JP2007026636A - 薄膜磁気ヘッド用構造物及びその製造方法並びに薄膜磁気ヘッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法は、絶縁層10を用意する工程と、極細溝部に対応する第1のスリットパターン51aと、第1のスリットパターン51aから一体的に延びると共に、本体凹部の外縁に沿うように極細溝部から一体的に延びる仮設溝部に対応する第2のスリットパターン51bとが設けられた第1レジスト層51を絶縁層10上に形成する工程と、第1レジスト層51をマスクとして絶縁層10のエッチングを行う工程と、第1レジスト層51を除去する工程と、本体凹部に対応する開口パターンを有する第2レジスト層を絶縁層10上に形成する工程と、第2レジスト層をマスクとして絶縁層10のエッチングを行う工程とを備える。
【選択図】図6
Description
従来の垂直磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドとしては、例えば、特許文献1〜4に開示されている。
上記の磁極形成用凹部は、アルミナ(Al2O3)からなるベース絶縁層上にフォトレジストが塗布され、所定のフォトマスクを用いたフォトレジストのパターニングにより、磁極形成用凹部に対応した形状にベース絶縁層の表面が露出するレジスト層が形成された後、このレジスト層をマスクとして反応性イオンエッチング(以下、RIE(Reactive Ion Etching)という)によりレジスト層が形成されていない部分を除去することによって形成される。ここで、極細溝部に対応したレジスト層の開口幅は、可変幅凹部及び定幅凹部に対応したレジスト層の開口幅に比べて極めて小さいものとなっている。そのため、このようなレジスト層を用いてRIEを行うと、極細溝部に対応した部分においてはラジカルイオンがベース絶縁部に略鉛直方向から進入してくることとなるが、可変幅凹部及び定幅凹部に対応した部分においては、ラジカルイオンがそのような指向性をそれほど有さず、略垂直方向以外からもベース絶縁層に進入してくることが多い。従って、RIEを行って形成された磁極形成用凹部では、極細溝部以外の側面の傾斜角が極細溝部の側面の傾斜角よりも大きくなっていた。このため、極細溝部以外の開口面積に対する底面積の減少が、極細溝部の開口面積に対する底面積の減少に比べて著しく、磁極形成用凹部の容積が減少してしまっていた。このような磁極形成用凹部を用いて主磁極層を形成した場合、主磁極層の磁気量(磁気ボリューム(magnetic volume)ともいう)が減少し、そのためオーバライト特性のさらなる向上を図ることが難しかった。
図1〜図4を参照して、本実施形態に係る薄膜磁気ヘッド用構造物1の構成について説明する。図1は、本実施形態に係る薄膜磁気ヘッド用構造物の断面図であり、(a)がエアベアリング面に対して垂直であってかつ薄膜コイルに交差する面における断面図を示し、(b)がエアベアリング面における断面図を示す。図2は、キャビティが形成された絶縁層を示す図であり、(a)が斜視図を示し、(b)が平面図を示す。図3は、図2の要部を示す断面図であり、(a)がIIIA−IIIA線断面図(エアベアリング面における断面図)を示し、(b)がIIIB−IIIB線断面図を示し、(c)がIIIC−IIIC線断面図を示す。図4は、エアベアリング面に沿って切断した後の主磁極層及び下部ヨーク層を示す図であり、(a)が斜視図を示し、(b)が平面図を示し、(c)がC−C線断面図を示す。
次に、図1及び図5〜図15上述した構成の薄膜磁気ヘッド用構造物1の製造方法について説明する。図5、図7及び図8は、薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法の各工程を示す図であり、(a)が上面図を示し、(b)が(a)におけるB−B線断面図を示し、(c)が(a)におけるC−C線断面図(エアベアリング面における断面図)を示す。図6及び図9は、薄膜磁気ヘッド用構造物の各工程を示す斜視図である。図10及び図11は、薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法の各工程を示す図であり、(a)が上面図を示し、(b)が(a)におけるB−B線断面図を示し、(c)が(a)におけるC−C線断面図(エアベアリング面における断面図)を示し、(d)が(a)におけるD−D線断面図を示す。図12〜図15は、薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法の各工程を示す図であり、(a)がエアベアリング面に対して垂直であってかつ薄膜コイルに交差する面における断面図を示し、(b)がエアベアリング面における断面図を示す。
ここで、図16及び図17を参照して、従来の薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法について説明する。図16は、従来のキャビティが形成された絶縁層を示す斜視図である。図17は、図16の要部を示す断面図であり、(a)がXVIIA−XVIIA線断面図を示し、(b)がXVIIB−XVIIB線断面図を示す。
Claims (14)
- 記録媒体に対向する媒体対向面の側に磁極端部を有する主磁極層と、前記媒体対向面の側において、記録ギャップ層を形成するようにして前記磁極端部に対向するライトシールド層と、前記ライトシールド層又は前記主磁極層の周りに巻回された薄膜コイルと、前記主磁極層が充填され、且つ、前記磁極端部の形状を規定する極細溝部と該極細溝部の前記媒体対向面から遠い方の端部から一体的に延びる本体凹部とを含む磁極形成用凹部が形成されたベース絶縁層と、を備える薄膜磁気ヘッドを製造可能な薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法であって、
前記ベース絶縁層に前記磁極形成用凹部を形成する際に、
前記ベース絶縁層上に、前記磁極形成用凹部の前記極細溝部に対応する第1のスリットパターンと、前記第1のスリットパターンから一体的に延びると共に、前記本体凹部の外縁に沿うように前記極細溝部から一体的に延びる仮設溝部に対応する第2のスリットパターンと、を有する第1レジスト層を形成する工程と、
前記第1レジスト層をマスクとして前記ベース絶縁層のエッチングを行う工程と、
前記第1レジスト層を除去した後、前記ベース絶縁層上に、前記本体凹部に対応する開口パターンを有する第2レジスト層を形成する工程と、
前記第2レジスト層をマスクとして前記ベース絶縁層のエッチングを行う工程と
を備える、薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法。 - 前記第2レジスト層をマスクとする前記ベース絶縁層のエッチング深さが、前記第1レジスト層をマスクとする前記ベース絶縁層のエッチング深さよりも深い、請求項1に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法。
- 前記本体凹部の少なくとも一部が、前記極細溝部の前記媒体対向面から遠い方の端部から一体的に延び、且つ、前記極細溝部から離れるに従って漸次幅が広がる可変幅凹部で構成されており、
前記第2のスリットパターンが前記可変幅凹部の外縁に沿って延びる、請求項1又は2に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法。 - 前記第2のスリットパターンが、前記本体凹部の両外縁に沿うように前記第1のスリットパターンから二股に分岐して延びる、請求項1〜3のいずれか一項に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物の製造方法。
- 記録媒体に対向する媒体対向面の側に磁極端部を有する主磁極層と、前記媒体対向面の側において、記録ギャップ層を形成するようにして前記磁極端部に対向するライトシールド層と、前記ライトシールド層又は前記主磁極層の周りに巻回された薄膜コイルと、前記主磁極層が充填され、且つ、前記磁極端部の形状を規定する極細溝部と該極細溝部の前記媒体対向面から遠い方の端部から一体的に延びる本体凹部とを含む磁極形成用凹部が形成されたベース絶縁層と、を備える薄膜磁気ヘッドを製造可能な薄膜磁気ヘッド用構造物であって、
前記本体凹部の底面と前記極細溝部の底面との境界に段差部が形成された、薄膜磁気ヘッド用構造物。 - 前記本体凹部の底面の高さ位置が、前記極細溝部の底面の高さ位置よりも低い、請求項5に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物。
- 前記段差部の傾斜角αが、0゜<α<90゜の範囲である、請求項6に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物。
- 前記段差部と前記媒体対向面との距離が、0.1〜0.3μmであることを特徴とする請求項6又は7に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物。
- 前記本体凹部の側面のうちの少なくとも一部の側面の傾斜角が、前記極細溝部の側面の傾斜角と略同一である、請求項5〜8のいずれか一項に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物。
- 前記本体凹部の少なくとも一部が、前記極細溝部の前記媒体対向面から遠い方の端部から一体的に延び、且つ、前記極細溝部から離れるに従って漸次幅が広がる可変幅凹部で構成されている、請求項5〜9のいずれか一項に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物。
- 記録媒体に対向する媒体対向面の側に磁極端部を有する主磁極層と、前記媒体対向面の側において、記録ギャップ層を形成するようにして前記磁極端部に対向するライトシールド層と、前記ライトシールド層又は前記主磁極層の周りに巻回された薄膜コイルと、前記主磁極層が充填され、且つ、前記磁極端部の形状を規定する極細溝部と該極細溝部の前記媒体対向面から遠い方の端部から一体的に延びる本体凹部とを含む磁極形成用凹部が形成されたベース絶縁層と、を備える薄膜磁気ヘッドを製造可能な薄膜磁気ヘッド用構造物であって、
前記本体凹部の側面のうちの少なくとも一部の側面の傾斜角が、前記極細溝部の側面の傾斜角と略同一である、薄膜磁気ヘッド用構造物。 - 前記本体凹部の少なくとも一部が、前記極細溝部の前記媒体対向面から遠い方の端部から一体的に延び、且つ、前記極細溝部から離れるに従って漸次幅が広がる可変幅凹部で構成されており、
前記可変幅凹部の側面の傾斜角が、前記極細溝部の側面の傾斜角と略同一である、請求項11に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物。 - 前記極細溝部及び前記可変幅凹部の側面の傾斜角が、前記本体凹部のうちの前記可変幅凹部の残余部分の側面の傾斜角よりも小さい、請求項12に記載された薄膜磁気ヘッド用構造物。
- 記録媒体に対向する媒体対向面の側に磁極端部を有する主磁極層と、前記媒体対向面の側において、記録ギャップ層を形成するようにして前記磁極端部に対向するライトシールド層と、前記ライトシールド層又は前記主磁極層の周りに巻回された薄膜コイル、前記主磁極層が充填され、且つ、前記磁極端部の形状を規定する極細溝部と該極細溝部の前記媒体対向面から遠い方の端部から一体的に延びる本体凹部とを含む磁極形成用凹部が形成されたベース絶縁層と、を備える薄膜磁気ヘッドであって、
前記本体凹部の底面と前記極細溝部の底面との境界に段差部が形成された、薄膜磁気ヘッド。
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