JP2003161803A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 基板上に薄膜を形成するステップと、
   前記ステップで発生したカラーセンターを前記基板に光を照射することにより取り除くステップとを有し、
   前記照射ステップは、低圧水銀灯から前記光を照射する光学素子の製造方法。
2. 前記基板はフッ化物を成分とする請求項１記載の製造方法。
3. 前記薄膜はフッ化物を成分とする請求項１又は２記載の製造。
4. 前記フッ化物はフッ化カルシウムである請求項２又は３記載の製造方法。
5. 前記照射ステップは、前記光の照度を０．０２ｍＪ／ｃｍ^２以上とする請求項１記載の製造方法。
6. 前記照射ステップは、前記光の照射時間を５分以上とする請求項１記載の製造方法。
7. 前記照射ステップは、前記光の照度と前記光の照射時間の積を０．１ｍＪ・分／ｃｍ^２以上とする請求項１記載の製造方法。
8. 前記形成ステップは、プラズマを含む雰囲気中で前記薄膜を形成する請求項１記載の製造方法。
9. 前記形成ステップは、電子照射による加熱を利用して前記薄膜を形成する請求項１記載の製造方法。
10. 基板上に薄膜を形成するステップと、
    前記形成ステップで発生したカラーセンターを前記基板にエネルギーを与えることで取り除くステップとを有する光学素子の製造方法。
11. 請求項１乃至１０のうちいずれか一項記載の製造方法から製造される光学素子。
12. レンズ、回折格子及びそれらの複合体の一つである請求項１１記載の光学素子。
13. 紫外光、遠紫外光及び真空紫外光を露光光として利用し、当該露光光を、請求項１２記載の光学素子を含む光学系を介して被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置。
14. 前記露光光は３００ｎｍ以下の波長領域を有する請求項１３記載の露光装置。
15. 請求項１３又は１４記載の露光装置を用いて前記被処理体を露光するステップと、
    前記露光された前記被処理体に所定のプロセスを行うステップとを有するデバイス製造方法。
16. 請求項１３又は１４記載の露光装置を用いて露光された被処理体より製造されるデバイス。