JP2005166963A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 光源から射出された紫外光を、第１光学面を含む第１分室、第２光学面を含む第２分室及び第３光学面を含む第３分室を介して被露光体に照射し、前記被露光体を露光する露光方法であって、
   前記第１分室に洗浄ガスを供給し、前記第１光学面を洗浄する第１洗浄ステップと、
   前記第２分室に洗浄ガスを供給し、前記第２光学面を洗浄する第２洗浄ステップと、
   前記第３分室に洗浄ガスを供給し、前記第３光学面を洗浄する第３洗浄ステップと、を有し、
   前記第１分室は前記第２分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第２分室は前記第３分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
   前記第１洗浄ステップの開始は前記第２洗浄ステップの開始よりも遅く、前記第２洗浄ステップの開始は前記第３洗浄ステップの開始よりも遅いことを特徴とする露光方法。
2. 前記第１洗浄ステップと並行して、前記第２分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップと、
   前記第２洗浄ステップと並行して、前記第３分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップとを更に有することを特徴とする請求項１記載の露光方法。
3. 前記第３洗浄ステップの終了後に前記第２洗浄ステップを開始し、前記第２洗浄ステップの終了後に前記第１洗浄ステップを開始することを特徴とする請求項１又は２記載の露光方法。
4. 前記第２及び第３洗浄ステップの終了は洗浄時間に基づいて決定されることを特徴とする請求項１乃至３記載の露光方法。
5. 前記第１洗浄ステップにおいて、前記洗浄ガスを前記第１分室に供給すると共に前記紫外光を前記第１分室に照射し、
   前記第２洗浄ステップにおいて、前記洗浄ガスを前記第２分室に供給すると共に前記紫外光を前記第２分室に照射し、
   前記第３洗浄ステップにおいて、前記洗浄ガスを前記第３分室に供給すると共に前記紫外光を前記第３分室に照射することを特徴とする請求項１乃至４記載の露光方法。
6. 前記第１乃至第３分室に供給される前記洗浄ガスは酸素であり、前記第１乃至第３洗浄ステップにおける前記第１乃至第３分室の酸素濃度はいずれも１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５記載の露光方法。
7. 前記第１乃至第３分室に供給される前記洗浄ガスはオゾンであり、前記第１乃至第３洗浄ステップにおける前記第１乃至第３分室の酸素濃度はいずれも５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５記載の露光方法。
8. 前記第１乃至第３分室に供給される前記洗浄ガスは酸素であり、前記第１乃至第３洗浄ステップにおける前記第１乃至第３分室の酸素濃度はいずれも５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５記載の露光方法。
9. 前記紫外光の波長は２００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至８記載の露光方法。
10. 光源から射出された紫外光を、第１光学面を含む第１分室、第２光学面を含む第２分室及び第３光学面を含む第３分室を介して被露光体に照射し、前記被露光体を露光する露光装置であって、
    前記第１分室に洗浄ガスを供給し、前記第１光学面を洗浄する第１洗浄手段と、
    前記第２分室に洗浄ガスを供給し、前記第２光学面を洗浄する第２洗浄手段と、
    前記第３分室に洗浄ガスを供給し、前記第３光学面を洗浄する第３洗浄手段とを有し、
    前記第１分室は前記第２分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第２分室は前記第３分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
    前記第１洗浄手段の開始は前記第２洗浄手段の開始よりも遅く、前記第２洗浄手段の開始は前記第３洗浄手段の開始よりも遅いことを特徴とする露光装置。
11. 光源から射出された紫外光を、第１光学面を含む第１分室、第２光学面を含む第２分室及び第３光学面を含む第３分室を介して原版に照射し、前記原版のパターンを基板に露光する露光方法であって、
    前記第１分室に洗浄ガスを供給し、前記第１光学面を洗浄する第１洗浄ステップと、
    前記第２分室に洗浄ガスを供給し、前記第２光学面を洗浄する第２洗浄ステップと、
    前記第３分室に洗浄ガスを供給し、前記第３光学面を洗浄する第３洗浄ステップと、を有し、
    前記第１分室は前記第２分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第２分室は前記第３分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
    前記第３洗浄ステップの開始、前記第２洗浄ステップの開始、そして、前記第１洗浄ステップの開始が、順次行われることを特徴とする露光方法。
12. 前記第１洗浄ステップと並行して、前記第２分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップと、
    前記第２洗浄ステップと並行して、前記第３分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップとを更に有することを特徴とする請求項１１記載の露光方法。
13. 光源から射出された紫外光を、第１光学面を含む第１分室、第２光学面を含む第２分室及び第３光学面を含む第３分室を介して原版に照射し、前記原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
    前記第１分室に洗浄ガスを供給し、前記第１光学面を洗浄する第１洗浄方法と、
    前記第２分室に洗浄ガスを供給し、前記第２光学面を洗浄する第２洗浄方法と、
    前記第３分室に洗浄ガスを供給し、前記第３光学面を洗浄する第３洗浄方法とを有し、
    前記第１分室は前記第２分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第２分室は前記第３分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
    前記第３洗浄手段の開始、前記第２洗浄手段の開始、そして、前記第１洗浄手段の開始が、順次行われることを特徴とする露光装置。
14. 請求項１乃至９、１１および１２のうちいずれか一項記載の露光方法を用いて被処理体を露光するステップと、
    露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。