JP2009009675A - 垂直磁気記録用磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁極層16を収容する収容部は、収容溝を有する収容層と、収容溝内において収容層と磁極層16との間に配置された非磁性膜14を有している。磁極層16は、トラック幅規定部16Aと幅広部16Bとを有している。トラック幅規定部16Aは、第1の側面S1と第2の側面S2を有し、幅広部16Bは、第1の側面S1に続く第3の側面S3と、第2の側面S2に続く第4の側面S4を有している。収容層は、収容溝を形成する第1の壁面WS1と第2の壁面WS2を有している。第3の側面S3と第1の壁面W1との間隔は、第1の側面S1と第1の壁面W1との間隔よりも小さく、第4の側面S4と第2の壁面W2との間隔は、第2の側面S2と第2の壁面W2との間隔よりも小さい。
【選択図】図2
Description
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図5および図6を参照して、本発明の第1の実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッドの構成について説明する。図5は、本実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッドの構成を示す断面図である。図6は、本実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。なお、図5は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面を示している。また、図5において記号Tで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。
以下、図18および図19を参照して、本実施の形態における第1および第2の変形例について説明する。図18は、第1の変形例における磁極層16の一部を示す平面図である。図19は、第2の変形例における磁極層16の一部を示す平面図である。
次に、図20ないし図22を参照して、本発明の第2の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。図20は、本実施の形態における磁極層16のうちの媒体対向面30の近傍における部分を示す平面図である。図21は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける媒体対向面30に平行な断面の一部を示す断面図である。なお、図21は、図20において21−21線で示す断面を示している。図22は、本実施の形態における収容部15を示す斜視図である。
次に、本発明の第3の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。始めに、図23ないし図25を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成について説明する。図23は、本実施の形態における磁極層16のうちの媒体対向面30の近傍における部分を示す斜視図である。図24は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成を示す断面図である。図25は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。本実施の形態における磁極層16では、トラック幅規定部16Aは、基板1の上面からより遠い面である第1の上面T1を有し、幅広部16Bは、基板1の上面からより遠い面である第2の上面T2を有している。第2の上面T2は、第1の上面T1に比べて基板1の上面から遠い位置に配置されている。
次に、本発明の第4の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。始めに、図27および図28を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成について説明する。図27は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成を示す断面図である。図28は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける媒体対向面を示す正面図である。なお、図27は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面を示している。また、図27において記号Tで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。
次に、本発明の第5の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。始めに、図30を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成について説明する。図30は、本実施の形態における磁極層16のうちの媒体対向面30の近傍における部分を示す平面図である。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、非磁性膜14は、第1の側面S1と第1の壁面WS1の間に配置された第1の部分141と、第2の側面S2と第2の壁面WS2の間に配置された第2の部分142のみを有している。また、本実施の形態では、第3の側面S3の全体が第1の壁面WS1に接し、第4の側面S4の全体が第2の壁面WS2に接している。
次に、本発明の第6の実施の形態に係る磁気ヘッドおよびその製造方法について説明する。始めに、図33ないし図35を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成について説明する。図33は、本実施の形態における磁極層16のうちの媒体対向面30の近傍における部分を示す平面図である。図34は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの構成を示す断面図である。図35は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける媒体対向面を示す正面図である。なお、図34は媒体対向面および基板の上面に垂直な断面を示している。また、図34において記号Tで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。
Claims (33)
- 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容部とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記収容部は、非磁性材料よりなり、上面で開口し前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容溝を有する収容層と、非磁性材料よりなり、前記収容溝内において、前記収容層と磁極層との間に配置された非磁性膜とを有し、
前記磁極層は、前記媒体対向面に配置された端面とその反対側の端部とを有するトラック幅規定部と、前記トラック幅規定部の前記端部に接続され、前記トラック幅規定部の幅よりも大きい幅を有する幅広部とを有し、
前記媒体対向面に配置された前記トラック幅規定部の端面は、トラック幅を規定し、
前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜300nmの範囲内であり、
前記トラック幅規定部は、第1および第2の側面を有し、
前記幅広部は、前記第1の側面に続く第3の側面と、前記第2の側面に続く第4の側面とを有し、
前記収容層は、前記収容溝を形成する第1および第2の壁面を有し、前記第1の壁面は、前記第1および第3の側面に対向し、前記第2の壁面は、前記第2および第4の側面に対向し、
前記非磁性膜は、前記第1の側面と第1の壁面の間に配置された第1の部分と、前記第2の側面と第2の壁面の間に配置された第2の部分とを有し、
前記第3の側面と第1の壁面との間隔は、前記第1の側面と第1の壁面との間隔よりも小さく、前記第4の側面と第2の壁面との間隔は、前記第2の側面と第2の壁面との間隔よりも小さいことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 前記非磁性膜は、更に、前記第3の側面と第1の壁面の間に配置された第3の部分と、前記第4の側面と第2の壁面の間に配置された第4の部分とを有し、
前記第3の部分の厚みは前記第1の部分の厚みよりも小さく、前記第4の部分の厚みは前記第2の部分の厚みよりも小さいことを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 前記第3の側面は第1の壁面に接し、前記第4の側面は第2の壁面に接していることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜20nmの範囲内であることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 更に、前記収容部、磁極層およびコイルが積層される基板を備え、
前記トラック幅規定部の端面は、前記基板の上面により近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺とを有し、前記第2の辺はトラック幅を規定する幅を有し、前記トラック幅規定部の端面の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 前記第3の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度は、前記第1の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度よりも小さく、
前記第4の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度は、前記第2の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度よりも小さいことを特徴とする請求項5記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 更に、前記収容溝に連続する貫通した開口部を有し、前記収容層の上面の上に配置された収容溝規定層を備え、前記収容溝規定層の開口部の縁は、前記収容層の上面における前記収容溝の縁の真上に配置されていることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 更に、前記収容部、磁極層およびコイルが積層される基板を備え、
前記トラック幅規定部は、前記基板の上面により近い面である第1の底面を有し、前記幅広部は、前記基板の上面により近い面である第2の底面を有し、前記第2の底面は、第1の底面に比べて前記基板の上面に近い位置に配置されていることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 更に、非磁性材料よりなり、前記収容層と前記基板との間に配置されて前記収容層に接する底部形成層を備え、前記収容溝のうち、少なくとも、前記幅広部を収容する部分の一部は前記収容層を貫通していることを特徴とする請求項8記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。
- 更に、前記収容部、磁極層およびコイルが積層される基板を備え、
前記トラック幅規定部は、前記基板の上面からより遠い面である第1の上面を有し、前記幅広部は、前記基板の上面からより遠い面である第2の上面を有し、前記第2の上面は、第1の上面に比べて前記基板の上面から遠い位置に配置されていることを特徴とする請求項1記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。 - 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容部とを備え、
前記収容部は、非磁性材料よりなり、上面で開口し前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容溝を有する収容層と、非磁性材料よりなり、前記収容溝内において、前記収容層と磁極層との間に配置された非磁性膜とを有し、
前記磁極層は、前記媒体対向面に配置された端面とその反対側の端部とを有するトラック幅規定部と、前記トラック幅規定部の前記端部に接続され、前記トラック幅規定部の幅よりも大きい幅を有する幅広部とを有し、
前記媒体対向面に配置された前記トラック幅規定部の端面は、トラック幅を規定し、
前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜300nmの範囲内であり、
前記トラック幅規定部は、第1および第2の側面を有し、
前記幅広部は、前記第1の側面に続く第3の側面と、前記第2の側面に続く第4の側面とを有し、
前記収容層は、前記収容溝を形成する第1および第2の壁面を有し、前記第1の壁面は、前記第1および第3の側面に対向し、前記第2の壁面は、前記第2および第4の側面に対向し、
前記非磁性膜は、前記第1の側面と第1の壁面の間に配置された第1の部分と、前記第2の側面と第2の壁面の間に配置された第2の部分とを有し、
前記第3の側面と第1の壁面との間隔は、前記第1の側面と第1の壁面との間隔よりも小さく、前記第4の側面と第2の壁面との間隔は、前記第2の側面と第2の壁面との間隔よりも小さい垂直磁気記録用磁気ヘッドを製造する方法であって、
前記収容部を形成する工程と、前記収容部を形成する工程の後で前記磁極層を形成する工程と、前記コイルを形成する工程とを備え、
前記収容部を形成する工程は、前記収容層を形成する工程と、前記非磁性膜を形成する工程とを含み、
前記非磁性膜を形成する工程は、
後に一部がエッチングされることによって前記非磁性膜となる被エッチング膜を形成する工程と、
前記被エッチング膜のうち、後に前記第1および第2の部分となる部分を覆うマスクを形成する工程と、
前記被エッチング膜において前記マスクによって覆われていない部分のうちの少なくとも一部をエッチングする工程とを含むことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記非磁性膜は、更に、前記第3の側面と第1の壁面の間に配置された第3の部分と、前記第4の側面と第2の壁面の間に配置された第4の部分とを有し、前記第3の部分の厚みは前記第1の部分の厚みよりも小さく、前記第4の部分の厚みは前記第2の部分の厚みよりも小さく、
前記被エッチング膜をエッチングする工程では、前記非磁性膜の第1ないし第4の部分が形成されるように前記被エッチング膜をエッチングすることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記被エッチング膜をエッチングする工程では、前記被エッチング膜において前記マスクによって覆われていない部分のうちの少なくとも一部が除去されることによって前記収容層の第1および第2の壁面の各々の一部が露出するように、前記被エッチング膜をエッチングし、
前記磁極層を形成する工程では、前記第3の側面が第1の壁面に接し、前記第4の側面が第2の壁面に接するように、前記磁極層を形成することを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記被エッチング膜をエッチングする工程では、反応性イオンエッチングまたはイオンビームエッチングを用いて前記被エッチング膜をエッチングすることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記被エッチング膜をエッチングする工程では、同時に前記収容溝を完成させることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記被エッチング膜は、1原子層毎の成膜を繰り返す化学的気相成長法を用いて形成されることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜20nmの範囲内であることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁気ヘッドは、更に、前記収容部、磁極層およびコイルが積層される基板を備え、
前記トラック幅規定部の端面は、前記基板の上面により近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺とを有し、前記第2の辺はトラック幅を規定する幅を有し、前記トラック幅規定部の端面の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第3の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度は、前記第1の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度よりも小さく、
前記第4の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度は、前記第2の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度よりも小さいことを特徴とする請求項18記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記磁気ヘッドは、更に、前記収容溝に連続する貫通した開口部を有し、前記収容層の上面の上に配置された収容溝規定層を備え、前記収容溝規定層の開口部の縁は、前記収容層の上面における前記収容溝の縁の真上に配置されており、
前記収容層を形成する工程は、
後に前記収容溝が形成されることにより前記収容層となる非磁性層を形成する工程と、
前記非磁性層の上に前記収容溝規定層を形成する工程と、
前記非磁性層のうち前記収容溝規定層の開口部から露出する部分を選択的にエッチングすることによって、前記非磁性層に前記収容溝を形成する工程とを含み、
前記被エッチング膜をエッチングする工程では、前記マスクおよび前記収容溝規定層をエッチングマスクとして用いて、前記被エッチング膜をエッチングすることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記磁気ヘッドは、更に、非磁性材料よりなり、前記収容層の下に配置された底部形成層を備え、
磁気ヘッドの製造方法は、更に、前記収容層を形成する前に前記底部形成層を形成する工程を備え、
前記収容層を形成する工程は、
後に前記収容溝が形成されることにより前記収容層となる非磁性層を、前記底部形成層の上に形成する工程と、
前記非磁性層を選択的にエッチングすることによって、前記非磁性層に前記収容溝を形成する工程とを含み、
前記収容溝のうち、少なくとも、前記幅広部を収容する部分の一部は前記収容層を貫通していることを特徴とする請求項11記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容部とを備え、
前記収容部は、非磁性材料よりなり、上面で開口し前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容溝を有する収容層と、非磁性材料よりなり、前記収容溝内において、前記収容層と磁極層との間に配置された非磁性膜とを有し、
前記磁極層は、前記媒体対向面に配置された端面とその反対側の端部とを有するトラック幅規定部と、前記トラック幅規定部の前記端部に接続され、前記トラック幅規定部の幅よりも大きい幅を有する幅広部とを有し、
前記媒体対向面に配置された前記トラック幅規定部の端面は、トラック幅を規定し、
前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜300nmの範囲内であり、
前記トラック幅規定部は、第1および第2の側面を有し、
前記幅広部は、前記第1の側面に続く第3の側面と、前記第2の側面に続く第4の側面とを有し、
前記収容層は、前記収容溝を形成する第1および第2の壁面を有し、前記第1の壁面は、前記第1および第3の側面に対向し、前記第2の壁面は、前記第2および第4の側面に対向し、
前記非磁性膜は、前記第1の側面と第1の壁面の間に配置された第1の部分と、前記第2の側面と第2の壁面の間に配置された第2の部分とを有し、
前記第3の側面と第1の壁面との間隔は、前記第1の側面と第1の壁面との間隔よりも小さく、前記第4の側面と第2の壁面との間隔は、前記第2の側面と第2の壁面との間隔よりも小さい垂直磁気記録用磁気ヘッドを製造する方法であって、
前記収容部を形成する工程と、
前記収容部を形成する工程の後で前記磁極層を形成する工程と、
前記コイルを形成する工程とを備え、
前記収容部を形成する工程は、
前記収容層を形成する工程と、
前記収容層の収容溝のうち、後に前記幅広部が収容される部分を覆うマスクを形成する工程と、
前記第1および第2の壁面のうち前記マスクによって覆われていない部分を覆うように前記非磁性膜を形成する工程と、
前記マスクを除去する工程とを含むことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記磁気ヘッドは、更に、前記収容溝に連続する貫通した開口部を有し、前記収容層の上面の上に配置された収容溝規定層を備え、前記収容溝規定層の開口部の縁は、前記収容層の上面における前記収容溝の縁の真上に配置されており、
前記収容層を形成する工程は、
後に前記収容溝が形成されることにより前記収容層となる非磁性層を形成する工程と、
前記非磁性層の上に前記収容溝規定層を形成する工程と、
前記非磁性層のうち前記収容溝規定層の開口部から露出する部分を選択的にエッチングすることによって、前記非磁性層に前記収容溝を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項22記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記収容溝を形成する工程は、
前記非磁性層のうち前記収容溝規定層の開口部から露出する部分を選択的にエッチングすることによって、前記非磁性層に、後にエッチングされることによって前記収容溝となる初期溝を形成する第1のエッチング工程と、
前記初期溝のうち、後に前記トラック幅規定部が収容される部分を覆う第2のマスクを形成する工程と、
前記第2のマスクおよび前記収容溝規定層をエッチングマスクとして用いて、前記初期溝のうち前記第2のマスクによって覆われていない部分をエッチングすることによって、前記収容溝を完成させる第2のエッチング工程とを含むことを特徴とする請求項23記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記非磁性膜は、1原子層毎の成膜を繰り返す化学的気相成長法を用いて形成されることを特徴とする請求項22記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜20nmの範囲内であることを特徴とする請求項22記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁気ヘッドは、更に、前記収容部、磁極層およびコイルが積層される基板を備え、
前記トラック幅規定部の端面は、前記基板の上面により近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺とを有し、前記第2の辺はトラック幅を規定する幅を有し、前記トラック幅規定部の端面の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなることを特徴とする請求項22記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第3の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度は、前記第1の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度よりも小さく、
前記第4の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度は、前記第2の側面の前記基板の上面に垂直な方向に対してなす角度よりも小さいことを特徴とする請求項27記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する磁極層と、
前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容部とを備え、
前記収容部は、非磁性材料よりなり、上面で開口し前記磁極層の少なくとも一部を収容する収容溝を有する収容層と、非磁性材料よりなり、前記収容溝内において、前記収容層と磁極層との間に配置された非磁性膜とを有し、
前記磁極層は、前記媒体対向面に配置された端面とその反対側の端部とを有するトラック幅規定部と、前記トラック幅規定部の前記端部に接続され、前記トラック幅規定部の幅よりも大きい幅を有する幅広部とを有し、
前記媒体対向面に配置された前記トラック幅規定部の端面は、トラック幅を規定有し、
前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜300nmの範囲内であり、
前記トラック幅規定部は、第1および第2の側面を有し、
前記幅広部は、前記第1の側面に続く第3の側面と、前記第2の側面に続く第4の側面とを有し、
前記収容層は、前記収容溝を形成する第1および第2の壁面を有し、前記第1の壁面は、前記第1および第3の側面に対向し、前記第2の壁面は、前記第2および第4の側面に対向し、
前記非磁性膜は、前記第1の側面と第1の壁面の間に配置された第1の部分と、前記第2の側面と第2の壁面の間に配置された第2の部分とを有し、
前記第3の側面と第1の壁面との間隔は、前記第1の側面と第1の壁面との間隔よりも小さく、前記第4の側面と第2の壁面との間隔は、前記第2の側面と第2の壁面との間隔よりも小さい垂直磁気記録用磁気ヘッドを製造する方法であって、
後にその中に前記磁極層が形成される溝部を有するフレームを形成する工程と、
前記フレームの前記溝部内に、前記非磁性膜を形成する工程と、
前記非磁性膜の形成後に、前記フレームの前記溝部内に、前記磁極層を形成する工程と、
前記磁極層の形成後に、前記フレームを除去する工程と、
前記フレームの除去後に、前記磁極層および非磁性膜の周囲に前記収容層を形成して、前記収容部を完成させる工程とを備えたことを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記非磁性膜を形成する工程は、
後に一部がエッチングされることによって前記非磁性膜となる被エッチング膜を形成する工程と、
前記被エッチング膜のうち、後に前記第1および第2の部分となる部分を覆うマスクを形成する工程と、
前記被エッチング膜において前記マスクによって覆われていない部分のうちの少なくとも一部をエッチングする工程とを含むことを特徴とする請求項29記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。 - 前記被エッチング膜は、1原子層毎の成膜を繰り返す化学的気相成長法を用いて形成されることを特徴とする請求項30記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記媒体対向面から前記トラック幅規定部と幅広部との境界までの距離は、10〜20nmの範囲内であることを特徴とする請求項29記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
- 前記磁気ヘッドは、更に、前記収容部、磁極層およびコイルが積層される基板を備え、
前記トラック幅規定部の端面は、前記基板の上面により近い第1の辺と、第1の辺とは反対側の第2の辺とを有し、前記第2の辺はトラック幅を規定する幅を有し、前記トラック幅規定部の端面の幅は、前記第1の辺に近づくに従って小さくなることを特徴とする請求項29記載の垂直磁気記録用磁気ヘッドの製造方法。
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