JP2003347198A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002154242A JP3853256B2 (ja) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | 基板ベーク装置、基板ベーク方法及び塗布膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002154242A JP3853256B2 (ja) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | 基板ベーク装置、基板ベーク方法及び塗布膜形成装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003347198A JP2003347198A (ja) | 2003-12-05 |
| JP2003347198A5 true JP2003347198A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2005-05-26 |
| JP3853256B2 JP3853256B2 (ja) | 2006-12-06 |
Family
ID=29771088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002154242A Expired - Fee Related JP3853256B2 (ja) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | 基板ベーク装置、基板ベーク方法及び塗布膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3853256B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006175411A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Seiko Epson Corp | 膜形成装置及び電気光学装置並びに電子機器 |
| JP4502921B2 (ja) * | 2005-10-04 | 2010-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理における排気装置 |
| JP2008135440A (ja) | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Toshiba Corp | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
| JP4859229B2 (ja) * | 2006-12-08 | 2012-01-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
| JP4737083B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2011-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱装置及び塗布、現像装置並びに加熱方法 |
| CN101008547B (zh) * | 2007-01-30 | 2010-04-14 | 友达光电股份有限公司 | 适用于烘烤—基板的装置 |
| JP4833140B2 (ja) * | 2007-04-05 | 2011-12-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 昇華物除去装置 |
| JP2009099671A (ja) * | 2007-10-15 | 2009-05-07 | Renesas Technology Corp | 塗布装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法 |
| JP5194209B2 (ja) * | 2007-10-18 | 2013-05-08 | 日本フェンオール株式会社 | 半導体処理ユニット及び半導体製造装置 |
| JP2009130308A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Renesas Technology Corp | 表面処理装置 |
| JP2009212295A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Tokyo Electron Ltd | 薬液の塗布固化装置及び塗布固化方法 |
| JP2009218430A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Seiko Epson Corp | 成膜方法、半導体装置の製造方法および電子機器の製造方法 |
| JP2009218429A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Seiko Epson Corp | 成膜方法、半導体装置の製造方法および電子機器の製造方法 |
| JP4897019B2 (ja) * | 2009-08-24 | 2012-03-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱処理装置 |
| JP5522144B2 (ja) * | 2011-10-25 | 2014-06-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱装置、加熱方法及び記憶媒体 |
| JP6307764B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2018-04-11 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP6811059B2 (ja) * | 2016-09-05 | 2021-01-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| CN111383944A (zh) * | 2018-12-29 | 2020-07-07 | 东京应化工业株式会社 | 基板加热装置、基板处理系统以及基板加热方法 |
| JP7261675B2 (ja) * | 2019-07-01 | 2023-04-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱処理装置及び加熱処理方法 |
| TWI724845B (zh) * | 2020-03-30 | 2021-04-11 | 群翊工業股份有限公司 | 氮氣密閉烘烤機台及基板進出烘烤裝置的方法 |
| TW202324499A (zh) * | 2021-11-05 | 2023-06-16 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 加熱處理裝置、加熱處理方法及電腦記憶媒體 |
| CN117724295A (zh) * | 2023-12-14 | 2024-03-19 | 江苏卓胜微电子股份有限公司 | 加热盘排气结构和涂胶显影设备 |
-
2002
- 2002-05-28 JP JP2002154242A patent/JP3853256B2/ja not_active Expired - Fee Related
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