JP2003168713A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2003168713A5 JP2003168713A5 JP2001367010A JP2001367010A JP2003168713A5 JP 2003168713 A5 JP2003168713 A5 JP 2003168713A5 JP 2001367010 A JP2001367010 A JP 2001367010A JP 2001367010 A JP2001367010 A JP 2001367010A JP 2003168713 A5 JP2003168713 A5 JP 2003168713A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unit
- processing
- substrate
- processing unit
- delivery
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 11
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001367010A JP3911624B2 (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 処理システム |
TW091134095A TWI248657B (en) | 2001-11-30 | 2002-11-22 | Substrate processing system |
KR1020020075426A KR100912280B1 (ko) | 2001-11-30 | 2002-11-29 | 기판처리시스템 |
CNB021518696A CN1249776C (zh) | 2001-11-30 | 2002-11-29 | 衬底处理系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001367010A JP3911624B2 (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 処理システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003168713A JP2003168713A (ja) | 2003-06-13 |
JP2003168713A5 true JP2003168713A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2004-11-04 |
JP3911624B2 JP3911624B2 (ja) | 2007-05-09 |
Family
ID=19176824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001367010A Expired - Fee Related JP3911624B2 (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 処理システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3911624B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
KR (1) | KR100912280B1 (enrdf_load_stackoverflow) |
CN (1) | CN1249776C (enrdf_load_stackoverflow) |
TW (1) | TWI248657B (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101074388B1 (ko) | 2004-12-22 | 2011-10-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 제조 장비 |
CN101273312B (zh) * | 2005-01-28 | 2012-07-04 | 应用材料公司 | 增强衬底载具搬运器操作的方法和装置 |
JP4745040B2 (ja) * | 2005-12-05 | 2011-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
US7690881B2 (en) * | 2006-08-30 | 2010-04-06 | Asm Japan K.K. | Substrate-processing apparatus with buffer mechanism and substrate-transferring apparatus |
JP4560022B2 (ja) * | 2006-09-12 | 2010-10-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体 |
JP6339057B2 (ja) * | 2015-09-29 | 2018-06-06 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム |
CN106044229A (zh) * | 2016-07-22 | 2016-10-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板搬运设备及曝光机组系统 |
JP6601360B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2019-11-06 | 株式会社ダイフク | 物品搬送設備 |
US10996661B2 (en) * | 2017-01-13 | 2021-05-04 | Fuji Corporation | Manufacturing management device |
JP6655689B1 (ja) * | 2018-09-21 | 2020-02-26 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP7142566B2 (ja) * | 2018-12-27 | 2022-09-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07297258A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Ltd | 板状体の搬送装置 |
JP4045008B2 (ja) * | 1998-03-26 | 2008-02-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JPH11260883A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-09-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2001117064A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置の位置合わせ機構および位置合わせ方法、ならびに基板処理装置 |
JP3645492B2 (ja) * | 2000-02-01 | 2005-05-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
KR100701893B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2007-03-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 인라인 형태로 구성된 액정표시소자의 검사장치 |
-
2001
- 2001-11-30 JP JP2001367010A patent/JP3911624B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-11-22 TW TW091134095A patent/TWI248657B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-11-29 KR KR1020020075426A patent/KR100912280B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2002-11-29 CN CNB021518696A patent/CN1249776C/zh not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3779393B2 (ja) | 処理システム | |
US8375884B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
KR100618108B1 (ko) | 기판처리장치 | |
JP4954162B2 (ja) | 処理システム | |
KR100618264B1 (ko) | 도포현상처리시스템 | |
JPH08222616A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2003168713A5 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
WO2006006364A1 (ja) | 基板の回収方法及び基板処理装置 | |
JP3648129B2 (ja) | 塗布現像処理方法及び塗布現像処理システム | |
JPH05178416A (ja) | 板状体の処理装置及び搬送装置 | |
JP3911624B2 (ja) | 処理システム | |
JP4083371B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH06151293A (ja) | 処理装置 | |
JP2004304003A (ja) | 処理システム | |
US20060266290A1 (en) | Substrate processing system | |
JP4026906B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理システム | |
JP2002043208A (ja) | 塗布現像処理方法 | |
JP3936900B2 (ja) | 基板の処理システム | |
JP2003257945A5 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JP4343326B2 (ja) | 基板搬送装置および露光装置 | |
JP7527150B2 (ja) | 基板処理装置及び搬送スケジュール作成方法 | |
JP4053728B2 (ja) | 加熱・冷却処理装置及び基板処理装置 | |
JP2960181B2 (ja) | 処理装置 | |
JP3710979B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4027334B2 (ja) | 基板処理装置 |