JP2003242608A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 垂直磁界の強度を確保し、記録性能を向上さ
せることが可能な薄膜磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 主磁極１２の一部を構成する下部磁極部
分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂについて、先端
部１２Ａ１，１２Ｂ１により構成される集合体の断面積
Ｓ１が後端部１２Ａ２，１２Ｂ２により構成される集合
体の断面積Ｓ２よりも小さくなるようにすると共に（Ｓ
１＜Ｓ２）、露出面２０Ｅにおける上端縁の幅Ｗ１が下
端縁の幅Ｗ２よりも大きく（Ｗ１＞Ｗ２）、かつ、上端
縁の幅Ｗ１が上端縁と下端縁との間の中間位置における
露出面２０Ｅの幅以上なるようにする。記録動作時にお
いて、主磁極１２内を流れる磁束がエアベアリング面２
０へ向かって集束すると共に、主要な磁束の放出部分と
なる先端部１２Ｂ１に集中するため、エアベアリング面
２０まで十分な磁束が供給される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも書き込
み用の誘導型磁気変換素子を有する薄膜磁気ヘッドおよ
びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハードディスク装置の面記録密度
の向上に伴い、薄膜磁気ヘッドの性能向上が求められて
いる。ハードディスク装置に適用される磁気記録方式と
しては、例えば、信号磁界の向きを記録媒体の面内方向
（長手方向）とする長手記録方式と、信号磁界の向きを
記録媒体の面に対して垂直な方向とする垂直記録方式と
が知られている。現在のところ長手記録方式が広く利用
されているが、今後は長手記録方式に代わり垂直記録方
式が有望視されている。垂直記録方式では、例えば、情
報を記録済みの記録媒体が熱揺らぎの影響を受けにく
く、かつ高い線記録密度を実現可能であるという利点が
得られるからである。

【０００３】垂直記録方式を利用した記録態様として
は、例えば、一端側においてギャップを介して互いに対
向すると共に他端側において互いに磁気的に連結された
２つの磁性層よりなるリングヘッドを用いて、単層構成
の記録媒体に記録する態様や、単層構成のヘッド（単磁
極ヘッド）を用いて、２層構成の記録媒体に記録する態
様などが提案されている。これらのうち、単層構成のヘ
ッドおよび２層構成の記録媒体を用いる態様は、例え
ば、熱揺らぎに対する耐性が顕著に優れているため、薄
膜磁気ヘッドの性能向上を満たし得るものとして注目さ
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、垂直記録方
式を利用した単層構成の薄膜磁気ヘッドの記録性能を向
上させるためには、ヘッド（主磁極）から必要十分な磁
束を放出し、可能な限り大きな垂直磁界の強度を増加さ
せる必要がある。垂直磁界の強度を増加させるための手
法としては、例えば、記録媒体に対向する記録媒体対向
面（エアベアリング面）に平行な断面積がエアベアリン
グ面に近づくにしたがって小さくなるように主磁極を構
成する手法が挙げられる。この手法に関する具体例は、
例えば、佐藤等により出願された明細書（出願番号：特
願２０００−３４３２４５）中に記載されている。この
明細書中に記載された主磁極は、エアベアリング面に近
づくにしたがって幅が狭められた構成をなしている。こ
の主磁極によれば、その断面積の減少に応じて、主磁極
内を流れる磁束が徐々に絞り込まれるため、主磁極の先
端部まで磁束が到達する。

【０００５】また、例えば、日経エレクトロニクスＮ
ｏ．７８９（２００１年２月１２日号）の６７頁には、
磁極の下方部を部分的に削除した構造が紹介されてい
る。

【０００６】しかしながら、垂直記録方式を利用した従
来の薄膜磁気ヘッドでは、主磁極の構成に関する種々の
検討がなされているにもかかわらず、今後益々急増する
ことが予想される面記録密度の推移を考慮すると、垂直
磁界の強度は未だ十分なものではなかった。垂直記録方
式の実用性および将来性を証明し、この方式を利用した
大容量のハードディスク装置の普及を図るためには、可
能な限り大きな垂直磁界の強度を確保することが急務で
ある。

【０００７】なお、上記した日経エレクトロニクスに紹
介された磁極構造は、垂直磁界の強度を確保する上で有
用であると想定される。しかしながら、磁極構造を具現
化する上で重要となる具体的な製造方法が明らかにされ
ていないため、その磁極構造が実際に製造可能であり、
かつ実用性のあるものであるか否かは定かでない。

【０００８】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その第１の目的は、垂直磁界の強度を確保し、記
録性能を向上させることが可能な薄膜磁気ヘッドを提供
することにある。

【０００９】また、本発明の第２の目的は、既存の製造
技術を利用して本発明の薄膜磁気ヘッドを容易に製造可
能な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の観点に係
る薄膜磁気ヘッドは、所定の進行方向に移動する記録媒
体を備えた磁気記録再生装置に用いられ、記録媒体に対
向する記録媒体対向面およびその近傍において互いに対
向する磁極部分を有すると共に記録媒体対向面から離れ
た位置において互いに磁気的に連結された第１および第
２の磁性層と、互いに対向する磁極部分の間に配設され
たギャップ層と、第１および第２の磁性層の間にこれら
の第１および第２の磁性層から絶縁された状態で配設さ
れた薄膜コイルとを備えたものであり、第２の磁性層
が、記録媒体対向面に露出した露出面を有すると共に記
録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定部分
を含み、露出面が、進行方向における媒体流出側に位置
する第１の端縁と、進行方向における媒体流入側に位置
する第２の端縁とを有し、第１の端縁の幅が第２の端縁
の幅よりも大きく、かつ、第１の端縁の幅が第１および
第２の端縁の間の任意の中間位置における露出面の幅以
上であるようにしたものである。

【００１１】ここで、「媒体流出側」とは、記録媒体の
進行を１つの流れと見た場合に、その流れの流出する側
をいい、「媒体流入側」とは、その流れの流入する側を
いう。

【００１２】本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッド
では、第１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも大きく、
かつ、第１の端縁の幅が第１および第２の端縁の間の任
意の中間位置における露出面の幅以上であるため、トラ
ック幅規定部分へ流入した磁束は、ギャップ層近傍にお
いて、トラック幅規定層部分のうちの媒体流出側へ集中
する。

【００１３】本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッド
は、所定の進行方向に移動する記録媒体を備えた磁気記
録再生装置に用いられ、記録媒体に対向する記録媒体対
向面およびその近傍において互いに対向する磁極部分を
有すると共に記録媒体対向面から離れた位置において互
いに磁気的に連結された第１および第２の磁性層と、互
いに対向する磁極部分の間に配設されたギャップ層と、
第１および第２の磁性層の間にこれらの第１および第２
の磁性層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルと
を備えたものであり、第２の磁性層が、記録媒体対向面
に露出した露出面を有すると共に記録媒体の記録トラッ
ク幅を規定するトラック幅規定部分を含み、トラック幅
規定部分が、記録媒体対向面から離れた所定の位置から
記録媒体対向面より離れる方向に延在する第１の磁性膜
と、膜厚に対応する一端面が露出面をなす第２の磁性膜
とを、進行方向における媒体流入側から順に積層してな
る積層構造体を含むようにしたものである。

【００１４】本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッド
では、第２の磁性膜の膜厚に対応するすべての部分が記
録媒体対向面に露出しているのに対して、第１の磁性膜
が記録媒体対向面に露出していないため、トラック幅規
定部分に流入した磁束は、ギャップ層近傍において第２
の磁性膜へ集中する。

【００１５】本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、所定の進行方向に移動する記録媒体を備
えた磁気記録再生装置に用いられ、記録媒体に対向する
記録媒体対向面およびその近傍において互いに対向する
磁極部分を有すると共に記録媒体対向面から離れた位置
において互いに磁気的に連結された第１および第２の磁
性層と、互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャ
ップ層と、第１および第２の磁性層の間にこれらの第１
および第２の磁性層から絶縁された状態で配設された薄
膜コイルとを備えた薄膜磁気ヘッドを製造する方法であ
り、記録媒体対向面に露出した露出面を有すると共に記
録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定部分
を含むこととなるように、第２の磁性層を形成する工程
を含み、露出面が、進行方向における媒体流出側に位置
する第１の端縁と、進行方向における媒体流入側に位置
する第２の端縁とを有し、第１の端縁の幅が第２の端縁
の幅よりも大きく、かつ、第１の端縁の幅が第１および
第２の端縁の間の任意の中間位置における露出面の幅以
上となるようにしたものである。

【００１６】本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、記録媒体対向面に露出した露出面を有
すると共に記録媒体の記録トラック幅を規定するトラッ
ク幅規定部分を含むこととなるように第２の磁性層が形
成される。このとき、トラック幅規定部分は、その露出
面が、進行方向における媒体流出側に位置する第１の端
縁と、進行方向における媒体流入側に位置する第２の端
縁とを有し、第１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも大
きく、かつ、第１の端縁の幅が第１および第２の端縁の
間の任意の中間位置における露出面の幅以上となるよう
に形成される。

【００１７】本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、所定の進行方向に移動する記録媒体を備
えた磁気記録再生装置に用いられ、記録媒体に対向する
記録媒体対向面およびその近傍において互いに対向する
磁極部分を有すると共に記録媒体対向面から離れた位置
において互いに磁気的に連結された第１および第２の磁
性層と、互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャ
ップ層と、第１および第２の磁性層の間にこれらの第１
および第２の磁性層から絶縁された状態で配設された薄
膜コイルとを備えた薄膜磁気ヘッドを製造する方法であ
り、ギャップ層上に２つの前駆磁性膜を順次積層する工
程と、これらの２つの前駆磁性膜を加工して記録媒体対
向面を形成することにより、記録媒体対向面に露出した
第１の露出面を有する第１の磁性膜と、記録媒体対向面
に露出した第２の露出面を有する第２の磁性膜とがこの
順に積層された積層構造をなすように、第２の磁性層を
形成する工程とを含み、第２の露出面が、進行方向にお
ける媒体流出側に位置する第１の端縁を有すると共に、
第１の露出面が、進行方向における媒体流入側に位置す
る第２の端縁を有し、第１の端縁の幅が第２の端縁の幅
よりも大きく、かつ、第１の端縁の幅が第１および第２
の端縁の間の任意の中間位置における露出面の幅以上で
あるようにしたものである。

【００１８】本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、ギャップ層上に２つの前駆磁性膜が順
次積層されたのち、これらの２つの前駆磁性膜が加工さ
れて記録媒体対向面が形成されることにより、記録媒体
対向面に露出した第１の露出面を有する第１の磁性膜
と、記録媒体対向面に露出した第２の露出面を有する第
２の磁性膜とがこの順に積層された積層構造をなすよう
に、第２の磁性層が形成される。このとき、第２の磁性
層は、第２の露出面が進行方向における媒体流出側に位
置する第１の端縁を有すると共に、第１の露出面が進行
方向における媒体流入側に位置する第２の端縁を有し、
第１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも大きく、かつ、
第１の端縁の幅が第１および第２の端縁の間の任意の中
間位置における露出面の幅以上となるように形成され
る。

【００１９】本発明の第３の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、所定の進行方向に移動する記録媒体を備
えた磁気記録再生装置に用いられ、記録媒体に対向する
記録媒体対向面およびその近傍において互いに対向する
磁極部分を有すると共に記録媒体対向面から離れた位置
において互いに磁気的に連結された第１および第２の磁
性層と、互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャ
ップ層と、第１および第２の磁性層の間にこれらの第１
および第２の磁性層から絶縁された状態で配設された薄
膜コイルとを備え、第２の磁性層が、記録媒体対向面に
露出した露出面を有すると共に記録媒体の記録トラック
幅を規定するトラック幅規定部分を含む薄膜磁気ヘッド
を製造する方法であり、ギャップ層上に、第２の磁性層
の前準備層としての第１の前駆磁性層パターンを形成す
る工程と、この第１の前駆磁性層パターン上に非磁性層
パターンを形成する工程と、この非磁性層パターンをマ
スクとして用いて、第１の前駆磁性層パターンの延在面
に対して直交する方向から４５°以上の角度をなすよう
な方向からイオンビームを照射しながら第１の前駆磁性
層パターンを選択的にドライエッチングすることによ
り、第２の前駆磁性層パターンを形成する工程と、この
第２の前駆磁性層パターンを加工して記録媒体対向面を
形成することにより、トラック幅規定部分が露出面を構
成することとなるように、第２の磁性層を形成する工程
とを含み、トラック幅規定部分の露出面が、進行方向に
おける媒体流出側に位置する第１の端縁と、進行方向に
おける媒体流入側に位置する第２の端縁とを有し、第１
の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも大きく、かつ、第１
の端縁の幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間位
置における露出面の幅以上となるようにしたものであ
る。

【００２０】本発明の第３の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、まず、ギャップ層上に、第２の磁性層
の前準備層としての第１の前駆磁性層パターンが形成さ
れる。続いて、第１の前駆磁性層パターン上に、非磁性
層パターンが形成される。続いて、非磁性層パターンを
マスクとして用いて、第１の前駆磁性層パターンの延在
面に対して直交する方向から４５°以上の角度をなすよ
うな方向からイオンビームを照射しながら第１の前駆磁
性層パターンが選択的にドライエッチングされることに
より、第２の前駆磁性層パターンが形成される。最後
に、第２の前駆磁性層パターンが加工されて記録媒体対
向面が形成されることにより、トラック幅規定部分が露
出面を構成することとなるように、第２の磁性層が形成
される。このとき、トラック幅規定部分は、その露出面
が、進行方向における媒体流出側に位置する第１の端縁
と、進行方向における媒体流入側に位置する第２の端縁
とを有し、第１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも大き
く、かつ、第１の端縁の幅が第１および第２の端縁の間
の任意の中間位置における露出面の幅以上となるように
形成される。

【００２１】本発明の第４の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、所定の進行方向に移動する記録媒体を備
えた磁気記録再生装置に用いられ、記録媒体に対向する
記録媒体対向面およびその近傍において互いに対向する
磁極部分を有すると共に記録媒体対向面から離れた位置
において互いに磁気的に連結された第１および第２の磁
性層と、互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャ
ップ層と、第１および第２の磁性層の間にこれらの第１
および第２の磁性層から絶縁された状態で配設された薄
膜コイルとを備え、第２の磁性層が、記録媒体対向面に
露出した露出面を有すると共に記録媒体の記録トラック
幅を規定するトラック幅規定部分を含む薄膜磁気ヘッド
を製造する方法であり、ギャップ層上に、第２の磁性層
の前準備層としての第１の前駆磁性層パターンを形成す
る工程と、この第１の前駆磁性層パターンのうち、ギャ
ップ層から遠い側の部分の周囲を覆うように、所定の非
磁性材料を用いて被覆層を形成する工程と、この被覆層
をマスクとして用いて、第１の前駆磁性層パターンの延
在面に対して直交する方向から所定の角度をなすような
方向からイオンビームを照射しながら第１の前駆磁性層
パターンを選択的にドライエッチングすることにより、
第２の前駆磁性層パターンを形成する工程と、この第２
の前駆磁性層パターンを加工して記録媒体対向面を形成
することにより、トラック幅規定部分が露出面を構成す
ることとなるように、第２の磁性層を形成する工程とを
含み、トラック幅規定部分の露出面が、進行方向におけ
る媒体流出側に位置する第１の端縁と、進行方向におけ
る媒体流入側に位置する第２の端縁とを有し、第１の端
縁の幅が第２の端縁の幅よりも大きく、かつ、第１の端
縁の幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間位置に
おける露出面の幅以上となるようにしたものである。

【００２２】本発明における第４の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、まず、ギャップ層上に、第２の
磁性層の前準備層としての第１の前駆磁性層パターンが
形成される。続いて、第１の前駆磁性層パターンのう
ち、ギャップ層から遠い側の部分の周囲を覆うように、
所定の非磁性材料を用いて被覆層が形成される。続い
て、被覆層をマスクとして用いて、第１の前駆磁性層パ
ターンの延在面に対して直交する方向から所定の角度を
なすような方向からイオンビームを照射しながら第１の
前駆磁性層パターンが選択的にドライエッチングされる
ことにより、第２の前駆磁性層パターンが形成される。
続いて、第２の前駆磁性層パターンが加工されて記録媒
体対向面が形成されることにより、トラック幅規定部分
が露出面を構成することとなるように、第２の磁性層が
形成される。このとき、トラック幅規定部分は、その露
出面が、進行方向における媒体流出側に位置する第１の
端縁と、進行方向における媒体流入側に位置する第２の
端縁とを有し、第１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも
大きく、かつ、第１の端縁の幅が第１および第２の端縁
の間の任意の中間位置における露出面の幅以上となるよ
うに形成される。

【００２３】本発明の第５の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、所定の進行方向に移動する記録媒体を備
えた磁気記録再生装置に用いられ、記録媒体に対向する
記録媒体対向面およびその近傍において互いに対向する
磁極部分を有すると共に記録媒体対向面から離れた位置
において互いに磁気的に連結された第１および第２の磁
性層と、互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャ
ップ層と、第１および第２の磁性層の間にこれらの第１
および第２の磁性層から絶縁された状態で配設された薄
膜コイルとを備え、第２の磁性層が、記録媒体対向面に
露出した露出面を有すると共に記録媒体の記録トラック
幅を規定するトラック幅規定部分を含む薄膜磁気ヘッド
を製造する方法であり、ギャップ層上に、第２の磁性層
の前準備層としての第１の前駆磁性層パターンを形成す
る工程と、この第１の前駆磁性層パターンのうち、ギャ
ップ層から遠い側の部分の周囲を覆うように、所定の非
磁性材料を用いて被覆層を形成する工程と、この被覆層
をマスクとして、所定のエッチャントを用いたウェット
エッチングにより、第１の前駆磁性層パターンにおける
ギャップ層に近い側の部分を選択的にエッチングするこ
とにより、第２の前駆磁性層パターンを形成する工程
と、この第２の前駆磁性層パターンを加工して記録媒体
対向面を形成することにより、トラック幅規定部分が露
出面を構成することとなるように、第２の磁性層を形成
する工程とを含み、トラック幅規定部分の露出面が、進
行方向における媒体流出側に位置する第１の端縁と、進
行方向における媒体流入側に位置する第２の端縁とを有
し、第１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも大きく、か
つ、第１の端縁の幅が第１および第２の端縁の間の任意
の中間位置における露出面の幅以上となるようにしたも
のである。

【００２４】本発明の第５の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、まず、ギャップ層上に、第２の磁性層
の前準備層としての第１の前駆磁性層パターンが形成さ
れる。続いて、第１の前駆磁性層パターンのうち、ギャ
ップ層から遠い側の部分の周囲を覆うように、所定の非
磁性材料を用いて被覆層が形成される。続いて、被覆層
をマスクとして、所定のエッチャントを用いたウェット
エッチングにより、第１の前駆磁性層パターンにおける
ギャップ層に近い側の部分が選択的にエッチングされる
ことにより、第２の前駆磁性層パターンが形成される。
最後に、第２の前駆磁性層パターンが加工されて記録媒
体対向面が形成されることにより、トラック幅規定部分
が露出面を構成することとなるように、第２の磁性層が
形成される。このとき、トラック幅規定部分は、その露
出面が、進行方向における媒体流出側に位置する第１の
端縁と、進行方向における媒体流入側に位置する第２の
端縁とを有し、第１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも
大きく、かつ、第１の端縁の幅が第１および第２の端縁
の間の任意の中間位置における露出面の幅以上となるよ
うに形成される。

【００２５】本発明の第３の観点に係る薄膜磁気ヘッド
は、記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
において互いに対向する磁極部分を有すると共に記録媒
体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連結さ
れた第１および第２の磁性層と、互いに対向する磁極部
分の間に配設されたギャップ層と、第１および第２の磁
性層の間にこれらの第１および第２の磁性層から絶縁さ
れた状態で配設された薄膜コイルとを備えたものであ
り、第２の磁性層が、記録媒体対向面に露出した露出面
を有すると共に記録媒体対向面からこれより離れた所定
の連結位置まで延在するように配設され、記録媒体の記
録トラック幅を規定する第１の磁性層部分と、連結位置
において第１の磁性層部分に磁気的に連結され、記録媒
体対向面から離れる方向に延在する第２の磁性層部分と
からなる連結構造体を含み、第１の磁性層部分の露出面
が、ギャップ層から離れた側に位置する第１の端縁と、
ギャップ層に近い側に位置する第２の端縁とを有し、第
１の端縁の幅が第２の端縁の幅よりも大きく、かつ、第
１の端縁の幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間
位置における露出面の幅以上であるようにしたものであ
る。

【００２６】本発明の第４の観点に係る薄膜磁気ヘッド
は、記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
において互いに対向する磁極部分を有すると共に記録媒
体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連結さ
れた第１および第２の磁性層と、互いに対向する磁極部
分の間に配設されたギャップ層と、第１および第２の磁
性層の間にこれらの第１および第２の磁性層から絶縁さ
れた状態で配設された薄膜コイルとを備えたものであ
り、第２の磁性層が、記録媒体対向面に露出した露出面
を有すると共に記録媒体対向面からこれより離れた所定
の連結位置まで延在するように配設され、記録媒体の記
録トラック幅を規定する第１の磁性層部分と、連結位置
において第１の磁性層部分に磁気的に連結され、記録媒
体対向面から離れる方向に延在する第２の磁性層部分と
からなる連結構造体を含み、第１の磁性層部分の露出面
が、ギャップ層から離れた側に位置する第１の端縁と、
ギャップ層に近い側に位置する第２の端縁とを有し、第
２の端縁の幅が第１の端縁の幅よりも大きく、かつ、第
１の端縁の幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間
位置における露出面の幅以上であるようにしたものであ
る。

【００２７】本発明の第３または第４の観点に係る薄膜
磁気ヘッドでは、第１の磁性層部分へ流入した磁束は、
ギャップ層近傍において、ギャップ層から離れた側の端
縁またはギャップ層に近い側の端縁のうち、より幅が広
い端縁側へ集中する。

【００２８】本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッド
では、トラック幅規定部分が、記録媒体対向面に平行な
断面の面積が記録媒体対向面からの距離によらず一定で
ある部分を有するしてもよい。

【００２９】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、トラック幅規定部分が、記録媒体対向面に
平行な断面の面積が記録媒体対向面に近づくにしたがっ
て小さくなる部分を有するようにしてもよい。この場合
には、トラック幅規定部分における記録媒体対向面に平
行な断面が、媒体流出側に位置する第１の断面端縁と、
媒体流入側に位置する第２の断面端縁とを有し、第１の
断面端縁の幅が第２の断面端縁の幅よりも大きく、か
つ、第１の断面端縁の幅が第１および第２の断面端縁の
間の任意の中間位置における断面の幅以上であり、第１
の断面端縁の幅またはその両端の角度の少なくとも一方
が、記録媒体対向面に近づくにしたがって小さくなり、
かつ、第１の断面端縁を底辺とする高さが、記録媒体対
向面からの距離によらず一定であるようにしてもよい
し、あるいは、第１の断面端縁の幅が、記録媒体対向面
からの距離によらず一定であり、かつ、第２の断面端縁
の幅が、記録媒体対向面に近づくにしたがって小さくな
っているようにしてもよい。後者の場合には、特に、ト
ラック幅規定部分における記録媒体対向面に平行な断面
の形状が、記録媒体対向面に近づくにしたがって、矩形
から台形を経て三角形に変化し、露出面が三角形状をな
しており、第１の断面端縁を底辺とする高さが、トラッ
ク幅規定部分における記録媒体対向面に平行な断面が三
角形状をなす区間において、記録媒体対向面に近づくに
したがって媒体流出側に小さくなっているようにしても
よいし、あるいは、矩形から、矩形と台形とが組み合わ
されてなる六角形を経て、矩形と三角形とが組み合わさ
れてなる五角形に変化し、露出面が三角形状をなしてお
り、第１の断面端縁を底辺とする高さが、トラック幅規
定部分における記録媒体対向面に平行な断面が、矩形と
三角形とが組み合わされてなる五角形状をなす区間にお
いて、記録媒体対向面に近づくにしたがって媒体流出側
に小さくなっているようにしてもよい。

【００３０】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、露出面が、媒体流入側の第１の領域と、媒
体流出側の第２の領域とを含み、第１の領域の幅が、第
２の端縁に近づくにしたがって小さくなり、かつ、第２
の領域の幅が、第２の端縁からの距離によらず一定であ
るようにしてもよい。

【００３１】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、露出面が、媒体流入側の第１の領域と、媒
体流出側の第２の領域とを含み、第１の領域の幅および
第２の領域の幅が、それぞれ、第２の端縁からの距離に
よらず一定であるようにしてもよい。

【００３２】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、露出面が、媒体流入側の第１の領域と、媒
体流出側の第２の領域とを含み、第１の領域の幅および
第２の領域の幅が、それぞれ、第２の端縁に近づくにし
たがって小さくなり、かつ、第１の領域と第２の領域と
の境界部における幅寸法が不連続となっているようにし
てもよい。この場合には、露出面における第２の領域の
側端縁と第１の端縁との間の角度が、７０度以上、かつ
９０度よりも小さいのが好ましい。

【００３３】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、露出面の幅が、第２の端縁に近づくにした
がって小さくなるようにしてもよい。

【００３４】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、露出面が、媒体流入側の第１の領域と、媒
体流出側の第２の領域とを含み、第１の領域の幅が、第
２の端縁からの距離によらず一定であり、かつ、第２の
領域の幅が、第２の端縁に近づくにしたがって小さくな
るようにしてもよい。

【００３５】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、トラック幅規定部分が、媒体流入側から順
に、第１の磁性膜と第２の磁性膜とを積層して構成され
ており、第１および第２の磁性膜の双方が露出面を構成
しているようにしてもよいし、第１および第２の磁性膜
のうち、第２の磁性膜のみが露出面を構成しているよう
にしてもよい。

【００３６】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、第２の磁性膜が、第１の磁性膜よりも大き
い飽和磁束密度を有するのが好ましい。

【００３７】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドでは、ギャップ層が、記録媒体対向面における第
２の磁性層の厚みよりも大きい厚みを有するのが好まし
い。

【００３８】本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッド
では、第２の磁性膜の露出面の幅が、第１の磁性膜から
の距離によらず一定であるのが好ましい。

【００３９】本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、トラック幅規定部分の露出面が、媒体
流入側の第１の領域と、媒体流出側の第２の領域とを含
むようにし、第１の領域の幅および第２の領域の幅が、
それぞれ、第２の端縁に近づくにしたがって小さくな
り、かつ、第１の領域と第２の領域との境界部における
幅寸法が不連続となるように、第２の磁性層を形成して
もよい。この場合には、トラック幅規定部分の露出面に
おける第２の領域の側端縁と第１の端縁との間の角度
が、７０度以上、かつ９０度よりも小さくなるように、
第２の磁性層を形成するのが好ましい。

【００４０】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、トラック幅規定部分の露出面の
幅が、第２の端縁に近づくにしたがって小さくなるよう
に、第２の磁性層を形成してもよい。

【００４１】また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、トラック幅規定部分の露出面
が、媒体流入側の第１の領域と、媒体流出側の第２の領
域とを含むようにし、第１の領域の幅が、第２の端縁か
らの距離によらず一定となり、かつ、第２の領域の幅
が、第２の端縁に近づくにしたがって小さくなるよう
に、第２の磁性層を形成してもよい。

【００４２】本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、第１の磁性膜を形成する工程が、フォ
トリソグラフィ処理を用いてフォトレジスト膜をパター
ニングすることにより、ギャップ層上に、開口を有する
フレームパターンを形成する工程と、このフレームパタ
ーンをマスクとして用いて、開口にめっき膜を選択的に
成長させることにより、第１の磁性膜を形成する工程と
を含むようにしてもよい。この場合には、開口における
フレームパターンの内壁面をギャップ層の延在面に対し
て傾斜させることにより、ギャップ層に近い側から遠い
側に向かって開口が広がるように、フレームパターンを
形成してもよい。

【００４３】本発明の第３の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、第１の前駆磁性層の延在面に対して直
交する軸を中心として、少なくとも第１の前駆磁性層を
回転させながら、第１の前駆磁性層に対するエッチング
処理を行うのが好ましい。

【００４４】本発明の第４の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、第２の前駆磁性層パターンを形成する
工程において、３７．５°±７．５°の範囲内の角度を
なすような方向からイオンビームを照射するのが好まし
い。

【００４５】また、本発明の第４の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、スパッタリングを用いて被覆層
を形成するのが好ましい。

【００４６】また、本発明の第４の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、トラック幅規定部分の露出面の
幅が、第２の端縁に近づくにしたがって小さくなり、か
つ、露出面の側端が湾曲するように、第２の磁性層を形
成してもよい。

【００４７】本発明の第５の観点に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、スパッタリングを用いて被覆層を形成
するのが好ましい。

【００４８】また、本発明の第５の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、非磁性材料として、前駆磁性層
パターンよりもエッチング速度が遅いものを用いるのが
好ましい。非磁性材料としては、酸化アルミニウムを用
いるのが好ましい。

【００４９】また、本発明の第５の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、エッチャントとして、第２塩化
鉄水溶液を用いるのが好ましい。

【００５０】また、本発明の第５の観点に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法では、トラック幅規定部分の露出面
が、媒体流入側の第１の領域と、媒体流出側の第２の領
域とを含むようにし、第１の領域の幅が、第２の端縁か
らの距離によらず一定となり、かつ、第２の領域の幅
が、第２の端縁に近づくにしたがって小さくなるよう
に、第２の磁性層を形成してもよい。

【００５１】本発明の第３または第４の観点に係る薄膜
磁気ヘッドでは、第１の磁性層部分における記録媒体対
向面に平行な第１の断面の面積が、第２の磁性層部分に
おける記録媒体対向面に平行な第２の断面の面積よりも
小さいのが好ましい。

【００５２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。

【００５３】［第１の実施の形態］ ＜薄膜磁気ヘッドの構成＞まず、図１〜図３を参照し
て、本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの
構成について説明する。図１は本実施の形態に係る薄膜
磁気ヘッドの断面構成を表し、図２は図１に示した薄膜
磁気ヘッドの要部（主磁極）の斜視構成を拡大して表
し、図３は図２に示した主磁極における露出面の平面構
成を拡大して表している。なお、図１において、（Ａ）
はエアベアリング面に平行な断面を示し、（Ｂ）はエア
ベアリング面に垂直な断面を示している。図１に示した
上向きの矢印Ｂは、薄膜磁気ヘッドに対して記録媒体が
相対的に進行する方向、すなわち記録媒体の進行方向を
表している。

【００５４】以下の説明では、図１〜図３の各図中にお
けるＸ軸方向を「幅方向」、Ｙ軸方向を「長さ方向」、
Ｚ軸方向を「厚み（高さ）方向」と表記する。また、Ｘ
軸方向を「側方」と表記すると共に、Ｙ軸方向のうちの
エアベアリング面に近い側（または後工程においてエア
ベアリング面となる側）を「前側または前方」、その反
対側を「後側または後方」とそれぞれ表記するものとす
る。これらの表記内容は、後述する図４以降においても
同様とする。

【００５５】この薄膜磁気ヘッドは、例えば、ハードデ
ィスク装置などの磁気記録再生装置に搭載され、記録・
再生の双方の機能を実行可能な複合型ヘッドであり、図
１に示したように、例えばアルティック（Ａｌ₂ Ｏ₃ ・
ＴｉＣ）等のセラミック材料よりなる基板１上に、例え
ば酸化アルミニウム（Ａｌ₂ Ｏ₃ ；以下、単に「アルミ
ナ」という。）よりなる絶縁層２と、磁気抵抗（ＭＲ；
Magneto-resistive ）効果を利用した再生ヘッド１００
Ａと、例えばアルミナよりなる非磁性層７と、垂直記録
方式の記録ヘッド１００Ｂと、例えばアルミナ等よりな
る保護材としてのオーバーコート層１５がこの順に積層
された構成をなしている。

【００５６】《再生ヘッドの構成》再生ヘッド１００Ａ
は、主に、例えば、下部シールド層３と、シールドギャ
ップ膜４と、上部シールド層６がこの順に積層された構
成をなしている。シールドギャップ膜４には、記録媒体
に対向する記録媒体対向面（エアベアリング面）２０に
一面が露出するように、再生素子としてのＭＲ素子５が
埋設されている。

【００５７】下部シールド層３および上部シールド層６
は，例えば、いずれもニッケル鉄合金（ＮｉＦｅ；以
下、単に「パーマロイ（商品名）」という）等の磁性材
料により構成されており、それらの厚みは共に約１．０
μｍ〜２．０μｍである。シールドギャップ膜４は、Ｍ
Ｒ素子５をその周辺から電気的に分離するものであり、
例えば、アルミナ等の非導電性非磁性材料により構成さ
れている。ＭＲ素子５は、例えば、異方性磁気抵抗（Ａ
ＭＲ；Anisotropic Magneto-resistive ）効果素子、巨
大磁気抵抗（ＧＭＲ；Giant Magneto-resistive ）効果
素子またはトンネル磁気抵抗（ＴＭＲ；Tunneling Magn
eto-resistive ）効果素子等の磁気抵抗効果を示す感磁
膜により構成されている。

【００５８】《記録ヘッドの構成》記録ヘッド１００Ｂ
は、主に、例えば、補助磁極８と、ギャップ層９により
埋設された磁束発生用の薄膜コイル１０と、ギャップ層
９に設けられた開口９ＣＫに配設された連結部１１を介
して補助磁極８と磁気的に連結された主磁極１２とがこ
の順に積層された構成をなしている。ここで、補助磁極
８が本発明における「第１の磁性層」の一具体例に対応
し、連結部１１および主磁極１２が本発明における「第
２の磁性層」の一具体例に対応する。

【００５９】補助磁極８は、例えば、パーマロイ等の高
飽和磁束密度材料により構成されており、その厚みは約
１．０μｍ〜２．０μｍである。この補助磁極８は、例
えば、ギャップ層９よりも記録媒体の進行方向Ｂと反対
方向側、すなわち主磁極１２よりも下側に配設されてい
る。

【００６０】ギャップ層９は、補助磁極８上に配設さ
れ、開口９ＡＫが設けられたギャップ層部分９Ａと、こ
のギャップ層部分９Ａ上に配設され、薄膜コイル１０の
各巻線間よびその周辺領域を覆うように配設されたギャ
ップ層部分９Ｂと、薄膜コイル１０やギャップ層部分９
Ａ，９Ｂを覆うように配設され、開口９ＡＫに対応する
箇所に開口９ＣＫが設けられたギャップ層部分９Ｃとを
含んで構成されている。エアベアリング面２０における
ギャップ層９の厚みは約２．０μｍ〜５．０μｍであ
り、例えば、連結部１１の厚み以上であり、かつエアベ
アリング面２０における主磁極１２の厚みより大きくな
っている。

【００６１】ギャップ層部分９Ａは、例えば、アルミナ
等の非導電性非磁性材料により構成されており、その厚
みは約０．１μｍ〜１．０μｍである。ギャップ層部分
９Ｂは、例えば、加熱により流動性を示すフォトレジス
ト（感光性樹脂）やスピンオングラス（ＳＯＧ）等によ
り構成されている。ギャップ層部分９Ｃは、例えば、ギ
ャップ層部分９Ｂよりも耐食性、剛性および絶縁性に優
れたアルミナやシリコン酸化物（ＳｉＯ₂ ）などの非導
電性非磁性材料により構成されている。

【００６２】連結部１１は、例えば、パーマロイ等の高
飽和磁束密度材料により構成されている。連結部１１の
寸法は、例えば、厚みが約２．０μｍ〜４．０μｍ，長
さが約２．０μｍ〜１０．０μｍ，幅が約５．０μｍ〜
２０．０μｍである。

【００６３】薄膜コイル１０は、例えば、銅等の導電性
材料により構成されており、連結部１１を中心としてス
パイラル状に巻回する巻線構造をなしている。薄膜コイ
ル１０の寸法は、例えば、各巻線の厚みが約０．３μｍ
〜２．０μｍ（具体的には約１．３μｍ），幅が約０．
８μｍ，ピッチが約１．３μｍである。なお、薄膜コイ
ル１０の寸法は必ずしも例示した場合に限らず、例え
ば、巻線の幅、ピッチおよび巻数等は任意に設定可能で
ある。薄膜コイル１０の上端の位置は、連結部１１の上
端の位置よりも低くなっている。なお、図１および図２
では、薄膜コイル１０を構成する複数の巻線のうちの一
部のみを示している。図２では、薄膜コイル１０と主磁
極１２との位置関係を明確にするために、薄膜コイル１
０を破線で示している。

【００６４】主磁極１２は、例えば、ギャップ層９より
も記録媒体の進行方向Ｂと同一方向側、すなわち補助磁
極８よりも上側に配設されている。この主磁極１２は、
ギャップ層部分９Ｃのうちの前方部分上に配設された下
部磁極部分層１２Ａと、この下部磁極部分層１２Ａ上に
配設された上部磁極部分層１２Ｂと、この上部磁極部分
層１２Ｂ上に配設されたバッファ層１４と共に下部磁極
部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂのそれぞれの
後方部分を周囲から覆うように配設されたヨーク部分層
１２Ｃとを含んで構成されている。下部磁極部分層１２
Ａの周辺領域には、例えばアルミナ等の非導電性非磁性
材料よりなる埋込層１３が埋め込まれており、下部磁極
部分層１２Ａの上端の位置と埋込層１３の上端の位置と
は互いに一致している。

【００６５】下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分
層１２Ｂは、例えば、飽和磁束密度が約１．４Ｔ以上の
高飽和磁束密度材料により構成されている。下部磁極部
分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂを構成する高飽
和磁束密度材料としては、例えば、ヨーク部分層１２Ｃ
の構成材料よりも飽和磁束密度が大きいものが好まし
い。また、特に、上部磁極部分層１２Ｂを構成する高飽
和磁束密度材料としては、例えば、下部磁極部分層１２
Ａを構成する高飽和磁束密度材料よりも飽和磁束密度が
大きいものがより好ましい。高飽和磁束密度材料として
は、例えば、鉄および窒素を含む材料、鉄、ジルコニア
および酸素を含む材料、鉄およびニッケルを含む材料等
が挙げられ、具体的には、パーマロイ（Ｎｉ：４５重量
％，Ｆｅ：５５重量％）、窒化鉄（ＦｅＮ）、鉄コバル
ト合金（ＦｅＣｏ）、鉄を含む合金（ＦｅＭ）、鉄およ
びコバルトを含む合金（ＦｅＣｏＭ）のうちの少なくと
も１種を選択可能である。ここで、上記した構造式（Ｆ
ｅＭ，ＦｅＣｏＭ）中のＭは、例えば、ニッケル、窒
素、炭素（Ｃ）、ホウ素（Ｂ）、珪素、アルミニウム、
チタン（Ｔｉ）、ジルコニア、ハフニウム（Ｈｆ）、モ
リブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、ニオブ（Ｎ
ｂ）、銅のうちの少なくとも１種である。ここで、下部
磁極部分層１２Ａが本発明における「第１の磁性膜（請
求項１６）」の一具体例に対応し、上部磁極部分層１２
Ｂが本発明における「第２の磁性膜（請求項１６）」の
一具体例に対応する。

【００６６】下部磁極部分層１２Ａは、例えば、エアベ
アリング面２０からこれより後方の所定の連結位置Ｎま
で延在する先端部１２Ａ１と、この先端部１２Ａ１と連
結位置Ｎにおいて磁気的に連結された後端部１２Ａ２と
を含んで構成されている。下部磁極部分層１２Ａの寸法
は、例えば、厚みが約０．２μｍ、長さが約２．０μｍ
以上（具体的には約１０．０μｍ）である。先端部１２
Ａ１は、例えば、その幅が全域に渡って上端から下端に
向かうにしたがって小さくなっており、また、側面が平
面をなしている。先端部１２Ａ１の寸法は、例えば、上
端幅が約０．２μｍ、下端幅が約０．１μｍ、長さが約
０．１μｍ〜０．５μｍである。後端部１２Ａ２は、例
えば、後方において先端部１２Ａ１の幅より大きな一定
幅（例えば２．０μｍ）をなし、前方において先端部１
２Ａ１に近づくにしたがって幅が狭まるような構成をな
している。後端部１２Ａ２のうち、前方部分の側端が下
部磁極部分層１２Ａの延在方向（Ｙ軸方向）に対してな
す角度αは、例えば、約４５°以上、好ましくは約６０
°である。

【００６７】上部磁極部分層１２Ｂは、例えば、エアベ
アリング面２０側から順に、下部磁極部分層１２Ａの先
端部１２Ａ１に対応する先端部１２Ｂ１と、後端部１２
Ａ２に対応する後端部１２Ｂ２とを含んで構成されてい
る。上部磁極部分層１２Ｂの寸法は、例えば、厚みが約
０．１μｍ、長さが約２．０μｍ以上（具体的には約１
０．０μｍ）である。先端部１２Ｂ１は、記録媒体の記
録トラック幅を規定する主要な部分であり、先端部１２
Ａ１の幅より大きい一定幅をなしている。先端部１２Ｂ
１の幅は、例えば、約０．５μｍ以下、好ましくは約
０．３μｍ以下である。後端部１２Ｂ２は、例えば、下
部磁極部分層１２Ａの後端部１２Ａ２とほぼ同様の構成
をなしている。

【００６８】下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分
層１２Ｂは、例えば、共にエアベアリング面２０に露出
しており、先端部１２Ａ１，１２Ｂ１のそれぞれの露出
部により構成された露出面２０Ｅを有している。特に、
上部磁極部分層１２Ｂは、その膜厚に対応する一端面が
エアベアリング面２０に露出している。露出面２０Ｅの
うち、媒体流出側に位置する上端縁（第１の端縁）Ｇ１
の幅Ｗ１は、媒体流入側に位置する下端縁（第２の端
縁）Ｇ２の幅Ｗ２よりも大きくなっている（Ｗ１＞Ｗ
２）。「媒体流出側」とは、進行方向Ｂに向かう記録媒
体の進行を１つの流れと見た場合に、その流れの流出す
る側をいい、ここでは例えばギャップ層９から離れた側
をいう。また、「媒体流入側」とは、その流れの流入す
る側をいい、ここでは例えばギャップ層９に近い側をい
う。記録媒体の記録トラック幅は，主に、露出面２０Ｅ
における上端縁Ｇ１の幅Ｗ１により規定される。また、
露出面２０Ｅのうち、例えば、先端部１２Ａ１に対応す
る領域（第１の領域）Ｆ１の幅は、ギャップ層９に近づ
くにしたがって幅Ｗ３から幅Ｗ２に小さくなり、この領
域Ｆ１は逆台形（上端の長さが下端の長さより大きい台
形）状をなしている。また、先端部１２Ｂ１に対応する
領域（第２の領域）Ｆ２は一定幅Ｗ１をなしており、こ
の領域Ｆ２は矩形状をなしている。すなわち、領域Ｆ２
における側端縁Ｇ３と上端縁Ｇ１との間の角度βは、例
えば９０°である。特に、上端縁Ｇ１の幅Ｗ１は、上端
縁Ｇ１と下端縁Ｇ２との間の任意の中間部分、例えば領
域Ｆ１と領域Ｆ２との境界部の幅Ｗ３以上となっている
（Ｗ１≧Ｗ３）。なお、図３では、例えば、上端縁Ｇ１
の幅Ｗ１が幅Ｗ３よりも大きい場合（Ｗ１＞Ｗ３）を示
している。

【００６９】ヨーク部分層１２Ｃは、主に、連結部１１
と下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂと
を磁気的に連結させることにより磁束の流路を構成する
ものであり、その厚みは約１．０μｍ〜６．０μｍであ
る。このヨーク部分層１２Ｃは、例えば、耐食性に優
れ、かつ下部磁極部分層１２Ａや上部磁極部分層１２Ｂ
の構成材料よりも高抵抗な、飽和磁束密度が約１．５〜
２．３Ｔ程度の高飽和磁束密度材料により構成されてい
る。なお、ヨーク部分層１２Ｃの構成材料として、下部
磁極部分層１２Ａや上部磁極部分層１２Ｂの構成材料と
同様の組成系のものを用いる場合には、下部磁極部分層
１２Ａや上部磁極部分層１２Ｂの構成材料よりもヨーク
部分層１２Ｃの構成材料について飽和磁束密度を小さく
するために、鉄の含有割合を少なめにするのが好まし
い。

【００７０】このヨーク部分層１２Ｃは、下部磁極部分
層１２Ａの後端部１２Ａ２や上部磁極部分層１２Ｂの後
端部１２Ｂ２のそれぞれの両側面および後端面と磁気的
に連結されている。ヨーク部分層１２Ｃは、エアベアリ
ング面２０に露出しておらず、例えば、エアベアリング
面２０から約１．５μｍ以上後退している。

【００７１】先端部１２Ａ１，１２Ｂ１により構成され
る集合体におけるエアベアリング面２０に平行な断面の
面積（以下、単に「断面積」という）Ｓ１は、例えば、
エアベアリング面２０からの距離によらず一定になって
いる。この断面積Ｓ１は、後端部１２Ａ２，１２Ｂ２に
より構成される集合体におけるエアベアリング面２０に
平行な断面の面積（断面積）Ｓ２よりも小さくなってい
る（Ｓ１＜Ｓ２）。すなわち、主磁極１２は、連結様式
に着目すると、先端部１２Ａ１，１２Ｂ１の集合体と後
端部１２Ａ２，１２Ｂ２の集合体からなる連結構造体を
なしている。ここで、先端部１２Ａ１，１２Ｂ１の集合
体が本発明における「トラック幅規定部分」および「第
１の磁性層部分」の一具体例に対応し、後端部１２Ａ
２，１２Ｂ２の集合体が本発明における「第２の磁性層
部分」の一具体例に対応する。

【００７２】バッファ層１４は、主に、上部磁極部分層
１２Ｂの形成時において、先端部１２Ｂ１を高精度に形
成するために用いられるものである。この先端部１２Ｂ
１の形成の高精度化に係るバッファ層１４の機能に関す
る詳細については、後述する。このバッファ層１４は、
例えば、上部磁極部分層１２Ｂの構成材料よりもエッチ
ング速度が遅い材料により構成されている。バッファ層
の構成材料としては、例えば、チタンまたはタンタルを
含む材料や、アルミナまたはシリコン酸化物（Ｓｉ
Ｏ₂ ）などの無機系非導電性非磁性材料が挙げられる。
バッファ層１４は、例えば、上部磁極部分層１２Ｂと同
様の平面形状を有し、その厚みは約０，５μｍ以下（具
体的には約０．３μｍ）である。

【００７３】＜薄膜磁気ヘッドの動作＞次に、図１およ
び図２を参照して、薄膜磁気ヘッドの動作について説明
する。この薄膜磁気ヘッドでは、記録ヘッド１００Ｂに
より情報の記録が行われる。すなわち、情報の記録時に
図示しない外部回路から薄膜コイル１０に電流が流れる
と、これに応じて磁束が発生する。このとき発生した磁
束は、補助磁極８および主磁極１２に収容されたのち、
主磁極１２内をヨーク部分層１２Ｃから下部磁極部分層
１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂの双方へ流入する。
下部磁極部分層１２Ａへ流入した磁束は、さらにその先
端部１２Ａ１へ流れ、上部磁極部分層１２Ｂへ流入した
磁束も同様に、さらにその先端部１２Ｂ１へ流れる。記
録動作時において、薄膜磁気ヘッドに対して相対的に記
録媒体が進行方向Ｂに向かって移動すると、露出面２０
Ｅから外部へ放出された磁束により記録用の垂直磁界が
発生し、この垂直磁界により記録媒体が部分的に磁化さ
れ、情報が記録される。

【００７４】一方、再生時においては、再生ヘッド１０
０ＡのＭＲ膜５にセンス電流を流す。ＭＲ膜５の抵抗値
は、記録媒体からの再生用の信号磁界に応じて変化する
ので、その抵抗変化をセンス電流の変化によって検出す
ることにより、磁気記録媒体に記録されている情報が読
み出される。

【００７５】＜第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の作用および効果＞以上説明したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、主磁極１２の一部を構成す
る下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂの
特徴的な構成に基づき、主に、以下の理由により、垂直
磁界の強度を確保し、記録性能を向上させることができ
る。

【００７６】すなわち、露出面２０Ｅにおける上端縁Ｇ
１の幅Ｗ１が、下端縁Ｇ２の幅Ｗ２よりも大きくなるよ
うにしたので、下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部
分層１２Ｂの双方の内部を流れてエアベアリング面２０
に到達した磁束は、露出面２０Ｅのうち、記録動作時に
おいて主要な磁束の放出路となる領域Ｆ２に集中する。
しかも、上端縁Ｇ１の幅Ｗ１は、上端縁Ｇ１と下端縁Ｇ
２との間の中間部分の幅Ｗ３よりも大きいため、領域Ｆ
２の面積が十分に確保され、領域Ｆ２の面積が十分でな
い場合に生じる磁束の放出不良が抑制される。したがっ
て、エアベアリング面２０近傍において磁束が領域Ｆ２
に適正に集中するため、垂直磁界の強度が確保される。
なお、上記したように、領域Ｆ２へ磁束を集中させる点
を考慮すれば、上部磁極部分層１２Ｂ（先端部１２Ｂ
１）の厚みは、下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部
分層１２Ｂの総厚みの約１／３〜１／２であるのが好ま
しい。

【００７７】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドについ
ての記録性能の向上は、垂直磁界の強度を調べた実験結
果より明らかとなった。図４は、図３に示した露出面２
０Ｅに対する比較例としての露出面１２０Ｅの平面構成
を表すものであり、図３に対応している。露出面１２０
Ｅは、先端部１２Ａ１に対応する先端部１１２Ａ１の露
出部（領域Ｆ１）と、先端部１２Ｂ１に対応する先端部
１１２Ｂ１の露出部（領域Ｆ２）とにより構成されてい
る。露出面１２０Ｅのうち、下端縁Ｇ２の幅Ｗ２は上端
縁Ｇ１の幅Ｗ１に等しく（Ｗ２＝Ｗ１）、領域Ｆ１は一
定幅Ｗ１をなしている。領域Ｆ２の構成は、図３に示し
た場合と同様である。領域Ｆ１と領域Ｆ２との境界部の
幅Ｗ３は、上端縁Ｇ１の幅Ｗ１に等しくなっている（Ｗ
３＝Ｗ１）。すなわち、露出面１２０Ｅは矩形状をなし
ている。露出面２０Ｅを有する本実施の形態に係る薄膜
磁気ヘッドおよび露出面１２０Ｅを有する比較例として
の薄膜磁気ヘッドのそれぞれについて垂直磁界の強度を
比較したところ、垂直磁界の強度は、本実施の形態にお
いて比較例よりも１０％程度増加することが確認され
た。

【００７８】さらに、本実施の形態では、下部磁極部分
層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂの特徴的な構成に
基づき、以下の理由により、記録トラック幅を可能な限
り小さくすることができる。図５は、露出面２０Ｅを有
する本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドに関する利点を
説明するものであり、図３に対応している。図６は露出
面１２０Ｅを有する比較例としての薄膜磁気ヘッドに関
する欠点を説明するものであり、図４に対応している。

【００７９】すなわち、上記したように、記録媒体の記
録トラック幅は、露出面２０Ｅ（または露出面１２０
Ｅ）における上端縁Ｇ１の幅Ｗ１により規定されるが、
記録媒体の円周接線方向に対して記録ヘッド１００Ｂが
傾くと、実質的な記録トラック幅が幅Ｗ１より大きくな
る場合がある。この記録ヘッド１００Ｂが傾く現象は、
一般に、「スキュー」と呼ばれている。記録トラック幅
を可能な限り小さくするためには、記録トラック幅の拡
大を招くスキューの影響を可能な限り抑制する必要があ
る。

【００８０】比較例（図６参照）では、露出面１２０Ｅ
（領域Ｆ１，Ｆ２）の厚みをＵ１とし、先端部１１２Ａ
１，１１２Ｂ１の側面方向（図中のＺ軸方向）が記録媒
体の円周接線方向Ｈに対して角度（スキュー角度）ωだ
け傾いたとすると、実質的な記録トラック幅ＴＷ１は、
ＴＷ１＝Ｕ１ｓｉｎω＋Ｗ１ｃｏｓωとなる。

【００８１】これに対して、本実施の形態（図５参照）
では、露出面２０Ｅのうち、領域Ｆ２の厚みをＵ２と
し、上記比較例の場合と同様のスキュー角度ωだけスキ
ューが生じたとすると、実質的な記録トラック幅ＴＷ２
は、ＴＷ２＝Ｕ２ｓｉｎω＋Ｗ１ｃｏｓωとなる。すな
わち、記録トラック幅ＴＷ１，ＴＷ２を比較すると、厚
みＵ１，Ｕ２についてＵ２＜Ｕ１の関係があることか
ら、本実施の形態において、比較例よりも記録トラック
幅が小さくなる。したがって、スキュー発生時における
記録トラック幅の増大を回避することができる。

【００８２】なお、上記した記録トラック幅ＴＷ１，Ｔ
Ｗ２の比較結果から、スキューが生じた際の実質的な記
録トラック幅ＴＷ１は、スキュー角度ωおよび領域Ｆ２
の構成が一定であるとすると、主に、領域Ｆ１の構成に
依存することが判る。このことから、例えば、下部磁極
部分層１２Ａの延在面に対する垂線Ｐ１と領域Ｆ１の側
端縁との間の角度τは、スキュー角度ω以上であること
が好ましい。

【００８３】また、本実施の形態では、先端部１２Ａ１
および先端部１２Ｂ１により構成される集合体の断面積
Ｓ１が、後端部１２Ａ２および後端部１２Ｂ２により構
成される集合体の断面積Ｓ２よりも小さくなるようにし
たので（Ｓ１＜Ｓ２）、下部磁極部分層１２Ａおよび上
部磁極部分層１２Ｂの双方により構成される磁束の流路
は、エアベアリング面２０に近づくにしたがって断面積
の減少に応じて絞り込まれる。これにより、下部磁極部
分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂの双方の内部を
流れる磁束は、長さ方向（図中のＹ軸方向）において集
束しながらエアベアリング面２０に到達するため、磁束
の飽和現象の発生が抑制され、エアベアリング面２０ま
で必要十分な磁束が供給される。したがって、磁束の集
束に伴う必要十分な磁束供給に係る観点から、この点に
おいても垂直磁界の強度が確保される。

【００８４】また、本実施の形態では、上部磁極部分層
１２Ｂの構成材料の飽和磁束密度が、下部磁極部分層１
２Ａの構成材料の飽和磁束密度よりも大きくなるように
したので、先端部１２Ａ１，１２Ｂ１へ流入した磁束
は、先端部１２Ａ１よりも、主要な磁束の放出部分とな
る先端部１２Ｂ１に集中する。したがって、先端部１２
Ｂ１への磁束集中に係る観点から、この点においても垂
直磁界の強度の確保に寄与することができる。

【００８５】また、本実施の形態では、ギャップ層９の
厚みが主磁極１２の厚みよりも大きくなるようにしたの
で、垂直方向の磁界成分が大きくなる。したがって、こ
の観点においても、垂直磁界の強度の確保に寄与するこ
とができる。

【００８６】＜第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の構成に関する変形例＞ 《変形例１−１》なお、本実施の形態では、露出面２０
Ｅのうち、上端縁Ｇ１の幅Ｗ１が、領域Ｆ１と領域Ｆ２
との境界部の幅Ｗ３よりも大きくなるようにしたが、必
ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図７に示
したように、上端縁Ｇ１の幅Ｗ１が幅Ｗ３に等しく（Ｗ
１＝Ｗ３）、かつ領域Ｆ２が幅Ｗ３に等しい一定幅Ｗ１
をなすようにしてもよい。なお、図７に示した露出面２
０Ｅについての上記特徴部分以外の構成は、例えば、図
３に示した場合と同様である。この場合においても、上
記実施の形態の場合と同様の効果を得ることができる。

【００８７】《変形例１−２》また、露出面２０Ｅの構
成は、例えば、図８に示したように、領域Ｆ１と領域Ｆ
２との境界部の幅Ｗ３が下端縁Ｇ２の幅Ｗ２に等しく
（Ｗ３＝Ｗ２）、かつ領域Ｆ１が幅Ｗ３に等しい一定幅
Ｗ２をなすようにしてもよい。なお、図８に示した露出
面２０Ｅについての上記特徴部分以外の構成は、例え
ば、図３に示した場合と同様である。この場合において
も、上記実施の形態の場合と同様の効果を得ることがで
きる。

【００８８】《変形例１−３》また、露出面２０Ｅは、
例えば、図９に示したような構成をなしてもよい。すな
わち、本実施の形態では、露出面２０Ｅの領域Ｆ２にお
ける側端縁Ｇ３と上端縁Ｇ１との間の角度βが９０°で
ある場合について説明したが、必ずしもこれに限られる
ものではなく、図９に示したように、角度βが約７０°
以上、かつ９０°よりも小さい範囲内であってもよい。
この場合には、領域Ｆ２の幅が領域Ｆ１に近づくにした
がって小さくなり、領域Ｆ１と領域Ｆ２との境界部にお
ける幅寸法が不連続となる。なお、図９に示した露出面
２０Ｅについての上記特徴部分以外の構成は、例えば、
図３に示した場合と同様である。この場合においても、
露出面２０Ｅのうち、主要な磁束の放出路をなす領域Ｆ
２の面積が十分に確保されるため、垂直磁界の強度の確
保に寄与することができる。

【００８９】《変形例１−４》また、図９に示した変形
例としての露出面２０Ｅの構成は、例えば、図１０に示
したように、さらに、領域Ｆ２の幅が、領域Ｆ１に近づ
くにしたがって２段階に小さくなり、かつ、領域Ｆ１が
一定幅Ｗ２をなすようにしてもよい。なお、図１０に示
した露出面２０Ｅについての上記特徴部分以外の構成
は、例えば、図９に示した場合と同様である。この場合
においても、上記《変形例１−３》において説明した場
合とほぼ同様の効果を得ることができる。

【００９０】《変形例１−５》また、露出面２０Ｅの構
成は、例えば、図１１に示したように、領域Ｆ１が逆三
角形状をなすようにしてもよい。なお、図１１に示した
露出面２０Ｅについての上記特徴部分以外の構成は、例
えば、図３に示した場合と同様である。この場合におい
ても、上記実施の形態の場合と同様の効果を得ることが
できる。

【００９１】《変形例１−６》また、露出面２０Ｅの構
成は、例えば、図１２に示したように、露出面２０Ｅの
うち、領域Ｆ１と領域Ｆ２との境界部の幅Ｗ３が、下端
縁Ｇ２の幅Ｗ２よりも小さくなるようにしてもよい（Ｗ
３＜Ｗ２）。なお、図１２に示した露出面２０Ｅについ
ての上記特徴部分以外の構成は、例えば、図３に示した
場合と同様である。この場合においても、上記実施の形
態の場合とほぼ同様の効果を得ることができる。ただ
し、領域Ｆ１と領域Ｆ２との境界部の幅Ｗ３が下端縁Ｇ
２の幅Ｗ２よりも小さくなり、露出面２０Ｅの面積が小
さくなると、露出面２０Ｅから放出される磁束の放出量
が低下する可能性があるため、磁束放出量の確保を考慮
するならば、幅Ｗ３が幅Ｗ２以上（Ｗ３≧Ｗ２）である
ことが好ましい。

【００９２】《変形例１−７》また、本実施の形態で
は、先端部１２Ａ１，１２Ｂ１により構成される集合体
の断面積Ｓ１がエアベアリング面２０からの距離によら
ず一定となるようにしたが、必ずしもこれに限られるも
のではない。図１３は、下部磁極部分層１２Ａの構成に
関する変形例を表すものであり、図２に対応している。
なお、図１３では、例えば、露出面２０Ｅが、上記《変
形例１−２》において説明した構成（図８参照）をなす
場合について示している。この下部磁極部分層１２Ａ
は、例えば、先端部１２Ａ１のうちの前方部分の幅がエ
アベアリング面２０に近づくにしたがって狭まるように
構成されている。言い換えれば、先端部１２Ａ１の構造
は、例えば、直方体から、図中のＺ軸方向における面を
底面とする２つの三角柱Ｔ１を除去した場合の残存構造
に相当する。先端部１２Ａ１のうちの前方部分の断面積
Ｓ３は、エアベアリング面２０に近づくにしたがって小
さくなる。このような構成をなす下部磁極部分層１２Ａ
によれば、先端部１２Ａ１の前方部分において、先端部
１２Ａ１内を流れる磁束が断面積Ｓ３の減少に応じて集
束されるため、上記実施の形態の場合よりも垂直磁界の
強度を大きくすることができる。なお、図１３に示した
下部磁極部分層１２Ａについての上記した特徴部分以外
の構成は、例えば、図２に示した場合と同様である。

【００９３】《変形例１−８》また、下部磁極部分層１
２Ａは、図１３に示した場合に限らず、例えば、図１４
に示したような構成をなしてもよい。図１４は、下部磁
極部分層１２Ａの構成に関する他の変形例を表すもので
ある。この下部磁極部分層１２Ａの先端部１２Ａ１の構
造は、例えば、直方体から、図中のＹ軸方向における面
を底面とする２つの四角錘Ｔ２を除去した場合の残存構
造に相当し、先端部１２Ａ１のうちの前方部分の断面積
Ｓ４は、エアベアリング面２０に近づくにしたがって小
さくなる。この場合においても、上記《変形例１−７》
において説明した場合と同様の作用により、上記実施の
形態の場合よりも垂直磁界の強度を大きくすることがで
きる。なお、図１４に示した下部磁極部分層１２Ａにつ
いての上記した特徴部分以外の構成は、例えば、図２に
示した場合と同様である。

【００９４】《変形例１−９》また、本実施の形態で
は、下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂ
の双方がエアベアリング面２０に露出するようにした
が、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図
１５に示したように、上部磁極部分層１２Ｂのみがエア
ベアリング面２０に露出して露出面２０Ｅを構成し、下
部磁極部分層１２Ａがエアベアリング面２０から距離Ｒ
だけ後退（リセス）するようにしてもよい。露出面２０
Ｅは、図１５に示したように一定幅（Ｗ１）をなすよう
にしてもよいし、あるいはギャップ層９に近づくにした
がって小さくなるようにしてもよい。ただし、記録トラ
ック幅をばらつきなく規定する点を考慮するならば、露
出面２０Ｅは一定幅をなすのが好ましい。この記録トラ
ック幅をばらつきなく規定することが可能になる理由に
ついては、後述する（図３１，図３２参照）。この場合
には、下部磁極部分層１２Ａのリセス構造に基づき、先
端部１２Ａ１内をエアベアリング面２０に向かって流れ
る磁束が先端部１２Ｂ１に円滑に流入することとなる。
これにより、先端部１２Ｂ１に磁束が集中するため、垂
直磁界の強度をより大きくすることができる。なお、距
離Ｒは、上記した磁束の集中を良好に確保する観点か
ら、約０．１μｍ〜２．０μｍの範囲内であるのが好ま
しい。図１５に示した下部磁極部分層１２Ａについての
上記した特徴部分以外の構成は、例えば、図２に示した
場合と同様である。ここで、《変形例１−９》における
下部磁極部分層１２Ａが本発明における「第１の磁性膜
（請求項１７，２０）」の一具体例に対応し、上部磁極
部分層１２Ｂが本発明における「第２の磁性膜（請求項
１７，２０）」の一具体例に対応する。

【００９５】《変形例１−１０》また、図１５に示した
下部磁極部分層１２Ａは、例えば、図１６に示したよう
に、エアベアリング面２０に近い側の端面（リセス面）
２０ＥＲが、下部磁極部分層１２Ａの延在面（図中のＸ
軸およびＹ軸を含む面）に対して傾斜するようにしても
よい。この場合には、リセス面２０ＥＲが下部磁極部分
層１２Ａの延在面と直交する上記《変形例１−９》の場
合よりも、リセス面２０ＥＲ近傍において先端部１２Ａ
１から先端部１２Ｂ１に流入する磁束の流れを円滑化す
ることができる。

【００９６】《変形例１−１１》また、本実施の形態で
は、主磁極１２が、下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁
極部分層１２Ｂの積層構造をなすようにしたが、必ずし
もこれに限られるものではなく、例えば、図１７および
図１８に示したように、下部磁極部分層１２Ａおよび上
部磁極部分層１２Ｂの集合体に対応する単層構成の磁極
部分層１２ＡＢをなすようにしてもよい。図１７および
図１８は主磁極１２の構成に関する変形例を表すもので
ある。図１７は磁極部分層１２ＡＢにおける露出面２０
Ｅの平面構成を示し、図３に対応している。また、図１
８は磁極部分層１２ＡＢの斜視構成を拡大して示し、図
２に対応している。この磁極部分層１２ＡＢは、上記実
施の形態において説明した先端部１２Ａ１，１２Ｂ１の
集合体に対応する先端部１２ＡＢ１と、後端部１２Ａ
２，１２Ｂ２の集合体に対応する後端部１２ＡＢ２とを
含んで構成されている。露出面２０Ｅのうち、上端縁Ｇ
１は幅Ｗ１をなし、下端縁Ｇ２は幅Ｗ２をなしている。
露出面２０Ｅの幅はギャップ層９に近づくにしたがって
小さくなっており、すなわち、露出面２０Ｅは逆台形状
をなしている。この磁極部分層１２ＡＢを含む主磁極１
２を構成することにより、主磁極１２の構成および形成
を簡略化することができる。

【００９７】また、本変形例では、磁極部分層１２ＡＢ
の露出面２０Ｅが逆台形状をなすようにしたが、必ずし
もこれに限られるものではなく、例えば逆三角形状をな
すようにしてもよい。

【００９８】なお、本実施の形態では、上記《変形例１
−１》から《変形例１−１１》において説明した一連の
変形の他、これらの各変形内容を互いに組み合わせるこ
とも可能である。

【００９９】＜薄膜磁気ヘッドの製造方法＞次に、図１
〜図３および図１９〜図３０を参照して、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法について説明する。図
１９〜図２４は、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの
製造工程における各工程の断面構成を表している。ま
た、図２５〜図３０は薄膜磁気ヘッドの製造工程におけ
る各工程の平面構成を表し、このうち図２５，図２６，
図２７，図２８および図２９は、それぞれ図１９，図２
０，図２２，図２３および図２４に対応している。な
お、図１９〜図２４では、図２５〜図２９におけるＡ−
Ａ線に沿った断面構成を示している。

【０１００】以下では、まず、薄膜磁気ヘッド全体の製
造方法について簡単に説明したのち、本発明の薄膜磁気
ヘッドの製造方法が適用される主磁極１２の要部（下部
磁極部分層１２Ａ，上部磁極部分層１２Ｂ）の形成方法
について詳細に説明する。なお、薄膜磁気ヘッド全体の
製造方法および主磁極１２の要部の形成方法を説明する
際には、各構成要素の形成材料、形成位置および構造的
特徴等は、上記「薄膜磁気ヘッドの構成」の項において
既に詳述したので、その説明を随時省略する。

【０１０１】《薄膜磁気ヘッドの製造方法》この薄膜磁
気ヘッドは、主に、例えば薄膜プロセスおよび研磨処理
等を用いて各構成要素を順次積層することにより製造さ
れる。すなわち、まず、基板１上に絶縁層２を形成した
のち、この絶縁層２上に、下部シールド層３と、ＭＲ素
子５を埋設するシールドギャップ膜４と、上部シールド
層６とをこの順に形成することにより、再生ヘッド１０
０Ａを形成する。

【０１０２】続いて、再生ヘッド１００Ａ上に非磁性層
７を形成したのち、この非磁性層７上に、補助磁極８
と、開口９ＡＫを有するギャップ層部分９Ａと、薄膜コ
イル１０と、この薄膜コイル１０を覆うギャップ層部分
９Ｂと、ギャップ層部分９Ａ，９Ｂを覆い、開口９ＣＫ
を有するギャップ層９Ｃと、開口９ＣＫを埋め込む連結
部１１と、バッファ層１４が部分的に挟まれた主磁極１
２とをこの順に形成することにより、記録ヘッド１００
Ｂを形成する。

【０１０３】最後に、記録ヘッド１００Ｂ上にオーバー
コート層１５を形成することにより、薄膜磁気ヘッドが
完成する。なお、上記した薄膜磁気ヘッドを構成する一
連の構成要素は、例えば機械加工や研磨加工を用いてエ
アベアリング面２０が形成されることにより最終的に形
成される。

【０１０４】《主磁極の要部の形成方法》主磁極１２の
要部を形成する際には、まず、図１９および図２５に示
したように、ギャップ層９の一部を構成するギャップ層
部分９Ｃを形成したのち、このギャップ層部９Ｃ上に、
例えばスパッタリングにより、電解めっき法におけるシ
ード層となる電極膜（図示せず）を形成する。この電極
膜の構成材料としては、例えば、後工程において形成さ
れる下部磁極部分層１２Ａや上部磁極部分層１２Ｂの構
成材料と同様の高飽和磁束密度材料を用いるようにす
る。

【０１０５】続いて、この電極膜上に、例えばフォトレ
ジストを塗布してフォトレジスト膜（図示せず）を形成
したのち、高精度のフォトリソグラフィ処理を用いてフ
ォトレジスト膜をパターニングすることにより、図１９
および図２５に示したように、めっき処理を行う際に用
いるフレームパターン（外枠）３０（図２５中、濃い網
掛領域）を形成する。フレームパターン３０を形成する
際には、例えば、下部磁極部分層１２Ａの平面形状に対
応した開口３０Ｋを設けるようにすると共に、この開口
３０Ｋのうち、先端部１２Ａ１に対応する部分の下端幅
が、後工程において形成される露出面２０Ｅのうちの下
端縁Ｇ２の幅Ｗ２（図３参照）に対応するようにする。
また、フレームパターン３０を形成する際には、例え
ば、フォトリソグラフィ処理時において露光角度および
露光量等を調整し、開口３０Ｋにおけるフレームパター
ン３０の内壁面３０ＫＭを下地のギャップ層部分９Ｃ
（図２５中、淡い網掛領域）の表面に対して傾斜させる
ことにより、上方に向かって開口３０Ｋが広がるように
する。なお、フレームパターンの形成位置については、
例えば、開口３０Ｋのうち、下部磁極部分層１２Ａのう
ちの先端部１２Ａ１と後端部１２Ａ２との連結部に対応
する部分を、連結位置Ｎに位置合わせする。

【０１０６】続いて、先に形成した電極膜をシード層と
して用いると共にフレームパターン３０をマスクとして
用いて、例えばパーマロイ等の高飽和密度材料を用いて
開口３０Ｋにめっき膜を選択的に成長させることによ
り、図２０および図２６に示したように、前駆磁性層パ
ターン１２ＡＸ（図２６中、淡い網掛領域）を形成す
る。この前駆磁性層パターン１２ＡＸは、後工程におい
て研磨処理を施されることにより前駆磁性層パターン１
２ＡＹ（図２２，図２７参照）となる前準備層である。
前駆磁性層パターン１２ＡＸのうち、先端部１２Ａ１に
対応する対応部分１２ＡＸ１の下端は、幅Ｗ２をなす。
前駆磁性層パターン１２ＡＸを形成する際には、例え
ば、その形成厚みが下部磁極部分層１２Ａの形成厚みよ
りも大きくなるようにする。もちろん、前駆磁性層パタ
ーン１２ＡＸの形成厚みを下部磁極部分層１２Ａの形成
厚みよりも大きくし得るように、フレームパターン３０
を形成する際、その厚みを前駆磁性層パターン１２ＡＸ
の形成厚みより大きめに予め調整しておく。

【０１０７】続いて、フレームパターン３０を除去した
のち、前駆磁性層パターン１２ＡＸをマスクとして用い
て、例えばイオンビームエッチングにより、電極膜のう
ち、前駆磁性層パターン１２ＡＸの形成領域以外の部分
を選択的にエッチングして除去する。

【０１０８】続いて、図２１に示したように、ギャップ
層部分９Ｃおよび前駆磁性層パターン１２ＡＸを覆うよ
うに、例えばアルミナ等の非導電性非磁性材料よりなる
埋込層１３を形成する。この埋込層１３を形成する際に
は、例えば、その厚みが前駆磁性層パターン１２ＡＸの
厚みより大きくなるようにする。

【０１０９】続いて、例えば化学機械研磨（ＣＭＰ）法
により、例えば、少なくとも前駆磁性層パターン１２Ａ
Ｘが露出するまで埋込層１３および前駆磁性層パターン
１２ＡＸを研磨する。この研磨処理により、図２２およ
び図２７に示したように、研磨後の前駆磁性層パターン
１２ＡＸの残存部分よりなる前駆磁性層パターン１２Ａ
Ｙ（図２７中、淡い網掛領域）が形成される。前駆磁性
層パターン１２ＡＹを形成する際には、先端部１２Ａ１
に対応する対応部分１２ＡＹ１の上端が幅Ｗ３をなすよ
うに、研磨量を調整する。前駆磁性層パターン１２ＡＹ
および研磨後の埋込層１３（図２７中、濃い網掛領域）
の表面は、全体に渡って平坦となる。

【０１１０】続いて、図２３および図２８に示したよう
に、前駆磁性層パターン１２ＡＹおよび埋込層１３の平
坦面上に、例えば、スパッタリングまたはめっき処理に
より、前駆磁性層パターン１２ＡＹの形成材料より飽和
磁束密度が大きい高飽和磁束密度材料を用いて、前駆磁
性層１２ＢＸ（図２８中、淡い網掛領域）を形成する。

【０１１１】続いて、図２３および図２８に示したよう
に、前駆磁性層１２ＢＸ上に、例えば、前駆磁性層１２
ＢＸの形成材料よりもエッチング速度が遅いアルミナな
どの非導電性非磁性材料を用いて、バッファ層１４（図
２８中、濃い網掛領域）を選択的に形成する。バッファ
層１４を形成する際には、例えば、上部磁極部分層１２
Ｂの平面形状に対応する平面形状を有するようにすると
共に、上部磁極部分層１２Ｂの先端部１２Ｂ１に対応す
る部分が、幅Ｗ３より大きい幅Ｗ１をなすようにする。

【０１１２】続いて、バッファ層１４をマスクとして用
いて、例えばリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ；
Reactive Ion Etching）により、埋込層１３が露出する
まで前駆磁性層１２ＢＸに選択的にエッチング処理を施
す。このエッチング処理により、図２４および図２９に
示したように、エッチング処理後の前駆磁性層１２ＢＸ
の残存部分よりなる前駆磁性層パターン１２ＢＹが選択
的に形成される。前駆磁性層パターン１２ＢＹのうち、
先端部１２Ｂ１に対応する対応部分１２ＢＹ１は幅Ｗ１
をなす。なお、前駆磁性層パターン１２ＢＹを形成する
際に用いるエッチング手法としては、ＲＩＥに代えてイ
オンビームエッチングを用いるようにしてもよいが、エ
ッチング処理に要する時間の短縮を考慮するならば、Ｒ
ＩＥを用いるようにするのが好ましい。ここで、前駆磁
性層パターン１２ＡＹ，１２ＢＹが本発明における「２
つの前駆磁性膜（請求項２７）」の一具体例に対応す
る。

【０１１３】最後に、例えば、機械加工や研磨工程によ
って図２９中の上方から前駆磁性層パターン１２ＡＹ，
１２ＢＹを研磨することにより、図３０に示したよう
に、エアベアリング面２０およびこのエアベアリング面
２０に露出した露出面２０Ｅを形成する。この研磨処理
により、研磨処理後の前駆磁性層パターン１２ＡＹの残
存部分として、露出面２０Ｅのうちの領域Ｆ１（第１の
露出面）を有するように下部磁極部分層１２Ａが形成さ
れると共に、研磨処理後の前駆磁性層パターン１２ＢＹ
の残存部分として、領域Ｆ２（第２の露出面）を有する
ように上部磁極部分層１２Ｂが形成される。これによ
り、主磁極１２の要部が完成する。ここで、下部磁極部
分層１２Ａが本発明における「第１の磁性膜（請求項２
７）」の一具体例に対応し、上部磁極部分層１２Ｂが本
発明における「第２の磁性膜（請求項２７）」の一具体
例に対応する。

【０１１４】＜第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法に関する作用および効果＞以上説明したよう
に、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法で
は、前駆磁性層パターン１２ＡＹ，１２ＢＹをそれぞれ
別工程により形成したのち、これらの前駆磁性層パター
ン１２ＡＹ，１２ＢＹをそれぞれ加工することにより下
部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂを形成
するようにしたので、下部磁極部分層１２Ａの構造と上
部磁極部分層１２Ｂの構造とをそれぞれ独立して設定す
ることが可能になる。したがって、本実施の形態では、
下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂのそ
れぞれの構造の自由度を大きくすることが可能となり、
多様な構造的特徴を有する薄膜磁気ヘッドを製造するこ
とができる。

【０１１５】なお、以下では、本実施の形態において説
明した２段階の形成工程（前駆磁性層パターン１２Ａ
Ｙ，１２ＢＹの形成工程）を経て下部磁極部分層１２Ａ
および上部磁極部分層１２Ｂを別個に形成する手法を略
称して、「２段階形成法」という。

【０１１６】また、本実施の形態では、２段階形成法を
用いて下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２
Ｂを形成する際、特に、成膜処理（前駆磁性層１２ＢＸ
の形成）およびパターニング処理（マスク１４を用いた
前駆磁性層１２ＢＸのパターニング）を用いて上部磁極
部分層１２Ｂを形成するようにしたので、例えば成膜処
理およびパターニング処理を用いて下部磁極部分層１２
Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂを一体形成する場合より
も、パターニングされる要素（前駆磁性層１２ＢＸ）の
厚みが薄くなる。この場合には、パターニング用のマス
ク１４の厚みも薄くて済むため、マスク１４を高精度に
形成することが可能になる。しかも、比較的薄いマスク
１４を用いてパターニング処理を行うことにより、比較
的厚いマスク１４を用いる場合よりも、パターニング精
度が向上する。したがって、本実施の形態では、一定幅
Ｗ１をなすように上部磁極部分層１２Ｂを高精度かつ微
細に形成することができる。

【０１１７】また、本実施の形態では、下部磁極部分層
１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂを形成する際、従来
にない特別な技法を何ら用いることがないため、既存の
製造技術を利用して、薄膜磁気ヘッドを容易に製造する
ことができる。

【０１１８】また、本実施の形態では、露出面２０Ｅに
おける領域Ｆ２が一定幅Ｗ１をなすようにしたので、以
下の理由により、所望の目標幅となるように記録トラッ
ク幅をばらつきなく規定することができる。図３１は、
図３に示した構成の露出面２０Ｅを有する本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法における利点を説明す
るものであり、図３２は、図１７に示した構成の露出面
２０Ｅを有する変形例としての薄膜磁気ヘッドの製造方
法における問題点を説明するものである。

【０１１９】変形例（図３２参照）では、上記したよう
に、磁極部分層１２ＡＢが単層構成をなすため、下部磁
極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂの積層構成
をなす本実施の形態の場合よりも形成工程の簡略化の観
点において利点を有する。しかしながら、例えば、厚み
がＵ２、上端縁Ｇ１の幅がＷ１をなす露出面２０Ｅを有
するように磁極部分層１２ＡＢを形成しようとしたとこ
ろ、形成時の厚み制御に係る誤差等に起因して、露出面
２０Ｅの形成厚みがＵ２より小さいＵ３（Ｕ３＜Ｕ２）
になると、上端縁Ｇ１の幅はＷ１より小さいＷ４（Ｗ４
＜Ｗ１）となってしまう可能性がある。この場合には、
記録トラック幅をばらつきなく目標幅（Ｗ１）通りに規
定することが困難となる。

【０１２０】これに対して、本実施の形態（図３１参
照）では、露出面２０Ｅにおける領域Ｆ２が一定幅Ｗ１
をなし、矩形状をなすため、上部磁極部分層１２Ｂの形
成時において形成厚みに誤差が生じ、露出面２０Ｅの厚
みがＵ２より小さいＵ３になったとしても、その誤差が
上部磁極部分層１２Ｂの厚みの範囲内である限り、上端
縁Ｇ１の幅Ｗ１は一定に維持される。したがって、本実
施の形態では、変形例とは異なり、上端縁Ｇ１の幅Ｗ１
の変動が防止されるため、記録トラック幅がばらつきな
く目標幅となるように規定される。この記録トラック幅
の規定に係る観点から言えば、領域Ｆ２における側端縁
Ｇ３と上端縁Ｇ１との間の角度βは、９０°であること
が好ましい。

【０１２１】［第２の実施の形態］次に、本発明の第２
の実施の形態について説明する。

【０１２２】図３３〜図３６は、本発明の第２の実施の
形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明するもので
ある。本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法
は、上記第１の実施の形態において説明した２段階形成
方法に代えて、エッチング処理を利用して主磁極の要部
を形成するものである。図３３〜図３５は、本実施の形
態に係る薄膜磁気ヘッドの製造工程における各工程の断
面構成を表し、図３６は、本実施の形態に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法により製造される薄膜磁気ヘッドの要
部（主磁極）の斜視構成を拡大して表している。なお、
図３３〜図３６では、上記第１の実施の形態において説
明した構成要素と同一部分には同一の符号を付してい
る。

【０１２３】＜薄膜磁気ヘッドの構成＞まず、図３６を
参照して、薄膜磁気ヘッドの構成について説明する。こ
の薄膜磁気ヘッドは、上記第１の実施の形態において説
明した下部磁極部分層１２Ａおよび上部磁極部分層１２
Ｂの集合体に対応する磁極部分層４１ＡＢを含んで構成
されている。この磁極部分層４１ＡＢは、例えば、上記
第１の実施の形態における先端部１２Ａ１，１２Ｂ１の
集合体に対応する先端部４１ＡＢ１と、後端部１２Ａ
２，１２Ｂ２の集合体に対応する後端部４１ＡＢ２とを
含んでいる。ここで、先端部４１ＡＢ１が本発明におけ
る「トラック幅規定部分（請求項３０）」の一具体例に
対応する。

【０１２４】磁極部分層４１ＡＢ１の露出面２０Ｅは、
例えば、上記第１の実施の形態の《変形例１−１１》に
おいて図１７に示した場合と同様に逆台形状をなしてい
る。先端部４１ＡＢの前方部分は、例えば、上端の幅が
エアベアリング面２０からの距離によらず一定であり、
下端の幅がエアベアリング面２０に近づくにしたがって
小さくなっている。言い換えれば、先端部４１ＡＢ１の
構造は、直方体から、図中のＹ軸方向における面を底面
とする２つの三角錘Ｔ３を除去した場合の残存構造に相
当する。後端部４１ＡＢ２は、例えば、後端部１２Ａ
２，１２Ｂ２とほぼ同様の構成をなしている。

【０１２５】先端部４１ＡＢ１の前方部分における露出
面２０Ｅに平行な断面積Ｓ５は、露出面２０Ｅに近づく
にしたがって小さくなっており、この断面積Ｓ５は、後
端部４１ＡＢ２における露出面２０Ｅに平行な断面積Ｓ
６よりも小さくなっている（Ｓ５＜Ｓ６）。

【０１２６】なお、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
に関する磁極部分層４１ＡＢ以外の構成は、例えば、上
記第１の実施の形態の場合（図１，図２参照）と同様で
ある。なお、図３６では、磁極部分層４１ＡＢと共に、
上記第１の実施の形態において説明したバッファ層１４
に対応するバッファ層４２を示している。

【０１２７】＜本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製
造方法＞次に、図３３〜図３５を参照して、本実施の形
態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法について説明する。
なお、以下では、主に、磁極部分層４１ＡＢの形成工程
についてのみ説明し、薄膜磁気ヘッドを構成する他の構
成要素の形成工程については、上記第１の実施の形態に
おいて説明したので、その説明を省略する。

【０１２８】磁極部分層４１ＡＢを形成する際には、ま
ず、ギャップ層部分９Ｃを形成したのち、図３３に示し
たように、ギャップ層部９Ｃ上に、例えばスパッタリン
グにより、例えばパーマロイ等の高飽和磁束密度材料を
用いて前駆磁性層４１ＡＢＸを形成する。

【０１２９】続いて、図３３に示したように、前駆磁性
層４１ＡＢＸ上に、例えばスパッタリングにより、例え
ば前駆磁性層４１ＡＢＸの形成材料よりもエッチング速
度が遅いアルミナなどの非導電性非磁性材料を用いて、
前駆バッファ層４２Ｘを形成する。

【０１３０】続いて、図３３に示したように、前駆バッ
ファ層４２Ｘ上に、例えばめっき処理により、例えばパ
ーマロイ等よりなるパターニング用のマスク４３を選択
的に形成する。マスク４３を形成する際には、例えば、
後工程において形成される磁極部分層４１ＡＢの平面形
状に対応する平面形状を有するようにすると共に、先端
部４１ＡＢ１に対応する部分が幅Ｗ１をなすようにす
る。なお、マスク４３の形成材料は、必ずしも上記した
パーマロイに限られず、所定のパターン形状となるよう
に加工可能であり、かつマスクとして機能し得る程度の
硬さ等を有する限り、自由に変更可能である。

【０１３１】続いて、マスク４３を用いて、例えばＲＩ
Ｅにより、前駆バッファ層４２Ｘおよび前駆磁性層４１
ＡＢＸに対して選択的にエッチング処理を施す。このエ
ッチング処理により、図３４に示したように、前駆バッ
ファ層４２Ｘがパターニングされることによりバッファ
層４２が選択的に形成されると共に、前駆磁性層４１Ａ
ＢＸがパターニングされることにより前駆磁性層パター
ン４１ＡＢＹが選択的に形成される。この前駆磁性層パ
ターン４１ＡＢＹは、先端部４１ＡＢ１に対応する対応
部分４１ＡＢＹ１（幅Ｗ１）を含むように形成される。
ここで、前駆磁性層パターン４１ＡＢＹが本発明におけ
る「第１の前駆磁性層パターン（請求項３０）」の一具
体例に対応し、バッファ層４２が本発明における「非磁
性層パターン（請求項３０）」の一具体例に対応する。

【０１３２】続いて、バッファ層４２をマスクとして用
いて、前駆磁性層パターン４１ＡＢＹの延在面と直交す
る線（垂線）Ｐ１から角度（照射角度）θ１＝約４５°
以上、具体的には約４５．０°〜８０．０°をなす方向
からイオンビームを照射しながら、前駆磁性層パターン
４１ＡＢＹに対してエッチング処理を施す。エッチング
処理を行う際には、例えば、垂線Ｐ１と平行な前駆磁性
層パターン４１ＡＢＹの中心線Ｐ２を軸として、前駆磁
性層パターン４１ＡＢＹを回転させるようにする。この
エッチング処理により、図３５に示したように、先端部
４１ＡＢ１に対応する対応部分４１ＡＢＺ１を含む前駆
磁性層パターン４１ＡＢＺが選択的に形成される。エッ
チング時には、前駆磁性層パターン４１ＡＢＹを構成す
る幅広の後方部分（後端部４１ＡＢ２に対応する部分）
の存在により、主に、対応部分４１ＡＢＹ１のうちの先
端側の側面部のみが選択的にエッチングされ、その先端
側の側面部以外の部分がエッチングされにくくなると共
に、対応部分４１ＡＢＹ１に対するエッチング量は、下
方および後方に向かうにしたがって小さくなる。なお、
エッチング時には、図３６に示したように、対応部分４
１ＡＢＹ１のみでなく、前駆磁性層パターン４１ＡＢＹ
のうちの後方部分の側面部も部分的にエッチングされ
る。ここで、前駆磁性層パターン４１ＡＢＺが本発明に
おける「第２の前駆磁性層パターン（請求項３０）」の
一具体例に対応する。

【０１３３】最後に、上記第１の実施の形態において図
３０に示した場合と同様に、機械加工や研磨工程により
前駆磁性層パターン４１ＡＢＺを研磨してエアベアリン
グ面２０を形成することにより、図３６に示したよう
に、逆台形状の露出面２０Ｅを有する磁極部分層４１Ａ
Ｂが形成される。なお、磁極部分層４１ＡＢを形成する
際には、例えば、先端部４１ＡＢ１内における磁束の流
れを円滑にする観点から、先端部４１ＡＢ１のうちの前
方部分（幅が変化する部分）の長さＬが、上端縁Ｇ１の
幅Ｗ１の約１倍〜２．５倍、好ましくは約２倍となるよ
うにするのが好ましい。

【０１３４】＜第２の実施の形態に係る作用および効果
＞本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドでは、先端部４１
ＡＢ１の断面積Ｓ５が後端部５１ＡＢ２の断面積Ｓ６よ
りも小さくなると共に、露出面２０Ｅが逆台形状をなす
ように磁極部分層４１ＡＢを構成したので、上記第１の
実施の形態の場合と同様の作用により、垂直磁界の強度
を確保できると共に、スキュー発生時の弊害を防止する
ことができる。

【０１３５】特に、本実施の形態では、先端部４１ＡＢ
１の前方部分の断面積Ｓ５が露出面２０Ｅに近づくにし
たがって小さくなるようにしたので、上記第１の実施の
形態における《変形例１−７，１−８》（図１３，図１
４参照）にて説明した場合と同様の作用により、垂直磁
界の強度をより大きくすることができる。具体的に、本
実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドおよび《変形例１−１
１》にて説明した変形例としての薄膜磁気ヘッド（図１
７，図１８参照）のそれぞれについて垂直磁界の強度を
調べたところ、垂直磁界の強度は、本実施の形態におい
て変形例よりも３〜４％程度増加することが確認され
た。

【０１３６】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法では、ドライエッチング処理により前駆磁性
層パターン４１ＡＢＹに対してアンダーカットが施され
るため、最終的にアンダーカット構造の露出面２０Ｅを
有する磁極部分層４１ＡＢが形成される。したがって、
成膜手法を用いただけでは形成が困難な構造をなす磁極
部分層４１ＡＢを形成することが可能になり、多様な構
造的特徴を有する薄膜磁気ヘッドを製造することができ
る。

【０１３７】なお、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
またはその製造方法に関する上記以外の動作、作用、効
果および変形等は、例えば、上記第１の実施の形態と同
様である。

【０１３８】＜第２の実施の形態に係る変形例＞なお、
本実施の形態では、イオンビームエッチングを利用し
て、上記第１の実施の形態やその変形例において説明し
た各種構造を有する磁極部分層や、その他の構造を有す
る磁極部分層を形成することもできる。

【０１３９】《変形例２−１》例えば、上記第１の実施
の形態における《変形例１−１１》では、図１７に示し
たように、領域Ｆ１の側端縁Ｇ４が直線状をなすように
露出面２０Ｅを形成したが、必ずしもこれに限られるも
のではなく、例えば、図３７に示したように、側端縁Ｇ
４が凸状に湾曲するように露出面２０Ｅを形成すること
も可能である。図３７は露出面２０Ｅの構成に関する変
形例を表すものであり、図３に対応している。また、図
３８〜図４１は、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの
製造方法に対する変形例としての薄膜磁気ヘッドの製造
方法を説明するものであり、図３３〜図３５に対応して
いる。

【０１４０】側端縁Ｇ４が凸状に湾曲するような露出面
２０Ｅは、以下の手順により形成可能である。すなわ
ち、まず、ギャップ層部分９Ｃを形成したのち、図３８
に示したように、ギャップ層部９Ｃ上に、例えばスパッ
タリングにより、例えばパーマロイ等の高飽和磁束密度
材料を用いて、前駆磁性層５１ＡＢＸを形成する。

【０１４１】続いて、図３８に示したように、前駆磁性
層５１ＡＢＸ上に、例えば、前駆磁性層５１ＡＢＸの形
成材料よりもエッチング速度が遅いアルミナなどの非導
電性非磁性材料を用いて、バッファ層５２を選択的に形
成する。バッファ層５２を形成する際には、例えば、上
記第１の実施の形態において説明したバッファ層１４と
同様の平面形状を有するようにすると共に、上端縁Ｇ１
に対応する部分が幅Ｗ１より大きい幅Ｗ５（Ｗ５＞Ｗ
１）をなすようにする。

【０１４２】続いて、バッファ層５２をマスクとして用
いて、前駆磁性層５１ＡＢＸの延在面と直交する線（垂
線）Ｐ１から角度（照射角度）θ２＝約４０°±３０°
をなす方向からイオンビームを照射しながら、全体にエ
ッチング処理を施す。このエッチング処理によって前駆
磁性層５１ＡＢＸがパターニングされることにより、図
３９に示したように、対応部分５１ＡＢＹ１を含む前駆
磁性層パターン５１ＡＢＹが選択的に形成される。エッ
チング速度が遅いバッファ層５２を介して、斜め上方か
ら前駆磁性層５１ＡＢＸにエッチング処理が施されるこ
とにより、対応部分５１ＡＢＹ１は、上端が幅Ｗ５より
小さい幅Ｗ１（Ｗ１＜Ｗ５）をなし、下端が幅Ｗ１より
小さいＷ６（Ｗ６＜Ｗ１）をなすように形成される。な
お、エッチング時には、主に、横方向のエッチング成分
によりバッファ層５２の側方部が部分的に除去されると
共に、縦方向のエッチング成分によりギャップ層部分９
Ｃが部分的に掘り下げられる。ここで、前駆磁性層パタ
ーン５１ＡＢＹが本発明における「第１の前駆磁性層パ
ターン（請求項３２）」の一具体例に対応する。

【０１４３】続いて、図４０に示したように、例えばス
パッタリングにより、例えば前駆磁性層パターン５１Ａ
ＢＹの形成材料よりもエッチング速度が遅いアルミナな
どの非導電性非磁性材料を用いて、全体に被覆層５３を
形成する。被覆層５３を形成する際には、前駆磁性層パ
ターン５１ＡＢＹの上方部分の周囲が十分な厚みの被覆
層５３により覆われるように、成膜時間を比較的長めに
調整するようにする。ここで、バッファ層５２および被
覆層５３が本発明における「被覆層（請求項３２）」の
一具体例に対応する。

【０１４４】続いて、バッファ層５２および被覆層５３
をマスクとして用いて、前駆磁性層パターン５１ＡＢＹ
の延在面に対する垂線Ｐ１から比較的小さい角度、例え
ば角度（照射角度）θ３＝約３７．５°±７．５°をな
す方向からイオンビームを照射しながら前駆磁性層パタ
ーン５１ＡＢＹに対してエッチング処理を施す。このエ
ッチング処理により、図４１に示したように、対応部分
５１ＡＢＺ１を含む前駆磁性層パターン５１ＡＢＺが選
択的に形成される。エッチング速度が遅いバッファ層５
２および幅広の被覆層５３を介して、斜め上方から前駆
磁性層パターン５１ＡＢＹにイオンビームが照射される
ことにより、対応部分５１ＡＢＹ１の側面部に対するエ
ッチング量が下方に向かうにしたがって減少するため、
対応部分５１ＡＢＺ１は、上端が幅Ｗ１、下端がＷ６よ
り小さいＷ２をなし、その幅がギャップ層９に近づくに
したがって小さくなるように形成される。特に、対応部
分５１ＡＢＺ１の側端面は、例えば、凸状に湾曲する。
ここで、前駆磁性層パターン５１ＡＢＺが本発明におけ
る「第２の前駆磁性層パターン（請求項３２）」の一具
体例に対応する。

【０１４５】最後に、上記第１の実施の形態において図
３０に示した場合と同様に、機械加工や研磨工程により
前駆磁性層パターン５１ＡＢＺを研磨することにより、
図３７に示したように、側端縁Ｇ４が凸状に湾曲した露
出面２０Ｅが形成される。

【０１４６】この場合には、主に、幅広の被覆層５３の
存在により、イオンビームの照射角度θ２を比較的大き
くする必要がなく、比較的小さな照射角度θ３でイオン
ビームを照射した場合においても前駆磁性層パターン５
１ＡＢＹにアンダーカットが施される。したがって、ド
ライエッチング処理を利用した場合においても、比較的
簡略なエッチング条件において前駆磁性層パターン５１
ＡＢＺを形成することが可能になり、多様な構造的特徴
を有する薄膜磁気ヘッドをより容易に製造することがで
きる。

【０１４７】なお、露出面２０Ｅの側端縁Ｇ４は必ずし
も凸状に湾曲しなければならないものではなく、例え
ば、凹状に湾曲するようにしてもよい。

【０１４８】《変形例２−２》また、例えば、上記第１
の実施の形態における《変形例１−４》において説明し
た露出面２０Ｅ（図１０参照）は、ウェットエッチング
を利用して形成可能である。図４２および図４３は、本
実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法に対する他
の変形例としての薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ものであり、図３３〜図３５に対応している。

【０１４９】図１０に示した露出面２０Ｅは、以下の手
順により形成可能である。すなわち、まず、上記《変形
例２−１》において図３８および図３９に示した形成工
程を利用して、図４２に示したように、前駆磁性層パタ
ーン５１ＡＢＹに対応する前駆磁性層パターン６１ＡＢ
Ｙおよびバッファ層５２に対応するバッファ層６２を形
成する。前駆磁性層パターン６１ＡＢＹは、対応部分６
１ＡＢＹ１を含むように形成される。ここで、前駆磁性
層パターン６１ＡＢＹが本発明における「第１の前駆磁
性層パターン（請求項３６）」の一具体例に対応する。

【０１５０】続いて、図４２に示したように、例えばス
パッタリングにより、例えばアルミナ等の高耐食性を有
する非磁性材料を用いて、全体に被覆層６３を形成す
る。被覆層６３を形成する際には、例えば、上記《変形
例２−１》において被覆層５３を形成した場合とは異な
り、前駆磁性層パターン６１ＡＢＹの上方部分の周囲を
覆う被覆層６３の厚みが薄くなるように、成膜時間を比
較的短めに調整するようにする。ここで、バッファ層６
２および被覆層６３が本発明における「被覆層（請求項
３６）」の一具体例に対応する。

【０１５１】続いて、前駆磁性層パターン６１ＡＢＹの
みを選択的に溶解可能なエッチャントＥに、先工程まで
に形成した前駆磁性層パターン６１ＡＢＹを含む形成物
を浸漬させることにより、バッファ層６２および被覆層
６３をマスクとして用いて、前駆磁性層パターン６１Ａ
ＢＹに対してウェットエッチング処理を施す。エッチャ
ントＥとしては、例えば、前駆磁性層パターン６１ＡＢ
Ｙがパーマロイ等の鉄系合金よりなる場合には、第２塩
化鉄水溶液を用いるようにする。このエッチング処理に
より、前駆磁性層パターン６１ＡＢＹのうち、エッチャ
ントＥに不溶なアルミナ等よりなる被覆層６３により覆
われていない下方部分のみが局所的にエッチングされ、
図４３に示したように、対応部分６１ＡＢＺ１を含む前
駆磁性層パターン６１ＡＢＺが形成される。対応部分６
１ＡＢＺ１は、上端が幅Ｗ１、下端がＷ６より小さいＷ
２をなし、図１０に示した露出面２０Ｅに対応する断面
形状を有するように形成される。なお、ウェットエッチ
ング時には、エッチング量を調整するために、例えば、
エッチャントＥの組成、濃度および浸漬時間等を調整す
るようにする。ここで、前駆磁性層パターン６１ＡＢＺ
が本発明における「第２の前駆磁性層パターン（請求項
３６）」の一具体例に対応する。

【０１５２】最後に、上記第１の実施の形態において図
３０に示した場合と同様に、機械加工や研磨工程により
前駆磁性層パターン５１ＡＢＺを研磨して露出面２０Ｅ
を形成することにより、図１０に示した構成の露出面２
０Ｅが形成される。

【０１５３】この場合には、ウェットエッチング処理を
利用することにより、ドライエッチング処理を利用した
場合よりも、前駆磁性層パターン６１ＡＢＹに対して局
所的に顕著なアンダーカットが施されることとなるた
め、顕著なアンダーカット構造を有する前駆磁性層パタ
ーン６１ＡＢＺが形成される。したがって、ドライエッ
チング処理では形成が困難な構造をなす前駆磁性層パタ
ーン６１ＡＢＺを形成することが可能となり、より多様
な構造的特徴を有する薄膜磁気ヘッドを製造することが
できる。

【０１５４】以上、いくつかの実施の形態を挙げて本発
明を説明したが、本発明はこれらの実施の形態に限定さ
れず、種々の変形が可能である。すなわち、上記各実施
の形態で示した薄膜磁気ヘッドの構成やその製造方法に
係る詳細等は、必ずしも上記各実施の形態において説明
したものに限られるものではなく、（１）露出面におけ
る媒体流出側の端縁の幅が媒体流入側の端縁の幅よりも
大きく、かつ、媒体流出側の端縁の幅がこの端縁および
媒体流入側の端縁の間の任意の中間位置における露出面
の幅以上であるか、または、（２）下部磁極部分層がエ
アベアリング面から離れた位置から延在し、かつ、上部
磁極部分層の膜厚に対応する一端面が露出面をなすよう
に主磁極を構成することにより、この主磁極の構成に基
づいて垂直磁界量の強度を確保し、薄膜磁気ヘッドの記
録性能を向上させることが可能な限り、自由に変更可能
である。

【０１５５】具体的には、例えば、上記第１の実施の形
態において説明した２段階形成法および上記第２の実施
の形態において説明したドライエッチング法を併用し
て、例えば、図４４および図４５に示したように、上記
各実施の形態において示した構成以外の特徴的な各種構
成を有する磁極部分層を形成することも可能である。図
４４および図４５は、磁極部分層の構成に関する他の変
形例を表すものであり、いずれも図３６に対応してい
る。

【０１５６】図４４では、例えば、２段階形成法を利用
して下部磁極部分層７１Ａ（先端部７１Ａ１，後端部７
１Ａ２）および上部磁極部分層７１Ｂ（先端部７１Ｂ
１，後端部７１Ｂ２）を形成する際、下部磁極部分層７
１Ａの形成手法としてドライエッチング法を利用した場
合について示している。下部磁極部分層７１Ａは、例え
ば図３６に示した磁極部分層４１ＡＢと同様の構成をな
し、上部磁極部分層７１Ｂは、例えば図２に示した上部
磁極部分層１２Ｂと同様の構成をなしている。露出面２
０Ｅは、矩形と逆台形とが組み合わされた六角形状をな
す。この場合においても、上記各実施の形態の場合と同
様の効果を得ることができる。なお、図４４に示したバ
ッファ層７２は、図３６に示したバッファ層４２に対応
するものである。

【０１５７】図４５では、例えば、図４４に示した下部
磁極部分層７１Ａおよび上部磁極部分層７１Ｂを形成す
る際、下部磁極部分層７１Ａの下方に追加磁極部分層７
１Ｄ（先端部７１Ｄ１，後端部７１Ｄ２）を形成する工
程を追加した場合について示している。この追加磁極部
分層７１Ｄは、エアベアリング面２０からリセスしてい
る点を除き、例えば、上部磁極部分層７１Ｂとほぼ同様
の構成をなしている。露出面２０Ｅは、図４４に示した
場合と同様に六角形状をなす。この場合においても、上
記各実施の形態の場合と同様の効果を得ることができ
る。

【０１５８】また、上記の他、図４６〜図５１に示した
構成をなすように磁極部分層を形成してもよい。図４
６，図４８，図５０は、磁極部分層の構成に関するさら
に他の変形例を表すものであり、いずれも図１８に対応
している。図４７，図４９，図５１は、それぞれ図４
６，図４８，図５０に示した磁極部分層のうちの要部
（先端部）の露出面および断面の構成を表すものであ
り、各図中の（Ａ）〜（Ｆ）は図４６，図４８，図５０
中に示した位置Ａ〜Ｆに対応している。

【０１５９】図４６に示した磁極部分層１２ＡＢでは、
例えば、先端部１２ＡＢ１の露出面２０Ｅは、図４７
（Ａ）に示したように、図１７に示した場合と同様に逆
台形状をなしており、露出面２０Ｅに平行な先端部１２
ＡＢ１の断面Ｍの形状は、図４７（Ｂ）〜（Ｆ）に示し
たように、長さ方向（図中のＹ軸方向）における位置Ｂ
〜Ｆにおいて、露出面２０Ｅに近づくにしたがって面積
が次第に小さくなるように変化している。すなわち、例
えば、断面Ｍは、媒体流出側に位置する上端縁Ｄ１（第
１の断面端縁）と、媒体流入側に位置する下端縁Ｄ２
（第２の断面端縁）と、幅方向に位置する側端縁Ｄ３と
を有しており、上端縁Ｄ１の幅Ｗ７またはその両端の角
度（例えば上端縁Ｄ１と側端縁Ｄ３とがなす角度）γの
少なくとも一方が露出面２０Ｅに近づくにしたがって小
さくなっている。断面Ｍにおける上端縁Ｄ１を底辺とす
る高さＶは、例えば、露出面２０Ｅからの距離によら
ず、位置Ａ〜Ｆにおいて一定である。なお、具体的な寸
法例としては、図４７（Ａ）〜（Ｆ）の順に、上端縁Ｄ
１の幅Ｗ７がそれぞれ０．１５μｍ，０．１５μｍ，
０．１５μｍ，０．１８μｍ，０．２０μｍ，０．２２
μｍであり、角度γがそれぞれ８１°，８２°，８３
°，８５°，８７°，８７°である。上記寸法例におい
て、露出面２０Ｅ近傍における上端縁Ｄ１の幅Ｗ１を一
定（０．１５μｍ）にしているのは、研磨加工等を使用
して露出面２０Ｅを含むエアベアリング面を形成した際
に、研磨量に多少の誤差が生じたとしても、記録トラッ
ク幅を規定することとなる目標幅（０．１５μｍ）を担
保するためである。このため、例えば、上端縁Ｄ１の幅
Ｗ１を一定とする区間は、エアベアリング面の形成時に
おける形成誤差（研磨誤差）に基づいて決定されるのが
好ましい。

【０１６０】図４８に示した磁極部分層１２ＡＢは、例
えば、先端部１２ＡＢ１のうちの前方側下方部が選択的
に除去された構成をなしており、図４９（Ａ）に示した
ように、先端部１２ＡＢ１の露出面２０Ｅは逆三角形状
をなしているが、露出面２０Ｅに平行な先端部１２ＡＢ
１の断面Ｍの形状は、図４９（Ｂ）〜（Ｄ）に示したよ
うに、長さ方向（図中のＹ軸方向）における位置Ｂ〜Ｄ
において、露出面２０Ｅに近づくにしたがって面積が次
第に小さくなるように変化している。すなわち、例え
ば、断面Ｍにおける上端縁Ｄ１の幅Ｗ７は位置によらず
一定であり、下端縁Ｄ２の幅Ｗ８は露出面２０Ｅに近づ
くにしたがって小さくなっている。より具体的には、断
面Ｍの形状は、露出面２０Ｅに近づくにしたがって、矩
形（図４９（Ｄ））から逆台形（図４９（Ｃ））を経て
逆三角形（図４９（Ｂ））に変化しており、特に、断面
Ｍにおける上端縁Ｄ１を底辺とする高さＶは、断面Ｍが
逆三角形状をなす区間において、露出面２０Ｅに近づく
にしたがって媒体流出側に小さくなっている。

【０１６１】図５０に示した磁極部分層１２ＡＢは、例
えば、露出面２０Ｅに平行な先端部１２ＡＢ１の断面Ｍ
の形状が、矩形（図５１（Ｄ））から、矩形と逆台形と
が組み合わされてなる六角形（図５１（Ｃ））を経て、
矩形と逆三角形とが組み合わされてなる五角形（図５１
（Ｂ））に変化している点を除き、図４８に示した場合
と同様の構成的特徴を有するものである。すなわち、図
５０に示した磁極部分層１２ＡＢにおいても、断面Ｍに
おける上端縁Ｄ１を底辺とする高さＶは、断面Ｍが五角
形をなす区間において、露出面２０Ｅに近づくにしたが
って媒体流出側に小さくなっている。

【０１６２】なお、図４６〜図５１に示した一連の磁極
部分層１２ＡＢの断面Ｍは、例えば、上記実施の形態に
おいて説明した露出面２０Ｅと同様の構成的特徴を有し
ている。すなわち、上端縁Ｄ１の幅Ｗ７は、下端縁Ｄ２
の幅Ｗ８よりも大きく、かつ上端縁Ｄ１および下端縁Ｄ
２の間の任意の中間位置における断面Ｍの幅Ｗ９以上と
なっている。

【０１６３】図４６〜図５１に示した一連の磁極部分層
１２ＡＢは、主に、上記第２の実施の形態において説明
したドライエッチング法を使用して、そのエッチング範
囲ならびにエッチング量等の条件を調整することにより
形成可能である。具体的には、例えば、上記第２の実施
の形態において説明したように、前駆磁性層パターン４
１ＡＢＹをエッチングする際、幅広の後方部分の存在に
よりエッチング時に影となる部分が生じ、これにより場
所によってエッチング量に差異が生じることを利用すれ
ば、その後方部分の形状や大きさを調整して意図的にエ
ッチング量を制御することにより、図４６〜図５１に示
したような特徴的な構成をなすように磁極部分層１２Ａ
Ｂを形成可能となる。なお、エッチング量を制御可能な
後方部分の形状に関するパラメータとしては、例えば、
図４６，図４８，図５０に示した磁極部分層１２ＡＢの
幅が広がり始める部分の角度、すなわち磁極部分層１２
ＡＢの延在方向（図中のＹ軸方向）に対して後端部１２
ＡＢ２の前方側の側端縁がなす角度δ（フレア角度）が
挙げられる。このフレア角度δは、例えば、４５°〜９
０°、好ましくは６０°である。これらの図４６〜図５
１に示したいずれの場合においても、上記実施の形態の
場合と同様の効果を得ることができる。

【０１６４】なお、本発明では、特に、下部磁極部分層
および上部磁極部分層の構成や先端面の形状は、必ずし
も上記実施の形態や変形例等に示した構造的特徴を精密
に有していなければならないわけではなく、薄膜磁気ヘ
ッドの記録性能の向上に係る効果を得ることが可能な限
りにおいて、辺部に多少の歪みを有していてもよいし、
あるいは角部に多少の丸みを有していてもよい。

【０１６５】また、上記各実施の形態では、図１に示し
たように、ギャップ層部分９Ｃ上に下部磁極部分層１２
Ａおよび上部磁極部分層１２Ｂがこの順に積層され、薄
膜磁気ヘッドに対して記録媒体が相対的に上方（進行方
向Ｂ）に向かって進行するようにしたが、必ずしもこれ
に限られるものではなく、例えば、図５２に示したよう
に、記録媒体が下方（進行方向Ｂ）に向かって進行し、
この記録媒体の進行方向に対応して、ギャップ層部分９
Ｃ上に上部磁極部分層１２Ｂおよび下部磁極部分層１２
Ａがこの順に積層されるようにしてもよい。この場合に
おいても、上記実施の形態の場合と同様の効果を得るこ
とができる。

【０１６６】また、上記各実施の形態およびその変形例
では、複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法について説明し
たが、本発明は、例えば、書き込み用の誘導型磁気変換
素子を有する記録専用の薄膜磁気ヘッドや、記録・再生
兼用の誘導型磁気変換素子を有する薄膜磁気ヘッドにも
適用可能である。また、本発明は、書き込み用の素子お
よび読み出し用の素子の積層順序を逆転させた構造の薄
膜磁気ヘッドについても適用可能である。

【０１６７】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし請
求項１９のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドによれ
ば、トラック幅規定部分の露出面における第１の端縁の
幅が第２の端縁の幅よりも大きく、かつ、第１の端縁の
幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間位置におけ
る露出面の幅以上であるようにしたので、磁束の放出路
となる露出面の面積が十分に確保されると共に、トラッ
ク幅規定部分に流入した磁束は、露出面のうち、主要な
磁束の放出路となる、より幅が広い第１の端縁側に集中
する。したがって、記録媒体対抗面まで必要十分な磁束
が供給されるため、垂直磁界の強度を確保し、記録性能
を向上させることができる。また、スキュー発生時にお
ける記録トラック幅の増大を回避することもできる。

【０１６８】また、請求項２０または請求項２１に記載
の薄膜磁気ヘッドによれば、トラック幅規定部分のう
ち、第１の磁性膜が、記録媒体対向面から離れた位置か
ら記録媒体対向面より離れる方向に延在し、第２の磁性
膜が、膜厚に対応する一端面が露出面をなすようにした
ので、トラック幅規定部分内を記録媒体対向面に向かっ
て流れる磁束は、記録媒体対向面近傍において第２の磁
性膜に円滑に流入する。したがって、記録媒体対向面近
傍において、主要な磁束の放出部分となる第２の磁性膜
に磁束が集中するため、垂直磁界の強度をより大きくす
ることができる。

【０１６９】また、請求項２２ないし請求項２６記載の
いずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、トラック幅規定部分の露出面における第１の端縁の
幅が第２の端縁の幅よりも大きく、かつ、第１の端縁の
幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間位置におけ
る露出面の幅以上となるように第２の磁性層を形成した
ので、請求項１ないし請求項１３のいずれか１項に記載
した、記録性能の向上について利点を有する本発明の薄
膜磁気ヘッドを、既存の製造技術を利用して容易に製造
することができる。

【０１７０】また、請求項２７ないし請求項２９のいず
れか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、
ギャップ層上に２つの前駆磁性膜を順次積層したのち、
これらの２つの前駆磁性膜を加工して記録媒体対向面を
形成することにより、記録媒体対向面に露出した第１の
露出面を有する第１の磁性膜と記録媒体対向面に露出し
た第２の露出面を有する第２の磁性膜とがこの順に積層
された積層構造をなすように第２の磁性層を形成したの
で、第１の磁性膜の構造と第２の磁性膜の構造とをそれ
ぞれ独立して設定することが可能になる。したがって、
第１の磁性膜および第２の磁性膜のそれぞれの構造の自
由度を大きくし、多様な構造的特徴を有するように、本
発明の薄膜磁気ヘッドを製造することができる。

【０１７１】また、請求項３０または請求項３１に記載
の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、ギャップ層上に
第１の前駆磁性層パターンおよび非磁性層パターンを順
次形成し、この非磁性層パターンをマスクとして用い
て、第１の前駆磁性層パターンの延在面に対して直交す
る方向から４５°以上の角度をなすような方向からイオ
ンビームを照射しながら第１の前駆磁性層パターンを選
択的にドライエッチングすることにより第２の前駆磁性
層パターンを形成したのち、この第２の前駆磁性層パタ
ーンを加工して記録媒体対向面を形成することにより、
トラック幅規定部分が露出面を構成することとなるよう
に第２の磁性層を形成したので、ドライエッチング処理
により第２の前駆磁性層パターンに対してアンダーカッ
トが施されることととなり、アンダーカット構造を有す
る第２の磁性層が形成される。したがって、単に成膜手
法を用いただけでは形成が困難な構造をなすように第２
の磁性層を形成することが可能になり、多様な構造的特
徴を有するように本発明の薄膜磁気ヘッドを製造するこ
とができる。

【０１７２】また、請求項３２ないし請求項３５のいず
れか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、
ギャップ層上に形成した第１の前駆磁性層パターンのう
ち、ギャップ層から遠い側の部分の周囲を覆うように所
定の非磁性材料を用いて被覆層を形成し、この被覆層を
マスクとして用いて、第１の前駆磁性層パターンの延在
面に対して直交する方向から所定の角度をなすような方
向からイオンビームを照射しながら第１の前駆磁性層パ
ターンを選択的にドライエッチングすることにより第２
の前駆磁性層パターンを形成したのち、この第２の前駆
磁性層パターンを加工して記録媒体対向面を形成するこ
とにより、トラック幅規定部分が露出面を構成すること
となるように第２の磁性層を形成したので、被覆層の存
在により、第１の前駆磁性層パターンの延在面に対して
直交する方向から比較的大きな角度をなすような方向か
らイオンビームを照射する必要がなく、比較的小さな角
度をなすような方向からイオンビームを照射することに
より第１の前駆磁性層パターンにアンダーカットが施さ
れる。したがって、ドライエッチング処理を利用した場
合においても、比較的簡略なエッチング条件において第
２の磁性層を形成することが可能になり、多様な構造的
特徴を有する本発明の薄膜磁気ヘッドをより容易に製造
することができる。

【０１７３】また、請求項３６ないし請求項４１のいず
れか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、
ギャップ層上に形成した第１の前駆磁性層パターンのう
ち、ギャップ層から遠い側の部分の周囲を覆うように所
定の非磁性材料を用いて被覆層を形成し、この被覆層を
マスクとして所定のエッチャントを用いたウェットエッ
チングにより、第１の前駆磁性層パターンにおけるギャ
ップ層に近い側の部分を選択的にエッチングすることに
より第２の前駆磁性層パターンを形成したのち、この第
２の前駆磁性層パターンを加工して記録媒体対向面を形
成することにより、トラック幅規定部分が記録媒体対向
面に露出した露出面を有することとなるように第２の磁
性層を形成するようにしたので、ウェットエッチング処
理を利用することにより、ドライエッチング処理を利用
した場合よりも、第２の前駆磁性層パターンに対して顕
著なアンダーカットが施されることとなり、顕著なアン
ダーカット構造を有する第２の磁性層が形成される。し
たがって、ドライエッチング処理では形成が困難な構造
をなすように第２の磁性層を形成することが可能とな
り、より多様な構造的特徴を有するように、本発明の薄
膜磁気ヘッドを製造することができる。

【０１７４】また、請求項４２記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、第１の磁性層部分の露出面における第１の端縁
の幅が第２の端縁の幅よりも大きく、かつ、第１の端縁
の幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間位置にお
ける露出面の幅以上であるようにしたので、磁束の放出
路となる露出面の面積が十分に確保されると共に、第１
の磁性層部分に流入した磁束は、露出面のうち、主要な
磁束の放出路となる、より幅が広い第１の端縁側に集中
する。したがって、記録媒体対抗面まで必要十分な磁束
が供給されるため、垂直磁界の強度を確保し、記録性能
を向上させることができる。

【０１７５】また、請求項４３記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、第１の磁性層部分の露出面における第２の端縁
の幅が第１の端縁の幅よりも大きく、かつ、第２の端縁
の幅が第１および第２の端縁の間の任意の中間位置にお
ける露出面の幅以上であるようにしたので、磁束の放出
路となる露出面の面積が十分に確保されると共に、第１
の磁性層部分に流入した磁束は、露出面のうち、主要な
磁束の放出路となる、より幅が広い第２の端縁側に集中
する。したがって、垂直磁界の強度を確保し、記録性能
を向上させることができる。

【０１７６】特に、請求項３記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、トラック幅規定部分が、記録媒体対向面に平行な
断面の面積が記録媒体対向面に近づくにしたがって小さ
くなる部分を有するようにしたので、上記断面の面積が
記録媒体対向面からの距離によらず一定である場合より
も、トラック幅規定部分内を流れる磁束が断面の面積の
減少に応じて円滑に集束される。したがって、垂直磁界
の強度をより大きくすることができる。

【０１７７】また、請求項１０または請求項１１あるい
は請求項２１に記載の薄膜磁気ヘッドによれば、露出面
の第２の領域の幅が第２の端縁からの距離によらず一定
となるようにしたので、第２の領域の幅が第２の端縁に
近づくにしたがって小さくなる場合とは異なり、形成時
の厚み誤差によりトラック幅規定部分の形成厚みが目標
厚みよりも薄くなったとしても、記録トラック幅を規定
することとなる、露出面における第１の端縁の幅が一定
に維持される。したがって、記録トラック幅をばらつき
なく規定することができる。

【０１７８】また、請求項１３記載の薄膜磁気ヘッドま
たは請求項２４記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、露出面における第２の領域の側端縁と第１の端縁と
の間の角度が７０°以上、かつ９０°よりも小さい範囲
内となるようにしたので、露出面のうち、主要な磁束の
放出路となる第２の領域の幅を第２の端縁に近づくにし
たがって小さくなるようにした場合においても、第２の
領域の面積が十分に確保される。したがって、この観点
においても、垂直磁界の強度の確保に寄与することがで
きる。

【０１７９】また、請求項１７あるいは請求項２０に記
載の薄膜磁気ヘッドによれば、第１および第２の磁性膜
のうち、第２の磁性膜が露出面を構成するようにしたの
で、第１の磁性膜は記録媒体対向面から後退することと
なり、第１の磁性膜内を記録媒体対向面に向かって流れ
る磁束は、記録媒体対向面近傍において第２の磁性膜に
円滑に流入することとなる。したがって、記録媒体対向
面近傍において、主要な磁束の放出部分となる第２の磁
性膜に磁束が集中するため、垂直磁界の強度をより大き
くすることができる。

【０１８０】また、請求項１８記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、第２の磁性膜が第１の磁性膜よりも大きい飽和
磁束密度を有するようにしたので、第１の磁性膜および
第２の磁性膜の内部を流れる磁束は、主要な磁束の放出
部分となる第２の磁性膜に集中する。したがって、この
観点においても、垂直磁界の強度の確保に寄与すること
ができる。

【０１８１】また、請求項４４記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、第１の磁性層部分における記録媒体対向面に平
行な第１の断面の面積が、第２の磁性層部分における記
録媒体対向面に平行な第２の断面の面積よりも小さくな
るようにしたので、第２の磁性層部分から第１の磁性層
部分に流入した磁束がその流入過程において断面の面積
の減少に応じて円滑に集束され、磁束の飽和現象が抑制
される。したがって、磁束の集束に伴う必要十分な磁束
供給に係る観点から、この点においても垂直磁界の強度
が確保される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッ
ドの断面構成を表す断面図である。

【図２】図１に示した薄膜磁気ヘッドの要部の斜視構成
を拡大して表す斜視図である。

【図３】図１に示した薄膜磁気ヘッドの要部の露出面の
平面構成を拡大して表す平面図である。

【図４】図３に示した露出面に対する比較例としての露
出面の平面構成を表す平面図である。

【図５】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッ
ドについての利点を説明するための平面図である。

【図６】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッ
ドに対する比較例としての薄膜磁気ヘッドについての欠
点を説明するための平面図である。

【図７】露出面の構成に関する変形例を表す平面図であ
る。

【図８】露出面の構成に関する他の変形例を表す平面図
である。

【図９】露出面の構成に関するさらに他の変形例を表す
平面図である。

【図１０】露出面の構成に関するさらに他の変形例を表
す平面図である。

【図１１】露出面の構成に関するさらに他の変形例を表
す平面図である。

【図１２】露出面の構成に関するさらに他の変形例を表
す平面図である。

【図１３】下部磁極部分層の構成に関する変形例を表す
斜視図である。

【図１４】下部磁極部分層の構成に関する他の変形例を
表す斜視図である。

【図１５】下部磁極部分層の構成に関するさらに他の変
形例を表す斜視図である。

【図１６】下部磁極部分層の構成に関するさらに他の変
形例を表す斜視図である。

【図１７】露出面の構成に関するさらに他の変形例を表
す平面図である。

【図１８】下部磁極部分層の構成に関するさらに他の変
形例を表す斜視図である。

【図１９】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法における一工程を説明するための断面図
である。

【図２０】図１９に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図２１】図２０に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図２２】図２１に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図２３】図２２に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図２４】図２３に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図２５】図１９に示した断面図に対応する平面図であ
る。

【図２６】図２０に示した断面図に対応する平面図であ
る。

【図２７】図２２に示した断面図に対応する平面図であ
る。

【図２８】図２３に示した断面図に対応する平面図であ
る。

【図２９】図２４に示した断面図に対応する平面図であ
る。

【図３０】図２９に続く工程を説明するための平面図で
ある。

【図３１】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法についての利点を説明するための平面図
である。

【図３２】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法に対する変形例としての薄膜磁気ヘッド
の製造方法についての問題点を説明するための平面図で
ある。

【図３３】本発明の第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法における一工程を説明するための断面図
である。

【図３４】図３３に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図３５】図３４に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図３６】本発明の第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの要部の斜視構成を表す斜視図である。

【図３７】露出面の構成に関するさらに他の変形例を表
す平面図である。

【図３８】本発明の第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法に関する変形例としての薄膜磁気ヘッド
の製造方法における一工程を説明するための断面図であ
る。

【図３９】図３８に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図４０】図３９に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図４１】図４０に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図４２】本発明の第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法に関する他の変形例としての薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法における一工程を説明するための断面図
である。

【図４３】図４２に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図４４】磁極部分層の構成に関する変形例を表す斜視
図である。

【図４５】磁極部分層の構成に関する他の変形例を表す
斜視図である。

【図４６】磁極部分層の構成に関するさらに他の変形例
を表す斜視図である。

【図４７】図４６に示した磁極部分層のうちの要部の露
出面および断面の構成を表す図である。

【図４８】磁極部分層の構成に関するさらに他の変形例
を表す斜視図である。

【図４９】図４８に示した磁極部分層のうちの要部の露
出面および断面の構成を表す図である。

【図５０】磁極部分層の構成に関するさらに他の変形例
を表す斜視図である。

【図５１】図５１に示した磁極部分層のうちの要部の露
出面および断面の構成を表す図である。

【図５２】薄膜磁気ヘッドの構成に関する変形例を表す
図である。

【符号の説明】

１…基板、２…絶縁層、３…下部シールド層、４…シー
ルドギャップ膜、５…ＭＲ素子、６…上部シールド層、
７…非磁性層、８…補助磁極、９…ギャップ層、９Ａ，
９Ｂ，９Ｃ…ギャップ層部分、１０…薄膜コイル、１１
…連結部、１２…主磁極、１２Ａ，７１Ａ…下部磁極部
分層、１２Ａ１，１２Ｂ１，１２ＡＢ１，７１Ａ１，７
１Ｂ１，７１Ｄ１…先端部、１２Ａ２，１２Ｂ２，１２
ＡＢ２，７１Ａ２，７１Ｂ２，７１Ｄ２…後端部、１２
ＡＢ…磁極部分層、１２ＡＸ，１２ＡＹ，１２ＢＹ，４
１ＡＢＹ，４１ＡＢＺ，５１ＡＢＹ，５１ＡＢＺ，６１
ＡＢＹ，６１ＡＢＺ…前駆磁性層パターン、１２ＡＸ
１，１２ＡＹ１，１２ＢＹ１，４１ＡＢＹ１，４１ＡＢ
Ｚ１、５１ＡＢＹ１，５１ＡＢＺ１，６１ＡＢＹ１，６
１ＡＢＺ１…対応部分、１２Ｂ，７１Ｂ…上部磁極部分
層、１２ＢＸ，４１ＡＢＸ，５１ＡＢＸ…前駆磁性層、
１２Ｃ…ヨーク部分層、１３…埋込層、１４，４２，５
２，７２…バッファ層、１５…オーバーコート層、２０
…エアベアリング面、２０Ｅ…露出面、２０ＥＲ…リセ
ス面、３０…フレームパターン、４２Ｘ…前駆バッファ
層、４３…マスク、５３，６３…被覆層、７１Ｄ…追加
磁極部分層、１００Ａ…再生ヘッド、１００Ｂ…記録ヘ
ッド、Ｂ…記録媒体の進行方法、Ｄ３…側端縁、Ｅ…エ
ッチャント、Ｆ１，Ｆ２…領域、Ｇ１，Ｄ１…上端縁、
Ｇ２，Ｄ２…下端縁、Ｇ３，Ｇ４…側端縁、Ｈ…記録媒
体の円周接線方向、Ｍ…断面、Ｎ…連結位置、Ｐ１…垂
線、Ｐ２…中心線、Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５，Ｓ
６…断面積、ＴＷ２…記録トラック幅、θ１，θ２，θ
３…照射角度、ω…スキュー角度。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 六本木 哲也 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 乘附 康之 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D033 AA01 AA05 BA01 BA07 BA12 BA13 DA02 DA03 DA07 DA08 DA31

Claims (44)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の進行方向に移動する記録媒体を備
   えた磁気記録再生装置に用いられ、 前記記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
   において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記
   録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連
   結された第１および第２の磁性層と、前記互いに対向す
   る磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第１お
   よび第２の磁性層の間にこれらの第１および第２の磁性
   層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備え
   た薄膜磁気ヘッドであって、 前記第２の磁性層は、 前記記録媒体対向面に露出した露出面を有すると共に前
   記記録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定
   部分を含み、 前記露出面は、前記進行方向における媒体流出側に位置
   する第１の端縁と、前記進行方向における媒体流入側に
   位置する第２の端縁とを有し、 前記第１の端縁の幅が前記第２の端縁の幅よりも大き
   く、かつ、前記第１の端縁の幅が前記第１および第２の
   端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
   であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 前記トラック幅規定部分は、前記記録媒
   体対向面に平行な断面の面積が前記記録媒体対向面から
   の距離によらず一定である部分を有することを特徴とす
   る請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 前記トラック幅規定部分は、前記記録媒
   体対向面に平行な断面の面積が前記記録媒体対向面に近
   づくにしたがって小さくなる部分を有することを特徴と
   する請求項１または請求項２に記載の薄膜磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 前記トラック幅規定部分における前記記
   録媒体対向面に平行な断面は、前記媒体流出側に位置す
   る第１の断面端縁と、前記媒体流入側に位置する第２の
   断面端縁とを有し、前記第１の断面端縁の幅が前記第２
   の断面端縁の幅よりも大きく、かつ、前記第１の断面端
   縁の幅が前記第１および第２の断面端縁の間の任意の中
   間位置における前記断面の幅以上であり、 前記第１の断面端縁の幅またはその両端の角度の少なく
   とも一方は、前記記録媒体対向面に近づくにしたがって
   小さくなり、 かつ、前記第１の断面端縁を底辺とする高さは、前記記
   録媒体対向面からの距離によらず一定であることを特徴
   とする請求項３記載の薄膜磁気ヘッド。
5. 【請求項５】 前記トラック幅規定部分における前記記
   録媒体対向面に平行な断面は、前記媒体流出側に位置す
   る第１の断面端縁と、前記媒体流入側に位置する第２の
   断面端縁とを有し、前記第１の断面端縁の幅が前記第２
   の断面端縁の幅よりも大きく、かつ、前記第１の断面端
   縁の幅が前記第１および第２の断面端縁の間の任意の中
   間位置における前記断面の幅以上であり、 前記第１の断面端縁の幅は、前記記録媒体対向面からの
   距離によらず一定であり、 かつ、前記第２の断面端縁の幅は、前記記録媒体対向面
   に近づくにしたがって小さくなっていることを特徴とす
   る請求項３記載の薄膜磁気ヘッド。
6. 【請求項６】 前記トラック幅規定部分における前記記
   録媒体対向面に平行な断面の形状は、前記記録媒体対向
   面に近づくにしたがって、矩形から台形を経て三角形に
   変化しており、 前記露出面は三角形状をなしていることを特徴とする請
   求項５記載の薄膜磁気ヘッド。
7. 【請求項７】 前記第１の断面端縁を底辺とする高さ
   は、前記トラック幅規定部分における前記記録媒体対向
   面に平行な断面が三角形状をなす区間において、前記記
   録媒体対向面に近づくにしたがって前記媒体流出側に小
   さくなっていることを特徴とする請求項６記載の薄膜磁
   気ヘッド。
8. 【請求項８】 前記トラック幅規定部分における前記記
   録媒体対向面に平行な断面の形状は、前記記録媒体対向
   面に近づくにしたがって、矩形から、矩形と台形とが組
   み合わされてなる六角形を経て、矩形と三角形とが組み
   合わされてなる五角形に変化しており、 前記露出面は三角形状をなしていることを特徴とする請
   求項５記載の薄膜磁気ヘッド。
9. 【請求項９】 前記第１の断面端縁を底辺とする高さ
   は、前記トラック幅規定部分における前記記録媒体対向
   面に平行な断面が、矩形と三角形とが組み合わされてな
   る五角形状をなす区間において、前記記録媒体対向面に
   近づくにしたがって前記媒体流出側に小さくなっている
   ことを特徴とする請求項８記載の薄膜磁気ヘッド。
10. 【請求項１０】 前記露出面は、前記媒体流入側の第１
    の領域と、前記媒体流出側の第２の領域とを含み、 前記第１の領域の幅は、前記第２の端縁に近づくにした
    がって小さくなり、かつ、前記第２の領域の幅は、前記
    第２の端縁からの距離によらず一定であることを特徴と
    する請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の薄
    膜磁気ヘッド。
11. 【請求項１１】 前記露出面は、前記媒体流入側の第１
    の領域と、前記媒体流出側の第２の領域とを含み、 前記第１の領域の幅および前記第２の領域の幅は、それ
    ぞれ、前記第２の端縁からの距離によらず一定であるこ
    とを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項
    に記載の薄膜磁気ヘッド。
12. 【請求項１２】 前記露出面は、前記媒体流入側の第１
    の領域と、前記媒体流出側の第２の領域とを含み、 前記第１の領域の幅および前記第２の領域の幅は、それ
    ぞれ、前記第２の端縁に近づくにしたがって小さくなり
    かつ、 前記第１の領域と前記第２の領域との境界部における幅
    寸法が不連続となっていることを特徴とする請求項１な
    いし請求項３のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。
13. 【請求項１３】 前記露出面における前記第２の領域の
    側端縁と前記第１の端縁との間の角度が、７０度以上、
    かつ９０度よりも小さいことを特徴とする請求項１２記
    載の薄膜磁気ヘッド。
14. 【請求項１４】 前記露出面の幅は、前記第２の端縁に
    近づくにしたがって小さくなることを特徴とする請求項
    １ないし請求項３のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
15. 【請求項１５】 前記露出面は、前記媒体流入側の第１
    の領域と、前記媒体流出側の第２の領域とを含み、 前記第１の領域の幅は、前記第２の端縁からの距離によ
    らず一定であり、かつ、前記第２の領域の幅は、前記第
    ２の端縁に近づくにしたがって小さくなることを特徴と
    する請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の薄
    膜磁気ヘッド。
16. 【請求項１６】 前記トラック幅規定部分は、前記媒体
    流入側から順に、第１の磁性膜と第２の磁性膜とを積層
    して構成されており、 前記第１および第２の磁性膜の双方が、前記露出面を構
    成していることを特徴とする請求項１ないし請求項１５
    のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。
17. 【請求項１７】 前記トラック幅規定部分は、前記媒体
    流入側から順に、第１の磁性膜と第２の磁性膜とを積層
    して構成されており、 前記第１および第２の磁性膜のうち、前記第２の磁性膜
    のみが、前記露出面を構成していることを特徴とする請
    求項１ないし請求項１５のいずれか１項に記載の薄膜磁
    気ヘッド。
18. 【請求項１８】 前記第２の磁性膜は、前記第１の磁性
    膜よりも大きい飽和磁束密度を有することを特徴とする
    請求項１６または請求項１７に記載の薄膜磁気ヘッド。
19. 【請求項１９】 前記ギャップ層は、前記記録媒体対向
    面における前記第２の磁性層の厚みよりも大きい厚みを
    有することを特徴とする請求項１ないし請求項１８のい
    ずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。
20. 【請求項２０】 所定の進行方向に移動する記録媒体を
    備えた磁気記録再生装置に用いられ、 前記記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
    において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記
    録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連
    結された第１および第２の磁性層と、前記互いに対向す
    る磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第１お
    よび第２の磁性層の間にこれらの第１および第２の磁性
    層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備え
    た薄膜磁気ヘッドであって、 前記第２の磁性層は、 前記記録媒体対向面に露出した露出面を有すると共に前
    記記録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定
    部分を含み、 前記トラック幅規定部分は、 前記記録媒体対向面から離れた所定の位置から前記記録
    媒体対向面より離れる方向に延在する第１の磁性膜と、
    膜厚に対応する一端面が前記露出面をなす第２の磁性膜
    とを、前記進行方向における媒体流入側から順に積層し
    てなる積層構造体を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
    ド。
21. 【請求項２１】 前記第２の磁性膜の前記露出面の幅
    は、前記第１の磁性膜からの距離によらず一定であるこ
    とを特徴とする請求項２０記載の薄膜磁気ヘッド。
22. 【請求項２２】 所定の進行方向に移動する記録媒体を
    備えた磁気記録再生装置に用いられ、 前記記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
    において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記
    録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連
    結された第１および第２の磁性層と、前記互いに対向す
    る磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第１お
    よび第２の磁性層の間にこれらの第１および第２の磁性
    層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備え
    た薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、 前記記録媒体対向面に露出した露出面を有すると共に前
    記記録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定
    部分を含むこととなるように、前記第２の磁性層を形成
    する工程を含み、 前記露出面が、前記進行方向における媒体流出側に位置
    する第１の端縁と、前記進行方向における媒体流入側に
    位置する第２の端縁とを有し、 前記第１の端縁の幅が前記第２の端縁の幅よりも大き
    く、かつ、前記第１の端縁の幅が前記第１および第２の
    端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
    となるようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
23. 【請求項２３】 前記トラック幅規定部分の前記露出面
    が、前記媒体流入側の第１の領域と、前記媒体流出側の
    第２の領域とを含むようにし、 前記第１の領域の幅および前記第２の領域の幅が、それ
    ぞれ、前記第２の端縁に近づくにしたがって小さくなり
    かつ、 前記第１の領域と前記第２の領域との境界部における幅
    寸法が不連続となるように、前記第２の磁性層を形成す
    ることを特徴とする請求項２２記載の薄膜磁気ヘッドの
    製造方法。
24. 【請求項２４】 前記トラック幅規定部分の前記露出面
    における前記第２の領域の側端縁と前記第１の端縁との
    間の角度が、７０度以上、かつ９０度よりも小さくなる
    ように、前記第２の磁性層を形成することを特徴とする
    請求項２３記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
25. 【請求項２５】 前記トラック幅規定部分の前記露出面
    の幅が、前記第２の端縁に近づくにしたがって小さくな
    るように、前記第２の磁性層を形成することを特徴とす
    る請求項２２記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
26. 【請求項２６】 前記トラック幅規定部分の前記露出面
    が、前記媒体流入側の第１の領域と、前記媒体流出側の
    第２の領域とを含むようにし、 前記第１の領域の幅が、前記第２の端縁からの距離によ
    らず一定となり、かつ、前記第２の領域の幅が、前記第
    ２の端縁に近づくにしたがって小さくなるように、前記
    第２の磁性層を形成することを特徴とする請求項２２記
    載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
27. 【請求項２７】 所定の進行方向に移動する記録媒体を
    備えた磁気記録再生装置に用いられ、 前記記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
    において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記
    録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連
    結された第１および第２の磁性層と、前記互いに対向す
    る磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第１お
    よび第２の磁性層の間にこれらの第１および第２の磁性
    層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備え
    た薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、 前記ギャップ層上に２つの前駆磁性膜を順次積層する工
    程と、 これらの２つの前駆磁性膜を加工して前記記録媒体対向
    面を形成することにより、前記記録媒体対向面に露出し
    た第１の露出面を有する第１の磁性膜と、前記記録媒体
    対向面に露出した第２の露出面を有する第２の磁性膜と
    がこの順に積層された積層構造をなすように、前記第２
    の磁性層を形成する工程とを含み、 前記第２の露出面が、前記進行方向における媒体流出側
    に位置する第１の端縁を有すると共に、前記第１の露出
    面が、前記進行方向における媒体流入側に位置する第２
    の端縁を有し、 前記第１の端縁の幅が前記第２の端縁の幅よりも大き
    く、かつ、前記第１の端縁の幅が前記第１および第２の
    端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
    であるようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
28. 【請求項２８】 前記第１の磁性膜を形成する工程は、 フォトリソグラフィ処理を用いてフォトレジスト膜をパ
    ターニングすることにより、前記ギャップ層上に、開口
    を有するフレームパターンを形成する工程と、 このフレームパターンをマスクとして用いて、前記開口
    にめっき膜を選択的に成長させることにより、前記第１
    の磁性膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求
    項２７記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
29. 【請求項２９】 前記開口における前記フレームパター
    ンの内壁面を前記ギャップ層の延在面に対して傾斜させ
    ることにより、前記ギャップ層に近い側から遠い側に向
    かって開口が広がるように、前記フレームパターンを形
    成することを特徴とする請求項２８記載の薄膜磁気ヘッ
    ドの製造方法。
30. 【請求項３０】 所定の進行方向に移動する記録媒体を
    備えた磁気記録再生装置に用いられ、 前記記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
    において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記
    録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連
    結された第１および第２の磁性層と、前記互いに対向す
    る磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第１お
    よび第２の磁性層の間にこれらの第１および第２の磁性
    層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備
    え、前記第２の磁性層が、前記記録媒体対向面に露出し
    た露出面を有すると共に前記記録媒体の記録トラック幅
    を規定するトラック幅規定部分を含む薄膜磁気ヘッドの
    製造方法であって、 前記ギャップ層上に、前記第２の磁性層の前準備層とし
    ての第１の前駆磁性層パターンを形成する工程と、 この第１の前駆磁性層パターン上に、非磁性層パターン
    を形成する工程と、 この非磁性層パターンをマスクとして用いて、前記第１
    の前駆磁性層パターンの延在面に対して直交する方向か
    ら４５°以上の角度をなすような方向からイオンビーム
    を照射しながら前記第１の前駆磁性層パターンを選択的
    にドライエッチングすることにより、第２の前駆磁性層
    パターンを形成する工程と、 この第２の前駆磁性層パターンを加工して前記記録媒体
    対向面を形成することにより、前記トラック幅規定部分
    が前記露出面を構成することとなるように、前記第２の
    磁性層を形成する工程とを含み、 前記トラック幅規定部分の前記露出面が、前記進行方向
    における媒体流出側に位置する第１の端縁と、前記進行
    方向における媒体流入側に位置する第２の端縁とを有
    し、 前記第１の端縁の幅が前記第２の端縁の幅よりも大き
    く、かつ、前記第１の端縁の幅が前記第１および第２の
    端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
    となるようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
31. 【請求項３１】 前記第１の前駆磁性層の延在面に対し
    て直交する軸を中心として、少なくとも前記第１の前駆
    磁性層を回転させながら、前記第１の前駆磁性層に対す
    るエッチング処理を行うことを特徴とする請求項３０記
    載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
32. 【請求項３２】 所定の進行方向に移動する記録媒体を
    備えた磁気記録再生装置に用いられ、 前記記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
    において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記
    録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連
    結された第１および第２の磁性層と、前記互いに対向す
    る磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第１お
    よび第２の磁性層の間にこれらの第１および第２の磁性
    層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備
    え、前記第２の磁性層が、前記記録媒体対向面に露出し
    た露出面を有すると共に前記記録媒体の記録トラック幅
    を規定するトラック幅規定部分を含む薄膜磁気ヘッドの
    製造方法であって、 前記ギャップ層上に、前記第２の磁性層の前準備層とし
    ての第１の前駆磁性層パターンを形成する工程と、 この第１の前駆磁性層パターンのうち、前記ギャップ層
    から遠い側の部分の周囲を覆うように、所定の非磁性材
    料を用いて被覆層を形成する工程と、 この被覆層をマスクとして用いて、前記第１の前駆磁性
    層パターンの延在面に対して直交する方向から所定の角
    度をなすような方向からイオンビームを照射しながら前
    記第１の前駆磁性層パターンを選択的にドライエッチン
    グすることにより、第２の前駆磁性層パターンを形成す
    る工程と、 この第２の前駆磁性層パターンを加工して前記記録媒体
    対向面を形成することにより、前記トラック幅規定部分
    が前記露出面を構成することとなるように、前記第２の
    磁性層を形成する工程とを含み、 前記トラック幅規定部分の前記露出面が、前記進行方向
    における媒体流出側に位置する第１の端縁と、前記進行
    方向における媒体流入側に位置する第２の端縁とを有
    し、 前記第１の端縁の幅が前記第２の端縁の幅よりも大き
    く、かつ、前記第１の端縁の幅が前記第１および第２の
    端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
    となるようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
33. 【請求項３３】 前記第２の前駆磁性層パターンを形成
    する工程において、 ３７．５°±７．５°の範囲内の角度をなすような方向
    からイオンビームを照射することを特徴とする請求項３
    ２記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
34. 【請求項３４】 スパッタリングを用いて前記被覆層を
    形成することを特徴とする請求項３２または請求項３３
    に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
35. 【請求項３５】 前記トラック幅規定部分の前記露出面
    の幅が、前記第２の端縁に近づくにしたがって小さくな
    り、かつ、前記露出面の側端が湾曲するように、前記第
    ２の磁性層を形成することを特徴とする請求項３２ない
    し請求項３４のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの
    製造方法。
36. 【請求項３６】 所定の進行方向に移動する記録媒体を
    備えた磁気記録再生装置に用いられ、 前記記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍
    において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記
    録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連
    結された第１および第２の磁性層と、前記互いに対向す
    る磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第１お
    よび第２の磁性層の間にこれらの第１および第２の磁性
    層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備
    え、前記第２の磁性層が、前記記録媒体対向面に露出し
    た露出面を有すると共に前記記録媒体の記録トラック幅
    を規定するトラック幅規定部分を含む薄膜磁気ヘッドの
    製造方法であって、 前記ギャップ層上に、前記第２の磁性層の前準備層とし
    ての第１の前駆磁性層パターンを形成する工程と、 この第１の前駆磁性層パターンのうち、前記ギャップ層
    から遠い側の部分の周囲を覆うように、所定の非磁性材
    料を用いて被覆層を形成する工程と、 この被覆層をマスクとして、所定のエッチャントを用い
    たウェットエッチングにより、前記第１の前駆磁性層パ
    ターンにおける前記ギャップ層に近い側の部分を選択的
    にエッチングすることにより、第２の前駆磁性層パター
    ンを形成する工程と、 この第２の前駆磁性層パターンを加工して前記記録媒体
    対向面を形成することにより、前記トラック幅規定部分
    が前記露出面を構成することとなるように、前記第２の
    磁性層を形成する工程とを含み、 前記トラック幅規定部分の前記露出面が、前記進行方向
    における媒体流出側に位置する第１の端縁と、前記進行
    方向における媒体流入側に位置する第２の端縁とを有
    し、 前記第１の端縁の幅が前記第２の端縁の幅よりも大き
    く、かつ、前記第１の端縁の幅が前記第１および第２の
    端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
    となるようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
37. 【請求項３７】 スパッタリングを用いて前記被覆層を
    形成することを特徴とする請求項３６記載の薄膜磁気ヘ
    ッドの製造方法。
38. 【請求項３８】 前記非磁性材料として、前記前駆磁性
    層パターンよりもエッチング速度が遅いものを用いるこ
    とを特徴とする請求項３６または請求項３７に記載の薄
    膜磁気ヘッドの製造方法。
39. 【請求項３９】 前記非磁性材料として、酸化アルミニ
    ウムを用いることを特徴とする請求項３８記載の薄膜磁
    気ヘッドの製造方法。
40. 【請求項４０】 前記エッチャントとして、第２塩化鉄
    水溶液を用いることを特徴とする請求項３６ないし請求
    項３９のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方
    法。
41. 【請求項４１】 前記トラック幅規定部分の前記露出面
    が、前記媒体流入側の第１の領域と、前記媒体流出側の
    第２の領域とを含むようにし、 前記第１の領域の幅が、前記第２の端縁からの距離によ
    らず一定となり、かつ、前記第２の領域の幅が、前記第
    ２の端縁に近づくにしたがって小さくなるように、前記
    第２の磁性層を形成することを特徴とする請求項３６ま
    たは請求項４０のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド
    の製造方法。
42. 【請求項４２】 記録媒体に対向する記録媒体対向面お
    よびその近傍において互いに対向する磁極部分を有する
    と共に前記記録媒体対向面から離れた位置において互い
    に磁気的に連結された第１および第２の磁性層と、前記
    互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャップ層
    と、前記第１および第２の磁性層の間にこれらの第１お
    よび第２の磁性層から絶縁された状態で配設された薄膜
    コイルとを備えた薄膜磁気ヘッドであって、 前記第２の磁性層は、 前記記録媒体対向面に露出した露出面を有すると共に前
    記記録媒体対向面からこれより離れた所定の連結位置ま
    で延在するように配設され、前記記録媒体の記録トラッ
    ク幅を規定する第１の磁性層部分と、 前記連結位置において前記第１の磁性層部分に磁気的に
    連結され、前記記録媒体対向面から離れる方向に延在す
    る第２の磁性層部分とからなる連結構造体を含み、 前記第１の磁性層部分の前記露出面が、前記ギャップ層
    から離れた側に位置する第１の端縁と、前記ギャップ層
    に近い側に位置する第２の端縁とを有し、 前記第１の端縁の幅が前記第２の端縁の幅よりも大き
    く、かつ、前記第１の端縁の幅が前記第１および第２の
    端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
    であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
43. 【請求項４３】 記録媒体に対向する記録媒体対向面お
    よびその近傍において互いに対向する磁極部分を有する
    と共に前記記録媒体対向面から離れた位置において互い
    に磁気的に連結された第１および第２の磁性層と、前記
    互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャップ層
    と、前記第１および第２の磁性層の間にこれらの第１お
    よび第２の磁性層から絶縁された状態で配設された薄膜
    コイルとを備えた薄膜磁気ヘッドであって、 前記第２の磁性層は、 前記記録媒体対向面に露出した露出面を有すると共に前
    記記録媒体対向面からこれより離れた所定の連結位置ま
    で延在するように配設され、前記記録媒体の記録トラッ
    ク幅を規定する第１の磁性層部分と、 前記連結位置において前記第１の磁性層部分に磁気的に
    連結され、前記記録媒体対向面から離れる方向に延在す
    る第２の磁性層部分とからなる連結構造体を含み、 前記第１の磁性層部分の前記露出面が、前記ギャップ層
    から離れた側に位置する第１の端縁と、前記ギャップ層
    に近い側に位置する第２の端縁とを有し、 前記第２の端縁の幅が前記第１の端縁の幅よりも大き
    く、かつ、前記第２の端縁の幅が前記第１および第２の
    端縁の間の任意の中間位置における前記露出面の幅以上
    であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
44. 【請求項４４】 前記第１の磁性層部分における前記記
    録媒体対向面に平行な第１の断面の面積が、前記第２の
    磁性層部分における前記記録媒体対向面に平行な第２の
    断面の面積よりも小さいことを特徴とする請求項４２ま
    たは請求項４３に記載の薄膜磁気ヘッド。