JP2004216321A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 被洗浄物を収納する処理室と、
   前記処理室を減圧又は真空環境に維持する排気部と、
   酸素を含むガスを前記処理室に供給するためのガス供給部と、
   前記ガスを高周波電力を利用してプラズマ化するためのプラズマ化手段とを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することによって前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄装置。
2. 前記被洗浄物と前記プラズマ化手段の電極との間に配置され、複数の開孔を有する仕切り板を更に有することを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
3. 前記被洗浄物の第１の面と、当該第１の面とは異なる第２の面とが前記被処理室で露出するように、前記被洗浄物を保持する保持機構を更に有することを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
4. 被洗浄物を収納する処理室を減圧又は真空環境に維持するステップと、
   酸素を含むガスを前記処理室に供給するステップと、
   高周波電力を利用して前記ガスをプラズマ化するステップとを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することによって前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
5. 前記プラズマの電子温度を制御するステップを更に有することを特徴とする請求項４記載の洗浄方法。
6. プラズマ化された酸素を含むガスによって表面処理されて洗浄されることを特徴とする光学素子。
7. 前記光学素子は、２５０ｎｍ以下の波長域で使用される蛍石又は石英の材料からなることを特徴とする請求項６記載の光学素子。
8. 前記光学素子は、光学ガラスレンズ又は反射防止及び増反射膜が形成された光学ガラスレンズであることを特徴とする請求項６記載の光学素子。
9. 請求項８記載の光学素子を一又は複数個有することを特徴とする光学系。
10. 請求項９記載の光学系を有することを特徴とする露光装置。
11. 請求項１０記載の露光装置を用いて被露光体を投影露光する工程と、
    前記投影露光された被露光体に所定のプロセスを行う工程とを有するデバイス製造方法。