JPH09120950A - 紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置Info
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- JPH09120950A JPH09120950A JP29901995A JP29901995A JPH09120950A JP H09120950 A JPH09120950 A JP H09120950A JP 29901995 A JP29901995 A JP 29901995A JP 29901995 A JP29901995 A JP 29901995A JP H09120950 A JPH09120950 A JP H09120950A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】基板上の有機物の除去を均一に行うことがで
き、オゾン発生の際に新たなゴミの付着を防止すること
ができ、熱板との接触による基板の表面の汚れを防止す
ることができ、基板の表面の有機物を除去するスピード
を速め、基板の表面からの有機物の除去にかかる時間を
短縮することができる紫外線洗浄装置を提供する。 【解決手段】紫外線およびオゾンの照射による酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、基板の表面の有
機物を除去する紫外線洗浄装置において、基板１０の下
方に基板１０を加熱するための遠赤外線ヒーター１２を
配置し、基板１０の上方に基板１０上に紫外線を照射す
る紫外線ランプ１６を配置し、紫外線ランプ１６の上方
に紫外線ランプ１６方向にオゾンを吹き出すオゾン吹き
出し管１８を配置する。
き、オゾン発生の際に新たなゴミの付着を防止すること
ができ、熱板との接触による基板の表面の汚れを防止す
ることができ、基板の表面の有機物を除去するスピード
を速め、基板の表面からの有機物の除去にかかる時間を
短縮することができる紫外線洗浄装置を提供する。 【解決手段】紫外線およびオゾンの照射による酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、基板の表面の有
機物を除去する紫外線洗浄装置において、基板１０の下
方に基板１０を加熱するための遠赤外線ヒーター１２を
配置し、基板１０の上方に基板１０上に紫外線を照射す
る紫外線ランプ１６を配置し、紫外線ランプ１６の上方
に紫外線ランプ１６方向にオゾンを吹き出すオゾン吹き
出し管１８を配置する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線洗浄装置に
関し、さらに詳細には、紫外線およびオゾンの照射によ
る酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して、例え
ば、半導体基板あるいは液晶表示装置用基板など（以
下、これらのものを総称して、単に「基板」と称す。）
の表面の有機物を除去する紫外線洗浄装置に関する。
関し、さらに詳細には、紫外線およびオゾンの照射によ
る酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して、例え
ば、半導体基板あるいは液晶表示装置用基板など（以
下、これらのものを総称して、単に「基板」と称す。）
の表面の有機物を除去する紫外線洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の紫外線洗浄装置として、例えば、
特開昭６１−１９４８３０号公報に開示された紫外線洗
浄装置がある。
特開昭６１−１９４８３０号公報に開示された紫外線洗
浄装置がある。
【０００３】図３には、この特開昭６１−１９４８３０
号公報に開示された従来の紫外線洗浄装置の原理説明図
が示されており、紫外線洗浄装置により基板の表面の有
機物を除去している最中の状態を示している。
号公報に開示された従来の紫外線洗浄装置の原理説明図
が示されており、紫外線洗浄装置により基板の表面の有
機物を除去している最中の状態を示している。
【０００４】この紫外線洗浄装置においては、水平の熱
板１００に吸着して加熱した基板１０２の直上に、紫外
線反射ミラー１０４を備えた波長２５４ｎｍの紫外線を
照射する紫外線ランプ１０６とオゾン吹き出し管１０８
とが、同一平面上に交互に互いに平行をなすように設け
られている。
板１００に吸着して加熱した基板１０２の直上に、紫外
線反射ミラー１０４を備えた波長２５４ｎｍの紫外線を
照射する紫外線ランプ１０６とオゾン吹き出し管１０８
とが、同一平面上に交互に互いに平行をなすように設け
られている。
【０００５】そして、無声放電式オゾナイザー（図示せ
ず）により生成される所定の濃度のオゾンを、オゾン吹
き出し管１０８から吹き出して、こうしたオゾン雰囲気
中で紫外線ランプ１０６から波長２５４ｎｍの紫外線を
照射することにより、基板１０２の表面の有機物１１０
が、基板１０２の表面から除去されることになる。
ず）により生成される所定の濃度のオゾンを、オゾン吹
き出し管１０８から吹き出して、こうしたオゾン雰囲気
中で紫外線ランプ１０６から波長２５４ｎｍの紫外線を
照射することにより、基板１０２の表面の有機物１１０
が、基板１０２の表面から除去されることになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の紫外線洗浄装置は、紫外線によりオゾンを、酸
化力の強い励起酸素原子に分解し、基板表面の有機物を
酸化して除去するものであるが、紫外線ランプとオゾン
吹き出し管とが基板の直上の同一平面上に平行に位置す
るため、紫外線によってオゾン吹き出し管から吹き出さ
れるオゾンを効率よく酸化力の強い励起酸素原子に分解
することが困難であり、このため紫外線ランプの直下の
基板上の有機物の除去効果は高く、オゾン吹き出し管の
直下の基板上の有機物の除去効果は低くなってしまい、
基板上の有機物の除去が均一に行われない恐れがあると
いう問題点があった（図２の有機物１１０の形状を参
照）。また、オゾン吹き出し管から吹き出されるオゾン
の発生用に使用する、無声放電式オゾナイザーの放電に
よる電極部からのゴミの発生によって、基板上から有機
物を除去するのではなくて、逆に新たなゴミを基板上に
付着させてしまう恐れがあるという問題点があった。
た従来の紫外線洗浄装置は、紫外線によりオゾンを、酸
化力の強い励起酸素原子に分解し、基板表面の有機物を
酸化して除去するものであるが、紫外線ランプとオゾン
吹き出し管とが基板の直上の同一平面上に平行に位置す
るため、紫外線によってオゾン吹き出し管から吹き出さ
れるオゾンを効率よく酸化力の強い励起酸素原子に分解
することが困難であり、このため紫外線ランプの直下の
基板上の有機物の除去効果は高く、オゾン吹き出し管の
直下の基板上の有機物の除去効果は低くなってしまい、
基板上の有機物の除去が均一に行われない恐れがあると
いう問題点があった（図２の有機物１１０の形状を参
照）。また、オゾン吹き出し管から吹き出されるオゾン
の発生用に使用する、無声放電式オゾナイザーの放電に
よる電極部からのゴミの発生によって、基板上から有機
物を除去するのではなくて、逆に新たなゴミを基板上に
付着させてしまう恐れがあるという問題点があった。
【０００７】さらに、熱板に基板を直接的に載置するた
め、熱板に接する基板の裏面が汚れる恐れがあるという
問題点があった。
め、熱板に接する基板の裏面が汚れる恐れがあるという
問題点があった。
【０００８】さらにまた、波長２５４ｎｍの紫外線で
は、オゾンを酸化力の強い励起酸素原子にするエネルギ
ーが弱いため、基板の表面の有機物を除去するスピード
が遅く、基板の表面からの有機物の除去に時間がかかる
という問題点があった。
は、オゾンを酸化力の強い励起酸素原子にするエネルギ
ーが弱いため、基板の表面の有機物を除去するスピード
が遅く、基板の表面からの有機物の除去に時間がかかる
という問題点があった。
【０００９】本発明は、従来の技術の有するこのような
種々の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的と
するところは、基板上の有機物の除去を均一に行うこと
ができる紫外線洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
種々の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的と
するところは、基板上の有機物の除去を均一に行うこと
ができる紫外線洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
【００１０】また、本発明の目的とするところは、オゾ
ン発生の際に新たなゴミの付着を防止することができる
紫外線洗浄装置を提供しようとするものである。
ン発生の際に新たなゴミの付着を防止することができる
紫外線洗浄装置を提供しようとするものである。
【００１１】さらに、本発明の目的とするところは、熱
板との接触による基板の表面の汚れを防止することがで
きる紫外線洗浄装置を提供しようとするものである。
板との接触による基板の表面の汚れを防止することがで
きる紫外線洗浄装置を提供しようとするものである。
【００１２】さらにまた、本発明の目的とするところ
は、基板の表面の有機物を除去するスピードを速め、基
板の表面からの有機物の除去にかかる時間を短縮するこ
とのできる紫外線洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
は、基板の表面の有機物を除去するスピードを速め、基
板の表面からの有機物の除去にかかる時間を短縮するこ
とのできる紫外線洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による紫外線洗浄装置は、紫外線およびオゾ
ンの照射による酸化エネルギーと光子エネルギーとを利
用して、基板の表面の有機物を除去する紫外線洗浄装置
において、基板の下方に基板を加熱するための加熱手段
を配置し、基板の上方に基板上に紫外線を照射する紫外
線照射手段を配置し、紫外線照射手段の上方に紫外線照
射手段方向にオゾンを吹き出すオゾン吹き出し手段を配
置するようにしたものである。
に、本発明による紫外線洗浄装置は、紫外線およびオゾ
ンの照射による酸化エネルギーと光子エネルギーとを利
用して、基板の表面の有機物を除去する紫外線洗浄装置
において、基板の下方に基板を加熱するための加熱手段
を配置し、基板の上方に基板上に紫外線を照射する紫外
線照射手段を配置し、紫外線照射手段の上方に紫外線照
射手段方向にオゾンを吹き出すオゾン吹き出し手段を配
置するようにしたものである。
【００１４】このように、オゾン吹き出し手段を紫外線
照射手段の上方に位置させ、紫外線照射手段方向にオゾ
ンを吹き出すようにしたため、紫外線によってオゾン吹
き出し手段から吹き出されるオゾンを効率よく酸化力の
強い励起酸素原子に分解することができ、基板上の有機
物の除去を均一にムラなく行うことができるようにな
る。
照射手段の上方に位置させ、紫外線照射手段方向にオゾ
ンを吹き出すようにしたため、紫外線によってオゾン吹
き出し手段から吹き出されるオゾンを効率よく酸化力の
強い励起酸素原子に分解することができ、基板上の有機
物の除去を均一にムラなく行うことができるようにな
る。
【００１５】しかも、基板の上方の同一平面上に紫外線
照射手段をムラなく配置することができるようになるの
で、基板上の有機物の均一な除去を確実に行うことがで
きるようになる。
照射手段をムラなく配置することができるようになるの
で、基板上の有機物の均一な除去を確実に行うことがで
きるようになる。
【００１６】また、本発明による紫外線洗浄装置におい
ては、オゾン吹き出し手段から吹き出されるオゾンの発
生を、水の電気分解により得るようにしたものである。
ては、オゾン吹き出し手段から吹き出されるオゾンの発
生を、水の電気分解により得るようにしたものである。
【００１７】このため、放電を用いる無声放電式オゾナ
イザーのように電極部からのゴミの発生がなく、オゾン
発生の際に新たなゴミの付着を防止することができる。
イザーのように電極部からのゴミの発生がなく、オゾン
発生の際に新たなゴミの付着を防止することができる。
【００１８】さらに、本発明による紫外線洗浄装置にお
いては、基板を加熱する加熱手段の上方に支持手段を介
して基板を位置させるようにしたものである。
いては、基板を加熱する加熱手段の上方に支持手段を介
して基板を位置させるようにしたものである。
【００１９】このように、基板を非接触により加熱する
構成を採用したため、加熱手段との接触による基板の表
面の汚れを防止することができる。
構成を採用したため、加熱手段との接触による基板の表
面の汚れを防止することができる。
【００２０】さらにまた、本発明による紫外線洗浄装置
においては、紫外線照射手段から照射される紫外線の中
心波長をおよそ１７２ｎｍとしたものである。
においては、紫外線照射手段から照射される紫外線の中
心波長をおよそ１７２ｎｍとしたものである。
【００２１】このため、波長２５４ｎｍの紫外線を照射
する従来の紫外線洗浄装置と比較すると、基板の表面か
らの有機物の除去のスピードを速めることができ、基板
の表面からの有機物の除去にかかる時間を短縮すること
のできる。
する従来の紫外線洗浄装置と比較すると、基板の表面か
らの有機物の除去のスピードを速めることができ、基板
の表面からの有機物の除去にかかる時間を短縮すること
のできる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて、本発明に
よる紫外線洗浄装置の実施の形態の一例を詳細に説明す
るものとする。
よる紫外線洗浄装置の実施の形態の一例を詳細に説明す
るものとする。
【００２３】図１は、本発明による紫外線洗浄装置の実
施の形態の一例の原理説明図であり、紫外線洗浄装置に
より基板の表面の有機物を除去している最中の状態を示
している。
施の形態の一例の原理説明図であり、紫外線洗浄装置に
より基板の表面の有機物を除去している最中の状態を示
している。
【００２４】この紫外線洗浄装置においては、基板１０
を加熱するための加熱手段として遠赤外線ヒーター１２
を備え、この遠赤外線ヒーター１２の上方に、基板１０
を支持するための支持手段として複数個のローラー１４
を配置している。
を加熱するための加熱手段として遠赤外線ヒーター１２
を備え、この遠赤外線ヒーター１２の上方に、基板１０
を支持するための支持手段として複数個のローラー１４
を配置している。
【００２５】ローラー１４上に載置された基板１０の直
上には、中心波長１７２ｎｍの紫外線を照射する紫外線
照射手段としての紫外線ランプ１６が複数個配置される
とともに、紫外線ランプ１６の上方には、オゾンを吹き
出すオゾン吹き出し手段としてのオゾン吹き出し管１８
が配置されている。さらに、オゾン吹き出し管１８の上
方には、紫外線ランプ１６から出射された中心波長１７
２ｎｍの紫外線を、基板１０上へ反射する紫外線反射ミ
ラー２０が設けられている。
上には、中心波長１７２ｎｍの紫外線を照射する紫外線
照射手段としての紫外線ランプ１６が複数個配置される
とともに、紫外線ランプ１６の上方には、オゾンを吹き
出すオゾン吹き出し手段としてのオゾン吹き出し管１８
が配置されている。さらに、オゾン吹き出し管１８の上
方には、紫外線ランプ１６から出射された中心波長１７
２ｎｍの紫外線を、基板１０上へ反射する紫外線反射ミ
ラー２０が設けられている。
【００２６】ここで、オゾン吹き出し管１８から吹き出
されるオゾンは、パーティクルの発生がない水を電気分
解して得られるオゾンを使用するものとする。
されるオゾンは、パーティクルの発生がない水を電気分
解して得られるオゾンを使用するものとする。
【００２７】以上の構成において、水を電気分解して得
られる所定の濃度のオゾンをオゾン吹き出し管１８から
吹き出し、こうしたオゾン雰囲気中で紫外線ランプ１６
から中心波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによ
り、基板１０の表面の有機物２２が、基板１０の表面か
ら除去される。
られる所定の濃度のオゾンをオゾン吹き出し管１８から
吹き出し、こうしたオゾン雰囲気中で紫外線ランプ１６
から中心波長１７２ｎｍの紫外線を照射することによ
り、基板１０の表面の有機物２２が、基板１０の表面か
ら除去される。
【００２８】この際に、オゾン吹き出し管１８が紫外線
ランプ１６の上方に位置され、紫外線ランプ１６方向に
オゾンを吹き出すようになされているため、紫外線によ
ってオゾン吹き出し管１８から吹き出されるオゾンを効
率よく酸化力の強い励起酸素原子に分解することができ
る。即ち、オゾン吹き出し管１８から吹き出されたオゾ
ンが、紫外線ランプ１６から照射される紫外線によって
確実に励起酸素原子に変化してから基板１０上に到達す
るようになるため、基板１０上の有機物２２の除去を均
一にムラなく行うことができるようになる。
ランプ１６の上方に位置され、紫外線ランプ１６方向に
オゾンを吹き出すようになされているため、紫外線によ
ってオゾン吹き出し管１８から吹き出されるオゾンを効
率よく酸化力の強い励起酸素原子に分解することができ
る。即ち、オゾン吹き出し管１８から吹き出されたオゾ
ンが、紫外線ランプ１６から照射される紫外線によって
確実に励起酸素原子に変化してから基板１０上に到達す
るようになるため、基板１０上の有機物２２の除去を均
一にムラなく行うことができるようになる。
【００２９】しかも、基板１０の上方の同一平面上に紫
外線ランプ１６をムラなく配置することができるように
なるので、基板１０上の有機物２２の均一な除去を確実
に行うことができるようになる。
外線ランプ１６をムラなく配置することができるように
なるので、基板１０上の有機物２２の均一な除去を確実
に行うことができるようになる。
【００３０】また、オゾン吹き出し管１８から吹き出さ
れるオゾンは、パーティクルが数多く存在する放電効果
により発生されるオゾンとは異なり、水を電気分解して
得られるパーティクルが存在しないクリーンなオゾンを
使用するので、紫外線と協働して基板１０の有機物２２
を迅速に分解除去することができる。
れるオゾンは、パーティクルが数多く存在する放電効果
により発生されるオゾンとは異なり、水を電気分解して
得られるパーティクルが存在しないクリーンなオゾンを
使用するので、紫外線と協働して基板１０の有機物２２
を迅速に分解除去することができる。
【００３１】さらに、基板１０を複数個のローラー１４
上に載置して、遠赤外線ヒーター１２により間接的に加
熱するようにしたので、基板１０の裏面（下面）の接触
が防止され、基板１０の裏面の汚染を確実に防止するこ
とができる。
上に載置して、遠赤外線ヒーター１２により間接的に加
熱するようにしたので、基板１０の裏面（下面）の接触
が防止され、基板１０の裏面の汚染を確実に防止するこ
とができる。
【００３２】さらにまた、紫外線ランプ１６から照射さ
れる紫外線の中心波長を１７２ｎｍとしたので、オゾン
吹き出し管１８から吹き出されるオゾンを、効率よく有
機物除去効果の高い励起酸素原子に変化させることがで
き、基板１０の表面の有機物２２を迅速に分解除去する
ことができるようになる。
れる紫外線の中心波長を１７２ｎｍとしたので、オゾン
吹き出し管１８から吹き出されるオゾンを、効率よく有
機物除去効果の高い励起酸素原子に変化させることがで
き、基板１０の表面の有機物２２を迅速に分解除去する
ことができるようになる。
【００３３】即ち、従来より使用されている波長１８５
ｎｍあるいは波長２５４ｎｍを中心波長とする紫外線に
より、オゾンから有機物の分解効果の高い励起酸素原子
を生成する過程は、 Ｏ2 → Ｏ3 → Ｏ2 ＋ ０（1 0） ０（1 0）：励起酸素原子 の１通りである。
ｎｍあるいは波長２５４ｎｍを中心波長とする紫外線に
より、オゾンから有機物の分解効果の高い励起酸素原子
を生成する過程は、 Ｏ2 → Ｏ3 → Ｏ2 ＋ ０（1 0） ０（1 0）：励起酸素原子 の１通りである。
【００３４】一方、本発明による中心波長１７２ｎｍの
波長をもつ紫外線により、オゾンから有機物の分解効果
の高い励起酸素原子を生成する過程は、 （ａ） Ｏ2 → ０（1 0） （ｂ） Ｏ2 → Ｏ3 → Ｏ2 ＋ ０（1 0） の２通りある。
波長をもつ紫外線により、オゾンから有機物の分解効果
の高い励起酸素原子を生成する過程は、 （ａ） Ｏ2 → ０（1 0） （ｂ） Ｏ2 → Ｏ3 → Ｏ2 ＋ ０（1 0） の２通りある。
【００３５】従って、本発明によれば、従来よりも多く
の励起酸素原子を生成することができ、基板１０の表面
の有機物２２を、従来よりも一層迅速に分解除去するこ
とができるようになる。
の励起酸素原子を生成することができ、基板１０の表面
の有機物２２を、従来よりも一層迅速に分解除去するこ
とができるようになる。
【００３６】図２には、本発明による紫外線洗浄装置の
実施の形態の一例の詳細な構成が示されている。
実施の形態の一例の詳細な構成が示されている。
【００３７】この紫外線洗浄装置４０は、上部に紫外線
処理槽４２を備えるとともに、下部に遠赤外線処理槽４
４を備えており、基板４６は、外部の搬送用ローラー４
８によって紫外線洗浄装置４０内へ搬送されることにな
り、紫外線洗浄装置４０内に搬送された基板４６は、ロ
ーラー５０によって紫外線処理槽４２と遠赤外線処理槽
４４との間を移動する。
処理槽４２を備えるとともに、下部に遠赤外線処理槽４
４を備えており、基板４６は、外部の搬送用ローラー４
８によって紫外線洗浄装置４０内へ搬送されることにな
り、紫外線洗浄装置４０内に搬送された基板４６は、ロ
ーラー５０によって紫外線処理槽４２と遠赤外線処理槽
４４との間を移動する。
【００３８】紫外線処理槽４２には、中心波長１７２ｎ
ｍの紫外線を照射する複数の紫外線ランプ５２が設けら
れているとともに、これら複数の紫外線ランプ５２の上
方には、パーティクル発生のない水の電気分解により生
成されたオゾンを吹き出す複数のオゾン吹き出し管５４
が設けられており、さらにオゾン吹き出し管５４の上方
には、紫外線ランプ５２から出射された紫外線を基板４
６へ照射するための紫外線反射ミラー５６が設けられて
いる。
ｍの紫外線を照射する複数の紫外線ランプ５２が設けら
れているとともに、これら複数の紫外線ランプ５２の上
方には、パーティクル発生のない水の電気分解により生
成されたオゾンを吹き出す複数のオゾン吹き出し管５４
が設けられており、さらにオゾン吹き出し管５４の上方
には、紫外線ランプ５２から出射された紫外線を基板４
６へ照射するための紫外線反射ミラー５６が設けられて
いる。
【００３９】また、遠赤外線処理槽４４には、ローラー
５０の下方に、基台５８により支持された遠赤外線ヒー
ター６０が設けられている。
５０の下方に、基台５８により支持された遠赤外線ヒー
ター６０が設けられている。
【００４０】従って、オゾン吹き出し管５４より吹き出
されたオゾンは、オゾン吹き出し管５４の下方に位置す
る紫外線ランプ５２から照射される中心波長１７２ｎｍ
の紫外線によって、有機物の分解効果の高い励起酸素原
子に分解され、ローラー５０により紫外線処理槽４２と
遠赤外線処理槽４４との間を移動する基板４６へ到達す
ることになる。
されたオゾンは、オゾン吹き出し管５４の下方に位置す
る紫外線ランプ５２から照射される中心波長１７２ｎｍ
の紫外線によって、有機物の分解効果の高い励起酸素原
子に分解され、ローラー５０により紫外線処理槽４２と
遠赤外線処理槽４４との間を移動する基板４６へ到達す
ることになる。
【００４１】この際に、基板４６は遠赤外線ヒーター６
０により所定温度に加熱され、基板４６の表面の有機物
に到達した励起酸素原子により、より効率よく有機物を
分解させるように作用する。
０により所定温度に加熱され、基板４６の表面の有機物
に到達した励起酸素原子により、より効率よく有機物を
分解させるように作用する。
【００４２】なお、基板４６の表面の有機物を確実に均
一に分解除去するために、紫外線洗浄装置４０内で基板
４６を所定時間前後に往復移動させるように、ローラー
５０が所定時間前後に回転する。
一に分解除去するために、紫外線洗浄装置４０内で基板
４６を所定時間前後に往復移動させるように、ローラー
５０が所定時間前後に回転する。
【００４３】また、紫外線洗浄装置４０の入口部４０ａ
および出口部４０ｂには、オゾン吹き出し管５４から吹
き出されたオゾンが外部へ漏れるのを防止するために、
エアー・カーテンの作用をするエアー吹き出し管６２が
設けられている。
および出口部４０ｂには、オゾン吹き出し管５４から吹
き出されたオゾンが外部へ漏れるのを防止するために、
エアー・カーテンの作用をするエアー吹き出し管６２が
設けられている。
【００４４】なお、上記した実施の形態の説明において
は、紫外線照射手段として紫外線ランプを用いたが、こ
れに限られることなしに、他の紫外線照射手段を用いて
もよいことは勿論である。
は、紫外線照射手段として紫外線ランプを用いたが、こ
れに限られることなしに、他の紫外線照射手段を用いて
もよいことは勿論である。
【００４５】また、上記した実施の形態の説明において
は、加熱手段として遠赤外線ヒーターを用いたが、これ
に限られることなしに、赤外線ヒーターなどの他の加熱
手段を用いてもよいことは勿論である。
は、加熱手段として遠赤外線ヒーターを用いたが、これ
に限られることなしに、赤外線ヒーターなどの他の加熱
手段を用いてもよいことは勿論である。
【００４６】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、基板上の有機物の除去を均一に行うことが
でき、オゾン発生の際に新たなゴミの付着を防止するこ
とができ、熱板との接触による基板の表面の汚れを防止
することができ、基板の表面の有機物を除去するスピー
ドを速め、基板の表面からの有機物の除去にかかる時間
を短縮することができるという優れた効果を奏する。
ているので、基板上の有機物の除去を均一に行うことが
でき、オゾン発生の際に新たなゴミの付着を防止するこ
とができ、熱板との接触による基板の表面の汚れを防止
することができ、基板の表面の有機物を除去するスピー
ドを速め、基板の表面からの有機物の除去にかかる時間
を短縮することができるという優れた効果を奏する。
【図１】本発明による紫外線洗浄装置の実施の形態の一
例の原理説明図であり、紫外線洗浄装置により基板の表
面の有機物を除去している最中の状態を示している。
例の原理説明図であり、紫外線洗浄装置により基板の表
面の有機物を除去している最中の状態を示している。
【図２】本発明による紫外線洗浄装置の実施の形態の一
例の詳細な構成を示す説明図である。
例の詳細な構成を示す説明図である。
【図３】従来の紫外線洗浄装置の原理説明図であり、紫
外線洗浄装置により基板の表面の有機物を除去している
最中の状態を示している。
外線洗浄装置により基板の表面の有機物を除去している
最中の状態を示している。
１０ 基板 １２ 遠赤外線ヒーター １６ 紫外線ランプ １８ オゾン吹き出し管 ２０ 紫外線反射ミラー ２２ 有機物
Claims (4)
- 【請求項１】 紫外線およびオゾンの照射による酸化エ
ネルギーと光子エネルギーとを利用して、基板の表面の
有機物を除去する紫外線洗浄装置において、 基板の下方に前記基板を加熱するための加熱手段を配置
し、 前記基板の上方に前記基板上に紫外線を照射する紫外線
照射手段を配置し、 前記紫外線照射手段の上方に前記紫外線照射手段方向に
オゾンを吹き出すオゾン吹き出し手段を配置したことを
特徴とする紫外線洗浄装置。 - 【請求項２】 前記オゾン吹き出し手段から吹き出され
るオゾンは、水の電気分解により生成される請求項１記
載の紫外線洗浄装置。 - 【請求項３】 前記加熱手段の上方に、前記基板を支持
する支持手段を配置した請求項１または２のいずれか１
項に記載の紫外線洗浄装置。 - 【請求項４】 前記紫外線照射手段は、中心波長をおよ
そ１７２ｎｍとする紫外線を照射する請求項１、２また
は３のいずれか１項に記載の紫外線洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29901995A JPH09120950A (ja) | 1995-10-24 | 1995-10-24 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29901995A JPH09120950A (ja) | 1995-10-24 | 1995-10-24 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09120950A true JPH09120950A (ja) | 1997-05-06 |
Family
ID=17867183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29901995A Pending JPH09120950A (ja) | 1995-10-24 | 1995-10-24 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09120950A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1111899C (zh) * | 2000-04-11 | 2003-06-18 | 北京高力通科技开发公司 | 紫外光表面清洗机 |
| WO2006121585A1 (en) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Applied Materials, Inc. | High efficiency uv cleaning of a process chamber |
| CN1321756C (zh) * | 2001-01-15 | 2007-06-20 | 株式会社杰士汤浅 | 光处理装置 |
| KR100767967B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2007-10-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 자외선 세정장치 및 방법 |
-
1995
- 1995-10-24 JP JP29901995A patent/JPH09120950A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100767967B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2007-10-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 자외선 세정장치 및 방법 |
| CN1111899C (zh) * | 2000-04-11 | 2003-06-18 | 北京高力通科技开发公司 | 紫外光表面清洗机 |
| CN1321756C (zh) * | 2001-01-15 | 2007-06-20 | 株式会社杰士汤浅 | 光处理装置 |
| WO2006121585A1 (en) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Applied Materials, Inc. | High efficiency uv cleaning of a process chamber |
| KR101018965B1 (ko) * | 2005-05-09 | 2011-03-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 처리 챔버의 고효율 ｕｖ 클리닝 |
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