JP4510433B2 - 露光装置及び洗浄方法 - Google Patents
露光装置及び洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4510433B2 JP4510433B2 JP2003403948A JP2003403948A JP4510433B2 JP 4510433 B2 JP4510433 B2 JP 4510433B2 JP 2003403948 A JP2003403948 A JP 2003403948A JP 2003403948 A JP2003403948 A JP 2003403948A JP 4510433 B2 JP4510433 B2 JP 4510433B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compartment
- cleaning
- optical surface
- optical
- ultraviolet light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Public Health (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
Description
J.lllum.Engng.lnst.Vol.83 No.5 1999 「Xe2エキシマランプを用いたUV/03洗浄の検証」
101 光源部
110 第1の筐体
120 第2の筐体
130 第3の筐体
140 第4の筐体
150 第5の筐体
160 第6の筐体
200 レチクル
300 投影光学系
400 プレート
900 洗浄ガス供給手段
910 供給配管
912a乃至912g 電磁弁
Claims (10)
- 光源から射出された紫外光を、第1光学面を含む第1分室、第2光学面を含む第2分室及び第3光学面を含む第3分室を介して被露光体に照射し、前記被露光体を露光する露光方法であって、
前記第1分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第1分室に照射し、前記第1光学面を洗浄する第1洗浄ステップと、
前記第2分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第2分室に照射し、前記第2光学面を洗浄する第2洗浄ステップと、
前記第3分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第3分室に照射し、前記第3光学面を洗浄する第3洗浄ステップと、
前記第1洗浄ステップと並行して、前記第2分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップと、
前記第2洗浄ステップと並行して、前記第3分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップと、を有し、
前記第1分室は前記第2分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第2分室は前記第3分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
前記第1洗浄ステップの開始は前記第2洗浄ステップの開始よりも遅く、前記第2洗浄ステップの開始は前記第3洗浄ステップの開始よりも遅いことを特徴とする露光方法。 - 前記第3洗浄ステップの終了後に前記第2洗浄ステップを開始し、前記第2洗浄ステップの終了後に前記第1洗浄ステップを開始することを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 前記第2及び第3洗浄ステップの終了は洗浄時間に基づいて決定されることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光方法。
- 前記第1乃至第3分室に供給される前記洗浄ガスは酸素であり、前記第1乃至第3洗浄ステップにおける前記第1乃至第3分室の酸素濃度はいずれも100ppm以下であることを特徴とする請求項1から3のうちいずれか一つに記載の露光方法。
- 前記第1乃至第3分室に供給される前記洗浄ガスはオゾンであり、前記第1乃至第3洗浄ステップにおける前記第1乃至第3分室の前記オゾン濃度はいずれも50ppm以下であることを特徴とする請求項1から4のうちいずれか一つに記載の露光方法。
- 前記紫外光の波長は200nm以下であることを特徴とする請求項1から5のうちいずれか一つに記載の露光方法。
- 光源から射出された紫外光を、第1光学面を含む第1分室、第2光学面を含む第2分室及び第3光学面を含む第3分室を介して被露光体に照射し、前記被露光体を露光する露光装置であって、
前記第1分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第1分室に照射し、前記第1光学面を洗浄する第1洗浄手段と、
前記第2分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第2分室に照射し、前記第2光学面を洗浄する第2洗浄手段と、
前記第3分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第3分室に照射し、前記第3光学面を洗浄する第3洗浄手段と、
前記第1洗浄手段の動作に並行して、前記第2分室から前記洗浄ガスの排気を行う手段と、
前記第2洗浄手段の動作に並行して、前記第3分室から前記洗浄ガスの排気を行う手段と、を有し、
前記第1分室は前記第2分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第2分室は前記第3分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
前記第1洗浄手段の開始は前記第2洗浄手段の開始よりも遅く、前記第2洗浄手段の開始は前記第3洗浄手段の開始よりも遅いことを特徴とする露光装置。 - 光源から射出された紫外光を、第1光学面を含む第1分室、第2光学面を含む第2分室及び第3光学面を含む第3分室を介して原版に照射し、前記原版のパターンを基板に露光する露光方法であって、
前記第1分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第1分室に照射し、前記第1光学面を洗浄する第1洗浄ステップと、
前記第2分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第2分室に照射し、前記第2光学面を洗浄する第2洗浄ステップと、
前記第3分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第3分室に照射し、前記第3光学面を洗浄する第3洗浄ステップと、
前記第1洗浄ステップと並行して、前記第2分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップと、
前記第2洗浄ステップと並行して、前記第3分室から前記洗浄ガスの排気を行うステップと、を有し、
前記第1分室は前記第2分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第2分室は前記第3分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
前記第3洗浄ステップの開始、前記第2洗浄ステップの開始、そして、前記第1洗浄ステップの開始が、順次行われることを特徴とする露光方法。 - 光源から射出された紫外光を、第1光学面を含む第1分室、第2光学面を含む第2分室及び第3光学面を含む第3分室を介して原版に照射し、前記原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
前記第1分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第1分室に照射し、前記第1光学面を洗浄する第1洗浄手段と、
前記第2分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第2分室に照射し、前記第2光学面を洗浄する第2洗浄手段と、
前記第3分室に洗浄ガスを供給すると共に前記紫外線光を前記第3分室に照射し、前記第3光学面を洗浄する第3洗浄手段と、
前記第1洗浄手段の動作に並行して、前記第2分室から前記洗浄ガスの排気を行う手段と、
前記第2洗浄手段の動作に並行して、前記第3分室から前記洗浄ガスの排気を行う手段と、を有し、
前記第1分室は前記第2分室よりも光路に沿って前記光源に近い側に配置され、前記第2分室は前記第3分室よりも前記光路に沿って前記光源に近い側に配置され、
前記第3洗浄手段の開始、前記第2洗浄手段の開始、そして、前記第1洗浄手段の開始が、順次行われることを特徴とする露光装置。 - 請求項1乃至6および8のうちいずれか一つに記載の露光方法を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003403948A JP4510433B2 (ja) | 2003-12-03 | 2003-12-03 | 露光装置及び洗浄方法 |
US10/998,905 US7251014B2 (en) | 2003-12-03 | 2004-11-30 | Exposing method, exposing apparatus and device manufacturing method utilizing them |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003403948A JP4510433B2 (ja) | 2003-12-03 | 2003-12-03 | 露光装置及び洗浄方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005166963A JP2005166963A (ja) | 2005-06-23 |
JP2005166963A5 JP2005166963A5 (ja) | 2007-04-12 |
JP4510433B2 true JP4510433B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=34631666
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003403948A Expired - Fee Related JP4510433B2 (ja) | 2003-12-03 | 2003-12-03 | 露光装置及び洗浄方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7251014B2 (ja) |
JP (1) | JP4510433B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4599342B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2010-12-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 光学装置、リソグラフィ装置、および、デバイス製造方法 |
JP5305568B2 (ja) * | 2006-05-22 | 2013-10-02 | 株式会社東芝 | 露光装置及びケミカルフィルタ寿命検知方法 |
JP2009193998A (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP5737983B2 (ja) * | 2010-04-23 | 2015-06-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
US9573111B1 (en) | 2012-07-09 | 2017-02-21 | Kla-Tencor Corporation | High purity ozone generator for optics cleaning and recovery |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000041225A1 (fr) * | 1998-12-28 | 2000-07-13 | Nikon Corporation | Procede de nettoyage d'un dispositif optique, appareil et procede d'exposition, procede de fabrication du dispositif et dispositif proprement dit |
JP2000323396A (ja) * | 1999-05-13 | 2000-11-24 | Canon Inc | 露光方法、露光装置、およびデイバイス製造方法 |
JP2001060548A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
JP2001345265A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Nikon Corp | 光学装置及び光学装置のガス置換方法並びに露光装置及び露光方法 |
JP2002164267A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-06-07 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11224839A (ja) | 1998-02-04 | 1999-08-17 | Canon Inc | 露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法 |
JP2000082856A (ja) | 1998-06-30 | 2000-03-21 | Nikon Corp | 光学素子の光洗浄方法及び光洗浄装置 |
JP2000126704A (ja) | 1998-10-28 | 2000-05-09 | Canon Inc | 光学素子の洗浄方法および洗浄装置 |
US6571057B2 (en) * | 2000-03-27 | 2003-05-27 | Nikon Corporation | Optical instrument, gas replacement method and cleaning method of optical instrument, exposure apparatus, exposure method and manufacturing method for devices |
JP2001274070A (ja) | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Nikon Corp | 露光方法と洗浄方法とデバイスの製造方法、および露光装置 |
JP2001296417A (ja) | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Canon Inc | 光学素子及び該光学素子を備えた露光装置 |
JP2003344601A (ja) | 2002-05-28 | 2003-12-03 | Canon Inc | 光学素子の洗浄装置及び光学素子の洗浄方法、および光学素子の製造方法 |
-
2003
- 2003-12-03 JP JP2003403948A patent/JP4510433B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-11-30 US US10/998,905 patent/US7251014B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000041225A1 (fr) * | 1998-12-28 | 2000-07-13 | Nikon Corporation | Procede de nettoyage d'un dispositif optique, appareil et procede d'exposition, procede de fabrication du dispositif et dispositif proprement dit |
JP2000323396A (ja) * | 1999-05-13 | 2000-11-24 | Canon Inc | 露光方法、露光装置、およびデイバイス製造方法 |
JP2001060548A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
JP2001345265A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Nikon Corp | 光学装置及び光学装置のガス置換方法並びに露光装置及び露光方法 |
JP2002164267A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-06-07 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7251014B2 (en) | 2007-07-31 |
US20050122492A1 (en) | 2005-06-09 |
JP2005166963A (ja) | 2005-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7315346B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP4551470B2 (ja) | リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 | |
JP5055310B2 (ja) | リソグラフィ機器、放射システム、汚染物質トラップ、デバイスの製造方法、及び汚染物質トラップ内で汚染物質を捕らえる方法 | |
JP4194831B2 (ja) | デバイス製造方法 | |
US6571057B2 (en) | Optical instrument, gas replacement method and cleaning method of optical instrument, exposure apparatus, exposure method and manufacturing method for devices | |
JP4146828B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US8179517B2 (en) | Exposure apparatus and method, maintenance method for exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2003188096A (ja) | リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、製造されたデバイス、これに関する、被汚染物を清掃する清掃装置および方法 | |
JP2006269942A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP4026943B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2007018931A (ja) | 光源装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2007517397A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2006093724A (ja) | リソグラフィ装置、ガス供給システム、パージ方法、並びにデバイス製造方法およびそれにより製造されたデバイス | |
US7154582B2 (en) | Exposure apparatus and method | |
US7760323B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
JP4510433B2 (ja) | 露光装置及び洗浄方法 | |
JP2004006690A (ja) | リソグラフ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2010010380A (ja) | 光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
US6590631B2 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same | |
JP4174239B2 (ja) | ガス供給装置、露光システムおよびデバイス製造方法 | |
JP2005166897A (ja) | 露光装置 | |
JPWO2002065183A1 (ja) | 鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 | |
JP4720293B2 (ja) | 露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
JP2005072076A (ja) | 露光装置及びケミカルフィルタ並びにデバイスの製造方法 | |
JPWO2004006309A1 (ja) | 露光方法及び露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061204 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070223 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090721 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100205 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100427 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100430 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |