JP2003110176A - レーザ装置とその制御方法およびそれを用いたレーザ加工方法とレーザ加工機 - Google Patents

レーザ装置とその制御方法およびそれを用いたレーザ加工方法とレーザ加工機

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定したレーザパルスレーザを得、また加工
においてはタクトタイムの無駄時間なしを実現する手段
を提供することを目的とする。 【解決手段】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起光
を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発振
モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だけ
休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ制御方法にお
いて、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続し
た場合に、その後の２番目以降のレーザパルスを得るた
めのＱスイッチ休止期間と、１番目のレーザパルスを得
るためのＱスイッチ休止期間とが異なることを特徴とす
るレーザ制御方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｑスイッチを用い
たレーザ装置とその制御方法およびそれを用いたレーザ
加工方法とレーザ加工機に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のＱスイッチレーザ制御について説
明する。
【０００３】従来のＱスイッチレーザシステムは、高反
射ミラー、Ｑスイッチ素子、ゲイン媒質、出力鏡、励起
光媒体とからなる共振器を、そのＱスイッチと励起光を
制御することでパルス光を得ている。
【０００４】ゲイン媒質に励起光が入射すると、高反射
ミラーと出力鏡の間で光共振が発生しレーザ発振する。
【０００５】しかし、その途中にＱスイッチ素子を挿入
するとＱスイッチ素子がＯＮつまり連続発振モードの時
は光路が開かれるためレーザ発振するが、ＯＦＦつまり
休止期間の時は光路が閉じられ発振が停止する。
【０００６】次にＱスイッチをＯＮつまり連続発振モー
ドに切換えると共振器損失が短時間に減少し強力なパル
スを得る。こうしてＱスイッチのＯＮ、ＯＦＦを切換え
ることでパルスレーザ発振が可能となる。
【０００７】通常Ｑスイッチ発振を行う場合、図１４に
示すように発振を開始した最初のパルスが非常に大きく
なる。これを抑えるために、図１５に示すように最初の
パルスを得る手前で、ゲイン媒質を励起する光を弱める
などのファーストパルスサプレッション方式がある。
【０００８】また、このファーストパルスサプレッショ
ンを行わず、最初のパルスが大きくなりすぎることを抑
えるために、図１６に示すように、励起光を連続的にゲ
イン媒質に照射して、Ｑスイッチを連続発振モードに設
定し、レーザパルス発生前に所定の時間だけ休止期間を
設けレーザパルスを得るＱスイッチレーザがある。
【０００９】また、このＱスイッチレーザを搭載したレ
ーザ加工機があり、金属加工やプリント基板の穴あけな
どに使用されている。加工は一般に加工中は所定の周波
数でパルストレインが必要となり、またワークの搬送時
などは長い休止時間が必要で、パルス発振と休止の繰り
返しで行われる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかし、励起光を連続
的にゲイン媒質に照射して、Ｑスイッチを連続発振モー
ドに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だけ休止
期間を設けレーザパルスを得る方式は非常に有用な方法
であるが、周波数が高めた場合に、図１６の第１パルス
に示すように最初のパルスがそれ以降のパルスと比較し
て少し高くなことがある。
【００１１】また、発振器内部の光学部品の熱レンズの
影響によって、最初の数パルスが、図１７（Ａ）、
（Ｂ）に示すように、一定時間発振した後の安定したパ
ルスより、高くなったり、低くなったりすることが観測
されている。
【００１２】また、レーザ加工機においても、図１７
（Ａ）（Ｂ）のようなレーザパルスを使用して加工した
場合、図１８（Ａ）、（Ｂ）のように最初のショットあ
るいは、最初の数ショットの加工径が所望の加工径でな
くなってしまう。
【００１３】これを解決するために、ダミーターゲット
にパルスが安定するまでレーザを照射し、その後加工を
開始するなどの手段をとっていたが、その照射時間が加
工の無駄時間になる、という問題を有していた。
【００１４】本発明は前記従来の問題点を解決するもの
で、安定したレーザパルスレーザを得、また加工におい
てはタクトタイムの無駄時間なしを実現する手段を提供
することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の本発明は、ゲイン媒質とＱスイッチ
を有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイ
ッチを連続発振モードに設定し、レーザパルス発生前に
所定の時間だけ休止期間を設けレーザパルスを得るレー
ザ制御方法において、Ｑスイッチの連続発振期間が一定
時間以上継続した場合に、その後の２番目以降のレーザ
パルスを得るためのＱスイッチ休止期間と、１番目のレ
ーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間とが異なる
ことを特徴とするレーザ制御方法である。
【００１６】請求項２記載の本発明は、1番目のレーザ
パルスを得るためのＱスイッチ休止期間が、２番目以降
のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間より短
い請求項１記載のレーザ制御方法である。
【００１７】請求項３記載の本発明は、エクストラキャ
ビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発生
レーザ光を得る請求項１または２記載のレーザ制御方法
である。
【００１８】請求項４記載の本発明は、イントラキャビ
ティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発生レ
ーザ光を得る請求項１または２記載のレーザ制御方法で
ある。
【００１９】請求項５記載の本発明は、ゲイン媒質とＱ
スイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照射し
てＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパルス
発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパルスを
得るレーザ制御方法において、レーザ出力部に光学変調
器を設け、Ｑスイッチが休止期間から連続発振モードに
切り替わったタイミングから一定の時間のみ光学変調器
を通過させるレーザ制御方法である。
【００２０】請求項６記載の本発明は、Ｑスイッチの連
続発振期間に応じて、1番目のレーザパルスを得るため
のＱスイッチ休止期間を可変する請求項１から５のいず
れかに記載のレーザ制御方法である。
【００２１】請求項７記載の本発明は、ゲイン媒質とＱ
スイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照射し
てＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパルス
発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパルスを
得るレーザ装置において、Ｑスイッチの連続発振期間が
一定時間以上継続した場合に、その後の２番目以降のレ
ーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間と、１番目
のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間とが異
なるレーザ装置である。
【００２２】請求項８記載の本発明は、1番目のレーザ
パルスを得るためのＱスイッチ休止期間が、２番目以降
のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間より短
い請求項７記載のレーザ装置である。
【００２３】請求項９記載の本発明は、エクストラキャ
ビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発生
レーザ光を得る請求項７または８記載のレーザ装置であ
る。
【００２４】請求項１０記載の本発明は、 イントラキ
ャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発
生レーザ光を得る請求項７または８記載のレーザ装置で
ある。
【００２５】請求項１１記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るレーザ装置において、レーザ出力部に光学変調
器を設け、Ｑスイッチが休止期間から連続発振モードに
切り替わったタイミングから一定の時間のみ光学変調器
を通過させるレーザ装置である。
【００２６】請求項１２記載の本発明は、Ｑスイッチの
連続発振期間に応じて、1番目のレーザパルスを得るた
めのＱスイッチ休止期間を可変する請求項７〜１１のい
ずれかに記載のレーザ装置である。
【００２７】請求項１３記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るレーザ加工方法において、Ｑスイッチの連続発
振期間が一定時間以上継続した場合に、その後の２番目
以降のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間
と、１番目のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止
期間とが異なるＱスイッチレーザを用いたレーザ加工方
法である。
【００２８】請求項１４記載の本発明は、 1番目のレ
ーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間が、２番目
以降のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間よ
り短いＱスイッチレーザを用いた請求項１３記載のレー
ザ加工方法である。
【００２９】請求項１５記載の本発明は、 エクストラ
キャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波
発生レーザ光を得ることを特徴とするＱスイッチレーザ
を用いた請求項１３または１４記載のレーザ加工方法で
ある。
【００３０】請求項１６記載の本発明は、 イントラキ
ャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発
生レーザ光を得ることを特徴とするＱスイッチレーザを
用いた請求項１３または１４記載のレーザ加工方法であ
る。
【００３１】請求項１７記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るレーザ加工方法において、レーザ出力部に光学
変調器を設け、Ｑスイッチが休止期間から連続発振モー
ドに切り替わったタイミングから一定の時間のみ光学変
調器を通過させるＱスイッチレーザを用いたレーザ加工
方法である。
【００３２】請求項１８記載の本発明は、 Ｑスイッチ
の連続発振期間に応じて、1番目のレーザパルスを得る
ためのＱスイッチ休止期間を可変するＱスイッチレーザ
を用いた請求項１３〜１７のいずれかに記載のレーザ加
工方法である。
【００３３】請求項１９記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るレーザ加工機において、Ｑスイッチの連続発振
期間が一定時間以上継続した場合に、その後の２番目以
降のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間と、
１番目のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間
とが異なるＱスイッチレーザを用いたレーザ装置を搭載
したレーザ加工機である。
【００３４】請求項２０記載の本発明は、 1番目のレ
ーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間が、２番目
以降のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間よ
り短いことを特徴とするＱスイッチレーザを用いた請求
項１９記載のレーザ加工機である。
【００３５】請求項２１記載の本発明は、 エクストラ
キャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波
発生レーザ光を得ることを特徴とするＱスイッチレーザ
を用いた請求項１９または２０記載のレーザ加工機であ
る。
【００３６】請求項２２記載の本発明は、 イントラキ
ャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発
生レーザ光を得ることを特徴とするＱスイッチレーザを
用いた請求項１９または２０記載のレーザ加工機であ
る。
【００３７】請求項２３記載の本発明は、記載の本発明
は、 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起光を連続的
にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発振モードに
設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だけ休止期間
を設けレーザパルスを得るレーザ加工機において、レー
ザ出力部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが休止期間か
ら連続発振モードに切り替わったタイミングから一定の
時間のみ光学変調器を通過させることを特徴とするＱス
イッチレーザを用いたレーザ加工機である。
【００３８】請求項２４記載の本発明は、Ｑスイッチの
連続発振期間に応じて、1番目のレーザパルスを得るた
めのＱスイッチ休止期間を可変することを特徴とするＱ
スイッチレーザを用いた請求項１９〜２３のいずれかに
記載のレーザ加工機である。
【００３９】請求項２５記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るレーザ制御方法において、Ｑスイッチの連続発
振期間が一定時間以上継続した場合に、所望のレーザパ
ルスを得るまで、レーザパルス休止期間を調整するレー
ザ制御方法である。
【００４０】請求項２６記載の本発明は、 連続発振の
時間によって休止時間を切換えることを特徴とする請求
項２５記載のレーザ制御方法である。
【００４１】請求項２７記載の本発明は、 ２番目のパ
ルス以降はその前のパルスをモニタすることで、レーザ
パルスが一定になるように補正することを特徴とする請
求項２６記載のレーザ制御方法である。
【００４２】請求項２８記載の本発明は、 エクストラ
キャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波
発生レーザ光を得ることを特徴とする請求項２４〜２６
のいずれかに記載のレーザ制御方法である。
【００４３】請求項２９記載の本発明は、 イントラキ
ャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発
生レーザ光を得ることを特徴とする請求項２４〜２６の
いずれかに記載のレーザ制御方法である。
【００４４】請求項３０記載の本発明は、 レーザ出力
部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが休止期間から連続
発振モードに切り替わったタイミングから一定の時間の
み光学変調器を通過させることによりレーザ光のパルス
部を切り出す請求項２４〜２９のいずれかに記載のレー
ザ制御方法である。
【００４５】請求項３１記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るレーザ装置において、Ｑスイッチの連続発振期
間が一定時間以上継続した場合に、所望のレーザパルス
を得るまで、レーザパルス休止期間を調整する手段を設
けたレーザ装置である。
【００４６】請求項３２記載の本発明は、 連続発振の
時間によって休止時間を切換える請求項３１記載のレー
ザ装置請求項３３記載の本発明は、 ２番目のパルス以
降はその前のパルスをモニタすることで、レーザパルス
が一定になるように補正することを特徴とする請求項３
１記載のレーザ装置である。
【００４７】請求項３４記載の本発明は、 エクストラ
キャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波
発生レーザ光を得る請求項３１〜３３のいずれかに記載
のレーザ装置である。
【００４８】請求項３５記載の本発明は、 イントラキ
ャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発
生レーザ光を得る請求項３１〜３３のいずれかに記載の
レーザ装置である。
【００４９】請求項３６記載の本発明は、 レーザ出力
部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが休止期間から連続
発振モードに切り替わったタイミングから一定の時間の
み光学変調器を通過させる請求項３１〜３５のいずれか
に記載のレーザ装置である。
【００５０】請求項３７記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るＱスイッチレーザを用いるレーザ加工方法にお
いて、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続し
た場合に、所望のレーザパルスを得るまで、レーザパル
ス休止期間を調整するＱスイッチレーザを用いたレーザ
加工方法である。
【００５１】請求項３８記載の本発明は、 連続発振の
時間によって休止時間を切換える請求項３７記載のレー
ザ加工方法である。
【００５２】請求項３９記載の本発明は、 ２番目のパ
ルス以降はその前のパルスをモニタすることで、レーザ
パルスが一定になるように補正する請求項３７記載のレ
ーザ加工方法である。
【００５３】請求項４０記載の本発明は、 エクストラ
キャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波
発生レーザ光を得る請求項３７〜３９のいずれかに記載
のレーザ加工方法である。
【００５４】請求項４１記載の本発明は、 イントラキ
ャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発
生レーザ光を得る請求項３７〜３９のいずれかに記載の
レーザ加工方法である。
【００５５】請求項４２記載の本発明は、 レーザ出力
部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが休止期間から連続
発振モードに切り替わったタイミングから一定の時間の
み光学変調器を通過させる請求項３７〜４１のいずれか
に記載のレーザ加工方法である。
【００５６】請求項４３記載の本発明は、 ゲイン媒質
とＱスイッチを有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照
射してＱスイッチを連続発振モードに設定し、レーザパ
ルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けレーザパル
スを得るＱスイッチレーザを用いるレーザ加工機におい
て、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続した
場合に、所望のレーザパルスを得るまで、レーザパルス
休止期間を調整することにより、一定したレーザパルス
を得ることを特徴とするＱスイッチレーザを用いたレー
ザ加工機である。
【００５７】請求項４４記載の本発明は、 連続発振の
時間によって休止時間を切換えることを特徴とする請求
項４３記載のレーザ加工機である。
【００５８】請求項４５記載の本発明は、 ２番目のパ
ルス以降はその前のパルスをモニタすることで、レーザ
パルスが一定になるように補正する請求項３７記載のレ
ーザ加工機である。
【００５９】請求項４６記載の本発明は、 エクストラ
キャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波
発生レーザ光を得る請求項４３〜４５のいずれかに記載
のレーザ加工機である。
【００６０】請求項４７記載の本発明は、 イントラキ
ャビティ方式で非線形結晶を設けることにより高調波発
生レーザ光を得る請求項４３〜４５のいずれかに記載の
レーザ加工機である。
【００６１】請求項４８記載の本発明は、 レーザ出力
部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが休止期間から連続
発振モードに切り替わったタイミングから一定の時間の
み光学変調器を通過させる請求項４３〜４７のいずれか
に記載のレーザ加工機である。
【００６２】
【発明の実施の形態】上記構成により、請求項１〜５記
載の本発明は、レーザ発振開始時、また一定時間の休止
後に1番目のパルスから発振完了するまでの全てのパル
スにわたって安定したパルスを得ることができる。
【００６３】また、請求項7〜１２記載の本発明は、レ
ーザ発振開始時、また一定時間の休止後に1番目のパル
スから発振完了するまでの全てのパルスにわたって安定
したパルスを得ることができるまた、請求項１３〜１８
記載の本発明は、レーザ開始時、また一定時間の休止後
に1番目のパルスから発振完了するまでの全てのパルス
にわたって安定したパルスを得、そのパルスを使用し加
工を行うことで常に安定した径の加工を実現することが
できる。
【００６４】また、請求項１９〜２４記載の本発明は、
レーザ開始時、また一定時間の休止後に1番目のパルス
から発振完了するまでの全てのパルスにわたって安定し
たパルスを得、そのパルスを使用し加工を行うことで常
に安定した径の加工を実現することができる。
【００６５】また、請求項２５〜３０記載の本発明は、
レーザ発振開始時、また一定時間の休止後に1番目のパ
ルスから発振完了するまでの全てのパルスにわたって安
定したパルスを得ることができる。
【００６６】また、請求項３１〜３６記載の本発明は、
レーザ発振開始時、また一定時間の休止後に1番目のパ
ルスから発振完了するまでの全てのパルスにわたって安
定したパルスを得ることができる。
【００６７】また、請求項３７〜４２記載の本発明は、
レーザ開始時、また一定時間の休止後に1番目のパルス
から発振完了するまでの全てのパルスにわたって安定し
たパルスを得、そのパルスを使用し加工を行うことで常
に安定した径の加工を実現することができる。
【００６８】また、請求項４３〜４８記載の本発明によ
れば、レーザ開始時、また一定時間の休止後に1番目の
パルスから発振完了するまでの全てのパルスにわたって
安定したパルスを得、そのパルスを使用し加工を行うこ
とで常に安定した径の加工を実現することができる。
【００６９】（実施の形態１）以下、本発明の実施の形
態１について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００７０】図１は、本実施の形態を示すレーザ発振制
御方法の説明図で、Ｑスイッチレーザシステムのレーザ
ヘッドにおける、Ｑスイッチへの指令波形を示してい
る。
【００７１】まず、励起光はゲイン媒質に連続して照射
する。ＱスイッチがＯＮの状態が連続発振モードであ
り、このモードから、ＱスイッチのＯＦＦの状態である
休止期間に変更すると、レーザゲインが上昇する。Ｔ０
時間の経過後ＱスイッチをＯＮ（連続発振モード）に切
換えるとレーザパルスが発生する。Ｔ０は１番目のパル
スを得るための発振休止期間である。２番目以降のパル
スを得るためには発振休止期間をＴにする。指定したパ
ルスを照射する場合の処理の流れを図２に示す。
【００７２】まず、指定するパルス数Ｎを設定し、カウ
ンタとしてｎを初期化する。ｎが最初のショットを示す
０の場合、連続発振期間が一定時間以上経過している場
合、休止期間としてＴ０を設定する。連続発振期間が一
定時間を経過していない場合は休止期間としてＴを設定
する。また、１番目のパルスで無い場合は休止期間とし
てＴを設定する。この設定した休止期間となるようにＱ
スイッチをＯＦＦする。
【００７３】なお、ゲイン媒質として蛍光寿命の非常に
短いＹＶＯ４等の媒体を使用する場合、熱レンズの影響
を受けにくいため、図１のＴ０の期間は常にＴの期間よ
り短く設定する。
【００７４】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザ発振制御方式
の実施形態１において、エクストラキャビティー方式あ
るいはイントラキャビティー方式で非線形結晶を設け
る。
【００７５】図３を用いてＱスイッチレーザシステムの
動作を説明する。システムの構成としては、２１は高反
射ミラー、２２はＱスイッチ素子、２３はゲイン媒質、
２４は出力鏡、２５は集光レンズである。
【００７６】高調波発生させる場合、この場合はエクス
トラキャビティ方式であるが破線で囲んだ部分を設け
る。２６は非線形光学結晶、２７は光学レンズであり、
２８はナローバンドフィルターまたはダイクロイックミ
ラーであり、２枚のレンズ２５と２７でコリメータを構
成する。イントラキャビティーの場合の図は省略する
が、出力鏡２４と高反射ミラー２１の間に非線形光学結
晶が入る構成となる。また、次に説明するレーザの出力
部に光学変調器２９を設けているレーザの出力部に光学
変調器を設けＱスイッチのＯＦＦのタイミングから一定
時間光学変調器を通過させることで、レーザの連続発振
成分を除去しパルス成分のみを取り出すことができる。
【００７７】図４は、図３の光学変調器２９の制御方法
を示している。
【００７８】ＱスイッチがほぼＯＮ（連続発振モード）
したタイミングから一定時間光学変調器を通過させる。
なお、パルス発生がＱスイッチのＯＮタイミングから少
しずれる場合は、光学変調器を通過させるタイミングを
ずらしても良い。また、Ｑスイッチ発振によるレーザパ
ルスは周波数によって、パルス幅が変化する場合があ
る。この場合は周波数によって光学変調器の通過時間を
変更しても良い。
【００７９】また、非線形結晶をエクストラキャビティ
方式で使用する場合は、レーザの出力部として、基本波
の出力部、また複数の非線形結晶を使用する場合はその
間に光学変調器を設けても良い。
【００８０】図５は、本実施の形態１において、連続発
振期間に応じて１番目のＱスイッチ休止期間を可変させ
る処理の流れを示したものである。指定するパルス数Ｎ
を設定し、カウンタとしてｎを初期化する。ｎが最初の
ショットを示す０の場合、連続発振期間が最小時間以上
経過している場合、休止期間としてその直前の連続発振
期間τの関数で表される値ｆ（τ）を設定する。
【００８１】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。
【００８２】前記の最小時間は、パルスを連続発振させ
たときのパルスを発生させる期間である連続発振期間で
あり、パルス周波数が変化したときなどは、周波数によ
ってｆ（τ）を変更しても良い。
【００８３】以上のように、本実施の形態によれば、１
番目のパルスと２番目以降のパルスと同じピークで同じ
波形のパルスとすることが出来る。
【００８４】なお、非線形結晶を利用した場合において
も、１番目のパルスと２番目以降のパルスと同じピーク
で同じ波形の高調波パルスを得ることが出来るとするこ
とが出来る。
【００８５】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になる。 （実施の形態２）図６に本発明の実施の形態２を示す。
【００８６】１１はレーザヘッド、１２はＱスイッチ、
１３は励起光発生源、１４はＱスイッチ用ＲＦドライバ
ー、１５は制御回路、1７は操作部である。また、１６
は１５の制御回路部に設けられたＱスイッチ信号発生
部、１８は外部変調器１９は外部光学変調器制御部であ
る。
【００８７】ＰＣ（パーソナルコンピュータ）などの操
作部１７で設定された発振条件指令は、制御回路１５に
送り込まれる。送り込まれた発振条件指令は、制御回路
１５で解釈され、Ｑスイッチ信号発生部１６において、
図１で説明したように１番目の休止期間が２番目の休止
期間と異なる休止期間となるように制御信号を発生す
る。励起光発生源１３およびＱスイッチ用ＲＦドライバ
ー１４に伝え、レーザヘッドの発振をおこなう。
【００８８】なお、特にゲイン媒質として蛍光寿命の非
常に短いＹＶＯ４等の媒体を使用する場合、熱レンズの
影響を受けにくいため、１番目の休止期間は２番目以降
の休止期間より常に短く設定する。
【００８９】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザ装置において
において、エクストラキャビティー方式あるいはイント
ラキャビティー方式で非線形結晶を設ける。
【００９０】Ｑスイッチレーザシステムのレーザヘッド
の構成としては実施の形態１で説明した図３と同様とな
るのでここでは説明を割愛する。
【００９１】また、レーザの出力部に光学変調器を設け
ＱスイッチのＯＦＦのタイミングから一定時間光学変調
器を通過させるように構成することで、レーザの連続発
振成分を除去しパルス成分のみを取り出すことができ
る。
【００９２】図６の１９に示される外部光学変調器制御
部について説明する。
【００９３】この制御部では、図４で説明したの光学変
調器の制御を行う。ＱスイッチがほぼＯＮ（連続発振モ
ード）したタイミングから一定時間光学変調器を通過さ
せる信号を発生する。なお、パルス発生がＱスイッチの
ＯＮタイミングから少しずれる場合は、光学変調器を通
過させるタイミングをずらしても良い。また、Ｑスイッ
チ発振によるレーザパルスは周波数によって、パルス幅
が変化する場合がある。この場合は周波数によって光学
変調器の通過時間を変更しても良い。
【００９４】また、非線形結晶をエクストラキャビティ
方式で使用する場合は、レーザの出力部として、基本波
の出力部、また複数の非線形結晶を使用する場合はその
間に光学変調器を設けても良い。
【００９５】次に、図６のＱスイッチ信号発生部におい
て１番目のＱスイッチ休止期間として、連続発振期間が
最小時間以上経過している場合、休止期間としてその直
前の連続発振期間τの関数で表される値ｆ（τ）を設定
するように構成する。
【００９６】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを
連続発振させたときのパルスを発生させる期間である連
続発振期間であり、パルス周波数が変化したときなど
は、周波数によってｆ（τ）を変更しても良い。
【００９７】以上のように、本実施の形態によれば、１
番目のパルスと２番目以降のパルスと同じピークで同じ
波形のパルスとすることが出来る。
【００９８】なお、非線形結晶を利用した場合において
も、１番目のパルスと２番目以降のパルスと同じピーク
で同じ波形の高調波パルスを得ることが出来るとするこ
とが出来る。
【００９９】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になる。 （実施の形態３）以下、本発明の実施の形態３につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
【０１００】図７は、本実施の形態を示すＱスイッチレ
ーザを用いたレーザ加工方法のレーザ発振制御方法の概
略図であり、プリント基板の穴あけ加工の処理の流れを
表している。
【０１０１】加工穴の位置決めはテーブルとガルバノを
使用して行われ、ガルバノの加工エリアを超える範囲を
テーブルを移動してワークの全面を加工するものであ
る。
【０１０２】まず、加工を開始すると、ワークを加工テ
ーブル上に搬入する。次にワークを加工する。加工が完
了するとワークをテーブルから搬出するという手順とな
る。
【０１０３】この加工においては、先ずテーブルをガル
バノで行う加工位置に移動し、そこでガルバノを移動し
加工点を位置決めしレーザを照射する。この照射におい
て、指定するパルス数Ｎを設定し、カウンタとしてｎを
初期化する。ｎが最初のショットを示す０の場合、連続
発振期間が一定時間以上経過している場合、休止期間と
してＴ０を設定する。連続発振期間が一定時間を経過し
ていない場合は休止期間としてＴを設定する。
【０１０４】また、１番目のパルスで無い場合は休止期
間としてＴを設定する。この設定した休止期間となるよ
うにＱスイッチをＯＦＦする。この処理によりＱスイッ
チの指令波形とそこから発生するパルスは前述の図１で
説明したようになる。
【０１０５】なお、特にゲイン媒質として蛍光寿命の非
常に短いＹＶＯ４等の媒体を使用する場合、熱レンズの
影響を受けにくいため、１番目の休止期間は２番目以降
の休止期間より常に短く設定する。
【０１０６】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザを用いたレー
ザ加工方法において、エクストラキャビティー方式ある
いはイントラキャビティー方式で非線形結晶を設ける。
【０１０７】Ｑスイッチレーザシステムのレーザヘッド
の構成としては実施の形態１で説明した図３と同様とな
るのでここでは説明を割愛する。
【０１０８】次に、Ｑスイッチレーザを用いたレーザ加
工機においてレーザの出力部に光学変調器を設けた場合
のその外部光学変調器を設けた場合の制御方法を説明す
る。制御方法は実施の形態１の図４の説明と同様でＱス
イッチがほぼＯＮ（連続発振モード）したタイミングか
ら一定時間光学変調器を通過させる。
【０１０９】なお、パルス発生がＱスイッチのＯＮタイ
ミングから少しずれる場合は、光学変調器を通過させる
タイミングをずらしても良い。
【０１１０】また、Ｑスイッチ発振によるレーザパルス
は周波数によって、パルス幅が変化する場合がある。こ
の場合は周波数によって光学変調器の通過時間を変更し
ても良い。
【０１１１】また、非線形結晶をエクストラキャビティ
方式で使用する場合は、レーザの出力部として、基本波
の出力部、また複数の非線形結晶を使用する場合はその
間に光学変調器を設けても良い。
【０１１２】次に、本発明の形態３のＱスイッチレーザ
を用いたレーザ加工方法において、連続発振期間に応じ
て１番目のＱスイッチ休止期間を可変させる処理の流れ
を説明する。
【０１１３】この処理の流れは実施の形態１の図５で説
明した内容と同様で、指定するパルス数Ｎを設定し、カ
ウンタとしてｎを初期化する。ｎが最初のショットを示
す０の場合、連続発振期間が最小時間以上経過している
場合、休止期間としてその直前の連続発振期間τの関数
で表される値ｆ（τ）を設定する。
【０１１４】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを
連続発振させたときのパルスを発生させる期間である連
続発振期間であり、パルス周波数が変化したときなど
は、周波数によってｆ（τ）を変更しても良い。
【０１１５】以上のように、本実施の形態によれば、１
番目のパルスと２番目以降のパルスと同じピークで同じ
波形のパルスとすることが出来、これにより全ての穴加
工を安定して行うことが可能になる。またレーザの照射
と同期してレーザの加工点を移動し直線、あるいは曲線
を加工においては、加工幅を一定にすることが可能とな
る。
【０１１６】また、非線形結晶を利用したＱスイッチレ
ーザを用いたレーザ加工方法においても、１番目のパル
スと２番目以降のパルスと同じピークで同じ波形の高調
波パルスを得ることが出来るとすることが出来、これに
より全ての穴加工を安定して行うことが可能になる。
【０１１７】またレーザの照射と同期してレーザの加工
点を移動し直線、あるいは曲線を加工においては、加工
幅を一定にすることが可能となる。
【０１１８】また、レーザの出力部に光学変調器を設け
ＱスイッチのＯＮ（連続発振モード）のタイミングから
一定時間光学変調器を通過させることで、レーザの連続
発振成分を除去しパルス成分のみを取り出すことが出
来、全ての穴加工を安定して行うことが可能になると同
時に、レーザの連続発振成分によって加工される不必要
な加工を抑制することが出来る。
【０１１９】また、ガルバノを移動して加工点を移動す
る場合に、レーザの連続発振成分によって加工される穴
と穴の間の傷を無くすことが出来る。
【０１２０】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になり、全ての穴加
工を安定して行うことが可能になる。
【０１２１】またレーザの照射と同期してレーザの加工
点を移動し直線、あるいは曲線を加工においては、加工
幅を一定にすることが可能となる。 （実施の形態４）以下、本発明の実施の形態４につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
【０１２２】図８は、本実施の形態を示すＱスイッチレ
ーザを用いたプリント基板の穴あけレーザ加工機の光学
系の概念図である。
【０１２３】３１はＱスイッチレーザヘッド、３２はコ
リメータレンズ、３３はマスクチェンジャ、３４はベン
ドミラー、３５はガルバノスキャナー、３６はスキャン
レンズ、３７は加工テーブル、３８はＱスイッチレーザ
制御部である。
【０１２４】加工穴の位置決めは加工テーブル３７とガ
ルバノスキャナ３５を使用して行われ、ガルバノスキャ
ナ３５の加工エリアを超える範囲を加工テーブル３７を
移動してワークの全面を加工するものである。まず、加
工を開始すると、ローダ（図示せず）がワークを加工テ
ーブル３７上に搬入する。次にワークを加工する。加工
が完了するとアンローダ（図示せず）がワークを加工テ
ーブル３７から搬出するという手順となる。
【０１２５】この加工においては、先ず加工テーブル３
７をガルバノスキャナ３５で行う加工位置に移動し、そ
こでガルバノスキャナ３５を移動し加工点を位置決めし
レーザを照射する。Ｑスイッチレーザヘッド３１から出
射されたレーザはコリメータ３２によりビーム径を最適
化された後、マスクチェンジャ３３上のマスクに照射さ
れる。
【０１２６】照射されたレーザはその一部がマスクを通
過して、ベンドミラー３４に介して、ガルバノスキャナ
ー３５により所定の位置にスキャンレンズ３６を通して
集光され、加工テーブル３７上に固定されているワーク
を加工する。
【０１２７】Ｑスイッチレーザヘッド３１とＱスイッチ
レーザ制御部３８は、実施の形態２の図６で説明した内
容と同様であり、１１はレーザヘッド、１２はＱスイッ
チ、１３は励起光発生源、１４はＱスイッチ用ＲＦドラ
イバー、１５は制御回路である。
【０１２８】また、１６は制御回路部に設けられたＱス
イッチ信号発生部１５からなる。
【０１２９】加工機から設定された発振条件指令は、制
御回路１５に送り込まれる。送り込まれた発振条件指令
は、制御回路１５で解釈され、Ｑスイッチ信号発生部１
６において、図１で説明したように１番目の休止期間が
２番目の休止期間と異なる休止期間となるように制御信
号を発生する。励起光発生源１３およびＱスイッチ用Ｒ
Ｆドライバー１４に伝え、レーザヘッドの発振をおこな
う。
【０１３０】なお、特にゲイン媒質として蛍光寿命の非
常に短いＹＶＯ４等の媒体を使用する場合、熱レンズの
影響を受けにくいため、１番目の休止期間は２番目以降
の休止期間より常に短く設定する。
【０１３１】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザ装置において
において、エクストラキャビティー方式あるいはイント
ラキャビティー方式で非線形結晶を設ける。
【０１３２】Ｑスイッチレーザシステムのレーザヘッド
の構成としては実施の形態１で説明した図３と同様とな
るのでここでは説明を割愛する。
【０１３３】本実施の形態４の外部光学変調器制御部に
ついても実施の形態２で詳細を説明と同様に、この制御
部では、実施の形態１の図３で説明したの光学変調器の
制御を行う。
【０１３４】ＱスイッチがほぼＯＮ（連続発振モード）
したタイミングから一定時間光学変調器を通過させる信
号を発生する。なお、パルス発生がＱスイッチのＯＮタ
イミングから少しずれる場合は、光学変調器を通過させ
るタイミングをずらしても良い。
【０１３５】また、Ｑスイッチ発振によるレーザパルス
は周波数によって、パルス幅が変化する場合がある。こ
の場合は周波数によって光学変調器の通過時間を変更し
ても良い。
【０１３６】また、非線形結晶をエクストラキャビティ
方式で使用する場合は、レーザの出力部として、基本波
の出力部、また複数の非線形結晶を使用する場合はその
間に光学変調器を設けても良い。
【０１３７】次に、本実施の形態４において、実施の形
態２と同様に図６のＱスイッチ信号発生部において１番
目のＱスイッチ休止期間として、連続発振期間が最小時
間以上経過している場合、休止期間としてその直前の連
続発振期間τの関数で表される値ｆ（τ）を設定するよ
うに構成する。
【０１３８】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを
連続発振させたときのパルスを発生させる期間である連
続発振期間であり、パルス周波数が変化したときなど
は、周波数によってｆ（τ）を変更しても良い。
【０１３９】以上のように、本実施の形態によれば、１
番目のパルスと２番目以降のパルスと同じピークで同じ
波形のパルスとすることが出来、これにより全ての穴加
工を安定して行うことが可能になる。またレーザの照射
と同期してレーザの加工点を移動し直線、あるいは曲線
を加工においては、加工幅を一定にすることが可能とな
る。
【０１４０】非線形結晶を利用したＱスイッチレーザを
用いたレーザ加工装機においても、１番目のパルスと２
番目以降のパルスと同じピークで同じ波形の高調波パル
スを得ることが出来るとすることが出来、これにより全
ての穴加工を安定して行うことが可能になる。またレー
ザの照射と同期してレーザの加工点を移動し直線、ある
いは曲線を加工においては、加工幅を一定にすることが
可能となる。
【０１４１】また、レーザの出力部に光学変調器を設け
ＱスイッチのＯＮ（連続発振モード）のタイミングから
一定時間光学変調器を通過させることで、レーザの連続
発振成分を除去しパルス成分のみを取り出すことが出
来、全ての穴加工を安定して行うことが可能になると同
時に、レーザの連続発振成分によって加工される不必要
な加工を抑制することが出来る。
【０１４２】また、ガルバノを移動して加工点を移動す
る場合に、レーザの連続発振成分によって加工される穴
と穴の間の傷を無くすことが出来る。
【０１４３】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になり、全ての穴加
工を安定して行うことが可能になる。またレーザの照射
と同期してレーザの加工点を移動し直線、あるいは曲線
を加工においては、加工幅を一定にすることが可能とな
る。
【０１４４】（実施の形態５）以下、本発明の実施の形
態５について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【０１４５】図９は、本実施の形態を示すレーザ発振制
御方法の概略図である。図９は、図３に示したＱスイッ
チレーザシステムのレーザヘッドにおける、Ｑスイッチ
への指令波形を示したものである。まず、励起光はゲイ
ン媒質に連続して照射する。ＱスイッチがＯＮの状態が
連続発振モードであり、このモードから、Ｑスイッチの
ＯＦＦの状態である休止期間に変更すると、レーザゲイ
ンが上昇する。
【０１４６】Ｔ１時間の経過後ＱスイッチをＯＮ（連続
発振モード）に切換えるとレーザパルスが発生する。Ｔ
１は１番目のパルスを得るための発振休止期間である。
２番目以降のパルスを得るためには発振休止期間をＴ２
にする。これを繰り返し休止期間が一定になるまで休止
期間を調整する。
【０１４７】この処理の流れを図１０に示す。指定する
パルス数Ｎを設定し、カウンタとしてｎを初期化する。
ｎがパルスが安定するまでのショット数ｃ以下の場合、
連続発振期間が一定時間以上経過している場合、休止期
間としてショット数ｎの関数として表されるＴ（ｎ）を
設定する。連続発振期間が一定時間を経過していない場
合は休止期間としてＴを設定する。また、ショット数が
ｃ番目のパルス以降の無い場合は休止期間としてＴを設
定する。この設定した休止期間となるようにＱスイッチ
をＯＦＦする。なお、Ｔ（ｎ）は関数でも良いし、ショ
ット番号に応じた休止期間のデータテーブルを準備して
おき、それを切換えて使用してもよい。
【０１４８】図１１は、本発明の形態５において、連続
発振期間に応じてｎ番目までのＱスイッチ休止期間を可
変させる処理の流れを示したものである。指定するパル
ス数Ｎを設定し、カウンタとしてｎを初期化する。ｎが
パルスが安定するまでのショット数ｃ以下の場合、連続
発振期間が最小時間以上経過している場合、休止期間と
してその直前の連続発振期間τとショット数ｎの関数で
表される値ｆ（ｎ，τ）を設定する。
【０１４９】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを
連続発振させたときのパルスを発生させる期間である連
続発振期間であり、パルス周波数が変化したときなど
は、周波数によってｆ（ｎ，τ）を変更しても良い。
【０１５０】図１２は、本発明の形態５において、パル
スをモニタすることで、休止期間を可変させる処理を示
したものである。指定するパルス数Ｎを設定し、カウン
タとしてｎを初期化する。ｎがパルスが安定するまでの
ショット数ｃ以下の場合、連続発振期間が最小時間以上
経過している場合、２番目の以降のパルスを発行する場
合（ｎ＞０）、前回のパルスをモニタしたパルスが安定
パルスとほぼ同等になるまで、休止期間としてその直前
の連続発振期間τとショット数ｎの関数で表される値ｆ
（ｎ，τ）にモニタ値からの補正値αを加算した値を設
定する。
【０１５１】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを
連続発振させたときのパルスを発生させる期間である連
続発振期間であり、パルス周波数が変化したときなど
は、周波数によってｆ（ｎ，τ）を変更しても良い。ま
た、図示していないが休止期間を可変させる方法として
前回値と前々回値を比較し値が安定することを判断して
休止期間をＴに固定しても良いし、パルスが安定するま
でのショット数ｃを超えた場合においても，モニタ値か
ら前述のα値を休止期間に加算して常時可変しても良
い。
【０１５２】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザ発振制御方式
の実施形態１において、エクストラキャビティー方式あ
るいはイントラキャビティー方式で非線形結晶を設け
る。Ｑスイッチレーザシステムのレーザヘッドの構成と
しては実施の形態１で説明した図３と同様となるのでこ
こでは説明を割愛する。
【０１５３】次に、Ｑスイッチレーザ制御方法において
レーザの出力部に光学変調器を設けた場合のその外部光
学変調器を設けた場合の制御方法を説明する。制御方法
は実施の形態１の図４の説明と同様でＱスイッチがほぼ
ＯＮ（連続発振モード）したタイミングから一定時間光
学変調器を通過させる。
【０１５４】なお、パルス発生がＱスイッチのＯＮタイ
ミングから少しずれる場合は、光学変調器を通過させる
タイミングをずらしても良い。また、Ｑスイッチ発振に
よるレーザパルスは周波数によって、パルス幅が変化す
る場合がある。この場合は周波数によって光学変調器の
通過時間を変更しても良い。
【０１５５】また、非線形結晶をエクストラキャビティ
方式で使用する場合は、レーザの出力部として、基本波
の出力部、また複数の非線形結晶を使用する場合はその
間に光学変調器を設けても良い。
【０１５６】以上のように、本実施の形態によれば、全
ての連続するパルスを同じピークで同じ波形のパルスと
することが出来る。
【０１５７】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になる。
【０１５８】さらに、前回パルスをモニタすることで休
止期間の補正を行えば、全ての連続パルスとして更に安
定した同じピークで同じパルスを得る事が可能になる。
【０１５９】非線形結晶を利用した場合においても、全
ての連続するパルスを同じピークで同じ波形の高調波パ
ルスを得ることが出来る。
【０１６０】また、レーザの出力部に光学変調器を設け
ＱスイッチのＯＮ（連続発振）のタイミングから一定時
間光学変調器を通過させることで、レーザの連続発振成
分を除去しパルス成分のみを取り出すことができる。
（実施の形態６）以下、本発明の実施の形態６につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
【０１６１】実施の形態２で説明した図６が、本実施の
形態を示すＱスイッチレーザ装置の概略図である。
【０１６２】１１はレーザヘッド、１２はＱスイッチ、
１３は励起光発生源、１４はＱスイッチ用ＲＦドライバ
ー、１５は制御回路、1７は操作部である。また、１６
は１５の制御回路部に設けられたＱスイッチ信号発生
部、１８は外部変調器、１９は外部変調器制御部であ
る。
【０１６３】ＰＣ（パーソナルコンピュータ）などの操
作部１７で設定された発振条件指令は、制御回路１５に
送り込まれる。送り込まれた発振条件指令は、制御回路
１５で解釈され、Ｑスイッチ信号発生部１６において、
図９で説明した様に、休止期間が一定になるまで休止期
間を調整しＱスイッチへの制御信号を発生する。励起光
発生源１３およびＱスイッチ用ＲＦドライバー１４に伝
え、レーザヘッドの発振をおこなう。
【０１６４】次に連続発振期間に応じてｎ番目までのＱ
スイッチ休止期間を可変させる場合、図６のＱスイッチ
タイミング制御部において、指定するパルス数Ｎを設定
し、カウンタとしてｎを初期化し、ｎがパルスが安定す
るまでのショット数ｃ以下の場合、連続発振期間が最小
時間以上経過している場合、休止期間としてその直前の
連続発振期間τとショット数ｎの関数で表される値ｆ
（ｎ，τ）を設定する様に構成する。
【０１６５】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを
連続発振させたときのパルスを発生させる期間である連
続発振期間であり、パルス周波数が変化したときなど
は、周波数によってｆ（ｎ，τ）を変更しても良い。
【０１６６】次に、パルスをパルスセンサ（図示せず）
によりモニタすることで、休止期間を可変させる場合
は、指定するパルス数Ｎを設定し、カウンタとしてｎを
初期化し、ｎがパルスが安定するまでのショット数ｃ以
下の場合、連続発振期間が最小時間以上経過している場
合、２番目の以降のパルスを発行する場合（ｎ＞０）、
前回のパルスをモニタしたパルスが安定パルスとほぼ同
等になるまで、休止期間としてその直前の連続発振期間
τとショット数ｎの関数で表される値ｆ（ｎ，τ）にモ
ニタ値からの補正値αを加算した値を設定する様に構成
する。なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応じた休
止期間のデータテーブルを準備しておき、それを切換え
て使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを連続発
振させたときのパルスを発生させる期間である連続発振
期間であり、パルス周波数が変化したときなどは、周波
数によってｆ（ｎ，τ）を変更しても良い。また、図示
していないが休止期間を可変させる方法として前回値と
前々回値を比較し値が安定することを判断して休止期間
をＴに固定しても良いし、パルスが安定するまでのショ
ット数ｃを超えた場合においても，モニタ値から前述の
α値を休止期間に加算して常時可変しても良い。
【０１６７】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザ装置において
において、エクストラキャビティー方式あるいはイント
ラキャビティー方式で非線形結晶を設ける。
【０１６８】Ｑスイッチレーザシステムのレーザヘッド
の構成としては実施の形態１で説明した図３と同様とな
るのでここでは説明を割愛する。
【０１６９】次に実施の形態２で使用した図６の外部光
学変調器制御部１９について説明する。
【０１７０】この制御部では、実施の形態１の図４で説
明したの光学変調器１８の制御を行う。
【０１７１】ＱスイッチがほぼＯＮ（連続発振モード）
したタイミングから一定時間光学変調器を通過させる信
号を発生する。なお、パルス発生がＱスイッチのＯＮタ
イミングから少しずれる場合は、光学変調器１８を通過
させるタイミングをずらしても良い。また、Ｑスイッチ
発振によるレーザパルスは周波数によって、パルス幅が
変化する場合がある。この場合は周波数によって光学変
調器の通過時間を変更しても良い。また、非線形結晶を
エクストラキャビティ方式で使用する場合は、レーザの
出力部として、基本波の出力部、また複数の非線形結晶
を使用する場合はその間に光学変調器を設けても良い。
【０１７２】以上のように、本実施の形態によれば、全
ての連続するパルスを同じピークで同じ波形のパルスと
することが出来る。
【０１７３】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になる。
【０１７４】さらに、前回パルスをモニタすることで休
止期間の補正を行えば、全ての連続パルスとして更に安
定した同じピークで同じパルスを得る事が可能になる。
【０１７５】非線形結晶を利用した場合においても、全
ての連続するパルスを同じピークで同じ波形の高調波パ
ルスを得ることが出来るとすることが出来る。
【０１７６】また、レーザの出力部に光学変調器を設け
ＱスイッチのＯＮ（連続発振）のタイミングから一定時
間光学変調器を通過させることで、レーザの連続発振成
分を除去しパルス成分のみを取り出すことができる。
（実施の形態７）以下、本発明の実施の形態７につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
【０１７７】図１３は、本実施の形態を示すＱスイッチ
レーザを用いたレーザ加工方法のレーザ発振制御方法の
概略図であり、プリント基板の穴あけ加工の処理の流れ
を表している。加工穴の位置決めはテーブルとガルバノ
を使用して行われ、ガルバノの加工エリアを超える範囲
をテーブルを移動してワークの全面を加工するものであ
る。
【０１７８】まず、加工を開始すると、ワークを加工テ
ーブル上に搬入する。次にワークを加工する。加工が完
了するとワークをテーブルから搬出するという手順とな
る。
【０１７９】この加工においては、先ずテーブルをガル
バノで行う加工位置に移動し、そこでガルバノを移動し
加工点を位置決めしレーザを照射する。この照射におい
て、指定するパルス数Ｎを設定し、カウンタとしてｎを
初期化する。ｎがパルスが安定するまでのショット数ｃ
以下の場合、連続発振期間が一定時間以上経過している
場合、休止期間としてショット数ｎの関数として表され
るＴ（ｎ）を設定する。連続発振期間が一定時間を経過
していない場合は休止期間としてＴを設定する。
【０１８０】また、ショット数がｃ番目のパルス以降の
無い場合は休止期間としてＴを設定する。この設定した
休止期間となるようにＱスイッチをＯＦＦする。なお、
Ｔ（ｎ）は関数でも良いし、ショット番号に応じた休止
期間のデータテーブルを準備しておき、それを切換えて
使用してもよい。この処理によりＱスイッチの指令波形
とそこから発生するパルスは前述の図９で説明したよう
になる。
【０１８１】次に、本発明の形態７において、連続発振
期間に応じてｎ番目までのＱスイッチ休止期間を可変さ
せる処理の流れを図１１を用いて説明する。指定するパ
ルス数Ｎを設定し、カウンタとしてｎを初期化する。ｎ
がパルスが安定するまでのショット数ｃ以下の場合、連
続発振期間が最小時間以上経過している場合、休止期間
としてその直前の連続発振期間τとショット数ｎの関数
で表される値ｆ（ｎ，τ）を設定する。なお、ｆ（τ）
は直前の連続発振期間に応じた休止期間のデータテーブ
ルを準備しておき、それを切換えて使用してもよい。前
記の最小時間は、パルスを連続発振させたときのパルス
を発生させる期間である連続発振期間であり、パルス周
波数が変化したときなどは、周波数によってｆ（ｎ，
τ）を変更しても良い。
【０１８２】次に、本発明の形態７において、パルスを
モニタすることで、休止期間を可変させる処理の流れを
図１２を使用して説明する。指定するパルス数Ｎを設定
し、カウンタとしてｎを初期化する。ｎがパルスが安定
するまでのショット数ｃ以下の場合、連続発振期間が最
小時間以上経過している場合、２番目の以降のパルスを
発行する場合（ｎ＞０）、前回のパルスをモニタしたパ
ルスが安定パルスとほぼ同等になるまで、休止期間とし
てその直前の連続発振期間τとショット数ｎの関数で表
される値ｆ（ｎ，τ）にモニタ値からの補正値αを加算
した値を設定する。
【０１８３】なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応
じた休止期間のデータテーブルを準備しておき、それを
切換えて使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを
連続発振させたときのパルスを発生させる期間である連
続発振期間であり、パルス周波数が変化したときなど
は、周波数によってｆ（ｎ，τ）を変更しても良い。ま
た、図示していないが休止期間を可変させる方法として
前回値と前々回値を比較し値が安定することを判断して
休止期間をＴに固定しても良いし、パルスが安定するま
でのショット数ｃを超えた場合においても，モニタ値か
ら前述のα値を休止期間に加算して常時可変しても良
い。
【０１８４】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザ発振制御方式
の実施形態１において、エクストラキャビティー方式あ
るいはイントラキャビティー方式で非線形結晶を設け
る。Ｑスイッチレーザシステムのレーザヘッドの構成と
しては実施の形態１で説明した図３と同様となるのでこ
こでは説明を割愛する。
【０１８５】次に、Ｑスイッチレーザを用いたレーザ加
工制御方法においてレーザの出力部に光学変調器を設け
た場合のその外部光学変調器を設けた場合の制御方法を
説明する。制御方法は実施の形態１の図４の説明と同様
でＱスイッチがほぼＯＮ（連続発振モード）したタイミ
ングから一定時間光学変調器を通過させる。
【０１８６】なお、パルス発生がＱスイッチのＯＮのタ
イミングから少しずれる場合は、光学変調器を通過させ
るタイミングをずらしても良い。また、Ｑスイッチ発振
によるレーザパルスは周波数によって、パルス幅が変化
する場合がある。この場合は周波数によって光学変調器
の通過時間を変更しても良い。また、非線形結晶をエク
ストラキャビティ方式で使用する場合は、レーザの出力
部として、基本波の出力部、また複数の非線形結晶を使
用する場合はその間に光学変調器を設けても良い。
【０１８７】以上のように、本実施の形態によれば、全
ての連続するパルスを同じピークで同じ波形のパルスと
することが出来、これにより全ての穴加工を安定して行
うことが可能になる。またレーザの照射と同期してレー
ザの加工点を移動し直線、あるいは曲線を加工において
は、加工幅を一定にすることが可能となる。
【０１８８】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になり、全ての穴加
工を安定して行うことが可能になる。
【０１８９】またレーザの照射と同期してレーザの加工
点を移動し直線、あるいは曲線を加工においては、加工
幅を一定にすることが可能となる。
【０１９０】非線形結晶を利用したＱスイッチレーザを
用いたレーザ加工方法においても、全ての連続するパル
スを同じピークで同じ波形の高調波パルスを得ることが
出来、これにより全ての穴加工を安定して行うことが可
能になる。またレーザの照射と同期してレーザの加工点
を移動し直線、あるいは曲線を加工においては、加工幅
を一定にすることが可能となる。
【０１９１】また、レーザの出力部に光学変調器を設け
ＱスイッチのＯＮ（連続発振）のタイミングから一定時
間光学変調器を通過させることで、レーザの連続発振成
分を除去しパルス成分のみを取り出すことが出来、全て
の穴加工を安定して行うことが可能になると同時に、レ
ーザの連続発振成分によって加工される不必要な加工を
抑制することが出来る。また、ガルバノを移動して加工
点を移動する場合に、レーザの連続発振成分によって加
工される穴と穴の間の傷を無くすことが出来る。（実施
の形態８）以下、本発明の実施の形態８について、図面
を参照しながら詳細に説明する。
【０１９２】実施の形態４でも説明に使用した図８と実
施の形態６で使用した図６が、本実施の形態を示すＱス
イッチレーザを用いたプリント基板の穴あけレーザ加工
機の光学系の概念図である。
【０１９３】３１はＱスイッチレーザシステム、３２は
コリメータレンズ、３３はマスクチェンジャ、３４はベ
ンドミラー、３５はガルバノスキャナー、３６はスキャ
ンレンズ、３７は加工テーブル、３８はＱスイッチレー
ザ制御部である。
【０１９４】加工穴の位置決めは加工テーブル３７とガ
ルバノスキャナ３５を使用して行われ、ガルバノスキャ
ナ３５の加工エリアを超える範囲を加工テーブル３７を
移動してワークの全面を加工するものである。
【０１９５】まず、加工を開始すると、ワークを加工テ
ーブル３７上に搬入する。次にワークを加工する。加工
が完了するとワークを加工テーブル３７から搬出すると
いう手順となる。この加工においては、先ず加工テーブ
ル３７をガルバノスキャナ３５で行う加工位置に移動
し、そこでガルバノスキャナ３５を移動し加工点を位置
決めしレーザを照射する。Ｑスイッチレーザシステム３
１から出射されたレーザはコリメータ３２によりビーム
径を最適化された後、マスクチェンジャ３３上のマスク
に照射される。
【０１９６】照射されたレーザはその一部がマスクを通
過して、ベンドミラー３４に介して、ガルバノスキャナ
ー３５により所定の位置にスキャンレンズ３６を通して
集光され、加工テーブル３７上に固定されているワーク
を加工する。
【０１９７】Ｑスイッチレーザヘッド３１とＱスイッチ
レーザ制御部３８は、実施の形態６の図６で説明した内
容と同様であり、１１はレーザヘッド、１２はＱスイッ
チ、１３は励起光発生源、１４はＱスイッチ用ＲＦドラ
イバー、１５は制御回路である。
【０１９８】また、１６は制御回路部１５に設けられた
Ｑスイッチ信号発生部、１８は外部変調器、１９は外部
変調器制御部である。
【０１９９】加工機から設定された発振条件指令は、制
御回路１５に送り込まれる。送り込まれた発振条件指令
は、制御回路１５で解釈され、Ｑスイッチ信号発生部１
６において、図９で説明した様に、休止期間が一定にな
るまで休止期間を調整しＱスイッチへの制御信号を発生
する。励起光発生源１３およびＱスイッチ用ＲＦドライ
バー１４に伝え、レーザヘッドの発振をおこなう。
【０２００】次に連続発振期間に応じてｎ番目までのＱ
スイッチ休止期間を可変させる場合、図６のＱスイッチ
タイミング制御部において、指定するパルス数Ｎを設定
し、カウンタとしてｎを初期化し、ｎがパルスが安定す
るまでのショット数ｃ以下の場合、連続発振期間が最小
時間以上経過している場合、休止期間としてその直前の
連続発振期間τとショット数ｎの関数で表される値ｆ
（ｎ，τ）を設定する様に構成する。なお、ｆ（τ）は
直前の連続発振期間に応じた休止期間のデータテーブル
を準備しておき、それを切換えて使用してもよい。前記
の最小時間は、パルスを連続発振させたときのパルスを
発生させる期間である連続発振期間であり、パルス周波
数が変化したときなどは、周波数によってｆ（ｎ，τ）
を変更しても良い。
【０２０１】次に、パルスをパルスセンサ（図示せず）
によりモニタすることで、休止期間を可変させる場合
は、指定するパルス数Ｎを設定し、カウンタとしてｎを
初期化し、ｎがパルスが安定するまでのショット数ｃ以
下の場合、連続発振期間が最小時間以上経過している場
合、２番目の以降のパルスを発行する場合（ｎ＞０）、
前回のパルスをモニタしたパルスが安定パルスとほぼ同
等になるまで、休止期間としてその直前の連続発振期間
τとショット数ｎの関数で表される値ｆ（ｎ，τ）にモ
ニタ値からの補正値αを加算した値を設定する様に構成
する。なお、ｆ（τ）は直前の連続発振期間に応じた休
止期間のデータテーブルを準備しておき、それを切換え
て使用してもよい。前記の最小時間は、パルスを連続発
振させたときのパルスを発生させる期間である連続発振
期間であり、パルス周波数が変化したときなどは、周波
数によってｆ（ｎ，τ）を変更しても良い。また、図示
していないが休止期間を可変させる方法として前回値と
前々回値を比較し値が安定することを判断して休止期間
をＴに固定しても良いし、パルスが安定するまでのショ
ット数ｃを超えた場合においても，モニタ値から前述の
α値を休止期間に加算して常時可変しても良い。
【０２０２】また、基本波より高い波長のパルスレーザ
を使用する場合は、このＱスイッチレーザ装置において
において、エクストラキャビティー方式あるいはイント
ラキャビティー方式で非線形結晶を設ける。
【０２０３】Ｑスイッチレーザシステムのレーザヘッド
の構成としては実施の形態１で説明した図３と同様とな
るのでここでは説明を割愛する。
【０２０４】次に、本実施の形態４のにおいて、実施の
形態６と同様に図６の外部光学変調器制御部１９につい
て説明する。
【０２０５】この制御部では、実施の形態１の図４で説
明したの光学変調器の制御を行う。
【０２０６】ＱスイッチがほぼＯＮ（連続発振モード）
したタイミングから一定時間光学変調器を通過させる信
号を発生する。
【０２０７】なお、パルス発生がＱスイッチのＯＮタイ
ミングから少しずれる場合は、光学変調器を通過させる
タイミングをずらしても良い。
【０２０８】また、Ｑスイッチ発振によるレーザパルス
は周波数によって、パルス幅が変化する場合がある。こ
の場合は周波数によって光学変調器の通過時間を変更し
ても良い。
【０２０９】また、非線形結晶をエクストラキャビティ
方式で使用する場合は、レーザの出力部として、基本波
の出力部、また複数の非線形結晶を使用する場合はその
間に光学変調方法を設けても良い。
【０２１０】以上のように、本実施の形態によれば、、
全ての連続するパルスを同じピークで同じ波形のパルス
とすることが出来、これにより全ての穴加工を安定して
行うことが可能になる。またレーザの照射と同期してレ
ーザの加工点を移動し直線、あるいは曲線を加工におい
ては、加工幅を一定にすることが可能となる。
【０２１１】また、連続発振期間に応じて休止期間を変
化させることで、パルス照射の間が変化した場合でも常
に安定したパルスを得ることが可能になり、全ての穴加
工を安定して行うことが可能になる。またレーザの照射
と同期してレーザの加工点を移動し直線、あるいは曲線
を加工においては、加工幅を一定にすることが可能とな
る。
【０２１２】非線形結晶を利用したＱスイッチレーザを
用いたレーザ加工方法においても、全ての連続するパル
スを同じピークで同じ波形の高調波パルスを得ることが
出来、これにより全ての穴加工を安定して行うことが可
能になる。
【０２１３】またレーザの照射と同期してレーザの加工
点を移動し直線、あるいは曲線を加工においては、加工
幅を一定にすることが可能となる。
【０２１４】また、レーザの出力部に光学変調器を設け
ＱスイッチのＯＮ（連続発振モード）のタイミングから
一定時間光学変調器を通過させることで、レーザの連続
発振成分を除去しパルス成分のみを取り出すことが出
来、全ての穴加工を安定して行うことが可能になると同
時に、レーザの連続発振成分によって加工される不必要
な加工を抑制することが出来る。
【０２１５】また、ガルバノを移動して加工点を移動す
る場合に、レーザの連続発振成分によって加工される穴
と穴の間の傷を無くすことが出来る。
【０２１６】
【発明の効果】以上のように本発明のＱスイッチの休止
期間を変化させるレーザ制御方法またＱスイッチレーザ
装置により、パルス照射の時間間隔があいた場合、また
間隔が変化したばあでも、安定したパルスを１番目のパ
ルスから連続する全てのパルスにわたって得る事ができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１の概略図
【図２】本発明の実施の形態１の処理の流れ図
【図３】本発明のＱスイッチレーザヘッドの構成を示す
図
【図４】本発明の光学変調器の制御方法を示す図
【図５】本発明の実施の形態１において休止期間を可変
させる処理の流れ図
【図６】本発明の実施の形態２の概略図
【図７】本発明の実施の形態３の概略図
【図８】本発明の実施の形態４の概略図
【図９】本発明の実施の形態５の概略図
【図１０】本発明の実施の形態５の処理の流れ図
【図１１】本発明の実施の形態５において休止期間を可
変させる処理の流れ図
【図１２】本発明の実施の形態５においてパルスをモニ
タし休止期間を可変させる処理の流れ図
【図１３】本発明の実施の形態６の概略図
【図１４】ファーストパルスの発生の説明図
【図１５】ファーストパルスサプレッションの例を示す
図
【図１６】従来のＱスイッチレーザ発振器の制御例を示
す図
【図１７】従来のＱスイッチレーザ発振器の課題を示す
図
【図１８】従来のＱスイッチレーザシステムを用いたレ
ーザ加工機の加工を示す図
【符号の説明】
１１ レーザヘッド １２ Ｑスイッチ １３ 励起光発生源 １４ Ｑスイッチ用ＲＦドライバー １５ 制御回路 １６ Ｑスイッチタイミング制御部 １７ 操作部 １８ 光学変調器 １９ 光学変調器制御部 ２１ 高反射ミラー ２２ Ｑスイッチ素子 ２３ ゲイン媒質 ２４ 出力鏡 ２５ 集光レンズ ２６ 非線形光学結晶 ２７ 光学レンズ ２８ ナローバンドフィルターまたはダイクロイックミ
ラー ２９ 光学変調器 ３１ Ｑスイッチレーザシステム ３２ コリメータレンズ ３３ マスクチェンジャ ３４ ベンドミラー ３５ ガルバノスキャナー ３６ スキャンレンズ ３７ 加工テーブル ３８ Ｑスイッチレーザ制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｓ 3/11 Ｈ０１Ｓ 3/11 (72)発明者 横佩 大輔 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 4E068 CA03 CC01 CD05 CK01 5F072 HH07 JJ05 JJ07 QQ02 SS06 YY06

Claims (48)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起光
    を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発振
    モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だけ
    休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ制御方法にお
    いて、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続し
    た場合に、その後の２番目以降のレーザパルスを得るた
    めのＱスイッチ休止期間と、１番目のレーザパルスを得
    るためのＱスイッチ休止期間とが異なることを特徴とす
    るレーザ制御方法。
  2. 【請求項２】 1番目のレーザパルスを得るためのＱス
    イッチ休止期間が、２番目以降のレーザパルスを得るた
    めのＱスイッチ休止期間より短い請求項１記載のレーザ
    制御方法。
  3. 【請求項３】 エクストラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項１
    または２記載のレーザ制御方法。
  4. 【請求項４】 イントラキャビティ方式で非線形結晶を
    設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項１ま
    たは２記載のレーザ制御方法。
  5. 【請求項５】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起光
    を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発振
    モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だけ
    休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ制御方法にお
    いて、レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが
    休止期間から連続発振モードに切り替わったタイミング
    から一定の時間のみ光学変調器を通過させるレーザ制御
    方法。
  6. 【請求項６】 Ｑスイッチの連続発振期間に応じて、1
    番目のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間を
    可変する請求項１から５のいずれかに記載のレーザ制御
    方法。
  7. 【請求項７】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起光
    を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発振
    モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だけ
    休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ装置におい
    て、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続した
    場合に、その後の２番目以降のレーザパルスを得るため
    のＱスイッチ休止期間と、１番目のレーザパルスを得る
    ためのＱスイッチ休止期間とが異なるレーザ装置。
  8. 【請求項８】 1番目のレーザパルスを得るためのＱス
    イッチ休止期間が、２番目以降のレーザパルスを得るた
    めのＱスイッチ休止期間より短い請求項７記載のレーザ
    装置。
  9. 【請求項９】 エクストラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項７
    または８記載のレーザ装置。
  10. 【請求項１０】 イントラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項７
    または８記載のレーザ装置。
  11. 【請求項１１】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ装置におい
    て、レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが休
    止期間から連続発振モードに切り替わったタイミングか
    ら一定の時間のみ光学変調器を通過させるレーザ装置。
  12. 【請求項１２】Ｑスイッチの連続発振期間に応じて、1
    番目のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間を
    可変する請求項７〜１１のいずれかに記載のレーザ装
    置。
  13. 【請求項１３】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ加工方法に
    おいて、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続
    した場合に、その後の２番目以降のレーザパルスを得る
    ためのＱスイッチ休止期間と、１番目のレーザパルスを
    得るためのＱスイッチ休止期間とが異なるＱスイッチレ
    ーザを用いたレーザ加工方法。
  14. 【請求項１４】 1番目のレーザパルスを得るためのＱ
    スイッチ休止期間が、２番目以降のレーザパルスを得る
    ためのＱスイッチ休止期間より短いＱスイッチレーザを
    用いた請求項１３記載のレーザ加工方法。
  15. 【請求項１５】 エクストラキャビティ方式で非線形結
    晶を設けることにより高調波発生レーザ光を得ることを
    特徴とするＱスイッチレーザを用いた請求項１３または
    １４記載のレーザ加工方法。
  16. 【請求項１６】 イントラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得ることを特
    徴とするＱスイッチレーザを用いた請求項１３または１
    ４記載のレーザ加工方法。
  17. 【請求項１７】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ加工方法に
    おいて、レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑスイッチ
    が休止期間から連続発振モードに切り替わったタイミン
    グから一定の時間のみ光学変調器を通過させるＱスイッ
    チレーザを用いたレーザ加工方法。
  18. 【請求項１８】 Ｑスイッチの連続発振期間に応じて、
    1番目のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間
    を可変するＱスイッチレーザを用いた請求項１３〜１７
    のいずれかに記載のレーザ加工方法。
  19. 【請求項１９】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ加工機にお
    いて、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続し
    た場合に、その後の２番目以降のレーザパルスを得るた
    めのＱスイッチ休止期間と、１番目のレーザパルスを得
    るためのＱスイッチ休止期間とが異なるＱスイッチレー
    ザを用いたレーザ装置を搭載したレーザ加工機。
  20. 【請求項２０】 1番目のレーザパルスを得るためのＱ
    スイッチ休止期間が、２番目以降のレーザパルスを得る
    ためのＱスイッチ休止期間より短いことを特徴とするＱ
    スイッチレーザを用いた請求項１９記載のレーザ加工
    機。
  21. 【請求項２１】 エクストラキャビティ方式で非線形結
    晶を設けることにより高調波発生レーザ光を得ることを
    特徴とするＱスイッチレーザを用いた請求項１９または
    ２０記載のレーザ加工機。
  22. 【請求項２２】 イントラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得ることを特
    徴とするＱスイッチレーザを用いた請求項１９または２
    ０記載のレーザ加工機。
  23. 【請求項２３】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ加工機にお
    いて、レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑスイッチが
    休止期間から連続発振モードに切り替わったタイミング
    から一定の時間のみ光学変調器を通過させることを特徴
    とするＱスイッチレーザを用いたレーザ加工機。
  24. 【請求項２４】 Ｑスイッチの連続発振期間に応じて、
    1番目のレーザパルスを得るためのＱスイッチ休止期間
    を可変することを特徴とするＱスイッチレーザを用いた
    請求項１９〜２３のいずれかに記載のレーザ加工機。
  25. 【請求項２５】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ制御方法に
    おいて、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続
    した場合に、所望のレーザパルスを得るまで、レーザパ
    ルス休止期間を調整するレーザ制御方法。
  26. 【請求項２６】 連続発振の時間によって休止時間を切
    換えることを特徴とする請求項２５記載のレーザ制御方
    法。
  27. 【請求項２７】 ２番目のパルス以降はその前のパルス
    をモニタすることで、レーザパルスが一定になるように
    補正することを特徴とする請求項２６記載のレーザ制御
    方法。
  28. 【請求項２８】 エクストラキャビティ方式で非線形結
    晶を設けることにより高調波発生レーザ光を得ることを
    特徴とする請求項２４〜２６のいずれかに記載のレーザ
    制御方法。
  29. 【請求項２９】 イントラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得ることを特
    徴とする請求項２４〜２６のいずれかに記載のレーザ制
    御方法。
  30. 【請求項３０】 レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑ
    スイッチが休止期間から連続発振モードに切り替わった
    タイミングから一定の時間のみ光学変調器を通過させる
    ことによりレーザ光のパルス部を切り出す請求項２４〜
    ２９のいずれかに記載のレーザ制御方法。
  31. 【請求項３１】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るレーザ装置におい
    て、Ｑスイッチの連続発振期間が一定時間以上継続した
    場合に、所望のレーザパルスを得るまで、レーザパルス
    休止期間を調整する手段を設けたレーザ装置。
  32. 【請求項３２】 連続発振の時間によって休止時間を切
    換える請求項３１記載のレーザ装置
  33. 【請求項３３】 ２番目のパルス以降はその前のパルス
    をモニタすることで、レーザパルスが一定になるように
    補正することを特徴とする請求項３１記載のレーザ装
    置。
  34. 【請求項３４】 エクストラキャビティ方式で非線形結
    晶を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項
    ３１〜３３のいずれかに記載のレーザ装置。
  35. 【請求項３５】 イントラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項３
    １〜３３のいずれかに記載のレーザ装置。
  36. 【請求項３６】 レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑ
    スイッチが休止期間から連続発振モードに切り替わった
    タイミングから一定の時間のみ光学変調器を通過させる
    請求項３１〜３５のいずれかに記載のレーザ装置。
  37. 【請求項３７】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るＱスイッチレーザ
    を用いるレーザ加工方法において、Ｑスイッチの連続発
    振期間が一定時間以上継続した場合に、所望のレーザパ
    ルスを得るまで、レーザパルス休止期間を調整するＱス
    イッチレーザを用いたレーザ加工方法。
  38. 【請求項３８】 連続発振の時間によって休止時間を切
    換える請求項３７記載のレーザ加工方法。
  39. 【請求項３９】 ２番目のパルス以降はその前のパルス
    をモニタすることで、レーザパルスが一定になるように
    補正する請求項３７記載のレーザ加工方法。
  40. 【請求項４０】 エクストラキャビティ方式で非線形結
    晶を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項
    ３７〜３９のいずれかに記載のレーザ加工方法。
  41. 【請求項４１】 イントラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項３
    ７〜３９のいずれかに記載のレーザ加工方法。
  42. 【請求項４２】 レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑ
    スイッチが休止期間から連続発振モードに切り替わった
    タイミングから一定の時間のみ光学変調器を通過させる
    請求項３７〜４１のいずれかに記載のレーザ加工方法。
  43. 【請求項４３】 ゲイン媒質とＱスイッチを有し、励起
    光を連続的にゲイン媒質に照射してＱスイッチを連続発
    振モードに設定し、レーザパルス発生前に所定の時間だ
    け休止期間を設けレーザパルスを得るＱスイッチレーザ
    を用いるレーザ加工機において、Ｑスイッチの連続発振
    期間が一定時間以上継続した場合に、所望のレーザパル
    スを得るまで、レーザパルス休止期間を調整することに
    より、一定したレーザパルスを得ることを特徴とするＱ
    スイッチレーザを用いたレーザ加工機。
  44. 【請求項４４】 連続発振の時間によって休止時間を切
    換えることを特徴とする請求項４３記載のレーザ加工
    機。
  45. 【請求項４５】 ２番目のパルス以降はその前のパルス
    をモニタすることで、レーザパルスが一定になるように
    補正する請求項３７記載のレーザ加工機。
  46. 【請求項４６】 エクストラキャビティ方式で非線形結
    晶を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項
    ４３〜４５のいずれかに記載のレーザ加工機。
  47. 【請求項４７】 イントラキャビティ方式で非線形結晶
    を設けることにより高調波発生レーザ光を得る請求項４
    ３〜４５のいずれかに記載のレーザ加工機。
  48. 【請求項４８】 レーザ出力部に光学変調器を設け、Ｑ
    スイッチが休止期間から連続発振モードに切り替わった
    タイミングから一定の時間のみ光学変調器を通過させる
    請求項４３〜４７のいずれかに記載のレーザ加工機。
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