KR100343912B1 - 레이져 화상 형성 장치에 사용하기 위한 리소그래픽 인쇄판 - Google Patents

레이져 화상 형성 장치에 사용하기 위한 리소그래픽 인쇄판 Download PDF

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Abstract

그 위에 겹쳐진 절삭-흡수층 및, 임의로, 비절삭-흡수성인 내구성 있는 잉크-수용성 표면층을 갖는 지지 기재를 포함하는 리소그래픽 인쇄판이 제공된다. 상기 절삭-흡수층은 유기 술폰산 성분을 높은 중량% 함유할 수 있다. 상기 인쇄판은 상기 절삭-흡수층와 기재 사이에 겹쳐진 친수성 중합체층을 더 포함할 수 있다. 상기 인쇄판은 지르코늄과 같은 프라이머층에 존재하는 접착-촉진제를 갖는 절삭-흡수층의 하부에 겹쳐진 프라이머층도 포함한다. 또한, 이러한 리소그래픽 인쇄판의 제조 방법, 및 레이져에 화상을 형성하는 방식으로 노출시키고 이어서 물 또는 세척 용액으로 세척하여 이러한 리소그래픽 인쇄판으로부터 화상이 형성된 리소그래픽 인쇄판을 제조하는 방법을 제공한다.

Description

레이져 화상 형성 장치에 사용하기 위한 리소그래픽 인쇄판{Lithographic Printing Plates For Use With Laser Imaging Apparatus}
기록용 재료에 인쇄된 화상을 도입하는 종래의 기술로는 활판 인쇄, 그라비어 인쇄 및 오프셋 리소그래피 등이 있다. 이들 인쇄 방법은 모두 판을 필요로 한다. 화상 패턴이 형성된 잉크를 전사하기 위하여, 상기 판은 통상적으로 효율성을 위하여 윤전기의 판 실린더 위에 놓여진다. 활판 인쇄의 경우에, 상기 화상 패턴은 융기된 부위의 형태로 판 위에 나타나며, 이 부위가 잉크를 수용하고 압인에 의하여 잉크를 기록 매질 위로 전사한다. 반면에 그라비어 인쇄 실린더는 일련의 웰(well) 또는 인덴테이션(indentation)을 함유하며, 이들이 기록 매질 위에 퇴적될 잉크를 수용한다. 과량의 잉크는 실린더와 기록 매질 사이에 접촉하기 전에 닥터 블레이드 또는 이와 유사한 장치에 의하여 실린더로부터 제거되어야 한다.
본원에서 사용된 "리소그래픽(lithographic)"이란 용어는 오프셋(offset), 오프셋 리소그래픽, 플라노그래픽(planographic) 등과 같은 다양한 용어를 동의어로서 포함하도록 정의된다. 본원에서 사용된 "습식 리소그래픽(wet lithographic)"이란 용어는 인쇄가 오일과 물의 비혼화성을 기본 원리로 하는 것으로서, 오일성 물질 또는 잉크가 화상 부위에 우선적으로 보유되고 물 또는 원천 용액(fountain solution)은 비-화상 부위에 우선적으로 보유되는 타입의 리소그래픽 인쇄를 의미한다. 적절히 제조된 표면이 물로 습유된 후 잉크가 가해지는 경우에, 화상 부위는 잉크를 수용하고 물을 배척하는 반면에 배경부 또는 비-화상 부위는 물을 보유하고 잉크를 배척한다. 이어서, 화상 부위의 잉크가 종이, 천 등과 같이 화상이 재생될 재료의 표면 위로 전사된다. 통상적으로 상기 잉크는 블랭킷(blanket)이라고 불리우는 매개 재료에 전사된 후 이 브랭킷이 화상이 재생될 재료의 표면 위로 잉크를 전사한다. 물을 사용하지 않는 건식 리소그래픽 인쇄 시스템의 경우, 판은 단순하게 잉크를 수용하고 화상은 직접적으로 기록 재료 위로 전사되거나 블랭킷에 전사된 후 기록 재료에 전사된다.
리소그래픽 인쇄판의 지지체로서 알루미늄이 수 년간 사용되어 왔다. 이러한 용도의 알루미늄을 제조하기 위하여, 입상화(graining) 공정과 이어지는 애노다이징(anodizing) 공정 모두가 통상적으로 사용된다. 입상화 공정은 판에 대한 화상의 접착성을 개선시키며 인쇄판의 배경부의 수-수용(water-acceptive) 성질을 강화시킨다. 상기 입상화와 애노다이징은 인쇄판의 성능과 내구성 모두에 영향을 미친다. 리소그래픽 인쇄판의 제조에 있어서 기계적 입상화 공정 및 전기분해 입상화 공정이 잘 알려져 있고 널리 사용되고 있다. 알루미늄을 애노다이징 하여 애노드성 산화물 코팅을 형성시킨 후 실리케이션(silication)과 같은 기술을 이용하여 애노다이징된 표면을 친수성화 시키는 공정도 본 기술 분야에 잘 알려져 있어서 본원에서 더 설명할 필요는 없다. 따라서 알루미늄 지지체는 리소그래픽 인쇄(특히 장 시간의 프레스 작업 필요한 경우)에 사용하기에 특히 적합하게 하게 하는 다공성, 방수성의 친수성 표면을 갖는 특징이 있다.
오프셋 프레스용 판은 통상 사진술을 이용하여 제조된다. 상기에 기재한 알루미늄 기재는 리소그래픽 인쇄 공정에 사용하기 위한 화상 형성에 적합한 매우 다양한 감광성(radiation-sensitive) 재료로 코팅된다. 노출 및 임의의 필요한 현상 및/또는 고정 후에 인쇄에 사용할 수 있는 화상을 제공하는 임의의 감광층이 적합하다. 이러한 타입의 리소그래픽 인쇄판은 통상적으로 염기성 현상 수용액을 사용하여 현상되며, 이 현상 용액은 상당한 양의 유기 용매를 더 포함하곤 한다.
전형적인 네가티브-워킹 서브스트랙티브(negative working substractive) 공정을 사용하는 습식 판을 제공하기 위하여, 본래의 자료가 촬영되어 사진 음화(negative)를 형성한다. 이 음화는 광중합체로 코팅된 수-수용성 산화물 표면을 갖는 알루미늄 판상에 놓여진다. 상기 음화를 통하여 광 또는 기타 조사에 노출되면, 조사되는 코팅 부위(본래 자료의 어두운 부위 또는 인쇄 부위에 대응됨)는 내구성있는 친유성 상태로 경화된다. 이어서, 상기 판은 경화되지 않은 코팅부(즉, 본래 자료의 비-화상부 또는 배경부에 대응하는 조사되지 않은 부위)를 제거하는 현상 과정이 수행되어 알루미늄 판의 친수성 표면이 노출된다.
본원을 통하여 다양한 문헌, 특허 및 공고된 특허출원이 인용된다. 본원에 문헌, 특허 및 공고된 특허출원은 본원발명이 속한 기술 분야의 상태를 보다 완전히 기재하기 위하여 본원에 참고문헌으로 포함된다.
상기 기재로부터 명백하듯이, 사진술 판 제조 공정은 시간을 요하고 필요한 화학을 지지하기에 적합한 장치 및 설비를 요하는 경향이 있다. 현상을 필요로 하지 않거나 현상에 물만을 사용하는 인쇄판을 생산하기 위한 노력이 수 년간 행해져왔다. 또한, 업자들은 판 화상 형성에 대한 전자식 대체품을 다수 개발햐였고, 이들 중 몇몇은 간행되어 이용할 수 있다. 이들 시스템을 사용하는 경우에, 디지털 제어되는 장치들이 인쇄될 화상을 나타내는 패턴으로 공판(blank plate)의 잉크 수용성을 변화시킨다. 이러한 화상 형성 장치는 1 이상의 레이져원 또는 비-레이져원에 의하여 생성되어 판 블랭크(plate blank) 위에 화학적 변화를 야기시키는(이로 인해 사진 음화가 필요없게 됨) 전자기파의 원, 판 블랭크 위에 잉크-배척 또는 잉크-수용 스팟을 집적적으로(collectively) 퇴적시키는 잉크 젯 장치 및 전극이 판 블랭크와 접촉하거나 또는 이에 근접하게 위치하여 판 블랭크의 지형을 물리적으로 변화시키는 전기 스파크를 형성시키고 이에 의하여 의도하는 화상을 집적적으로 형성하는 도트를 형성하는 스파크-방전 장치를 포함한다(미국특허 제4,911,075호 참조). 레이져 장치는 용이하게 이용할 수 있고 디지털 제어가 용이하기 때문에 레이져를 기본으로 하는 화상 형성 시스템을 개발하기 위하여 많은 노력이 경주되어 왔다. 이들 시스템은 하기를 포함한다.
1) 예를 들면, 미국특허 제3,506,779호, 동 제4,020,762호, 동 제4,868,092호, 동 제5,153,236호, 동 제5,372,915호 및 동 제5,629,354호에 기재된 바와 같이, 전통적인 화학적 공정을 위한 감광성 블랭크를 노출시키기 위하여 사용된 아르곤-이온 레이져, 2배-파수(frequency-doubled) Nd-YAG 레이져 및 적외선 레이져. 이들 접근 방법에 대한 한가지 대안으로서, 감광성 판 블랭크를 덮는 불투명한 코팅을 화상을 부여하는 패턴으로 선택적으로 제거하기 위하여 레이져가 사용되어 왔다. 이어서, 상기 판이 조사원에 노출되고, 이때 제거되지 않은 물질이 마스크로서 작용하여 판의 하부가 조사되지 않게 한다(예를 들면 미국특허 제4,132,168호에 기재되어 있음).
그러나, 산업분야에서 선호되는 저-전력 레이져라는 제한 요건과 관련하여 높은 기록 속도를 얻기 위해서는 매우 감광성이 큰 인쇄판이 필요하게 되었다. 불행하게도, 감광성이 높은 거의 대부분의 이들 판들은 보관 수명이 짧다.
2) 레이져 화상 형성에 대한 또 다른 방법은 예를 들면, 미국특허 제3,945,318호, 동 제3,962,513호, 동 제3,964,389호, 동 제4,395,946호 및 동 제5,395,729호에 기재된 바와 같은 열-전사(thermal-transfer) 물질을 사용한다. 이들 시스템을 사용하는 경우에, 레이져에 의하여 방출되는 광을 투과시키는 중합체 시이트가 전사성 물질로 코팅된다. 이 구조의 전사면은 수용체 시이트와 접촉하게 되고, 상기 전사 물질이 투과층을 통하여 선택적으로 조사된다. 조사는 전사물질이 수용체 시이트에 우선적으로 접착되게 한다. 전사 및 수용 물질은 원천 용액 및/또는 잉크에 대하여 상이한 친화성을 가져서, 조사되지 않은 전사 물질이 여전히 잔류하는 투과 중합체 시이트가 제거되면 적절한 화상이 형성된 최종 처리된판이 남게된다. 통상적으로, 상기 전사 물질은 친유성이고, 상기 수용 물질은 친수성이다.
전사 타입 시스템으로 제조한 판은 유효하게 전사될 수 있는 물질의 양이 한정적이기 때문에 유효 사용기간이 짧은 경향이 있다. 구체적인 구조에 따라서는 공기중의 먼지로 인하여 화질의 문제가 발생할 수 있다. 또한, 전사 공정이 물질의 용융 및 재응고를 수반하기 때문에, 다른 방법에 비하여 얻어지는 화질이 가시적으로 불량한 경향을 더 갖는다.
3) 기타 특허는 지지체 및 친수성 화상 형성층을 포함하는 리소그래픽 인쇄판에 대하여 기재하고 있는데, 이 친수성 화상 형성층은 화상을 부여하는 방식으로 레이져에 노출될 경우에 노출되지 않은 부위는 친수성으로 잔류하는 반면에 노출된 부위는 친유성으로 변화한다(예를 들면, 미국특허 제3,793,033호, 동 제4,034,183호, 동 제4,081,572호 및 동 제4,693,958호의 기재 참조). 그러나, 이러한 타입의 리소그래픽 인쇄판은 인쇄시 화질이 불량하기 때문에 친유성 화상 부위와 친수성 비-화상 부위사이 구별이 충분하지 못하다.
4) 레이져를 이용하는 초기의 사례에서는, 판 블랭크로부터 물질을 에칭으로 제거하여 음각(intaglio) 또는 활판 패턴을 형성하기 위하여 레이져를 사용하였다(예를 들면, 미국특허 제3,506,779호 및 동 제4,347,785호의 기재 참조). 이러한 방법은 이후에 예를 들면, 친유성 하부층을 노출시키기 위하여 친수성 표면을 제거하여 리소그래픽 판을 제조하는 데까지 확장되었다(예를 들면, 미국특허 제4,054,094호 참조). 이러한 초기의 시스템들은 일반적으로 높은 파워의 레이져를 필요로 하기 때문에 고가이고 느리다.
더욱 최근에는, 기타 적외선 레이져 절삭에 기초한 화상 형성 친수성 판에 대한 시스템이 개발되었다. 이들은 폴리에스테르/금속 적층물과 같은 친유성 기재 위 또는 금속 지지체에 코팅된 친유성 중합체 위에 코팅된 유기 친수성 중합체를 레이져를 매개로 하여 제거하여 동작된다. 절삭 코팅과 열 흡수 금속 지지체 사이에 이러한 물질을 사용하면 친수성 표면층을 절삭하거나 물리적으로 변형시키기 위하여 필요한 레이져 에너지의 양을 감소시키는 열 차단 물질을 제공한다(예를 들면, 미국특허 제5,339,737호, 동 제5,351,617호, 동 제5,353,705호, 동 제5,379,698호, 동 제5,385,092호, 동 제5,440,987호, 동 제5,487,338호, 동 제5,540,150호, 동 제5,551,341호 및 동 제5,638,753호, 및 캐나다특허 제1,050,805호의 기재 참조). 레이져 출력은 1 이상의 판층을 절삭하거나 또는 소유성(oleophobic) 또는 친수성 표면 층을 물리적으로 변형시키며, 각각의 경우에 판 상에 화상을 부여하는 패턴의 형상을 초래한다.
이러한 방법의 한 가지 문제점은 친수성 비-화상 부위가 오랜 기간 사용할 수 있을 만큼의 내구성을 가지지 못하며, 용이하게 스크랫치된다는 점이다. 또한, 친수성 코팅은 종래의 입상화 및 애노다이징된 표면과는 상이하여서 일반적으로 전통적인 인쇄의 주류에서 벚어난 것으로 여겨지고 있다. 이들 판의 다른 한가지 단점은 절삭에 의하여 제거되는 부분이 잉크를 수용하는 화상 부위이기 때문에 네가티브 워킹이라는 점이다. 화상 형성를 위하여 큰 스팟 크기를 갖는 레이져를 사용하는 경우에, 인쇄된 도트의 가장 작은 크기가 스팟 크기와 같다. 결과적으로, 인쇄시의 화질이 양호하지 않다. 예를 들면, 35 마이크로미터의 레이져 스팟 크기는 네가티브 워킹 판에 35 마이크로미터의 가장 작은 도트 크기를 인쇄한다. 인치 당 200 라인(lpi)의 망판(halftone) 스크린상에서, 이는 5 내지 6% 도트에 상응한다.
미국특허 제5,493,971호는 전통적인 입상화 금속 판의 잇점을 절삭성 레이져 화상 형성에 까지 확장시키고 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 판의 잇점도 제공한다. 이들 판은 절삭에 의하여 제거되지 않는 부분이 잉크를 수용하는 화상 부위이기 때문에 포지티브 워킹이다. 이러한 구조는 입상화 금속 기재, 접착-촉진 프라이머로도 작용하는 친수성 보호 코팅 및 절삭가능한 친유성 표면층을 포함한다. 화상 형성 레이져는 절삭가능한 표면층과 상호작용하여 그의 절삭을 초래한다. 화상 형성를 위하여 스팟 크기가 큰 레이져를 사용하는 경우에, 스팟 크기가 큰 레이져 광선이 매우 작은 부위 주위의 물질을 제거하도록 프로그램되기 때문에 인쇄된 도트의 가장 작은 크기가 매우 작을 수 있다. 고체 인쇄 부위 내의 가장 작은 구멍이 큰 경우에도 하지만 고체의 매우 작은 구멍이 잉크로 충전되는 경향이 있기 때문에 인쇄 화질에 심각한 영향을 미치지는 않는다. 결과적으로, 인쇄시의 화질이 양호하다. 화상 형성 후에, 상기 판은 적절한 용매(예를 들면, 물)로 세척되어 친수성 접착-촉진 프라이머 또는 친수성 금속 기재가 노출된다. 세척 후에, 상기 판은 종래의 인쇄 프레스 상의 입상화 금속 판과 유사하게 작동된다.
그러나, 잔류하는 친유성 표면 코팅의 친수성 보호층에 대한 접착성은 여전히 극복하기 어려운 문제로 판명되었다. 접착성의 손실은 화질의 주된 손상을 초래할 수 있다. 작은 도트 또는 타입이 현상 또는 초기 프린트 도중에 제거되곤 한다. 보다 장시간의 프린트 작업이 가능하도록 절삭 가능한 표면 코팅의 접착성 및/또는 그의 내구성을 개선시키기 위한 노력은 통상적으로 판을 화상 형성하기 위하여 필요한 레이져 에너지를 현저히 증가시켰다.
미국특허 제5,605,780호는 애노다이징된 알루미늄 지지체를 포함하는 리소그래픽 인쇄판에 대하여 기재하고 있는데, 이 지지체는 그 위에 필름-형성 시아노아크릴레이트 중합체 결합제 중에 분산된 적외선 흡수제를 포함하는 친유성 화상-형성 층을 갖는다. 친수성 보호층은 제거되어 있다. 상기 미국특허 제5,605,780호는 낮은 레이져 에너지가 요구되고, 잉크 수용성이 양호하며, 지지체에 대한 접착성 및 내구 특성이 양호하다고 기재하고 있다. 8,200 회 압인 이상의 인쇄 작업이 실시예에 나타나 있다.
레이져 화상 형성이 가능한 습식 리소그래픽 인쇄판을 개발하기 위하여 많은 노력이 경주되었음에도 불구하고, 염기성 용매 또는 현상 용액이 필요하지 않으며, 인쇄시 종래의 리소그래픽 인쇄판과 같은 외관 및 성능을 가지며, 넓은 영역의 레이져 에너지(700 내지 1150 nm)에 민감하고, 화상의 해상도가 높고, 프레스시 장기간(100,000 회 이상의 압인) 사용할 수 있는 판에 대한 필요성이 여전히 존재한다.
<발명의 요약>
본원발명의 일 측면은 a) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 잉크 수용 표면층, b) 1종 이상의 중합체를 포함하며 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징이 있는 표면층 하부의 제2층 및 c) 친수성 기재를 포함하는 레이져 조사에 의하여 화상 형성될 수 있는 포지티브 워킹의 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다(여기에서, 상기 제2층은 제2층에 존재하는 중합체의 총 중량을 기준으로 13중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분을 포함함). 본원에서 사용된 "인쇄 부재(printing member)"라는 용어는 "판"이란 용어와 동의어이며, 잉크 및/또는 원천 용액에 대하여 상이한 친화성을 나타내는 부위들에 의하여 한정되는 화상을 기록할 수 있는 임의의 타입의 인쇄 부재 또는 표면에 관련된 용어이다. 유기 술폰산 성분의 중량%를 결정하기 위하여 본원에서 사용된 "중합체"란 용어는 중합되거나 중합체성 물질과 혼합되어 절삭성-흡수층의 중합체성 필름 성분을 형성하는 단량체성 물질(예를 들면, 단량체성 가교결합제)을 포함하는 중합체 필름 형성제인 모든 물질을 포함한다. 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 방향족 술폰산이며 바람직하게는 p-톨루엔술폰산(PTSA)이다. 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 아민-블록된 유기 술폰산 성분이다.
일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 본원발명의 인쇄 부재의 절삭성-흡수층 내에 존재하는 중합체 총 중량의 15 내지 75중량%의 양으로 존재한다. 또 다른 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 절삭성-흡수층내에 존재하는 중합체 총 중량의 20 내지 45중량%의 양으로 존재한다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 표면층의 두께는 약 0.1 내지 약 20 마이크로미터이다. 바람직한 일 실시태양에서, 표면층의 두께는 약 0.1 내지 약 2 마이크로미터이다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 표면층은 중합체 및 가교결합제를 포함한다. 표면층 내의 적절한 중합체로는 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 니트로셀룰로오스 및 폴리시아노아크릴레이트등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 표면층내의 가교결합제는 멜라민이다. 일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 표면층은 유기 술폰산 성분을 더 포함한다. 바람직한 일 실시태양에서, 표면층 내의 유기 술폰산 성분은 아민-블록된 P-톨루엔술폰산 성분이다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 표면층은 물 또는 세척 용액 내에서 용해되지 않는 특징을 더 갖는다. 본원에서 사용된 "세척 용액(cleaning solution)"이란 용어는 본원발명의 인쇄 부재의 레이져-절삭된 부위로부터 잔류하는 부스러기를 제거하거나 세척하기 위하여 사용되는 용액에 관한 것이고, 완충된 수용액을 포함하는 물, 용매 및 그들의 조합을 포함할 수 있다(미국특허 제5,493,971호 참조). 바람직한 일 실시태양에서, 표면층은 물 또는 세척 용액내에서의 불용성 및 습식 리소그래픽 인쇄 프레스시의 내구성 특징을 더 갖는다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층이 잉크를 수용한다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층은 습식 리소그래픽 인쇄 프레스시 잉크를 수용하지 않고 물을 수용하는 특징을 더 갖는다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층의 두께는 약 1.0 내지 약 20 마이크로미터이다. 바람직한 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층의 두께는 약 0.1 내지 약 2 마이크로미터이다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층은 적외선 감광제를 포함한다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층 내의 적외선 감광제는 카본 블랙이다. 바람직한 일 실시태양에서, 절삭-흡수성층의 적외선 감광제인 카본블랙은 카본 블랙의 표면상에 술포네이트기를 포함하며 가장 바람직하게는 상기 카본 블랙은 CAB-O-JET 200이다. 일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층의 1종 이상의 중합체는 가교결합제이다. 절삭-흡수성 제2층내의 적절한 중합체로는 니트로셀룰로오스, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 클로리드 및 그들의 테르중합체(terpolymer) 및 공중합체등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층의 1종 이상의 중합체는 친수성 중합체이다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층의 가교결합제는 멜라민이다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층은 물 또는 세척 용액 내에서 용해되지 않는 특징을 갖는다.
본원발명의 인쇄 부재의 이러한 측면에 적합한 기재는 친수성이며 금속, 종이 및 중합체 필름 등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.
기재로 적합한 중합체성 필름으로는 폴리에스테르, 폴리카르보네이트 및 폴리스티렌 등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 기재의 중합체성 필름은 친수성이 되도록 처리된다. 일 실시태양에서, 기재는 폴리에스테르 필름이고, 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이다. 기재로 적합한 금속으로는 알루미늄, 구리, 크롬 및 강철등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 일 실시태양에서, 기재의 금속은 입상화되고, 애노다이징되고, 실리케이트되거나 또는 이들에 조합으로 처리된다. 바람직한 일 실시태양에서, 기판은 알루미늄이다.
본원발명의 또 다른 측면은 a) 본원에 기재된 바와 같이 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있는 잉크 수용성 표면층, b) 본원에 기재된 바와 같이 1종 이상의 중합체를 포함하며 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징이 있는 표면층 하부의 제2층, c) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있는 제2층 하부의 친수성 제3층 및 d) 기재를 포함하며, 레이져 조사에 의하여 화상 형성될 수 있는 포지티브 워킹의 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다(여기에서, 상기 제2층은 본원에 기재된 바와 같이 제2층에 존재하는 중합체의 총 중량을 기준으로 13중량%을 초과하는 유기 술폰산 성분을 포함함). 일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 제3층의 두께는 약 1 내지 약 40 마이크로미터이다. 일 실시태양에서, 제3층의 두께는 약 2 내지 약 25 마이크로미터이다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 친수성 제3층은 친수성 중합체 및 가교결합제를 포함한다. 제3층에 적합한 친수성 수지로는 폴리비닐 알코올 및 셀룰로식스(cellulosics)등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 일 실시태양에서, 제3층의 친수성 중합체는 폴리비닐 알코올이다. 일 실시태양에서, 가교결합제는 예를 들면 암모늄 지르코닐 카르보네이트와 같은 지르코늄 화합물이다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 친수성 제3층은 물 또는 세척 용액 내에서 용해되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 친수성 제3층은 물 또는 세척 용액 내에서 과도하게 용해되지는 않는 특징이 있다.
본원발명은 인쇄 부재(部材;member)(절삭-흡수층 및 기재사이에 겹쳐진 친수성의 중합체층 또는 제3층을 포함하는 인쇄 부재)에 대한 본원발명의 이러한 측면에 적절한 기재는 친수성이거나 비-친수성/잉크 수용성이며, 금속, 종이 및 중합체 필름등을 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 기재로 적합한 중합체 필름으로는 폴리에스테르, 폴리카르보네이트 및 폴리스티렌등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 기재의 중합체 필름을 친수성이되도록 처리한다. 일 실시태양에서, 상기 기재는 폴리에스테르 필름이고, 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이다. 기재로 적합한 금속으로는 알루미늄, 구리, 크롬 및 강철등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 일 실시태양에서, 금속 기재는 입상화, 애노다이징, 실리케이팅 또는 이들의 조합으로 처리된다. 바람직한 일 실시태양에서, 상기 기재는 알루미늄이다.
본원발명의 일 측면은 (a) 본원에 기재된 바와 같은, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있는 잉크-수용 표면층, (b) 1종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징이 있는 표면층 하부의 제2층 및 (c) 본원에 기재된 바와 같은 친수성 기재를 포함하며, 상기 제2층과 친수성 기재 사이에 접착-촉진제를 포함하는 프라이머층이 겹쳐진, 레이져 조사에 의하여 화상이 형성될 수 있는 포지티브 워킹(positive working) 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다. 상기 프라이머층은 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 친수성이고, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 제2층 또는 절삭-흡수층의 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 제2층의 절삭성 흡수 및 이후의 프라이머층의 표면으로부터 제2층의 절삭성 흡수 잔여물을 제거하기 위하여 물 또는 세척 용액으로 수행하는 세척 단계에 의하여 제거되지 않는 특성을 더 갖는다.
일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 화합물을 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 암모늄 지르코닐 카르보네이트를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 프로피오네이트를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 옥사이드를 포함한다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 무기 겔층이고, 바람직하게는 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 무기 겔층이다.
또 다른 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 유기 술폰산 성분을 포함하고, 바람직하게는 방향족 술폰산을 포함하며, 더욱 바람직하게는 p-톨루엔술폰산을 포함한다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층과 친수성 기재사이에 겹쳐진 프라이머층 내의 유기 술폰산 성분은 프라이머층의 2 내지 100 중량%의 양으로 존재하고, 바람직하게는 프라이머층의 50 내지 100중량%의 양으로 존재하며, 가장 바람직하게는 프라이머층의 80 내지 100중량%의 양으로 존재한다.
일 실시태양에서, 제2층과 기재사이에 겹쳐진 프라이머층의 두께는 약 0.01 내지 약 2 마이크로미터이고, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 0.1 마이크로미터이다.
본원발명의 또 다른 측면은 (a) 본원에 기재된 바와 같은. 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있는 잉크-수용 표면층, (b) 1 종 이상의 중합체를 포함하고 본원에 기재된 바와 같은, 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는 상기 표면층의 하부에 존재하는 제2층, (c) 본원에 기재된 바와 같은, 레이져 조사의 절삭성흡수가 없는 특징이 있는 상기 제2층의 하부에 존재하는 친수성 제3층 및 (d) 본원에 기재된 바와 같은, 기재를 포함하며, 접착-촉진제를 포함하는 프라이머층이 상기 제2층과 제3층 사이에 겹쳐져 있는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다. 상기 프라이머층은 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 친수성이고, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 제2층 또는 절삭성 흡수층의 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고 물에 용해되지 않는 특성이 있다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 제2층의 절삭성 흡수 및 이에 이은 프라이머층으로부터 제2층의 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위한 세척 용액에 의해서 제거되지 않는 특성을 더 갖는다.
일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 화합물을 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 암모늄 지르코닐 카르보네이트를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 프로피오네이트를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 지르코늄 옥사이드를 포함한다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 무기 겔층이고, 바람직하게는 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 무기 겔층을 포함한다. 또 다른 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 유기 술폰산 성분을 포함하고, 바람직하게는 방향족 술폰산을 포함한다. 일 실시태양에서, 제2층과 제3층사이에 겹쳐진 프라이머층의 유기 술폰산 성분은 제는 프라이머층의 2 내지 100 중량%의 양으로 존재하고, 바람직하게는 프라이머층의 50 내지 100 중량%의 양으로 존재하며, 가장 바람직하게는 프라이머층의 80 내지 100 중량%의 양으로 존재한다.
일 실시태양에서, 제2층과 제3층사이에 겹쳐진 프라이머층의 두께는 약 0.01 내지 약 2마이크로미터이고, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 0.1마이크로미터이다.
본원발명의 또 다른 측면은 본원에 기재된 바와 같이 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재의 제조 방법에 관한 것이다.
바람직한 일 실시태양에서, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재는 (a) 입상화되고 애노다이징된 금속 기재를 제공하고, (b) 친수성 중합체 및 가교결합제를 포함하는 친수성 중합체층을 기재상에 코팅한 후 상기 중합체 층을 경화하며, (c) 절삭-흡수성 감광제(sensitizer), 친수성 중합체 및 가교결합제를 포함하는 중간층을 상기 중합체층 위에 코팅한 후 상기 중간층을 경화하여 절삭-흡수층을 형성하고 (d) 중합체 및 가교결합제를 포함하는 잉크-수용성 표면층을 상기 중간체층 위에 코팅한 후 경화하여 얇고 내구성 있는 잉크-수용성 표면층을 형성하는 것을 포함하며, 이때 상기 중간체 층이 제2층에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 13중량%를 초과하는 유기 술폰산을 더 포함한다.
본원발명의 또 다른 측면은 (a) 본원에 기재된 바와 같은, 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재를 제공하고, (b) 상기 인쇄 부재를 의도하는 화상대로 레이져 조사에 노출시켜서 상기 인쇄 부재의 잉크-수용층의 일부분 및 절삭-흡수성 제2층의 일부분을 절삭하여 친수성 기재상에 또는 대안적으로는 친수성 제3층(존재하는 경우)상에 잔류 복합체층을 형성하며, (c) 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층의 하부에 존재하는 친수성 기재로부터 또는 대안적으로 친수성 제3층(존재하는 경우)으로부터 잔여 복합체층을 물 또는 세척 용액으로 세척하는 것을 포함하는 화상이 형성된 습식 리소그래픽 인쇄판의 제조방법에 관한 것이다(이때 상기 인쇄 부재의 잉크-수용 표면층은 물 또는 세척 용액에 용해되지 않음).
본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재는 포지티브 워킹 판이다. 절삭 흡수성인 제2층 및 잉크 수용성이고, 친유성이며, 소수성이고 내구성이 있는 표면층이 레이져 조사에 노출된 부위에서 화상 형성후 세척 단계에서 절삭되고 실질적으로 완전히 제거되어 비-노출 부위가 리소그래픽 인쇄시 잉크-전사 표면으로서 작용한다. 바람직한 일 실시태양에서, 친수성 제3층이 절삭-흡수성 제2층 하부에 존재하는 경우, 화상의 형성후 가교결합된 친수성 중합체성 제3층은 통상적으로 친수성 제3층에 약하게 결합된 다량의 절삭 부산물 또는 잔류 복합체 층과 함께 레이져 화상 형성된 부위내의 판상에 잔류한다. 부산물 또는 잔류 복합체층은 입상화되거나 또는 애노다이징된 알루미늄 표면과 같은 친수성 기재 보다 친수성 제3층으로부터 더 용이하게 제거되기 때문에 상기 친수성 제3층은 부산물 또는 잔류 복합체층의 제거를 촉진시킨다. 본원발명의 한가지 잇점은 원천 용액이 절삭 부스러기 또는 잔류 복합체 층을 판으로부터 용이하게 세척해낼 것이기 때문에 리소그래픽 인쇄 부재 또는 판을 즉시 인쇄에 사용할 수 있다는 점이다. 장기간의 인쇄 작업 도중에, 상기 친수성 제3층(존재한다면)은 통상적으로 용해되지 않고 비-친수성 기재가 사용될 수 있다. 임의로, 상기 친수성 제3층은 단지 매우 느리게 용해될 수 있고 따라서친수성 제3층이 용해되어 제거되는 경우에 하부의 친수성 기재가 노출되기 때문에 친수성 기재가 바람직하다. 이러한 후자의 경우에, 한가지 친수성층이 단지 다른 한가지 종으로 바뀔 뿐이기 때문에 비-화상 부위의 인쇄 특성은 영향을 받지 않는다. 다른 한편으로, 본원발명의 비-노출 화상 영역 하부의 상기 친수성 제3층은 용해를 통하여 도려내어 지는 것이 거의 불가능(특히 상기 친수성 제3층이 가교결합된 경우)하기 때문에 이러한 화상층에 대한 훌륭한 접착 프라이머를 제공한다.
본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재가 기존의 것들보다 우월한 점은 큰 스팟 크기를 갖는 상대적으로 저렴한 다이오드 레이져로도 신속하게 화상을 형성할 수 있고, 용이하게 세척되며, 화상의 해상도 및 인쇄 화질이 훌륭하고, 훌륭한 내구성 및 인쇄 프레스시 화상 접착성을 제공하는 내수성, 내알칼리성 및 내용매성을 가지고, 제작 비용이 저렴하다는 점에 있어서 특히 명백하다.
절삭-흡수성 제2층 내에 존재하는 전체 중합체를 기준으로 13중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분의 존재 및 잉크-수용 표면층, 친수성 제3층(존재하는 경우) 및 프라이머층(존재하는 경우) 중의 유기 술폰산 성분의 임의적인 존재는 높은 레이져 감성, 높은 화상 해상도, 레이져-노출 부위에 형성된 잔류 복합체층의 제거의 용의성 및 인쇄 프레스시의 잉크-수용성 화상 부위의 훌륭한 내구성, 접착성 및 내수성과 내원천용액성의 조합(레이져에 의한 직접적인 화상 형성을 이용하는 리소그래픽 인쇄에서 바람직한 특성들)을 개선시킨다.
본원발명의 또 다른 측면은 절삭-흡수층 내에 존재하는 전체 중합체 중량을 기준으로 본원에서 설명한 바와 같은 유기 술폰산 성분을 13중량%를 초과하여 포함하는 절삭-흡수층을 잉크-수용성 표면층으로서 포함하는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다. 절삭-흡수 표면층 내의 유기 술폰산 성분의 높은 중량%는 본원발명의 다른 측면의 비-절삭성 흡수성 잉트-수용성 오버코트 표면층을 부가적으로 필요로하지 않으면서도 신속한 화상 형성, 레이져 화상 부위내의 잔류 비-절삭 부스러기의 제거의 용이성, 훌륭한 해상도 및 화질, 인쇄 프레스시의 훌륭한 화상 접착성 및 내구성을 위한 내수성의 조합된 장점을 리소그래픽 인쇄 부재에 제공한다. 따라서, 본원발명의 또 다른 측면은 (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 본원에 기재된 바와 같은 레이져 조사의 절삭성 흡수 특성을 갖는 잉크-수용성 표면층, (b) 임의로, 상기 표면층 하부에 존재하며 본원에 기재된 바와 같은 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있는 친수성 중합체층 및 (c) 본원에 기재된 바와 같은 기재를 포함하며, 상기 표면층이 표면층에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 하여 13중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분을 더 포함하는 것인 레이져 조사에 의하여 화상을 형성시킬 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다.
나아가, 본원발명의 또 다른 측면은 (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 본원에 기재된 바와 같은 레이져 조사의 절삭성 흡수 특성을 갖는 잉크-수용성 표면층, (b) 임의로, 표면층 하부에 존재하며 본원에 기재된 바와 같은 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있는 친수성 중합체층 및 (c) 본원에 기재된 바와 같은 기재를 포함하며, 접착-촉진제를 포함하는 프라이머층이 상기 친수성 중합체층과 표면층사이에 겹쳐져 있는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성시킬 수 있는 포지티브워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다. 상기 프라이머층은 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 친수성이고, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 표면 또는 절삭-흡수층의 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않으며, 물에 용해되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 상기 프라이머층은 표면층의 절삭성 흡수 및 이후의 프라이머층의 표면으로부터 표면층의 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위한 물 또는 세척용액을 통한 세척 단계에 의하여 제거되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 화합물을 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코닐 카르보네이트를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 프로피오네이트를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 옥사이드를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 무기 겔층이고, 바람직하게는 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 무기 겔층이다. 또 다른 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 유기 술폰산 성분을 포함하고, 바람직하게는 방향족 술폰산을 포함한다. 일 실시태양에서, 상기 친수성 중합체층과 절삭-흡수 표면층 사이에 겹쳐진 프라이머층 내의 유기 술폰산 성분은 프라이머층의 2 내지 100 중량%의 양으로 존재하고, 바람직하게는 프라이머층의 50 내지 100 중량%의 양으로 존재하며, 가장 바람직하게는 프라이머층의 80 내지 100 중량%의 양으로 존재한다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 존재 이외에도, 상기 절삭-흡수 표면층은 절삭-흡수 표면층 내에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 13중량%를 초과하는 유기 술폰산을 더 포함한다.
본원발명의 또 다른 측면은 (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 본원에 기재된 바와 같은 절삭성 흡수 특성을 갖는 잉크-수용 표면층을 포함하는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재를 제공하고, (b) 상기 인쇄 부재의 절삭-흡수 표면층 부분을 절삭하기 위하여 의도하는 화상대로 레이져 조사에 인쇄 부재를 노출시켜서 친수성 기재 또는, 대체적으로, 친수성 중합체성 제2층(존재하는 경우) 위에 잔류하는 복합체 층을 형성하며, (c) 물 또는 세척 용액을 사용하여 인쇄 부재의 표면층 하부에 존재하는 친수성 기재 또는, 대체적으로는, 친수성 중합체 제2층(존재하는 경우)으로부터 잔류하는 복합체 층을 세척해내는 단계를 포함하며, 상기 인쇄 부재의 절삭-흡수성 잉크-수용 표면층이 물 또는 세척용액에 용해되지 않는 것인 화상이 형성된 습식 리소그래픽 인쇄 부재의 제조 방법에 관한 것이다.
본 기술분야의 숙련된 기술자가 이해할 수 있는 바와 같이, 본 발명의 일 실시태양의 및 측면의 특징이 본 발명의 다른 실시태양 및 측면에 적용될 수 있다.
본원 발명의 상기에 설명된 특징과 잇점 및 기타 특징과 잇점은 하기의 상세한 기재 및 도면으로부터 본 기술분야의 숙련된 기술자가 이해할 수 있을 것이다.
본원발명은 일반적으로 리소그래피에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 디지털 제어되는 레이져 출력을 사용하는 화상 형성 리소그래픽 인쇄판을 위한 시스템에 관한 것이다. 더욱 특이적으로는, 본원발명은 습식 리소그래픽 인쇄 프레스를 사용하고 직접적인 화상 형성에 특히 적합한 신규한 리소그래픽 인쇄판에 관한 것이다.
상기 논의는 수반되는 도면과 연관짓는 경우 하기의 발명의 상세한 설명으로부터 더욱 용이하게 이해할 수 있을 것이다.
도1은 잉크-수용성 표면층, 절삭-흡수성 제2층, 친수성 제3층 및 지지 기재를 갖는 본원 발명의 리소그래픽 판의 확대된 단면도를 나타낸다.
도2A 및 2B는 화상을 형성하고 난 후(A) 및 세척 후(B)의 도 1의 리소그래픽판의 확대된 단면도를 나타낸다.
도3은 잉크-수용성 표면층, 절삭-흡수성 제2층 및 친수성 지지 기재를 갖는 본원발명에 따른 리소그래픽 판의 대체적인 실시태양의 확대된 단면도를 나타낸다.
도4는 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층, 친수성 중합체성 제2층 및 지지 기재를 갖는 본원발명의 리소그래픽 판의 대체적인 실시태양의 확대된 단면도를 나타낸다.
도5는 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층 및 친수성 지지 기재를 갖는 본원발명의 리소그래픽 판의 대체적인 실시태양의 확대된 단면도를 나타낸다.
유기 술폰산
본원발명의 일 측면은 레이져 조사에의 하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 있어서 유기 술폰산의 사용에 관한 것이고, 특히 인쇄 부재의 절삭-흡수층에 있어서 다량의 유기 술폰산의 사용에 관한 것이다.
예를 들면, 1998년 1월 23일 출원된 "레이져 방전 화상 형성 장치와 함께 사용하기 위한 리소그래픽 인쇄판(Lithographic Printing Plates for Use with Laser Discharge Imaging Apparatus)"이란 명칭의 본 출원인의 미국가출원 일련번호 제60/072,358호에 기재되어 있는 바와 같이, 킹 인더스트리즈(King Industries, Norwalk, CT)로부터 구입할 수 있는 아민-블록된 유기 술폰산 촉매에 대한 상표인 NACURE 2530 중의 p-톨루엔술폰산(PTSA) 성분을 존재하는 중합체의 전체 중량을 기준으로 약 5.4중량%의 양으로 절삭-흡수 제2층 중에 사용하였다. 이 PTSA-기재 촉매는 Cytec Corporation(Wayne, NJ)으로부터 구입할 수 있는 멜라민 가교결합제에 대한 상표인 CYMEL 303, Air Products(Allentown, PA)로부터 구입할 수 있는 폴리비닐 알코올 중합체에 대한 상표인 AIRVOL 125, Union Carbide Corporation(Danbury, CT)로부터 구입할 수 있는 비닐 공중합체 수 분산액에 대한 상표인 UCAR WAV-110 및 절삭-흡수성 제2층 중에서 중합체성 필름-형성 물질을 구성하는 중합체의 경화를 촉진하였다. 본원발명의 절삭-흡수층 중의 유기 술폰산 성분의 중량%를 계산하기 위하여, 유기 술폰산 성분(상기에 언급한 특허 가출원의 실시예 및 본원발명의 실시예에서 p-톨루엔술폰산은 NACURE 2530의 중량의 25%를 구성함)을 존재하는 중합체(이 실시예에서는, CYMEL 303, AIRVOL 125 및 UCAR WBV-110의 혼화 중량)의 전체 건조 중량으로 나눈다. 이 실시예에서, p-톨루엔술폰산의 중량은 p-톨루엔술폰산의 0.3중량부를 나타내도록 0.25가 곱해진 NACURE 2530의 중량(1.2 중량부)이다. 중합체의 혼화된 중량은 전체 5.51 중량부에 대한 AIRVOL 125(2.20 중량부), UCAR WBV-110(2.10 중량부) 및 CYMEL 303(1.21 중량부)의 건조 중량부를 더하여 계산한다. 상기 p-톨루엔술폰산(0.3 중량부)의 중량을 이 혼화된 존재하는 전체 중합체(5.51 중량부)로 나누고 100을 곱하여 중량%로 변환시키면 이 실시예에 대한 절삭-흡수층 중의 유기 술폰산 성분의 중량%로 5.4중량%가 얻어진다.
놀랍게도, 존재하는 중합체 전체 중량의 13 중량%를 초과하는 수준까지 현저히 증가된 NACURE 2530중의 p-톨루엔술폰산과 같은 유기 술폰산 성분은 얻을 수 있는 레이져 노출된 부위의 세척 용이성, 장기간 프레스 작업 동안 판의 잉크-수용 부위의 내구성 및 접착성, 레이져 조사에 대한 민감성 및 양호한 화상 해상도 및 인쇄 화질을 현저히 개선시킨다는 사실을 발견하게 되었다. 존재하는 중합체 전체 중량의 13중량%를 초과하는 이러한 중량%는 코팅의 경화를 촉진하기 위하여 통상적으로 사용되는 유기 술폰산 촉매의 수준보다 높다. 유기 술폰산 성분의 높은 수준으로부터 얻어지는 이들 잇점은 물, 원천 용액 또는 세척 용액에 대한 난용성이 감소하는 것과 같은 어떠한 현저한 단점도 수반하지 않으면서 얻을 수 있다.
리소그래픽 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층 중의 유기 술폰산 성분의 수준이 증가되는 잇점 이외에도, 인쇄 부재의 잉크-수용성 표면층 중의 유기 술폰산 성분의 부수적인 존재는 증가된 잇점을 더 제공할 수 있다.
일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산은 절삭-흡수성 제2층과 친수성 제3층의 사이 또는 대체적으로 생성물 구조에 친수성 제3층이 존재하지 않는 경우 친수성 기재와 절삭-흡수성 제2층 사이에 존재하는 프라이머층중에 존재한다. 프라이머층중의 유기 술폰산 성분의 수준은 광범위하게 변할 수 있고, 프라이머층의 2 내지 100 중량%의 범위를 포함할 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 본원발명의 프라이머층 중의 유기 술폰산 성분의 잇점은 절삭-흡수층 중의 유기 술폰산 성분의 증가된 수준으로 인하여 얻어지는 것과 유사하다.
본원에서 사용된 "유기 술폰산"이란 용어는 유기 화합물의 탄소원자에 공유결합된 술폰산 부분(-SO3H)을 하나 이상 갖는 화합물을 나타낸다. 본원에서 사용된"유기 술폰산 성분"이란 용어는 유리된 유기 술폰산에 관한 것이고, 본 기술분야에서 잘알려진 바와 같이 열 또는 레이져 조사 같은 것에 의하여 블록된 유기 술폰산 촉매 또는 잠재적 유기 술폰산 촉매가 분해되어 의도하는 경화 반응을 촉매하기 위하여 유리되거나 또는 탈불록된 유기 술폰산을 형성하여 형성되는 유리된 유기 술폰산에 관한 것이기도 하다. 블록된 유기 술폰산 또는 잠재적 유기 술폰산 촉매로부터 얻을 수 있는 유리된 유기 술폰산의 중량은 절삭-흡수성 코팅층 중에 존재하는 중합체의 전체 중량을 기준으로한 유기 술폰산 성분의 중량%를 계산하기 위하여 본원에서 사용된다. 본 기술 분야에 잘 알려져 있는 바와 같이, 블록된 유기 술폰산 촉매는 아민과 같은 복합체 형성 물질과의 유기 술폰산의 복합체 또는 부가생성물일 수 있고, 유기 술폰산 및 복합체 형성 물질의 몰비는 예를 들면, 1.0:0.5 내지 1.0:2.0과 같이 광범위하게 변할 수 있다. 또 다른 한편으로, 블록된 유기 술폰산 촉매는 유기 술폰산의 에스테르 형태의 블록된 촉매를 제공하는 예를 들면 알코올과 같은 적절한 물질과 유기 술폰산의 반응 생성물일 수 있다. 매우 다양한 블록된 유기 술폰산 및 잠재적 유기 술폰산 촉매가 공지되어 있고 유기 술폰산 성분을 제공하기 위하여 본원발명에서 사용될 수 있다. 적절한 유기 술폰산 성분을 제공하는 적절한 블록된 유기 술폰산 또는 잠재적 유기 술폰산 촉매의 예로는 예를 들면, 미국특허 제4,075,176호, 동 제4,200,729호, 동 4,632,964호, 동 제4,728,545호, 동 제4,812,506호, 동 제5,093,425호, 동 제5,187,019호, 동 제5,681,890호 및 동 제5,691,002호에 기재된 바와 같은 아민-블록된 유기 술폰산, 예를 들면 미국특허 제4,192,826호, 동 제4,323,660호, 동 제4,331,582호, 동제4,618,564호, 동 제5,102,961호, 동 제5,364,734호 및 동 제5,176,756호에 기재된 바와 같은 유기 술폰산의 에스테르, 예를 들면 미국특허 제4,839,427호에 기재된 바와 같은 유기 술폰산 및 글리시드아미드의 반응 생성물 및 예를 들면 미국특허 제4,618,526호에 기재된 바와 같은 유기 술폰산의 아미드 등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 기재에 적용되기 위한 코팅 용액중의 유리되거나 또는 탈블록된 유기 술폰산 대신에, 미리 가교결합되어 점성이 증가하는 것을 방지하여 코팅 용액에 안정한 보존성을 부여하며 최종처리된 코팅층에서 보다 양호한 코팅 균질성 및 내수성이 종종 얻어지기 때문에 블록된 유기 술폰산 또는 잠재적 유기 술폰산 촉매가 가교결합 코팅에 통상적으로 사용된다.
매우 광범위한 유기 술폰산 성분이 공지되어 있고 본원발명에서 사용될 수 있다. 적절한 유기 술폰산 성분의 예로는 예를 들면, p-톨루엔술폰산, 도데실벤젠술폰산, 디노일나프탈렌 술폰산, 트리데실벤젠 술폰산, 메탄 술폰산, 폴리스티렌 술폰산 및 도데실벤젠디술폰산과 같은 4 이하의 pKa를 갖는 유기 술폰산 등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 본원발명의 유기 술폰산 성분은 방향족 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 p-톨루엔술폰산(PTSA)이다.
일 실시태양에서, 본원발명의 유기 술폰산 성분은 블록된 유기 술폰산 또는 잠재적 유기 술폰산 촉매의 성분이고, 바람직하게는 아민-블록된 유기 술폰산이다. 본원에서 사용된 "아민"이란 용어는 포화된 고리를 갖는 헤테로환식 아민을 포함하는 1차, 2차 및 3차 아민 뿐 아니라 암모니에 관한 것이다. 일 실시태양에서, 아민-블록된 유기 술폰산은 아민-블록된 방향족 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 아민-블록된 유기 술폰산은 예를 들면 NACURE 2530과 같은 아민-블록된 p-톨루엔술폰산이다.
코팅층 중의 중합체의 경화를 촉매하기 위하여 통상적으로 사용되는 유기 술폰산 성분의 양은 안료를 제외한 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 12중량%의 범위이다. 바람직한 양은 통상적으로 5중량% 미만이고, 특히 바람직하게는 약 1중량%이다. 예를 들면, 미국특허 제4,728,545호는 안료를 제외한 코팅 조성물의 전체 고체 함량의 0.01 내지 3.0중량%의 아민-블록된 유기 술폰산 촉매를 바람직한 범위로 개시하고 있다. 유기 술폰산 성분이 아민-블록된 촉매의 100 중량% 미만이기 때문에, 상기 '545호 특허중의 유기 술폰산 성분에 대한 바람직한 범위는 0.01 내지 3.0 중량% 이하이다. 상기 '545호 특허는 3.0중량%를 초과하는 아민-블록된 유기 술폰산 촉매가 유기 술폰산 성분이 생성되는 필름 중에 높은 농도로 잔류하는 경우 생성되는 필름의 외관, 강도 및 기타 특성에 악영향을 미친다고 기재하고 있다.
친수성 제3층을 갖는 리소그래픽 인쇄 부재
본원발명에 따른 리소그래픽 인쇄 부재의 바람직한 일 실시태양을 도시하는 이에 도1을 참조하면, 상기 인쇄 부재는 잉크-수용성 내구성 표면층 (100), 절삭-흡수성 제2층 (102), 친수성 제3층 (104) 및 지지 기재 (106)을 포함한다. 이들 층 각각은 하기에서 보다 상세히 기재된다.
잉크-수용성 표면층
잉크-수용성 표면층 (100)의 제1 특성은 물 및 용매에 의하여 잘 용해되지 않는 친유성과 소수성 및 인쇄 프레스시의 내구성이다. 이러한 층에 사용되는 적절한 중합체는 절삭-흡수성 제2층 (102)중에서 개시되는 열-유도된 절삭 화상 형성을 촉진하기 위한 상대적으로 낮은 분해 온도, 절삭-흡수성 제2층 (102)에 대한 훌륭한 접착성 및 높은 내구성을 가져야 한다. 그들은 물-기재 또는 용매-기재 중합체 중 하나일 수 있다. 잉크-수용성 표면층 (100)은 또한 화상형성시 환경 및 독물학적으로 무해한 분해 부산물을 생성하여야 한다. 이러한 층은 또한 절삭-흡수성 제2층 (102)에 대한 개선된 결합성 및 매우 장시간의 인쇄 작업을 위한 판의 증가된 내구성을 제공하는 가교결합제를 포함할 수도 있다.
적절한 중합체는 폴리우레탄, 니트로셀룰로오스, 폴리시아노아크릴레이트 및 에폭시 중합체를 포함하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 폴리우레탄을 기재로 하는 물질은 통상적으로 매우 강하고 열경화성 또는 자가-경화 능력을 가질 수 있다. 예시적인 코팅층이 예를 들면, 적절한 용매, 물 또는 용매-물의 블렌드 중의 폴리우레탄 중합체 및 헥사메톡시메틸멜라민 가교결합제의 혼합물이 혼합된 후 적절한 아민-블록된 p-톨루엔술폰산 촉매가 부가되어 최종처리된 코팅 혼합물을 형성하는 본 기술분야에 공지되어 있는 혼합 및 코팅 방법에 의하여 제조될 수 있다. 상기 코팅 혼합물은 이어서 와이어가 감긴 봉 코팅(wire wound rod coating), 리버스 로울 코팅(reverse roll coating), 그라비어 코팅 및 슬롯 다이 코팅(slot die coating)과 같은 전통적인 코팅 적용 방법 중의 하나를 사용하여 절삭-흡수성 제2층(102)에 적용된 후 건조되어 휘발성 액체가 제거되고 코팅층을 형성한다.
폴리우레탄 중합체 및 이외의 성분을 함유하는 중합체성 시스템도 잉크-수용 표면층 (100)을 형성하도록 혼합될 수 있다. 예를 들면, 에폭시 중합체가 가교결합제 및 촉매의 존재하에 풀리우레탄 중합체에 부가될 수 있다.
잉크-수용성 표면층 (100)은 본원발명에서 통상적으로 약 0.1 내지 약 20 마이크로미터의 범위의 두께로 코팅되고 보다 바람직하게는 약 0.1 내지 2 마이크로미터의 범위로 코팅된다. 코팅 후에, 상기 층을 건조시키고 바람직하게는 145℃ 및 165℃ 사이의 온도에서 경화시킨다.
절삭-흡수성 제2층
절삭-흡수성 제2층 (102)의 제1 특징은 상용화되어 있는 레이져 화상 형성 장치를 사용하는 절삭에 대한 민감성 또는 감성, 및 장기간 작업하는 판 및 프레스 상에서 작동하는 동안 망판(halftone) 화상중의 작은 2% 및 3% 도트의 유지를 제공하는 친수성 제3층 (104) 및 잉크-수용성 표면층 (100)에 대한 양호한 접착성이다. 절삭 흡수 제2층 (102)가 절삭시 환경 및 독물학적으로 무해한 분해 부산물을 생성시킨다는 사실도 바람직하다. 레이져 절삭에 대한 민감성은 화상형성 레이져가 방출하는 파장 영역에서의 강한 흡수에 기인한다. 열-유도되는 절삭 화상 형성를 촉진하기 위하여 상대적으로 낮은 분해 온도를 갖는 중합체를 사용하는 것도 유리하다. 친수성 제3층 (104)에 대한 접착성은 레이져 조사를 흡수하는 물질의 화학적 구조와 양 및 절삭-흡수성 제2층 (102)중의 중합체의 이용가능한 결합 부위에 따라다르다. 절삭-흡수성 제2층 (102) 중의 중합체에 의한 결합은 친수성 제3층 (104)에 적절한 접착성을 제공하기에 충분할 만큼 강하지만 레이져 절삭 도중에 용이하게 약화된 후 친수성 제3층 (104)로부터 절삭된 부위에 잔류하는 부스러기 층의 용이한 세척성을 제공하는 것이 중요하다. 예를 들면, 폴리비닐 알코올과 같은 비닐-타입 중합체는 이러한 두 가지 성질 사이에서 적절한 균형을 이룬다. 다른 한편으로, 니트로셀룰로오스는 단독으로 또는 비닐-타입 중합체와 조합으로 절삭에 대한 높은 정도의 민감성을 제공한다. 용매 분산성 카본 블랙을 코팅내에 포함시켜서 적절한 코팅을 형성할 수 있다. 예를 들면, 기재 코팅 혼합물이 Aqualon Co.(Wilmington, DE)로부터 구입할 수 있는 6 sec. RS 니트로셀룰로오스, Cabot Corporation(Bedford, MA)로부터 구입할 수 있는 카본 블랙 안료에 대한 상표인 VULCAN XC 72R, CYMEL 303 헥사메톡시메틸멜라민 가교결합제, 및 코팅 적용 작업 직전에 기재 코팅 혼합물에 연속적으로 부가되는 가교결합 촉매와 같은 모든 성분의 부가 혼합물에 의하여 형성된다. 예를 들면, 화상 형성 후의 용이한 세척 및 친수성 제3층 (104)에 대한 개선된 접착성은 절삭-흡수성 제2층 (102)내에 포함된 AIRVOL 125 폴리비닐 알코올의 사용에 의하여 제공된다. 가교결합제도 부가할 수 있다.
조사-흡수성 화합물 또는 감광제가 절삭-흡수성 제2층 (102)의 조성물에 부가되고 그 안에 분산된다. 레이져 조사가 적외선 파장일 경우, 다양한 적외선-흡수성 화합물이 공지되어 있고 본원발명에서 조사-흡수성 감광제로서 사용될 수 있다. 평가한 적외선 감광제 중에서, Cabot Corporation(Bedford, MA)로부터 구입할수 있는 표면 개질된 카본 블랙 안료에 대한 상표인 CAB-O-JET 200이 절삭에 대한 적절한 감성을 부여하도록 요구되는 양에서 친수성 제3층 (104)에 대한 접착상에 놀라울 정도록 작은 영향을 미쳤다. 즉, CAB-O-JET 200은 양호한 절삭-감광 특성을 가지며 친수성 제3 코팅층 (104)에 강화된 접착성을 부여한다.
CAB-O-JET 200을 사용하여 얻은 결과는 관련 화합물 CAB-O-JET 300을 사용하여 얻은 것보다 양호하였다. 카본 블랙 제품의 CAB-O-JET 시리즈는 예들 들면, 미국특허 제5,554,7379호 및 동 제5,713,988호에 기재된 바와 같은 신규한 표면 개질 기술로 제조된 독특한 안료 수분산액이다. 안료 안정성은 이온 안정화를 통하여 얻어진다. CAB-O-JET 200의 표면이 술포네이트기를 함유하는 반면에, CAB-O-JET 300의 표면은 카르복실기를 갖는다. 상기 CAB-O-JET 물질의 분산액 중에는 통상적으로 계면활성제, 분산액 산 또는 중합체가 존재하지 않는다. CAB-O-JET 200은 약 10 cP(Shell #2 efflucx xup)의 점성, 약 7의 pH, 물 중의 20%(안료를 기준으로) 고체, -20℃에서 3회 이상 냉동-해동(freeze-thaw) 사이클, 70℃에서 6주 이상, 실온에서 2년 이상의 안정성(즉, 물리적 특성에 변화가 없음), 및 100%의 입자가 0.5 마이크로미터 이하인 0.12 마이크로미터의 평균 입자 크기를 갖는 흑색 액체이다. 특별히, CAB-O-JET 200은 적외선 스펙트럼 전체를 통하여 흡수한다. 적절한 코팅은 예를 들면, 어떠한 가교결합 촉매도 포함하지 않는 것을 제외하고는 물, 2-부톡시에탄올, AIRVOL 125 폴리비닐 알코톨, UCAR WBV-110 비닐 공중합체, CYMEL 303 헥사메톡시메틸멜라민 가교결합제, 및 CAB-O-JET 200 카본 블렉과 같은 모든 성분을 1차적으로 혼합하여 기재 코팅 혼합물이 형성되는 공지된 혼합 및 코팅 방법에 의하여 형성될 수 있다. 코팅 제제의 안정성을 연장시키기 위하여, NACURE 2530과 같은 임의의 가교결합제가 후속적으로 상기 코팅의 적용 직전에 상기 기재 코팅 혼합물 또는 분산액에 부가된다. 상기 코팅 혼합물 또는 분산액은 예를 들면, 와이어가 감긴 봉 코팅(wire wound rod coating), 리버스 로울 코팅, 그라비어 코팅 및 슬롯 다이 코팅과 같은 공지된 코팅 적용 방법 중의 임의의 하나를 사용하여 적용할 수 있다. 휘발성 액체를 제거하기 위한 건조 후에, 고체 코팅층이 형성된다.
절삭-흡수성 제2층 (102)은 1종 이상의 중합체를 포함한다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수층 (102)는 가교결합제를 포함한다. 적절한 중합체로는 니트로셀룰로오스, 폴리시아노크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리비닐알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 클로리드, 및 그들의 공증합체 또는 테르중합체 등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층 (102)의 1종 이상의 중합체는 친수성 중합체이다. 일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층 (102)의 가교결합제는 멜라민이다.
본원발명의 특별한 측면은 절삭-흡수성 제2층 (102) 중에 유기 술폰산 촉매가 예를 들면, 통상적인 가교결합된 코팅의 경우에 코팅층 중에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 0.01 내지 12 중량%와 같은 촉매 목적으로 통상적으로 사용되는 양보다 높은 수준으로 존재하는 것이다.
예를 들면, 상기에 언급한 미국특허 제5,493,971호에서는, NACURE 2530이 실시예 1 내지 8에서 절삭-흡수성 표면층의 열경화를 위한 촉매로서 존재한다. 본원발명의 실시예에서 사용된 NACURE 2530 품목에 대하여 제조자가 보고한 바와 같이 상기 '971호 특허의 이들 실시예에서 사용된 NACURE 2530은 p-톨루엔술폰산을 동일한 25% 함유하였다고 추정하여, 상기 '971호 특허의 절삭-흡수성 표면층 중의 p-톨루엔술폰산 성분의 중량%의 계산은 NACURE 2530(4중량부)에 0.25를 곱하여 1.0중량부를 얻은 후 7.2중량%(상기 '971호 특허의 실시예 1 내지 7) 및 7.1중량%(상기 '971호 특허의 실시예 8)를 얻도록 상기 1.0중량부를 존재하는 중합체의 혼화된 건조질량(실시예 1 내지 7에서 13.8중량부 및 실시예 8에서 14.0중량부)으로 나누어서 수행하였다.
본원발명의 일 측면에서, 절삭-흡수성 제2층 (102)는 절삭 흡수성 제2층 중에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 13중량%를 초과하는 양의 유기 술폰산을 포함한다. 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 방향족 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 예를 들면, 아민-블록된 p-톨루엔술폰산(NACURE 2530)의 성분으로서 존재하는 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 제2층 (102) 중에 존재하는 중합체의 전체 중량의 15 내지 75중량%의 양으로 존재한다. 바람직한 일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 제2층 (102) 중에 존재하는 중합체의 전체 중량의 20 내지 45중량%의 양으로 존재한다.
절삭-흡수성 제2층 (102)는 통상적으로 약 0.1 내지 약 20 마이크로미터의 범위의 두께로 코팅되고 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 약 2 마이크로미터의 범위의 두께로 코팅된다. 코팅 후, 상기 층은 건조되고 이어서 10초 내지 3분 사이의시간 동안 135 내지 185℃ 사이의 온도에서 경화되고 더욱 바람직하게는 30초 내지 2분 사이의 시간동안 145 내지 165℃사이의 온도에서 경화된다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층 (102)은 잉크-수용성이다. 잉크-수용성 절삭-흡수성 제2층의 예들은 본원발명의 실시예 1 및 6에 예시되어 있다.
또 다른 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층 (102)는 본원 발명의 실시예 5에 예시되어 있는 바와 같이 습식 리소그래픽 인쇄 프레스시 물을 수용하면서 잉크를 수용하지 않는 특징을 더 갖는다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층 (102)는 물 또는 세척 용액에 용해되지 않는 특성이 있다.
친수성 제3층
친수성 제3층 (104)는 기재가 알루미늄과 같은 금속인 경우에, 레이져 노출 도중에 열 차단벽을 제공하여 열 손실 및 기재 (106)의 가능한 손상을 방지한다. 이러한 층은 친수성이어서 화상이 형성된 습식 리소그래픽 판상의 배경 친수성 부위로서 기능할 수 있다. 이 층은 지지 기재 (106) 및 절삭-흡수성 제2층 (102)에 양호하게 접착된다. 일반적으로, 이러한 기준을 만족하는 중합체성 물질은 히드록실기 또는 카르복실기와 같은 노출된 극성 부분을 갖는 예를 들면, 히드록실기 또는 카르복실기가 포함되도록 개질된 다양한 셀룰로식스 및 폴리비닐 알코올 중합체등이 있다.
바람직하게는, 친수성 제3층 (104)는 인쇄 동안에 실질적인 분해 또는 용해됨 없이 원천 용액의 반복된 적용을 견디어 낸다. 특히, 친수성 제3층 (104)의 분해는 층의 팽창 형태 및/또는 절삭-흡수성 제2층 (102) 및/또는 기재 (106) 모두에 대한 접착성의 손실을 가져올 수 있다. 이러한 팽창 및/또는 접착성의 손실은 인쇄 특질에 악영양을 미치고 리소그래픽 판의 프레스 수명을 극적으로 단축시킬 수 있다. 인쇄 도중의 원천 용액의 반복된 적용에 대한 내구성을 측정하는 한 가지 방법은 본원발명의 실시예 1 내지 6에 기재된 바와 같은 습윤 마찰 저항 시험(wet rub resistance test)이다. 본원발명에 대하여 본원에 정의된 바와 같은 원천 용액의 반복된 적용에 대한 내구성 및 물 또는 세척 용액 중에서 과도하게 용해되지 않는 성질에 대한 만족스러운 결과는 본원발명의 실시예 1 내지 6에 기재되고 예시된 바와 같은 습윤 마찰 저항 시험에 있어서 3% 도트의 보유이다.
물에 대한 불용성을 제공하기 위하여, 예를 들면 글리옥살, 탄산아연 등과 같은 가교결합제와 폴리비닐 알코올의 중합체성 반응 생성물이 본 기술 분야에 공지되어 있다. 예를 들면, 폴리비닐 알코올과 가수분해된 테트라메틸오르토실리케이트 또는 테트라에틸오르토실리케이트의 중합체성 반응 생성물이 미국특허 제3,971,660호에 기재되어 있다. 적절한 폴리비닐 알코올-기재 코팅은 본 기술 분야에 공지되어 있는 혼합 및 코팅 방법에 의하여 예를 들면, AIRVOL 125 폴리비닐 알코올, Magnesium Elektron(Flemington, NJ)로부터 입수가능한 암모늄 지르코닐 카르보네이트 용액에 대한 상표인 BACOTE 20, Aldrich Chemical(Milwaukee, WS)로부터 입수가능한 글리세롤 및 Rohm Haas(Philadelphia, PA)로부터 구입가능한 계면활성제에 대한 상표인 TRITON X-100을 혼합하여 얻을 수 있다.
일 실시태양에서, 본원발명의 인쇄 부재의 친수성 제3층 (104)는 친수성 중합체 및 가교결합제를 포함한다. 친수성 제3층 (104)에 대한 적절한 친수성 중합체로는 폴리비닐 알코올 및 셀룰로식스등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 일 실시태양에서, 제3층의 친수성 중합체는 폴리비닐 알코올이다. 일 실시태양에서, 가교결합제는 지르코늄 화합물이고, 바람직하게는 암모늄 지르코닐 카르보네이트이다.
일 실시태양에서, 친수성 제3층 (104)는 물 또는 세척 용액 중에서 용해되지 않는 특징이 있다. 또 다른 실시태양에서, 친수성 제3층 (104)는 물 또는 세척 용액중에서 과도하게 용해되지 않는 특징이 있다.
친수성 제3층 (104)는 본원발명의 코팅에서 약 1 내지 약 40 마이크로미터, 더욱 바람직하게는 약 2 내지 약 25마이크로미터의 두께로 통상적으로 코팅된다. 코팅 후, 상기 층은 건조된 후 10초 내지 3분 사이의 시간 동안 135 내지 185℃ 사이의 온도에서 경화되고, 더욱 바람직하게는 30초 내지 2분 사이의 시간동안 145 내지 165℃사이의 온도에서 경화된다.
기재
지지 기재 (106)에 대한 적절한 기재는 예들 들면 금속, 종이 및 중합체 필름과 같이 본 기술 분야에서 리소그래픽 인쇄판에 대한 기재로서 공지되있는 것을 포함하는 다수의 상이한 기재일 수 있다. 친수성 제3층 (104)는 통상적으로 물, 세척 용액 또는 원천 용액에 용해되지 않고, 나아가 화상이 형성되는 도중에 절적되지 않기 때문에, 표면 층의 비-친수성 화상 부위 또는 잉크-수용 부위 및 습식리소그래픽 인쇄의 경우에 필요한 판의 친수성 배경 부위 또는 물-수용 부위 사이의 구별을 제공하기 위하여 기재가 친수성일 필요는 없다. 본원에서 사용된 "친수성"이란 용어는 판의 표면상의 비-친수성 잉크-수용 물질 또는 물질의 조성물이 오일성 물질 또는 잉크를 우선적으로 보유하는 반면에 습식 리소그래픽 인쇄시 물 또는 물-기재 원천 용액을 우선적으로 보유하게 하는 물질 또는 조성물의 특성에 관한 것이다. 따라서, 기재 (106)은 층 (104)와 같은 친수성 중합체 층이 절삭-흡수 층과 기재 사이에 겹쳐진 경우 친수성이거나 비-친수성/잉크-수용성일 수 있다.
적절한 금속으로는 알루미늄, 구리, 강철 및 크롬 등이 있지만 이에 한정되는 것은 아니며, 바람직하게는 입상화 또는 기타 처리를 통하여 친수성으로된 것이다. 본원발명의 인쇄 부재는 바람직하게는 애노다이징된 알루미늄 지지 기재를 사용한다. 이러한 지지체의 예로는 사전 입상화 없이 애노다이징된 알루미늄, 입상화 및 애노다이징된 알루미늄 및 입상화되고, 애노다이징되며, 기재를 친수성으로 만들기에 유효한 제제 예를 들면 실리케이트층을 형성하기 위한 처리법으로 처리된 알루미늄 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 본원발명에서는 입상화되고, 애노다이징되며, 친수성 물질로 처리된 알루미늄을 사용하는 것이 바람직하다.
광범위한 종이가 사용될 수 있다. 통상적으로, 이들 종이는 치수 안정성, 내수성, 및 습식 리소그래픽 인쇄 도중의 강도를 개선시키기 위한 중합체성 처리제로 처리되거나 또는 포화된다. 적절한 중합체 필름의 예로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리에틸렌 나프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리카르보네이트, 폴리스티렌, 폴리술폰, 및 셀룰로오스 아세테이트 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 중합체성 필름은 예를 들면, E. I. duPont de Nemours Co.(Wilmington, DE)로부터 MYLAR 및 MELINEX 폴리에스테르 필름의 상표하에 구입할 수 있는 폴리에스테르 필름과 같은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이다. 중합체 필름 기재가 친수성이 아닌 경우, 이들 지지체는 지지체의 적어도 한 표면 상에 형성된 예를 들면, 중합체성 필름(예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 또는 본질적으로 친수성이 아니거나 또는 기재에 부가된 특별한 친수성 표면으로 부터 잇점을 가질 수 있는 기타 중합체성 필름)에 적용된 친수성 물질을 포함하는 친수성 코팅층과 같은 친수성 표면을 더 포함할 수 있다. 지지 기재 (106)에 대한 바람직한 두께는 0.003 내지 0.02 인치의 범위, 특히 바람직하게는 0.005 내지 0.015 인치의 범위이다.
친수성 제3층 및 프라이머층을 갖는 리소그래픽 인쇄판
도1을 참조하면, 본원발명의 또 다른 측면 및 이러한 측면의 리소그래픽 인쇄판의 레이져 화상 형성 민감성, 인쇄 화질, 깨끗함, 프레스 내구성, 잉크-흡수성 화상 접착성, 및 양호한 도트 해상도를 개선시기 위한 유기 술폰산의 사용은 절삭-흡수성 제2층 (102)과 친수성 제3층 (104) 사이에 겹쳐진 프라이머층을 포함시키는 것이다(이때 상기 프라이머층은 접착-촉진제를 포함하며 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있음). 적절한 접착-촉진제로는 유기 술폰산 성분, 지르코늄 화합물, 티타네이트 및 실란 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제의 유기 술폰산 성분은 방향족 유기 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 프라이머층 중의 접착-촉진제의 유기 술폰산 성분은 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층 (102)과 친수성 제3층 (104) 사이에 겹쳐진 프라이머층 중의 유기 술폰산 성분은 프라이머층의 2 내지 100중량%의 양으로 존재하며, 바람직하게는 프라이머층의 50 내지 100중량%, 가장 바람직하게는 프라이머층의 80 내지 100중량%의 양으로 존재한다.
일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층 (102)과 친수성 제3층 (104) 사이에 겹쳐진 프라이머층의 두께는 약 0.01 내지 약 2 마이크로미터이고, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 0.1 마이크로미터이다.
유기 술폰산 성분을 포함하는 이러한 프라이머층이 존재하는 경우에, 본원발명의 절삭-흡수성 제2층 (102) 중의 유기 술폰산 성분의 증가된 수준이 의도되는 여러가지 잇점을 제공할 필요는 없을 것이고, 절삭-흡수성 제2층 (102) 중의 유기 술폰산 성분의 수준은 절삭-흡수성 제2층 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 13중량% 미만이거나 또는 무시할 수 있는 정도 일 수도 있다. 그러나, 13중량%를 초과하는 본원발명의 유기 술폰산 성분을 포함하는 프라이머층과 절삭-흡수성 제2층 (102)의 조합을 사용하는 것이 적절하다.
일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 예를 들면, BACOTE 20과 같은 암모늄 지르코닐 카르보네이트이다. BACOTE 20은 10%의 지르코늄 나이트레이트 수화물을 부가하여 개질된 21% 지르코늄 옥사이드의 중량 당량을 갖는 Magnesium Elektron, Inc로부터의 지르코니아 졸이다. 적용된 BACOTE 20 용액의 경화된 잔여물은 수-불용성이며 광중합체 코팅된 리소그래픽 인쇄판 중의 광중합체 코팅 및 크롬 기재에 대한 훌륭한 접착성을 가지는 것으로 보고되어 있으며, 미국특허 제4,522,912호 및 동 제4,581,285호에 기재된 바와 같은 상부에 존재하는 코팅에 따라 친수성 특징을 가질수 도 있다. 또 다른 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 프로피오네이트이다. 본원발명의 프라이머층 중의 기타 적절한 지르코늄 화합물로는 P.J.Moles(Magnesium Elektron, Inc., Flemington, NJ)에 의한 출원정보(시이트 117; 임시)인 "표면 코팅에서의 지르코늄의 사용(The Use of Zirconium in Surface Coatings)"에 기재된 지르코늄-기재 접착 촉진제 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 친수성이고, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 제2층 또는 절삭-흡수층의 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 제2층의 절삭성 흡수 및 이에 이어지는 프라이머층의 표면으로부터 제2층의 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위한 물 또는 세척용액으로 수행하는 세척단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 옥사이드를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 무기 겔층이고, 바람직하게는 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 무기 겔층이다.
친수성 제3층을 갖지 않는 리소그래픽 인쇄판
지지 기재 (106), 절삭-흡수층 (130) 및 잉크-수용성 표면층 (100)을 포함하는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 판의 대체적인 실시태양이 도3에 나타나 있다. 지지 기재 (106)은 친수성이다. 이러한 배치를 갖지만 부가적으로 존재하는 잉크-수용성 표면층은 없는 절삭-흡수층 및 지지층의 예가 상기에 참고한 미국특허제5,605,780호에 주어져 있다.
친수성 제3층을 포함하지 않는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재의 일 측면은 잉크-수용성 표면층, 절삭-흡수성 제2층 및 친수성 지지 기재를 포함한다. 상기 잉크-수용성 표면층 및 절삭-흡수성 제2층은 지지 기재위에 겹쳐진 친수성 제3층을 포함하는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재에 대하여 본원에 기재된 바와 같다. 지지 기재위에 겹쳐진 친수성 제3층을 포함하는 본원 발명의 리소그래픽 인쇄 부재에 대하여 기재한 바와 같이, 도3에 나타난 바와 같은 지지 기재 (106)은 친수성인 지지 기재만을 설명하기 위한 것이다.
특별히, 지지 기재위에 겹쳐진 친수성 제3층을 포함하지 않는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재는 인쇄 부재의 1 이상의 층 중의 다량의 유기 술폰산 성분의 존재하에 본원발명의 주요 측면을 공유한다. 예를 들면, 본원발명의 일 측면에서, 지지 기재위에 겹쳐진 친수성 제3층을 포함하지 않는 리소그래픽 인쇄 부재는 절삭-흡수층 130 중에 촉매 목적으로 통상적으로 사용되는 수준(예를 들면, 통상적인 가교결합된 코팅을 위한 코팅층 중에 존재하는 중합체의 전체 중량을 기준으로 0.01 내지 12중량%)보다 높은 수준으로 존재하는 유기 술폰산 성분을 포함한다. 따라서, 본원발명의 일 측면은 (a) 레이져 조사의 절삭 흡수가 없는 특징이 있는 잉크-수용성 표면층, (b) 1 종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는 표면층 하부에 겹쳐진 제2층, 및 (c) 친수성 기재를 포함하며, 상기 제2층이 제2층에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 13중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분을 포함하는 것인 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다. 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 방향족 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 예를 들면 아민-블록된 p-톨루엔술폰산(NACURE 2530) 성분으로서 존재하는 것과 같은 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 제2층 (130) 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 15 내지 75중량%의 양으로 존재한다. 바람직한 일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 제2층 (130) 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 20 내지 45중량%의 양으로 존재한다.
친수성 제3층을 포함하는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재에 대하여 기재된 바와 같은 절삭-흡수성 제2층 (130) 하부에 겹쳐지고 지지 기재 (106) 상부에 겹쳐지는 친수성 제3층이 부재하는 점을 제외하고는, 잉크-수용성 표면층 및 절삭-흡수성 제2층과 같은 측면을 포함하는 친수성 제3층을 갖지 않는 리소그래픽 인쇄 부재의 코팅층의 기타 측면은 친수성 제3층을 갖는 리소그래픽 인쇄 부재에 대하여 본원에서 기재된 바와 같다.
도3을 참조하면, 본원발명의 또 다른 측면 및 이것에서 레이져 화상형성 민감성, 인쇄 화질, 깨끗함, 프레스 내구성, 잉크-수용성 화상 접착성 및 리소그래픽 부재의 양호한 도트 해상도를 강화하기 위하여 유기 술폰산을 사용하는 것은 절삭-흡수성 제2층 (130)과 친수성 지지 기재 (106) 사이에 겹쳐진 프라이머층을 포함시키는 것이다(이때, 상기 프라이머층은 접착-촉진제를 포함하며 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있음). 적절한 접착-촉진제로는 유기 술폰산 성분, 지르코늄 화합물, 티타네이트, 및 실란등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층 중의 접착-촉진제의 유기 술폰산 성분은 방향족 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 프라이머층 중의 접착-촉진제의 유기 술폰산 성분은 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 도3에 나타난 바와 같이 절삭-흡수성 제2층 (130)과 친수성 지지 기재 (106) 사이에 겹쳐진 프라이머층의 유기 술폰산 성분은 프라이머층의 2 내지 100 중량%의 양으로 존재하고, 바람직하게는 프라이머층의 50 내지 100중량%의 양, 가장 바람직하게는 프라이머층의 80 내지 100중량%의 양으로 존재한다.
일 실시태양에서, 절삭-흡수성 제2층 (130)과 친수성 지지 기재 (106)사이에 겹쳐진 프라이머층의 두께는 약 0.01 내지 약 2 마이크로미터이고, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 0.1 마이크로미터이다.
유기 술폰산 성분을 포함하는 이러한 프라이머층이 존재하는 경우, 본원발명의 절삭-흡수성 제2층 (130) 중의 유기 술폰산의 증가된 수준은 의도하는 여러가지 잇점을 제공할 필요는 없을 것이고, 절삭-흡수성 제2층 (13) 중의 유기 술폰산 성분의 수준은 절삭-흡수성 제2층 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 13중량% 미만이거나 또는 무시할 정도의 양일 수 있다. 그러나, 본원발명의 유기 술폰산 성분을 13중량%를 초과하는 양으로 포함하는 절삭-흡수성 제2층 (130) 및 프라이머층의 조합을 사용하는 것이 적합하다.
일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제의 지르코늄 화합물은 예를 들면, BACOTE 20과 같은 암모늄 지르코닐 카르보네이트이다. 또 다른 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제의 지르코늄 화합물은 지르코늄 프로피오네이트이다. 본원발명의 프라이머층 중의 기타 적절한 지르코늄 화합물로는 P.J.Moles(Magnesium Elektron, Inc., Flemington, NJ)에 의한 출원정보(시이트 117; 임시)인 "표면 코팅에서의 지르코늄의 사용(The Use of Zirconium in Surface Coatings)"에 기재된 지르코늄-기재 접착 촉진제 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 친수성이고, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 제2층 또는 절삭-흡수성층의 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 제2층의 절삭성 흡수 및 이에 이어지는 프라이머층의 표면으로부터 제2층의 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위한 물 또는 세척용액으로 수행하는 세척단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 옥사이드를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 무기 겔층이고, 바람직하게는 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 무기 겔층이다.
친수성 제2층 및 절삭-흡수성 표면층을 갖는 리소그래픽 인쇄판
지지 기재 (21), 친수성 중합체층 (215) 및 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층 (220)을 포함하는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 판의 대체적인 실시태양이 도4에 나타나 있다. 이러한 배치를 갖는 지지층, 중간 중합체층 및 절삭-흡수성 잉크-수용성층의 예가 상기에 참고한 미국특허 제5,493,971호에 주어져 있다.
비-절삭 흡수성 표면층을 포함하지 않는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재의일 측면은 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층, 친수성 중합체층 및 지지 기재를 포함한다. 본원발명의 이러한 측면의 지지 기재 (210)은 도1에 예시된 바와 같은 친수성 제3층을 갖는 리소그래픽 인쇄 부재의 지지 기재 (106)에 대하여 본원에 기재된 바와 같다. 유사하게, 본원발명의 이러한 측면의 친수성 중합체층 (215)는 도1에 예시된 바와 같은 친수성 제3층을 갖는 리소그래픽 인쇄 부재의 친수성 제3층 (104)에 대하여 본원에서 기재한 바와 같다. 본원발명의 이러한 측면의 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층 (220)은 절삭-흡수층 (220)위에 겹쳐진 비-절삭 흡수성 잉크-수용성 표면층 (100)이 없는 점을 제외하고는 도1에 예시된 바와 같은 친수성 제3층을 갖는 리소그래픽 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층 (102)에 대하여 본원에서 기재한 바와 같다.
특별히, 절삭-흡수층위에 겹쳐진 비-절삭 흡수성 표면층을 포함하지 않는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재는 인쇄 부재의 1 이상의 층 중의 다량의 유기 술폰산 성분의 존재하에 본원발명의 주요 측면을 공유한다. 예를 들면, 본원발명의 일 측면에서, 도4에 예시된 바와 같은 리소그래픽 인쇄 부재는 절삭-흡수층 (220) 중에 촉매 목적으로 통상적으로 사용되는 수준(예를 들면, 통상적인 가교결합된 코팅을 위한 코팅층 중에 존재하는 중합체의 전체 중량을 기준으로 0.01 내지 12중량%)보다 높은 수준으로 존재하는 유기 술폰산 성분을 포함한다. 따라서, 본원발명의 일 측면은 (a) 레이져 조사의 절삭 흡수 특징이 있고 1종 이상의 중합체를 포함하는 잉크-수용성 표면층, (b) 상기 표면층 하부에 겹쳐진 친수성 중합체층, 및 (c) 기재를 포함하며, 상기 표면층이 표면층에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로13중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분을 포함하는 것인 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다. 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 방향족 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 예를 들면 아민-블록된 p-톨루엔술폰산(NACURE 2530) 성분으로서 존재하는 것과 같은 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 표면층 (220) 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 15 내지 75중량%의 양으로 존재한다. 바람직한 일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 표면층 (220) 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 20 내지 45중량%의 양으로 존재한다.
도4을 참조하면, 본원발명의 또 다른 측면 및 이것에서 레이져 화상형성 민감성, 인쇄 화질, 깨끗함, 프레스 내구성, 잉크-수용성 화상 접착성 및 리소그래픽 부재의 양호한 도트 해상도를 강화하기 위하여 유기 술폰산을 사용하는 것은 절삭-흡수성 표면층 (220)과 친수성 중합체층 (215) 사이에 겹쳐진 프라이머층을 포함시키는 것이다(이때, 상기 프라이머층은 접착-촉진제를 포함하며 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있음). 적절한 접착-촉진제로는 유기 술폰산 성분, 지르코늄 화합물, 티타네이트, 및 실란등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층 중의 접착-촉진제는 유기 술폰산이고, 바람직하게는 방향족 술폰산이며, 더욱 바람직하게는 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 절삭-흡수성 표면층 (220)과 친수성 중합체층 (215) 사이에 겹쳐진 프라이머층의 유기 술폰산 성분은 프라이머층의 2 내지 100 중량%의 양으로 존재하고, 바람직하게는 프라이머층의 50 내지 100중량%의 양, 가장 바람직하게는 프라이머층의 80 내지 100중량%의 양으로 존재한다.
일 실시태양에서, 절삭-흡수성 표면층 (220)과 친수성 중합체층 (215)사이에 겹쳐진 프라이머층의 두께는 약 0.01 내지 약 2 마이크로미터이고, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 0.1 마이크로미터이다.
유기 술폰산 성분을 포함하는 이러한 프라이머층이 존재하는 경우, 본원발명의 절삭-흡수성 표면층 (220) 중의 유기 술폰산의 증가된 수준은 의도하는 여러가지 잇점을 제공할 필요는 없을 것이고, 절삭-흡수성 표면층 (220) 중의 유기 술폰산 성분의 수준은 절삭-흡수성 표면층 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 13중량% 미만이거나 또는 무시할 정도의 양일 수 있다. 그러나, 본원발명의 유기 술폰산 성분을 13중량%를 초과하는 양으로 포함하는 절삭-흡수성 표면층 (220) 및 프라이머층의 조합을 사용하는 것이 적합하다.
일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 예를 들면, BACOTE 20과 같은 암모늄 지르코닐 카르보네이트이다. 또 다른 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 프로피오네이트이다. 본원발명의 프라이머층 중의 기타 적절한 지르코늄 화합물로는 P.J.Moles(Magnesium Elektron, Inc., Flemington, NJ)에 의한 출원정보(시이트 117; 임시)인 "표면 코팅에서의 지르코늄의 사용(The Use of Zirconium in Surface Coatings)"에 기재된 지르코늄-기재 접착 촉진제 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 친수성이고, 레이져 조사의 절삭 흡수가 없으며, 제2층 또는 절삭-흡수성층의 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 제2층의 절삭성 흡수 및 이에 이어지는 프라이머층의 표면으로부터 제2층의 절삭 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위한 물 또는 세척용액으로 수행하는 세척단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 옥사이드를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 무기 겔층이고, 바람직하게는 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 무기 겔층이다.
친수성 제3층 및 절삭-흡수성 표면층을 갖는 리소그래픽 인쇄판
친수성 지지 기재 (210) 및 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층 (320)을 포함하는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 판의 대체적인 실시태양이 도5에 나타나 있다. 이러한 배치를 갖는 지지층 및 절삭-흡수성 표면층의 예가 상기에 참고한 미국특허 제5,605,780호에 주어져 있다.
친수성 제3층을 포함하지 않고 나아가 비-절삭 흡수성 잉크 수용성 표면층을 포함하지 않는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재의 일 측면은 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층 및 친수성 지지 기재를 포함한다. 본원발명의 이러한 측면의 친수성 지지 기재 (210)은 도3에 예시된 바와 같은 친수성 제3층을 갖지 않는 리소그래픽 인쇄 부재의 친수성 지지 기재 (106)에 대하여 본원에 기재된 바와 같다. 본원발명의 이러한 측면의 절삭-흡수성 잉크-수용성 표면층 (320)은 절삭-흡수층 위에 겹쳐진 비-절삭 흡수성 잉크-수용성 표면층 (100)이 없는 점을 제외하고는 도3에 예시된 바와 같은 친수성 제3층을 갖지 않는 리소그래픽 인쇄 부재의 절삭-흡수성 제2층 (130)에 대하여 본원에서 기재한 바와 같다.
특별히, 지지 기재 위에 겹쳐진 친수성 제3층을 포함하지 않으며 나아가 비-절삭 흡수성 표면층을 포함하지 않는 본원발명의 리소그래픽 인쇄 부재는 인쇄 부재의 1 이상의 층 중의 다량의 유기 술폰산 성분의 존재하에 본원발명의 주요 측면을 공유한다. 예를 들면, 본원발명의 일 측면에서, 도5에 예시된 바와 같은 리소그래픽 인쇄 부재는 절삭-흡수층 (320) 중에 촉매 목적으로 통상적으로 사용되는 수준(예를 들면, 통상적인 가교결합된 코팅을 위한 코팅층 중에 존재하는 중합체의 전체 중량을 기준으로 0.01 내지 12중량%)보다 높은 수준으로 존재하는 유기 술폰산 성분을 포함한다. 따라서, 본원발명의 일 측면은 (a) 레이져 조사의 절삭 흡수 특징이 있고 1종 이상의 중합체를 포함하는 잉크-수용성 표면층 및 (b) 친수성 기재를 포함하며, 상기 표면층이 표면층에 존재하는 중합체 전체 중량을 기준으로 13중량%를 초과하는 유기 술폰산 성분을 포함하는 것인 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹의 습식 리소그래픽 인쇄 부재에 관한 것이다. 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 방향족 술폰산이다. 바람직한 일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 예를 들면 아민-블록된 p-톨루엔술폰산(NACURE 2530) 성분으로서 존재하는 것과 같은 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 상기 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 표면층 (320) 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 15 내지 75중량%의 양으로 존재한다. 바람직한 일 실시태양에서, 유기 술폰산 성분은 절삭-흡수성 표면층 (320) 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 20 내지 45중량%의 양으로 존재한다.
도5를 참조하면, 본원발명의 또 다른 측면 및 이것에서 레이져 화상형성 민감성, 인쇄 화질, 깨끗함, 프레스 내구성, 잉크-수용성 화상 접착성 및 리소그래픽 부재의 양호한 도트 해상도를 강화하기 위하여 유기 술폰산을 사용하는 것은 절삭-흡수성 표면층 (320)과 지지 기재 (210) 사이에 겹쳐진 프라이머층을 포함시키는 것이다(이때, 상기 프라이머층은 접착-촉진제를 포함하며 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징이 있음). 적절한 접착-촉진제로는 유기 술폰산 성분, 지르코늄 화합물, 티타네이트, 및 실란등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층 중의 접착-촉진제는 유기 술폰산이고, 바람직하게는 방향족 술폰산이며, 더욱 바람직하게는 p-톨루엔술폰산이다.
일 실시태양에서, 절삭-흡수성 표면층 (320)과 친수성 지지 기재 (210) 사이에 겹쳐진 프라이머층 중의 유기 술폰산 성분은 프라이머층의 2 내지 100 중량%의 양으로 존재하고, 바람직하게는 프라이머층의 50 내지 100중량%의 양, 가장 바람직하게는 프라이머층의 80 내지 100중량%의 양으로 존재한다.
일 실시태양에서, 절삭-흡수성 표면층 (320)과 친수성 지지 기재 (210)사이에 겹쳐진 프라이머층의 두께는 약 0.01 내지 약 2 마이크로미터이고, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 0.1 마이크로미터이다.
유기 술폰산 성분을 포함하는 이러한 프라이머층이 존재하는 경우, 본원발명의 절삭-흡수성 표면층 (320) 중의 유기 술폰산의 증가된 수준은 의도하는 여러가지 잇점을 제공할 필요는 없을 것이고, 절삭-흡수성 표면층 (320) 중의 유기 술폰산 성분의 수준은 절삭-흡수성 표면층 중에 존재하는 중합체 전체 중량의 13중량% 미만이거나 또는 무시할 정도의 양일 수 있다. 그러나, 본원발명의 유기 술폰산성분을 13중량%를 초과하는 양으로 포함하는 절삭-흡수성 표면층 (320) 및 프라이머층의 조합을 사용하는 것이 적합하다.
일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 예를 들면, BACOTE 20과 같은 암모늄 지르코닐 카르보네이트이다. 또 다른 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 프로피오네이트이다. 본원발명의 프라이머층 중의 기타 적절한 지르코늄 화합물로는 P.J.Moles(Magnesium Elektron, Inc., Flemington, NJ)에 의한 출원정보(시이트 117; 임시)인 "표면 코팅에서의 지르코늄의 사용(The Use of Zirconium in Surface Coatings)"에 기재된 지르코늄-기재 접착 촉진제 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 친수성이고, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 제2층 또는 절삭-흡수성층의 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징이 있다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 제2층의 절삭성 흡수 및 이에 이어지는 프라이머층의 표면으로부터 제2층의 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위한 물 또는 세척용액으로 수행하는 세척단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는다. 일 실시태양에서, 프라이머층의 접착-촉진제는 지르코늄 옥사이드를 포함한다. 일 실시태양에서, 프라이머층은 무기 겔층이고, 바람직하게는 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 무기 겔층이다.
화상형성 장치
본원발명과 관련하여 사용하기에 적합한 화상 형성 장치는 적외선 스펙트럼에서 방출하는 적외선 레이져 장치와 같은 공지된 레이져 화상 형성 장치 등이 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 레이져 출력은 렌즈 또는 기타 빔-가이드 부품에 의하여 판에 직접 제공되거나 또는 광섬유 케이블을 사용하여 멀리 위치한 레이져로부터 인쇄판의 표면에 전송될 수 있다. 화상 형성 장치는 단지 판 제조장치로만 기능하면서 자체 상에서 구동거나 리소그래픽 인쇄 프레스 내에 직접 포함될 수 있다. 후자의 경우, 인쇄는 화상이 공판에 적용된 직후에 시작할 수 있다. 화상 형성 장치는 플랫베드 기록장치로서 배치되거나 또는 드럼 기록장치로서 배치될 수 있다.
본원발명의 습식 리소그래픽 인쇄판의 레이져-유도된 절삭은 연속적 또는 펄스 레이져원의 사용, 다양한 자외선, 가시광선 및 적외선 파장의 레이져 조사의 사용을 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아닌 레이져-유도 절삭 화상 형성의 기술 분야에 공지된 다양한 레이져 화상 형성 시스템을 사용하여 수행될 수 있다. 바람직하게는 본원발명의 레이져-유도 절삭은 예를 들면, 830 nm를 방출하는 다이오드 레이져를 사용하는 것과 같은 근-적외선 조사의 연속적 레이져원을 사용하여 수행된다.
화상 형성 기술
구동시, 본원발명의 판은 본 기술 분야의 통상의 기술자에게 잘 알려진 방법에 따라서 화상이 형성된다. 따라서, 본원발명의 리소그래픽 인쇄판은 판 위를 주사하는 화상 형성 레이져의 출력에 화상을 나타내는 패턴으로 선택적으로 노출된다. 도1을 참고하면, 방사 레이져 출력은 절삭-흡수성 제2층 (102) 및 잉크-수용성 표면층 (100)을 제거 및/또는 손상 또는 변형시켜서 판 상에 화상 형상의 배열 또는 잠재적인 화상 형상을 직접적으로 생성시킨다.
도2A 및 2B는 이러한 화상 형성 과정을 매우 상세히 나타낸다. 도2A에 나타난 바와 같이, 화상형성 조사는 층 100 및 102를 부분적으로 제거하고 친수성 제3층 (104) 상에 잔류 부스러기 (108)을 잔류시킨다. 레이져로 화상이 형성된 판은 이어서 부스러기 (108)을 제거하기 위하여 물 또는 원천 용액으로 세척되고, 이에 의하여 도2B에 나타난 바와 같은 친수성 제3층 (104)의 표면이 노출된다. 또 다른 한편으로, 친수성이고, 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 절삭-흡수층의 절삭성 흡수에 의한 절삭이 없고, 물에 용해되지 않는 특징이 있는 프라이머층이 존재하는 경우에, 상기 프라이머층은 세척 단계에 의하여 제거되지 않기 때문에 그 위에 잔류 부스러기가 접촉하며 세척 단계에 의하여 노출되는 표면이다. 상기 판에 화상이 형성되고 물 세척 없이 프레스 상에 거치되는 경우, 부스러기 (108)은 운반 로울러에 의하여 원천 용액의 벌크원으로 다시 운반된다.
따라서, 본원발명의 일 측면에서, 화상이 형성된 습식 리소그래픽 인쇄판의 제조 방법은 (a) 본원발명의 습식 리소그래픽 인쇄 부재를 제공하고, (b) 잉크-수용성 표면층의 일부 및 절삭-흡수성 제2층의 일부를 절삭하여 친수성 제3층 또는 친수성 중합체층 상에 잔류 부스러기 또는 잔류 복합체층을 형성하거나 또는 친수성 제3층 또는 친수성 중합체 층이 절삭-흡수 제2층 하부 및 기재 상부에 존재하지 않는 경우에는 친수성 기재상에 잔류 복합체층을 형성하도록 의도되는 화상대로의 레이져 노출에 인쇄 부재를 노출시키며, (c) 물 또는 세척 용액으로 친수성 제3층으로부터, 또는 대체적으로 이러한 친수성 제3층 또는 친수성 중합체층이 존재하지 않는 경우에 친수성 기재로부터 잔류하는 복합체층을 세척하는 것을 포함하며, 이때 상기 인쇄 부재의 상기 잉크-수용성 표면층은 물 또는 세척 용액에 용해되지 않는 것이다. 일 실시태양에서, 단계 (b)에서, 상기 잔류 부스러기는 프라이머층 상에 형성되고, 단계 (c)에서, 잔류 복합체층의 세척은 프라이머층으로부터 물 또는 세척용액을 사용하여 수행된다.
본원발명의 몇가지 실시태양이 기재의 방식으로 기재였지만 제한하는 방식은 아닌 하기 실시예에 기재되어 있다.
<실시예 1>
본원발명에 따른 리소그래픽 인쇄판은 실리케이트 상부층을 갖지며 브러쉬 입상화(brush grained)되고, 전기적으로 에칭되며 애노다이징된 알루미늄 시이트를 사용하여 제조하였다. 알루미늄 시이트는 도1의 층 (104)에 의하여 예시된 바와 같이 친수성 중합체층으로 코팅하였다. 고체에 대한 건조 중량을 기준으로 나타난 하기 성분을 물 중에서 혼합하여 6.3중량%의 용액을 제조하였다.
성분 부(parts)
AIRVOL 125 6.25
BACOTE 20 2.50
글리세롤 0.25
TRITON X-100 0.10
#18 와이어가 감긴 봉(wire wound rod)를 사용하여 알루미늄 시이트에 친수성 중합체 코팅 제제를 적용하였다. AIRVOL 125, BACOTE 20, 글리세롤 및 TRITON X-100을 함유하는 이 친수성층을 145℃에서 120초 동안 경화시킨 후, #4 와이어가 감긴 봉을 이용하여 절삭-흡수 제2층을 경화된 친수성 중합체층 상에 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켜 세 가지 상이한 절삭-흡수성 제2층(A, B 및 C)을 갖는표본을 제공하였다. 상기 절삭-흡수성 제2층을 145℃에서 120초 동안 경화시켰다.
성분 부(A) 부(B) 부(C)
AIRVOL 125(물중의 5% 고체) 44.0 44.0 44.0
UCAR WBV-110(물중의 48% 고체) 4.37 4.37 4.37
2-부톡시에탄올 3.75 3.75 3.75
CYMEL 303 1.21 1.21 1.21
CAB-O-JET 200(물 중의 20% 고체) 14.5 14.5 14.5
TRITON X-100(물 중의 10% 고체) 3.60 3.60 3.60
NACURE 2530(25% PTSA) 1.20 6.0 10.8
물 27.37 22.57 17.77
이어서 #3 와이어가 감긴 봉을 이용하여 물-기재 제제로부터의 잉크-수용성 제1층을 각각의 제2층(A, B 및 C) 위에 코팅하였다. 이어서, 각각을 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. 상기 코팅 제제는 하기와 같았다.
성분 부
WITCOBOND W-240(물 중의 30% 고체) 11.4
2-부톡시에탄올 1.0
CYMEL 303 1.2
NACURE 2530(25% PTSA) 2.4
TRITON X-100(물 중의 10% 고체) 1.0
물 83
WITCOBOND W-240은 Witco Corp.(Chicago, IL)로부터 구입할 수 있는 폴리우레탄 수분산액의 상표이다.
각각 상이한 제2층(A, B 및 C) 중 하나를 갖는 판을 870 nm에서의 에너지를 방출하는 IR 레이져 다이오드를 함유하는 Presstek Inc.(Hudson, NH)로부터 구입가능한 레이져 화상 형성 장치인 PEARLSETTER 74 상에서 화상을 형성시켰다. 상기 레이져의 스팟 크기는 35 마이크로미터이었다. 판 표면에서의 레이져 에너지는 대략 700 mj/cm2이었다. 판은 물을 세척액으로 사용하는 아니텍 데스크톱 판 가공기(Anitec desktop plate processer)로 세척하였다.
물로 세척한 후, 상기 판의 세척 용이도, 다이오드 밴딩(diode banding), 해상도 및 습윤 마찰 저항성을 평가하였다. 다이오드 밴딩은 상이한 IR 레이져 다이오드, 코팅 두께 변이 및 기타 변수들에서의 출력의 변이에 기인하는 화상 형성 민감성의 측면의 척도이다. 낮은 정도의 밴딩이 균일한 인쇄 화질을 얻기 위하여 매우 바람직하다. 해상도는 화상 형성 및 화상 형성후의 세척 이후에 판 상에서 얻어지는 화질이 가장 미세한 선 또는 도트의 척도이다. 습윤 마찰 저항성은 프레스 작업 동안에 판상에 유지되는 화상 형성된 화질의 가장 미세한 선 또는 도트의 척도이고, Veratec Corporation(Walpole, MA)로부터 구입가능한 린트-부재(lint-free) 직물에 대한 상표인 WEBRIL 직물(물로 습윤됨)로 50 회 습윤 마찰한 후에도 판상에 남아 있는 가장 미세한 선 또는 도트의 척도이다. 각각의 습윤 마찰은 화상이 형성된 부위를 통하여 전후 두번 지나쳐 수행되므로 본원발명의 50회 습윤 마찰 저항성은 실질적으로 화상이 형성된 부위를 통하여 총 100회의 습윤 마찰을 수반한다.
본원발명의 해상도 및 습윤 마찰 저항성을 시험하는 데 있어서, 화상 부위는 두 가지 타입으로 존재한다: (1) 너비를 구성하는 화소의 수를 기준으로 한 선의 너비를 갖는 일련의 화소 형태의 좁은 선 및 (2) 인치당 150 개의 선(150 lpi) 망판 스크린 화상 형성에서의 망판 도트. 이러한 화상 부위의 대략적인 크기는 하기와 같다. 하나의 화소 선은 15 마이크로미터 너비이고, 3개의 화소 선은 40 마이크로미터 너비이다. 2% 도트의 직경은 15 마이크로미터이고, 3% 도트의 직경은 20 마이크로미터, 4% 도트의 직경은 25 마이크로미터, 5% 도트의 직경은 35 마이크로미터, 10% 도트의 직경은 60 마이크로미터이다. 판상에 얻어지고 유지될 수 있는 화소 선의 너비 및 도트 크기의 직경이 작아질수록 인쇄 화질 및 허용가능한 화질을 갖는 프레스 작동 기간이 더 양호해진다. 따라서, 세척 후에 1 화소 너비 선 화상을 얻고 습윤 마찰 저항성 시험을 통하여 1 화소 너비 선 화상을 유지하는 것은 인쇄 화질에 대한 가장 양호한 결과이다. 유사하게, 세척 이후에 2% 도트 화상 또는 직경이 15 마이크로미터인 도트를 얻고 습윤 마찰 저항성 시험을 통하여 2% 도트 화상을 유지하는 것은 인쇄 화질에 대한 가장 양호한 결과이며, 가장 양호한 도트 화상으로서 단지 5% 또는 10% 도트를 유지하는 것에 비하여 매우 더 바람직하다.
하기는 상기 결과를 요약하고 있다.
판 세척 용이성 세척 후 가장 양호한 도트 습윤 마찰 후 가장 양호한 도트 밴딩
"A" 어려움 2% 3% 심함
"B" 양호함 2% 3% 온화함
"C" 용이하게 세척됨 2% 3% 매우 조금
절삭-흡수성 제2층 중에 존재하는 중합체의 합해진 양을 기준으로한 p-톨루엔술폰산 성분의 중량%는 판 A의 경우 5.4중량%, 판 B의 경우 27.2중량% 및 판C이 경우 49.0중량%이었다. NACURE 2530으로부터의 다량의 p-톨루엔술폰산 성분이 해상도에 어떠한 인식 가능한 영향도 미치지 않으면서 다이오드 밴딩의 양을 감소시키며 세척 용이성을 현저히 개선시킨다는 사실을 명백히 알 수 있다.
<실시예 2>
절삭-흡수성 표면층을 갖는 본원발명의 측면을 위한 니트로셀룰로오스-기재 코팅을 증가된 p-톨루엔술폰산의 효과를 나타내기 위하여 제조하였다. 두 가지 코팅을 하기와 같이 제조하였다:
성분 부(2A) 부(2B)
2-부톡시에탄올 93.30 84.90
니트로셀룰로오스(70% 5-6 sec. RS) 4.58 4.17
CYMEL 303 0.40 0.36
VULCAN VXC 72R 1.32 1.20
NACURE 2530(25% PTSA) 0.40 9.37
알루미늄 시이트, 친수성 제3층 및 어떠한 잉크-수용성 제1층도 각각의 절삭-흡수층 위에 코팅되지 않았다는 점을 제외하고는 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같은 공정을 사용하여 판을 제조하였다. 145℃에서 30 내지 120초 사이의 친수성 제3층의 경화 시간에 4 가지 변화를 주었다. 화상 형성, 세척, 및 해상도와 습윤 마찰 저항성의 시험을 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같이 수행하였다. 화상 형성장치는 약 400 mj/cm2을 제공하도록 고정된 다이오드를 갖는 Presstek PEARLSETTER 74이었다. 화상이 형성된 판에 대한 결과가 하기에 요약되어 있다.
경화시간 시험 실시예 2A 실시예 2B
화소 도트 화소 도트
30초 세척됨 1 선 3% 1 선 2%
50회 습윤 마찰됨 3 선 10% 1 선 3%
60초 세척됨 1 선 5% 1 선 3%
50회 습윤 마찰됨 3 선 10% 1 선 4%
90초 세척됨 1 선 5% 1 선 3%
50회 습윤 마찰됨 3 선 10% 1 선 3%
120초 세척됨 1 선 5% 1 선 3%
50회 습윤 마찰됨 3 선 10% 1 선 3%
절삭-흡수층 중에 존재하는 중합체의 합해진 중량을 기준으로한 p-톨루엔술폰산의 중량%는 실시예 2A의 경우 2.8중량% 및 실시예 2B의 경우 71.4중량%이었다. p-톨루엔술폰산 성분의 양이 크면 후속적으로 해상도 및 습윤 마찰 저항성을 개선시키는 절삭-흡수층에 대한 니트로셀룰로오스-기재 코팅의 접착성이 현저히 개선된다는 사실을 발견할 수 있다.
<실시예 3>
미국특허 제5,493,971호의 실시예 1에 기재된 바와 같이 니트로셀룰로오스-기재 코팅을 제조하여 본원발명 실시예 1에 기재된 바와 같이 제조된 경화된 친수성 폴리비닐 알코올-기재의 코팅되고, 입상화되고, 애노다이징되고 실리케이트된 알루미늄 기재 상에 #8 와이어가 감긴 봉을 사용하여 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. 두 번째의 유사한 경화된 친수성 폴리비닐 알코올-기재의 코팅되고, 입상화되고, 애노다이징되고 실리케이트된 기재를 평탄한 봉을 사용하여 NACURE 2530 (25% PTSA)로 코팅하고 건조시키기만 하였다. 이 깔끔하게 처리된(primed) 표면을 이어서 #8 와이어가 감긴 봉을 사용하여 미국특허 제5,493,971호(실시예 1)로부터의 니트로셀룰로오스-기재 코팅으로 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. 화상 형성, 세척 및 해상도와 습윤 마찰 저항의 시험을 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같이 수행하였다. 두 판 모두 약 400 mj/cm2를 제공하도록 고정된 다아오드를 갖는 Presstek PEARLSETTER 74 화상형성기 상에서 화상을 형성시켰다. 결과가 하기에 요약되어 있다.
NACURE 프라이머가 없음 NACURE 프라이머층
화소 도트 화소 도트
세척됨 1 선 5% 1 선 3%
50회 습윤 마찰됨 3 선 10% 1 선 3%
p-톨루엔술폰산-기재 프라이머층이 해상도 및 습윤 마찰 저항성을 개선시키는 것에 의하여 나타난 바와 같은 절삭-흡수층에 대한 니트로셀룰로오스-기재 코팅의 접착성을 현저히 개선시킨다는 사실을 알 수 있다.
<실시예 4>
미국특허 제5,493,971호의 실시예 1에 기재된 바와 같은 니트로셀룰로오스-기재 코팅을 제조하여 본원발명 실시예 1에 기재된 바와 같이 제조된 경화된 친수성 폴리비닐 알코올-기재의 코팅되고, 입상화되고, 애노다이징되고 실리케이트된 알루미늄 기재 상에 #8 와이어가 감긴 봉을 사용하여 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. 두 번째의 유사한 경화된 친수성 폴리비닐 알코올-기재의 코팅되고, 입상화되고, 애노다이징되고 실리케이트된 기재를 #3 와이어가 감긴 봉을 사용하여 BACOTE 20의 0.875% 고체 코팅으로 코팅하고 건조시키기만 하였다. 이 깔끔하게 처리된 표면을 이어서 #8 와이어가 감긴 봉을 사용하여 미국특허 제5,493,971호(실시예 1)로부터의 니트로셀룰로오스-기재 코팅으로 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. 화상 형성, 세척 및 해상도와 습윤 마찰 저항의 시험을 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같이 수행하였다. 두 판 모두 약 400 mj/cm2를 제공하도록 고정된 다아오드를 갖는 Presstek PEARLSETTER 74 화상형성기 상에서 화상을 형성시켰다. 결과가 하기에 요약되어 있다.
BACOTE 프라이머가 없음 BACOTE 프라이머층
화소 도트 화소 도트
세척됨 1 선 5% 1 선 1%
50회 습윤 마찰됨 3 선 10% 1 선 2%
지르코늄 카르보네이트를 함유하는 프라이머층이 후속적인 개선된 해상도 및 습윤 마찰 저항성을 갖는 니트로셀룰로오스-기재 코팅의 접착성을 현저히 개선시킨다는 사실을 알 수 있다.
<실시예 5>
실리케이트 상부층을 갖는 입상화되고 애노다이징된 알루미늄 시이트를 사용하여 본원발명에 따른 리소그래픽 인쇄판을 제조하였다. 본원발명 실시예 1에 기재된 바와 같은 친수성 제3층으로 상기 알루미늄 시이트를 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. 이어서 절삭-흡수성 잉크-비수용성 제2층을 상기 경화된 친수성 제3층 위에 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. BYK 333은 Byk-Chemie USA(Wallingford, CT)로부터 구입할 수 있는 계면활성제의 상표이다.
성분 부
AIRVOL 125(물 중의 5% 고체) 28.61
BACOTE 20(물 중의 14% 고체) 4.16
글리세롤 0.07
TRITON X-100(물 중의 10% 고체) 0.23
BYK 333(물 중의 10% 고체) 0.33
CAB-O-JET 200(물 중의 20% 고체) 33.3
NACURE 2530(25% PTSA) 23.3
물 10.0
상기 절삭-흡수층은 습식 리소그래픽 인쇄 시스템의 잉크 및 물에 노출될 때, 물은 수용하지만 잉크는 수용하지 않았다.
이어서, 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같은 물-기재 제제로부터의 잉크-수용성 제1층을 절삭-흡수성 제2층 위에 코팅하였다. 이것을 145℃에서 120 초 동안 경화시켰다.
화상 형성, 세척, 및 해상도와 습윤 마찰 저항성에 대한 시험을 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같이 수행하였다. 판을 Presstek PEARLSETTER 74상에서 화상을 형성하였고 판 표면에서의 레이져 에너지는 약 500 mj/cm2이었다.
하기에 그 결과가 요약되어 있다.
세척 용이성 세척 후 최상의 도트 습윤 마찰 후 최상의 도트 밴딩
용이하게 세척됨 1% 2% 없음
BACOTE 20 가교결합제를 포함하는, 존재하는 중합체의 합해진 중량을 기준으로한 p-톨루엔술폰산 성분의 중량%는 289.4중량%이었다. 특정 폴리비닐 알코올-기재 제제와 합해진 p-톨루엔술폰산 성분의 양이 커지면 세척 용이성 및 해상도가 현저히 개선되고 다이오드 밴딩이 제거된 잉크-비수용성 절삭 흡수층을 제공한다는 사실을 알 수 있다. p-톨루엔술폰산 성분을 갖는 NACURE 2530은 또한 현저한 분산 안정성 및 코팅성 특징을 본 제제에 제공하였다.
<실시예 6>
수성 코팅으로 코팅하기에 적합한 5 mil 두께의 폴리에스테르 필름을 사용하여 본원발명에 따른 리소그래픽 인쇄판을 제조하였다. 상기 폴리에스테르 기재를 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같은 친수성 제3층으로 코팅하고, 145℃에서 120초 동안 경화시켰다. 이어지는 절삭-흡수성 제2층을 친수성 제3층 상에 코팅하고 145℃에서 120초 동안 경화시켰다.
성분 부(6A) 부(6B)
AIRVOL 125(물 중의 5% 고체) 22.0 22.0
TRITON X-100(물 중의 10% 고체) 1.8 1.8
2-부톡시에탄올 1.9 1.9
CYMEL 303 0.70 0.70
CAB-O-JET 200(물 중의 20% 고체) 23.5 23.5
NACURE 2530(25% PTSA) 1.20 5.50
물 48.9 44.6
본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같은 물-기재 제제로부터의 잉크-수용성 제1층을 2층 위에 코팅한 후, 145℃에서 120 초 동안 경화시켰다.
화상 형성, 세척, 및 해상도와 습윤 마찰 저항성에 대한 시험을 본원발명의 실시예 1에 기재된 바와 같이 수행하였다. 판을 Presstek PEARLSETTER 74상에서 화상을 형성하였고 판 표면에서의 레이져 에너지는 약 600 mj/cm2이었다.
하기에 그 결과가 요약되어 있다.
판 세척 용이성 세척후 최상의 도트 습윤 마찰 후 최상의 도트 밴딩
6A 세척되지 않음 적용 불가 적용 불가 적용 불가
6B 양호함 1% 2% 없음
판 6A의 상기 절삭-흡수 제2층은 제2층 중의 중합체의 전체 중량을 기준으로 16.7중량%의 p-톨루엔술폰산 성분을 갖는다. 판 6B의 경우에, 제2층 중의 전체 중합체 중량을 기준으로한 p-톨루엔술폰산 성분의 중량%는 76.4중량%이다. 가요성 친수성 폴리에스테르 필름 지지체를 갖는 본원발명의 판의 절삭-흡수성 제2층 중의 p-톨루엔술폰산 성분의 양이 커지면 세척 용이성이 현저히 개선되며, 양호한 해상도가 제공되고 다이오드 밴딩이 제거된다는 사실을 알 수 있다. 반대로, p-톨루엔술폰산 성분의 양이 작으면 레이져 화상 형성 후에 세척되지 않고 따라서 세척 후의 해상도 및 밴딩의 평가 및 습윤 마찰 시험을 적용할 수 없었다.
본원발명이 그의 특정 실시태양을 참고하여 상세히 기재되었지만, 그 범위 및 기술 사상으로부터 벗어나지 않으면서 다양한 변화 및 변형이 가능하다는 것을 본 기술 분야의 기술자에게 명백할 것이다.

Claims (38)

  1. (a) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 잉크-수용성(ink-accepting) 표면층,
    (b) 1종 이상의 중합체를 포함하고 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 가지며 상기 표면층 하부에 겹쳐진 제2층, 및
    (c) 친수성 기재(여기서, 접착-촉진제를 포함하는 프라이머층(primer layer)이 상기 제2층과 상기 기재 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 제2층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않으며, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹(positive working) 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  2. 제1항에 있어서, 상기 프라이머층이 상기 제2층의 상기 절삭성 흡수 및 이에 이은 상기 프라이머층의 표면으로부터 상기 제2층의 상기 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위하여 물 또는 세척 용액으로 수행하는 세척 단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는 것인 부재.
  3. 제1항에 있어서, 상기 프라이머층의 두께가 약 0.01 내지 약 2 마이크로미터인 부재.
  4. 제1항에 있어서, 상기 프라이머층의 두께가 약 0.01 내지 약 0.1 마이크로미터인 부재.
  5. (a) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층,
    (b) 1종 이상의 중합체를 포함하고 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 가지며 상기 표면층 하부에 겹쳐진 제2층, 및
    (c) 친수성 기재(여기서, 지르코늄 화합물을 포함하는 프라이머층이 상기 제2층과 상기 기재 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 제2층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상이 형성될 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  6. 제5항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 암모늄 지르코닐 카르보네이트인 부재.
  7. 제5항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 프로피오네이트인 부재.
  8. 제5항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 옥사이드인 부재.
  9. (a) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층,
    (b) 1종 이상의 중합체를 포함하고 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 가지며 상기 표면층 하부에 겹쳐진 제2층, 및
    (c) 친수성 기재(여기서, 무기 겔층인 프라이머층이 상기 제2층과 상기 기재 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 제2층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상이 형성될 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  10. 제9항에 있어서, 상기 무기 겔층이 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 것인 부재.
  11. (a) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층,
    (b) 1종 이상의 중합체를 포함하고 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 가지며 상기 표면층 하부에 겹쳐진 제2층,
    (c)상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 상기 제2층 하부에 겹쳐진 친수성 제3층, 및
    (d) 기재(여기서, 접착-촉진제를 포함하는 프라이머층이 상기 제2층과 제3층 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성-흡수가 없으며, 상기 제2층의 상기 절삭성-흡수에 의하여 절삭되지 않고,물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  12. 제11항에 있어서, 상기 프라이머층이 상기 제2층의 상기 절삭성 흡수 및 이에 이은 상기 프라이머층의 표면으로부터 상기 제2층의 상기 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위하여 물 또는 세척 용액으로 수행하는 세척 단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는 것인 부재.
  13. (a) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층,
    (b) 1종 이상의 중합체를 포함하고 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 가지며 상기 표면층 하부에 겹쳐진 제2층,
    (c)상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 상기 제2층 하부에 겹쳐진 친수성 제3층, 및
    (d) 기재(여기서, 지르코늄 화합물을 포함하는 프라이머층이 상기 제2층과 제3층 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성-흡수가 없으며, 상기 제2층의 상기 절삭성-흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  14. 제13항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 암모늄 지르코닐 카르보네이트인부재.
  15. 제13항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 프로피오네이트인 부재.
  16. 제13항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 옥사이드인 부재.
  17. (a) 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층,
    (b) 1종 이상의 중합체를 포함하고 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 가지며 상기 표면층 하부에 겹쳐진 제2층,
    (c)상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 갖는 상기 제2층 하부에 겹쳐진 친수성 제3층, 및
    (d) 기재(여기서, 무기 겔층인 프라이머층이 상기 제2층과 제3층 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성-흡수가 없으며, 상기 제2층의 상기 절삭성-흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  18. 제17항에 있어서, 상기 무기 겔층이 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 것인 부재.
  19. (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층, 및
    (b) 친수성 기재(여기서, 접착-촉진제를 포함하는 프라이머층이 상기 표면층과 상기 기재 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층이 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  20. 제19항에 있어서, 상기 프라이머층이 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수 및 이에 이은 상기 프라이머층의 표면으로부터 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위하여 물 또는 세척 용액으로 수행하는 세척 단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는 것인 부재.
  21. (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층, 및
    (b) 친수성 기재(여기서, 지르코늄 화합물을 포함하는 프라이머층이 상기 표면층과 상기 기재 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층이 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  22. 제21항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 암모늄 지르코닐 카르보네이트인 부재.
  23. 제21항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 프로피오네이트인 부재.
  24. 제21항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 옥사이드인 부재.
  25. (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층, 및
    (b) 친수성 기재(여기서, 무기 겔층인 프라이머층이 상기 표면층과 상기 기재 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  26. 제25항에 있어서, 상기 무기 겔층이 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 것인 부재.
  27. (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는잉크-수용성 표면층,
    (b) 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 가지며 상기 표면층의 하부에 겹쳐진 친수성 중합체층, 및
    (c) 기재(여기서, 접착-촉진제를 포함하는 프라이머층이 상기 표면층과 상기 친수성 중합체층 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  28. 제27항에 있어서, 상기 프라이머층이 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수 및 이에 이은 상기 프라이머층의 표면으로부터 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수의 임의의 잔여물을 제거하기 위하여 물 또는 세척 용액으로 수행하는 세척 단계에 의하여 제거되지 않는 특징을 더 갖는 것인 부재.
  29. (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층,
    (b) 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 가지며 상기 표면층의 하부에 겹쳐진 친수성 중합체층, 및
    (c) 기재(여기서, 지르코늄 화합물을 포함하는 프라이머층이 상기 표면층과 상기 친수성 중합체층 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층은 친수성이고, 상기레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  30. 제29항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 암모늄 지르코닐 카르보네이트인 부재.
  31. 제29항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 프로피오네이트인 부재.
  32. 제29항에 있어서, 상기 지르코늄 화합물이 지르코늄 옥사이드인 부재.
  33. (a) 1종 이상의 중합체를 포함하고 레이져 조사의 절삭성 흡수 특징을 갖는 잉크-수용성 표면층,
    (b) 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없는 특징을 가지며 상기 표면층의 하부에 겹쳐진 친수성 중합체층, 및
    (c) 기재(여기서, 무기 겔층인 프라이머층이 상기 표면층과 상기 친수성 중합체층 사이에 겹쳐져 있는데, 상기 프라이머층이 친수성이고, 상기 레이져 조사의 절삭성 흡수가 없으며, 상기 표면층의 상기 절삭성 흡수에 의하여 절삭되지 않고, 물에 용해되지 않는 특징을 갖는다)를 포함하는, 레이져 조사에 의하여 화상을 형성할 수 있는 포지티브 워킹 습식 리소그래픽 인쇄 부재.
  34. 제33항에 있어서, 상기 무기 겔층이 지르코늄 옥사이드 겔을 포함하는 것인 부재.
  35. (a) 제1항에 따른 습식 리소그래픽 인쇄 부재를 제공하는 단계,
    (b) 의도하는 화상대로 레이져 조사에 노출되도록 상기 부재를 노출시켜 상기 부재의 표면층의 일부분 및 상기 부재의 제2층의 일부분이 절삭되어 상기 표면층의 비-절삭 물질 및 상기 제2층의 비-절삭 물질을 포함하며 상기 부재의 프라이머층과 접촉하게 되는 잔류 복합체 층을 형성시키는 단계, 및
    (c) 물 또는 세척 용액으로 상기 프라이머층으로부터 잔류 복합체 층을 세척하는 단계(이때, 상기 부재의 잉크-수용성 표면층은 물 또는 상기 세척 용액에 용해되지 않는다)를 포함하는, 화상이 형성된 습식 리소그래픽 인쇄판의 제조 방법.
  36. (a) 제11항에 따른 습식 리소그래픽 인쇄 부재를 제공하는 단계,
    (b) 의도하는 화상대로 레이져 조사에 노출되도록 상기 부재를 노출시켜 상기 부재의 표면층의 일부분 및 상기 부재의 제2층의 일부분이 절삭되어 상기 표면층의 비-절삭 물질 및 상기 제2층의 비-절삭 물질을 포함하며 상기 부재의 프라이머층과 접촉하게 되는 잔류 복합체 층을 형성시키는 단계, 및
    (c) 물 또는 세척 용액으로 상기 프라이머층으로부터 잔류 복합체 층을 세척하는 단계(이때, 상기 부재의 잉크-수용성 표면층은 물 또는 상기 세척 용액에 용해되지 않는다)를 포함하는, 화상이 형성된 습식 리소그래픽 인쇄판의 제조 방법.
  37. (a) 제19항에 따른 습식 리소그래픽 인쇄 부재를 제공하는 단계,
    (b) 의도하는 화상대로 레이져 조사에 노출되도록 상기 부재를 노출시켜 상기 부재의 표면층의 일부분이 절삭되어 상기 표면층의 비-절삭 물질 을 포함하며 상기 부재의 프라이머층과 접촉하게 되는 잔류 복합체 층을 형성시키는 단계, 및
    (c) 물 또는 세척 용액으로 상기 프라이머층으로부터 잔류 복합체 층을 세척하는 단계(이때, 상기 부재의 잉크-수용성 표면층은 물 또는 상기 세척 용액에 용해되지 않는다)를 포함하는, 화상이 형성된 습식 리소그래픽 인쇄판의 제조 방법.
  38. (a) 제27항에 따른 습식 리소그래픽 인쇄 부재를 제공하는 단계,
    (b) 의도하는 화상대로 레이져 조사에 노출되도록 상기 부재를 노출시켜 상기 부재의 표면층의 일부분이 절삭되어 상기 표면층의 비-절삭 물질 을 포함하며 상기 부재의 프라이머층과 접촉하게 되는 잔류 복합체 층을 형성시키는 단계, 및
    (c) 물 또는 세척 용액으로 상기 프라이머층으로부터 잔류 복합체 층을 세척하는 단계(이때, 상기 부재의 잉크-수용성 표면층은 물 또는 상기 세척 용액에 용해되지 않는다)를 포함하는, 화상이 형성된 리소그래픽 인쇄판의 제조 방법.
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