JP3392404B2 - レーザイメージング装置に用いるリソグラフ印刷プレート - Google Patents

レーザイメージング装置に用いるリソグラフ印刷プレート

Info

Publication number
JP3392404B2
JP3392404B2 JP2000573924A JP2000573924A JP3392404B2 JP 3392404 B2 JP3392404 B2 JP 3392404B2 JP 2000573924 A JP2000573924 A JP 2000573924A JP 2000573924 A JP2000573924 A JP 2000573924A JP 3392404 B2 JP3392404 B2 JP 3392404B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
laser radiation
hydrophilic
ablative absorption
primer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000573924A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002526304A (ja
Inventor
ローケ，トーマス，ピー
ダマト，リチャード，ジェイ
Original Assignee
プレステク，インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by プレステク，インコーポレイテッド filed Critical プレステク，インコーポレイテッド
Publication of JP2002526304A publication Critical patent/JP2002526304A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3392404B2 publication Critical patent/JP3392404B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • B41N1/14—Lithographic printing foils
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04—Intermediate layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/266—Polyurethanes; Polyureas

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
関連する出願 本出願は、1998年９月21日に出願された「レーザイメー
ジング装置に用いるリソグラフ印刷プレート」と題する
米国仮特許出願第60/101,229号の優先権を主張してい
る。
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は一般にリソグラフィ
に関し、より特定的には、デジタル制御されたレーザ出
力を用いてリソグラフ印刷プレートをイメージングする
システムに関連している。さらに具体的には、本発明
は、湿式リソグラフ印刷機で直接にイメージングし、使
用するのに特に適した、新規なリソグラフ印刷プレート
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】記録材料上に印刷されたイメージを導入
するための在来の技術には、凸版印刷、グラビア印刷、
及びオフセットリソグラフ印刷などがある。これらの印
刷方法は全て、プレートを必要とする。インクをイメー
ジのパターンで転写するために、プレートは通常、効率
化のために回転印刷機のプレートシリンダ上に装着され
る。凸版印刷では、イメージパターンは隆起した領域の
形態でプレート上に表されており、これらの領域がイン
クを受容して、それを印刷によって記録媒体上へと転写
する。対照的に、グラビア印刷シリンダは一連のくぼみ
又は凹部を含んでおり、これらがインクを受容して記録
媒体上に堆積させる。過剰のインクは、シリンダと記録
媒体とが接触する前に、ドクターブレード又はこれに類
した装置によってシリンダから除去されねばならない。
【０００３】「リソグラフ」という用語はここでは、オ
フセット、オフセット石版、平板印刷その他といった、
同義語的に用いられる種々の用語を含むことを意図して
用いられる。ここで用いられる「湿式リソグラフ」とい
う用語は、印刷が油と水の非混和性に基づいて行われる
種類のリソグラフ印刷プレートを意図したものであり、
そこでは油性物質又はインクがイメージ領域により優先
的に保持され、また水又は湿し水が非イメージ領域によ
り優先的に保持される。適切に準備された表面が水で加
湿され、次いでインクが適用されると、背景又は非イメ
ージ領域が水を保持してインクを弾き、一方でイメージ
領域はインクを受容し、水を弾く。イメージ領域上のイ
ンクは次いで、イメージを複製すべき材料、例えば紙、
布などの表面上に転写される。普通は、インクはゴム胴
と呼ばれる中間材料へと転写され、このゴム胴が次いで
そのインクを、イメージを複製すべき材料の表面に対し
て転写する。水を使用しない乾式リソグラフ印刷システ
ムでは、プレートが単純にインク付けされ、イメージは
記録媒体上へと直接に転写され、或いはゴム胴、次いで
記録媒体へと転写される。
【０００４】アルミニウムは、リソグラフ印刷プレート
のための支持体として、多年にわたって使用されてい
る。こうした用途に向けてアルミニウムを準備するた
め、アルミニウムは典型的には、砂目立て処理と、これ
に続く陽極処理の両者を受ける。砂目立て処理は、プレ
ートに対するイメージの付着性を改良し、また印刷プレ
ートの背景領域の水受容特性を向上させるのに役立つ。
砂目立てと陽極処理は、印刷プレートの性能と耐久性の
両方に影響する。リソグラフ印刷プレートの製造におい
ては、機械的砂目立て及び電解的砂目立て処理が周知で
あり、また広く用いられている。アルミニウムを陽極処
理して陽極酸化コーティングを形成し、次いで陽極処理
表面を珪化のような技術によって親水化するプロセスも
また、技術的に周知のものであり、ここでさらに説明す
る必要はないであろう。かくしてアルミニウム製の支持
体は、多孔質で耐摩耗性のある親水性表面を有すること
によって特徴付けられることになるが、これはこの支持
体を、特に長期的な印刷操業が必要とされる場合につい
て、リソグラフ印刷に対して明確に適合させるものであ
る。
【０００５】オフセット印刷用のプレートは、通常は写
真術的に製造される。上述したアルミニウム基体は典型
的には、リソグラフ印刷プロセスで用いるイメージを形
成するのに適した、広範な種々の放射線感応性材料でコ
ーティングされる。露光と、所要の現像及び／又は定着
の後に、印刷に使用可能なイメージをもたらすならば、
どのような放射線感応性層も適切なものである。この型
式のリソグラフ印刷プレートは通例、水性アルカリ現像
液で現像されるが、これは多くの場合、相当量の有機溶
剤を付加的に含有する。
【０００６】典型的なネガティブワーキングサブトラク
ティブ処理を用いて湿式プレートを準備するには、原本
を写真に撮り、写真陰画を生成する。この陰画は、フォ
トポリマーでコーティングされた水受容性の酸化表面を
有するアルミニウムプレート上に置かれる。陰画を通し
て光その他の放射線に曝露すると、放射線を受容したコ
ーティングの領域（原本の暗い、即ち印刷された領域に
対応する）は硬化して、耐久性のある親油性状態とな
る。プレートは次いで現像処理にかけられ、コーティン
グの未硬化領域（即ち放射線を受容しておらず、原本の
非イメージ又は背景領域に対応する領域）が除去され、
それによってアルミニウムプレートの親水性表面が露出
される。
【０００７】本出願全体を通じて、種々の刊行物、特
許、及び公開特許出願を、識別的な引用を行うことによ
って参照する。本出願で参照するそれらの刊行物、特
許、及び公開特許出願の開示は、参照を行うことによっ
て本書の開示中に取り入れ、本発明が属する技術の先端
水準をより完全に記述するものとする。
【０００８】先の記述から明らかなように、写真術的な
プレート作成プロセスは時間消費的となりがちであり、
所要の化学処理を支援するのに適切な施設及び設備を必
要とする。長年にわたり、現像を必要としない印刷プレ
ートや、現像に水しか使用しない印刷プレートを製造し
ようとする努力が行われてきた。加えて、実務者たちは
プレートのイメージングに対して数多くの電子的代替物
を開発してきており、そのうち幾つかのものは機上で使
用可能である。これらのシステムでは、デジタル制御さ
れたデバイスがブランク（未加工）プレートのインク受
容性を、印刷されるイメージを表すパターンでもって変
化させる。こうしたイメージングデバイスには、一つ又
はより多くのレーザ又は非レーザ源によって形成され、
プレートブランク（素材）上に化学変化を生じさせる
（それによって写真術的陰画の必要性を排除する）電磁
放射線源や、インク反発性又はインク受容性のスポット
をプレートブランク上に直接堆積させるインクジェット
装置、及びプレートブランクと接触し又はこれに密接し
た電極が電気火花を生成してプレートブランクのトポロ
ジを物理的に変化させ、それによって集合的に所望のイ
メージを形成する「ドット」を生成する火花放電装置
（例えば米国特許第4,911,075号参照）などがある。レ
ーザ設備の入手容易性、及びデジタル制御に対するその
馴染み易さの故に、レーザをベースとするイメージング
システムの開発に向けて、多大の努力が払われてきた。
こうしたシステムには次のものが含まれる。 1）例えば米国特許第3,506,779号、第4,020,762号、第
4,868,092号、第5,153,236号、第5,372,915号、及び第
5,629,354号に記載されたような、在来の化学的処理を
行う目的で感光性ブランクを露光するのに用いられる、
アルゴンイオンレーザ、周波数二倍Nd-YAGレーザ、及び
赤外線レーザ。この手法に対する代替例では、レーザ
は、感光性プレートブランクの上側に設けられた不透明
なコーティングを、イメージに関するパターンで選択的
に除去するために用いられている。プレートは次いで放
射線源に曝露され、その場合に未だ除去されていない材
料は、例えば米国特許第4,132,168号に記載されている
ように、放射線がプレートの下側にある部分に到達する
のを防止するマスクとして作用する。
【０００９】しかしながら、高速書込速度に対する必要
性と、産業界により低電力レーザが嗜好されるという制
約とが相俟った結果、非常に高い感光性を有する印刷プ
レートが要求されることになった。残念ながら、高い感
光性は必ずと言っていいほど、プレートの保存性を低下
させる。 2）レーザイメージングに対する別の手法は、熱転写材
料を用いることであり、これは例えば、米国特許第3,94
5,318号、第3,962,513号、第3,964,389号、第4,395,946
号、及び第5,395,729号に記載されている。これらのシ
ステムでは、レーザにより発光される放射線に対して透
明なポリマーシートが、転写可能な材料でコーティング
される。この構造体の転写側は、受容シートと接触する
ようにされ、そして転写材料は透明層を介して選択的に
照射される。照射により転写材料は、受容シートに対し
て優先的に付着するようになる。転写材料と受容材料と
は、湿し水及び／又はインクに対して異なる親和性を示
し、透明ポリマーシートを依然としてその上にある未照
射の転写材料と共に除去すると、適切にイメージングさ
れた、仕上げられたプレートが残ることになる。典型的
には、転写材料が親油性であり、受容材料が親水性であ
る。
【００１０】転写型式のシステムで製造されたプレート
は、有効に転写可能な材料の量が限定されているため
に、有効寿命が短くなりがちである。具体的な構造によ
っては、空中浮遊の塵埃により、イメージ品質の問題が
生じうる。加えて、転写プロセスには材料の溶融及び再
固化を伴うことから、イメージ品質はさらに、多の方法
で得られるものよりも視覚的に劣りがちである。 3）他の特許は、支持体と親水性イメージング層からな
るリソグラフ印刷プレートを記述しており、これはイメ
ージに関連してレーザに曝露されると、曝露領域で親油
性となる一方、未曝露領域では親水性のままである。こ
れは例えば、米国特許第3,793,033号、第4,034,183号、
第4,081,572号、及び4,693,958号に開示されている。し
かしながら、これらの型式のリソグラフ印刷プレート
は、親油性のイメージ領域と、親水性の非イメージ領域
との間に十分な度合いの区別がない憾みがあり、その結
果、印刷に際してのイメージ品質は低い。 4）レーザを用いる初期の例では、レーザを用いてプレ
ートブランクから材料がエッチング除去されて、例えば
米国特許第3,506,779号及び第4,347,785号に記載されて
いるようにして凹版又は凸版パターンが形成されてい
た。この手法は後に、例えば米国特許第4,054,094号に
記載のように、例えば親水性表面を除去して親油性の下
側層を発現させるというように、リソグラフプレートの
製造へと発展された。これらの初期のシステムは通例、
高価で速度の遅い、高出力レーザを必要としていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】より最近になって、親
水性プレートをイメージングするための、赤外線レーザ
による融除をベースとする他のシステムが開発されてき
た。これらは親水性有機ポリマーをレーザにより除去す
ることによって動作するものであるが、こうしたポリマ
ーはポリエステル／金属の積層体といった親油性基体
や、金属支持体上の親油性ポリマーコーティングの上に
コーティングされる。融除されるコーティングと熱吸収
性の金属支持体との間にこうした材料を用いると、熱的
なバリア材料がもたらされ、例えば米国特許第5,339,73
7号、第5,351,617号、第5,353,705号、第5,379,698号、
第5,385,092号、第5,440,987号、第5,487,338号、第5,5
40,150号、第5,551,341号、及び第5,6,38,753号、並び
にカナダ特許第1,050,805号に記載されているように、
親水性の表面層を融除し又は物理的に変形するのに必要
とされるレーザエネルギーの量が低減される。レーザ出
力は、一つ又はより多くのプレート層を融除し、或いは
疎油性又は親水性の表面層を物理的に変形するが、何れ
の場合でも結果的には、プレート上にイメージに関連し
た造作のパターンが得られる。
【００１２】この手法の一つの問題点は、親水性の非イ
メージ領域が、長期にわたる印刷操業を可能にする程十
分には耐久性がなく、また引っ掻き傷を受け易いという
ことである。また親水性コーティングは、在来の親水性
の砂目立てされ陽極処理された表面のようではなく、一
般には在来の印刷の主流から外れていると考えられてい
る。これらのプレートの一つの他の欠点は、融除によっ
て除去される部分がインクを受容するイメージ領域であ
るため、それらがネガティブワーキングだということに
ある。スポットサイズの大きなレーザがイメージングに
用いられた場合、最小の印刷ドットの大きさは、このス
ポットサイズと同程度になってしまう。従って、印刷に
際してのイメージ品質は高くない。例えば35マイクロメ
ートルのレーザスポットサイズの場合、ネガティブワー
キングプレートで印刷される最小のドット寸法は35マイ
クロメートルとなる。インチ当たり200ライン（lpi）の
ハーフトーンスクリーン上では、これは５％から６％の
ドットに相当する。
【００１３】米国特許第5,493,971号は、在来の砂目立
てされた金属プレートの利点を、融除的レーザイメージ
ングに展開させ、またポジティブワーキング湿式リソグ
ラフプレートの利点をもたらしている。これらのプレー
トがポジティブワーキングであるのは、融除によって除
去されない部分が、インクを受容するイメージ部分だか
らである。この構造体は、砂目立てされた金属基体と、
接着促進用プライマーとしても作用する親水性保護コー
ティングと、融除可能な親水性表面層とを含む。イメー
ジング用のレーザは融除可能な表面層と相互作用し、そ
の融除をもたらす。スポットサイズの大きなレーザが用
いられてイメージングされた場合でも、最小の印刷ドッ
トの寸法は非常に小さくすることができる。なぜなら、
大きなスポットサイズのレーザビームは、非常に小さな
領域の周囲の材料を除去するようにプログラム可能だか
らである。べたで印刷された領域中にある最小の穴の大
きさは大きくなるが、これが印刷品質に大きく影響する
ことはない。なぜならべた中にある非常に小さな穴は、
インクで潰れる傾向があるからである。従って、印刷に
際してのイメージ品質は高い。イメージングの後、プレ
ートは適切な溶剤、例えば水で洗浄され、親水性の接着
促進プライマー又は親水性金属基体が現出される。洗浄
後は、プレートは印刷機上で、在来の砂目立て金属プレ
ートのように振る舞う。
【００１４】しかしながら、親水性保護層に対して、残
りの親水性表面コーティングを付着させることが、克服
困難な問題であることが判明した。付着が失われると、
イメージ品質が大きく損なわれる結果になりうる。小さ
なドットや活字が、現像や印刷操業の初期段階でしばし
ば剥離する。融除可能な表面コーティングの付着性及び
／又はその耐久性を向上させて、より長期の印刷操業を
可能にしようとする試みは通常、プレートのイメージン
グに必要とされるレーザエネルギーのかなりの増大につ
ながる。
【００１５】米国特許第5,605,780号は、陽極酸化アル
ミニウムの支持体と、その上にあり、フィルム形成性の
シアノアクリレートポリマーバインダー中に分散された
赤外線吸収剤からなる親油性のイメージ形成層とからな
る、リソグラフ印刷プレートを記載している。親水性保
護層は省かれている。この780号特許は、要求されるレ
ーザエネルギーが低いこと、インク受容性が良好である
こと、支持体に対する付着性が良好であること、及び摩
耗特性が良好であることを記述している。実施例では、
8,200回の印刷を越える印刷操業が示されている。
【００１６】レーザでイメージング可能な湿式リソグラ
フ印刷プレートの開発に向けられた多くの努力にも拘わ
らず、アルカリや溶剤の現像液を必要とせず、機上で在
来のリソグラフ印刷プレートのように見え、また振る舞
い、広い波長（700 nmから1150 nm）のレーザエネルギ
ーに感応性であり、高解像度のイメージを提供し、そし
て印刷機上で長期の操業ができる（100,000回を越える
印刷）プレートに対するニーズが、依然として存在して
いる。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明の一つの側面は、
レーザ放射線によりイメージング可能なポジティブワー
キング湿式リソグラフ印刷部材であって、（a）レーザ
放射線の融除的吸収の欠如により特徴付けられるインク
受容性の表面層と、（b）表面の下側にある第二の層で
あって、一つ又はより多くのポリマーからなりレーザ放
射線の融除的吸収により特徴付けられる第二の層と、及
び（c）親水性基体とからなり、第二の層がこの第二の
層に存在するポリマーの合計重量をベースとして13重量
％を越える有機スルホン酸成分を含むものに関連して
る。ここで使用する「印刷部材」という用語は、「プレ
ート」という用語と同義であり、インク及び／又は湿し
水に対して異なる親和性を示す領域によって画定される
イメージを記録することのできる、あらゆる型式の印刷
部材又は表面に適合するものである。ここで用いるとこ
ろでは、有機スルホン酸成分の重量％を決定する目的に
ついて、「ポリマー」という用語は高分子フィルム形成
要素たる全ての材料を含む。これはポリマー化学種と重
合又は結合するモノマー化学種を含み、これには例え
ば、融除−吸収層のポリマーフィルム成分を形成するた
めのモノマー架橋剤が含まれる。一つの実施形態では、
有機スルホン酸成分は芳香族スルホン酸、好ましくはp-
トルエンスルホン酸（PTSA）である。一つの実施形態で
は、有機スルホン酸成分はアミンブロック化有機スルホ
ン酸である。
【００１８】一つの実施形態では、有機スルホン酸成分
は、本発明の印刷部材の融除−吸収層に存在しているポ
リマーの合計重量の、15から75重量％の量で存在する。
別の実施形態では、有機スルホン酸成分は、融除−吸収
層に存在しているポリマーの合計重量の、20から45重量
％の量で存在する。
【００１９】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
表面層の厚みは、約0.1から約20マイクロメートルであ
る。好ましい実施形態では、表面層の厚みは約0.1から
約２マイクロメートルである。
【００２０】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
表面層は、ポリマーと架橋剤とを含む。表面層に好適な
ポリマーに含まれるものには、ポリウレタン、エポキシ
ポリマー、ニトロセルロース、及びポリシアノアクリレ
ートなどがあるが、これらに限定されない。一つの実施
形態では、表面層にある架橋剤はメラミンである。一つ
の実施形態では、本発明の印刷部材の表面層はさらに、
有機スルホン酸成分を含有する。好ましい実施形態で
は、表面層にある有機スルホン酸成分は、アミンブロッ
ク化p-トルエンスルホン酸成分である。
【００２１】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
表面層はさらに、水又は洗浄溶液に可溶でないことによ
り特徴付けられる。ここで用いられる用語「洗浄溶液」
は、本発明の印刷部材のレーザ融除領域から残屑を洗浄
又は除去するのに使用される溶液に対するものであり、
水、溶剤、及びその組み合わせからなることができ、そ
れには米国特許第5,493,971号に記載された如き緩衝さ
れた水溶液が含まれる。好ましい実施形態では、表面層
はさらに、水又は洗浄溶液に溶解可能でないことと、湿
式リソグラフ印刷機上での耐久性によって特徴付けられ
る。
【００２２】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
融除−吸収性の第二の層は、インク受容性である。一つ
の実施形態では、融除−吸収性の第二の層はさらに、イ
ンク受容性でなく、湿式リソグラフ印刷機上で水を受容
することによって特徴付けられる。
【００２３】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
融除−吸収性の第二の層の厚みは、約0.1から約20マイ
クロメートルである。好ましい実施形態では、融除−吸
収性の第二の層の厚みは、約0.1から約２マイクロメー
トルである。
【００２４】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
融除−吸収性の第二の層は、赤外線増感剤からなる。一
つの実施形態では、融除−吸収性の第二の層にある赤外
線増感剤はカーボンブラックである。好ましい実施形態
では、融除−吸収性層の赤外線増感剤のカーボンブラッ
クは、カーボンブラックの表面上にスルホネート基を含
んでなり、最も好ましくはカーボンブラックはCAB-O-JE
T 200である。一つの実施形態では、本発明の印刷部材
の融除−吸収性の第二の層の一つ又はより多くのポリマ
ーはさらに、架橋剤である。融除−吸収性の第二の層に
適したポリマーには、ニトロセルロース、ポリシアノア
クリレート、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、並びにこれらのコポリ
マー及びターポリマーがあるが、これらに限定されるも
のではない。一つの実施形態では、融除−吸収性の第二
の層の一つ又はより多くのポリマーは、親水性ポリマー
である。一つの実施形態では、融除−吸収性の第二の層
の架橋剤はメラミンである。
【００２５】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
融除−吸収性の第二の層は、水又は洗浄溶液に可溶でな
いことによって特徴付けられる。
【００２６】本発明の印刷部材のこの側面について好適
な基体は親水性のものであり、金属、紙、及び高分子フ
ィルムなどを含むが、これらに限定されるものではな
い。
【００２７】基体に好適な高分子フィルムには、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、及びポリスチレンなどがあ
るが、これらに限定されない。一つの実施形態では、基
体の高分子フィルムは、親水性となるように処理され
る。一つの実施形態では、基体はポリエステルフィル
ム、好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルムで
ある。基体に好適な金属には、アルミニウム、銅、クロ
ム、及びスチールなどがあるが、これらに限定されな
い。好ましい実施形態では、基体の金属は、砂目立て、
陽極処理、珪化、又はこれらの組み合わせにより処理さ
れる。好ましい実施形態では、基体はアルミニウムであ
る。
【００２８】本発明の別の側面は、レーザ放射線により
イメージング可能なポジティブワーキング湿式リソグラ
フ印刷部材であって、（a）既に述べたような、レーザ
放射線の融除的吸収の欠如により特徴付けられるインク
受容性の表面層と、（b）既に述べたような、表面の下
側にある第二の層であって、一つ又はより多くのポリマ
ーからなりレーザ放射線の融除的吸収により特徴付けら
れる第二の層と、（c）第二の層の下側にある親水性の
第三の層であって、レーザ放射線の融除的吸収の欠如に
より特徴付けられる第三の層と、及び（d）基体とから
なり、第二の層がこの第二の層に存在するポリマーの合
計重量をベースとして13重量％を越える、既に述べたよ
うな有機スルホン酸成分を含むものに関連している。一
つの実施形態では、本発明の印刷部材の第三の層の厚み
は約１から約40マイクロメートルである。一つの実施形
態では、第三の層の厚みは約２から約25マイクロメート
ルである。
【００２９】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
親水性の第三の層は、親水性ポリマーと架橋剤とからな
る。第三の層に好適な親水性樹脂にはポリビニルアルコ
ールやセルロース系物質があるが、これらに限定されな
い。好ましい実施形態では、第三の層の親水性樹脂はポ
リビニルアルコールである。一つの実施形態では、架橋
剤はジルコニウム化合物、例えばアンモニウムジルコニ
ルカーボネートの如きである。
【００３０】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
親水性の第三の層は、水又は洗浄溶液に可溶でないこと
により特徴付けられる。一つの実施形態では、親水性の
第三の層は、水又は洗浄溶液に過剰に可溶でないことに
より特徴付けられる。
【００３１】本発明の印刷部材のこの側面、即ち印刷部
材が融除−吸収性層と基体の間に介在された親水性の高
分子層である第三の層を含むものについて、好適な基体
は親水性、または非親水性／インク受容性の何れかであ
り、金属、紙、及び高分子フィルム等からなるが、これ
らに限定されない。基体に好適な高分子フィルムには、
ポリエステル、ポリカーボネート、及びポリスチレンな
どがあるが、これらに限定されない。一つの実施形態で
は、基体の高分子フィルムは、親水性となるように処理
される。一つの実施形態では、基体はポリエステルフィ
ルム、好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルム
である。基体に好適な金属には、アルミニウム、銅、ク
ロム、及びスチールなどがあるが、これらに限定されな
い。好ましい実施形態では、基体の金属は、砂目立て、
陽極処理、珪化、又はこれらの組み合わせにより処理さ
れる。好ましい実施形態では、基体はアルミニウムであ
る。
【００３２】本発明の一つの側面は、レーザ放射線によ
りイメージング可能なポジティブワーキング湿式リソグ
ラフ印刷部材であって、（a）既に述べたような、レー
ザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴付けられるイン
ク受容性の表面層と、（b）既に述べたような、表面の
下側にある第二の層であって、一つ又はより多くのポリ
マーからなりレーザ放射線の融除的吸収により特徴付け
られる第二の層と、及び（c）既に述べたような親水性
基体とからなり、第二の層と親水性基体との間に接着促
進剤からなるプライマー層が介在されているものに関連
している。プライマー層は、レーザ放射線の融除的吸収
の欠如により特徴付けられる。一つの実施形態では、プ
ライマー層は、親水性であること、レーザ放射線の融除
的吸収の欠如、第二の層である融除−吸収性層の融除的
吸収により融除されないこと、及び水に可溶でないこと
によって特徴付けられる。一つの実施形態では、プライ
マー層はさらに、第二の層の融除的吸収と、その後プラ
イマー層の表面から第二の層の融除的吸収の残屑を除去
するための水又は洗浄溶液による洗浄工程によって除去
されないことによって特徴付けられる。
【００３３】一つの実施形態では、プライマー層の接着
促進剤はジルコニウム化合物からなる。一つの実施形態
では、プライマー層の接着促進剤はアンモニウムジルコ
ニルカーボネートからなる。一つの実施形態では、プラ
イマー層の接着促進剤はプロピオン酸ジルコニウムから
なる。一つの実施形態では、プライマー層の接着促進剤
は酸化ジルコニウムからなる。一つの実施形態では、プ
ライマー層は無機ゲル層、好ましくは酸化ジルコニウム
ゲルからなる無機ゲル層である。
【００３４】別の実施形態では、プライマー層の接着促
進剤は有機スルホン酸成分、好ましくは芳香族スルホン
酸からなり、より好ましくはp-トルエンスルホン酸から
なる。一つの実施形態では、融除−吸収性の第二の層と
親水性基体の間に介在されたプライマー層中の有機スル
ホン酸成分は、プライマー層の2から100重量％の量で、
好ましくはプライマー層の50から100重量％の量、最も
好ましくはプライマー層の80から100重量％の量で存在
する。
【００３５】一つの実施形態では、第二の層と基体の間
に介在されたプライマー層の厚みは約0.01から約２マイ
クロメートルであり、好ましくは約0.01から約0.1マイ
クロメートルである。
【００３６】本発明の別の側面は、レーザ放射線により
イメージング可能なポジティブワーキング湿式リソグラ
フ印刷部材であって、（a）既に述べたような、レーザ
放射線の融除的吸収の欠如により特徴付けられるインク
受容性の表面層と、（b）既に述べたような、表面の下
側にある第二の層であって、一つ又はより多くのポリマ
ーからなりレーザ放射線の融除的吸収により特徴付けら
れる第二の層と、（c）既に述べたような、第二の層の
下側にある親水性の第三の層であって、レーザ放射線の
融除的吸収の欠如により特徴付けられる第三の層と、及
び（d）既に述べたような基体とからなり、第二の層と
第三の層の間に接着促進剤からなるプライマー層が介在
されているものに関連している。プライマー層は、レー
ザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴付けられる。一
つの実施形態では、プライマー層は、親水性であるこ
と、レーザ放射線の融除的吸収の欠如、第二の層である
融除−吸収性層の融除的吸収により融除されないこと、
及び水に可溶でないことによって特徴付けられる。一つ
の実施形態では、プライマー層はさらに、第二の層の融
除的吸収と、プライマー層の表面から第二の層の融除的
吸収の残屑を除去するためのその後の洗浄溶液によって
除去されないことによって特徴付けられる。
【００３７】一つの実施形態では、プライマー層の接着
促進剤はジルコニウム化合物からなる。一つの実施形態
では、プライマー層の接着促進剤はアンモニウムジルコ
ニルカーボネートからなる。一つの実施形態では、プラ
イマー層の接着促進剤はプロピオン酸ジルコニウムから
なる。一つの実施形態では、プライマー層の接着促進剤
は酸化ジルコニウムからなる。一つの実施形態では、プ
ライマー層は無機ゲル層、好ましくは酸化ジルコニウム
ゲルからなる無機ゲル層である。別の実施形態では、プ
ライマー層の接着促進剤は有機スルホン酸成分、好まし
くは芳香族スルホン酸からなり、より好ましくはp-トル
エンスルホン酸からなる。一つの実施形態では、第二の
層と第三の層の間に介在されたプライマー層中の有機ス
ルホン酸成分は、プライマー層の２から100重量％の量
で、好ましくはプライマー層の50から100重量％の量、
最も好ましくはプライマー層の80から100重量％の量で
存在する。
【００３８】一つの実施形態では、第二の層と第三の層
の間に介在されたプライマー層の厚みは約0.01から約２
マイクロメートルであり、好ましくは約0.01から約0.1
マイクロメートルである。
【００３９】本発明の別の側面は、既に述べたような、
レーザ放射線によりイメージング可能なポジティブワー
キング湿式リソグラフ印刷部材の調製方法に関連してい
る。
【００４０】好ましい実施形態では、レーザ放射線によ
りイメージング可能なポジティブワーキング湿式リソグ
ラフ印刷部材の調製方法は、（a）砂目立てされ陽極酸
化された金属基体を準備し、（b）基体上に親水性ポリ
マー層をコーティングし、このポリマー層が親水性ポリ
マーと架橋剤とからなり、後にポリマー層を硬化するも
のであり、（c）中間層をポリマー層上にコーティング
し、この中間層が融除−吸収増感剤、親水性ポリマー、
及び架橋剤からなり、後に中間層を硬化して融除−吸収
層を形成するものであり、及び（d）インク受容性表面
層を中間層上にコーティングし、この表面層がポリマー
と架橋剤からなり、後に硬化して耐久性のある薄いイン
ク受容性表面層を形成するものであり、中間層がさらに
この第二の層に存在するポリマーの合計重量をベースと
して13重量％を越える有機スルホン酸成分を含むものに
関連している。より好ましい実施形態では、印刷部材の
表面層がさらに、有機スルホン酸成分を含む。
【００４１】本発明のさらに別の側面は、イメージング
された湿式リソグラフ印刷プレートを調製するための方
法に関連しており、これは（a）既に述べたような、ポ
ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材を準備し、
（b）この印刷部材を所望のイメージに関連するレーザ
放射線露光に曝し、印刷部材のインク受容性表面層の一
部を融除し、また印刷部材の融除−吸収性の第二の層の
一部を融除して、親水性基体上、又は代替的に、それが
存在する場合には親水性の第三の層の上に、残存複合層
を形成し、及び（c）親水性基体から、又は代替的に、
印刷部材の融除−吸収性の第二の層の下側にそれが存在
する場合には親水性の第三の層から、残存複合層を洗浄
し、この洗浄を水又は洗浄溶液で行い、印刷部材のイン
ク受容性表面層が水又は洗浄溶液に可溶でないことから
なる。
【００４２】本発明のリソグラフ印刷部材はポジティブ
ワーキングプレートである。融除的に吸収を行う第二の
層と、インク受容性、親油性、疎水性、及び耐久性を有
する表面層とは、レーザ放射線に曝露された領域におい
て融除され、イメージング後の洗浄工程において実質的
に完全に除去され、かくして非曝露領域がリソグラフ印
刷に際し、インク転写表面として作用するようになる。
イメージング後、好ましい実施形態においては、融除−
吸収性の第二の層の下側に親水性の第三の層が存在する
場合に、レーザでイメージングされた領域において、プ
レート上には架橋された親水性ポリマーの第三の層が、
通常は親水性の第三の層に対してゆるく結合した、ある
量の融除副生物又は残存複合層と共に残存する。この親
水性の第三の層は、副生物又は残存複合層の洗浄性を向
上させる。なぜなら、砂目立てされ陽極酸化されたアル
ミニウム表面の如き親水性基体から除去を行うよりも、
親水性の第三の層から除去を行う方がずっと容易だから
である。本発明の一つの利点は、リソグラフ印刷部材又
はプレートが、印刷のために即時に使用可能なことであ
る。これは、湿し水が融除残屑又は残存複合層をプレー
トから簡単に洗浄することになるからである。長期に渡
る印刷操業の過程において、親水性の第三の層は、それ
が存在する場合、通例は可溶化されず、非親水性の基体
を用いることができる。任意選択的に、親水性の第三の
層は非常にゆっくりとだけ可溶化されるものであってよ
いが、その場合には親水性基体が好ましい。これによ
り、親水性の第三の層が可溶化によつて除去された場
合、下側で親水性基体が現出されるようになる。この後
者の場合、一つの親水性層が単に別のものと交換される
だけであるから、非イメージ領域の印刷特性には影響が
ない。他方、本発明の未曝露のイメージ領域の下側にあ
る親水性の第三の層は、このイメージ層に対して優れた
接着プライマーをもたらす。というのは、特に親水性の
第三の層が架橋されている場合、可溶化を通じてアンダ
ーカットをもたらすことは殆ど不可能だからである。
【００４３】本発明のリソグラフ印刷部材の、これまで
公知のものに対する優位性は、特に、大きなスポットサ
イズの比較的安価なダイオードレーザで迅速にイメージ
ング可能という性能、その洗浄の容易性、その優れたイ
メージ解像度と印刷品質、印刷機上で優れた耐久性とイ
メージ付着性をもたらす、水、アルカリ、及び溶剤に対
するその抵抗性、及びその製造費用の低さとして表れ
る。
【００４４】融除−吸収性の第二の層に存在するポリマ
ーの合計重量をベースとして有機スルホン酸成分が13重
量％を越えて存在すること、及び任意選択的に、有機ス
ルホン酸成分がインク受容性表面層に存在すること、親
水性の第三の層がある場合にそこに存在すること、及び
プライマー層がある場合にそこに存在することは、高い
レーザ感度、高いイメージ解像度、レーザ曝露領域にお
いて形成された残存複合層の洗浄の容易性、並びにレー
ザによる直接のイメージングを用いるリソグラフ印刷で
所望とされる、印刷機のインク受容性イメージ領域の優
れた耐久性、接着性、及び耐水性及び耐湿し水性といっ
たものの組み合わせを著しく増強させる。
【００４５】本発明のさらに別の側面は、ポジティブワ
ーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、インク受容
性表面層として融除−吸収性層を含み、この融除−吸収
性層がこの融除−吸収性層に存在するポリマーの合計重
量をベースとして、既に述べたような13重量％を越える
有機スルホン酸成分を含むものに関連している。融除−
吸収性表面層中の有機スルホン酸成分の重量割合が大き
いことは、リソグラフ印刷部材に対し、迅速なイメージ
ング、レーザイメージングされた領域において残存する
非融除残屑を洗浄することの容易性、優れたイメージ解
像度及び品質、印刷機上での優れた耐久性及びイメージ
付着性を示す耐水性といった利点を組み合わせてもたら
すが、本発明の他の側面の、付加的な非融除吸収性の、
インク受容性上塗り表面層は必要としない。かくして、
本発明の別の側面は、レーザ放射線によりイメージング
可能なポジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材で
あって、（a）インク受容性の表面層であって、一つ又
はより多くのポリマーからなり、既に述べたようなレー
ザ放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容
性の表面層と、（b）任意選択的に、親水性のポリマー
層であって、表面層の下側にあり、既に述べたようなレ
ーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴付けられる親
水性ポリマー層と、及び（c）既に述べたような基体と
からなり、表面層がさらに、その表面層に存在するポリ
マーの合計重量をベースとして13重量％を越える有機ス
ルホン酸成分を含むものに関連している。
【００４６】さらに、本発明のなお別の側面は、レーザ
放射線によりイメージング可能なポジティブワーキング
湿式リソグラフ印刷部材であって、（a）インク受容性
の表面層であって、一つ又はより多くのポリマーからな
り、既に述べたようなレーザ放射線の融除的吸収により
特徴付けられるインク受容性の表面層と、（b）任意選
択的に、親水性のポリマー層であって、表面層の下側に
あり、既に述べたようなレーザ放射線の融除的吸収の欠
如により特徴付けられる親水性ポリマー層と、及び
（c）既に述べたような基体とからなり、親水性ポリマ
ー層と表面層の間に接着促進剤からなるプライマー層が
介在されているものに関連している。プライマー層は、
レーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴付けられ
る。一つの実施形態では、プライマー層は、親水性であ
ること、レーザ放射線の融除的吸収の欠如、表面層であ
る融除−吸収性層の融除的吸収により融除されないこ
と、及び水に可溶でないことによって特徴付けられる。
一つの実施形態では、プライマー層はさらに、表面層の
融除的吸収と、その後プライマー層の表面から表面層の
融除的吸収の残屑を除去するための水又は洗浄溶液によ
る洗浄工程によって除去されないことによって特徴付け
られる。一つの実施形態では、プライマー層の接着促進
剤はジルコニウム化合物からなる。一つの実施形態で
は、プライマー層の接着促進剤はアンモニウムジルコニ
ルカーボネートからなる。一つの実施形態では、プライ
マー層の接着促進剤はプロピオン酸ジルコニウムからな
る。一つの実施形態では、プライマー層の接着促進剤は
酸化ジルコニウムからなる。一つの実施形態では、プラ
イマー層は無機ゲル層、好ましくは酸化ジルコニウムゲ
ルからなる無機ゲル層である。別の実施形態では、プラ
イマー層の接着促進剤は有機スルホン酸成分、好ましく
は芳香族スルホン酸からなる。一つの実施形態では、親
水性のポリマー層と融除−吸収性の表面層の間に介在さ
れたプライマー層中の有機スルホン酸成分は、プライマ
ー層の２から100重量％の量で、好ましくはプライマー
層の50から100重量％の量、最も好ましくはプライマー
層の80から100重量％の量で存在する。一つの実施形態
では、プライマー層の存在に加えて、融除−吸収性の表
面層はさらに、融除−吸収性の表面層中に存在するポリ
マーの合計重量をベースにして、13重量％を越える有機
スルホン酸を含む。
【００４７】本発明のさらに別の側面は、イメージング
された湿式リソグラフ印刷部材を調製するための方法に
関連しており、これは（a）インク受容性表面層を含む
ポジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材を準備
し、この表面層が一つ又はより多くのポリマーからな
り、既に述べたようなレーザ放射線の融除的吸収により
特徴付けられ、（b）この印刷部材を所望のイメージに
関連するレーザ放射線露光に曝し、印刷部材の融除−吸
収性の表面層の一部を融除して、親水性基体上、又は代
替的に、それが存在する場合には親水性ポリマーの第二
の層の上に、残存複合層を形成し、及び（c）親水性基
体から、又は代替的に、印刷部材の表面層の下側にそれ
が存在する場合には親水性ポリマーの第二の層から、残
存複合層を洗浄し、この洗浄を水又は洗浄溶液で行い、
印刷部材の融除−吸収性のインク受容性表面層が水又は
洗浄溶液に可溶でないことからなる。
【００４８】当業者であれば理解するであろうが、本発
明の一つの実施形態及び側面の特徴は、本発明の他の実
施形態及び側面に対して適用可能なものである。
【００４９】本発明の上述した、及びその他の特徴及び
利点は、以下の詳細な説明及び図面から、当業者により
十分に認識され、理解されるであろう。
【００５０】
【発明の実施の形態】以上の議論は、添付図面を参照し
て行われる本発明の以下の詳細な説明から、より容易に
理解しうる。 有機スルホン酸 本発明の一つの側面は、レーザ放射線によりイメージン
グ可能なポジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材
に有機スルホン酸を使用すること、特に印刷部材の融除
−吸収性層に大量の有機スルホン酸成分を使用すること
に関連している。
【００５１】例えば本出願人の1998年1月23日に出願さ
れた「レーザ放電イメージング装置に用いるリソグラフ
印刷プレート」と題する米国特許仮出願第60/072,358号
に記載されているように、コネチカット州ノーワークの
King Industriesから市販されているアミンブロック化
有機スルホン酸触媒の商標名であるNACURE 2530中で、
存在するポリマーの全重量をベースとして約5.4重量％
のp-トルエンスルホン酸（PTSA）成分が、融除−吸収性
の第二の層中で用いられている。このPTSAベースの触媒
は、ニュージャージー州ウェインのCytec Corporation
から市販されているメラミン架橋剤の商標名であるCYME
L 303、ペンシルバニア州アレンタウンのAir Products
から市販されているポリビニルアルコールポリマーの商
標名であるAIRVOL 125、及びコネチカット州ダンバリー
のUnion Carbide Corporationから市販されているビニ
ル共重合体の水性分散液の商標名であるUCAR WBV-110な
ど、融除−吸収性の第二の層において高分子フィルム形
成材料を構成するポリマーが硬化するのを助ける。本発
明の融除−吸収性の層における有機スルホン酸成分の重
量割合を計算するには、有機スルホン酸成分の重量（前
述した仮特許出願中の実施例及び本発明中の実施例にお
いて、p-トルエンスルホン酸はNACURE 2530の25重量％
を構成する）を、存在するポリマー（この例では、CYME
L 303、AIRVOL 125及びUCAR WBV-110の合計重量）の合
計乾燥重量で割る。この例では、p-トルエンスルホン酸
の重量は、NACURE 2530（1.2重量部）の重量に0.25を掛
けて、p-トルエンスルホン酸0.3重量部として与えられ
る。ポリマーの合計重量は、乾燥重量部でAVRVOL 125
（2.20重量部）、UCAR WBV-110（2.10重量部）、及びCY
MEL 303（1.21重量部）を加算して、合計5.51重量部と
計算される。p-トルエンスルホン酸の重量（0.3重量
部）を、存在するポリマーのこの合計（5.51重量部）で
割り、100を掛けて重量パーセントに変換すると、この
例では融除−吸収性の層にある有機スルホン酸成分の重
量パーセントは、5.4重量％と与えられる。
【００５２】驚くべきことに、融除−吸収性の層中にお
ける、NACURE 2530中のp-トルエンスルホン酸の如き有
機スルホン酸成分のレベルを、存在するポリマーの合計
重量の13％よりも多い重量割合へと大きく増大させるこ
とにより、レーザ曝露領域の洗浄の容易性、長期の印刷
操業に際してのプレートのインク受容性領域の耐久性及
び付着性、レーザ放射線に対する感度、及び達成可能な
微細なイメージ解像度及び印刷品質について、多大の改
良がもたらされることが見出された。存在するポリマー
の合計重量の13重量％よりも多いというこの重量割合
は、コーティングの硬化を促進させるために典型的に使
用される有機スルホン酸触媒のレベルよりも高い。有機
スルホン酸成分の高いレベルから得られるこうした利益
は、水、湿し水、或いは洗浄溶液による可溶化に対する
耐性の喪失の如き、大きな不具合なしに得ることができ
る。
【００５３】リソグラフ印刷部材の融除−吸収性の第二
の層における有機スルホン酸成分のレベルの増大の利益
に加えて、印刷部材のインク受容性表面層に有機スルホ
ン酸成分が同時に存在すると、さらに増大した利点がも
たらされる。
【００５４】一つの実施形態では、有機スルホン酸成分
は、融除−吸収性の第二の層と親水性の第三の層の間、
又は代替的に、製品構造中に親水性の第三の層がない場
合には、融除−吸収性の第二の層と親水性基体との間に
存在するプライマー層中に存在する。プライマー層中の
有機スルホン酸成分のレベルは広い範囲で変動しうるも
のであり、プライマー層の２から100重量％の範囲を含
むが、これに限定されない。本発明のプライマー層中の
有機スルホン酸成分の利点は、融除−吸収性の層中にお
けるレベルの増大した有機スルホン酸成分で達成される
利点と同様である。
【００５５】ここで使用する「有機スルホン酸」という
用語は、有機化合物の炭素原子に共有結合した少なくと
も一つのスルホン酸成分-SO3Hを有する有機化合物を指
している。ここで使用する「有機スルホン酸成分」とい
う用語は、遊離の有機スルホン酸に関連し、またブロッ
ク化又は潜在有機スルホン酸触媒が熱や放射線により分
解して、当該技術で周知のようにして所望の硬化反応を
触媒するために有機スルホン酸を遊離し又はブロックを
解除する場合に形成される遊離の有機スルホン酸に関連
している。ここでブロック化又は潜在有機スルホン酸触
媒から得られる遊離の有機スルホン酸の重量は、融除−
吸収性のコーティング層中に存在するポリマーの合計重
量に基づき、有機スルホン酸成分の重量割合を計算する
ために用いられる。当該技術で周知のように、ブロック
化有機スルホン酸触媒は有機スルホン酸とアミンの如き
錯化物質との付加物又は錯体であってよく、有機スルホ
ン酸と錯化物質のモル比は、例えば1.0：0.5から1.0：
2.0のように大きく変動しうる。代替的に、ブロック化
有機スルホン酸触媒は、有機スルホン酸と適当な物質、
例えばアルコールの如きとの反応生成物であってよく、
ブロック化触媒は有機スルホン酸のエステルの形で提供
される。ブロック化又は潜在有機スルホン酸触媒は広汎
な種々のものが知られており、本発明に用いて有機スル
ホン酸成分をもたらすことができる。適当な有機スルホ
ン酸成分をもたらす好適なブロック化又は潜在有機スル
ホン酸触媒の例には、例えば米国特許第4,075,176号、
第4,200,729号、第4,632,964号、第4,728,545号、第4,8
12,506号、第5,093,425号、第5,187,019号、第5,681,89
0号、及び第5,691,002号に記載された如きアミンブロッ
ク化有機スルホン酸、例えば米国特許第4,192,826号、
第4,323,660号、第4,331,582号、第4,618,564号、第5,1
02,961号、第5,364,734号、及び第5,716,756号に記載さ
れた如き有機スルホン酸のエステル、例えば米国特許第
4,839,427号に記載された如き有機スルホン酸とグリシ
ドアミドの反応生成物、及び例えば米国特許第4,618,52
6号に記載された如き有機スルホン酸のアミドなどであ
るが、これらに限定されるものではない。ブロック化又
は潜在有機スルホン酸触媒は典型的には、基体に適用さ
れるコーティング溶液中に遊離の又はブロック解除され
た有機スルホン酸を与えるのではなしに、早期の架橋に
よって粘度が増加するのを低減させてコーティング溶液
に安全な保存性を与え、また最終的なコーティング層に
良好なコーティングの均一性と耐水性がしばしば得られ
ることの故に、架橋コーティングに対して使用されてい
る。
【００５６】有機スルホン酸成分は広汎な種々のものが
公知であり、また本発明において使用可能である。好適
な有機スルホン酸成分の例には、例えばp-トルエンスル
ホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタ
レンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、及びドデシル
ベンゼンジスルホン酸の如く4未満のpKa値を有する有機
スルホン酸があるが、これらに限定されるわけではな
い。一つの実施形態では、本発明の有機スルホン酸成分
は芳香族スルホン酸である。好ましい実施形態では、有
機スルホン酸成分はp-トルエンスルホン酸（PTSA）であ
る。
【００５７】一つの実施形態では、本発明の有機スルホ
ン酸成分はブロック化又は潜在有機スルホン酸触媒、好
ましくはアミンブロック化有機スルホン酸の成分であ
る。ここで用いられる用語「アミン」は、アンモニア、
並びに脂肪族第一級、第二級、及び第三級アミンに関す
るものであり、飽和環を有する複素環式アミンも含まれ
る。一つの実施形態では、アミンブロック化有機スルホ
ン酸は、アミンブロック化芳香族スルホン酸である。好
ましい実施形態では、アミンブロック化有機スルホン酸
は、例えばNACURE 2530の如きアミンブロック化p-トル
エンスルホン酸である。
【００５８】コーティング層中でのポリマーの硬化を触
媒するのに典型的に使用される有機スルホン酸成分の量
は、顔料を除き、存在するポリマーの合計重量をベース
として、0.1から12重量％の範囲にある。好ましい量は
典型的には5重量％未満であり、約1重量％又はそれ未満
が特に好ましい。例えば米国特許第4,728,545号はアミ
ンブロック化有機スルホン酸触媒の好ましい範囲とし
て、顔料を除き、コーティング組成物の合計固形分含量
の0.01から3.0重量％を開示している。有機スルホン酸
成分はアミンブロック化触媒の重量の100％よりも少な
いのであるから、この545号特許における有機スルホン
酸成分の好ましい範囲は、0.01から3.0重量％よりも下
になる。この545号特許は、3.0重量％より多い量のアミ
ンブロック化有機スルホン酸触媒は、有機スルホン酸成
分が高い濃度で残存する場合に、得られるフィルムの外
観、強度及び他の特性に悪い影響を及ぼすことを記載し
ている。 親水性の第三の層を備えたリソグラフ印刷部材 さて図１を参照すると、本発明によるリソグラフ印刷部
材の好ましい実施形態が例示されている。この印刷部材
は、インク受容性の耐久性表面層100と、融除−吸収性
の第二の層102と、親水性の第三の層104と、支持基体10
6とからなる。これらの層の各々について、以下でより
詳細に論述する。 インク受容性表面層 インク受容性表面層100の主たる特徴は、その親油性及
び疎水性、水及び溶剤による可溶化に対する耐性、およ
び印刷機上での耐久性である。この層に用いられる適切
なポリマーは、融除−吸収性の第二の層102で開始され
る熱誘発性の融除イメージングを補助するために、比較
的低い分解温度を有し、融除−吸収性の第二の層102に
対して優れた付着性を示し、また高い耐水性を持たねば
ならない。それらは、水ベース又は溶剤ベースの何れの
ポリマーであってもよい。インク受容性表面層100はま
た、イメージングに際して、環境的及び毒物学的に無害
な分解副生物を生ずるものでなければならない。この層
はまた架橋剤を含んでいてもよく、これは融除−吸収性
の第二の層102に対する結合の改善をもたらすと共に、
極めて長期間の印刷操業にわたり、耐久性の向上をもた
らす。
【００５９】適切なポリマーには、ポリウレタン、ニト
ロセルロース、ポリシアノアクリレート、及びエポキシ
ポリマーなどがあるが、これらに限定されない。例えば
ポリウレタンをベースとする材料は通例、非常に頑丈で
あり、また熱硬化又は自己硬化性能を有しうる。例示的
なコーティング層は、当該技術で公知の混合及びコーテ
ィング方法によって調製できる。例えば、適当な溶剤、
水、又は溶剤−水ブレンド中のポリウレタンポリマーと
ヘキサメトキシメチルメラミン架橋剤の混合物を化合さ
せ、その後に適当なアミンブロック化p-トルエンスルホ
ン酸触媒を添加して、最終的なコーティング混合物を形
成する。このコーティング混合物を次いで、巻線ロッド
コーティング、リバースロールコーティング、グラビア
コーティング、及びスロットダイコーティングといった
在来のコーティング適用方法の一つを用いて、融除−吸
収性の第二の層102に対して適用し、その後に乾燥して
揮発性液体を除去し、コーティング層を形成する。
【００６０】ポリウレタンポリマーの他に付加的な成分
を含有する高分子系もまた、化合によってインク受容性
表面層100を形成しうる。例えばエポキシポリマーを、
架橋剤と触媒の存在下に、ポリウレタンポリマーに添加
することができる。
【００６１】インク受容性表面層100は本発明におい
て、典型的には約0.1マイクロメートルから約20マイク
ロメートルの範囲、より好ましくは約0.1から約２マイ
クロメートルの範囲の厚みでコーティングされる。コー
ティング後、層は乾燥され、好ましくは145℃から165℃
の間の温度で硬化される。 融除−吸収性の第二の層 融除−吸収性の第二の層102の主たる特徴は、商業的に
実施可能なレーザイメージング設備を用いての融除に対
する脆弱性又は感度、及び長期操業可能なプレートをも
たらすと共に、印刷機上での操業中にハーフトーンイメ
ージ中の僅か２％及び３％のドットを保持するための、
親水性の第三の層104とインク受容性表面層100に対する
十分な付着性にある。また、融除−吸収性の第二の層10
2が融除に際して生成する分解副生物が、環境的及び毒
物学的に無害であることが好ましい。レーザ融除に対す
る脆弱性は普通、イメージングレーザが発光する波長領
域において、強い吸収を行うことから生ずる。また、熱
的に誘発される融除イメージングを助けるために、比較
的低い分解温度を有するポリマーを使用することが有利
である。親水性の第三の層104に対する付着性は、部分
的には、レーザ放射線を吸収する物質の化学構造と量、
及び融除−吸収性の第二の層102中のポリマーについて
得られる結合部位に依存している。融除−吸収性の第二
の層102中のポリマーによる結合が、親水性の第三の層1
04に対する適切な付着がもたらされるのに十分なだけ強
いが、しかしレーザ融除に際して容易に弱化されて、そ
の後親水性の第三の層104から融除領域の残存屑層を洗
浄する容易性がもたらされることが重要である。例えば
ポリビニルアルコールのようなビニル型のポリマーは、
これら二つの性質の間に適切なバランスを達成してい
る。代替的に、ニトロセルロースはそれ自体で、又はビ
ニル型のポリマーとの組み合わせにおいて、融除に対す
る高度な脆弱性をもたらす。適切なコーティングは、溶
剤に分散可能なカーボンブラックをコーティング中に取
り入れることによって形成しうる。例えばベースとなる
コーティング混合物は、デラウェア州ウィルミントンの
Aqualon Co.から市販されている６秒RSニトロセルロー
ス、マサチューセッツ州ベッドフォードのCabot Corpor
ationから市販されているカーボンブラック顔料の商標
名であるVULCAN XC 72R、ヘキサメトキシメチルメラミ
ン架橋剤CYMEL 303といった全ての成分を混合すること
によって形成され、後で架橋触媒がコーティング塗布作
業の直前にベースコーティング混合物に添加される。例
えば親水性の第三の層104に対する付着の改善、及びイ
メージング後の洗浄の容易性が、融除−吸収性の第二の
層102に対するポリビニルアルコールAIRVOL 125の使用
によってもたらされる。架橋剤もまた添加してよい。
【００６２】放射線吸収性の化合物又は増感剤が、融除
−吸収性の第二の層102の組成物に対して添加され、分
散される。レーザ放射線が赤外線波長である場合、種々
の赤外線吸収性化合物が公知であり、本発明において放
射線吸収性増感剤として使用しうる。評価した赤外線増
感剤のうち、マサチューセッツ州ベッドフォードのCabo
t Corporationから市販されている表面変性カーボンブ
ラック顔料の商標名であるCAB-O-JET 200は、驚くべき
ことに、融除に対して適切な感度を与えるのに必要な量
において、親水性の第三の層104に対する付着に対して
最も影響が少なかった。換言すれば、CAB-O-JET 200は
良好な融除増感特性を有し、また親水性の第三のコーテ
ィング層104に対する接着性を向上させる。
【００６３】CAB-O-JET 200について得られた結果は、
関連する化合物であるCAB-O-JET 300について得られた
結果よりも良好であった。CAB-O-JETシリーズのカーボ
ンブラック製品は、例えば米国特許第5,554,739号及び
第5,713,988号に記載された新規な表面変性技術により
作成された、独特な水性顔料分散液である。顔料の安定
性は、イオン的な安定化を通じて達成されている。CAB-
O-JET 300の表面にはカルボキシル基があり、これに対
しCAB-O-JET 200の表面はスルホネート基を含有してい
る。CAB-O-JET材料の分散液中には通例、界面活性剤、
分散助剤、或いはポリマーといったものは存在していな
い。CAB-O-JET 200は黒色の液体であり、約10 cP（Shel
l #2流出カップ）未満の粘度、約７のpH（顔料ベー
ス）、水中で20％（顔料ベース）の固形分、−20℃の凍
結融解サイクル数が３を越え、70℃で６週間より長く、
また室温で２年を越える安定性（即ちいかなる物性変化
もない）を有し、平均粒径が0.12マイクロメートルであ
り、粒子の100%が0.5マイクロメートル未満である。意
義深いことに、CAB-O-JET 200はまた赤外線スペクトル
の全範囲にわたり吸収を行う。好適なコーティングは、
公知の混合及びコーティング方法によって形成可能であ
る。例えばベースコーティング混合物は、最初に全ての
成分、即ち架橋触媒を含有しないことを除き、水、2-ブ
トキシエタノール、ポリビニルアルコールAIRVOL 125、
ビニル共重合体UCAR WBV-110、ヘキサメトキシメチルメ
ラミン架橋剤CYMEL 303、及びカーボンブラックCAB-O-J
ET 200といったものを混合することによって形成され
る。コーティング配合物の安定性を増すためには、NACU
RE 2530のような架橋剤は、ベースコーティング混合物
又は分散物に対して後で、コーティングの適用の直前に
添加する。こうしたコーティング混合物又は分散物は、
コーティング適用のための何らかの公知の方法によって
塗布される。例えば巻線ロッドコーティング、リバース
ロールコーティング、グラビアコーティング、及びスロ
ットダイコーティングの如きである。乾燥して揮発性液
体を除去した後、固形のコーティング層が形成される。
【００６４】融除−吸収性の第二の層102は、一つ又は
より多くのポリマーからなっている。一つの実施形態で
は、融除−吸収性の第二の層102は架橋剤を含む。適し
たポリマーには、ニトロセルロース、ポリシアノアクリ
レート、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリ酢
酸ビニル、ポリ塩化ビニル、並びにこれらのコポリマー
及びターポリマーがあるが、これらに限定されるもので
はない。一つの実施形態では、融除−吸収性の第二の層
102の一つ又はより多くのポリマーは、親水性ポリマー
である。一つの実施形態では、融除−吸収性の第二の層
102の架橋剤はメラミンである。
【００６５】本発明の特定的な側面は、在来の架橋コー
ティングのためにコーティング層中に存在するポリマー
の合計重量をベースとして、例えば0.01から12重量％と
いった触媒目的で通常使用される添加レベルよりも高い
レーザにおける、融除−吸収性の第二の層102中の有機
スルホン酸触媒の存在にある。
【００６６】例えば前述した米国特許第5,493,971号に
おいて、NACURE 2530は実施例１から８で、融除−吸収
性表面層の熱硬化架橋のための触媒として存在してい
る。この971号特許のこれらの実施例で用いられているN
ACURE 2530が、本発明の実施例で用いたNACURE 2530の
ロットについて製造者により報告されたと同様、25重量
％のp-トルエンスルホン酸を含有していると仮定する
と、971号特許の融除−吸収性表面層中のp-トルエンス
ルホン酸成分の重量割合の計算は、NACURE 2530の重量
（４重量部）に0.25を掛けて1.0重量部を得、次いで存
在しているポリマーの乾燥重量の合計（実施例１から７
では13.8重量部、実施例８では14.0重量部）でこの1.0
重量部を割り、7.2重量％（971号特許の実施例１から
７）及び7.1重量％（971号特許の実施例８）を得ること
によって行える。
【００６７】本発明の一つの側面によれば、融除−吸収
性の第二の層102は、この融除−吸収性の第二の層中に
存在しているポリマーの合計重量をベースとして、13重
量％を越える有機スルホン酸成分を含んでいる。好まし
い実施形態では、有機スルホン酸成分はp-トルエンスル
ホン酸であり、これは例えばアミンブロック化p-トルエ
ンスルホン酸であるNACURE 2530の一成分として存在す
る。
【００６８】一つの実施形態では、有機スルホン酸成分
は、本発明の印刷部材の融除−吸収性の第二の層102に
存在しているポリマーの合計重量の、15から75重量％の
量で存在する。好ましい実施形態では、有機スルホン酸
成分は、融除−吸収性の第二の層102に存在しているポ
リマーの合計重量の、20から45重量％の量で存在する。
【００６９】融除−吸収性の第二の層102は典型的に
は、約0.1から約20マイクロメートルの範囲、より好ま
しくは約0.1から約２マイクロメートルの範囲にある厚
みでコーティングされる。コーティングの後、層は乾燥
され、次いで10秒から３分の間にわたって135℃から185
℃の間の温度で硬化される。より好ましくは、30秒から
２分の間にわたって145℃から165℃の間の温度で硬化さ
れる。
【００７０】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
融除−吸収性の第二の層102はインク受容性である。イ
ンク受容性で融除−吸収性の第二の層の例は、本発明の
実施例１及び６に例示されている。
【００７１】別の実施形態では、融除−吸収性の第二の
層102はさらに、本発明の実施例５に例示されているよ
うに、インクを受容せず、湿式リソグラフ印刷機上で水
を受容することによって特徴付けられる。
【００７２】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
融除−吸収性の第二の層102は、水又は洗浄溶液中で可
溶でないことによって特徴付けられる。 親水性の第三の層 親水性の第三の層104は、レーザ曝露に際して熱的な障
壁をもたらして、基体がアルミニウムの如き金属である
場合に、熱損失と、基体106に対して生じうるダメージ
を防止する。この層は親水性であるから、イメージング
された湿式リソグラフプレート上においては、背景をな
す親水性の即ち水親水性領域として機能しうる。この層
は、支持基体106と、融除−吸収性の第二の層102に対し
て十分に付着しなければならない。一般に、こうした規
準を満たす高分子物質には、ヒドロキシル基やカルボキ
シル基といった極性部分が露出されているものが含まれ
る。例えばこうした基を取り入れるように変性された種
々のセルロース系物質、及びポリビニルアルコールポリ
マーである。
【００７３】好ましくは、親水性の第三の層104は、実
質的な劣化や可溶化なしに、印刷に際しての湿し水の繰
り返しての適用に耐えるものである。特に親水性の第三
の層104の劣化は、この層の膨潤及び／又は融除−吸収
性の第二の層102及び／又は基体106の両者に対する付着
性の喪失の形を取りうる。こうした膨潤及び／又は付着
性の喪失は印刷品質を劣化させ、リソグラフプレートの
印刷寿命を劇的に短縮してしまう。印刷に際して湿し水
の繰り返しての適用に耐えるかどうかの一つの試験は、
本発明の実施例１から６に記載したような、湿式耐摩擦
試験である。湿し水の繰り返しての適用に耐え、水又は
洗浄溶液中で過剰に可溶化されないという満足できる結
果は、本発明に関してここで規定したところによれば、
本発明の実施例１から６に記載され例示されているよう
に、湿式耐摩擦試験において３％のドットを保持すると
いうことである。
【００７４】水に対する不溶性をもたらすために、例え
ばポリビニルアルコールと、グリオキサール、炭酸亜
鉛、及びその他のような架橋剤との高分子反応生成物
が、当該技術において周知である。例えばポリビニルア
ルコールと、テトラメチルオルソシリケート又はテトラ
エチルオルソシリケートの加水分解物との高分子反応生
成物が、米国特許第3,971,660号に記載されている。こ
れに適したポリビニルアルコールベースのコーティング
は、例えばポリビニルアルコールAIRVOL 125と、ニュー
ジャージー州フレミントンのMagnesium Elektronから市
販されているアンモニウムジルコニルカーボネート溶液
の商標名であるBACOTE 20と、ウィルコンシン州ミルウ
ォーキーのAldrich Chemicalから市販されているグリセ
ロールと、ペンシルバニア州フィラデルフィアのRohm &
Haasから市販されている界面活性剤の商標名であるTRI
TON X-100とを組み合わせることにより、当該技術で公
知の混合及びコーティング方法によって獲得できる。
【００７５】一つの実施形態では、本発明の印刷部材の
親水性の第三の層104は、親水性ポリマーと架橋剤から
なる。親水性の第三の層104に適した親水性ポリマーに
はポリビニルアルコールやセルロースがあるが、これら
に限定されない。好ましい実施形態では、第三の層の親
水性ポリマーはポリビニルアルコールである。一つの実
施形態では、架橋剤はジルコニウム化合物であり、好ま
しくはアンモニウムジルコニルカーボネートである。
【００７６】一つの実施形態では、親水性の第三の層10
4は水又は洗浄溶液に可溶でないことによって特徴付け
られる。別の実施形態では、親水性の第三の層104は水
又は洗浄溶液に過剰に可溶でないことによって特徴付け
られる。
【００７７】親水性の第三の層104は本発明において、
典型的には約１から約40マイクロメートルの範囲、より
好ましくは約２から約25マイクロメートルの範囲内の厚
みでコーティングされる。コーティングの後、層は乾燥
され、その後10秒から３分の間にわたって135℃から185
℃の間の温度で、より好ましくは30秒から２分の間にわ
たって145℃から165℃の間で硬化される。 基体 支持基体106に適した基体としては、数多くの異なる基
体があり、それには例えば金属、紙、及び高分子フィル
ムの如き、リソグラフ印刷プレートの基体として当該技
術で公知のものが含まれる。親水性の第三の層104は通
例、水、洗浄溶液、或いは湿し水に可溶ではなく、また
イメージングに際して融除されないから、表面層のイン
ク受容性又は非親水性のイメージ領域と、湿式リソグラ
フ印刷に必要なプレートの水受容性又は親水性背景領域
との間に区別をもたらすために、基体が親水性である必
要はない。ここで用いられる用語「親水性」は、ある材
料又は材料組成物の性質であって、その材料又は材料組
成物が湿式リソグラフ印刷において水又は水ベースの湿
し水を優先的に保持することを可能にするものに関連し
ている。これに対し、プレート表面にある非親水性、イ
ンク受容性の材料又は材料組成物は、油性材料又はイン
クを優先的に保持する。かくして基体106は親水性であ
ってもよく、或いはまた融除−吸収性の層と基体の間に
層104のような親水性ポリマー層が介在される場合に
は、非親水性／インク受容性であってもよい。
【００７８】適している金属には、アルミニウム、銅、
スチール、及びクロムなどがあるが、これらに限定され
ない。好ましくは、砂目立て又は他の処理により、親水
性とされたものである。本発明の印刷部材は好ましく
は、陽極酸化アルミニウム支持基体を用いる。こうした
支持体の例には、事前に砂目立てすることなく陽極酸化
されたアルミニウム、砂目立てされ陽極酸化されたアル
ミニウム、砂目立てされ、陽極酸化され、基体を親水性
とするのに有効な剤で処理された、例えばシリケート層
を形成すべく処理されたアルミニウムなどがあるが、こ
れらに限定されるものではない。この発明において好ま
しいのは、砂目立てされ陽極酸化され、親水性材料で処
理されたアルミニウムを用いることである。
【００７９】紙は、広汎な種々のものが使用可能であ
る。それらの紙は通例、高分子処理剤で処理又は飽和さ
れており、寸法安定性、耐水性、及び湿式リソグラフ印
刷における強度が改善されている。適当な高分子フィル
ムには、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン
ナフタレートのようなポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、ポリスルホン、及び酢酸セルロース
などがあるが、これらに限定されない。好ましい高分子
フィルムはポリエチレンテレフタレートフィルムであ
り、例えばデラウェア州ウィルミントンのE.I. duPont
de Nemours Co.から市販されているMYLAR及びMELINEXポ
リエステルフィルムの如きである。高分子フィルムの基
体が親水性でない場合は、その基体はさらに、基体の少
なくとも一つの表面上に形成された親水性表面を含むこ
とができる。これは例えば、高分子フィルムに対して適
用された親水性材料からなる親水性コーティング層の如
きである。高分子フィルムは、例えばポリエチレンテレ
フタレートフィルムや、本来的に親水性でなかったり、
基体に付加される特別な親水性表面によって得るところ
のある、他の高分子フィルムである。支持基体106に好
ましい厚みは0.003から0.02インチの範囲にあり、0.005
から0.015インチの範囲が特に好ましい。 親水性の第三の層とプライマー層を備えたリソグラフ印
刷プレート 図１を参照すると、本発明、及びそれがリソグラフ印刷
プレートのレーザイメージング感度、印刷品質、洗浄
性、印刷耐久性、インク受容性イメージの付着性、及び
微細ドット解像度を向上させるために有機スルホン酸を
用いることの別の側面は、融除−吸収性の第二の層102
と親水性の第三の層104の間にプライマー層を取り入れ
ることにある。この場合、プライマー層は接着促進剤を
含んでおり、そこにおいてプライマー層は、レーザ放射
線の融除的吸収の欠如によって特徴付けられる。適して
いる接着促進剤には、有機スルホン酸成分、ジルコニウ
ム化合物、チタネート、及びシランなどがあるが、これ
らに限定されない。一つの実施形態では、プライマー層
中の接着促進剤の有機スルホン酸成分は、芳香族スルホ
ン酸である。好ましい実施形態では、プライマー層中の
接着促進剤の有機スルホン酸成分は、p-トルエンスルホ
ン酸である。
【００８０】一つの実施形態では、融除−吸収性の第二
の層102と親水性の第三の層104の間に介在されたプライ
マー層中の有機スルホン酸成分は、プライマー層の２か
ら100重量％の量、好ましくはプライマー層の50から100
重量％の量、最も好ましくはプライマー層の80から100
重量％の量で存在する。
【００８１】一つの実施形態では、融除−吸収性の第二
の層102と親水性の第三の層104の間に介在されたプライ
マー層の厚みは約0.01から約２マイクロメートルであ
り、好ましくは約0.01から約0.1マイクロメートルであ
る。
【００８２】有機スルホン酸成分を含むこのプライマー
層が存在する場合、所望とする多重的な利点をもたらす
ために本発明の融除−吸収性の第二の層102中の有機ス
ルホン酸成分のレベルを増大させることは必要ではな
く、融除−吸収性の第二の層102中の有機スルホン酸成
分のレベルは、融除−吸収性の第二の層中に存在するポ
リマーの合計重量の13重量％よりも少なくて良く、或い
は無いに等しい程度でもよい。しかしながら、プライマ
ー層と、本発明の13重量％を越える有機スルホン酸成分
を含む融除−吸収性の第二の層102の組み合わせを用い
ることは適切である。
【００８３】一つの実施形態では、プライマー層中の接
着促進剤は、例えばBACOTE 20の如きアンモニウムジル
コニルカーボネートである。BACOTE 20はMagnesium Ele
ktron, Inc.から市販されているジルコニアゾルであっ
て、10％の硝酸ジルコニウム水和物の添加によって変性
した21％の酸化ジルコニウムに相当する重量を有する。
米国特許第4,522,912号及び第4,581,285号に記載されて
いるように、適用されたBACOTE 20溶液の硬化残留物
は、水に不溶であり、クロム製基体と、フォトポリマー
でコーティングされたリソグラフ印刷プレートのフォト
ポリマーコーティングに対して優れた付着性を有し、ま
た上側のコーティングによっては親水性をも有すること
が報告されている。別の実施形態では、プライマー層中
の接着促進剤は、プロピオン酸ジルコニウムである。本
発明のプライマー層における他の適切なジルコニウム化
合物には、「The Use of Zirconium in Surface Coatin
gs」と題するニュージャージー州フレミントンのMagnes
ium Elektron, Inc.のP.J. Molesによる適用情報、シー
ト117（暫定）に記載されたジルコニウムベースの接着
促進剤などがあるが、これらに限定されるものではな
い。一つの実施形態では、プライマー層は、親水性であ
り、レーザ放射線の融除的吸収を欠いており、第二の融
除−吸収性層の融除的吸収によって融除されず、また水
に可溶でないことにより特徴付けられる。一つの実施形
態では、プライマー層はさらに、第二の層の融除的吸収
と、その後プライマー層の表面から第二の層の融除的吸
収による何らかの残留物を除去するために行われる水又
は洗浄溶液での洗浄工程によって除去されないことによ
って特徴付けられる。一つの実施形態では、プライマー
層中の接着促進剤は酸化ジルコニウムからなる。一つの
実施形態では、プライマー層は無機ゲル層、好ましくは
酸化ジルコニウムゲルを含む無機ゲル層である。 親水性の第三の層のないリソグラフ印刷プレート ポジティブワーキング湿式リソグラフプレートの代替的
な実施形態が図３に示されている。これは支持基体106
と、融除−吸収性層130と、インク受容性表面層100とか
らなる。支持基体106は親水性である。この構造の支持
層と融除−吸収性層の例は、付加的なインク受容性表面
層の存在はないが、上述した米国特許第5,605,780号に
与えられている。
【００８４】親水性の第三の層を含まない、本発明のリ
ソグラフ印刷部材の一つの側面は、インク受容性表面層
と、融除−吸収性の第二の層と、親水性支持基体とから
なる。インク受容性表面層と融除−吸収性の第二の層
は、支持基体の上に置かれた親水性の第三の層を有する
本発明のリソグラフ印刷部材について既に説明した如き
である。図３に示された支持基体106は、支持基体の上
に置かれた親水性の第三の層を有する本発明のリソグラ
フ印刷部材について既に記述したところで、親水性であ
る支持基体についてだけ説明した如きものである。
【００８５】具体的には、支持基体の上に置かれた親水
性の第三の層を含まない本発明のリソグラフ印刷部材
は、印刷部材の一つ又はより多くの層中における大量の
有機スルホン酸成分の存在下において、本発明の鍵とな
る側面を共有する。例えば本発明の一つの側面におい
て、支持基体の上に置かれた親水性の第三の層を含まな
いリソグラフ印刷部材は、在来の架橋コーティングのた
めにコーティング層中に存在する、ポリマーの合計重量
をベースとして例えば0.01から12重量％といった触媒目
的で通常使用されるレベルよりも高いレベルにおいて、
融除−吸収性の層130中に存在する有機スルホン酸成分
を含む。かくして本発明の一つの側面は、レーザ放射線
によりイメージング可能なポジティブワーキング湿式リ
ソグラフ印刷部材であって、（a）レーザ放射線の融除
的吸収の欠如により特徴付けられるインク受容性の表面
層と、（b）表面の下側にある第二の層であって、一つ
又はより多くのポリマーからなりレーザ放射線の融除的
吸収により特徴付けられる第二の層と、及び（c）親水
性基体とからなり、第二の層がこの第二の層に存在する
ポリマーの合計重量をベースとして13重量％を越える有
機スルホン酸成分を含むものに関連している。一つの実
施形態では、有機スルホン酸成分は芳香族スルホン酸で
ある。好ましい実施形態では、有機スルホン酸成分はp-
トルエンスルホン酸、例えばアミンブロック化p-トルエ
ンスルホン酸NACURE 2530の成分として存在するものの
如きである。
【００８６】一つの実施形態では、有機スルホン酸成分
は、融除−吸収性の第二の層130に存在しているポリマ
ーの合計重量の、15から75重量％の量で存在する。好ま
しい実施形態では、有機スルホン酸成分は、融除−吸収
性の第二の層130に存在しているポリマーの合計重量
の、20から45重量％の量で存在する。
【００８７】親水性の第三の層を含む本発明のリソグラ
フ印刷部材について説明した、融除−吸収性の第二の層
130の下側にあり支持基体106の上に置かれた親水性の第
三の層が欠けていることを除き、親水性の第三の層のな
いリソグラフ印刷部材のコーティング層の他の側面は、
インク受容性表面層や融除−吸収性の第二の層といった
側面を含めて、親水性の第三の層を備えたリソグラフ印
刷部材について既に記載した如きものである。
【００８８】図３を参照すると、本発明、及びそれがリ
ソグラフ印刷プレートのレーザイメージング感度、印刷
品質、洗浄性、印刷耐久性、インク受容性イメージの付
着性、及び微細ドット解像度を向上させるために有機ス
ルホン酸を用いることのさらに別の側面は、融除−吸収
性の第二の層130と親水性支持基体106の間にプライマー
層を取り入れることにある。この場合、プライマー層は
接着促進剤を含んでおり、そこにおいてプライマー層
は、レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴付け
られる。適している接着促進剤には、有機スルホン酸成
分、ジルコニウム化合物、チタネート、及びシランなど
があるが、これらに限定されない。一つの実施形態で
は、プライマー層中の接着促進剤の有機スルホン酸成分
は、芳香族スルホン酸である。好ましい実施形態では、
プライマー層中の接着促進剤の有機スルホン酸成分は、
p-トルエンスルホン酸である。
【００８９】一つの実施形態では、図３に示すような融
除−吸収性の第二の層130と親水性支持基体106の間に介
在されたプライマー層中の有機スルホン酸成分は、プラ
イマー層の２から100重量％の量、好ましくはプライマ
ー層の50から100重量％の量、最も好ましくはプライマ
ー層の80から100重量％の量で存在する。
【００９０】一つの実施形態では、融除−吸収性の第二
の層130と親水性支持基体106の間に介在されたプライマ
ー層の厚みは約0.01から約２マイクロメートルであり、
好ましくは約0.01から約0.1マイクロメートルである。
【００９１】有機スルホン酸成分を含むこのプライマー
層が存在する場合、所望とする多重的な利点をもたらす
ために本発明の融除−吸収性の第二の層130中の有機ス
ルホン酸のレベルを増大させることは必要ではなく、融
除−吸収性の第二の層130中の有機スルホン酸成分のレ
ベルは、融除−吸収性の第二の層中に存在するポリマー
の合計重量の13重量％よりも少なくて良く、或いは無い
に等しい程度でもよい。しかしながら、プライマー層
と、本発明の13重量％を越える有機スルホン酸成分を含
む融除−吸収性の第二の層130の組み合わせを用いるこ
とは適切である。
【００９２】一つの実施形態では、プライマー層中の接
着促進剤のジルコニウム化合物は、例えばBACOTE 20の
如きアンモニウムジルコニルカーボネートである。別の
実施形態では、プライマー層中の接着促進剤のジルコニ
ウム化合物は、プロピオン酸ジルコニウムである。本発
明のプライマー層における他の適切なジルコニウム化合
物には、「The Use of Zirconium in Surface Coating
s」と題するニュージャージー州フレミントンのMagnesi
um Elektron, Inc.のP.J. Molesによる適用情報、シー
ト117（暫定）に記載されたジルコニウムベースの接着
促進剤などがあるが、これらに限定されるものではな
い。一つの実施形態では、プライマー層は、親水性であ
り、レーザ放射線の融除的吸収を欠いており、第二の融
除−吸収性層の融除的吸収によって融除されず、また水
に可溶でないことにより特徴付けられる。一つの実施形
態では、プライマー層はさらに、第二の層の融除的吸収
と、その後プライマー層の表面から第二の層の融除的吸
収による何らかの残留物を除去するために行われる水又
は洗浄溶液での洗浄工程によって除去されないことによ
って特徴付けられる。一つの実施形態では、プライマー
層中の接着促進剤は酸化ジルコニウムからなる。一つの
実施形態では、プライマー層は無機ゲル層、好ましくは
酸化ジルコニウムゲルを含む無機ゲル層である。 親水性の第二の層と融除−吸収性の表面層を備えたリソ
グラフ印刷部材 ポジティブワーキング湿式リソグラフ印刷プレートの代
替的な実施形態が図４に示されており、支持基体210
と、親水性ポリマー層215と、及び融除−吸収性のイン
ク受容性表面層220とからなっている。この構造を有す
る支持層、中間ポリマー層、及び融除−吸収性のインク
受容性層の例は、上述した米国特許第5,493,971号に与
えられている。
【００９３】非融除吸収性の表面層を含まない、本発明
のリソグラフ印刷部材の一つの側面は、融除−吸収性の
インク受容性表面層と、親水性ポリマー層と、支持基体
とからなる。本発明のこの側面の支持基体210は、図１
に示したように親水性の第三の層を備えたリソグラフ印
刷部材の支持基体106について既に説明した如きであ
る。同様に、本発明のこの側面の親水性ポリマー層215
は、図１に示したように親水性の第三の層を備えたリソ
グラフ印刷部材の親水性の第三の層104について既に説
明した如きである。本発明のこの側面の融除−吸収性の
インク受容性表面層220は、融除−吸収性層220の上側に
置かれた非融除吸収性のインク受容性表面層100がない
ことを除き、図１に示したように親水性の第三の層を備
えたリソグラフ印刷部材の融除−吸収性の第二の層102
について既に説明した如きである。
【００９４】具体的には、融除−吸収性層の上に置かれ
た非融除吸収性の表面層を含まない本発明のリソグラフ
印刷部材は、印刷部材の一つ又はより多くの層中におけ
る相当量の有機スルホン酸成分の存在下において、本発
明の鍵となる側面を共有する。例えば本発明の一つの側
面において、図４に示したようなソグラフ印刷部材は、
在来の架橋コーティングのためにコーティング層中に存
在する、ポリマーの合計重量をベースとして例えば0.01
から12重量％といった触媒目的で通常使用されるレベル
よりも高いレベルにおいて、融除−吸収性の層220中に
存在する有機スルホン酸成分を含む。かくして本発明の
一つの側面は、レーザ放射線によりイメージング可能な
ポジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であっ
て、（a）インク受容性の表面層であって、一つ又はよ
り多くのポリマーからなりレーザ放射線の融除的吸収に
より特徴付けられるインク受容性表面層と、（b）この
表面層の下側にある親水性ポリマー層と、及び（c）基
体とからなり、表面層がこの表面層に存在するポリマー
の合計重量をベースとして13重量％を越える有機スルホ
ン酸成分を含むものに関連している。一つの実施形態で
は、有機スルホン酸成分は芳香族スルホン酸である。好
ましい実施形態では、有機スルホン酸成分はp-トルエン
スルホン酸、例えばアミンブロック化p-トルエンスルホ
ン酸NACURE 2530の成分として存在するものの如きであ
る。
【００９５】一つの実施形態では、有機スルホン酸成分
は、融除−吸収性の表面層220に存在しているポリマー
の合計重量の、15から75重量％の量で存在する。好まし
い実施形態では、有機スルホン酸成分は、融除−吸収性
の表面層220に存在しているポリマーの合計重量の、20
から45重量％の量で存在する。
【００９６】図４を参照すると、本発明、及びそれが湿
式リソグラフ印刷プレートのレーザイメージング感度、
印刷品質、洗浄性、印刷耐久性、インク受容性イメージ
の付着性、及び微細ドット解像度を向上させるために有
機スルホン酸を用いることのさらに別の側面は、融除−
吸収性の表面層220と親水性ポリマー層215の間にプライ
マー層を取り入れることにある。この場合、プライマー
層は接着促進剤を含んでおり、そこにおいてプライマー
層は、レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴付
けられる。適している接着促進剤には、有機スルホン酸
成分、ジルコニウム化合物、チタネート、及びシランな
どがあるが、これらに限定されない。一つの実施形態で
は、プライマー層中の接着促進剤は有機スルホン酸成
分、好ましくは芳香族スルホン酸、最も好ましくはp-ト
ルエンスルホン酸である。
【００９７】一つの実施形態では、融除−吸収性の表面
層220と親水性ポリマー層215の間に介在されたプライマ
ー層中の有機スルホン酸成分は、プライマー層の２から
100重量％の量、好ましくはプライマー層の50から100重
量％の量、最も好ましくはプライマー層の80から100重
量％の量で存在する。
【００９８】一つの実施形態では、融除−吸収性の表面
層220と親水性ポリマー層215の間に介在されたプライマ
ー層の厚みは約0.01から約２マイクロメートルであり、
好ましくは約0.01から約0.1マイクロメートルである。
【００９９】有機スルホン酸成分を含むこのプライマー
層が存在する場合、所望とする多重的な利点をもたらす
ために本発明の融除−吸収性の表面層220中の有機スル
ホン酸のレベルを増大させることは必要ではなく、融除
−吸収性の表面層220中の有機スルホン酸成分のレベル
は、融除−吸収性の表面層中に存在するポリマーの合計
重量の13重量％よりも少なくて良く、或いは無いに等し
い程度でもよい。しかしながら、プライマー層と、本発
明の13重量％を越える有機スルホン酸成分を含む融除−
吸収性の表面層220の組み合わせを用いることは適切で
ある。
【０１００】一つの実施形態では、プライマー層中の接
着促進剤は、例えばBACOTE 20の如きアンモニウムジル
コニルカーボネートである。別の実施形態では、プライ
マー層中の接着促進剤は、プロピオン酸ジルコニウムで
ある。本発明のプライマー層における他の適切なジルコ
ニウム化合物には、「The Use of Zirconium in Surfac
e Coatings」と題するニュージャージー州フレミントン
のMagnesium Elektron, Inc.のP.J. Molesによる適用情
報、シート117（暫定）に記載されたジルコニウムベー
スの接着促進剤などがあるが、これらに限定されるもの
ではない。一つの実施形態では、プライマー層は、親水
性であり、レーザ放射線の融除的吸収を欠いており、第
二の融除−吸収性層の融除的吸収によって融除されず、
また水に可溶でないことにより特徴付けられる。一つの
実施形態では、プライマー層はさらに、第二の層の融除
的吸収と、その後プライマー層の表面から第二の層の融
除的吸収による何らかの残留物を除去するために行われ
る水又は洗浄溶液での洗浄工程によって除去されないこ
とによって特徴付けられる。一つの実施形態では、プラ
イマー層中の接着促進剤は酸化ジルコニウムからなる。
一つの実施形態では、プライマー層は無機ゲル層、好ま
しくは酸化ジルコニウムゲルを含む無機ゲル層である。 親水性の第三の層がなく融除吸収性の表面層を備えたリ
ソグラフ印刷プレート ポジティブワーキング湿式リソグラフプレートの代替的
な実施形態が図５に示されており、親水性支持基体210
と、融除−吸収性層のインク受容性表面層320とからな
る。この構造を有する支持層と融除−吸収性表面層の例
は、上述した米国特許第5,605,780号に与えられてい
る。
【０１０１】親水性の第三の層を含まず、さらに非融除
吸収性のインク受容性表面層を含まない、本発明のリソ
グラフ印刷部材は、融除−吸収性のインク受容性表面層
と、親水性支持基体とからなる。本発明のこの側面の親
水性支持基体210は、図３に示したように親水性の第三
の層を含まないリソグラフ印刷部材の親水性支持基体10
6について既に記載した如きものである。本発明のこの
側面の融除−吸収性のインク受容性表面層320は、融除
−吸収性層の上側に置かれた非融除吸収性のインク受容
性表面層100がないことを除き、図３に示したように親
水性の第三の層を含まないリソグラフ印刷部材の融除−
吸収性の第二の層130について既に記載した如きもので
ある。
【０１０２】具体的には、支持基体上に置かれた親水性
の第三の層を含まず、さらに非融除吸収性の表面層を含
まない、本発明のリソグラフ印刷部材は、印刷部材の一
つ又はより多くの層中における大量の有機スルホン酸成
分の存在下において、本発明の鍵となる側面を共有す
る。例えば本発明の一つの側面において、図５に示した
ようなリソグラフ印刷部材は、在来の架橋コーティング
のためにコーティング層中に存在する、ポリマーの合計
重量をベースとして例えば0.01から12重量％といった触
媒目的で通常使用されるレベルよりも高いレベルにおい
て、融除−吸収性の層320中に存在する有機スルホン酸
成分を含む。かくして本発明の一つの側面は、レーザ放
射線によりイメージング可能なポジティブワーキング湿
式リソグラフ印刷部材であって、（a）インク受容性の
表面層であって、一つ又はより多くのポリマーからなり
レーザ放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク
受容性表面層と、及び（b）親水性基体とからなり、表
面層がこの表面層に存在するポリマーの合計重量をベー
スとして13重量％を越える有機スルホン酸成分を含むも
のに関連している。一つの実施形態では、有機スルホン
酸成分は芳香族スルホン酸である。好ましい実施形態で
は、有機スルホン酸成分はp-トルエンスルホン酸、例え
ばアミンブロック化p-トルエンスルホン酸NACURE 2530
の成分として存在するものの如きである。
【０１０３】一つの実施形態では、有機スルホン酸成分
は、融除−吸収性の表面層320に存在しているポリマー
の合計重量の、15から75重量％の量で存在する。好まし
い実施形態では、有機スルホン酸成分は、融除−吸収性
の表面層320に存在しているポリマーの合計重量の、20
から45重量％の量で存在する。
【０１０４】図５を参照すると、本発明、及びそれが湿
式リソグラフ印刷プレートのレーザイメージング感度、
印刷品質、洗浄性、印刷耐久性、インク受容性イメージ
の付着性、及び微細ドット解像度を向上させるために有
機スルホン酸を用いることのさらに別の側面は、融除−
吸収性の表面層320と支持基体210の間にプライマー層を
取り入れることにある。この場合、プライマー層は接着
促進剤を含んでおり、そこにおいてプライマー層は、レ
ーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴付けられ
る。適している接着促進剤には、有機スルホン酸成分、
ジルコニウム化合物、チタネート、及びシランなどがあ
るが、これらに限定されない。一つの実施形態では、プ
ライマー層中の接着促進剤は有機スルホン酸成分、好ま
しくは芳香族スルホン酸、より好ましくはp-トルエンス
ルホン酸である。
【０１０５】一つの実施形態では、融除−吸収性の表面
層320と親水性支持基体210の間に介在されたプライマー
層中の有機スルホン酸成分は、プライマー層の２から10
0重量％の量、好ましくはプライマー層の50から100重量
％の量、最も好ましくはプライマー層の80から100重量
％の量で存在する。
【０１０６】一つの実施形態では、融除−吸収性の表面
層320と親水性支持基体210の間に介在されたプライマー
層の厚みは約0.01から約２マイクロメートルであり、好
ましくは約0.01から約0.1マイクロメートルである。
【０１０７】有機スルホン酸成分を含むこのプライマー
層が存在する場合、所望とする多重的な利点をもたらす
ために本発明の融除−吸収性の表面層320中の有機スル
ホン酸成分のレベルを増大させることは必要ではなく、
融除−吸収性の表面層320中の有機スルホン酸成分のレ
ベルは、融除−吸収性の表面層中に存在するポリマーの
合計重量の13重量％よりも少なくて良く、或いは無いに
等しい程度でもよい。しかしながら、プライマー層と、
本発明の13重量％を越える有機スルホン酸成分を含む融
除−吸収性の表面層320の組み合わせを用いることは好
ましい。
【０１０８】一つの実施形態では、プライマー層中の接
着促進剤は、例えばBACOTE 20の如きアンモニウムジル
コニルカーボネートである。別の実施形態では、プライ
マー層中の接着促進剤は、プロピオン酸ジルコニウムで
ある。本発明のプライマー層における他の適切なジルコ
ニウム化合物には、「The Use of Zirconium in Surfac
e Coatings」と題するニュージャージー州フレミントン
のMagnesium Elektron, Inc.のP.J. Molesによる適用情
報、シート117（暫定）に記載されたジルコニウムベー
スの接着促進剤などがあるが、これらに限定されるもの
ではない。一つの実施形態では、プライマー層は、親水
性であり、レーザ放射線の融除的吸収を欠いており、第
二の融除−吸収性層の融除的吸収によって融除されず、
また水に可溶でないことにより特徴付けられる。一つの
実施形態では、プライマー層はさらに、第二の層の融除
的吸収と、その後プライマー層の表面から第二の層の融
除的吸収による何らかの残留物を除去するために行われ
る水又は洗浄溶液での洗浄工程によって除去されないこ
とによって特徴付けられる。一つの実施形態では、プラ
イマー層中の接着促進剤は酸化ジルコニウムからなる。
一つの実施形態では、プライマー層は無機ゲル層、好ま
しくは酸化ジルコニウムゲルを含む無機ゲル層である。 イメージング装置 本発明に関連して用いるのに適したイメージング装置に
は、赤外線スペクトルにおいて発光する赤外線レーザ装
置のような、公知のレーザイメージング装置などがある
が、これに限定されるものではない。レーザ出力は、レ
ンズ又はその他のビーム案内部品を介してプレート表面
へと直接にもたらすことができ、或いは遠隔に位置する
レーザから光ファイバケーブルを用いて、印刷プレート
の表面へと搬送することができる。イメージング装置は
それ自体で作動して、プレート作成装置としてだけ機能
することもでき、またリソグラフ印刷機に直接に組み込
むこともできる。この後者の場合、印刷はブランクプレ
ートに対してイメージを適用した直後に開始することが
できる。イメージング装置は平床レコーダとして、或い
はドラムレコーダとして構成することができる。
【０１０９】本発明の湿式リソグラフ印刷プレートのレ
ーザ誘発性の融除は、レーザ誘発性融除イメージングの
技術分野で公知の、広汎な種々のレーザイメージングシ
ステムを用いて実行しうる。これには例えば、連続及び
パルス化レーザ源の使用、及び種々の紫外、可視、及び
赤外波長のレーザ放射線の使用などが含まれるが、これ
らに限定されない。好ましくは、本発明のレーザ誘発性
融除は、近赤外放射線の連続レーザ源、例えば380 nmで
発光するダイオードレーザを用いて実行される。 イメージング技術 作用においては、本発明のプレートは、当該技術分野に
おいて通常の知識を有する者に周知の方法によってイメ
ージングされる。しかして本発明のリソグラフ印刷プレ
ートは、プレート上を走査されるイメージングレーザの
出力に対し、イメージを表すパターンでもって、選択的
に曝露される。図１を参照すると、放射レーザ出力は、
融除−吸収性の第二の層102とインク受容性表面層100を
除去し及び／又は損傷し、或いは変形して、それにより
プレート上に、イメージの特徴又はイメージの潜在的な
特徴を直接に生成する。
【０１１０】図２Ａ及び２Ｂは、このイメージング過程
をより詳細に示している。図２Ａに示されているよう
に、イメージング放射線は層100及び102を部分的に除去
し、親水性の第三の層104の上に残存屑108を残す。この
レーザイメージングされたプレートは次いで、屑108を
除去するために水又は湿し水で洗浄され、それにより図
２Ｂに示されるように、親水性の第三の層104の表面が
露出される。代替的に、親水性であり、レーザ放射線の
融除的吸収を欠如し、融除−吸収性層の融除的吸収によ
り融除されず、また水に可溶でないことによって特徴付
けられるプライマー層が存在する場合には、残存屑が接
触する表面を有し、洗浄工程によって露出されるのはこ
のプライマー層ということになる。なぜならプライマー
層は、洗浄工程によって除去されないからである。プレ
ートがイメージングされ、水で洗浄されることなしに印
刷機上に装着されると、屑108はローラによって、湿し
水のリザーバへと逆に運ばれてしまう。
【０１１１】かくして本発明の一つの側面において、イ
メージングされた湿式リソグラフ印刷プレートを準備す
る方法は、（a）本発明の湿式リソグラフ印刷部材を準
備し、（b）この印刷部材を所望のイメージに関連する
レーザ放射線露光に曝し、印刷部材のインク受容性表面
層の一部を融除し、また融除−吸収性の第二の層の一部
を融除して、親水性の第三の層又は親水性ポリマー層上
に残存屑又は残存複合層を形成し、或いは代替的に、融
除−吸収性の第二の層の下側にあり基体の上側に置かれ
た親水性の第三の層又は親水性ポリマー層がない場合に
は、親水性基体上に残存複合層を形成し、及び（c）親
水性の第三の層から、或いは代替的に、こうした親水性
の第三の層又は親水性ポリマー層が存在しない場合には
親水性基体から、水又は洗浄溶液を用いて残存複合層を
洗浄し、印刷部材のインク受容性表面層が水又は洗浄溶
液に可溶でないことからなる。一つの実施形態では、ス
テップ（b）において残存屑はプライマー層上に形成さ
れ、ステップ（c）において残存複合層の洗浄はプライ
マー層について、水又は洗浄溶液を用いて行われる。
【０１１２】
【実施例】以下の実施例において本発明の幾つかの実施
形態を示すが、これらは説明のために行われるものであ
って、限定のためのものではない。 実施例１ ブラシで砂目立てされ、電気化学的にエッチングされ、
陽極酸化された、シリケートのオーバコート層を有する
アルミニウムシートを用いて、本発明によるリソグラフ
印刷プレートを調製した。このアルミニウムシートを、
図１で層104により示されているようにして、親水性ポ
リマーでコーティングした。固形分について乾燥重量ベ
ースで示す以下の成分を水中で混合して、6.3重量％の
溶液とした。
【０１１３】
【表１】
【０１１４】親水性ポリマーコーティング配合物をアル
ミニウムシートに適用するために、＃18の巻線ロッドを
用いた。AIRVOL 125、BACOTE 20、グリセロール、及びT
RITON X-100を含有するこの親水性層を145℃で120秒間
硬化した後、硬化した親水性ポリマー層上に＃４の巻線
ロッドを用いて以下の融除−吸収性の第二の層をコーテ
ィングし、145℃で120秒間硬化して、三つの異なる融除
−吸収性の第二の層を有するサンプルＡ、Ｂ、及びＣを
得た。融除−吸収性の第二の層は、145℃で120秒間硬化
した。
【０１１５】
【表２】
【０１１６】次いで＃３の巻線ロッドを用いて、第二の
層Ａ、Ｂ、及びＣの各々の上に、水ベースの配合物から
インク受容性の第一の層をオーバコートした。次いでそ
れぞれを145℃で120秒間硬化した。コーティング処方は
次の如くであった。
【０１１７】
【表３】
【０１１８】WITCOBOND W-240は、イリノイ州シカゴのW
itco Copr.から市販されている水性ポリウレタン分散物
の商標名である。
【０１１９】それぞれに異なる第二の層（Ａ、Ｂ、及び
Ｃ）を有するプレートは、PEARLSETTE 74上でイメージ
ングされた。これはニューハンプシャー州ハドソンのPr
esstek, Inc.から市販されているレーザイメージング装
置の商標名であり、870 nmでエネルギーを発する赤外線
レーザダイオードを含んでいる。レーザスポットの大き
さは35マイクロメートルであった。プレート表面のレー
ザエネルギーは、ほぼ700 mj/cm2であった。プレートは
水を洗浄溶液として用いて、Anitecデスクトップ型プレ
ートプロセッサにより洗浄した。
【０１２０】水での洗浄後、洗浄容易性、ダイオードバ
ンディング、解像度、及び湿式摩擦抵抗についてプレー
トを評価した。ダイオードバンディングは、異なる赤外
線レーザダイオードの間での出力の変動、コーティング
厚みの変動、及び他の変動に基づく、イメージング感度
の許容範囲の尺度である。一様な印刷イメージを得るた
めには、バンディングの程度が低いことが非常に望まし
い。解像度は、イメージング及びイメージング後の洗浄
の後で、プレート上に達成されるイメージング品質のう
ち、最も細かなラインやドットの尺度である。湿式摩擦
抵抗は、印刷作業の間にプレート上に維持されるイメー
ジング品質のうち、最も細かなラインやドットの尺度で
あり、水で濡らされたWEBRILクロスによる50回の湿式摩
擦に耐えたプレート上の最も細かなラインやドットを測
定することによって評価される。WEBRILはマサチューセ
ッツ州ワルポールのVeratec Corporationから市販され
ている毛羽立ちのない布の商標名である。湿式摩擦の各
々は、イメージングされた領域を行きつ戻りつして横断
する二回のパスからなり、従って本発明の湿式摩擦抵抗
試験での50回の湿式摩擦は実際には、イメージングされ
た領域を横断する合計で100回のパスを含むことにな
る。
【０１２１】本発明の解像度及び湿式摩擦抵抗試験にお
いて、イメージ領域には二つの型式がある。（１）一連
のピクセルの形を有する細いラインであって、ライン幅
がその幅方向にあるピクセルの数に基づくもの、及び
（２）インチ当たり150ライン（lpi）のハーフトーンス
クリーンイメージングでのハーフトーンドットである。
これらのイメージ領域のおおよその寸法は次の通りであ
る。１ピクセルラインは15マイクロメートル幅であり、
３ピクセルラインは40マイクロメートル幅である。２％
のドットは直径15マイクロメートル、３％のドットは直
径20マイクロメートル、４％のドットは直径25マイクロ
メートル、５％のドットは直径35マイクロメートル、そ
して10％のドットは直径60マイクロメートルである。プ
レート上で達成し維持可能なピクセルラインの幅が小さ
くなり、ドット寸法の直径が小さくなれば、印刷品質は
良好になり、受け入れ可能な品質での印刷操業の長さは
良好になる。従って、洗浄後に１ピクセル幅のラインイ
メージを達成し、湿式摩擦抵抗試験を通じてこの１ピク
セル幅のラインイメージを維持することが、印刷品質に
ついて最高の結果である。同様に、洗浄後に２％のドッ
トイメージ又は直径約15マイクロメートル幅のドットを
達成し、湿式摩擦抵抗試験を通じてこの２％のドットイ
メージを維持することが、印刷品質について最高の結果
であり、最高のドットイメージとして高々５％や10％の
ドットを維持することに比べると、遥かに望ましいもの
である。
【０１２２】結果を以下に概括する。
【０１２３】
【表４】
【０１２４】融除−吸収性の第二の層中に存在している
ポリマーの合計重量をベースとして、p-トルエンスルホ
ン酸成分の重量割合は、プレートＡについて5.4重量
％、プレートＢについて27.2重量％、そしてプレートＣ
について49.0重量％であった。NACURE 2530由来の大量
のp-トルエンスルホン酸成分が、洗浄容易性を大幅に改
善し、また解像度に顕著な影響を及ぼすことなしに、ダ
イオードバンディングの量を低減させることが看取され
る。 実施例２ 本発明の、融除−吸収性の表面層を備える側面につい
て、ニトロセルロースベースのコーティングを調製し
て、増大した量のp-トルエンスルホン酸の効果を示し
た。以下のようにして二つのコーティングを調製した。
【０１２５】
【表５】
【０１２６】プレートは、融除−吸収性の層の各々の上
をオーバコートするインク受容性の第一の層がないこと
を除き、本発明の実施例１に記載した如きアルミニウム
シートと、親水性の第三の層と、手順とにより作成し
た。親水性の第三の層の硬化時間について、145℃で30
秒間から120秒間までの四回の変化を行った。本発明の
実施例１において記載したようにして、イメージング
し、洗浄し、解像度と湿式摩擦抵抗について試験した。
イメージ形成装置はPresstekのPEARLSETTER 74であり、
ダイオードは約400 mj/cm2をもたらすように設定され
た。イメージングされたプレートについて得られた結果
を以下に概括する。
【０１２７】
【表６】
【０１２８】融除−吸収性の層中に存在しているポリマ
ーの合計重量をベースとして、p-トルエンスルホン酸成
分の重量割合は、実施例２Ａについて2.8重量％、実施
例２Ｂについて71.4重量％であった。大量のp-トルエン
スルホン酸成分が、融除−吸収性層についてニトロセル
ロースベースのコーティングの付着性を大幅に改善し、
その結果解像度及び湿式摩擦抵抗が向上することが看取
される。 実施例３ 米国特許第5,493,971号の実施例１に記載されたように
してニトロセルロースベースのコーティングを調製し、
本発明の実施例１において記載されたようにして調製さ
れた、硬化された親水性ポリビニルアルコールベースの
コーティングを有する砂目立てされ陽極酸化されシリケ
ート処理されたアルミニウム基体に対し、＃８の巻線ロ
ッドでコーティングし、145℃で120秒間硬化した。別
の、同様に硬化された親水性ポリビニルアルコールベー
スのコーティングを有する砂目立てされ陽極酸化されシ
リケート処理された基体に対し、NACURE 2530（PTSA 25
％）を平滑なロッドを用いてコーティングし、乾燥のみ
を行った。このプライミングした表面に次いで、米国特
許第5,493,971号（実施例１）記載のニトロセルロース
ベースのコーティングを＃８の巻線ロッドでコーティン
グし、145℃で120秒間硬化した。イメージング、洗浄、
及び解像度と湿式摩擦抵抗についての試験を、本発明の
実施例１において記載したようにして行った。プレート
は両方とも、PresstekのPEARLSETTER 74イメージ形成装
置を用いてイメージングし、ダイオードは約400 mj/cm2
をもたらすように設定された。結果を以下に概括する。
【０１２９】
【表７】
【０１３０】解像度及び湿式摩擦抵抗の向上によって示
されているように、p-トルエンスルホン酸ベースのプラ
イマー層が、融除−吸収性層についてニトロセルロース
ベースのコーティングの付着性を大幅に改善しているこ
とが看取される。 実施例４ 米国特許第5,493,971号の実施例１に記載されたように
してニトロセルロースベースのコーティングを調製し、
本発明の実施例１において記載されたようにして調製さ
れた、硬化された親水性ポリビニルアルコールベースの
コーティングを有する砂目立てされ陽極酸化されシリケ
ート処理されたアルミニウム基体に対し、＃８の巻線ロ
ッドでコーティングし、145℃で120秒間硬化した。別
の、同様に硬化された親水性ポリビニルアルコールベー
スのコーティングを有する砂目立てされ陽極酸化されシ
リケート処理された基体に対し、BACOTE 20の固形分0.8
75％のコーティングを＃３の巻線ロッドを用いてコーテ
ィングし、乾燥のみを行った。このプライミングした表
面に次いで、米国特許第5,493,971号（実施例１）記載
のニトロセルロースベースのコーティングを＃８の巻線
ロッドでコーティングし、145℃で120秒間硬化した。イ
メージング、洗浄、及び解像度と湿式摩擦抵抗について
の試験を、本発明の実施例１において記載したようにし
て行った。プレートは両方とも、PresstekのPEARLSETTE
R 74イメージ形成装置を用いてイメージングし、ダイオ
ードは約400 mj/cm2をもたらすように設定された。
【０１３１】
【表８】
【０１３２】アンモニウムジルコニウムカーボネートを
含むプライマー層が、ニトロセルロースベースのコーテ
ィングの付着性を大幅に改善し、結果として解像度及び
湿式摩擦抵抗が向上していることが看取される。 実施例５ 砂目立てされ、陽極酸化された、シリケートのオーバコ
ート層を有するアルミニウムシートを用いて、本発明に
よるリソグラフ印刷プレートを調製した。このアルミニ
ウムシートを、本発明の実施例１に記載されているよう
にして、親水性の第三の層でコーティングし、145℃で1
20秒間硬化した。以下の融除−吸収性、非インク受容性
の第二の層を、この硬化した親水性の第三の層の上にコ
ーティングし、145℃で120秒間硬化した。BYK 333は、
コネチカット州ウォリングフォードのByk-Chemie USAか
ら市販されている界面活性剤の商標名である。
【０１３３】
【表９】
【０１３４】湿式リソグラフ印刷システムのインク及び
水について使用された場合、融除−吸収性層は水を受容
したが、インクは受容しなかった。
【０１３５】次いで、本発明の実施例１に記載したよう
な水ベースの配合物から調製した、インク受容性の第一
の層を、融除−吸収性の第二の上にコーティングした。
これを145℃で120秒間硬化した。
【０１３６】イメージング、洗浄、及び解像度と湿式摩
擦抵抗についての試験を、本発明の実施例１において記
載したようにして行った。プレートは、PresstekのPEAR
LSETTER 74を用いてイメージングし、プレート表面にお
けるレーザエネルギーは約500 mj/cm2であった。
【０１３７】結果を以下に概括する。
【０１３８】
【表１０】
【０１３９】BACOTE 20架橋剤を含め、存在しているポ
リマーの合計重量をベースとして、p-トルエンスルホン
酸成分の重量割合は289.4重量％であった。大量のp-ト
ルエンスルホン酸成分が、特定のポリビニルアルコール
ベースの配合物と相俟って、洗浄容易性と解像度、及び
ダイオードバンディングの排除を大幅に改善する、非イ
ンク受容性の融除−吸収性層をもたらすことが看取され
る。NACURE 2530はそのp-トルエンスルホン酸成分によ
り、この配合物に対して顕著な分散安定性と、コーティ
ング性をも与えている。 実施例６ 水性コーティングで被覆するのに適した５ミル厚のポリ
エステルフィルムを用いて、本発明によるリソグラフ印
刷プレートを調製した。このポリエステル基体を、本発
明の実施例１において記載したようにして親水性の第三
の層でコーティングし、145℃で120秒間硬化した。以下
の融除−吸収性の第二の層を親水性の第三の層の上にコ
ーティングし、145℃で120秒間硬化した。
【０１４０】
【表１１】
【０１４１】本発明の実施例１に記載したような水ベー
スの配合物から調製した、インク受容性の第一の層を第
二の上にコーティングし、次いで145℃で120秒間硬化し
た。
【０１４２】イメージング、洗浄、及び解像度と湿式摩
擦抵抗についての試験を、本発明の実施例１において記
載したようにして行った。プレートは、PresstekのPEAR
LSETTER 74を用いてイメージングし、プレート表面にお
けるレーザエネルギーは約600 mj/cm2であった。
【０１４３】結果を以下に概括する。
【０１４４】
【表１２】
【０１４５】プレート６Ａの融除−吸収性の第二の層
は、この第二の層中に存在しているポリマーの合計重量
をベースとして、16.7重量％のp-トルエンスルホン酸成
分を含有する。プレート６Ｂについては、第二の層中に
あるポリマーの合計重量をベースとして、p-トルエンス
ルホン酸成分の重量割合は76.6重量％であった。本発明
のプレートの融除−吸収性の第二の層中にある大量のp-
トルエンスルホン酸成分が、可撓性のある親水性ポリエ
ステルフィルム支持体と相俟って、洗浄の容易性を大幅
に改善し、良好な解像度を与え、及びダイオードバンデ
ィングを排除することが看取される。対照的に、p-トル
エンスルホン酸成分の量が少ないと、レーザイメージン
グ後に洗浄が良好に行えず、従って洗浄と湿式摩擦抵抗
試験の後に、バンディングと解像度の評価が行えなかっ
た。
【０１４６】以上においては本発明をその特定の実施形
態を参照して詳細に説明してきたが、当該技術分野にお
ける当業者には、本発明の思想及び範囲から逸脱するこ
となしに、種々の変更及び修正が可能であることが明ら
かである。 ［図面の簡単な説明］
【図１】インク受容性表面層、融除−吸収性の第二の
層、親水性の第三の層、及び支持基体を有する、本発明
のリソグラフプレートの拡大断面図である。
【図２】図２Ａ及び図２Ｂは図１のリソグラフプレート
の拡大断面図を、（A）イメージング後、及び（B）洗浄
後について示すものである。
【図３】インク受容性表面層、融除−吸収性の第二の
層、及び親水性の支持基体を有する、本発明によるリソ
グラフプレートの代替的な実施形態の拡大断面図であ
る。
【図４】融除−吸収性のインク受容性表面層、親水性ポ
リマーの第二の層、及び支持基体を有する、本発明のリ
ソグラフプレートの代替的な実施形態の拡大断面図であ
る。
【図５】融除−吸収性のインク受容性表面層、及び親水
性の支持基体を有する、本発明のリソグラフプレートの
代替的な実施形態の拡大断面図である。
【符号の説明】
100 表面層 102, 130 融除−吸収性の第二の層 104 親水性の第三の層 106 支持基体 108 残存屑 210 支持基体 215 親水性ポリマー層 220, 320 融除−吸収性、インク受容性表面層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−186750（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−3164（ＪＰ，Ａ) 米国特許5691063（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41N 1/14 B41C 1/055 G03F 7/00 G03F 7/004 G03F 7/11

Claims (38)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 レーザ放射線でイメージング可能なポジ
    ティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴
    付けられるインク受容性の表面層と、 （b）表面層の下側にある第二の層であって、一つ又は
    より多くのポリマーからなり前記レーザ放射線の融除的
    吸収により特徴付けられる第二の層と、及び （c）親水性基体とからなり、 前記第二の層と前記基体の間に接着促進剤を含むプライ
    マー層が介在されており、このプライマー層が、親水性
    であること、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如、前
    記第二の層の融除的吸収により融除されないこと、及び
    水に可溶でないことによって特徴付けられることからな
    る部材。
  2. 【請求項２】 前記プライマー層がさらに、前記第二の
    層の前記融除的吸収と、その後前記プライマー層の表面
    から前記第二の層の前記融除的吸収の残存物を除去する
    ための水又は洗浄溶液による洗浄工程によって除去され
    ないことによって特徴付けられる、請求項１の部材。
  3. 【請求項３】 前記プライマー層の厚みが約0.01から約
    ２マイクロメートルである、請求項１の部材。
  4. 【請求項４】 前記プライマー層の厚みが約0.01から約
    0.1マイクロメートルである、請求項１の部材。
  5. 【請求項５】 レーザ放射線でイメージング可能なポジ
    ティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴
    付けられるインク受容性の表面層と、 （b）表面層の下側にある第二の層であって、一つ又は
    より多くのポリマーからなり前記レーザ放射線の融除的
    吸収により特徴付けられる第二の層と、及び （c）親水性基体とからなり、 前記第二の層と前記基体の間にジルコニウム化合物を含
    むプライマー層が介在されており、このプライマー層
    が、親水性であること、前記レーザ放射線の融除的吸収
    の欠如、前記第二の層の融除的吸収により融除されない
    こと、及び水に可溶でないことによって特徴付けられる
    ことからなる部材。
  6. 【請求項６】 前記ジルコニウム化合物がアンモニウム
    ジルコニルカーボネートである、請求項５の部材。
  7. 【請求項７】 前記ジルコニウム化合物がプロピオン酸
    ジルコニウムである、請求項５の部材。
  8. 【請求項８】 前記ジルコニウム化合物が酸化ジルコニ
    ウムである、請求項５の部材。
  9. 【請求項９】 レーザ放射線でイメージング可能なポジ
    ティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴
    付けられるインク受容性の表面層と、 （b）表面層の下側にある第二の層であって、一つ又は
    より多くのポリマーからなり前記レーザ放射線の融除的
    吸収により特徴付けられる第二の層と、及び （c）親水性基体とからなり、 前記第二の層と前記基体の間にプライマー層が介在され
    ており、このプライマー層が無機ゲル層であり、親水性
    であること、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如、前
    記第二の層の融除的吸収により融除されないこと、及び
    水に可溶でないことによって特徴付けられることからな
    る部材。
  10. 【請求項１０】 前記無機ゲル層が酸化ジルコニウムゲ
    ルからなる、請求項９の部材。
  11. 【請求項１１】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴
    付けられるインク受容性の表面層と、 （b）表面層の下側にある第二の層であって、一つ又は
    より多くのポリマーからなり前記レーザ放射線の融除的
    吸収により特徴付けられる第二の層と、 （c）第二の層の下側にある親水性の第三の層であっ
    て、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴
    付けられる第三の層と、及び （c）基体とからなり、 前記第二の層と前記第三の層の間に接着促進剤を含むプ
    ライマー層が介在されており、このプライマー層が、親
    水性であること、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠
    如、前記第二の層の融除的吸収により融除されないこ
    と、及び水に可溶でないことによって特徴付けられるこ
    とからなる部材。
  12. 【請求項１２】 前記プライマー層がさらに、前記第二
    の層の前記融除的吸収と、その後前記プライマー層の表
    面から前記第二の層の前記融除的吸収の残存物を除去す
    るための水又は洗浄溶液による洗浄工程によって除去さ
    れないことによって特徴付けられる、請求項11の部材。
  13. 【請求項１３】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴
    付けられるインク受容性の表面層と、 （b）表面層の下側にある第二の層であって、一つ又は
    より多くのポリマーからなり前記レーザ放射線の融除的
    吸収により特徴付けられる第二の層と、 （c）第二の層の下側にある親水性の第三の層であっ
    て、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴
    付けられる第三の層と、及び （c）基体とからなり、 前記第二の層と前記第三の層の間にジルコニウム化合物
    を含むプライマー層が介在されており、このプライマー
    層が、親水性であること、前記レーザ放射線の融除的吸
    収の欠如、前記第二の層の融除的吸収により融除されな
    いこと、及び水に可溶でないことによって特徴付けられ
    ることからなる部材。
  14. 【請求項１４】 前記ジルコニウム化合物がアンモニウ
    ムジルコニルカーボネートである、請求項13の部材。
  15. 【請求項１５】 前記ジルコニウム化合物がピロピオン
    酸ジルコニウムである、請求項13の部材。
  16. 【請求項１６】 前記ジルコニウム化合物が酸化ジルコ
    ニウムである、請求項13の部材。
  17. 【請求項１７】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如により特徴
    付けられるインク受容性の表面層と、 （b）表面層の下側にある第二の層であって、一つ又は
    より多くのポリマーからなり前記レーザ放射線の融除的
    吸収により特徴付けられる第二の層と、 （c）第二の層の下側にある親水性の第三の層であっ
    て、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴
    付けられる第三の層と、及び （c）基体とからなり、 前記第二の層と前記第三の層の間にプライマー層が介在
    されており、このプライマー層が無機ゲル層であり、親
    水性であること、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠
    如、前記第二の層の融除的吸収により融除されないこ
    と、及び水に可溶でないことによって特徴付けられるこ
    とからなる部材。
  18. 【請求項１８】 前記無機ゲル層が酸化ジルコニウムゲ
    ルからなる、請求項17の部材。
  19. 【請求項１９】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）一つ又はより多くのポリマーからなり前記レーザ
    放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容性
    の表面層と、及び （b）親水性基体とからなり、 前記表面層と前記基体の間に接着促進剤を含むプライマ
    ー層が介在されており、このプライマー層が、親水性で
    あること、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如、前記
    表面層の融除的吸収により融除されないこと、及び水に
    可溶でないことによって特徴付けられることからなる部
    材。
  20. 【請求項２０】 前記プライマー層がさらに、前記表面
    層の前記融除的吸収と、その後前記プライマー層の表面
    から前記表面層の前記融除的吸収の残存物を除去するた
    めの水又は洗浄溶液による洗浄工程によって除去されな
    いことによって特徴付けられる、請求項19の部材。
  21. 【請求項２１】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）一つ又はより多くのポリマーからなり前記レーザ
    放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容性
    の表面層と、及び （b）親水性基体とからなり、 前記表面層と前記基体の間にジルコニウム化合物を含む
    プライマー層が介在されており、このプライマー層が、
    親水性であること、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠
    如、前記表面層の融除的吸収により融除されないこと、
    及び水に可溶でないことによって特徴付けられることか
    らなる部材。
  22. 【請求項２２】 前記ジルコニウム化合物がアンモニウ
    ムジルコニルカーボネートである、請求項21の部材。
  23. 【請求項２３】 前記ジルコニウム化合物がプロピオン
    酸ジルコニウムである、請求項21の部材。
  24. 【請求項２４】 前記ジルコニウム化合物が酸化ジルコ
    ニウムである、請求項21の部材。
  25. 【請求項２５】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）一つ又はより多くのポリマーからなり前記レーザ
    放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容性
    の表面層と、及び （b）親水性基体とからなり、 前記表面層と前記基体の間にプライマー層が介在されて
    おり、このプライマー層が無機ゲル層であり、親水性で
    あること、前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如、前記
    表面層の融除的吸収により融除されないこと、及び水に
    可溶でないことによって特徴付けられることからなる部
    材。
  26. 【請求項２６】 前記無機ゲル層が酸化ジルコニウムゲ
    ルからなる、請求項25の部材。
  27. 【請求項２７】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）一つ又はより多くのポリマーからなり前記レーザ
    放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容性
    の表面層と、 （b）表面層の下側にある親水性ポリマー層であって、
    前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴付け
    られる親水性ポリマー層と、及び （c）親水性基体とからなり、 前記表面層と前記親水性ポリマー層の間に接着促進剤を
    含むプライマー層が介在されており、このプライマー層
    が、親水性であること、前記レーザ放射線の融除的吸収
    の欠如、前記表面層の融除的吸収により融除されないこ
    と、及び水に可溶でないことによって特徴付けられるこ
    とからなる部材。
  28. 【請求項２８】 前記プライマー層がさらに、前記表面
    層の前記融除的吸収と、その後前記プライマー層の表面
    から前記表面層の前記融除的吸収の残存物を除去するた
    めの水又は洗浄溶液による洗浄工程によって除去されな
    いことによって特徴付けられる、請求項27の部材。
  29. 【請求項２９】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）一つ又はより多くのポリマーからなり前記レーザ
    放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容性
    の表面層と、 （b）表面層の下側にある親水性ポリマー層であって、
    前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴付け
    られる親水性ポリマー層と、及び （c）親水性基体とからなり、 前記表面層と前記親水性ポリマー層の間にジルコニウム
    化合物を含むプライマー層が介在されており、このプラ
    イマー層が、親水性であること、前記レーザ放射線の融
    除的吸収の欠如、前記表面層の融除的吸収により融除さ
    れないこと、及び水に可溶でないことによって特徴付け
    られることからなる部材。
  30. 【請求項３０】 前記ジルコニウム化合物がアンモニウ
    ムジルコニルカーボネートである、請求項29の部材。
  31. 【請求項３１】 前記ジルコニウム化合物がプロピオン
    酸ジルコニウムである、請求項29の部材。
  32. 【請求項３２】 前記ジルコニウム化合物が酸化ジルコ
    ニウムである、請求項29の部材。
  33. 【請求項３３】 レーザ放射線でイメージング可能なポ
    ジティブワーキング湿式リソグラフ印刷部材であって、 （a）一つ又はより多くのポリマーからなり前記レーザ
    放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容性
    の表面層と、 （b）表面層の下側にある親水性ポリマー層であって、
    前記レーザ放射線の融除的吸収の欠如によって特徴付け
    られる親水性ポリマー層と、及び （c）親水性基体とからなり、 前記表面層と前記親水性ポリマー層の間にプライマー層
    が介在されており、このプライマー層が無機ゲル層であ
    り、親水性であること、前記レーザ放射線の融除的吸収
    の欠如、前記表面層の融除的吸収により融除されないこ
    と、及び水に可溶でないことによって特徴付けられるこ
    とからなる部材。
  34. 【請求項３４】 前記無機ゲル層が酸化ジルコニウムゲ
    ルからなる、請求項33の部材。
  35. 【請求項３５】 イメージングされた湿式リソグラフ印
    刷プレートの調製方法であって、 （a）請求項１による湿式リソグラフ印刷部材を準備す
    るステップ、 （b）前記印刷部材を所望のイメージに関連するレーザ
    放射線露光に曝し、前記印刷部材の表面層の一部を融除
    し且つ前記第二の層の一部を融除して、前記表面層の非
    融除材料と前記第二の層の非融除材料からなる残存複合
    層を形成し、この残存複合層が前記印刷部材のプライマ
    ー層と接触しているステップ、及び （c）水又は洗浄溶液を用いて前記プライマー層から残
    存複合層を洗浄し、前記印刷部材のインク受容性表面層
    が水又は前記洗浄溶液に可溶でないステップからなる方
    法。
  36. 【請求項３６】 イメージングされた湿式リソグラフ印
    刷プレートの調製方法であって、 （a）請求項11による湿式リソグラフ印刷部材を準備す
    るステップ、 （b）前記印刷部材を所望のイメージに関連するレーザ
    放射線露光に曝し、前記印刷部材の表面層の一部を融除
    し且つ前記第二の層の一部を融除して、前記表面層の非
    融除材料と前記第二の層の非融除材料からなる残存複合
    層を形成し、この残存複合層が前記印刷部材のプライマ
    ー層と接触しているステップ、及び （c）水又は洗浄溶液を用いて前記プライマー層から残
    存複合層を洗浄し、前記印刷部材のインク受容性表面層
    が水又は前記洗浄溶液に可溶でないステップからなる方
    法。
  37. 【請求項３７】 イメージングされた湿式リソグラフ印
    刷プレートの調製方法であって、 （a）請求項19による湿式リソグラフ印刷部材を準備す
    るステップ、 （b）前記印刷部材を所望のイメージに関連するレーザ
    放射線露光に曝し、前記印刷部材の表面層の一部を融除
    して、前記表面層の非融除材料からなる残存複合層を形
    成し、この残存複合層が前記印刷部材のプライマー層と
    接触しているステップ、及び （c）水又は洗浄溶液を用いて前記プライマー層から残
    存複合層を洗浄し、前記印刷部材のインク受容性表面層
    が水又は前記洗浄溶液に可溶でないステップからなる方
    法。
  38. 【請求項３８】 イメージングされた湿式リソグラフ印
    刷プレートの調製方法であって、 （a）請求項19による湿式リソグラフ印刷部材を準備す
    るステップ、 （b）前記印刷部材を所望のイメージに関連するレーザ
    放射線露光に曝し、前記印刷部材の表面層の一部を融除
    して、前記表面層の非融除材料からなる残存複合層を形
    成し、この残存複合層が前記印刷部材のプライマー層と
    接触しているステップ、及び （c）水又は洗浄溶液を用いて前記プライマー層から残
    存複合層を洗浄し、前記印刷部材のインク受容性表面層
    が水又は前記洗浄溶液に可溶でないステップからなる方
    法。
JP2000573924A 1998-09-21 1999-09-21 レーザイメージング装置に用いるリソグラフ印刷プレート Expired - Fee Related JP3392404B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10122998P 1998-09-21 1998-09-21
US60/101,229 1998-09-21
PCT/US1999/021974 WO2000016988A1 (en) 1998-09-21 1999-09-21 Lithographic printing plates for use with laser imaging apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002526304A JP2002526304A (ja) 2002-08-20
JP3392404B2 true JP3392404B2 (ja) 2003-03-31

Family

ID=22283608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000573924A Expired - Fee Related JP3392404B2 (ja) 1998-09-21 1999-09-21 レーザイメージング装置に用いるリソグラフ印刷プレート

Country Status (10)

Country Link
US (3) US6182570B1 (ja)
EP (1) EP1030784B1 (ja)
JP (1) JP3392404B2 (ja)
KR (1) KR100343912B1 (ja)
CN (1) CN1205053C (ja)
AT (1) ATE254534T1 (ja)
AU (1) AU739174B2 (ja)
CA (1) CA2302249C (ja)
DE (1) DE69912921T2 (ja)
WO (1) WO2000016988A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3492616B2 (ja) 1999-09-30 2004-02-03 プレステク，インコーポレイテッド 赤外線レーザイメージング可能な平版印刷部材及びかかる印刷部材を調製し且つイメージングする方法

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69829590T2 (de) 1997-10-17 2006-02-09 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
IL122930A (en) * 1998-01-13 2000-12-06 Scitex Corp Ltd Printing and printed circuit board members and methods for producing same
US6358669B1 (en) * 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
JP3392404B2 (ja) * 1998-09-21 2003-03-31 プレステク，インコーポレイテッド レーザイメージング装置に用いるリソグラフ印刷プレート
US6413699B1 (en) * 1999-10-11 2002-07-02 Macdermid Graphic Arts, Inc. UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
US6374738B1 (en) 2000-05-03 2002-04-23 Presstek, Inc. Lithographic imaging with non-ablative wet printing members
US6378432B1 (en) 2000-05-03 2002-04-30 Presstek, Inc. Lithographic imaging with metal-based, non-ablative wet printing members
US7258956B2 (en) * 2000-07-06 2007-08-21 Cabot Corporation Printing plates comprising modified pigment products
US6715421B2 (en) 2001-03-01 2004-04-06 Presstek, Inc. Transfer imaging with metal-based receivers
CN1273291C (zh) 2001-03-01 2006-09-06 压缩技术公司 平版印刷部件和使平版印刷部件成像的方法
DE10132204A1 (de) 2001-07-03 2003-01-30 Oce Printing Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen unterschiedlicher Druckbilder auf demselben Druckträger
ATE486717T1 (de) 2001-07-03 2010-11-15 Oce Printing Systems Gmbh Verfahren und einrichtung zum erzeugen unterschiedlicher druckbilder auf demselben druckträger
US6997108B2 (en) * 2001-08-21 2006-02-14 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Plate-making type printing press, multi-color printing press and plate-making type printing method
DE10206944A1 (de) 2002-02-19 2003-09-04 Oce Printing Systems Gmbh Verfahren und Einrichtung zum Drucken, wobei die Dicke der Feuchtmittelschicht gemessen und reduziert wird
DE10206937A1 (de) 2002-02-19 2003-09-04 Oce Printing Systems Gmbh Verfahren und Einrichtung zum Drucken, wobei vor dem Auftrag eines Feuchtmittels eine benetzungsfördernde Substanz in molekularer Schichtdicke aufgetragen wird
DE10206946A1 (de) 2002-02-19 2003-09-04 Oce Printing Systems Gmbh Verfahren und Einrichtung zum Drucken, wobei eine Hydrophilisierung des Druckträgers durch freie Ionen erfolgt
US6900826B2 (en) 2002-02-19 2005-05-31 Presstek, Inc. Multiple resolution helical imaging system and method
DE10206942A1 (de) 2002-02-19 2003-09-04 Oce Printing Systems Gmbh Verfahren und Einrichtung zum Drucken, wobei zum Strukturieren gesteuerte Strahlungsventile verwendet werden
US6821583B2 (en) 2002-07-03 2004-11-23 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element for single fluid ink
US20040023160A1 (en) * 2002-07-30 2004-02-05 Kevin Ray Method of manufacturing imaging compositions
US6849372B2 (en) * 2002-07-30 2005-02-01 Kodak Polychrome Graphics Method of manufacturing imaging compositions
US7399507B2 (en) * 2003-02-03 2008-07-15 Jivan Gulabrai Bhatt Method for preparation of a lithographic printing plate and to a lithographic printing plate produced by the method
US20080299363A1 (en) * 2003-02-03 2008-12-04 Jivan Gulabrai Bhatt Method for Preparation of a Lithographic Printing Plate and to a Lithographic Printing Plate Produced by the Method
JP4400138B2 (ja) * 2003-08-08 2010-01-20 セイコーエプソン株式会社 配線パターンの形成方法
US7044053B2 (en) * 2004-03-10 2006-05-16 Creo Il. Ltd. Method and materials for improving resolution for ctp-inkjet
ATE397529T1 (de) * 2004-03-26 2008-06-15 Presstek Inc Druckglieder mit löslichkeitsübergangsschichten und verwandte verfahren
US20060150847A1 (en) * 2004-10-12 2006-07-13 Presstek, Inc. Inkjet-imageable lithographic printing members and methods of preparing and imaging them
US7749907B2 (en) * 2006-08-25 2010-07-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
KR100856494B1 (ko) * 2007-02-01 2008-09-04 삼덕이화공업 (주) 레이저가공용 실리콘 고무패드가 부착된 고무인
US8187793B2 (en) * 2007-04-23 2012-05-29 Eastman Kodak Company Ablatable elements for making flexographic printing plates
US8187794B2 (en) * 2007-04-23 2012-05-29 Eastman Kodak Company Ablatable elements for making flexographic printing plates
US8557504B2 (en) 2010-06-18 2013-10-15 Eastman Kodak Company Thermally ablatable lithographic printing plate precursors
DE102011120550B4 (de) 2011-12-05 2013-11-07 Gen-Probe Prodesse, Inc. Zusammensetzungen, Verfahren und Kits zur Detektion von Adenovirusnukleinsäuren
TWI592760B (zh) * 2014-12-30 2017-07-21 羅門哈斯電子材料韓國有限公司 與經外塗佈之光致抗蝕劑一起使用之塗層組合物

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3793033A (en) * 1972-09-05 1974-02-19 Minnesota Mining & Mfg Development-free printing plate
US3971660A (en) * 1974-04-04 1976-07-27 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate comprising hydrophilic layer of polyvinylacetate crosslinked with tetraethylorthosilicate
JPS59222842A (ja) * 1983-06-01 1984-12-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用感光性組成物
CA1321315C (en) * 1986-04-11 1993-08-17 Yoichi Mori Printing plate
JPS63133153A (ja) * 1986-11-26 1988-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
SE467252B (sv) 1990-03-16 1992-06-22 Eka Nobel Ab Foerfarande foer framstaellning av klordioxid
US5351617A (en) * 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
AU674518B2 (en) * 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5379698A (en) * 1992-07-20 1995-01-10 Presstek, Inc. Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging
US5353705A (en) * 1992-07-20 1994-10-11 Presstek, Inc. Lithographic printing members having secondary ablation layers for use with laser-discharge imaging apparatus
US5493971A (en) * 1994-04-13 1996-02-27 Presstek, Inc. Laser-imageable printing members and methods for wet lithographic printing
DE69512321T2 (de) * 1994-06-16 2000-05-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographische Druckplatten mit einer oleophilen bilderzeugenden Schicht
US5493071A (en) * 1994-11-10 1996-02-20 Berk-Tek, Inc. Communication cable for use in a plenum
US5570636A (en) * 1995-05-04 1996-11-05 Presstek, Inc. Laser-imageable lithographic printing members with dimensionally stable base supports
US5868074A (en) * 1995-05-08 1999-02-09 Flex Products, Inc. Laser imageable direct-write printing member
CA2198209A1 (en) * 1995-06-23 1997-01-09 My T. Nguyen Laser imageable lithographic printing plates
US5691063A (en) * 1996-02-29 1997-11-25 Flex Products, Inc. Laser imageable tuned optical cavity thin film and printing plate incorporating the same
US5605780A (en) * 1996-03-12 1997-02-25 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate adapted to be imaged by ablation
EP0855267B1 (en) * 1997-01-24 2002-04-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate
US5985515A (en) * 1997-03-07 1999-11-16 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6110645A (en) 1997-03-13 2000-08-29 Kodak Polychrome Graphics Llc Method of imaging lithographic printing plates with high intensity laser
US5919600A (en) * 1997-09-03 1999-07-06 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal waterless lithographic printing plate
US6251563B1 (en) * 1997-10-08 2001-06-26 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
US6182569B1 (en) * 1998-01-23 2001-02-06 Presstek, Inc. Laser-imageable printing members and methods for wet lithographic printing
JP3392404B2 (ja) * 1998-09-21 2003-03-31 プレステク，インコーポレイテッド レーザイメージング装置に用いるリソグラフ印刷プレート
US6186067B1 (en) * 1999-09-30 2001-02-13 Presstek, Inc. Infrared laser-imageable lithographic printing members and methods of preparing and imaging such printing members

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3492616B2 (ja) 1999-09-30 2004-02-03 プレステク，インコーポレイテッド 赤外線レーザイメージング可能な平版印刷部材及びかかる印刷部材を調製し且つイメージングする方法

Also Published As

Publication number Publication date
CA2302249A1 (en) 2000-03-30
EP1030784A4 (en) 2000-12-20
KR20010024664A (ko) 2001-03-26
KR100343912B1 (ko) 2002-07-20
CN1205053C (zh) 2005-06-08
EP1030784A1 (en) 2000-08-30
AU739174B2 (en) 2001-10-04
JP2002526304A (ja) 2002-08-20
DE69912921D1 (de) 2003-12-24
CN1277578A (zh) 2000-12-20
ATE254534T1 (de) 2003-12-15
AU6259299A (en) 2000-04-10
CA2302249C (en) 2003-03-18
US6598526B2 (en) 2003-07-29
WO2000016988A1 (en) 2000-03-30
EP1030784B1 (en) 2003-11-19
DE69912921T2 (de) 2004-09-02
US6182570B1 (en) 2001-02-06
US20020100384A1 (en) 2002-08-01
US6357352B1 (en) 2002-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3392404B2 (ja) レーザイメージング装置に用いるリソグラフ印刷プレート
JP3397766B2 (ja) レーザイメージング装置に用いる平版印刷プレート
JP3492616B2 (ja) 赤外線レーザイメージング可能な平版印刷部材及びかかる印刷部材を調製し且つイメージングする方法
JP2744893B2 (ja) 湿式リトグラフ印刷用のレーザー結像可能印刷部材
JP3569032B2 (ja) リソグラフ印刷版の画像形成方法
EP1011970A2 (en) Thermal lithographic printing plate
EP0816070B1 (en) A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
CA2343630C (en) Lithographic imaging with non-ablative wet printing members

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090124

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090124

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100124

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110124

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120124

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130124

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees