JP2003273126A5 - - Google Patents
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【0114】
次に、図3を参照して、第3半導体層13の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜200aを形成し、この酸化膜200aをマスクにして、p型の不純物を第3半導体層13に導入して、第2半導体層12と第3半導体層13とにまたがる領域に、第2半導体層12の不純物濃度よりも高い3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型不純物を含む第1ゲート電極層18Aを形成する。なお、この時の、p型の不純物の注入は、注入エネルギ約700kev、注入量約3×1014cm-2、および、注入エネルギ約500kev、注入量約3×1014cm-2の2段階に分けて行なう。
次に、図3を参照して、第3半導体層13の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜200aを形成し、この酸化膜200aをマスクにして、p型の不純物を第3半導体層13に導入して、第2半導体層12と第3半導体層13とにまたがる領域に、第2半導体層12の不純物濃度よりも高い3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型不純物を含む第1ゲート電極層18Aを形成する。なお、この時の、p型の不純物の注入は、注入エネルギ約700kev、注入量約3×1014cm-2、および、注入エネルギ約500kev、注入量約3×1014cm-2の2段階に分けて行なう。
【0115】
次に、図4を参照して、酸化膜200aを除去した後、第3半導体層13の上に、n型不純物を含む厚さ0.5μm程度、不純物濃度が約3×1017cm-3程度のSiCからなる第4半導体層14をエピタキシャル成長により形成する。その後、この第4半導体層14の上に、p型不純物を含む厚さ約0.5μm程度、不純物濃度が約3×1017cm-3程度のSiCからなる第5半導体層15を形成する。
次に、図4を参照して、酸化膜200aを除去した後、第3半導体層13の上に、n型不純物を含む厚さ0.5μm程度、不純物濃度が約3×1017cm-3程度のSiCからなる第4半導体層14をエピタキシャル成長により形成する。その後、この第4半導体層14の上に、p型不純物を含む厚さ約0.5μm程度、不純物濃度が約3×1017cm-3程度のSiCからなる第5半導体層15を形成する。
【0132】
図9を参照して、Si等からなる半導体基板2上に、p型不純物を含む厚さ3μm〜4μm程度、不純物濃度が1×1016cm-3程度のSiCからなる第1半導体層21をエピタキシャル成長により形成する。その後、この第1半導体層21の上に、n型不純物を含む厚さ約0.5μm程度、不純物濃度が第1半導体層21よりも高い約3×1017cm-3程度のSiCからなる第2半導体層22をエピタキシャル成長により形成する。
図9を参照して、Si等からなる半導体基板2上に、p型不純物を含む厚さ3μm〜4μm程度、不純物濃度が1×1016cm-3程度のSiCからなる第1半導体層21をエピタキシャル成長により形成する。その後、この第1半導体層21の上に、n型不純物を含む厚さ約0.5μm程度、不純物濃度が第1半導体層21よりも高い約3×1017cm-3程度のSiCからなる第2半導体層22をエピタキシャル成長により形成する。
【0140】
次に、図15を参照して、酸化膜205bを除去した後、再び、第5半導体層25の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜206を形成し、この酸化膜206をマスクにして、第1不純物注入領域29A、第2不純物注入領域29B、第1ゲート電極層28A、および、第2ゲート電極層28Bの両側において、第5半導体層25に不純物を導入して、下面が第2半導体層22にまで延在し、第2半導体層22および前記第4半導体層24の不純物濃度よりも高い1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8を形成する。
次に、図15を参照して、酸化膜205bを除去した後、再び、第5半導体層25の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜206を形成し、この酸化膜206をマスクにして、第1不純物注入領域29A、第2不純物注入領域29B、第1ゲート電極層28A、および、第2ゲート電極層28Bの両側において、第5半導体層25に不純物を導入して、下面が第2半導体層22にまで延在し、第2半導体層22および前記第4半導体層24の不純物濃度よりも高い1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8を形成する。
【0141】
次に、図16を参照して、酸化膜206を除去した後、再び、第5半導体層25の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜207を形成し、この酸化膜207をマスクにして、ソース/ドレイン領域層6の外側の領域において、第5半導体層25に不純物を導入して、下面が第1半導体層21にまで延在し、3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型の不純物を含む不純物領域層4を形成する。その後、図示していないが、表面熱酸化・開口・Ni電極形成、絶縁層形成(OCD等)、コンタクトホール開口・Al配線・パッド形成、熱処理、オーミックコンタクト形成等の工程を経ることにより、図8に示す本実施の形態における横型接合型電界効果トランジスタ200が完成する。
次に、図16を参照して、酸化膜206を除去した後、再び、第5半導体層25の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜207を形成し、この酸化膜207をマスクにして、ソース/ドレイン領域層6の外側の領域において、第5半導体層25に不純物を導入して、下面が第1半導体層21にまで延在し、3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型の不純物を含む不純物領域層4を形成する。その後、図示していないが、表面熱酸化・開口・Ni電極形成、絶縁層形成(OCD等)、コンタクトホール開口・Al配線・パッド形成、熱処理、オーミックコンタクト形成等の工程を経ることにより、図8に示す本実施の形態における横型接合型電界効果トランジスタ200が完成する。
【0172】
第5半導体層45中のソース/ドレイン領域層6,8の間には、下面が第4半導体層44にまで延在し、上面が上記第6半導体層46にまで延在するように設けられ、第1ゲート電極層48Aとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ、同電位を有するp型の不純物を含む第2ゲート電極層48Bが設けられている。
第5半導体層45中のソース/ドレイン領域層6,8の間には、下面が第4半導体層44にまで延在し、上面が上記第6半導体層46にまで延在するように設けられ、第1ゲート電極層48Aとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ、同電位を有するp型の不純物を含む第2ゲート電極層48Bが設けられている。
【0174】
また、第1半導体層41と第1ゲート電極層48Aとに挟まれた第2半導体層42に、第1ゲート電極層48Aとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ、同電位を有するp型の第1不純物注入領域49Aが設けられ、第1ゲート電極層48Aと第2ゲート電極層48Bとに挟まれた第4半導体層44に、第1ゲート電極層48Aとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ同電位を有するp型の第2不純物注入領域49Bが設けられ、第2ゲート電極層48Bと第3ゲート電極層48Cとに挟まれた第6半導体層46に、第1ゲート電極層48Aおよび第2ゲート電極層48Bとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ同電位を有するp型の第3不純物注入領域49Cが設けられている。なお、図26においては、第1不純物注入領域49A、第2不純物注入領域49B、および、第3不純物注入領域49Cを一層設ける場合を図示しているが、総チャネル幅を広くしオン抵抗を下げつつ、かつ、ノーマリオフ型の横型接合型トランジスタを実現させる観点から、半導体層内に第1不純物注入領域49A、第2不純物注入領域49B、および、第3不純物注入領域49Cをそれぞれ複数層設けることも可能である。
また、第1半導体層41と第1ゲート電極層48Aとに挟まれた第2半導体層42に、第1ゲート電極層48Aとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ、同電位を有するp型の第1不純物注入領域49Aが設けられ、第1ゲート電極層48Aと第2ゲート電極層48Bとに挟まれた第4半導体層44に、第1ゲート電極層48Aとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ同電位を有するp型の第2不純物注入領域49Bが設けられ、第2ゲート電極層48Bと第3ゲート電極層48Cとに挟まれた第6半導体層46に、第1ゲート電極層48Aおよび第2ゲート電極層48Bとほぼ同じ不純物濃度を有し、かつ同電位を有するp型の第3不純物注入領域49Cが設けられている。なお、図26においては、第1不純物注入領域49A、第2不純物注入領域49B、および、第3不純物注入領域49Cを一層設ける場合を図示しているが、総チャネル幅を広くしオン抵抗を下げつつ、かつ、ノーマリオフ型の横型接合型トランジスタを実現させる観点から、半導体層内に第1不純物注入領域49A、第2不純物注入領域49B、および、第3不純物注入領域49Cをそれぞれ複数層設けることも可能である。
【0182】
次に、図30を参照して、酸化膜213を除去した後、第4半導体層44の上に、p型不純物を含む厚さ0.5μm〜1.0μm程度、不純物濃度が1×1017cm-3〜3×1017cm-3程度のSiCからなる第5半導体層45を形成する。その後、第5半導体層45の上に、n型不純物を含む厚さ0.5μm〜1.0μm程度、不純物濃度が1×1017cm-3〜3×1017cm-3程度のSiCからなる第6半導体層46を形成する。
次に、図30を参照して、酸化膜213を除去した後、第4半導体層44の上に、p型不純物を含む厚さ0.5μm〜1.0μm程度、不純物濃度が1×1017cm-3〜3×1017cm-3程度のSiCからなる第5半導体層45を形成する。その後、第5半導体層45の上に、n型不純物を含む厚さ0.5μm〜1.0μm程度、不純物濃度が1×1017cm-3〜3×1017cm-3程度のSiCからなる第6半導体層46を形成する。
【0186】
次に、図34を参照して、第7半導体層47の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜215を形成し、この酸化膜215をマスクにして、p型の不純物を第7半導体層47の所定領域に不純物を導入し、下面が第6半導体層46にまで延在し、第6半導体層46の不純物濃度よりも高い3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型不純物を含む第3ゲート電極層48Cを形成する。
次に、図34を参照して、第7半導体層47の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜215を形成し、この酸化膜215をマスクにして、p型の不純物を第7半導体層47の所定領域に不純物を導入し、下面が第6半導体層46にまで延在し、第6半導体層46の不純物濃度よりも高い3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型不純物を含む第3ゲート電極層48Cを形成する。
【0188】
次に、図36を参照して、酸化膜215を除去した後、再び、第7半導体層47の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜216を形成し、この酸化膜216をマスクにして、第1ゲート電極層48A、第2ゲート電極層48B、第3ゲート電極層48C、第1不純物注入領域49A、第2不純物注入領域49B、および、第3不純物注入領域49Cの両側において、第7半導体層47に不純物を導入して、下面が第2半導体層42にまで延在し、第2半導体層42および前記第4半導体層44の不純物濃度よりも高い1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8を形成する。
次に、図36を参照して、酸化膜215を除去した後、再び、第7半導体層47の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜216を形成し、この酸化膜216をマスクにして、第1ゲート電極層48A、第2ゲート電極層48B、第3ゲート電極層48C、第1不純物注入領域49A、第2不純物注入領域49B、および、第3不純物注入領域49Cの両側において、第7半導体層47に不純物を導入して、下面が第2半導体層42にまで延在し、第2半導体層42および前記第4半導体層44の不純物濃度よりも高い1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8を形成する。
【0189】
次に、図37を参照して、酸化膜216を除去した後、再び、第7半導体層47の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜217を形成し、この酸化膜217をマスクにして、ソース/ドレイン領域層6の外側の領域において、第7半導体層47に不純物を導入して、下面が第1半導体層41にまで延在し、3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型の不純物を含む不純物領域層4を形成する。その後、図示していないが、表面熱酸化・開口・Ni電極形成、絶縁層形成(OCD等)、コンタクトホール開口・Al配線・パッド形成、熱処理、オーミックコンタクト形成等の工程を経ることにより、図26に示す本実施の形態における横型接合型電界効果トランジスタ400が完成する。
次に、図37を参照して、酸化膜216を除去した後、再び、第7半導体層47の上に、所定の開口パターンを有する酸化膜217を形成し、この酸化膜217をマスクにして、ソース/ドレイン領域層6の外側の領域において、第7半導体層47に不純物を導入して、下面が第1半導体層41にまで延在し、3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度のp型の不純物を含む不純物領域層4を形成する。その後、図示していないが、表面熱酸化・開口・Ni電極形成、絶縁層形成(OCD等)、コンタクトホール開口・Al配線・パッド形成、熱処理、オーミックコンタクト形成等の工程を経ることにより、図26に示す本実施の形態における横型接合型電界効果トランジスタ400が完成する。
【0221】
2半導体層62、3半導体層63、第4半導体層64、第5半導体層65、第6半導体層66および第7半導体層67中において所定の間隔を隔てて設けられ、第3半導体層63、第5半導体層65、および、第7半導体層67の不純物濃度よりも高い濃度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8が設けられる。ソース/ドレイン領域層6,8の不純物濃度は1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度に設けられる。
2半導体層62、3半導体層63、第4半導体層64、第5半導体層65、第6半導体層66および第7半導体層67中において所定の間隔を隔てて設けられ、第3半導体層63、第5半導体層65、および、第7半導体層67の不純物濃度よりも高い濃度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8が設けられる。ソース/ドレイン領域層6,8の不純物濃度は1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度に設けられる。
【0272】
次に、図63を参照して、第2半導体層82、第3半導体層83、第4半導体層84、第5半導体層85、第6半導体層86、および、第7半導体層87中の所定領域にp型の不純物を導入することにより、第2半導体層82と第3半導体層83との間、第3半導体層84と第5半導体層85との間、第5半導体層85と第7半導体層87との間、第7半導体層87と第8半導体層88との間において、それぞれの領域をまたがるように、不純物濃度が3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度の第1ゲート電極層88A、第2ゲート電極層88B、第3ゲート電極層78C、および、第4ゲート電極層88Dを形成する。
次に、図63を参照して、第2半導体層82、第3半導体層83、第4半導体層84、第5半導体層85、第6半導体層86、および、第7半導体層87中の所定領域にp型の不純物を導入することにより、第2半導体層82と第3半導体層83との間、第3半導体層84と第5半導体層85との間、第5半導体層85と第7半導体層87との間、第7半導体層87と第8半導体層88との間において、それぞれの領域をまたがるように、不純物濃度が3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度の第1ゲート電極層88A、第2ゲート電極層88B、第3ゲート電極層78C、および、第4ゲート電極層88Dを形成する。
【0273】
次に、図64を参照して、第2半導体層82、第3半導体層83、第4半導体層84、第5半導体層85、第6半導体層86、第7半導体層87、および、第8半導体層88中の所定領域にn型の不純物を導入することにより、第2半導体層82、第3半導体層83、第4半導体層84、第5半導体層85、第6半導体層86、第7半導体層87、および、第8半導体層88が配置される方向に沿うとともに、第1ゲート電極層88A、第2ゲート電極層88B、第3ゲート電極層88C、および第4ゲート電極層88Dを挟み込み、第3半導体層83の不純物濃度よりも高い、1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8を形成する。その後、図示していないが、表面熱酸化・開口・Ni電極形成、絶縁層形成(OCD等)、コンタクトホール開口・Al配線・パッド形成、熱処理、オーミックコンタクト形成等の工程を経ることにより、図51に示す本実施の形態における横型接合型電界効果トランジスタ800が完成する。
次に、図64を参照して、第2半導体層82、第3半導体層83、第4半導体層84、第5半導体層85、第6半導体層86、第7半導体層87、および、第8半導体層88中の所定領域にn型の不純物を導入することにより、第2半導体層82、第3半導体層83、第4半導体層84、第5半導体層85、第6半導体層86、第7半導体層87、および、第8半導体層88が配置される方向に沿うとともに、第1ゲート電極層88A、第2ゲート電極層88B、第3ゲート電極層88C、および第4ゲート電極層88Dを挟み込み、第3半導体層83の不純物濃度よりも高い、1×1019cm-3〜1×1020cm-3程度のn型の不純物を含むソース/ドレイン領域層6,8を形成する。その後、図示していないが、表面熱酸化・開口・Ni電極形成、絶縁層形成(OCD等)、コンタクトホール開口・Al配線・パッド形成、熱処理、オーミックコンタクト形成等の工程を経ることにより、図51に示す本実施の形態における横型接合型電界効果トランジスタ800が完成する。
【0288】
なお、第1ゲート電極層98A、第2ゲート電極層98B、第3ゲート電極層98C、第1不純物注入領域99A、第2不純物注入領域99B、および、第3不純物注入領域99Cの不純物濃度は3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度に設けられる。
なお、第1ゲート電極層98A、第2ゲート電極層98B、第3ゲート電極層98C、第1不純物注入領域99A、第2不純物注入領域99B、および、第3不純物注入領域99Cの不純物濃度は3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度に設けられる。
【0294】
次に、図69を参照して、第2半導体層92、第3半導体層93、第4半導体層94、第5半導体層95、および、第6半導体層96の所定領域にp型の不純物を導入することにより、第2半導体層92と第3半導体層93との間、第3半導体層93と第5半導体層95との間、第5半導体層95と第6半導体層96との間において、それぞれの領域をまたがるように、不純物濃度が3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度の第1ゲート電極層98A、第2ゲート電極層98B、および、第3ゲート電極層98Cを形成する。また、同時に、第3半導体層93、および、第5半導体層95の中に、第1ゲート電極層98A、第2ゲート電極層98B、および、第3ゲート電極層98Cとほぼ同じ3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度不純物濃度を有し、かつ、同電位を有する第1不純物注入領域99A、および、第2不純物注入領域99Bを形成する。
次に、図69を参照して、第2半導体層92、第3半導体層93、第4半導体層94、第5半導体層95、および、第6半導体層96の所定領域にp型の不純物を導入することにより、第2半導体層92と第3半導体層93との間、第3半導体層93と第5半導体層95との間、第5半導体層95と第6半導体層96との間において、それぞれの領域をまたがるように、不純物濃度が3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度の第1ゲート電極層98A、第2ゲート電極層98B、および、第3ゲート電極層98Cを形成する。また、同時に、第3半導体層93、および、第5半導体層95の中に、第1ゲート電極層98A、第2ゲート電極層98B、および、第3ゲート電極層98Cとほぼ同じ3×1018cm-3〜1×1020cm-3程度不純物濃度を有し、かつ、同電位を有する第1不純物注入領域99A、および、第2不純物注入領域99Bを形成する。
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