JPH04317065A - 平版印刷版材および水性インク組成物 - Google Patents

平版印刷版材および水性インク組成物

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JPH04317065A
JPH04317065A JP3085176A JP8517691A JPH04317065A JP H04317065 A JPH04317065 A JP H04317065A JP 3085176 A JP3085176 A JP 3085176A JP 8517691 A JP8517691 A JP 8517691A JP H04317065 A JPH04317065 A JP H04317065A
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JP
Japan
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photopolymerizable
photosensitive layer
plate
ink composition
oxygen
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JP3085176A
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English (en)
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Takakazu Hase
長谷 ▲高▼和
Masaharu Arimatsu
有松 正治
Koichi Kimoto
木本 浩一
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Nippon Paint Co Ltd
Original Assignee
Nippon Paint Co Ltd
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Publication date
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Priority to NZ24242092A priority patent/NZ242420A/xx
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/2018Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1066Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by spraying with powders, by using a nozzle, e.g. an ink jet system, by fusing a previously coated powder, e.g. with a laser

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版の製造方法
に関し、特に、コンピュータやファクシミリなどから出
力されるデジタル情報から、ネガまたはポジ画像を有す
るフィルムを用いることなく直接平版印刷版を製造する
ことが可能な、インクジェット方式を用いるダイレクト
製版システムのために用いられる版材および水性インク
組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年では、コンピュータ技術の進歩によ
って、印刷工程の上流工程である版下作成から印刷版作
成に至る工程において、情報のデジタル化が急速に進み
、例えば、版下原稿が容易に作成できる文字写植組版シ
ステムや、画像を直接読み取るスキャナなどが実用化さ
れた。そのことにより、コンピュータやファクシミリな
どから出力されるデジタル情報から、製版用フィルムを
用いることなく平版印刷版を製造し得るダイレクト製版
システムが要望されている。
【0003】このようなダイレクト製版システムとして
は、インクジェット方式を用いて版材上に直接印刷パタ
ーンを形成することにより印刷版を作成する方法が知ら
れている。このインクジェット方式は、画像出力方式と
しては比較的高速であり、また複雑な光学系を必要とし
ないので構造が簡単である。したがって、この製版シス
テムでは、装置を単純にすることが可能であり、保守の
手間も大幅に削減できるので、製版コストを下げること
が可能となる。
【0004】インクジェット方式を用いる製版方法とし
ては、特開平第2−286335号公報に開示されてい
るような、支持体上に光重合性感光性組成物からなる感
光層が設けられた光重合型PS版を用い、この感光層の
表面に、酸素遮断性の樹脂材料を含む溶液をインクジェ
ット方式を用いて印刷パターンに応じて付着させること
によりこの感光層上に酸素遮断性の膜を選択的に設けた
後、全面露光し、感光層の酸素遮断性の膜が設けられて
いない部分を除去して印刷版を製造する製版方法が挙げ
られる。
【0005】ところで、これらの光重合型PS版の感光
層に用いられる光重合性感光性組成物は、ラジカル重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を比較
的多く含むので、一般に、感光層の表面は親油性である
。 一方、インクジェット方式に用いられるインク組成物は
水性である。したがって、従来の光重合型PS版を用い
て感光層の表面上に直接インクジェット方式により印刷
パターンを形成する場合には、にじみや、はじき、のよ
うな問題が生じるので、良好な解像力の印刷版が得られ
ない。また、感光層表面は粘着性なので、作業性が悪く
、さらに、保存中に重合可能な化合物の一部が揮散する
ため、感度低下、および硬化不足による得られる印刷版
の耐刷力低下のような好ましくない現象が発生する。
【0006】さらに、感光層の表面エネルギーは用いる
光重合性感光性組成物の種類に依存して変化するので、
これに応じて、生じるにじみやはじきの程度も様々に異
なる。したがって、得られる印刷版の解像力が一定しな
いという問題も生じる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題を解決するものであり、その目的とするところは、イ
ンクジェット方式を用いて印刷パターンを形成すること
により、良好な解像力の印刷版を提供し得る光重合型P
S版および水性インク組成物を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、感光層の上方
に選択的に酸素遮断性の膜を設けた後、露光し、感光層
の酸素遮断膜が設けられていない部分を除去する製版方
法に用いられる、支持体および感光層を有する光重合型
PS版であって、該感光層の表面上に、該光重合性組成
物が感光可能な波長を有する光を透過させかつ酸素を透
過させる特性を有する保護層が設けられている光重合型
PS版を提供し、そのことにより上記問題が解決される
【0009】本発明の光重合型PS版に用いられる支持
体としては、金属、プラスチックフイルム、紙、または
これらの複合体などが用いられるが、寸法安定性、耐久
性などの観点から、例えば、アルミニウム、マグネシウ
ム、亜鉛、クロム、鉄、ニッケル、およびこれらの合金
などの金属が用いられ、特に、印刷時の親水性、保水性
の点でアルミニウムを用いることが好ましい。支持体と
してアルミニウムを用いる場合は、さらに親水性、保水
性を高めるために、ボール研磨、ブラシ研磨などの機械
的方法、酸を含む溶液でエッチングする化学的方法、電
解によりエッチングする電気化学的方法などの適当な方
法を用いて砂目立て処理が行われ、その上に、陽極酸化
処理、ケイ酸ソーダ処理などが行われる。
【0010】支持体上に設けられる感光層は光重合性感
光性組成物からなり、分子内に少なくとも1個のエチレ
ン性不飽和二重結合を有する光重合可能な化合物、光重
合開始剤、および増感剤を含有し、必要に応じて、線状
有機高分子重合体および熱重合禁止剤、着色剤、および
可塑剤などを含有する。このような組成物の調製方法お
よび各成分の配合割合は公知である(例えば、米国特許
第2760863号、第2791504号、第3801
328号)。
【0011】エチレン性不飽和二重結合を有する光重合
可能な化合物は、光重合開始剤の作用により付加重合し
て、実質的に硬化物を不溶化させるものであり、具体的
には、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸などの不飽和カルボン酸;エチレングリコール、テ
トラエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、プ
ロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトールなどのポリヒドロキシ化合物と上記不飽和
カルボン酸とのエステル;トリメチロールプロパンポリ
グリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエー
テル、エピクロルヒドリンと2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとの反応物、フタル酸のジグ
リシジルエステルのようなエポキシドと、上記不飽和カ
ルボン酸との、付加反応物が挙げられる。好ましくは、
アクリル酸エステル類またはメタクリル酸エステル類が
挙げられる。
【0012】光重合開始剤は、紫外〜可視域の光を吸収
してラジカルを発生させるものであり、以下のものを単
独または組み合わせて使用すればよい。具体的には、ベ
ンゾフェノン、O−ベンゾイル安息香酸メチル、N,N
’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン
、ミヒラーケトン、チオミヒラーケトン等のベンゾフェ
ノン類、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−
ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−
フェニルアセトフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパノン−1、2−メチル−1−[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モリホリノプロパノン−1
等のアセトフェノン類、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル等のベンゾインおよびそのアルキ
ルエーテル類、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p
−ジエチルアミノ安息香酸エチル、チオキサントン、2
−エチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサン
トン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン類
、2−エチルアントラキノン、9−フェニルアクリジン
、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9,10−ジ
メチルベンズフェナジン、6,4’,4’’−トリメト
キシ−2,3−ジフェニルキノキサリン、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド等
のパーオキサイド類、2−ニトロフルオレイン、2,4
,6−トリフェニルピリリウム四フッ化ホウ素塩、2,
4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−ト
リアジン、N−フェニルグリシン、N−(p−クロロフ
ェニル)グリシン等のN−アリール−α−アミノ酸類、
ジフェニルヨードニウム塩、ビス(p−クロロフェニル
)ヨードニウム塩等のジアリールヨードニウム塩類等が
挙げられる。また、さらにアントラセン、フェナントレ
ン、ペリレン等の多環式芳香族炭化水素類、3,3’−
カルボニルビスクマリン等のクマリン系色素、あるいは
、ローズベンガル、エオシン等の色素、キサンテンまた
はチオキサンテン系色素、シアニンまたはメロシアニン
系色素等も、使用できる。インクジェット方式により画
像パターンを形成した後、選択的に光重合性感光性組成
物を不溶化させるために光照射することを考慮すると、
これらのうちでも、可視光領域に感光し、かつ高感度で
あるという方が好ましい。そのような組成物の例として
は、特開昭57−114139号公報、特開昭59−1
42205号公報、および特開昭63−180946号
公報に記載の組成物が挙げられる。
【0013】線状有機高分子重合体は、いかなる材料で
も、必要に応じて適宜添加されてよいが、光照射後の現
像工程において、感光層の硬化していない部分を除去す
るためにアルカリ水などの現像液を用いる場合は、該線
状有機高分子重合体は、アルカリ水に可溶性または膨潤
性を有していることが好ましい。そのような重合体とし
ては、具体的には、(メタ)アクリル酸と、アルキル(
メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等との
共重合体;イタコン酸と、アルキル(メタ)アクリレー
ト、(メタ)アクリロニトリル等との共重合体;クロト
ン酸と、アルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アク
リロニトリル等との共重合体;ビニル酢酸と、アルキル
(メタ)アクリレートとの共重合体;部分アルキルエス
テル化マレイン酸と、アルキル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリロニトリル等との共重合体;無水マレイ
ン酸と、置換または無置換スチレン、不飽和炭化水素、
不飽和エーテルまたは不飽和エステルとの共重合体;無
水マレイン酸の共重合体のエステル化生成物;ヒドロキ
シル基を有する共重合体と、ジカルボン酸無水物または
ポリカルボン酸無水物とのエステル化生成物;ヒドロキ
シアルキル(メタ)アクリレートと、アルキル(メタ)
アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等との共重合
体;アリルアルコールと、置換または無置換スチレンと
の共重合体;ビニルアルコールと、アルキル(メタ)ア
クリレートまたは重合可能な他の不飽和化合物との共重
合体;側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース変
性物;ポリウレタン[但し、これは、十分な数の遊離O
H基を有する。];エポキシ樹脂;ポリエステル;部分
的に酸化された酢酸ビニル共重合体;遊離OH基を有す
るポリビニルアセタール;ヒドロキシスチレンと、アル
キル(メタ)アクリレート等との共重合体;フェノール
/ホルムアルデヒド樹脂;ポリエチレンオキシド、ポリ
ビニルピロリドン、または、エピクロルヒドリンと2,
2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパンとのポ
リエーテルまたはポリアミド等が挙げられる。
【0014】この感光層は、通常用いられる平版として
の層厚を有しておればよいが、0.1〜10g/m2の
範囲の層厚であることが好ましい。さらに好ましくは1
〜5g/m2の層厚を有する。0.1g/m2より薄い
場合は得られる印刷版は耐刷力に劣り、10g/m2よ
りも厚い場合は、光重合時に、酸素による重合阻害が充
分でない部分が生じるので、現像後も非画線部に感光層
が残存する結果となり、印刷時に地汚れを生じるという
好ましくない現象が生じる。
【0015】感光層の上に設けられる保護層は、該光重
合性感光性組成物が感光可能な波長領域を有する光を透
過させかつ酸素を充分に透過させる特性を有する。この
ように、保護層により空気中の酸素の感光層への移動が
抑制されないので、感光層において充分な重合抑制効果
が得られる。保護層の酸素透過性が不充分な場合は、感
光層における酸素による重合禁止効果が低減するので、
保存中に暗反応が生じやすくなる。その結果、光重合型
PS版の保存安定性が劣り、製版時にインクジェットに
よる印字がされていない非画線部にも光重合反応が生じ
ることにより得られる印刷版の解像力が低下する。この
保護層は室温付近において1×10−13以上の酸素透
過係数を有することが好ましい。
【0016】この保護層は、表面エネルギーを水性イン
ク組成物に対して一定値に調和させることにより、にじ
みやはじきを抑え、得られる印刷版の解像力を良好にす
る。しかしながら、保護層の表面エネルギーが極端に低
い場合は、水性インク組成物に界面活性剤を添加しても
、なお印字により形成された画像にはじきが生じるため
好ましくない。また、保護層の表面エネルギーが極端に
高い場合は、印字により形成された画像ににじみが生じ
るので好ましくない。したがって、保護層の表面エネル
ギーの値は用いる水性インク組成物の表面エネルギーに
依存して変化するけれども、30〜60dyn/cmで
あることが好ましい。
【0017】さらに、この保護層は、粘着性の感光層表
面を覆うことにより作業性を向上させ、光重合性感光性
組成物の成分の揮散を防止することにより感光層の保存
中の感度低下、および感光層の硬化不足による得られる
印刷版の耐刷力低下を防止する。
【0018】保護層を感光層面上に設ける工程および光
照射後の現像除去工程を簡便にするためには、水あるい
はアルカリ水に容易に溶解するかもしくは分散する材料
が好ましい。特に保護層に水溶性高分子を用いる場合は
、保護層が水性インク組成物に対して吸収層として作用
するため、インクジェット方式により印字する際ににじ
みやはじきを生じる事なく、良好な印刷パターンが形成
される。
【0019】このような材料としては、ヒドロキシメチ
ルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩の
ようなセルロース類およびポリエチレンオキサイドが挙
げられる。これらの材料を2種以上を組み合せて用いて
もよい。
【0020】この保護層は当業者に公知の方法で感光層
上に設けられる。例えば、上記材料を含有する水溶液を
感光層上に塗布し乾燥する方法、または、上記材料の層
がシート基材の片面上に設けられた転写シートを用いて
感光層上に転写する方法が挙げられる。これらの方法は
、用いる材料によって適宜決定されればよい。例えば、
ヒドロキシプロピルメチルセルロースのようなセルロー
ス類であれば、水溶液として、光重合性感光性組成物上
に直接塗布乾燥するか、もしくは、あらかじめポリエチ
レンテレフタレートフイルムなどの片面に塗布乾燥した
ものを転写層として光重合性感光性組成物上に転写する
のが簡便である。
【0021】保護層の層厚は、0.1〜2g/m2であ
ることが好ましく、さらに好ましくは、0.5〜1g/
m2である。 層厚が0.1g/m2を下回ると粘着防止効果や光重合
可能な化合物の揮散防止効果が充分に得られない。層厚
が2g/m2を越えると保護層の酸素透過性が低下する
ので、光重合型PS版の保存安定性が劣り、得られる印
刷版の解像力が低下する。さらに、現像後も膜が残存し
、印刷時に地汚れを生じるという好ましくない結果をも
たらす。
【0022】かかる保護層は十分な酸素透過性を有する
ものの、光重合性感光性層上にこれを設けることによっ
て、設けない場合に比べて酸素の光重合性層への拡散を
抑制しやすくするので、保護層の表面上にインクジェッ
ト方式により印刷パターンを形成する場合に、印刷パタ
ーン形成部分の酸素遮蔽能が高められる。したがって、
例えば、水性インク組成物に含まれる高分子の量が少な
く、感光層上に直接印刷パターンを形成しても高分子不
足により酸素遮蔽能力が十分得られない場合でも、本発
明の光重合型PS版を用いることにより良好な解像力の
印刷版が得られる。この場合は、保護層は、酸素遮蔽補
助層として機能する。
【0023】さらに、本発明は上記光重合型PS版上に
インクジェット方式により酸素遮断膜を設ける際に用い
る、光重合性感光性組成物が感光可能な波長領域の波長
を有する光を透過させる水溶性または水分散性高分子0
.2〜15重量%、必要に応じて多価アルコール0.5
〜40重量%、および界面活性剤0.1〜5重量%を含
有する水性インク組成物を提供する。
【0024】本発明のインク組成物に用いられる高分子
は、水溶性または水分散性であり、光重合型PS版の感
光層として用いられる光重合性感光性組成物が感光可能
な波長領域の波長を有する光を透過させかつ酸素を遮断
するフィルムを形成するものであれば天然物でも合成物
でもよく、例えば、以下に示す材料のうちの1種または
2種以上が組み合せて用いられる。
【0025】ポリビニルアルコール(PVA)およびそ
の誘導体、ポリビニルエーテル、ヒドロキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルセルロースなどのセルロース類、水溶性アルキド樹
脂、ポリエチレンオキサイド(PEO)、ポリビニルピ
ロリドン(PVP)、ポリアクリル酸およびそのナトリ
ウム塩、アルギン酸ナトリウム、プルラン、ポリアミド
などの水溶性ナイロン、マレイン酸共重合体、セロハン
、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、および
ポリ塩化ビニリデン。このなかでも、フィルム状態での
酸素透過係数が低い材料が好ましく、室温付近において
1×10−11以下の酸素透過係数を有する材料が特に
好ましい。
【0026】主要な高分子のフィルム状態における酸素
透過係数を以下の表に示す。 高分子     測定温度(℃)     酸素透過係
数(cm3cm/cm2scmHg)PVA     
          30             
   6.24×10−17セルロ−ス       
      30                8
.94×10−14フ゜ルラン           
  30                5.10×
10−15セロハン              24
                8.00×10−1
2ナイロン6             30    
            1.50×10−13ホ゜リ
エステル           30        
        4.20×10−12 高密度ホ゜リエチレン          30   
                         
 1.80×10−10 低密度ホ゜リエチレン     30        
        3.50×10−10ホ゜リカ−ホ゛
ネ−ト        25            
    1.40×10−09ホ゜リスチレン    
       25                
1.80×10−10ホ゜リフ゜ロヒ゜レン     
   30                2.60
×10−10ホ゜リ塩化ヒ゛ニル       30 
               1.20×10−11
ホ゜リ塩化ヒ゛ニリテ゛ン    30       
         2.76×10−13
【0027】この表より、1×10−11以下の酸素透
過係数を有する特に好ましい材料としては、PVA、セ
ルロース、プルラン、セロハン、ナイロン、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンが挙げられる
。このなかでも、最も低い酸素透過係数を有するPVA
、ケン化度が80以上であるポリビニルアルコールまた
はその誘導体が特に好ましい。
【0028】これらの高分子が本発明のインク組成物中
に含有される量は、用いられる高分子の酸素透過性に依
存して変化し、酸素透過性が低い高分子を用いる場合は
、高分子の含有量は少量でよく、酸素透過性が高い高分
子を用いる場合は、高分子の含有量は多量となる。例え
ば、PVAの場合はケン化度が高いものは酸素透過性が
低いので、含有量は少量でよいが、ケン化度が低いもの
は酸素透過性が高いので、多量を含有させることが必要
となる。好ましくは、この高分子は本発明の水性インク
組成物に0.2〜15重量%の範囲の量で用いられ、さ
らに好ましくは0.5〜10重量%の範囲の量で用いら
れる。この高分子の含有量が0.2重量%を下回ると、
感光層の印刷パターンが形成された部分において酸素の
遮断が不充分になるので、光重合型PS版の画像記録層
である感光層に印刷パターン状の凸部が充分に形成され
ず、得られる印刷版は解像力に劣る。この高分子の含有
量が15重量%を上回ると、得られるインク組成物の粘
度が増大し、これらの高分子がインク組成物内で凝集し
たり、フィルム状に乾燥する場合が生じる。粘度が高い
インク組成物はインクジェット方式を用いる画像形成に
適さない。例えば、圧電素子のわずかな歪みを利用して
液滴を噴射するオンデマンド型インクジェットヘッドに
おいては印字させることが困難になり、連続噴射型イン
クジェットヘッドにおいては液滴噴出圧を高くする必要
が生じるので、不都合となる。また、インク内に固形分
が生じることは、ノズルの目詰まりの原因となるので、
好ましくない。
【0029】揮発防止剤は、インクジェットノズル内で
のインクの溶媒である水の蒸発を抑制し、染料などの凝
集によるノズルの目詰まりを防止するために必要に応じ
て添加される。具体例としては、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テト
ラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、ポリエチレングリコールなどの2価
アルコール、およびグリセリンなどの3価アルコールと
いった多価アルコールが挙げられる。これらの多価アル
コールを2種類以上組み合わせて用いてもよい。
【0030】これらの揮発防止剤は本発明のインク組成
物中に、好ましくは0.5〜40重量%の範囲の量で用
いられ、さらに好ましくは1〜20重量%の範囲の量で
用いられる。揮発防止剤の含有量が0.5重量%を下回
ると充分な揮発防止効果が得られない場合が生じ、40
重量%を上回ると光重合型PS版の画像記録層である感
光層がインク組成物により溶解され、適正な印刷パター
ンを得ることができない。
【0031】界面活性剤は、光重合型PS版上に水性イ
ンク組成物を用いて印刷パターンを形成する際に、感光
層上に設けられた保護層表面上でにじみやはじきが生じ
ることなく適正な印刷パターンが形成されるように、ま
た、インクジェットノズルより噴出されたインク組成物
の液滴の大きさを調節し高解像度の印刷パターンが形成
されるようにインクの表面張力を調整するために必要に
応じて添加される。さらに、界面活性剤は揮発防止剤と
してインク組成物中に含有される多価アルコールを分散
させることにより、水性インク組成物による感光層の溶
解を防止する作用も有し得る。この界面活性剤は、水性
インクの表面張力を任意に調節できるものであればよく
、非イオン系、カチオン系、またはアニオン系のいずれ
かに限定されない。このような界面活性剤としては、例
えば、以下に示す化合物の1種、または水性インク組成
物の表面張力を微妙に調整するために2種以上が組み合
わされて用いられる。
【0032】ポリエチレングリコールラウリルエーテル
、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルのよ
うなポリエチレングリコールアルキルエーテルまたはア
ルキルフェニルエーテル、脂肪酸ジエタノールアマイド
、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ポリエチ
レングリコールノニルフェニルエーテルサルフェート、
ポリエチレングリコールラウリルエーテル硫酸トリエタ
ノールアミン、ポリエチレングリコールアルキルエーテ
ルまたはアルキルフェニルエーテルのリン酸エステル等
【0033】インクジェット方式の画像形成装置として
連続噴射型を用いる場合は、水性インク組成物をインク
ジェットノズルの先端で帯電させ、帯電したインク滴を
、強制的に形成された電界内を通過する間に偏向させる
必要があるので、非イオン系界面活性剤を用いることが
好ましい。
【0034】これらの界面活性剤が水性インク組成物に
含有される量は0.1重量%以上であれば充分に効果的
であり、含有量を増大させても表面張力は一定値以下に
はならないので、5重量%程度が好適である。
【0035】本発明の水性インク組成物には、さらに必
要に応じて他の成分を添加してもよい。例えば、光重合
型PS版上に形成された印刷パターンを確認する必要が
ある場合には少量の着色剤または染料が添加され得、水
性インク組成物を長期間保存する場合には、殺菌剤、防
汚剤、防カビ剤などが添加され得る。また、高分子の溶
解性もしくは分散性をさらに高めるためには、緩衝剤、
可溶化剤などを使用することが有効である。さらに、イ
ンクジェットノズル内での水性インク組成物の発泡を抑
制するために、消泡剤および抑泡剤などを使用すること
も可能である。
【0036】
【作用】本発明の光重合型PS版および水性インク組成
物は以下のように用いられる。まず、水性インク組成物
を用いて、インクジェット方式により、所定のデジタル
信号に基づく印刷パターンが光重合型PS版の保護層表
面上に形成される。その結果、このPS版の感光層表面
の印刷パターンが形成された部分においては、水性イン
ク組成物に含有される高分子膜により、感光層の内部へ
空気中の酸素が侵入することが防止される。
【0037】その後、この水性インク組成物の印刷パタ
ーンが表面上に形成された光重合型PS版を、全面露光
する。その際に、光重合型PS版の画像記録層である感
光層においては、水性インク組成物の印刷パターンが形
成されている部分は酸素の侵入が防止されておりかつ露
光される。したがって、感光層の印刷パターンが形成さ
れている部分においては光重合反応が生じて、感光層の
この部分に含まれる光重合性感光性組成物が硬化する。 しかしながら、感光層の印刷パターンが形成されていな
い部分においては空気中の酸素により光重合反応が阻害
されるので、感光層のこの部分に含まれる光重合性感光
性組成物は硬化しない。その後、所定の現像操作を行い
、保護層および感光層の硬化していない部分を除去する
ことにより平版印刷版が得られる。
【0038】
【実施例】以下の実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されない。特に指
定しない場合は配合量は重量部により記載する。
【0039】
【実施例1〜12、および比較例1〜13】本実施例お
よび比較例では水性インク組成物中の水溶性高分子およ
び表面保護層中の水溶性高分子の種類と印字される画像
品質(解像力)との関係について説明する。
【0040】まず、機械研磨および電解研磨により粗面
化し陽極酸化処理およびケイ酸ソーダ処理を施したアル
ミニウム支持体上に以下に示す配合割合の光重合性感光
性組成物を塗布し、次いで、表IのB成分に示す高分子
を含有する保護層を感光層表面に設けることにより、被
印字体である光重合型PS版を調製した。   光重合性感光性組成物配合割合     アクリル樹脂(Mw=20万、AV=19) 
                  21.12St
−MAハーフエステル(Mw=2万、AV=185) 
       11.80ウレタンオリゴマー    
                         
         21.12ペンタエリスリトールト
リアクリレート                  
  37.27重合禁止剤             
                         
         1.24開始剤(IR#907) 
                         
           6.21着色剤(ビクトリアピ
ュアブルー)                   
        1.24EtOH         
                         
               60.87MEK  
                         
                      467
.70                      
合  計                     
          628.58   アクリル樹脂...ポリビニルケミカル社製、商品
名  B723 St−MAハーフエステル...モンサント社製、商品
名  Scripset 540 ウレタンオリゴマー...大阪有機化学工業社製、商品
名  ビスコート813 熱重合禁止剤...2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール 光重合開始剤...チバガイギー社製、商品名  IR
#907
【0041】次いで、以下に示す配合割合の水性インク
組成物をエプソン製インクジェットプリンターHG−8
00を用いて得られた光重合型PS版に印字し、メタル
ハライドランプ(出力3kw)で露光後、市販のポジP
S版用現像液で現像することにより、平版印刷版を得た
。   水性インク組成物配合割合 水溶性または水分散性高分子(A成分)       
        3.00染料(Malachite 
Green)                   
        0.05イオン交換水       
                         
   97    合計              
                         
   100.05
【0042】表1のA成分およびB成分に示す種々の水
溶性高分子の組み合わせについて得られた印刷版の画像
品質を評価したところ表Iに示す結果を得た。
【0043】
【表1】
【表2】
【表3】 このように、保護層として酸素透過性の高分子を用い、
水性インク組成物に含有される高分子としてケン化度が
80を上回るポリビニルアルコールを用いた場合に良好
な解像力および耐刷力を有する印刷版が得られた。
【0044】
【実施例13〜16、および比較例14および15】本
実施例および比較例では水性インク組成物中の水溶性高
分子の量と印字された画像品質との関係について説明す
る。
【0045】水溶性高分子の濃度が種々に異なる以下に
示す配合割合の水性インク組成物(ポリビニルアルコー
ルの配合量Xは、GL−05配合量として表IIに示す
)を用い、保護層としてヒドロキシプロピルメチルセル
ロース(HPMC)を感光層上に塗布量0.5g/m2
で設けること以外は実施例1と同様にして、平版印刷版
を得た。   水性インク組成物配合割合 ポリビニルアルコール(GL−05、ケン化度88%、
重合度500)     X染料(Malachite
 Green)                  
                0.05イオン交換
水                        
                 100−X  合
計                        
                         
100.05
【0046】得られた印刷版の画像品質を評価したとこ
ろ表IIに示す結果を得た。
【0047】
【表4】 このように、水性インク組成物中に含まれる水溶性高分
子の量が0.2%を上回る場合に良好な解像力および耐
刷力を有する印刷版が得られた。
【0048】
【実施例17〜21、および比較例16および17】本
実施例および比較例では保護層の層厚と印字される画像
品質および光重合型PS版の保存安定性との関係につい
て説明する。
【0049】保護層として層厚が種々に異なるHPMC
を設けること以外は実施例1と同様にして、光重合型P
S版を得た。得られた同一の層厚を有する光重合型PS
版を2群に分け、第1群を40℃で1カ月間保存した。 第2群については保存を行わなかった。次いで、以下に
示す配合割合の水性インク組成物を用いること以外は実
施例1と同様にして、上記第1群(保存後)および第2
群の光重合型PS版についてそれぞれ印刷版を得た。   水性インク組成物配合割合 ポリビニルアルコール(GL−05、ケン化度88%、
重合度500)    3.00染料(Malachi
te Green)                
                  0.05イオン
交換水                      
                    97   
 合計                      
                         
  100.05
【0050】得られた印刷版を評価したところ表III
に示す結果を得た。
【0051】
【表5】 このように、保護層の層厚が0.2〜2.0g/m2の
場合に保存前と保存後とにおける解像力および耐刷力の
変化が小さい良好な保存安定性を示す結果を得た。
【0052】
【発明の効果】光重合型PS版の感光層表面に保護層を
設けることにより、感光層に用いる光重合性感光性組成
物に依存することなく、用いる水性インク組成物に対し
て常に最適な一定の表面エネルギーを確保する事ができ
るので、インクジェット方式を用いる製版方法において
いかなる光重合型PS版についても安定ににじみやはじ
きのない良好な印刷パターンが形成され、良好な解像力
の印刷版を得ることができる。すなわち、水性インク組
成物の特性としての許容範囲が拡大されるという好結果
をもたらす。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  感光層の上方に選択的に酸素遮断性の
    膜を設けた後、露光し、感光層の酸素遮断膜が設けられ
    ていない部分を除去する製版方法に用いられる支持体お
    よび感光層を有する光重合型PS版であって、該感光層
    の表面上に、該光重合性組成物が感光可能な波長を有す
    る光を透過させかつ酸素を透過させる特性を有する保護
    層が設けられている光重合型PS版。
  2. 【請求項2】  前記光重合性感光性組成物が感光可能
    な波長領域の波長を有する光を透過させる水溶性または
    水分散性高分子0.2〜15重量%、必要に応じて多価
    アルコール0.5〜40重量%、および界面活性剤0.
    1〜5重量%を含有する、請求項1記載の光重合型PS
    版上にインクジェット方式により酸素遮断膜を設ける際
    に用いられる水性インク組成物。
  3. 【請求項3】  前記水溶性または水分散性高分子がケ
    ン化度が80以上であるポリビニルアルコールまたはそ
    の誘導体である、請求項2記載の水性インク組成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015187231A (ja) * 2014-03-27 2015-10-29 東洋インキScホールディングス株式会社 製版用水性インクジェットインキおよび平版印刷用刷版の製版方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5597677A (en) * 1994-11-02 1997-01-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoimageable elements
US5563023A (en) * 1994-11-02 1996-10-08 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Photoimageable elements
US5820932A (en) * 1995-11-30 1998-10-13 Sun Chemical Corporation Process for the production of lithographic printing plates
US5912105A (en) * 1996-12-23 1999-06-15 Agfa-Gevaert Thermally imageable material
EP0851296B1 (en) * 1996-12-23 2002-06-26 Agfa-Gevaert Thermally imageable material
US6413699B1 (en) 1999-10-11 2002-07-02 Macdermid Graphic Arts, Inc. UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
EP1195645A1 (en) * 2000-10-03 2002-04-10 MacDermid Graphic Arts Protective layers for photocurable elements
US6387595B1 (en) * 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
KR100736531B1 (ko) 2005-03-16 2007-07-06 주식회사 엘지화학 단차 조절이 가능한 잉크
JP2008080644A (ja) * 2006-09-27 2008-04-10 Fujifilm Corp 平版印刷版原版およびその製造方法
CN109021680A (zh) * 2018-07-28 2018-12-18 广东绿之彩印刷科技股份有限公司 一种可直接输出在菲林上的油墨及其制备方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59207277A (ja) * 1983-05-12 1984-11-24 Canon Inc 透光性被記録材
US4555437A (en) * 1984-07-16 1985-11-26 Xidex Corporation Transparent ink jet recording medium
DE3715790A1 (de) * 1987-05-12 1988-11-24 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
EP0303572B1 (de) * 1987-08-13 1992-04-15 Ciba-Geigy Ag Verwendung eines Thermotransferdruckers zur Herstellung einer Photomaske
US4885225A (en) * 1988-04-29 1989-12-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Color proof with non-blocking thermal adhesive layer with particulate polymer beads
DE3908763A1 (de) * 1989-03-17 1990-09-27 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungselement mit einer aufzeichnungsschicht und einer deckschicht unterschiedlicher loeslichkeitseigenschaften sowie verfahren zu seiner entwicklung in einem arbeitsgang
JPH0389349A (ja) * 1989-09-01 1991-04-15 Riso Kagaku Corp 凹凸画像の形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015187231A (ja) * 2014-03-27 2015-10-29 東洋インキScホールディングス株式会社 製版用水性インクジェットインキおよび平版印刷用刷版の製版方法

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