつ（か又は最終的にもつ）側の光重合性層の化学
照射線へのブランケット露出は空気中で（酸素の存在下に）行われるが、従来型
の印刷板での露出は典型的には真空中で行われる。
【０００６】 面露出を酸素の存在下に行うため、マスク層が除かれている部分で光硬化性層
が酸素に過度に露出する恐れがある。酸素は遊離基捕捉剤として知られているの
で酸素の存在下では多くの物質の光重合の挙動は酸素非存在下とは異なるという
問題がある。つまり酸素は光硬化性物質の重合を阻害する作用をもち、より長い
露出時間を必要とする。また酸素はＵＶスクリーン剤としての作用ももっており
化学照射線を弱める結果をもたらす。一般的にはこの現象を「酸素阻害」と称し
ている。
【０００７】 酸素阻害はいわゆる「キャップした」光硬化性印刷要素を用いるときに典型的
に大きくなる。キャップした光硬化性要素は光硬化性物質の本体上に配された薄
い光硬化性キャップをもつ。典型的には、これらの要素を用いてつくられるレリ
ーフ像はこのキャップ層からの光硬化性物質を包含する。キャップされた印刷要
素はＤＴＰ法においてキャップされていない要素に比しいくつかの顕著な利点を
もつ。たとえば、キャップは典型的にはインク受容層として作用しうる粗面をも
っており、印刷基材上により高いインク密度をもたらす。またキャップした板は
、より長い露出時間を要するため、使用者がドット形状をかえることも可能であ
り、より小さいがよりしっかりしたドットをつくりうる。キャップ層はまた登録
された像の検知の助けとなる像コントラスト（たとえば緑）染料を含有しうる。
しかし、キャップ自体は、染料（及び他の化合物）が存在するので、化学照射線
吸収性層として機能する。従って、微細ではっきりしたドット（即ち１５０線に
１％ドット）を保持するために比較的長いフロント露出時間が必要とされる範囲
でキャップされた光硬化性印刷要素を像化するときに酸素阻害の現象が増幅され
る。
【０００８】 印刷要素をＤＴＰ法で処理するときのフロント露出時間を従来型の印刷要素に
匹敵しうる時間に短縮するために、典型的には、光速度（即ち光重合速度）を酸
素阻害の影響に逆らうよう増加させる。その一つの方法は、たとえばトリフェニ
ルホスフィン及びトリフェニルホスファイド等の酸素捕捉剤をポリマー組成物中
に加えることである。しかし、ポリマー組成物への酸素阻害剤の添加はフロント
露出時間を短縮するだけでなく、バック露出時間も短縮する。
【０００９】 ここで「バック露出」とは、レリーフをもつ（又は最終的にもつ）側と反対側
上の光重合性層の化学照射線照射へのブランケット露出をいう。これは典型的に
は透明支持層を通して行われる。この露出は典型的には、重合した物質の浅い層
（「フロア」と称する）を光重合性層の支持体側上につくるために用いられる。
フロアをつくる目的は一般に光重合性層を感応化することとレリーフの深さを確
保することである。典型的には、バック露出時間は１５〜３０秒より長いことが
望ましい。しかし、ＤＴＰ法では、前記したように光速度が増すとしばしばバッ
ク露出時間が３０秒以下となる。このような短いバック露出時間は、後記するよ
うに、フロアの厚さの変化が観察されることから望ましいことではない。また均
一でないフロアは典型的には板を横切るレリーフが変化するため不均質な印刷を
もたらしうる。
【００１０】 バック露出時間はＤＴＰ法では、光重合性層と支持層（又は裏打ち層）の間に
ＵＶ吸収性化合物の薄い（即ち１〜２ミクロン）被覆を設けることによって増大
させうる。しかし、この方法はＵＶ吸収性被覆を均一に塗布することがむづかし
いという問題がある。もちろんこれはフロアの厚さ変化ももたらす。またこの被
覆はレーザーに反応して接着上の問題も生じうる。 従って、当該分野では、直接像化した、キャップされた及びキャップされない
フレキソ印刷板の改良製造法が求められている。
【００１１】 本発明は、フロント露出時間とバック露出時間の両方が製造業者にとって経済
的に有利である直接像化フレキソ印刷要素の製造法を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は支持層上に配した酸素捕捉剤を含有する固体光硬化性物質の層をもつ
固体光硬化性要素を提供する。支持層は露出中に少なくとも幾分かの化学照射線
を吸収するように全体に均一に一体的に分散させた化学照射線吸収性化合物をも
つ。この固体光硬化性要素はまた固体光硬化性層の上に配した光削摩性マスク層
も有する。このマスクは化学照射線に対して実質的に不透明であり且つレーザー
によって光削摩されうるものである。
【００１３】 本発明の方法はコンピュータからの表示（グラフィック）データを、コンピュ
ータと連結しているレーザーを用いて光削摩性マスク層の選択された部分を光削
摩して削摩した部分と削摩しない部分で像を形成することによって、上記した固
体光硬化性要素に移すことからなる。削摩された部分が最終的にレリーフとなる
固体光硬化性層を露出する。「フロア」はまた支持層を通して光硬化性層を露出
することによってつくられる。光削摩性マスク層の削摩された部分を通して露出
される固体光硬化性物質は次いで固体光硬化性物質を硬化するのに有効な化学照
射線に露出し、未硬化の削摩していない部分の下に固体光硬化性要素を残す。次
いで未硬化の固体光硬化性物質と該光削摩性マスク層の削摩されていない部分を
除く。
【００１４】 本発明の別の態様において、固体光硬化性印刷要素はさらに固体光重合性キャ
ップ層をもつ。この態様では、光削摩性マスク層が直接キャップ層上に配されて
上記の方法が行われる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明において、「光硬化性物質」とは、化学照射線に応答して重合、架橋又
は他の何らかの硬化反応を受ける固体物質をいい、この物質の非露出部分が露出
（硬化）部分から選択的に分離及び除去されて硬化物質の３次元的な又はレリー
フパターンを形成する。
【００１６】 非露出部分の分離及び除去は空気ジェット（「エアナイフ」）、ブラッシング
、適当な現像溶媒又は洗剤溶液への選択的溶解又は分散、スキージ、それらの組
合せ、又は他の適当な現像手段を用いて行いうる。
【００１７】 図１及び２は本発明の印刷要素の例を示す断面図であり、同じ部材は同じ番号
で示してある。ＤＴＰ法で用いる好ましい光硬化性要素１０は、支持層１２、少
なくとも１の光硬化性層１４、任意の第２の光硬化性層１６及び光削摩性マスク
層１８からなる。好ましい光硬化性要素はまた「キャップ」層１７（図２）をも
ちうる。図１及び２に示す光硬化性要素１０はまた光硬化性層１４と支持層１２
（図示せず）の間に接着剤層をもちうる。本発明の光硬化性要素は好ましくは少
なくとも約０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）の厚さをもつ実質上平坦な固体要
素である。
【００１８】 典型的には、ＤＴＰ法において、カバーシート（図示せず）が除去されて、光
削摩性マスク層を露出する。次いでコンピュータがコンピュータと連結している
レーザーを介して光削摩性マスク層にデジタル情報を送り、硬化すべき光削摩性
マスク層の部分即ち最終的にレリーフ層となる部分を削摩（即ち除去）する。次
いでこの板をバック露出してフロアをつくり、そのままのマスクを介してフェー
ス露出し、次いで溶媒プロセッサで処理する。削摩されなかったマスクの部分は
光ポリマーが硬化するのを防ぎそして後の処理工程で除去される。
【００１９】 光硬化性要素の光硬化性層１４，１６には適宜公知の光ポリマー、モノマー、
開始剤、反応性希釈剤、フィラー及び染料を含有しうる。好ましい光硬化性物質
はエラストマー状化合物、少なくとも１の末端エチレン基をもつエチレン性不飽
和化合物及び光開始剤を含む。光硬化性物質の例はヨーロッパ特許出願０４５６
３３６Ａ２（Ｇｏｓｓ等）及び０６４０８７８Ａ１（Ｇｏｓｓ等）、英国特許１
，３６６，７６９、米国特許５，２２３，３７５（Ｂｅｒｒｉｅｒ等）、３，８
６７，１５３（ＭａｃＬａｈａｎ）、４，２６４，７０５（Ａｌｌｅｎ）、４，
３２３，６３６（Ｃｈｅｎ等）、４，３２３，６３７（Ｃｈｅｎ等）、４，３６
９，２４６（Ｃｈｅｎ等）、４，４２３，１３５（Ｃｈｅｎ等）、３，２６５，
７６５（Ｈｏｌｄｅｎ等）、４，３２０，１８８（Ｈｅｉｎｚ等）、４，４２７
，７５９（Ｇｒｕｅｔｚｍａｃｈｅｒ等）、４，６２２，０８８（Ｍｉｎ）及び
５，１３５，８２７（Ｂｏｈｍ等）に記載されている。
【００２０】 「キャップ」層１６は一般に光硬化性層に存在する光硬化性物質と同じか又は
それに類似する光硬化性物質からなる。キャップ層用として好ましい組成物は米
国特許４，４２７，７５９及び４，４６０，６７５（Ｇｒｕｅｔｚｍａｃｈｅｒ
等）に記載されている多層カバー要素のエラストマー状組成物として開示されて
いるものである。キャップ層に存在する更なる成分としては被覆用溶媒、光硬化
性層に存在する着色剤又は染料とコントラストのある色を与える非移行性染料又
は顔料（任意だが好ましい）がある。所望により、キャップ層１６はまた１以上
のエチレン性不飽和モノマー及び／又は光開始剤又は光開始剤系も含有しうる。
コントラスト染料の例としてはアシドブルー９２や米国特許３，２１８，１６７
等に開示されている染料がある。一般に、キャップの厚さは約０．００００１〜
約０．００３インチ（約０．０００２５４〜約０．０７６２ｍｍ）である。好ま
しくは、キャップの厚さは約０．００００１５〜約０．００２５インチ（約０．
０００３８１〜約０．０６３５ｍｍ）の範囲にある。前記したキャップした光ポ
リマー要素の例としてＦＬＥＸＬＩＧＨＴ ＥＰＩＣ（商標）（ジョージア州ア
トランタのポリフィブロン・テクノロジーズ・インコーポレーテッド製）がある
。
【００２１】 本発明で用いる光硬化性物質は架橋（硬化）して少なくともある化学照射線領
域で硬くなるものであるべきである。ここで化学照射線とは照射部分に化学変化
を起こしうる照射線をいう。化学照射線の例としては特にＵＶ及び赤外線波長領
域で増幅した光（たとえばレーザー）、及び増幅していない光がある。好ましい
化学線波長域は約２５０〜約４５０ｎｍ、より好ましくは約３００〜約４００ｎ
ｍ、さらに好ましくは約３２０〜約３８０ｎｍである。
【００２２】 前記したように、ＤＴＰ法では酸素の存在のため光硬化性要素上に明瞭で微細
な像を移行させるにはより長いフロント露出時間を一般に要する。それ故、たと
えば酸素捕捉剤を光硬化性物質に加えて酸素の影響をなくして露出時間を減少（
即ち光ポリマーの光速度を増加）させることが好ましい。
【００２３】 好ましい酸素捕捉剤はホスフィン化合物である。好ましいホスフィン化合物と
してはトリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリ−ｐ−トリル
ホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、ジフ
ェニルプロピルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホ
スフィン、ジプロピルフェニルホスフィン、ジビニルフェニルホスフィン、ジビ
ニル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−ブロモフェニルホスフ
ィン、ジビニル−ｐ−トリルホスフィン、ジアリルフェニルホスフィン、ジアリ
ル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジアリル−ｐ−ブロモフェニルホスフィ
ン及びジアリル−ｐ−トリルホスフィンが挙げられる。トリフェニルホスフィン
が特に好ましい。
【００２４】 好ましくは、ホスフィン化合物は、固体光硬化性物質当り、約０．０１〜約２
．０重量％、より好ましくは約０．０５〜約１．０重量％、最も好ましくは約０
．０７５〜約０．７５重量％の濃度で固体光硬化性物質中に存在させる。
【００２５】 露出時間を減少する更なる方法は化学照射線の強度を増加することである。し
かし、高強度のランプは板のゆがみや像の劣化を生ずるような過度の熱を発生し
やすい。
【００２６】 フロント露出時間を減少する上記の方法を用いることにより、特定の厚さのフ
ロアをつくるに要するバック露出時間も減少する。たとえば、従来型のフレキソ
印刷要素製造法（即ち真空中で酸素なし）では、０．０６７インチ（１．７０ｍ
ｍ）の要素は約０．０２９インチ（０．７４ｍｍ）の厚さのフロアをもつ。この
厚さのフロアをつくるに要するバック露出時間は典型的には約１５〜６０秒であ
る。一般的なＤＴＰ法（即ち酸素の存在下に削摩しまた光硬化性要素は酸素捕捉
剤をもつ）で処理した同じ要素では、同じ厚さのフロアをつくるに要するバック
露出時間は典型的には約１〜５秒である。
【００２７】 約１５〜２０秒以下のバック露出時間で均一なフロアをつくることはしばしば
極めて困難である。その理由は主に典型的に用いられる蛍光ランプが光の列（バ
ンク）を横切る強度が大きく異なりまたフィラメントの変動により光の列中のあ
る与えられた光を横切る強度もしばしば大きく異なることにある。この化学照射
線の不均一性はバック露出中のフロア形成の不均一性に直接に結びつく。バック
露出が、一般的なＤＴＰ法で処理した板にみれらるように、短すぎると、この問
題は一層深刻である。この時間が長いほどこの問題は少ない。不均一なフロアの
形成は、印刷機が典型的にはあるレリーフに対して調節されるので、不均一な印
刷をもたらす。より薄いレリーフをもつ部分は太い印刷をもたらす。より深いレ
リーフをもつ部分は低品質でゆがんだ印刷をもたらす。前記したように、支持層
又は裏打ち層を改質してＤＴＰ法におけるフロアの形成をよりよく制御しうる。
【００２８】 光硬化性要素の支持層１２は好ましくは、可撓性のある透明な種々の物質から
つくられる。これらの物質の例としてはセルロースフィルム又はプラスチック、
たとえばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタ
レート）、ポリエーテル、ポリエチレン、ポリアミド（Ｋｅｖｌａｒ）又はナイ
ロンがある。支持層の厚さは通常約０．００１〜約０．０１０インチ（０．０２
５４〜０．２５４ｍｍ）、好ましくは約０．００５インチ（０．１２７ｍｍ）で
ある。支持層がＰＥＴ等のポリエステルフィルムである場合、その厚さはより好
ましくは約０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）及びそれより厚い板用で典型的に
は約０．００５インチ（０．１２７ｍｍ）である。
【００２９】 本発明では、支持層１２がＵＶ吸収性であり、これはＤＴＰ法における酸素阻
害の影響に逆らうために用いられる酸素捕捉剤又は他の手段を用いることに伴う
増大した光速度に逆らう。後記するようにこれは本質的にＵＶ吸収性である、即
ち化学照射線自身を弱める物質で支持層１２をつくるか又は支持層１２をつくる
物質にドーパントを加えることによって行うことができる。
【００３０】 本発明の一態様では、支持層１２を本質的にＵＶ吸収性の物質からつくる。支
持層の形成に好ましいとして前記した物質のなかでは、ＰＥＮ（たとえばバージ
ニア州ホープウエルのデュポンＰＥＴから市販されているＫａｌａｄｅｘ １０
３０及びＫａｌａｄｅｘ ２０００）だけが本質的にＵＶ吸収性である。本発明
者等は、本質的にＵＶ吸収性の支持層を用いる場合には、吸収される化学照射線
の割合は支持層の厚さの関数であることを見出した。本発明者等は、たとえば厚
さ約５ミル（１２７ミクロン）のＰＥＮ支持層は約９７％の化学照射線を吸収し
、厚さ約３ミル（７６．２ミクロン）のＰＥＮ支持層は約９５％の化学照射線を
吸収することを見出した。
【００３１】 本発明の別の態様では、支持層１２はＤＴＰ法における酸素阻害に逆らうため
の酸素捕捉剤又は他の手段の使用からもたらされる増大した光速度に逆らうため
にＵＶ吸収性物質を含有する。これは製造中に支持層にＵＶ吸収性ドーパントを
加えることによって行いうる。
【００３２】 本質的にＵＶ吸収性でない透明物質は本発明の支持層１２にする際にＵＶ吸収
剤を加える必要がある。このＵＶ吸収性ドーパントは支持層１２の全体に亘って
均一に分配されるべきである。これは、たとえばＵＶ吸収性物質が支持層に可溶
であるか又は支持層１２の製造工程中に全体に均一に分散される場合に行うこと
ができる。ここで「可溶」とは１の化合物が溶ける能力をいい、「分散」とは１
の物質が別の物質中に全体に均一に分配されることをいう。工業的には、支持層
１２全体へのドーパントの均一分配は、典型的には、たとえばＰＥＴを横方向と
機械方向の両方に延伸する過程でＵＶ吸収剤がＰＥＴ全体に均一に分配されると
いうようにその製造工程中で行うことができる。
【００３３】 発明者が知っている市販のＵＶ吸収性ＰＥＴ製造としてはＭｅｌｉｎｅｘ ９
４３（バージニア州ホープウエルのデュポンＰＥＴ）、Ｓｋｙｒｏｌポリエステ
ルタイプＴＵ８４Ｂ（韓国スウオンのＳＫＣリミテッド）、Ｔｅｉｊｉｎ Ｔｅ
ｏｎｅｘタイプＱ５１（帝人（株））及びＥａｓｔｍａｎ ＰＥＴ ９９２１Ｇ
００７１（テネシー州キングスポートのイーストマン・ケミカルズ）がある。
【００３４】 多くの用途で用いられる投光露出ランプのスペクトル範囲は約３００〜４００
ｎｍである。それ故ＵＶ吸収性ドーパントは典型的にはこの範囲で活性であるべ
きである。 好ましくは、ＵＶ吸収剤を存在させることにより、常態ではＵＶ透明性支持層
を、通過するＵＶ照射線の少なくとも１部を吸収する減衰機械にかえる。好まし
くは、支持層は約８０〜約９９％、より好ましくは約８５〜約９５％、最も好ま
しくは約８８％の化学照射線を吸収する。
【００３５】 フレキソ印刷板の硬化に用いる投光露出ランプの強度は典型的には約５〜２５
ミリワット／ｃｍ2 の範囲だが、５０ミリワット／ｃｍ2 といった高い強度でも
用いうる。それ故支持層はＵＶ投光ランプからこれらの強度の照射光を吸収可能
なものであるべきである。
【００３６】 光削摩性マスク層１８としては公知の適宜の光削摩性マスク層を用いうる。こ
れらのマスク層には、たとえば典型的には約３００〜４００ｎｍの波長で操作さ
れるＵＶ型のエキシマーレーザー、たとえば典型的には約１０，６４０ｎｍで操
作されるＣＯ2 レーザー等のＩＲ型レーザー、典型的には約１０６４ｎｍの波長
で操作されるＮｄ−ＹＡＧレーザー、及び典型的には約８３０ｎｍの波長で操作
されるダイオードアレイレーザー等の当該分野で公知の適宜のタイプのレーザー
で削摩されうるものが含まれる。このような光削摩性マスク層の例はたとえば米
国特許５，９２５，５００（Ｙａｎｇ等）に開示されている。そこにはＵＶ吸収
剤で改質したスリップフィルムがマスク層として開示されており、レーザーを用
いてこの改質スリップフィルムを選択的に削摩しうる。米国特許５，２６２，２
７５（Ｆａｎ）にも開示がある。
【００３７】 通常、本発明の方法は、フロント露出時間とバック露出時間の両方を印刷板の
製造業者にとって経済的に有利になるように、光機械又は光マスクを用いること
なしに、光硬化性要素１０の表面に像を移すことを包含する。これは典型的には
少なくとも１の固体光硬化性要素１０を用意することによって行われる。この固
体光硬化性要素は少なくとも１の固体光硬化性物質１４，１６、固体光重合性キ
ャップ層１７（用いる場合）、光削摩性マスク層１８、及び露出中に少なくとも
幾分かの化学照射線を吸収するように全体に均一に分配された化学照射線吸収性
化合物を含む支持層１２からなる。本発明では、光硬化性層１４，１６及びキャ
ップ層（用いる場合）は酸素阻害の結果として起こるより長い露出時間を短くす
るために酸素捕捉剤を含有する。
【００３８】 固体光硬化性印刷要素を用いるとき、光削摩性マスクが削摩した部分がＵＶ光
に露出したときに硬化しまた光削摩性マスクが削摩されなかった部分が未硬化の
まま残るように、レーザーを用いて光削摩性マスク層を選択的に削摩するか又は
除去する。フロアはＵＶ吸収剤入り支持層を通してバック露出することによって
固体光硬化性物質中につくられる。次いで未硬化板を固体光硬化性物質を硬化す
るに有効な一般的方法でＵＶ光にフロント露出する。光硬化性要素のこのいわゆ
る「フロント」露出を行うために多くの装置を用いうる。この例としてはＦＬＥ
ＸＬＩＧＨＴ（商標）名のＵＶモジュール（ポリフィブロン・テクノロジー・イ
ンコーポレーテッド）やアンダーソン・ブリーランド（オハイオ州ブリアン）製
の装置がある。
【００３９】 光ポリマーの露出部分のフロント露出に続いて、未硬化光ポリマー、即ちレー
ザー削摩されていない光削摩性層の部分の下の光ポリマー、を除去する。その手
段としては光硬化性要素を光硬化性物質が少なくともある程度可溶である有機溶
媒及び／又は水性溶媒で洗う方法がある。この溶媒洗浄工程は典型的には該要素
のブラッシング、ふきとり、又は他の温和な非破壊的研摩によって行われる。有
用な洗浄装置の例としてはポリフィブロン・テクノロジー及びアンダーソン・ア
ンド・ブリーランドから市販されている装置がある。
【００４０】 本発明の更なる目的及び特徴は非限定的な以下の実施例から一層明らかとなろ
う。
【００４１】
【実施例】
例１：キャップのないフレキソＤＴＰ板の製造 Ｆｌｅｘ−Ｌｉｇｈｔ Ａｔｌａｓ ０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板（
ジョージア州アトランタのポリフィブロン・テクノロジーズ・インコーポレーテ
ッド）を次のようにして改質した： イソプロパノールを用いてスリップフィルムを慎重に除いた。次いでこの板を
乾燥し、カーボンブラック（ＣＢ）系のマスクを積層した。このＣＢマスクは（
ａ）ＣＢ顔料、（ｂ）フィルム形成性のためのバインダー及び（ｃ）削摩に対す
る感応性を増大させるための自己酸化性のバインダーからなるものである。 積層後、カバーシートを除き廃棄した。この板をＭｉｓｏｍｅｘのＯｍｎｉＳ
ｅｔｔｅｒ ４０００又はＣｒｅｏのＴｈｅｒｍｏｆｌｅｘ ５２８０等の市販
のフレキソ板セッター上に配した。コンピュータからのデジタルファイルを削摩
機構を介してＣＢマスク上に移した。次いでこの板を１７秒間バック露出し、１
８分間フェース露出して、１３３ＬＰＩにて１％のドットを保持した。１８分間
のフェース露出時間はキャップしていないＤＴＰ板にとっては長すぎるものであ
った。
【００４２】 例２：より短いフェース露出時間でのキャップのないフレキソＤＴＰ板の製造 ＦＬＥＸ−ＬＩＧＨＴ ＡＴＬＡＳ（商標）０．０６７インチ（１．７０ｍｍ
）板に１％トリフェニルホスフィンを加えた。ＤＴＰ法用の板構成は例１と同じ
である。しかし、同じレベルの記録を保持するために次のバック露出時間とフェ
ース露出時間を用いなければならなかった。 バック露出時間：３〜５秒 フェース露出時間：５分 ０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）フレキソ板にとって、フェース露出時間は
許容しうるものだが、バック露出時間は短すぎるものであった。フロアはこの短
い露出時間では不均質であった。
【００４３】 例３：ポリエチレンナフタレート裏打ち機を用いるキャップのないフレキソＤＴ
Ｐ板の製造 例２のドープ処理したＦＬＥＸ−ＬＩＧＨＴ ＡＴＬＡＳ（商標）０．０６７
インチ（１．７０ｍｍ）板を次にＵＶ吸収性裏打ち層として本質的にＵＶ吸収性
の裏打ち物質であるポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を用いてつくった。Ｐ
ＥＮはデュポンＰＥＴ（バージニア州ホープウエル）から市販されている５ミル
（１２７ミクロン）のＫａｌａｄｅｘ １０３０である。他の板構成、レーザー
像化及び板処理条件は例２で用いた板と同じにした。この例ではＵＶ吸収性裏打
ち層が許容されるバック露出時間を可能とした。即ちバック露出時間は１２０秒
であった。フェース露出時間はなお５分であった。この板のフロアは極めて均質
であった。バック露出時間はキャップのないＤＴＰにとって許容されるものだが
、０．０６９インチ（１．７０ｍｍ）板に通常用いられる約１５〜３０秒のバッ
ク露出時間を達成することが望ましい。これは次の例に記載したようにして達成
される。
【００４４】 例４：キャップのないフレキソＤＴＰ板の最終的製造 例２のドープ処理したＦＬＥＸ−ＬＩＧＨＴ ＡＴＬＡＳ（商標）０．０６７
インチ（１．７０ｍｍ）板を次にデュポンＰＥＴ（バージニア州ホープウエル）
から市販されているＵＶ吸収性ＰＥＴを用いてつくった。このＵＶ吸収性ＰＥＴ
は５００ゲージのＭｅｌｉｎｅｘ ９４３である。他の板構成、レーザー像化及
び板処理条件は例２で用いた板と同じにした。この例ではＵＶ吸収性ＰＥＴが許
容されるバック露出時間を可能とした。即ちバック露出時間は２０〜２２秒であ
った。フェース露出時間はなお５分であった。この板のフロアは極めて均質であ
った。バック露出時間はキャップのないＤＴＰにとって許容されるものだった。
【００４５】 例５：キャップしたフレキソＤＴＰ板の製造 Ｆｌｅｘｌｉｇｈｔ ＥＰＩＣ ０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板（ジョ
ージア州アトランタのポリフィブロン・テクノロジー・インコーポレーテッド）
のスリップフィルムを慎重に除いて光ポリマーベース上にグリーンキャップをの
こした。次いでカバーシート上のカーボンブラック系マスクを乾燥した上記の板
上に積層してキャップがマスクと密に接触するようにした。カバーシートを除い
て廃棄した。この板をＭｉｓｏｍｅｘのＯｍｎｉ Ｓｅｔｔｅｒ ４０００又は
ＣｒｅｏのＴｈｅｒｍｏｆｌｅｘ ５２８０等の市販のフレキソ板セッター上に
配して、レーザーでの像化処理を行った。レーザーがマスクの選択部分を除いた
。コンピュータからのデジタルファイルを削摩機構を介してＣＢマスク上に移し
た。次いでこの板を２０秒間バック露出し、６０分間フェース露出して、１３３
ＬＰＩにて１％のドットを保持した。６０分間のフェース露出時間はキャップし
たＤＴＰ板にとっては長すぎるものであった。
【００４６】 例６：より短いフェース露出時間でのキャップしたフレキソＤＴＰ板の製造 例５のＦｌｅｘｌｉｇｈｔ ＥＰＩＣ ０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）板
（光ポリマー及びキャップ共）に０．１％トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ、公
知の酸素捕捉剤）を加えた。キャップと下層の光ポリマーの両方のＴＰＰを同じ
レベルに保つことが必要であった。 この「ドープした」光ポリマーを「ドープした」キャップ上に押出した。ＣＢ
マスクをグリーンキャップ上に積層した。像化工程と処理工程の他の条件は例５
と同じにした。しかし露出時間は下記するように大幅にかわった。 バック露出時間：３〜５秒 フェース露出時間：１５分 上記の露出時間は例５の板と同じレベルの記録及び同様のフロア厚を保持する
ために要した。フェース露出時間はキャップした板にとって許容されるものだが
、バック露出時間は不均一なフロア厚をもたらした。従ってバック露出時間は均
質のフロアを得るには短すぎた。
【００４７】 例７：キャップのあるフレキソＤＴＰフレキソ板の最終製造 例６に示したように、短すぎるバック露出時間以外はキャップしたＤＴＰフレ
キソ板はすべての要求を満足するものであった。バック露出時間を増加するため
にＭｅｌｉｎｅｘ ９４３（５００ゲージ）と称するデュポンＰＥＴから市販さ
れているＵＶ吸収性ＰＥＴを用いることが必要であった。その他のキャップした
板構成、即ち「ドープした」光ポリマー、「ドープした」キャップ及びＣＢマス
クは例６の板と同じにした。レーザーによる像化処理及びその後の処理工程（Ｂ
ＥＸ時間は除く）も同じにした。ＵＶ吸収性ＰＥＴは２０〜２５秒の許容できる
バック露出時間をもたらした。フェース露出時間は依然１５分であった。板のフ
ロアは極めて均質であった。従って露出時間及びすべてのプロセス条件がキャッ
プしたＤＴＰ板にとって許容されるものであった。
【００４８】 当業者は本発明の技術思想をかえることなく本発明の好ましい態様に種々の変
化を付加しうるものであり、本発明はその特許請求の範囲と技術思想内のすべて
の均等的変化を包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の印刷要素の断面図。
【図２】 本発明の印刷要素の別の態様の断面図。
【符号の説明】
１０ 光硬化性要素 １２ 支持層 １４ 光硬化性層 １６ 光硬化性層 １８ 光削摩性マスク層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/38 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/38 ５０１ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ， ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ， ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，Ｃ Ａ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ， ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ Ｅ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ， ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，Ｒ Ｕ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ， ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 2H025 AB02 AC01 AC08 AD01 BC31 BC51 CA00 CC20 DA11 DA19 FA01 FA03 FA04 FA15 2H096 AA02 BA05 BA20 CA20 EA02 EA16 FA10 GA02 GA08 JA02 KA02

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 化学照射線吸収性化合物を全体に均一に分散した支持層；第
    １及び第２の対向する主要面をもち、該第１の主要面が該支持層上に配されてい
    ると共に酸素捕捉剤を含有する固体光硬化性物質からなる層；及び該支持層上に
    配されていると共に化学照射線を実質的に通さず且つレーザーによって光削摩さ
    れうる光削摩性マスク層からなり、且つ少なくとも０．０６７インチ（１．７０
    ｍｍ）の厚さをもつ印刷要素。
  2. 【請求項２】 該支持層がポリエチレンテレフタレートからなる請求項１の
    印刷要素。
  3. 【請求項３】 該酸素捕捉剤がホスフィン化合物からなる請求項１の印刷要
    素。
  4. 【請求項４】 ホスフィン化合物がトリフェニルホスフィン、トリフェニル
    ホスファイト、トリ−ｐ−トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジ
    フェニルエチルホスフィン、ジフェニルプロピルホスフィン、ジメチルフェニル
    ホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェニルホスフィン、ジ
    ビニルフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジビ
    ニル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−トリルホスフィン、ジア
    リルフェニルホスフィン、ジアリル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジアリ
    ル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン及びジアリル−ｐ−トリルホスフィンからな
    る群から選ばれる請求項３の印刷要素。
  5. 【請求項５】 該ホスフィン化合物が該固体光硬化性物質の約０．０７５〜
    約０．７５重量％の濃度で存在する請求項４の印刷要素。
  6. 【請求項６】 該固体光硬化性物質が複数の層からなる請求項１の印刷要素
    。
  7. 【請求項７】 第１と第２の対向する主要面をもち且つ第１の主要面が該固
    体光硬化性物質の該第２の主要面上に配されている固体光硬化性キャップをもも
    つ請求項１の印刷要素。
  8. 【請求項８】 化学照射線吸収性化合物を全体に均一に分散した該支持層が
    約８５〜約９５％の化学照射線を吸収する請求項１の印刷要素。
  9. 【請求項９】 該固体光硬化性キャップが化学照射線吸収性染料をもつ請求
    項７の印刷要素。
  10. 【請求項１０】 少なくとも１の請求項１の固体光硬化性印刷要素を用意し
    ；該光硬化性マスク層をレーザーで光削摩して該固体光硬化性印刷要素に表示デ
    ータを移して削摩した部分と削摩しない部分で像をつくり該削摩した部分が該固
    体光硬化性層の該第２の対向する主要面を露出し；該光硬化性層の該第１の対向
    する面を該支持体を通して露出し；該固体光硬化性物質の該削摩した部分を該固
    体光硬化性物質を硬化するに有効な化学照射線にさらし；そして該要素から硬化
    していない光硬化性物質及び該削摩していない部分を除くことを特徴とする方法
    。
  11. 【請求項１１】 該支持層がポリエチレンテレフタレートからなる請求項１
    ０の方法。
  12. 【請求項１２】 化学照射線吸収性化合物を全体に均一に分散した該支持層
    が約８５〜約９５％の化学照射線を吸収する請求項１０の方法。
  13. 【請求項１３】 該酸素捕捉剤がホスフィン化合物からなる請求項１０の方
    法。
  14. 【請求項１４】 ホスフィン化合物がトリフェニルホスフィン、トリフェニ
    ルホスファイト、トリ−ｐ−トリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、
    ジフェニルエチルホスフィン、ジフェニルプロピルホスフィン、ジメチルフェニ
    ルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェニルホスフィン、
    ジビニルフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジ
    ビニル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン、ジビニル−ｐ−トリルホスフィン、ジ
    アリルフェニルホスフィン、ジアリル−ｐ−メトキシフェニルホスフィン、ジア
    リル−ｐ−ブロモフェニルホスフィン及びジアリル−ｐ−トリルホスフィンから
    なる群から選ばれる請求項１３の方法。
  15. 【請求項１５】 該ホスフィン化合物が該固体光硬化性物質の約０．０７５
    〜約０．７５重量％の濃度で存在する請求項１３の方法。
  16. 【請求項１６】 該固体光硬化性物質が複数の層からなる請求項１０の方法
    。
  17. 【請求項１７】 該固体光硬化性要素がさらに該光硬化性マスク層を上に配
    したキャップ層をもつ請求項１０の方法。
  18. 【請求項１８】 本質的にＵＶ吸収性をもつ支持層；第１及び第２の対向す
    る主要面をもち、該第１の主要面が該支持層上に配されていると共に酸素捕捉剤
    を含有する固体光硬化性物質からなる層；及び該第２の対向する主要面上に配さ
    れていると共に化学照射線を実質上通さず且つレーザーによって光削摩されうる
    光削摩性マスク層からなり、且つ少なくとも０．０６７インチ（１．７０ｍｍ）
    の厚さをもつ印刷要素。
  19. 【請求項１９】 本質的にＵＶ吸収性をもつ支持層がポリエチレンナフタレ
    ートからなる請求項１８の印刷要素。
  20. 【請求項２０】 ポリエチレンナフタレート支持層が約３〜５ミルの厚さを
    もつ請求項１９の印刷要素。
  21. 【請求項２１】 少なくとも１の請求項１９の固体光硬化性印刷要素を用意
    し；該光硬化性マスク層をレーザーで光削摩して該固体光硬化性印刷要素に表示
    データを移して削摩した部分と削摩しない部分で像をつくり該削摩した部分が該
    固体光硬化性層の該第２の対向する主要面を露出し；該光硬化性層の該第１の対
    向する面を該支持体を通して露出し；該固体光硬化性物質の該削摩した部分を該
    固体光硬化性物質を硬化するに有効な化学照射線にさらし；そして該要素から硬
    化していない光硬化性物質及び該削摩していない部分を除くことを特徴とする方
    法。
  22. 【請求項２２】 該支持層がポリエチレンナフタレートからなる請求項２１
    の方法。
  23. 【請求項２３】 ポリエチレンナフタレート支持層が約３〜５ミルの厚さを
    もつ請求項２２の印刷要素。
JP2001530647A 1999-10-11 2000-09-18 フレキソ印刷板の製造方法 Expired - Lifetime JP3856697B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/415,811 1999-10-11
US09/415,811 US6413699B1 (en) 1999-10-11 1999-10-11 UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
PCT/US2000/025536 WO2001027696A1 (en) 1999-10-11 2000-09-18 Uv-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004139848A Division JP4471157B2 (ja) 1999-10-11 2004-05-10 印刷要素

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003511742A true JP2003511742A (ja) 2003-03-25
JP3856697B2 JP3856697B2 (ja) 2006-12-13

Family

ID=23647301

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001530647A Expired - Lifetime JP3856697B2 (ja) 1999-10-11 2000-09-18 フレキソ印刷板の製造方法
JP2004139848A Expired - Lifetime JP4471157B2 (ja) 1999-10-11 2004-05-10 印刷要素

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004139848A Expired - Lifetime JP4471157B2 (ja) 1999-10-11 2004-05-10 印刷要素

Country Status (9)

Country Link
US (2) US6413699B1 (ja)
EP (1) EP1222497B1 (ja)
JP (2) JP3856697B2 (ja)
CN (2) CN100407049C (ja)
AU (1) AU7496500A (ja)
CA (1) CA2387424C (ja)
DE (1) DE60044817D1 (ja)
ES (1) ES2347757T3 (ja)
WO (1) WO2001027696A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007139911A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Asahi Kasei Chemicals Corp 感光性樹脂支持構造体
JP2007519977A (ja) * 2004-01-30 2007-07-19 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー 感光性印刷スリーブ及びその形成方法
JP2008520003A (ja) * 2004-11-12 2008-06-12 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー 感光性印刷スリーブの熱処理方法
JP2010189641A (ja) * 2002-05-03 2010-09-02 Dsm Ip Assets Bv 照射硬化可能な樹脂組成物及びそれを用いるラピッドプロトタイピング法
JP2015509612A (ja) * 2012-02-13 2015-03-30 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー 統合された膜積層及びｕｖ露光システム、及びこれを用いる方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6413699B1 (en) * 1999-10-11 2002-07-02 Macdermid Graphic Arts, Inc. UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
US20020119295A1 (en) * 2000-12-22 2002-08-29 Speer Drew V. Radiation triggerable oxygen scavenging article with a radiation curable coating
US20030129533A1 (en) * 2001-12-14 2003-07-10 Creo Products, Inc. Photosensitive flexographic device with associated addressable mask
US7728048B2 (en) * 2002-12-20 2010-06-01 L-1 Secure Credentialing, Inc. Increasing thermal conductivity of host polymer used with laser engraving methods and compositions
US7036430B2 (en) * 2002-12-26 2006-05-02 Creo Il Ltd. Method for producing a flexographic printing plate formed by inkjetted fluid
EP1614064B1 (en) 2003-04-16 2010-12-08 L-1 Secure Credentialing, Inc. Three dimensional data storage
US7682775B2 (en) * 2004-03-05 2010-03-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing a flexographic printing plate
US7049047B2 (en) * 2004-08-10 2006-05-23 Eastman Kodak Company Imageable element with masking layer comprising sulfated polymer
US7029805B2 (en) * 2004-09-07 2006-04-18 Eastman Kodak Company Imageable element with masking layer comprising betaine-containing co-polymers
US7923071B2 (en) * 2005-02-15 2011-04-12 Rpo Pty Limited Photolithographic patterning of polymeric materials
US8017795B2 (en) * 2005-04-21 2011-09-13 Ndsu Research Foundation Radiation curable polymer films having improved laser ablation properties and radiation curable sensitizers therefor
DE102005031057A1 (de) * 2005-07-02 2007-01-04 Punch Graphix Prepress Germany Gmbh Verfahren zur Belichtung von Flexodruckplatten
US7625691B2 (en) * 2005-11-30 2009-12-01 Bryant Laurie A Photopolymer printing form with reduced processing time
JP5106332B2 (ja) * 2008-09-18 2012-12-26 日東電工株式会社 光導波路装置の製造方法およびそれによって得られた光導波路装置
US8198013B2 (en) * 2010-05-05 2012-06-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a printing form
JP5451707B2 (ja) * 2011-10-04 2014-03-26 富士フイルム株式会社 露光装置及び硬化膜の形成方法
US8808968B2 (en) * 2012-08-22 2014-08-19 Jonghan Choi Method of improving surface cure in digital flexographic printing plates
US8962740B2 (en) 2012-09-10 2015-02-24 Kraft Foods Group Brands Llc Oxygen scavenger system in a polyolefin matrix
CN103288995B (zh) * 2013-06-09 2015-07-15 浙江大学 多孔聚三苯基膦材料的制备方法
US10173412B2 (en) 2015-05-20 2019-01-08 Sasu Vianord Engineering Apparatus and method for the photo-polymerization of flexographic printing sheets
US10668711B2 (en) * 2015-06-02 2020-06-02 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form precursor, a process for making the precursor, and a method for preparing a printing form from the precursor
US9678429B2 (en) * 2015-08-18 2017-06-13 Macdermid Printing Solutions, Llc Method of creating hybrid printing dots in a flexographic printing plate
US10108087B2 (en) 2016-03-11 2018-10-23 Macdermid Graphics Solutions Llc Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots
US10457082B2 (en) * 2017-05-09 2019-10-29 Macdermid Graphics Solutions, Llc Flexographic printing plate with improved storage stability

Family Cites Families (121)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL87862C (ja) 1951-08-20
NL287134A (ja) 1959-08-05
BE599102A (ja) 1960-01-27
NL136313C (ja) 1962-01-29
US3948664A (en) 1968-08-21 1976-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polyethylene terephthalate film for use as support for radiographic film
US3822132A (en) 1969-05-05 1974-07-02 Eastman Kodak Co Heat resistant dyes for polyester film products
BE759906A (fr) 1969-12-05 1971-06-04 Ici Ltd Coloration de matieres polymeres
US4323636A (en) 1971-04-01 1982-04-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive block copolymer composition and elements
CA1099435A (en) 1971-04-01 1981-04-14 Gwendyline Y. Y. T. Chen Photosensitive block copolymer composition and elements
JPS5125335B2 (ja) 1972-04-13 1976-07-30
JPS4910017A (ja) 1972-05-24 1974-01-29
US3867153A (en) 1972-09-11 1975-02-18 Du Pont Photohardenable element
CA1049312A (en) * 1974-01-17 1979-02-27 John O.H. Peterson Presensitized printing plate with in-situ, laser imageable mask
US4028113A (en) 1974-02-19 1977-06-07 Eastman Kodak Company Photographic supports and elements utilizing photobleachable O-nitroarylidene dyes
US4162919A (en) 1974-11-29 1979-07-31 Basf Aktiengesellschaft Laminates for the manufacture of flexographic printing plates using block copolymers
US4010128A (en) 1975-04-02 1977-03-01 Tenneco Chem Flexible printing plate
US4141736A (en) * 1976-11-18 1979-02-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitive composite sheet material containing poly-2,5-oxolane
NL182761C (nl) 1976-12-27 1988-05-02 Toppan Printing Co Ltd Werkwijze voor het vervaardigen van een fluorescerend scherm voor een kleurenbeeldweergeefbuis.
US4177074A (en) 1978-01-25 1979-12-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Butadiene/acrylonitrile photosensitive, elastomeric polymer compositions for flexographic printing plates
US4214965A (en) 1979-01-11 1980-07-29 Polychrome Corporation Polymers and process for their preparation
US4178303A (en) 1979-01-26 1979-12-11 Gaf Corporation (2-Cyano-3,3-diphenylacryloxy) alkylene acrylic acid esters
US4272608A (en) 1979-04-05 1981-06-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive compositions containing thermoplastic ionomeric elastomers useful in flexographic printing plates
JPS5941176B2 (ja) 1979-04-23 1984-10-05 富士写真フイルム株式会社 写真用支持体
DE2942183A1 (de) 1979-10-18 1981-05-07 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus
US4264705A (en) 1979-12-26 1981-04-28 Uniroyal, Inc. Multilayered elastomeric printing plate
US4340657A (en) 1980-02-19 1982-07-20 Polychrome Corporation Novel radiation-sensitive articles
US4369244A (en) 1980-08-11 1983-01-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Imaging process and article employing photolabile, blocked surfactant
US4324637A (en) 1980-08-26 1982-04-13 Occidental Research Corporation Pyrolysis process with feed pretreatment utilizing a beneficially reactive gas
GB2083239B (en) 1980-08-29 1984-04-26 Ciba Geigy Ag Uv-absorbing layers
GB2083240B (en) 1980-08-29 1984-04-18 Ciba Geigy Ag Uv-absorbing layers
US4414312A (en) * 1980-09-03 1983-11-08 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Photopolymerizable polyamide ester resin compositions containing an oxygen scavenger
DE3100175A1 (de) 1981-01-07 1982-08-05 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignete mehrschichten-elemente
US4853471A (en) 1981-01-23 1989-08-01 Ciba-Geigy Corporation 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazoles, their use as UV-absorbers and their preparation
DE3264154D1 (en) 1981-01-23 1985-07-25 Ciba Geigy Ag 2-(2-hydroxyphenyl)-benzotriazoles, their use as ultraviolet stabilizers and their preparation
US4423135A (en) 1981-01-28 1983-12-27 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Preparation of photosensitive block copolymer elements
DE3107741A1 (de) 1981-02-28 1982-09-16 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignete mehrschichten-elemente sowie verfahren zu ihrer herstellung
US4460675A (en) 1982-01-21 1984-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate
US4427759A (en) 1982-01-21 1984-01-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate
US4419436A (en) 1982-01-22 1983-12-06 Kranser Leonard S Photosensitive plate
US4448873A (en) 1982-03-18 1984-05-15 American Hoechst Corporation Negative working diazo contact film
US4581267A (en) 1982-09-09 1986-04-08 Morgan Adhesives Company Moisture and oxygen barrier laminate for photographic or printed articles
US4447521A (en) 1982-10-25 1984-05-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fixing of tetra(hydrocarbyl)borate salt imaging systems
EP0121403B1 (en) 1983-03-29 1988-11-17 E.I. Du Pont De Nemours And Company X-ray intensifying screens
US4535052A (en) * 1983-05-02 1985-08-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Constrained n-alkylamino aryl ketones as sensitizers for photopolymer compositions
US4564589A (en) 1984-02-06 1986-01-14 Advanced Imaging Systems Ltd. Image-forming composite with film
EP0157639A3 (en) 1984-04-03 1987-05-06 Konica Corporation Heat-developable multilayered color photo-sensitive material
JPS6154934A (ja) 1984-08-27 1986-03-19 富士写真フイルム株式会社 写真感光材料包装用フイルム
JPS61120154A (ja) 1984-11-15 1986-06-07 Konishiroku Photo Ind Co Ltd ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
US4622088A (en) 1984-12-18 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer
JPS61213838A (ja) 1985-03-20 1986-09-22 Nippon Oil & Fats Co Ltd 感光性平版印刷版
US4688056A (en) 1985-07-13 1987-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray
DE3540950A1 (de) 1985-11-19 1987-05-21 Basf Ag Durch photopolymerisation vernetzbare gemische
AU589722B2 (en) 1986-01-28 1989-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Imageable material and process
EP0231953A3 (en) 1986-02-07 1989-08-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Light-absorbing resins for display device, display devices using the resin and method of manufacturing the same
US4639411A (en) 1986-03-11 1987-01-27 Eastman Kodak Company Radiographic elements exhibing reduced crossover
US4874672A (en) 1987-01-14 1989-10-17 S. C. Johnson & Son, Inc. Plastic substrate having an adherent photo-product coating on its surface and a method of coating said plastic substrate
GB8712210D0 (en) 1987-05-22 1987-06-24 Pilkington Brothers Plc Photochromic articles
US4824902A (en) 1987-08-31 1989-04-25 Eastman Kodak Company Latex composition comprising polycarbonate having tertiary amine acid addition moiety
DE3736980A1 (de) 1987-10-31 1989-05-18 Basf Ag Mehrschichtiges, flaechenfoermiges, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
GB8728389D0 (en) 1987-12-04 1988-01-13 Cookson Group Plc Photopolymerisable composition
US4861664A (en) 1987-12-31 1989-08-29 General Electric Company Process for UV stabilizer impregnation of plastic surfaces
DE3803457A1 (de) 1988-02-05 1989-08-17 Basf Ag Flaechenfoermiges lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
EP0327763A3 (en) 1988-02-08 1991-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Colored salts of polymeric sulfonate polyanions and dye cations, and light-absorbing coatings made therewith
US4892923A (en) 1988-02-22 1990-01-09 Eastman Kodak Company Polyester compositions containing the residue of a naphthopyran compound and shaped articles produced therefrom
US4956252A (en) 1988-08-30 1990-09-11 E. I. Dupont De Nemours And Company Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
US5075192A (en) 1988-08-30 1991-12-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
DE3831680A1 (de) 1988-09-17 1990-03-22 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US5264325A (en) 1988-12-30 1993-11-23 International Business Machines Corporation Composition for photo imaging
GB2229726B (en) 1989-03-04 1992-04-08 Tioxide Group Plc Polymer granules and compositions containing them
JPH02238002A (ja) 1989-03-10 1990-09-20 Nippon Paint Co Ltd 感光性組成物
US5102762A (en) 1989-11-13 1992-04-07 Eastman Kodak Company Polyesters and toners made therewith which absorb ultraviolet light
US5049646A (en) 1989-11-13 1991-09-17 Eastman Kodak Company Polyesters and toners made therewith which absorb ultraviolet light
US5063132A (en) 1989-11-13 1991-11-05 Eastman Kodak Company Xerographic phototypesetting system and toner useful therein
DE4004512A1 (de) 1990-02-14 1991-08-22 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von photopolymerplatten
NZ237919A (en) 1990-04-26 1994-09-27 Grace W R & Co Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates
US5028518A (en) 1990-09-24 1991-07-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiographic thermographic imaging film
JPH04135789A (ja) 1990-09-27 1992-05-11 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd 感熱記録体
JPH04141485A (ja) 1990-10-03 1992-05-14 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
JP2605185B2 (ja) 1991-02-21 1997-04-30 コニカ株式会社 画像記録体およびその製造方法
EP0504824B1 (en) 1991-03-20 1998-01-14 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive printing element
JP3115625B2 (ja) 1991-03-30 2000-12-11 帝國製薬株式会社 リドカイン含有外用貼付剤
JPH04317065A (ja) 1991-04-17 1992-11-09 Nippon Paint Co Ltd 平版印刷版材および水性インク組成物
US5223375A (en) 1991-07-15 1993-06-29 W. R. Grace & Co.-Conn. Flexographic printing plate comprising photosensitive elastomer polymer composition
CA2074603A1 (en) 1991-07-26 1993-01-27 Kenji Kushi Recording media for a sublimation-type heat-sensitive recording process
US5215876A (en) 1991-08-29 1993-06-01 Eastman Kodak Company Radiographic element with uv absorbation compound in polyester support
US5362592A (en) 1991-11-14 1994-11-08 Showa Denko K.K. Decolorizable toner
US5607814A (en) * 1992-08-07 1997-03-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process and element for making a relief image using an IR sensitive layer
US5262275A (en) 1992-08-07 1993-11-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate
US5334575A (en) 1992-12-17 1994-08-02 Eastman Kodak Company Dye-containing beads for laser-induced thermal dye transfer
US5432035A (en) 1992-12-18 1995-07-11 Fujitsu Limited Flash fixing color toner and process for producing the same
US5494943A (en) * 1993-06-16 1996-02-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Stabilized cationically-curable compositions
JPH0713299A (ja) 1993-06-23 1995-01-17 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
US6916596B2 (en) * 1993-06-25 2005-07-12 Michael Wen-Chein Yang Laser imaged printing plates
US20010053499A1 (en) * 1993-06-25 2001-12-20 Polyfibron Technologies, Inc. Laser imaged printing plates
DE4339010C2 (de) 1993-06-25 2000-05-18 Pt Sub Inc Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten
US6756181B2 (en) * 1993-06-25 2004-06-29 Polyfibron Technologies, Inc. Laser imaged printing plates
JP3423077B2 (ja) 1993-08-25 2003-07-07 ダブリュ・アール・グレイス・アンド・カンパニー・コネテイカット 版面の製造方法
US5496685A (en) 1993-09-17 1996-03-05 Chase Elastomer Corporation Photosensitive compositions and elements for flexographic printing
DE69501012T2 (de) 1994-02-21 1998-04-23 Dainippon Printing Co Ltd Schutzschichtübertragungsfilm und Bilddruckmaterial
US6171758B1 (en) 1994-11-08 2001-01-09 Dupont Operations Worldwide, Inc. Dimensionally stable flexographic printing plates
JP3478647B2 (ja) 1994-12-09 2003-12-15 キヤノン株式会社 感圧転写性保護被覆材料及びこれを用いた画像の保護被覆方法
TW344032B (en) 1995-01-27 1998-11-01 Mitsui Toatsu Chemicals Light reflective sheet and light reflector using it
US5543262A (en) 1995-02-24 1996-08-06 International Paper Company Benzanthrone polymerization gate in photopolymerizable compositions
JPH08324112A (ja) 1995-05-29 1996-12-10 Brother Ind Ltd 感熱記録材料
EP0751422A1 (en) 1995-06-27 1997-01-02 Eastman Kodak Company Photographic element having improved scratch and abrasion resistance
DE69602150T2 (de) 1995-09-08 1999-09-02 Idemitsu Petrochemical Co Harzzusammensetzung auf Styrolbasis
US5585422A (en) 1995-09-20 1996-12-17 Ciba-Geigy Corporation Hybrid s-triazine light stabilizers substituted by benzotriazole or benzophenone moieties and compositions stabilized therewith
US5798019A (en) * 1995-09-29 1998-08-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements
DE19536806A1 (de) * 1995-10-02 1997-04-03 Basf Lacke & Farben Verfahren zur Herstellung von photopolymeren Tiefdruckplatten
DE19536808A1 (de) * 1995-10-02 1997-04-03 Basf Lacke & Farben Verfahren zur Herstellung von photopolymeren Hochdruckplatten
EP0786689A1 (en) 1996-01-29 1997-07-30 Eastman Kodak Company Photographic silver halide element having polyethylene naphthalate support and thin non-imaging bottom layers
US5846691A (en) 1996-07-08 1998-12-08 Polyfibron Technologies, Inc. Composite relief image printing plates and methods for preparing same
JPH10148930A (ja) 1996-11-18 1998-06-02 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂印刷用原版およびその製造方法
US6136425A (en) * 1997-03-17 2000-10-24 Konica Corporation Support for printing material, printing material employing the same and manufacturing method thereof
DE69717620D1 (de) 1997-08-29 2003-01-16 Agfa Gevaert Nv Polyalkylennaphthalatfolie, die einer spezifischen UV-Absorber enthält
KR100343912B1 (ko) * 1998-09-21 2002-07-20 프레스텍, 인크. 레이져 화상 형성 장치에 사용하기 위한 리소그래픽 인쇄판
DE19859631A1 (de) * 1998-12-23 2000-07-06 Basf Drucksysteme Gmbh Verfahren zur Herstellung von großformatigen Verbund-Reliefdruckformen durch Laserpositionierung und anschließende Bebilderung mittels Laser
US6413699B1 (en) * 1999-10-11 2002-07-02 Macdermid Graphic Arts, Inc. UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
US6308628B1 (en) * 2000-01-10 2001-10-30 Karat Digital Press L.P. Imaging method of a printing member having magnetic particles
US6235454B1 (en) * 2000-02-29 2001-05-22 Eastman Kodak Company Process for forming an ablation image
US6551759B2 (en) 2000-06-13 2003-04-22 Agfa-Gevaert Direct-to-plate flexographic printing plate precursor

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010189641A (ja) * 2002-05-03 2010-09-02 Dsm Ip Assets Bv 照射硬化可能な樹脂組成物及びそれを用いるラピッドプロトタイピング法
JP2007519977A (ja) * 2004-01-30 2007-07-19 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー 感光性印刷スリーブ及びその形成方法
JP2008520003A (ja) * 2004-11-12 2008-06-12 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー 感光性印刷スリーブの熱処理方法
JP2007139911A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Asahi Kasei Chemicals Corp 感光性樹脂支持構造体
JP2015509612A (ja) * 2012-02-13 2015-03-30 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー 統合された膜積層及びｕｖ露光システム、及びこれを用いる方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20020058196A1 (en) 2002-05-16
US6413699B1 (en) 2002-07-02
CN1387636A (zh) 2002-12-25
CN1782866A (zh) 2006-06-07
ES2347757T3 (es) 2010-11-04
JP3856697B2 (ja) 2006-12-13
CN100407049C (zh) 2008-07-30
WO2001027696A1 (en) 2001-04-19
USRE39835E1 (en) 2007-09-11
CA2387424A1 (en) 2001-04-19
EP1222497B1 (en) 2010-08-11
AU7496500A (en) 2001-04-23
JP4471157B2 (ja) 2010-06-02
EP1222497A1 (en) 2002-07-17
CA2387424C (en) 2010-11-23
CN1278186C (zh) 2006-10-04
DE60044817D1 (de) 2010-09-23
EP1222497A4 (en) 2006-12-27
JP2004240458A (ja) 2004-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003511742A (ja) Ｕｖ吸収性支持層及びそれを含むフレキソ印刷要素
AU720406B2 (en) Composite relief image printing plates and methods for preparing same
CN102239447B (zh) 柔性版元件及成像方法
EP2588920B1 (en) Method of improving print performance in flexographic printing plates
JP2003524212A (ja) 多層スリップフィルムをもつレーザーで像処理した印刷板
EP1737676B1 (en) Edge cure prevention process
WO1997025206A1 (en) Methods and apparatus for preparing relief image printing plates
CA2308757C (en) Composite relief image printing plates
JP7457831B2 (ja) フィルムネガを作製する方法
JP7256885B2 (ja) Ｕｖフィルタリングを備えるフォトポリマーフィルム
MXPA00003672A (en) Composite relief image printing plates

Legal Events

Date Code Title Description
A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20040212

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20040219

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040510

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050419

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20051227

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060316

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060815

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060912

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3856697

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130922

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term