JP2003012368A - 半導電性ジルコニア焼結体 - Google Patents

半導電性ジルコニア焼結体

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JP2003012368A
JP2003012368A JP2001194277A JP2001194277A JP2003012368A JP 2003012368 A JP2003012368 A JP 2003012368A JP 2001194277 A JP2001194277 A JP 2001194277A JP 2001194277 A JP2001194277 A JP 2001194277A JP 2003012368 A JP2003012368 A JP 2003012368A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】常圧焼成にて安価に製作することができ、しか
も緻密なジルコニア焼結体とすることができ、その上、
耐熱性に優れ、かつジルコニアの持つ機械的特性を大き
く低下させることなく、静電気を適度な速度で逃がすこ
とが可能な半導電性ジルコニア焼結体を提供する。 【解決手段】酸化ジスプロシウム及び酸化セリウムの安
定化剤を含むジルコニアを60〜90重量%と、導電性
付与剤として、Fe,Znの酸化物のうち一種以上を1
0〜40重量%の範囲で含有し、体積固有抵抗値が10
3〜107Ω・mで、かつボイド占有面積率が1.5%以
下である半導電性ジルコニア焼結体を得る。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、優れた耐熱性と半
導電性を備え、ジルコニアの持つ機械的特性を大きく低
下させることなく、常圧焼成にて緻密化することが可能
な半導電性ジルコニア焼結体に関するものであり、例え
ば、半導体装置、磁気ヘッド、電子部品や半導体装置等
の製造工程で使用される治工具、テープガイド、画像処
理装置に用いられる分離爪などの静電気除去作用を必要
とする用途に好適なものである。 【0002】 【従来の技術】従来、構造部品材料として使用されてい
るアルミナ、ジルコニア、窒化珪素、炭化珪素等を主成
分とするセラミック焼結体は、高強度でかつ高硬度を有
するとともに、耐熱性や耐食性に優れることから、様々
な分野で使用されているが、特に優れた機械的強度や摺
動特性が要求されるような用途ではジルコニア焼結体が
用いられている。 【0003】ところで、ジルコニア焼結体は高絶縁材料
であるため、半導体製造装置等で使用される搬送アーム
やウェハ把持用ピンセット等の治工具、あるいはプリン
タ等の画像形成装置において使用される分離爪、さらに
は磁気テープ等のテープ状体を搬送、案内するのに用い
られるテープガイドなど、静電気の除去作用が必要とさ
れる用途に使用するには、ジルコニア焼結体の体積固有
抵抗値(以下、単に抵抗値と略称する。)を107Ω・
m以下とする必要があり、その為、ジルコニア焼結体に
導電性付与剤を含有させ、その抵抗値を小さくすること
が試みられている。 【0004】例えば、特開昭60−103078号公報
には、Y23やMgOで安定化したZrO2を主体と
し、これに導電性付与剤としてTiC、TaC、WC等
の炭化物のうち少なくとも一種以上を含有させ、体積固
有抵抗値を0.005〜60×10-5Ω・cmとした導
電性ジルコニア焼結体が開示されている。 【0005】ところが、このような導電性ジルコニア焼
結体では、抵抗値が低すぎることから、静電気を逃がす
と一気に除去されるため、大気摩擦によって超高電圧の
放電が発生するといった課題があった。その為、例え
ば、上記導電性ジルコニア焼結体によりテープガイドを
形成し、磁気テープとの摺動に伴う静電気を除去しよう
とすると、磁気テープの記録内容が破壊される恐れがあ
った。 【0006】また、このような導電性ジルコニア焼結体
を製造するには、非酸化性雰囲気中にて焼成しなければ
ならないことから特殊な装置が必要となり、さらに上記
導電性付与剤は原料自体が高価であることから製造コス
トが高くなるといった課題もあった。 【0007】そこで、大気雰囲気中で焼成することがで
き、かつ適度な体積固有抵抗値を有する半導電性ジルコ
ニア焼結体として、特開平10−297968号公報に
は、Y23、MgO、CaO、CeO2等の安定化剤を
含むZrO2を60〜90重量%と、導電性付与剤とし
て、Fe、Co、Ni、Crの酸化物のうち一種以上を
10〜40重量%含有した半導電性ジルコニア焼結体が
開示されており、この半導電性ジルコニア焼結体によれ
ば、酸化雰囲気中での焼成が可能で安価に製造でき、か
つジルコニアの持つ機械的特性を大きく低下させること
なく静電気を適度な速度で逃がすことができるといった
利点があった。 【0008】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
10−297968号公報に開示された半導電性ジルコ
ニア焼結体は、使用される周囲の温度条件により焼結体
中における単斜晶ジルコニアの含有量が増加し、構造部
品として信頼性が低下し易いといった課題があった。 【0009】即ち、ZrO2は、立方晶、正方晶、単斜
晶の3つの結晶形態をとることができ、このうち構造部
品としての機械的特性を維持するには安定な状態である
立方晶、あるいは準安定状態である正方晶であるものが
良いのであるが、ジルコニアは熱に弱く、特に150〜
300℃程度の熱に曝されると、立方晶や正方晶の結晶
形態を有するジルコニアが相変態を起し、焼結体中にお
ける大半のジルコニアの結晶構造が単斜晶となるため、
強度や破壊靱性値等の機械的特性の低いジルコニア焼結
体となってしまい、構造部品として使用するには信頼性
の低いものであった。 【0010】また、特開平10−297968号公報に
開示された半導電性ジルコニア焼結体では、半導電性を
もたせるために導電性付与材を10〜40重量%も含有
させる必要があり、焼結体中にジルコニア以外の材質が
多く存在することから、常圧焼成では緻密化が難く、焼
結体中の気孔を少なくかつ小さくするには、ホットプレ
ス装置や熱間静水圧プレス装置等の特殊な焼成手段が必
要となり、安価に製造することができず、また、このよ
うな特殊な焼成手段は製品の大きさに制限があり、大型
構造部品や複雑形状を有する構造部品を製造することが
難しいといった課題もあった。 【0011】 【発明の目的】本発明の目的は、優れた耐熱性と半導電
性を備え、ジルコニアの持つ機械的特性を大きく低下さ
せることなく、常圧焼成にて緻密化することが可能な半
導電性ジルコニア焼結体を安価に提供できるようにする
ことにある。 【0012】 【課題を解決するための手段】そこで、上記課題に鑑
み、本発明の半導電性ジルコニア焼結体は、酸化ジスプ
ロシウム及び酸化セリウムの安定化剤を含むジルコニア
を60〜90重量%と、導電性付与剤として、Fe、Z
nの酸化物のうち一種以上を10〜40重量%の範囲で
含有した焼結体であって、この焼結体の体積固有抵抗値
が103〜107Ω・mで、かつボイド占有面積率が1.
5%以下であることを特徴とする。 【0013】即ち、本発明の半導電性ジルコニア焼結体
は、導電性付与剤として、Fe、Znの酸化物のうち一
種以上を含有させるようにしたことから、これらの導電
性付与剤がジルコニア焼結体の粒界相を構成し、ジルコ
ニアのもつ強度を大きく低下させることなく焼結体の体
積固有抵抗値が103〜107Ω・mと、半導電性を持た
せることができる。 【0014】その為、静電気を適度な速度で逃がすこと
ができるため、ジルコニア焼結体と当接する物体が電気
的な影響を受け易いものであっても、破壊することなく
静電気を除去することができる。 【0015】しかも、上記導電性付与剤は、いずれも酸
化物であるため、酸化雰囲気中での焼成が可能であるこ
とから、焼成に特殊な装置を用いる必要がなく、また、
これらの導電性付与剤は安価に入手することができるた
め、容易にかつ安価に製造することができる。 【0016】ただし、上記導電性付与剤の含有量が10
重量%未満となると、抵抗値を下げる効果が小さく、逆
に、40重量%より多くなると、抵抗値が103Ω・cm
未満となり、静電気が一気に逃げ易くなるために、大気
摩擦による超高電圧の放電が発生する恐れがあるととも
に、焼結体の機械的特性(曲げ強度、破壊勒性値、硬度
など)が大きく低下するため、ジルコニア本来の機械的
特性を発揮できなくなる。その為、導電性付与剤の含有
量は10〜40重量%、好ましくは20〜30重量%と
することが重要である。 【0017】また、本発明の半導電性ジルコニア焼結体
は、主体をなすZrO2として、酸化ジスプロシウムと
酸化セリウムの二種類の安定化剤で部分安定化したもの
を用いることを特徴とする。 【0018】具体的には、酸化ジスプロシウムをDy2
3換算でZrO2に対して0.5〜4.5mol%の範
囲で添加するとともに、酸化セリウムをCeO2換算で
ZrO2に対して2〜8mol%の範囲で添加し、かつ
酸化ジスプロシウムと酸化セリウムの合計含有量がZr
2に対して6mol%以上の範囲で含有したものが良
く、これらの範囲で上記安定化剤を添加すれば、全ジル
コニア量に対する単斜晶以外のジルコニア(正方晶ジル
コニア及び立方晶ジルコニア)量を95%以上とするこ
とができるため、導電性付与剤を含有したことによる強
度低下を抑え、曲げ強度600MPa以上、破壊勒性値
5MPam1/2以上、ビッカース硬度11GPa以上
と、高強度、高靱性、高硬度を実現することができる。 【0019】即ち、ジルコニアの結晶状態には立方晶、
正方晶、単斜晶の3つの状態があり、特に、正方晶ジル
コニアは外部応力に対し、応力誘軌変態を受けて単斜晶
ジルコニアに相変態し、この時に生じる体積膨張によっ
てジルコニアの周囲に微小なマイクロクラックを形成し
て外部応力の進行を阻止できるため、ジルコニア焼結体
の強度、靱性、硬度等の機械的特性を高めることができ
る。 【0020】しかも、安定化剤として酸化ジスプロシウ
ムと酸化セリウムを上記範囲で含有することにより、1
20〜300℃程度の熱に曝したとしてもジルコニアの
相変態を抑え、全ジルコニア量に対する単斜晶以外のジ
ルコニア(正方晶ジルコニア及び立方晶ジルコニア)量
を90%以上とすることができ、熱による機械的特性の
劣化を防止することができ、耐熱性に優れた半導電性ジ
ルコニア焼結体を得ることができる。 【0021】さらに、驚くべきことに、安定化剤として
酸化ジスプロシウムと酸化セリウムを用いた本発明の半
導電性ジルコニア焼結体は、導電性付与剤を10〜40
重量%も含むものの、後述する常圧焼成によって緻密化
することができ、そのボイド占有面積率を1.5%以下
とすることができる。 【0022】このように緻密化することができる理由に
ついては不明であるが、特開平10−297968号公
報に開示する、安定化剤として、Fe、Co、Ni、C
rの酸化物を用いた半導電性ジルコニア焼結体では達成
することができず、本発明のように、安定化剤として酸
化ジスプロシウムと酸化セリウムを用いた半導電性ジル
コニア焼結体に特有のものである。 【0023】ただし、酸化ジスプロシウムと酸化セリウ
ムを安定化剤として含むZrO2を用いたとしても、こ
のZrO2の含有量が焼結体全体に対して60重量%未
満となると、ジルコニア焼結体本来の機械的特性が得ら
れなくなり、また、ZrO2の含有量が焼結体全体に対
して90重量%を超えると、導電性付与剤の含有量が1
0重量%未満となり、半導電性を得ることができなくな
る。 【0024】その為、本発明において、酸化ジスプロシ
ウムと酸化セリウムを安定化剤として含むZrO2は、
60重量%〜90重量%の範囲で含有することが必要で
ある。 【0025】また、本発明の半導電性ジルコニア焼結体
中には、原料粉末や製造工程から、Al23、MnO、
SiO2、Na、Fe等の不純物が混入する恐れがある
が、これらの不純物は焼結体全体に対して4重量%以下
の範囲であれば含有していても構わない。 【0026】さらに、半導電性ジルコニア焼結体中にお
けるZrO2の平均結晶粒子径は0.3〜1.0μm、好
ましくは0.4〜0.8μmのものが良く、このような
範囲とすることで、上述したような機械的特性を得るこ
とができる。 【0027】かくして、本発明の半導電性ジルコニア焼
結体を用い、半導体製造装置等で使用される薄肉の搬送
アームやウェハ把持用ピンセット等の治工具、あるいは
プリンタ等の画像形成装置において紙をローラから分離
するのに使用される分離爪、さらには磁気テープ等のテ
ープ状体を搬送、案内するのに用いられるテープガイド
等を形成すれば、短期間で摩耗したり、熱劣化を生じた
り、破揖することがないため、長期間にわたって使用す
ることができる。 【0028】また、本発明の半導電性ジルコニア焼結体
はボイドが少ないことから、鏡面加工が要求される構造
部品ではより平滑で品質の高い鏡面が得られ、また、ボ
イドが少なくかつ小さいことから、塵埃等がボイドに溜
まることを防止することができ、塵埃等の付着を嫌う半
導体製造装置用の治工具やテープガイド等において好適
に用いることができる。 【0029】なお、本発明において、ボイド占有面積率
とは、ニレコ製LUZEX−FSによって測定し、0.
8μmの大きさ以上のものをボイドとし、測定視野の面
積に対し、測定視野内に存在するボイドが占める割合の
ことである。 【0030】また、ジルコニア焼結体中における全ジル
コニア量に対し、単斜晶以外のジルコニア量を算出する
には、X繰回折により単斜晶ジルコニアのX繰回折強度
と、正方晶ジルコニア及び立方晶ジルコニアのX繰回折
強度をそれぞれ測定し、数1により算出すれば良い。 【0031】 【数1】 【0032】次に、本発明に係る半導電性ジルコニア焼
結体の製造方法について説明する。 【0033】本発明の半導電性ジルコニア焼結体を製造
するには、0.5〜1.0μmのZrO2粉末と、安定化
剤としての酸化ジスプロシウム(Dy23)と酸化セリ
ウム(CeO2)の粉末、及び導電性付与剤として酸化
鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)のうち一種以上の
酸化物粉末を用いるか、あるいは焼成中にこれらの材料
に変化しうる水酸化物粉末や炭酸化粉末等を用い、安定
化剤を含むZrO2が60〜90重量%、導電性付与剤
が10〜40重量%となるように調合し、これらを乾式
又は湿式で混合する。なお、湿式の場合はスプレードラ
イヤー等で乾燥造粒して顆粒を製作することもできる。
また、ZrO2と安定化剤の混合において共沈法を用い
ても良く、この共沈法を用いれば、微細かつ均一に安定
化剤が分散されたZrO2を得ることができる。 【0034】そして、乾式による原料粉末や湿式による
顆粒を型内に充填し、メカプレス成形法やラバープレス
成形法等の公知の成形手段により所定の形状に成形する
か、あるいは湿式による泥しょうを押出成形法や射出成
形法、テープ成形法等の公知の成形手段により所定の形
状に成形したのち、酸化雰囲気中にて1〜3時間程度焼
成する。この時、焼成温度が1250℃未満であると完
全に焼結させることができず、1400℃より高くなる
とシンターオーバーとなるために、いずれもジルコニア
焼結体の強度や硬度を高めることができない。その為、
1250〜1400℃の温度で焼成することが重要であ
る。 【0035】このような条件にて製作すれば、全ジルコ
ニア量に対する単斜晶以外のジルコニア量が95%以上
となり、ボイド占有面積率が1.5%以下、曲げ強度6
00MPa以上、破壊靭性値5MPam1/2以上、ビッカー
ス(Hv)硬度11GPa以上を有するとともに、10
3〜107Ω・mの体積固有抵抗値を有する半導電性ジル
コニア焼結体を得ることができ、また、緻密化するにあ
たりホットプレス装置や熱間静水圧プレス装置のような
高価な装置を必要とせず安価にかつ容易に製造すること
ができる。 【0036】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を説明す
る。 【0037】平均粒子径0.8μmのZrO2粉末に対
し、Dy23粉末を1.5mol%とCeO2粉末を
6.0mol%添加するとともに、導電性付与剤として
Fe2 3粉末を30重量%添加し、さらにバインダーと
溶媒を加えて混練乾燥することにより顆粒を製作した。
そして、この顆粒を金型中に充填してメカプレス成形法
により1.0ton/cm2のプレス圧にて所定の形状
に成形し、しかるのち、1300℃の大気雰囲気中にて
2時間程度焼成することによりジルコニア焼結体を得
た。 【0038】そして、このジルコニア焼結体をX繰回折
により単斜晶ジルコニアのX繰回折強度と正方晶ジルコ
ニア及び立方晶ジルコニアのX線回折強度をそれぞれ測
定し、全ジルコニア量に対する単斜晶以外のジルコニア
量を数1より算出したところ99%が単斜晶以外のジル
コニアであった。 【0039】また、上記ジルコニア焼結体を3mm×4
mm×50mmの角柱となるように切削した後、表面を
算術平均粗さ(Ra)で0.1μmとなるように研磨し
て試料を作製し、この試料をJIS R1601に基づ
く3点曲げ試験により曲げ強度と破壊靭性値を測定した
ところ、曲げ強度843MPa、破壊靭性値5.6MPa
l / 2を有していた。そして、試料表面のボイド占有面
積率をニレコ製LUZEX−FSにて倍率を100倍と
し、演算処理にて求めたところ、1.5%以下の値とな
った。 【0040】また、別に切り出した試料を用意し、ビッ
カース硬度(Hv)を測定したところ12.3GPaを
有しており、さらに別の試料を4端子法にて、体積固有
抵抗値を測定したところ、3.6×104Ω・mであっ
た。そこで、静電気の除去具合を見るために、2.5m
m×6mm×40mmの角柱をしたジルコニア焼結体を
用意し、一方端に1000Vの電圧を印加し、他方端に
おける電圧値が100Vとなるまでの降下時間を測定し
たところ、0.1〜20秒の時間を要し、大気摩擦によ
る放電を生じることなく適度な速度で静電気を逃がすこ
とができ良好であった。 【0041】また、ジルコニア焼結体の緻密度合いを調
べるため、アルキメデス法により見掛比重を測定したと
ころ5.9と十分に緻密化されていた。 【0042】さらに、このジルコニア焼結体の耐熱性を
調べるため、別に切り出したジルコニア焼結体を3mm
×4mm×50mmの角柱に切削した後、表面を算術平
均粗さ(Ra)で0.1μm以下に研摩して試料を作製
し、大気雰囲気中で136℃まで加熱し、6500mi
nの加熱時間で熱処理を行なった後、単斜晶以外のジル
コニア量、曲げ強度、破壊靭性値、ビッカース硬度、体
積固有抵抗値、ボイド占有面積率を測定したところ、単
斜晶以外のジルコニア量:98.3%、曲げ強度758
MPa、破壊靭性値5.3MPaml / 2、ビッカース硬度
12.4GPa、体積固有抵抗値3.5×104Ω・
m、ボイド占有面積率1.0%と、熱処理前と比較して
特性劣化が見られず、120〜300℃の熱に対しても
優れた耐熱性を有するものであった。 【0043】 【実験例】(実施例1)ここで、上記実施形態における
ジルコニア焼結体において、導電性付与剤である酸化鉄
(Fe23)の含有量を異ならせた時の機械的特性(曲
げ強度、破壊靭性値、ビッカース硬度)と電気的特性
(体積固有抵抗値及び静電気の除去具合)について測定
した。 【0044】なお、機械的特性と電気的特性については
実施形態と同様の方法にて測定した。また、比較のため
に、安定化剤としてY23を3mol%含むジルコニア
に対し、導電性付与剤として鉄をFe23換算で10,
30,40重量%含有させた半導電性ジルコニア焼結体
を製作し、同様の測定を行った。 【0045】それぞれの結果は表1に示す通りである。 【0046】 【表1】 【0047】この結果、酸化鉄(Fe23)の含有量が
10重量%未満である試料No.1,2は、ジルコニア
の持つ優れた機械的特性を有していたものの、体積固有
抵抗値が1010Ω・m以上と絶縁性が高いために、静電
気の除去効果が得られなかった。 【0048】また、酸化鉄(Fe23)の含有量が40
重量%より多い試料No.7,8では、機械的特性の低
下が見られ、曲げ強度600MPa未満、破壊勒性値5M
Paml / 2未満、ビッカース硬度(Hv)11GPa未
満であった。しかも、Fe2 3の含有量が多すぎるため
に、体積固有抵抗値が102Ω・mまで低下した結果、
静電気が一気に逃げてしまうといった問題もあった。 【0049】これに対し、酸化鉄(Fe23)の含有量
が10〜40重量%の範囲にある試料No.3〜6及び
試料No.9〜11は、その体積固有抵抗値を103
107Ω・mとすることができるため、静電気を適度な
速度で逃がすことができ、優れた静電気除去効果を有す
るとともに、いずれも曲げ強度600MPa以上、破壊
勒性値5MPaml / 2以上、ビッカース硬度(Hv)9
GPa以上と優れた機械的特性を有していた。 【0050】ただし、ジルコニアの安定化剤としてY2
3を用いた試料No.9〜11は、同じ導電性付与剤
の含有量を有する試料No.3,5,6と比較すると、
ボイド占有面積率が大きく、緻密化されてなかった。 【0051】これに対し、ジルコニアの安定化剤として
Dy23とCeO2を用いた試料No.3,5,6は、
ボイド占有面積率がいずれも1.5%以下と緻密化され
たものであった。 【0052】この結果、ジルコニアの安定化剤として酸
化ジスプロシウム(Dy23)と酸化セリウム(CeO
2)を用いるとともに、導電性付与剤である酸化鉄(F
2 3)を10〜40重量%の範囲で含有量すれば、ジ
ルコニアの持つ機械的特性を大きく低下させることな
く、優れた静電気除去効果を有する緻密化された半導電
性ジルコニア焼結体が得られることが判る。 【0053】さらに、耐熱性について調べるため、試料
No.3,5,6,9〜11のジルコニア焼結体を用
い、各焼結体を3mm×4mm×50mmの角柱に切削
した後、その表面を算術平均粗さ(Ra)で0.1μm
以下となるように研磨して試料片を作製し、各試料片を
大気雰囲気中で136℃まで加熱した状態で、6500
分加熱した後、各試料片の単斜晶以外のジルコニア量、
曲げ強度、破壊靭性値、ビッカース硬度、体積固有抵抗
値、ボイド占有面積率を測定したところ、表1より判る
ように、ジルコニアの安定化剤としてY23を用いた試
料No.9〜11は、加熱処理によってジルコニア焼結
体中における単斜晶以外のジルコニア量が大幅に減少し
(単斜晶ジルコニアの増加)、それに伴い、曲げ強度及
び破壊靱性値が大きく低下するとともに、表面粗さの劣
化も認められた。 【0054】これに対し、ジルコニアの安定化剤として
酸化ジスプロシウム(Dy23)と酸化セリウム(Ce
2)を用いた試料No.9〜11は、熱処理前後にお
いて機械的特性、電気的特性、静電気除去具合、及び緻
密度合いに関して大きな変化が殆どなく、耐熱性に優れ
ていた。 【0055】この結果、ジルコニアの安定化剤として酸
化ジスプロシウムと酸化セリウムを用い、このジルコニ
アに対して導電性付与剤である鉄をFe23換算で10
〜40重量%の範囲で含有すれば、常圧焼成にもかかわ
らず、緻密なジルコニア焼結体とすることができるとと
もに、その体積固有抵抗値を103〜107Ω・mとし、
静電気を適度な速度で逃がすことができ、さらには曲げ
強度が600MPa以上、破壊勒性値が5MPaml / 2
以上、ビッカース硬度(Hv)が11GPa以上と優れ
た機械的特性を得ることができる。しかも、耐熱性に優
れることから、120〜300℃程度の熱に曝されたと
しても機械的特性や電気的特性が劣化することがない。 (実施例2)次に、導電性付与剤として酸化鉄(Fe2
3)に代えて酸化亜鉛を用いる以外は実施例1と同様
の実験を行った。 【0056】結果は表2に示す通りである。 【0057】 【表2】 【0058】この結果、導電性付与剤として酸化鉄(F
23)に代えて酸化亜鉛を用いたとしても実施例1と
同様の傾向が見られ、ジルコニアの安定化剤として酸化
ジスプロシウムと酸化セリウムを用い、このジルコニア
に対して導電性付与剤である亜鉛をZrO換算で10〜
40重量%の範囲で含有すれば、常圧焼成にもかかわら
ず、緻密なジルコニア焼結体とすることができるととも
に、その体積固有抵抗値を103〜107Ω・mとし、静
電気を適度な速度で逃がすことができ、さらには曲げ強
度が600MPa以上、破壊勒性値が5MPaml / 2
上、ビッカース硬度(Hv)が11GPa以上と優れた
機械的特性を有していた。しかも、耐熱性に優れること
から、120〜300℃程度の熱に曝されたとしても機
械的特性や電気的特性が劣化することがなかった。 【0059】 【発明の効果】以上のように、本発明の半導電性ジルコ
ニア焼結体は、酸化ジスプロシウム及び酸化セリウムの
安定化剤を含むジルコニアを60〜90重量%と、導電
性付与剤として、Fe,Znの酸化物のうち一種以上を
10〜40重量%の範囲で含有した焼結体であって、こ
の焼結体の体積固有抵抗値が103〜107Ω・mで、か
つボイド占有面積率が1.5%以下であるように、常圧
焼成にもかかわらず、緻密なジルコニア焼結体とするこ
とができ、また、ジルコニアの持つ機械的特性を大きく
低下させることなく、静電気を適度な速度で逃がすこと
ができる。その為、この半導電性ジルコニア焼結体によ
り、半導体製造装置で使用される搬送アームやりェハ把
持用ピンセット等の治工具、あるいはプリンタ等の画像
形成装置において使用される分離爪、さらには磁気テー
プ等のテープ状体を搬送、案内するのに用いられるテー
プガイド等を形成すれば、静電気による悪影響を受ける
ことがなく、また、短期間で摩耗したり、破揖すること
がないため、長期間にわたって好適に使用することがで
きる。しかも、上記半導電性ジルコニア焼結体は耐熱性
にも優れることから、熱に曝されるような用途であって
も機械的特性や電気的特性の劣化がないことから長期間
にわかって使用することができる。 【0060】その上、上記半導電性ジルコニア焼結体
は、酸化雰囲気中での焼成が可能であるため、ホットプ
レス装置や熱間静水圧プレス装置のような特殊な装置を
必要とせず、さらに、本発明で使用する導電性付与剤は
原料自体が安価に入手できるため、安価にかつ容易に製
造することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】酸化ジスプロシウム及び酸化セリウムの安
    定化剤を含むジルコニアを60〜90重量%と、導電性
    付与剤として、Fe、Znの酸化物のうち一種以上を1
    0〜40重量%の範囲で含有した焼結体であって、該焼
    結体の体積固有抵抗値が103〜107Ω・mで、かつボ
    イド占有面積率が1.5%以下であることを特徴とする
    半導電性ジルコニア焼結体。
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