JP2003002888A - シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製 - Google Patents

シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製

Info

Publication number
JP2003002888A
JP2003002888A JP2002162217A JP2002162217A JP2003002888A JP 2003002888 A JP2003002888 A JP 2003002888A JP 2002162217 A JP2002162217 A JP 2002162217A JP 2002162217 A JP2002162217 A JP 2002162217A JP 2003002888 A JP2003002888 A JP 2003002888A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
twenty
compound
carbon atoms
typically
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002162217A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenneth M Kent
エム. ケント ケネス
Choung U Kim
ユー. キム チョウン
Lawrence R Mcgee
アール. マックギー ローレンス
John D Munger
ディー. マンジャー ジョン
Ernest J Prisbe
ジェイ. プリスビ アーネスト
Michael J Postich
ジェイ. ポスティック マイケル
John C Rohloff
シー. ローロフ ジョン
Daphne E Kelly
イー. ケリー ダフィン
Matthew A Williams
エイ. ウィリアムズ マシュー
Lijun Zhang
リジュン ザン,
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gilead Sciences Inc
Original Assignee
Gilead Sciences Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/701,942 external-priority patent/US5859284A/en
Application filed by Gilead Sciences Inc filed Critical Gilead Sciences Inc
Publication of JP2003002888A publication Critical patent/JP2003002888A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D203/00Heterocyclic compounds containing three-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D203/26Heterocyclic compounds containing three-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C227/00Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C227/04Formation of amino groups in compounds containing carboxyl groups
    • C07C227/06Formation of amino groups in compounds containing carboxyl groups by addition or substitution reactions, without increasing the number of carbon atoms in the carbon skeleton of the acid
    • C07C227/08Formation of amino groups in compounds containing carboxyl groups by addition or substitution reactions, without increasing the number of carbon atoms in the carbon skeleton of the acid by reaction of ammonia or amines with acids containing functional groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/38Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D303/40Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals by ester radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D317/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D317/08Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
    • C07D317/44Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D317/46Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/16Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring the ring being unsaturated
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の主たる目的は、新規な合成方法なら
びに組成物を提供することにある。本発明のさらなる目
的は、ノイラミニダーゼインヒビターの合成において有
用な中間体の新規調製方法を提供することにある。本発
明のさらなる目的は、それ自体がノイラミニダーゼイン
ヒビターの合成において有用な中間体として有用な組成
物を提供することにある。本発明のさらなる目的は、ノ
イラミニダーゼインヒビターとして有用な組成物を提供
することにある。 【解決手段】 本願発明は、上記課題を解決するため
に、式: 【化63】

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】(発明の背景) (発明の分野)本発明は、炭素環式化合物ならびにその
中間体の調製方法に関する。 【0002】 【従来の技術】(関連技術の簡単な説明)米国特許出願
(代理人整理番号205.6)番号08/702,30
8(1996年8月23日出願)は、米国特許出願番号
08/653,034(1996年3月24日出願)の
一部継続出願であり、これは米国特許出願番号08/6
06,624(1996年2月26日出願)の一部継続
出願であり、これは米国特許出願番号08/580,5
67(1995年12月29日出願)の一部継続出願で
あり、これは米国特許出願番号08/476,946
(1995年6月6日出願)の一部継続出願であり、こ
れは米国特許出願番号08/395,245(1995
年2月27日出願)の一部継続出願であり、これらはす
べて、その全体、とりわけノイラミナダーゼインヒビタ
ーおよびノイラミニダーゼインヒビターの合成における
中間体の記載が、本明細書中に参考として援用される。
本発明は、これらの組成物の調製に有用なプロセスを提
供する。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】(発明の目的)本発明
の選択された実施態様は、以下の目的のうちの1つ以上
に関する:本発明の主たる目的は、新規な合成方法なら
びに組成物を提供することにある。 【0004】本発明のさらなる目的は、ノイラミニダー
ゼインヒビターの合成において有用な中間体の新規調製
方法を提供することにある。 【0005】本発明のさらなる目的は、それ自体がノイ
ラミニダーゼインヒビターの合成において有用な中間体
として有用な組成物を提供することにある。 【0006】本発明のさらなる目的は、ノイラミニダー
ゼインヒビターとして有用な組成物を提供することにあ
る。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明は、式 【0008】 【化3】 【0009】の化合物の調製方法であって、ここで、R
1が環状ヒドロキシ保護基であり;R2がカルボン酸保護
基であり;R3がヒドロキシ保護基であり;そして各R
20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアルキ
ルであり;該方法が、式: 【0010】 【化4】 【0011】の化合物と脱水試薬との反応を包含する、
方法を提供する。このことにより、上記目的が達成され
る。 【0012】好適な実施態様において、上記方法は、貴
金属錯体での処理によって化合物5を分離する工程をさ
らに包含する。 【0013】好適な実施態様において、化合物5が式: 【0014】 【化5】【0015】の化合物である。 【0016】本発明は、式: 【0017】 【化6】 【0018】の化合物の調製方法であって、ここで、R
2がカルボン酸保護基であり;R3がヒドロキシ保護基で
あり;R4が−C(R303であり;R5がHまたはR3
あり;R7がHまたはアミノ保護基であり;R8がHまた
はR2であり;R9がHまたはチオール保護基であり;各
20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアル
キルであり;各R21が独立して、R20、Br、Cl、
F、I、CN、NO2またはN3であり;各R22が独立し
て、F、C1、Br、I、−CN、N3、−NO2、−O
5、−OR20、−N(R202、−N(R20
(R7)、−N(R72、−SR20、−SR9、−S
(O)R20、−S(O)220、−S(O)OR20、−
S(O)OR 8、−S(O)2OR20、−S(O)2
8、−C(O)OR20、−C(O)OR 8、−OC
(O)R20、−N(R20)(C(O)R20)、−N(R
7)(C(O)R20)、−N(R20)(C(O)O
20)、−N(R7)(C(O)OR20)、−C(O)
N(R202、−C(O)N(R7)(R20)、−C
(O)N(R72、−C(NR20)(N(R202)、
−C(N(R7))(N(R202)、−C(N
(R20))(N(R20)(R7))、−C(N(R7))
(N(R20)(R7))、−C(N(R20))(N
(R72)、−C(N(R7))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R20))(N(R202)、−N(R
20)C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R20))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R202)、−N(R7
C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R7)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R7))(N(R 72)、−N(R7
C(N(R7))(N(R72)、=O、­=S、=
N(R20)、=N(R7)またはWであり;R23が独立
して炭素原子1個から11個のアルキル、炭素原子2個
から11個のアルケニル、または炭素原子2個から11
個のアルキニルであり;R24が独立してR23であり、こ
こで各R23は0個から3個のR22基で置換され;R24a
が独立して炭素原子1個から11個のアルキレン、炭素
原子2個から11個のアルケニレン、炭素原子2個から
11個のアルキニレンであり、これらのアルキレン、ア
ルケニレンまたはアルキニレンのうちのいずれもが0個
から3個のR22基で置換され;R28が独立して、炭素原
子1個から12個のアルキル、炭素原子2個から12個
のアルケニル、または炭素原子2個から12個のアルキ
ニルであり;R29が独立してR22またはR28であり、こ
こで各R28が0個から3個のR22基で置換され;各R30
が独立してH、R24、Wまたは−R24aWであり;そし
てWが炭素環または複素環であり、ここでこれらの炭素
環または複素環のいずれもが0個から3個のR29基で置
換され;該方法が、式: 【0019】 【化7】 【0020】の化合物(ここでR31はケタールまたはア
セタールである)とルイス酸試薬との反応を包含し;た
だし、R4が全体として、0個から3個のR29基で置換
された0個から3個のW基と;それに加えて0個から3
個のR22基で置換された1個から12個の炭素原子を含
む、方法を提供する。このことにより、上記目的が達成
される。 【0021】好適な実施態様において、上記方法が、化
合物10を還元試薬で処理する工程をさらに包含する。 【0022】好適な実施態様において、化合物11が
式: 【0023】 【化8】 【0024】の化合物である。 【0025】好適な実施態様において、式: 【0026】 【化9】 【0027】の化合物の調製方法であって、ここで、R
2がカルボン酸保護基であり;R3がヒドロキシ保護基で
あり;R4が−C(R303であり;R5がHまたはR3
あり;R7がHまたはアミノ保護基であり;R8がHまた
はR2であり;R9がHまたはチオール保護基であり;各
20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアル
キルであり;各R21が独立して、R20、Br、Cl、
F、I、CN、NO2またはN3であり;各R22が独立し
て、F、C1、Br、I、−CN、N3、−NO2、−O
5、−OR20、−N(R202、−N(R20
(R7)、−N(R72、−SR20、−SR9、−S
(O)R20、−S(O)220、−S(O)OR20、−
S(O)OR 8、−S(O)2OR20、−S(O)2
8、−C(O)OR20、−C(O)OR 8、−OC
(O)R20、−N(R20)(C(O)R20)、−N(R
7)(C(O)R20)、−N(R20)(C(O)O
20)、−N(R7)(C(O)OR20)、−C(O)
N(R202、−C(O)N(R7)(R20)、−C
(O)N(R72、−C(NR20)(N(R202)、
−C(N(R7))(N(R202)、−C(N
(R20))(N(R20)(R7))、−C(N(R7))
(N(R20)(R7))、−C(N(R20))(N
(R72)、−C(N(R7))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R20))(N(R202)、−N(R
20)C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R20))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R202)、−N(R7
C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R7)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R7))(N(R 72)、−N(R7
C(N(R7))(N(R72)、=O、­=S、=
N(R20)、=N(R7)またはWであり;R23が独立
して炭素原子1個から11個のアルキル、炭素原子2個
から11個のアルケニル、または炭素原子2個から11
個のアルキニルであり;R24が独立してR23であり、こ
こで各R23は0個から3個のR22基で置換され;R24a
が独立して炭素原子1個から11個のアルキレン、炭素
原子2個から11個のアルケニレン、または炭素原子2
個から11個のアルキニレンであり、これらのアルキレ
ン、アルケニレンまたはアルキニレンのうちのいずれも
が0個から3個のR22基で置換され;R28が独立して、
炭素原子1個から12個のアルキル、炭素原子2個から
12個のアルケニル、または炭素原子2個から12個の
アルキニルであり;R29が独立してR22またはR28であ
り、ここで各R28が0個から3個のR22基で置換され;
各R30が独立してH、R24、Wまたは−R24aWであ
り;Wが炭素環または複素環であり、ここでこれらの炭
素環または複素環のいずれもが0個から3個のR29基で
置換され;上記方法が、式: 【0028】 【化10】 【0029】の化合物と還元試薬との反応を包含し;た
だし、R4が全体として、0個から3個のR29基で置換
された0個から3個のW基と;それに加えて0個から3
個のR22基で置換された1個から12個の炭素原子を含
む。 【0030】好適な実施態様において、前記還元試薬
が、三置換ホスフィン還元試薬である。 【0031】好適な実施態様において、化合物31が
式: 【0032】 【化11】 【0033】の化合物である。 【0034】本発明は、式: 【0035】 【化12】 【0036】の化合物の調製方法であって、ここで、R
2がカルボン酸保護基であり;R3がヒドロキシ保護基で
あり;R4が−C(R303であり;R5がHまたはR3
あり;R7がHまたはアミノ保護基であり;R8がHまた
はR2であり;R9がHまたはチオール保護基であり;各
20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアル
キルであり;各R21が独立して、R20、Br、Cl、
F、I、CN、NO2またはN3であり;各R22が独立し
て、F、C1、Br、I、−CN、N3、−NO2、−O
5、−OR20、−N(R202、−N(R20
(R7)、−N(R72、−SR20、−SR9、−S
(O)R20、−S(O)220、−S(O)OR20、−
S(O)OR 8、−S(O)2OR20、−S(O)2
8、−C(O)OR20、−C(O)OR 8、−OC
(O)R20、−N(R20)(C(O)R20)、−N(R
7)(C(O)R20)、−N(R20)(C(O)O
20)、−N(R7)(C(O)OR20)、−C(O)
N(R202、−C(O)N(R7)(R20)、−C
(O)N(R72、−C(NR20)(N(R202)、
−C(N(R7))(N(R202)、−C(N
(R20))(N(R20)(R7))、−C(N(R7))
(N(R20)(R7))、−C(N(R20))(N
(R72)、−C(N(R7))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R20))(N(R202)、−N(R
20)C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R20))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R202)、−N(R7
C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R7)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R7))(N(R 72)、−N(R7
C(N(R7))(N(R72)、=O、­=S、=
N(R20)、=N(R7)またはWであり;R23が独立
して炭素原子1個から11個のアルキル、炭素原子2個
から11個のアルケニル、または炭素原子2個から11
個のアルキニルであり;R24が独立してR23であり、こ
こで各R23は0個から3個のR22基で置換され;R24a
が独立して炭素原子1個から11個のアルキレン、炭素
原子2個から11個のアルケニレン、または炭素原子2
個から11個のアルキニレンであり、これらのアルキレ
ン、アルケニレンまたはアルキニレンのうちのいずれも
が0個から3個のR22基で置換され;R28が独立して、
炭素原子1個から12個のアルキル、炭素原子2個から
12個のアルケニル、または炭素原子2個から12個の
アルキニルであり;R29が独立してR22またはR28であ
り、ここで各R28が0個から3個のR22基で置換され;
各R30が独立してH、R24、Wまたは−R24aWであ
り;Wが炭素環または複素環であり、ここでこれらの炭
素環または複素環のいずれもが0個から3個のR29基で
置換され;そしてY1がモノ−、ジ−または非置換のア
ミノ基であり;該方法が、式: 【0037】 【化13】 【0038】の化合物とアミン試薬との反応を包含し;
ただし、R4が全体として、0個から3個のR29基で置
換された0個から3個のW基と;それに加えて0個から
3個のR22基で置換された1個から12個の炭素原子を
含む、方法を提供する。これにより、上記目的が達成さ
れる。 【0039】好適な実施態様において、前記アミン試薬
がフタルイミド試薬である。 【0040】好適な実施態様において、化合物41が
式: 【0041】 【化14】 【0042】の化合物である。 【0043】本発明は、式: 【0044】 【化15】 【0045】の化合物の調製方法であって、ここで、R
2がカルボン酸保護基であり;R3がヒドロキシ保護基で
あり;R4が−C(R303であり;R5がHまたはR3
あり;R7がHまたはアミノ保護基であり;R8がHまた
はR2であり;R9がHまたはチオール保護基であり;各
20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアル
キルであり;各R21が独立して、R20、Br、Cl、
F、I、CN、NO2またはN3であり;各R22が独立し
て、F、C1、Br、I、−CN、N3、−NO2、−O
5、−OR20、−N(R202、−N(R20
(R7)、−N(R72、−SR20、−SR9、−S
(O)R20、−S(O)220、−S(O)OR20、−
S(O)OR 8、−S(O)2OR20、−S(O)2
8、−C(O)OR20、−C(O)OR 8、−OC
(O)R20、−N(R20)(C(O)R20)、−N(R
7)(C(O)R20)、−N(R20)(C(O)O
20)、−N(R7)(C(O)OR20)、−C(O)
N(R202、−C(O)N(R7)(R20)、−C
(O)N(R72、−C(NR20)(N(R202)、
−C(N(R7))(N(R202)、−C(N
(R20))(N(R20)(R7))、−C(N(R7))
(N(R20)(R7))、−C(N(R20))(N
(R72)、−C(N(R7))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R20))(N(R202)、−N(R
20)C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R20))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R202)、−N(R7
C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R7)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R7))(N(R 72)、−N(R7
C(N(R7))(N(R72)、=O、­=S、=
N(R20)、=N(R7)またはWであり;R23が独立
して炭素原子1個から11個のアルキル、炭素原子2個
から11個のアルケニル、または炭素原子2個から11
個のアルキニルであり;R24が独立してR23であり、こ
こで各R23は0個から3個のR22基で置換され;R24a
が独立して炭素原子1個から11個のアルキレン、炭素
原子2個から11個のアルケニレン、または炭素原子2
個から11個のアルキニレンであり、これらのアルキレ
ン、アルケニレンまたはアルキニレンのうちのいずれも
が0個から3個のR22基で置換され;R28が独立して、
炭素原子1個から12個のアルキル、炭素原子2個から
12個のアルケニル、または炭素原子2個から12個の
アルキニルであり;R29が独立してR22またはR28であ
り、ここで各R28が0個から3個のR22基で置換され;
各R30が独立してH、R24、Wまたは−R24aWであ
り;Wが炭素環または複素環であり、ここでこれらの炭
素環または複素環のいずれもが0個から3個のR29基で
置換され;そしてY1がモノ−、ジ−または非置換のア
ミノ基であり;該方法が、式: 【0046】 【化16】 【0047】の化合物と酸化試薬との反応を包含し;た
だし、R4が全体として、0個から3個のR29基で置換
された0個から3個のW基と;それに加えて0個から3
個のR22基で置換された1個から12個の炭素原子を含
む、方法を提供する。このことにより、上記目的が達成
される。 【0048】好適な実施態様において、化合物51が
式: 【0049】 【化17】 【0050】の化合物である。 【0051】本発明は、式: 【0052】 【化18】 【0053】の化合物の調製方法であって、ここで、R
2がカルボン酸保護基であり;R3がヒドロキシ保護基で
あり;R4が−C(R303であり;R5がHまたはR3
あり;R7がHまたはアミノ保護基であり;R8がHまた
はR2であり;R9がHまたはチオール保護基であり;各
20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアル
キルであり;各R21が独立して、R20、Br、Cl、
F、I、CN、NO2またはN3であり;各R22が独立し
て、F、C1、Br、I、−CN、N3、−NO2、−O
5、−OR20、−N(R202、−N(R20
(R7)、−N(R72、−SR20、−SR9、−S
(O)R20、−S(O)220、−S(O)OR20、−
S(O)OR 8、−S(O)2OR20、−S(O)2
8、−C(O)OR20、−C(O)OR 8、−OC
(O)R20、−N(R20)(C(O)R20)、−N(R
7)(C(O)R20)、−N(R20)(C(O)O
20)、−N(R7)(C(O)OR20)、−C(O)
N(R202、−C(O)N(R7)(R20)、−C
(O)N(R72、−C(NR20)(N(R202)、
−C(N(R7))(N(R202)、−C(N
(R20))(N(R20)(R7))、−C(N(R7))
(N(R20)(R7))、−C(N(R20))(N
(R72)、−C(N(R7))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R20))(N(R202)、−N(R
20)C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R20))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R202)、−N(R7
C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R7)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R7))(N(R 72)、−N(R7
C(N(R7))(N(R72)、=O、­=S、=
N(R20)、=N(R7)またはWであり;R23が独立
して炭素原子1個から11個のアルキル、炭素原子2個
から11個のアルケニル、または炭素原子2個から11
個のアルキニルであり;R24が独立してR23であり、こ
こで各R23は0個から3個のR22基で置換され;R24a
が独立して炭素原子1個から11個のアルキレン、炭素
原子2個から11個のアルケニレン、または炭素原子2
個から11個のアルキニレンであり、これらのアルキレ
ン、アルケニレンまたはアルキニレンのうちのいずれも
が0個から3個のR22基で置換され;R28が独立して、
炭素原子1個から12個のアルキル、炭素原子2個から
12個のアルケニル、または炭素原子2個から12個の
アルキニルであり;R29が独立してR22またはR28であ
り、ここで各R28が0個から3個のR22基で置換され;
各R30が独立してH、R24、Wまたは−R24aWであ
り;Wが炭素環または複素環であり、ここでこれらの炭
素環または複素環のいずれもが0個から3個のR29基で
置換され;そしてY1がモノ−、ジ−または非置換のア
ミノ基であり;該方法が、式: 【0054】 【化19】 【0055】の化合物と塩基との反応を包含し;ただ
し、R4が全体として、0個から3個のR29基で置換さ
れた0個から3個のW基と;それに加えて0個から3個
のR22基で置換された1個から12個の炭素原子を含
む、方法を提供する。これにより、上記目的が達成され
る。 【0056】好適な実施態様において、化合物61が
式: 【0057】 【化20】 【0058】の化合物である。 【0059】本発明は、式: 【0060】 【化21】 【0061】の化合物の調製方法であって、ここで、R
2がカルボン酸保護基であり;R3がヒドロキシ保護基で
あり;R4が−C(R303であり;R5がHまたはR3
あり;R7がHまたはアミノ保護基であり;R8がHまた
はR2であり;R9がHまたはチオール保護基であり;各
20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアル
キルであり;各R21が独立して、R20、Br、Cl、
F、I、CN、NO2またはN3であり;各R22が独立し
て、F、C1、Br、I、−CN、N3、−NO2、−O
5、−OR20、−N(R202、−N(R20
(R7)、−N(R72、−SR20、−SR9、−S
(O)R20、−S(O)220、−S(O)OR20、−
S(O)OR 8、−S(O)2OR20、−S(O)2
8、−C(O)OR20、−C(O)OR 8、−OC
(O)R20、−N(R20)(C(O)R20)、−N(R
7)(C(O)R20)、−N(R20)(C(O)O
20)、−N(R7)(C(O)OR20)、−C(O)
N(R202、−C(O)N(R7)(R20)、−C
(O)N(R72、−C(NR20)(N(R202)、
−C(N(R7))(N(R202)、−C(N
(R20))(N(R20)(R7))、−C(N(R7))
(N(R20)(R7))、−C(N(R20))(N
(R72)、−C(N(R7))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R20))(N(R202)、−N(R
20)C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R20))(N(R202)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R202)、−N(R7
C(N(R20))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R20)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R7)C(N(R7))(N(R20)(R7))、−N
(R7)C(N(R20))(N(R72)、−N
(R20)C(N(R7))(N(R 72)、−N(R7
C(N(R7))(N(R72)、=O、­=S、=
N(R20)、=N(R7)またはWであり;R23が独立
して炭素原子1個から11個のアルキル、炭素原子2個
から11個のアルケニル、または炭素原子2個から11
個のアルキニルであり;R24が独立してR23であり、こ
こで各R23は0個から3個のR22基で置換され;R24a
が独立して炭素原子1個から11個のアルキレン、炭素
原子2個から11個のアルケニレン、または炭素原子2
個から11個のアルキニレンであり、これらのアルキレ
ン、アルケニレンまたはアルキニレンのうちのいずれも
が0個から3個のR22基で置換され;R28が独立して、
炭素原子1個から12個のアルキル、炭素原子2個から
12個のアルケニル、または炭素原子2個から12個の
アルキニルであり;R29が独立してR22またはR28であ
り、ここで各R28が0個から3個のR22基で置換され;
各R30が独立してH、R24、Wまたは−R24aWであ
り;Wが炭素環または複素環であり、ここでこれらの炭
素環または複素環のいずれもが0個から3個のR29基で
置換され;そしてY1がモノ−、ジ−または非置換のア
ミノ基であり;該方法が、式: 【0062】 【化22】 【0063】の化合物と還元的アミノ化試薬との反応を
包含し;ただし、R4が全体として、0個から3個のR
29基で置換された0個から3個のW基と;それに加えて
0個から3個のR22基で置換された1個から12個の炭
素原子を含む、方法を提供する。これにより上記目的が
達成される。 【0064】好適な実施態様において、化合物71が
式: 【0065】 【化23】 【0066】の化合物である。 【0067】本発明は、スキーム1および2のプロセス
AA、AB、AC、AD、AE、AF、AG、AH、A
I、AJ、またはAKのうちのいずれか1つまたはそれ
らの系列的な組み合わせである、方法を提供する。これ
により上記目的が達成される。 【0068】本発明は、実施例1、実施例2、実施例
3、実施例4、実施例5、実施例6、実施例7、実施例
8、実施例9、実施例10、実施例11、実施例12ま
たは実施例13のいずれか1つまたはそれらの系列的な
組み合わせである、方法を提供する。これにより上記目
的が達成される。 【0069】本発明は、スキーム3のプロセスAL、A
M、AN、AO、またはAPのうちのいずれか1つまた
はそれらの系列的な組み合わせである、方法を提供す
る。これにより上記目的が達成される。 【0070】(発明の要旨)本発明の1つの局面は、
式: 【0071】 【化24】 【0072】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで、R1は環状ヒドロキシ保護基であり;R2
カルボン酸保護基であり;R3はヒドロキシ保護基であ
り;そして各R20は独立してHまたは炭素原子1個から
12個のアルキルであり;このプロセスは、式: 【0073】 【化25】 【0074】の化合物と脱水試薬との反応を包含する。 【0075】本発明の他の局面は、式: 【0076】 【化26】【0077】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで、R2、R3およびR20のそれぞれは上記の通
りであり;R4は−C(R303であり;各R5は独立し
てHまたはR3であり;各R7は独立してHまたはアミノ
保護基であり;各R8は独立してHまたはR2であり;各
9は独立してHまたはチオール保護基であり;各R21
は独立して、R20、Br、Cl、F、I、CN、NO2
またはN3であり;各R22は独立して、F、C1、B
r、I、−CN、N3、−NO2、−OR5、−OR20
−N(R202、−N(R20)(R7)、−N(R72
−SR20、−SR9、−S(O)R20、−S(O)
220、−S(O)OR20、−S(O)OR 8、−S
(O)2OR20、−S(O)2OR8、−C(O)O
20、−C(O)OR 8、−OC(O)R20、−N(R
20)(C(O)R20)、−N(R7)(C(O)
20)、−N(R20)(C(O)OR20)、−N
(R7)(C(O)OR20)、−C(O)N(R202
−C(O)N(R7)(R20)、−C(O)N
(R72、−C(NR20)(N(R202)、−C(N
(R7))(N(R202)、−C(N(R20))(N
(R20)(R7))、−C(N(R7))(N(R20
(R7))、−C(N(R20))(N(R72)、−C
(N(R7))(N(R72)、−N(R20)C(N
(R20))(N(R202)、−N(R20)C(N(R
20))(N(R20)(R7))、−N(R20)C(N
(R7))(N(R202)、−N(R7)C(N
(R20))(N(R202)、−N(R7)C(N
(R7))(N(R202)、−N(R7)C(N
(R20))(N(R20)(R7))、−N(R20)C
(N(R7))(N(R20)(R7))、−N(R20)C
(N(R20))(N(R72)、−N(R7)C(N
(R7))(N(R20)(R7))、−N(R7)C(N
(R20))(N(R72)、−N(R20)C(N
(R7))(N(R 72)、−N(R7)C(N
(R7))(N(R72)、=O、­=S、=N(R
20)、=N(R7)またはWであり;各R23は独立して
炭素原子1個から11個のアルキル、炭素原子2個から
11個のアルケニル、または炭素原子2個から11個の
アルキニルであり;各R24は独立してR23であり、ここ
で各R23は0個から3個のR22基で置換され;各R24a
は独立して炭素原子1個から11個のアルキレン、炭素
原子2個から11個のアルケニレン、または炭素原子2
個から11個のアルキニレンであり、これらのアルキレ
ン、アルケニレンまたはアルキニレンのうちのいずれも
が0個から3個のR22基で置換され;各R28は独立し
て、炭素原子1個から12個のアルキル、炭素原子2個
から12個のアルケニル、または炭素原子2個から12
個のアルキニルであり;各R29は独立してR22またはR
28であり、ここで各R28は0個から3個のR22基で置換
され;各R30は独立してH、R24、Wまたは−R24a
であり;そして各Wは独立して炭素環または複素環であ
り、ここでこれらの炭素環または複素環のいずれもが0
個から3個のR29基で置換され;この方法は、式: 【0078】 【化27】 【0079】の化合物(ここでR31はケタールまたはア
セタールである)とルイス酸試薬との反応を包含し;た
だし、R4は全体として、0個から3個のR29基で置換
された0個から3個のW基と;それに加えて0個から3
個のR22基で置換された1個から12個の炭素原子を含
む。 【0080】本発明の他の局面は、式: 【0081】 【化28】 【0082】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで、R2、R4、R7、R20およびR21は上記の
通りである。この方法は、式: 【0083】 【化29】 【0084】の化合物と還元試薬との反応を包含する。 【0085】本発明の他の局面は、式: 【0086】 【化30】【0087】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで、R2、R4、R5、R20およびR21は上記の
通りであり;そしてY1はモノ−、ジ−または非置換の
アミノ基である;この方法は、式: 【0088】 【化31】 【0089】の化合物とアミン試薬との反応を包含す
る。 【0090】本発明の他の局面は、式: 【0091】 【化32】 【0092】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで、R2、R4、R20、R21およびY1は上記の
通りであり;この方法は、式: 【0093】 【化33】 【0094】の化合物と酸化試薬との反応を包含する。 【0095】本発明の他の局面は、式: 【0096】 【化34】 【0097】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで、R2、R4、R20、R21およびY1は上記の
通りであり;この方法は、式: 【0098】 【化35】 【0099】の化合物と塩基との反応を包含する。 【0100】本発明の他の局面は、式: 【0101】 【化36】 【0102】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで、R2、R4、R7、R20、R21およびY1は上
記の通りであり;この方法は、式: 【0103】 【化37】 【0104】の化合物と還元的アミノ化試薬との反応を
包含する。 【0105】(詳細な説明) (概論)本発明は、本明細書中に記載される組成物の作
成方法に関する。本発明の組成物は任意の適用可能な有
機合成技術で調製されるが、本発明はこの調製を達成す
るための有利な方法を提供する。 【0106】多くの従来技術が当該分野で周知であり、
これらをここでは詳述しない。しかし、多くの公知技術
が、「Compendium of Organic
Synthetic Methods」 (John
Wiley & Sons,New York), 第
1巻, Ian T. Harrison およびSh
uyen Harrison, 1971; 第2巻,
Ian T.Harrison および Shuye
n Harrison, 1974;第3巻, Lou
is S. Hegedus および Leroy W
ade, 1977; 第4巻, Leroy G.
Wade, jr., 1980; 第5巻, Ler
oy G. Wade, jr., 1984; およ
び 第6巻, Michael B. Smith;
ならびに March,J., 「Advanced
Organic Chemistry, 第3版」,
(John Wiley & Sons, New Y
ork, 1985), 「Comprehensiv
e Organic Synthesis. Sele
ctivity, Strategy & Effic
iency in Modern Organic C
hemistry. 全9巻」,編者代表Barry
M. Trost (Pergamon Press,
New York, 1993印刷)に詳述されてい
る。 【0107】一般に、温度、反応時間、溶媒、ワークア
ップ手順などのような反応条件は、行われる個別の反応
ごとに当該分野で一般的な条件である。引用した参照物
ならびにそこで引用されている物は、このような条件の
詳細な説明を含む。 【0108】「処理された」、「処理している」、「処
理」などの用語は、接触させる、混合する、反応させ
る、反応に至らしめる(allowing to re
act)、接触に至らしめる(bringing in
to contact)、および、1つ以上の化学物質
を1つ以上の他の化学物質に転化するような方法で処理
することを示す当該分野で一般的な他の用語を意味す
る。これは、「化合物1を化合物2で処理する」が、
「化合物1を化合物2との反応に至らしめる」、「化合
物1を化合物2と接触させる」、「化合物1と化合物2
とを反応させる」、および有機合成分野で化合物1を化
合物2で「処理した」、化合物1と化合物2とを「反応
させた」、化合物1を化合物2との「反応に至らしめ
る」などを合理的に示す他の一般的な表現と同義である
ことを意味する。 【0109】「処理」は、有機化学物質が反応に至らし
められる合理的かつ通常の方法を示す。普通の濃度
(0.01Mから10M、典型的には0.1Mから1
M)、温度(−100℃から250℃、典型的には−7
8℃から150℃、より典型的には−78℃から100
℃、さらにもっと典型的には0℃から100℃)、溶媒
(非プロトン性またはプロトン性)、反応時間(典型的
には10秒から10日間、より典型的には1分間から1
0時間、さらにもっと典型的には10分間から6時
間)、反応容器(典型的にはガラス、プラスチック、金
属)、圧力、雰囲気(典型的には、酸素および水に非感
受性の反応のためには空気、あるいは酸素または水に感
受性の反応のためには窒素またはアルゴン)などが、他
に断りのない限り意図される。有機合成分野で公知の同
様の反応の知識を用いて、所与のプロセスにおける「処
理」のための条件および装置が選択される。特に、有機
合成分野の当業者は、当該分野における知識に基づき、
記載のプロセスの化学反応が首尾良く行われると合理的
に期待される条件および装置を選択する。 【0110】酸化反応および還元反応は典型的には室温
付近の温度(約20℃)で行われるが、金属水素化物の
還元については、しばしば温度は0℃から−100℃ま
で下げられる。溶媒は典型的には還元については非プロ
トン性であり、そして酸化についてはプロトン性または
非プロトン性のいずれかであり得る。反応時間は所望の
転化率が達成されるように調節される。 【0111】縮合反応は典型的には室温付近の温度で行
われるが、非平衡の、速度論的に制御された縮合の場
合、低温度(0℃から−100℃)もまた一般的であ
る。溶媒はプロトン性(平衡反応の場合、一般的)また
は非プロトン性(速度論的に制御された反応の場合、一
般的)のいずれかであり得る。 【0112】反応副生成物の共沸的除去および無水反応
条件(例えば、不活性ガス環境)の使用のような標準的
な合成技術は当該分野で一般的であり、そして適用可能
な場合には適用される。ワークアップは典型的には、未
反応試薬をクエンチし、次に水/有機層系の間に分配
(抽出)し、そして生成物を含む層を分離することから
構成される。以下のプロセスの各生成物は、次のプロセ
スで使用する前に、任意に、分離、単離、および/また
は精製される。 【0113】 【発明の実施の形態】本発明の1つの局面は、式: 【0114】 【化38】 【0115】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。 【0116】R1は環式ヒドロキシ保護基である。非常
に多数の一般的な保護基(環式ヒドロキシ保護基を包含
する)ならびに対応の化学的開裂反応が「Protec
tive Groups in Organic Ch
emistry」, Theodora W. Gre
ene (John Wiley & Sons,In
c., New York, 1991, ISBN
0−471−62301−6)(「Greene」)に
記載されている。Kocienski, Philip
J.; 「Protecting Groups」
(GeorgThieme Verlag Stutt
gart, New York,1994)もまた参照
のこと。特に、第1章、保護基;概要、第1頁〜第20
頁、第2章、ヒドロキシル保護基、第21〜第94頁、
第3章、ジオール保護基、第95頁〜第117頁、第4
章、カルボキシル保護基、第118頁〜第154頁、第
5章、カルボニル保護基、第155頁〜第184頁、お
よび第6章、アミノ保護基、第185頁〜第243頁。
典型的にはこの環式ヒドロキシ保護基は1,2−ジオー
ル保護基として一般に有用な基である。 【0117】典型的な1,2−ジオール保護基(従っ
て、ここで通常2つのOH基がR1保護官能基と一緒に
なる)はGreeneの第118頁〜第142頁に記載
されており、そして環状アセタールおよびケタール
(メチレン、エチリデン、1−t−ブチルエチリデン、
1−フェニルエチリデン、(4−メトキシフェニル)エ
チリデン、2,2,2−トリクロロエチリデン、アセト
ニド (イソプロピリデン)、シクロペンチリデン、シ
クロヘキシリデン、シクロヘプチリデン、ベンジリデ
ン、p−メトキシベンジリデン、2,4−ジメトキシベ
ンジリデン、3,4−ジメトキシベンジリデン、2−ニ
トロベンジリデン); 環状オルトエステル(メトキシ
メチレン、エトキシメチレン、ジメトキシメチレン、1
−メトキシエチリデン、1−エトキシエチリデン、1,
2−ジメトキシエチリデン、α−メトキシベンジリデ
ン、1−(N,N−ジメチルアミノ)エチリデン誘導
体、α−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジリデン誘導
体、2−オキサシクロペンチリデン); シリル誘導体
(ジ−t−ブチルシリレン基、1,3−(1,1,3,
3−テトライソプロピルジシロキサニリデン)、および
テトラ−t−ブトキシジシロキサン−1,3−ジイリデ
ン)、環状カーボネート、環状ボロネート、エチルボロ
ネートおよびフェニルボロネートを包含する。 【0118】より典型的には、1,2−ジオール保護基
は、表Aに示す基、あるいは環状(ayalic)ケタ
ールまたはアセタールを包含する。さらにもっと典型的
には、環状ケタールおよびアセタールである。 【0119】(表A) 【0120】 【表1】 【0121】ここでR1aはC1−C6アルキル(すぐ下で
定義するような)である。 【0122】本明細書において使用される「アルキル」
は別段の指示のない限りC1−C6の炭化水素であり、ノ
ルマル、第二級、第三級または環状の炭素原子を含む。
例は、メチル (Me、−CH3)、エチル (Et、
−CH2CH3)、1−プロピル (n−Pr、n−プロ
ピル、−CH2CH2CH3)、2−プロピル (i−P
r、i−プロピル、−CH(CH32)、1−ブチル
(n−Bu、n−ブチル、−CH2CH2CH2CH3)、
2−メチル−1−プロピル(i−Bu、i−ブチル、−
CH2CH(CH32)、2−ブチル(s−Bu、s−
ブチル、−CH(CH3)CH2CH3)、2−メチル−
2−プロピル(t−Bu、t−ブチル、−C(C
33)、1−ペンチル (n−ペンチル、−CH2
2CH2CH2CH3)、2−ペンチル (−CH(CH
3)CH2CH2CH3)、3−ペンチル(−CH(CH2
CH32)、2−メチル−2−ブチル (−C(C
32CH2CH3)、3−メチル−2−ブチル (−C
H(CH3)CH(CH32)、3−メチル−1−ブチ
ル (−CH2CH2CH(CH32)、2−メチル−1
−ブチル (−CH2CH(CH3)CH2CH3)、1−
ヘキシル (−CH2CH2CH 2CH2CH2CH3)、2
−ヘキシル (−CH(CH3)CH2CH2CH2
3)、3−ヘキシル (−CH(CH2CH3)(CH2
CH2CH3))、2−メチル−2−ペンチル (−C
(CH32CH2CH2CH3)、3−メチル−2−ペン
チル (−CH(CH3)CH(CH3)CH2CH3)、
4−メチル−2−ペンチル (−CH(CH3)CH2
H(CH32)、3−メチル−3−ペンチル(−C(C
3)(CH2CH32)、2−メチル−3−ペンチル
(−CH(CH2CH3)CH(CH32)、2,3−ジ
メチル−2−ブチル (−C(CH32CH(C
32)、3,3−ジメチル−2−ブチル (−CH
(CH3)C(CH33)である。典型的なアルキル
は、メチル、エチル、1−プロピル、および2−プロピ
ルである。 【0123】R2は、カルボン酸保護基である。典型的
なカルボン酸保護基はR25(すぐ下で定義される)また
はGreeneの第224頁〜第276頁に記載の基で
ある。Greeneに記載の基は、エステル(メチ
ル); 置換メチルエステル(9−フルオレニルメチ
ル、メトキシメチル、メチルチオメチル、テトラヒドロ
ピラニル、テトラヒドロフラニル、メトキシエトキシメ
チル、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル、ベン
ジルオキシメチル、フェナシル、p−ブロモフェナシ
ル、α−メチルフェナシル、p−メトキシフェナシル、
カルボキシアミドメチル、N−フタルイミドメチル);
2−置換エチルエステル(2,2,2−トリクロロエ
チル、2−ハロエチル、ω−クロロアルキル、2−(ト
リメチルシリル)エチル、2−メチルチオエチル、1,
3−ジチアニル−2−メチル、2−(p−ニトロフェニ
ルスルフェニル)エチル、2−(p−トルエンスルホニ
ル)エチル、2−(2’−ピリジル)エチル、2−(ジ
フェニルホスフィノ)エチル、1−メチル−1−フェニ
ルエチル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、アリル、3−ブテン−1−イル、4−(トリメチル
シリル)−2−ブテン−1−イル、シンナミル、α−メ
チルシンナミル、フェニル、p−(メチルメルカプト)
フェニル、ベンジル); 置換ベンジルエステル(トリ
フェニルメチル、ジフェニルメチル、ビス(o−ニトロ
フェニル)メチル、9−アントリルメチル、2−(9,
10−ジオキソ)アントリルメチル、5−ジベンゾスベ
リル、1−ピレニルメチル、2−(トリフルオロメチ
ル)−6−クロミルメチル、2,4,6−トリメチルベ
ンジル、p−ブロモベンジル、o−ニトロベンジル、p
−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、2,6−ジ
メトキシベンジル、4−(メチルスルフィニル)ベンジ
ル、4−スルホベンジル、ピペロニル、4−ピコリル、
p−ポリ−ベンジル); シリルエステル(トリメチル
シリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリ
ル、i−プロピルジメチルシリル、フェニルジメチルシ
リル、ジ−t−ブチルメチルシリル); 活性化エステ
ル(チオール); 種々多様な(Misce11ane
ous)誘導体(オキサゾール、2−アルキル−1,3
−オキサゾリン、4−アルキル−5−オキソ−1,3−
オキサゾリジン、5−アルキル−4−オキソ−1,3−
ジオキソラン、オルトエステル、フェニル基、ペンタア
ミノコバルト(III)錯体); スタニルエステル
(トリエチルスタニル、トリ−n−ブチルスタニル);
アミド(N,N−ジメチル、ピロリジニル、ピペリジ
ニル、5,6−ジヒドロフェナントリジニル、o−ニト
ロアニリド、N−7−ニトロインドリル、N−8−ニト
ロ−1,2,3,4−テトラヒドロキノリル、p−ポリ
−ベンゼンスルホンアミド);およびヒドラジド(ヒド
ラジド、N−フェニル、N,N’−ジイソプロピル)を
包含する。 【0124】R25は、炭素原子1個から12個のアルキ
ル、炭素原子2個から12個のアルケニル、または炭素
原子2個から12個のアルキニルであり、これらのアル
キル、アルケニル、またはアルキニルのいずれもが0個
から3個のR22基(R22は以下に記載される)で置換さ
れる。より典型的にはR25は、炭素原子1個から6個の
アルキル、炭素原子2個から6個のアルケニル、または
炭素原子2個から6個のアルキニルであり、これらのア
ルキル、アルケニル、またはアルキニルのいずれもが0
個から3個のR22基で置換される。なおさらに典型的に
はR25は、0個から2個のR22基で置換された炭素原子
1個から8個のアルキルである。さらにより典型的に
は、R25は、1個、2個、3個、4個、5個、6個、7
個、または8個の炭素原子のアルキルである。もっとも
典型的にはR25はメチル、エチル、1−プロピルまたは
2−プロピルである。 【0125】本明細書において使用される「アルケニ
ル」は、別段の指示のない限りC1−C6の炭化水素であ
り、ノルマル、第二級、第三級または環状の炭素原子を
含む。例は、エテニル (−CH=CH2)、1−プロ
プ−1−エニル (−CH=CHCH3)、1−プロプ
−2−エニル (−CH2CH=CH2)、2−プロプ−
1−エニル (−C(=CH2)(CH3))、1−ブト
−1−エニル (−CH=CHCH2CH3)、1−ブト
−2−エニル (−CH2CH=CHCH3)、1−ブト
−3−エニル (−CH2CH2CH=CH2)、2−メ
チル−1−プロプ−1−エニル (−CH=C(C
32)、2−メチル−1−プロプ−2−エニル (−
CH2C(=CH2)(CH3))、2−ブト−1−エニ
ル (−C(=CH2)CH2CH3)、2−ブト−2−
エニル (−C(CH3)=CHCH3)、2−ブト−3
−エニル (−CH(CH3)CH=CH2)、1−ペン
ト−1−エニル (−C=CHCH2CH2CH3)、1
−ペント−2−エニル (−CHCH=CHCH2
3)、1−ペント−3−エニル (−CHCH2CH=
CHCH3)、1−ペント−4−エニル (−CHCH2
CH2CH=CH2)、2−ペント−1−エニル (−C
(=CH2)CH2CH2CH3)、2−ペント−2−エニ
ル (−C(CH3)=CH2CH2CH3)、2−ペント
−3−エニル (−CH(CH3)CH=CHCH3)、
2−ペント−4−エニル (−CH(CH3)CH2CH
=CH2)または3−メチル−1−ブト−2−エニル
(−CH2CH=C(CH32)である。より典型的に
は、アルケニル基は2個、3個または4個の炭素原子の
アルケニル基である。 【0126】本明細書において使用される「アルキニル
基」は、別段の指示のない限りC1−C6の炭化水素であ
り、ノルマル、第二級、第三級または環状の炭素原子を
含む。例は、エチニル (−C≡CH)、1−プロプ−
1−イニル (−C≡CCH3)、1−プロプ−2−イ
ニル (−CH2C≡CH)、1−ブト−1−イニル
(−C≡CCH2CH3)、1−ブト−2−イニル (−
CH2C≡CCH3)、1−ブト−3−イニル (−CH
2CH2C≡CH)、2−ブト−3−イニル (CH(C
3)C≡CH)、1−ペント−1−イニル (−C≡
CCH2CH2CH3)、1−ペント−2−イニル (−
CH2C≡CCH2CH3)、1−ペント−3−イニル
(−CH2CH2C≡CCH3)または1−ペント−4−
イニル (−CH2CH2CH2C≡CH)である。より
典型的には、アルキニル基は、2個、3個または4個の
炭素原子のアルキニル基である。 【0127】R3は、ヒドロキシ保護基である。典型的
なR3ヒドロキシ保護基は、Greene(第14頁〜
第118頁)に記載され、エーテル(メチル); 置換
メチルエーテル (メトキシメチル、メチルチオメチ
ル、t−ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリ
ル)メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、p−メト
キシベンジルオキシメチル、(4−メトキシフェノキ
シ)メチル、グアイアコールメチル、t−ブトキシメチ
ル、4−ペンテニルオキシメチル、シロキシメチル、2
−メトキシエトキシメチル、2,2,2−トリクロロエ
トキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチル、2
−(トリメチルシリル)エトキシメチル、テトラヒドロ
ピラニル、3−ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒ
ドロチオピラニル(Tetrahydropthiop
yranyl)、1−メトキシシクロヘキシル、4−メ
トキシテトラヒドロピラニル、4−メトキシテトラヒド
ロチオピラニル、4−メトキシテトラヒドロチオピラニ
ル(4−Methoxytetrahydropthi
opyranyl)、S,S−ジオキシド、1−[(2
−クロロ−4−メチル)フェニル]−4−メトキシピペ
リジン4−イル、35、1,4−ジオキサン−2−イ
ル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニ
ル、2,3,3a,4,5,6,7,7a−オクタヒド
ロ−7,8,8−トリメチル−4,7−メタノベンゾフ
ラン−2−イル)); 置換エチルエーテル(1−エト
キシエチル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、1−
メチル−1−メトキシエチル、1−メチル−1−ベンジ
ルオキシエチル、1−メチル−1−ベンジルオキシ−2
−フルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル、2
−トリメチルシリルエチル、2−(フェニルセレニル)
エチル、t−ブチル、アリル、p−クロロフェニル、p
−メトキシフェニル、2,4−ジニトロフェニル、ベン
ジル); 置換ベンジルエーテル (p−メトキシベン
ジル、3,4−ジメトキシベンジル、o−ニトロベンジ
ル、p−ニトロベンジル、p−ハロベンジル、2,6−
ジクロロベンジル、p−シアノベンジル、p−フェニル
ベンジル、2−および4−ピコリル、3−メチル−2−
ピコリルN−オキシド、ジフェニルメチル、p,p’−
ジニトロベンズヒドリル、5−ジベンゾスベリル、トリ
フェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、p−
メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p−メトキシ
フェニル)フェニルメチル、トリ(p−メトキシフェニ
ル)メチル、4−(4’−ブロモフェナシルオキシ)フ
ェニルジフェニルメチル、4,4’,4”−トリス
(4,5−ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、
4,4’,4”−トリス(レブリノイルオキシフェニ
ル)メチル、4,4’,4”−トリス(ベンゾイルオキ
シフェニル)メチル、3−(イミダゾール−1−イルメ
チル)ビス(4’,4”−ジメトキシフェニル)メチ
ル、1,1−ビス(4−メトキシフェニル)−1’−ピ
レニルメチル、9−アントリル、9−(9−フェニル)
キサンテニル、9−(9−フェニル−10−オキソ)ア
ントリル、1,3−ベンゾジチオラン−2−イル、ベン
ズイソチアゾリル、 S,S−ジオキシド); シリル
エーテル (トリメチルシリル、トリエチルシリル、ト
リイソプロピルシリル、ジメチルイソプロピルシリル、
ジエチルイソプロピルシリル、ジメチルヘキシルシリル
(Dimethylthexylsilyl)、t−ブ
チルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、ト
リベンジルシリル、トリ−p−キシリルシリル、トリフ
ェニルシリル、ジフェニルメチルシリル、t−ブチルメ
トキシフェニルシリル); エステル (ホルメート、
ベンゾイルホルメート、アセテート、クロロアセテー
ト、ジクロロアセテート、トリクロロアセテート、トリ
フルオロアセテート、メトキシアセテート、トリフェニ
ルメトキシアセテート、フェノキシアセテート、p−ク
ロロフェノキシアセテート、p−ポリ−フェニルアセテ
ート、3−フェニルプロピオネート、4−オキソペンタ
ノエート(レブリネート)、4,4−(エチレンジチ
オ)ペンタノエート、ピバロエート、アダマントエー
ト、クロトネート、4−メトキシクロトネート、ベンゾ
エート、p−フェニルベンゾエート、2,4,6−トリ
メチルベンゾエート (メシトエート)); カーボネ
ート (メチル、9−フルオレニルメチル、エチル、
2,2,2−トリクロロエチル、2−(トリメチルシリ
ル)エチル、2−(フェニルスルホニル)エチル、2−
(トリフェニルホスホニオ)エチル、イソブチル、ビニ
ル、アリル、p−ニトロフェニル、ベンジル、p−メト
キシベンジル、3,4−ジメトキシベンジル、o−ニト
ロベンジル、p−ニトロベンジル、S−ベンジルチオカ
ーボネート、4−エトキシ−1−ナフチル、メチルジチ
オカーボネート); 補助的な開裂を伴う基(2−ヨー
ドベンゾエート、4−アジドブチレート、4−ニトロ−
4−メチルペンタノエート、o−(ジブロモメチル)ベ
ンゾエート、2−ホルミルベンゼンスルホネート、2−
(メチルチオメトキシ)エチルカーボネート、4−(メ
チルチオメトキシ)ブチレート、2−(メチルチオメト
キシメチル)ベンゾエート); 種々多様なエステル
(2,6−ジクロロ−4−メチルフェノキシアセテー
ト、2,6−ジクロロ−4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル)フェノキシアセテート、2,4−ビス
(1,1−ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、
クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノス
クシノエート、(E)−2−メチル−2−ブテノエート
(チグロエート)、o−(メトキシカルボニル)ベン
ゾエート、p−ポリ−ベンゾエート、α−ナフトエー
ト、ニトレート、アルキルN,N,N’,N’−テトラ
メチルホスホロジアミデート、N−フェニルカルバメー
ト、ボレート、ジメチルホスフィノチオイル、2,4−
ジニトロフェニルスルフェネート); およびスルホネ
ート (スルフェート、メタンスルホネート (メシレ
ート)、ベンジルスルホネート、トシレート)を包含す
る。 【0128】より典型的には、R3ヒドロキシ保護基
は、置換メチルエーテル、置換ベンジルエーテル、シリ
ルエーテル、およびエステル(スルホン酸エステルを包
含する)を包含し、なおさらに典型的には、トリアルキ
ルシリルエーテル、トシレート、メシレートおよびアセ
テートである。 【0129】各R20は独立してHまたは炭素原子1個か
ら12個のアルキルである。典型的にはR20はHまたは
上記のような炭素1個から6個のアルキルである。なお
さらに典型的には、R20はHまたはメチルである。なお
より典型的には、R20はHである。 【0130】このプロセスの実施態様は、式: 【0131】 【化39】 【0132】の化合物と脱水試薬との反応を包含する。
典型的には、1位のヒドロキシ基が、シス−4,5−ジ
オール保護基を除去することなく、脱離する。1位のヒ
ドロキシ基が脱離して、1位と6位との間にオレフィン
結合が形成される。 【0133】典型的には、このプロセスは、化合物4を
適切な脱水剤、例えば鉱酸(HCl、H2SO4)または
SO2Cl2で処理する工程を包含する。より典型的に
は、化合物4をSO2Cl2で処理し、次いでアルカノー
ルで処理する。なおさらに典型的には、化合物4を適切
な極性の非プロトン性溶媒、例えばアミン中でSO2
2で処理し、オレフィンを形成する。さらになお典型
的には、化合物4をピリジン/CH2Cl2中で−100
℃と0℃との間の温度、典型的には−100℃と−10
℃との間の温度、より典型的には−78℃で、SO2
2で処理して、化合物5を形成する。 【0134】典型的な実施態様において、ジクロロメタ
ン中の化合物4およびピリジンの溶液を−20℃から−
30℃に冷却し、そして塩化スルフリルで一滴ずつ処理
する。発熱反応が鎮静した後、得られるスラリーをエタ
ノールでクエンチし、0℃まで加温し、そして16%硫
酸、水および5%重炭酸ナトリウム水溶液で順次洗浄す
る。この実施の詳細な例は以下実施例4として提供され
る。 【0135】任意に、この実施態様のプロセスは、化合
物5を貴金属錯体で処理することによって、任意に他の
反応生成物または他の不純物、例えば、他の二重結合異
性体、ハロゲン化副生成物または出発物質および試薬か
ら、精製または分離する工程をさらに包含する。貴金属
は、金、銀、白金、パラジウム、イリジウム、レニウ
ム、水銀、ルテニウムおよびオスミウムを包含する。典
型的には、この実施態様の貴金属錯体は、白金またはパ
ラジウムの錯体である。より典型的には、この錯体は、
パラジウム(0)錯体であり、さらに典型的には、錯体
はテトラキス(トリアリールホスフィン)パラジウム
(0)錯体である。 【0136】典型的な実施態様において、反応の有機層
は、オレフィンおよびハロゲン化生成物の混合物、なら
びに出発物質を含む。これを減圧下濃縮し、そして酢酸
エチルを加える。溶液をピロリジンおよびテトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)で、室温
で処理し、次いで16%硫酸で洗浄する。有機層をシリ
カゲルのパッドを通して濾過し、そして酢酸エチルで溶
出する。濾液を減圧下濃縮する。残渣を酢酸エチルに還
流下溶解し、そしてヘキサンを加える。冷却すると、生
成物が結晶化し、そしてこれを濾過により分離し、そし
てヘキサン中14%の酢酸エチルで洗浄する。減圧下乾
燥した後、5が得られた。この実施態様の詳細な例は以
下実施例4として提供される。 【0137】この実施態様の他の例において、化合物5
は、式: 【0138】 【化40】 【0139】の化合物である。 【0140】本発明の他の局面は、式: 【0141】 【化41】【0142】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで:R2、R3およびR20は上で定義したとおり
である。 【0143】R4は以下説明する。 【0144】Wは、炭素環または複素環であり、ここで
この炭素環または複素環のいずれもが0個から3個のR
29基(R29は以下説明する)で置換される。 【0145】Wは、炭素環または複素環であり、ただ
し、各Wは独立して0個から3個のR 29基(R29は以下
説明する)で置換される。W炭素環および複素環は安定
な化学構造である。このような構造は、測定可能な収率
で、測定可能な純度で、反応混合物から−78℃から2
00℃の温度で単離され得る。各Wは独立して0個から
3個のR29基で置換される。典型的には、Wは飽和、不
飽和または芳香族の環であり、単環式または二環式の炭
素環または複素環を含む。より典型的には、Wは3個か
ら10個の環原子を有し、さらに典型的には3個から7
個の環原子を有し、そして通常3個から6個の環原子を
有する。W環は、3個の環原子を含む場合には飽和であ
り、4個の環原子を含む場合には飽和または単不飽和で
あり、5個の環原子を含む場合は、飽和、単不飽和また
は二不飽和であり、そして6個の環原子を含む場合には
飽和、単不飽和または二不飽和、あるいは芳香族であ
る。 【0146】Wが炭素環式の場合、Wは典型的には炭素
3個から7個の単環であり、あるいは炭素原子7個から
12個の二環である。より典型的には、Wは3個から6
個の環原子、さらに典型的には5個または6個の環原子
を有する単環式炭素環である。W二環式炭素環は、典型
的にはビシクロ[4,5]、[5,5]、[5,6]ま
たは[6,6]系として配置された7個から12個の環
原子を有し、さらに典型的にはビシクロ[5,6]また
は[6,6]系として配置された9個または10個の環
原子を有する。例として、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、1−シクロペンタ−1−エニル、
1−シクロペンタ−2−エニル、1−シクロペンタ−3
−エニル、シクロヘキシル、1−シクロヘキサ−1−エ
ニル、1−シクロヘキサ−2−エニル、1−シクロヘキ
サ−3−エニル、フェニル、スピリルおよびナフチルが
包含される。 【0147】W複素環は、典型的には、3個から7個の
環員(2個から6個の炭素原子および1個から3個の、
N、O、P、およびSから選択される複素原子)を有す
る単環、または7個から10個の環員(4個から9個の
炭素原子および1個から3個の、N、O、P、およびS
から選択される複素原子)を有する二環である。より典
型的には、Wは3個から6個の環原子(2個から5個の
炭素原子および1個から2個の、N、O、およびSから
選択される複素原子)有し、さらに典型的には5個また
は6個の環原子(3個から5個の炭素原子および1個か
ら2個の、NおよびSから選択される複素原子)を有す
る複素環式単環である。W複素環式二環は、典型的に
は、ビシクロ[4,5]、[5,5]、[5,6]また
は[6,6]系として配置された7個から10個の環原
子(6個から9個の炭素原子および1個から2個の、
N、O、およびSから選択される複素原子)、さらに典
型的にはビシクロ[5,6]または[6,6]系として
配置された9個または10個の環原子(8個から9個の
炭素原子および1個から2個の、NおよびSから選択さ
れる複素原子)を有する。 【0148】「複素環」は本明細書において、例示であ
り、限定ではないが、例として、Paquette,
Leo A.; 「Principles of Mo
dern Heterocyclic Chemist
ry」(W.A. Benjamin, New Yo
rk, 1968)、特に第1、3、4、6、7、およ
び9章;「The Chemistry of Het
erocyclicCompounds, A ser
ies of Monographs」(John W
iley & Sons, New York, 19
50から現在)、特に第13、14、16、19、およ
び28巻;および「J. Am. Chem. So
c.」、82:5566(1960)に記載の複素環を
包含する。 【0149】例示される複素環の例は、ピリジル、チア
ゾリル、テトラヒドロチオフェニル、硫黄酸化(sul
fur oxidized) テトラヒドロチオフェニ
ル、ピリミジニル、フラニル、チエニル、ピロリル、ピ
ラゾリル、イミダゾリル、テトラゾリル、ベンゾフラニ
ル、チアナフタレニル、インドリル、インドレニル、キ
ノリニル、イソキノリニル、ベンズイミダゾリル、ピペ
リジニル、4−ピペリドニル、ピロリジニル、2−ピロ
リドニル、ピロリニル、テトラヒドロフラニル、テトラ
ヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、デカ
ヒドロキノリニル、オクタヒドロイソキノリニル、アゾ
シニル、トリアジニル、6H−1,2,5−チアジアジ
ニル、2H,6H−1,5,2−ジチアジニル、チエニ
ル、チアントレニル、ピラニル、イソベンゾフラニル、
クロメニル、キサンテニル、フェノキサチイニル、2H
−ピロリル、イソチアゾリル、イソキサゾリル、ピラジ
ニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリ
ル、3H−インドリル、1H−インダゾリル(inda
zoly)、プリニル、4H−キノリジニル、フタラジ
ニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニ
ル、シンノリニル、プテリジニル、4aH−カルバゾリ
ル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジ
ニル、アクリジニル、ピリミジニル、フェナントロリニ
ル、フェナジニル、フェノチアジニル、フラザニル、フ
ェノキサジニル、イソクロマニル、クロマニル、イミダ
ゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾ
リニル、ピペラジニル、インドリニル、イソインドリニ
ル、キヌクリジニル、モルホリニル、オキサゾリジニ
ル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイソキサゾリル、オキ
シインドリル、ベンズオキサゾリニル、およびイサチノ
イルを包含するが、これらに限定されない。 【0150】例示であり、限定ではないが、炭素結合複
素環は、ピリジンの2位、3位、4位、5位、または6
位、ピリダジンの3位、4位、5位、または6位、ピリ
ミジンの2位、4位、5位、または6位、ピラジンの2
位、3位、5位、または6位、フラン、テトラヒドロフ
ラン、チオフラン、チオフェン、ピロールまたはテトラ
ヒドロピロールの2位、3位、4位、または5位、オキ
サゾール、イミダゾールまたはチアゾールの2位、4
位、または5位、イソキサゾール、ピラゾール、または
イソチアゾールの3位、4位、または5位、アジリジン
の2位または3位、アゼチジンの2位、3位、または4
位、キノリンの2位、3位、4位、5位、6位、7位、
または8位、またはイソキノリンの1位、3位、4位、
5位、6位、7位、または8位で結合する。さらに典型
的には、炭素結合複素環は、2−ピリジル、3−ピリジ
ル、4−ピリジル、5−ピリジル、6−ピリジル、3−
ピリダジニル、4−ピリダジニル、5−ピリダジニル、
6−ピリダジニル、2−ピリミジニル、4−ピリミジニ
ル、5−ピリミジニル、6−ピリミジニル、2−ピラジ
ニル、3−ピラジニル、5−ピラジニル、6−ピラジニ
ル、2−チアゾリル、4−チアゾリル、または5−チア
ゾリルを包含する。 【0151】例示であり、限定ではないが、窒素結合複
素環は、アジリジン、アゼチジン、ピロール、ピロリジ
ン、2−ピロリン、3−ピロリン、イミダゾール、イミ
ダゾリジン、2−イミダゾリン、3−イミダゾリン、ピ
ラゾール、ピラゾリン、2−ピラゾリン、3−ピラゾリ
ン、ピペリジン、ピペラジン、インドール、インドリ
ン、1H−インダゾールの1位、イソインドール、また
はイソインドリンの2位、モルホリンの4位、およびカ
ルバゾールまたはβ−カルボリンの9位で結合する。さ
らに典型的には、窒素結合複素環は、1−アジリジル、
1−アゼチジル(azetedyl)、1−ピロリル、
1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、および1−ピペリ
ジニルを包含する。 【0152】典型的にはW複素環は、ピリジル、ピリダ
ジニル、ピリミジニル、ピラジニル、s−チアジニル、
オキサゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、イソオキサ
ゾリル、ピラゾリル、イソチアゾリル、フラニル、チオ
フラニル、チエニル、またはピロリルから選択される。 【0153】より典型的には、Wの複素環は、その炭素
原子または窒素原子を介して結合する。さらに典型的に
はW複素環は、その炭素または窒素原子を介して安定な
共役結合で結合する。安定な共役結合は上記のような化
学的に安定な構造である。 【0154】Wは任意に: 【0155】 【化42】 【0156】からなる群から選択される。 【0157】R5はHまたはR3である。 【0158】R7はHまたはアミノ保護基である。R7
ミノ保護基は、Greeneの第315頁〜第385頁
に記載される。これらは、カルバメート (メチルおよ
びエチル、9−フルオレニルメチル、9(2−スルホ)
フルオレニルメチル(fluoroenylmethy
l)、9−(2,7−ジブロモ)フルオレニルメチル、
2,7−ジ−t−ブチル−[9−(10,10−ジオキ
ソ−10,10,10,10−テトラヒドロチオキサン
チル)]メチル、4−メトキシフェナシル);置換エチ
ル (2,2,2−トリクロロエチル、2−トリメチル
シリルエチル、2−フェニルエチル、1−(1−アダマ
ンチル)−1−メチルエチル、1 ,1−ジメチル−2
−ハロエチル、1,1−ジメチル−2,2−ジブロモエ
チル、1,1−ジメチル−2,2,2−トリクロロエチ
ル、1−メチル−1−(4−ビフェニル)(biphe
nylyl)エチル、1−(3,5−ジ−t−ブチルフ
ェニル)−1−メチルエチル、2−(2’−および4’
−ピリジル)エチル、2−(N,N−ジシクロヘキシル
カルボキシアミド)エチル、t−ブチル、1−アダマン
チル、ビニル、アリル、1−イソプロピルアリル、シン
ナミル、4−ニトロシンナミル、8−キノリル、N−ヒ
ドロキシピペリジニル、アルキルジチオ、ベンジル、p
−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル、p−ブロモ
ベンジル、p−クロロベンジル、2,4−ジクロロベン
ジル、4−メチルスルフィニルベンジル、9−アントリ
ルメチル、ジフェニルメチル); 補助的な開裂を伴う
基(2−メチルチオエチル、2−メチルスルホニルエチ
ル、2−(p−トルエンスルホニル)エチル、[2−
(1,3−ジチアニル)]メチル、4−メチルチオフェ
ニル、2,4−ジメチルチオフェニル、2−ホスホニオ
エチル、2−トリフェニルホスホニオイソプロピル、
1,1−ジメチル−2−シアノエチル、m−クロロ−p
−アシルオキシベンジル、p−(ジヒドロキシボリル)
ベンジル、5−ベンズイソキサゾリルメチル、2−(ト
リフルオロメチル)−6−クロモニルメチル); 光開
裂し得る基 (m−ニトロフェニル、3,5−ジメトキ
シベンジル、o−ニトロベンジル、3,4−ジメトキシ
−6−ニトロベンジル、フェニル(o−ニトロフェニ
ル)メチル); 尿素型誘導体 (フェノチアジニル−
(10)−カルボニル、N’−p−トルエンスルホニル
アミノカルボニル、N’−フェニルアミノチオカルボニ
ル); 種々多様なカルバメート (t−アミル、S−
ベンジルチオカルバメート、p−シアノベンジル、シク
ロブチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、シクロプ
ロピルメチル、p−デシルオキシベンジル、ジイソプロ
ピルメチル、2,2−ジメトキシカルボニルビニル、o
−(N,N−ジメチルカルボキシアミド)ベンジル、
1,1−ジメチル−3−(N、N−ジメチルカルボキシ
アミド)プロピル、1,1−ジメチルプロピニル、ジ
(2−ピリジル)メチル、2−フラニルメチル、2−ヨ
ードエチル、イソボルニル、イソブチル、イソニコチニ
ル、p−(p’−メトキシフェニルアゾ)ベンジル、1
−メチルシクロブチル、1−メチルシクロヘキシル、1
−メチル−1−シクロプロピルメチル、1−メチル−1
−(3,5−ジメトキシフェニル)エチル、1−メチル
−1−(p−フェニルアゾフェニル)エチル、1−メチ
ル−1−フェニルエチル、1−メチル−1−(4−ピリ
ジル)エチル、フェニル、p−(フェニルアゾ)ベンジ
ル、2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル、4−(ト
リメチルアンモニウム)ベンジル、2,4,6−トリメ
チルベンジル); アミド(N−ホルミル、N−アセチ
ル、N−クロロアセチル、N−トリクロロアセチル、N
−トリフルオロアセチル、N−フェニルアセチル、N−
3−フェニルプロピオニル、N−ピコリノイル、N−3
−ピリジルカルボキシアミド、N−ベンゾイルフェニル
アラニル、N−ベンゾイル、N−p−フェニルベンゾイ
ル);補助的な開裂を伴うアミド(N−o−ニトロフェ
ニルアセチル、N−o−ニトロフェノキシアセチル、N
−アセトアセチル、(N’−ジチオベンジルオキシカル
ボニルアミノ)アセチル、N−3−(p−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオニル、N−3−(o−ニトロフェニ
ル)プロピオニル、N−2−メチル−2−(o−ニトロ
フェノキシ)プロピオニル、N−2−メチル−2−(o
−フェニルアゾフェノキシ)プロピオニル、N−4−ク
ロロブチリル、N−3−メチル−3−ニトロブチリル、
N−o−ニトロシンナモイル、N−アセチルメチオニ
ン、N−o−ニトロベンゾイル、N−o−(ベンゾイル
オキシメチル)ベンゾイル、4,5−ジフェニル−3−
オキサゾリン−2−オン); 環状イミド誘導体 (N
−フタルイミド、N−ジチアスクシノイル、N−2,3
−ジフェニルマレオイル、N−2,5−ジメチルピロリ
ル、N−1,1,4,4−テトラメチルジシリルアザシ
クロペンタン付加体、5−置換 1,3−ジメチル−
1,3,5−トリアザシクロヘキサン−2−オン、5−
置換 1,3−ジベンジル−1,3,5−トリアザシク
ロヘキサン−2−オン、1−置換 3,5−ジニトロ−
4−ピリドニル); N−アルキルおよびN−アリール
アミン(N−メチル、N−アリル、N−[2−(トリメ
チルシリル)エトキシ]メチル、N−3−アセトキシプ
ロピル、N−(1−イソプロピル−4−ニトロ−2−オ
キソ−3−ピロリン−3−イル)、第四級アンモニウム
塩、N−ベンジル、N−ジ(4−メトキシフェニル)メ
チル、N−5−ジベンゾスベリル、N−トリフェニルメ
チル、N−(4−メトキシフェニル)ジフェニルメチ
ル、N−9−フェニルフルオレニル、N−2,7−ジク
ロロ−9−フルオレニルメチレン、N−フェロセニルメ
チル、N−2−ピコリルアミン N’−オキシド)、イ
ミン誘導体 (N−1,1−ジメチルチオメチレン、N
−ベンジリデン、N−p−メトキシベンジリデン(me
thoxybenylidene)、N−ジフェニルメ
チレン、N−[(2−ピリジル)メシチル]メチレン、
N,(N’,N’−ジメチルアミノメチレン、N、N’
−イソプロピリデン、N−p−ニトロベンジリデン、N
−サリチリデン、N−5−クロロサリチリデン、N−
(5−クロロ−2−ヒドロキシフェニル)フェニルメチ
レン、N−シクロヘキシリデン);エナミン誘導体
(N−(5,5−ジメチル−3−オキソ−1−シクロヘ
キセニル)); N−金属誘導体(N−ボラン誘導体、
N−ジフェニルボリン酸(borinic acid)
誘導体、N−[フェニル(ペンタカルボニルクロム−ま
たは−タングステン)]カルベニル、N−銅またはN−
亜鉛キレート); N−N誘導体 (N−ニトロ、N−
ニトロソ、N−オキシド); N−P誘導体(N−ジフ
ェニルホスフィニル、N−ジメチルチオホスフィニル、
N−ジフェニルチオホスフィニル、N−ジアルキルホス
ホリル、N−ジベンジルホスホリル、N−ジフェニルホ
スホリル); N−Si誘導体; N−S誘導体; N
−スルフェニル誘導体 (N−ベンゼンスルフェニル、
N−o−ニトロベンゼンスルフェニル、N−2,4−ジ
ニトロベンゼンスルフェニル、N−ペンタクロロベンゼ
ンスルフェニル、N−2−ニトロ−4−メトキシベンゼ
ンスルフェニル、N−トリフェニルメチルスルフェニ
ル、N−3−ニトロピリジンスルフェニル);およびN
−スルホニル誘導体 (N−p−トルエンスルホニル、
N−ベンゼンスルホニル、N−2,3,6−トリメチル
−4−メトキシベンゼンスルホニル、N−2,4,6−
トリメトキシベンゼンスルホニル、N−2,6−ジメチ
ル−4−メトキシベンゼンスルホニル、N−ペンタメチ
ルベンゼンスルホニル、N−2,3,5,6,−テトラ
メチル−4−メトキシベンゼンスルホニル、N−4−メ
トキシベンゼンスルホニル、N−2,4,6−トリメチ
ルベンゼンスルホニル、N−2,6−ジメトキシ−4−
メチルベンゼンスルホニル、N−2,2,5,7,8−
ペンタメチルクロマン−6−スルホニル、N−メタンス
ルホニル、N−β−トリメチルシリエタンスルホニル、
N−9−アントラセンスルホニル、N−4−(4’,
8’−ジメトキシナフチルメチル)ベンゼンスルホニ
ル、N−ベンジルスルホニル、N−トリフルオロメチル
スルホニル、N−フェナシルスルホニル)を包含する。
典型的には、R7はHまたは−C(O)R25である(R
25は上記)。 【0159】R8はHまたはR2である。典型的にはR8
はHである。 【0160】R9はHまたはチオール保護基である。R9
アミノ保護基はGreeneの第277頁から第308
頁に記載されている。これらは、チオエーテル (S−
ベンジル、S−p−メトキシベンジル、S−o−もしく
は p−ヒドロキシ−またはアセトキシベンジル、S−
p−ニトロベンジル、S−4−ピコリル、S−2−ピコ
リルN−オキシド、S−9−アントリルメチル、S−9
−フルオレニルメチル、S−フェロセニルメチル);
S−ジフェニルメチル、置換 S−ジフェニルメチル、
およびS−トリフェニルメチルチオエーテル (S−ジ
フェニルメチル、S−ビス(4−メトキシフェニル)メ
チル、S−5−ジベンゾスベリル、S−トリフェニルメ
チル、S−ジフェニル−4−ピリジルメチル、S−フェ
ニル、S−2,4−ジニトロフェニル、S−t−ブチ
ル、S−1−アダマンチル);置換 S−メチル誘導体
モノチオ、ジチオ、およびアミノチオアセタール (S
−メトキシメチル、S−イソブトキシメチル、S−2−
テトラヒドロピラニル、S−ベンジルチオメチル、S−
フェニルチオメチル、チアゾリジン、S−アセトアミド
メチル、S−トリメチルアセトアミドメチル、S−ベン
ズアミドメチル、S−アセチル−、S−カルボキシ−、
およびS−シアノメチル); 置換 S−エチル誘導体
(S−2−ニトロ−1−フェニルエチル、S−2−
(4’−ピリジル)エチル、S−2−シアノエチル、S
−2,2−ビス(カルボエトキシ)エチル、S−1−m
−ニトロフェニル−2−ベンゾイルエチル、S−2−フ
ェニルスルホニルエチル、S−1−(4−メチルフェニ
ルスルホニル)−2−メチルプロプ−2−イル); シ
リルチオエーテル、チオエステル、(S−アセチル誘導
体、S−ベンゾイル誘導体、S−N−[[(p−ビフェ
ニリル)イソプロポキシ]カルボニル]−N−メチル−
γ−アミノブチレート、S−N−(t−ブトキシカルボ
ニル)−N−メチル−γ−アミノブチレート); チオ
カルボネート誘導体 (S−2,2,2−トリクロロエ
トキシカルボニル、S−t−ブトキシカルボニル、S−
ベンジルオキシカルボニル、S−p−メトキシベンジル
オキシカルボニル); チオカルバメート誘導体 (S
−(N−エチル)、S−(N−メトキシメチル);種々
多様な誘導体、非対称ジスルフィド (S−エチル、S
−t−ブチル、置換 S−フェニル); スルフェニル
誘導体 (S−スルホネート、S−スルフェニルチオカ
ルボネート、S−3−ニトロ−2−ピリジンスルフェニ
ルスルフィド); ジチオール、ジチオアセタールおよ
びケタールの保護体として (S,S’−メチレン、
S,S’−イソプロピリデン、およびS,S’−ベンジ
リデン、S,S’−p−メトキシベンジリデン); ス
ルフィドの保護体として (S−メチルスルホニウム
塩、S−ベンジル−およびS−4−メトキシベンジルス
ルホニウム塩、S−1−(4−フタルイミドブチル)ス
ルホニウム塩); S−P誘導体 (S−(ジメチルホ
スフィノ)チオイル、S−(ジフェニルホスフィノ)チ
オイル)を包含する;各R21は独立にR20、Br、C
l、F、I、CN、NO2 またはN3である。典型的に
は、R21はCl、FまたはR20である。より典型的に
は、R20であり、いっそう典型的には、Hである。 【0161】各R22は独立にF、Cl、Br、I、−C
N、N3、−NO2、−OR5、−OR20、−N
(R202、−N(R20)(R7)、−N(R72、−S
20、−SR 9、−S(O)R20、−S(O)220、−
S(O)OR20、−S(O)OR8、−S(O)2
20、−S(O)2OR8、−C(O)OR20、−C
(O)OR8、−OC(O)R20、−N(R20)(C
(O)R20)、−N(R7)(C(O)R2 0)、−N
(R20)(C(O)OR20)、−N(R7)(C(O)
OR20)、−C(O)N(R202、−C(O)N
(R7)(R20)、−C(O)N(R72、−C(NR
20)(N(R202)、−C(N(R7))(N(R20
2)、−C(N(R20))(N(R20)(R7))、−C
(N(R7))(N(R20)(R7))、−C(N
(R20))(N(R72)、−C(N(R7))(N
(R72)、−N(R20)C(N(R20))(N
(R202)、−N(R20)C(N(R20))(N(R
20)(R7))、−N(R20)C(N(R7))(N(R
202)、−N(R7)C(N(R20))(N
(R202)、−N(R7)C(N(R7))(N
(R202)、−N(R7)C(N(R20))(N
(R20)(R7))、−N(R20)C(N(R7))(N
(R20)(R7))、−N(R20)C(N(R20))
(N(R72)、−N(R7)C(N(R7))(N(R
20)(R7))、−N(R7)C(N(R20))(N(R
72)、−N(R20)C(N(R7))(N
(R72)、−N(R7)C(N(R7))(N
(R72)、=O、=S、=N(R20)、=N(R7
またはWである。 【0162】典型的には、R22 はF、C1、Br、
I、−CN、N3、−NO2、−OR5、−OR20、−N
(R202、−N(R20)(R7)、−N(R72、−S
20、−SR9、−S(O)R20、−S(O)220、−
S(O)OR20、−S(O)OR8、−S(O)2
20、−S(O)2OR8、−C(O)OR20、−C
(O)OR8、=O、=S、=N(R20) または=N
(R7)である。より典型的には、R22 はF、Cl、
Br、−CN、N3、−NO2、−OR5、−OR20、−
N(R202、−N(R20)(R7)、−N(R72、−
C(O)OR20、−C(O)OR8、または=Oであ
る。よりいっそう典型的には、R22 はF、C1、B
r、−CN、N3、−NO2、−OR20、−N
(R202、−C(O)OR20または=Oである。さら
により典型的には、R22 はF、C1、Br、−CN、
−OH、−N(H)2、−C(O)OR20または=Oで
ある。 【0163】各R23は独立して、炭素原子1個から11
個のアルキル、炭素原子2個から11個のアルケニル、
または炭素原子2個から11個のアルキニルである。よ
り典型的にはR23は炭素原子1個から8個のアルキル、
炭素原子2個から8個のアルケニル、または炭素原子2
個から8個のアルキニルであり、さらに典型的にはR 23
は炭素原子1個から6個のアルキル、炭素原子2個から
6個のアルケニル、または炭素原子2個から6個のアル
キニルである。さらになお典型的には、R23はR25であ
る。 【0164】各R24は独立してR23であり、ここで各R
23は、0個から3個のR22基で置換される。R23および
22の典型的な実施態様の各々は、R24にも典型的であ
る。より典型的には、R24は0個、1個、2個、または
3個のR22基で置換される。 【0165】R24aは独立して炭素原子1個から11個
のアルキレン、炭素原子2個から11個のアルケニレ
ン、または炭素原子2個から11個のアルキニレンであ
り、これらのアルキレン、アルケニレンまたはアルキニ
レンのいずれもが0個から3個のR22基で置換される。
より典型的にはR24aは、炭素原子1個から8個のアル
キレン、炭素原子2個から8個のアルケニレン、または
炭素原子2個から8個のアルキニレンであり、さらに典
型的には、R24aは炭素原子1個から6個のアルキレ
ン、炭素原子2個から6個のアルケニレン、または炭素
原子2個から6個のアルキニレンである。さらになお典
型的には、R24aは−CH2−、−CH2CH2−、−CH
2CH2CH2−または−C(H)(CH3)−である。 【0166】各R28は独立して、炭素原子1個から12
個のアルキル、炭素原子2個から12個のアルケニル、
または炭素原子2個から12個のアルキニルである。よ
り典型的にはR28は炭素原子1個から8個のアルキル、
炭素原子2個から8個のアルケニル、または炭素原子2
個から8個のアルキニルであり、さらに典型的にはR 28
は炭素原子1個から6個のアルキル、炭素原子2個から
6個のアルケニル、または炭素原子2個から6個のアル
キニルである。さらになお典型的には、R28はR25であ
る。 【0167】各R29は独立してR22またはR28であり、
ここで各R28は、0個から3個のR 22基で置換される。
28およびR22の典型的な実施態様の各々は、R29にも
典型的である。より典型的には、R29は0個、1個、2
個、または3個のR22基で置換される。 【0168】各R30は独立して、H、R24、Wまたは−
24aWである。 【0169】R4は−C(R303であり、ただしR4
全体として、0個から3個のR29(R29は上記)で置換
された0個から1個のW基(W基は上記)を含み、それ
に加えて0個から3個のR22基(R22は上記)で置換さ
れた1個から12個の炭素原子を含む。R4の実施態様
の例は、上記「関連技術の簡単な説明」で引用した文献
の中にU1実施態様として提供されている。 【0170】典型的には1つのR30はHである。より典
型的には、1つのR30はHであり、そして残りの2つの
30は独立してR24、Wまたは−R24aWである。さら
になお典型的には、1つのR30はHであり、1つのR30
はR24であり、そして残りのR30は独立してR24、Wま
たは−R24aWである。 【0171】R4の1つの実施態様において、1つのR
30はHであり、1つのR30はR25であり、そして1つの
30はR24、Wまたは−R24aWである。典型的には、
1つのR30はHであり、そして2つのR30はR25であ
る。R4の他の実施態様において、1つのR30はHであ
り、1つのR30は−R24aWであり、そして1つのR30
はR24、Wまたは−R24aWである。典型的には、1つ
のR30はHであり、1つのR30は−R24aWであり、そ
して1つのR30はR24である。他の実施態様において、
1つのR30はHであり、そして2つのR30は炭素原子1
個から6個のアルキルである。 【0172】他の実施態様において、R4は: 【0173】 【化43】 【0174】であり、ここでR26は、H、−CH3、−
CH2CH3、−CH2CH2CH3、−OCH3、−OAc
(−O−C(O)CH3)、−OH、−NH2、または−
SHであり、典型的にはH、−CH3、または−CH2
3である。 【0175】典型的には、各R4は(全体として)0個
から3個のW基を含み、この各々は独立して0個から3
個のR29基で置換される;そして各R4は(全体とし
て)それに加えて1個から12個の炭素原子を含み、こ
の各々の炭素原子は独立して0個から3個のR22基で置
換される。より典型的には、各R4は0個、1個または
2個のこのようなW基を含み、さらになお典型的には0
個または1個のこのようなW基を含む。 【0176】他の実施態様において、R4の各R30基は
(全体として)、化合物11の形成を妨げるほど電子吸
引性ではない。Lowry, T.H.およびRich
ardson, K.S.「Mechanism an
d Theory in Organic Chemi
stry」(Harper & Row, 197
6)、第2.2節、第60頁〜第71頁、およびMar
ch, J.「Advanced Organic C
hemistry」(McGraw−Hill,197
7)、第9章、「反応性に対する構造の影響の定量的処
理」、第251頁〜第259頁は、置換基の電子吸引性
についての詳細が述べられている。他の実施態様におい
て、R4の各R30基は(全体として)、ハメットのσ
パラ値が約1未満であり、典型的には約0.75未満で
あり、より典型的には約0.5未満である。他の実施態
様において、R4の各R30基は(全体として)、ハメッ
トのσ パラ値が−1.0から1.0であり、より典型的
には−0.75から0.75であり、さらになお典型的
には−0.5から0.5である。 【0177】このプロセスの実施態様は、式: 【0178】 【化44】 【0179】の化合物(ここでR31はケタールまたはア
セタールである)とルイス酸試薬との反応を包含する。
典型的には、R31はC(R302−であり、ここでR30
は上記の通りである。 【0180】典型的には、化合物10を当該分野で一般
的なルイス酸触媒、例えば、BF3・ Et2O、TiC
3、TMSOTf、SmI2(THF)2、LiCl
4、Mg(ClO42、Ln(OTf)3 (ここでL
n=Yb、Gd、Nd)、Ti(Oi−Pr)4、Al
Cl3、AlBr3、BeCl2、CdCl2、ZnC
2、BF3、BCl3、BBr3、GaCl3、GaB
3、TiCl4、TiBr4、ZrCl4、SnC14
SnBr4、SbCl5、SbCl3、BiCl3、FeC
3、UCl4、ScCl3、YCl3、LaCl3、Ce
Cl3、PrCl3、NdCl3、SmCl3、EuC
3、GdCl3、TbCl3、LuCl3、DyCl3
HoCl3、ErCl3、TmCl3、YbCl3、ZnI
2、A1(OPri3、Al(acac)3、ZnB
2、またはSnCl4と反応させる。 【0181】任意に、化合物10はまた還元試薬で処理
される。典型的な還元試薬は、B(R303の形態のも
の、例えばBH3である。任意に、B(R303の形態の
還元試薬は、ジエチルエーテルおよびジメチルスルフィ
ドのような一般的な溶媒と錯体を形成する。広範囲のボ
ラン還元試薬が公知であり、ここでは詳述しない。例え
ば、Brown, H.C.「Boranes in
Organic Chemistry」、(Corne
ll Univ. Press, Ithaca,
N.Y., 1972)(Brown)は、非常に多く
の例を提供しており、そのような例は、第4部、選択的
還元、第209頁から第251頁、第5部、ハイドロボ
レーション、第255頁〜第297頁、および第6部、
有機ボラン、第301頁〜第446頁に見いだされる。 【0182】典型的な実施態様において、化合物10は
非プロトン性溶媒中でルイス酸で処理される。より典型
的には、化合物10は、非プロトン性溶媒中でルイス酸
および還元試薬で処理される。 【0183】典型的な実施態様において、ジクロロメタ
ン中の10の溶液を冷却し、そしてボラン−メチルスル
フィド錯体およびトリメチルシリルトリフルオロメタン
スルホネートで処理する。10%重炭酸ナトリウム水溶
液をゆっくりと加える。この混合物を周囲温度まで加温
し、そして攪拌する。有機層を濾過し、そして減圧下濃
縮して化合物11を残す。この実施態様の詳細な例は、
下記実施例6として提供される。 【0184】この実施態様の他の例示プロセスにおい
て、化合物11は式: 【0185】 【化45】 【0186】の化合物である。 【0187】本発明の他の局面は、式: 【0188】 【化46】 【0189】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで:R2、R4、R7、R20およびR21は上で定
義された通りである。 【0190】このプロセスの実施態様は、式: 【0191】 【化47】 【0192】の化合物と還元試薬との反応を包含する。 【0193】化合物30のアジドを還元して、化合物3
1を形成する。 【0194】典型的には、このプロセスは化合物30を
還元剤で処理して、化合物31を形成する工程を包含す
る。より典型的には、このプロセスは、化合物30を水
素ガスおよび触媒(例えば、白金担持炭素またはリンド
ラー触媒)、または還元試薬(典型的には、トリアルキ
ル(P(R253のような三置換ホスフィン)またはト
リアリールホスフィン(PW3、例えばトリフェニルホ
スフィン)で処理する工程を包含する。さらになお典型
的には、このプロセスは化合物30をトリフェニルホス
フィンおよび塩基で処理して、化合物31を形成する工
程を包含する。 【0195】典型的には、化合物30を無水アセトニト
リルのような適切な極性の非プロトン性溶媒に溶解す
る。無水テトラヒドロフランのような適切な溶媒または
溶媒混合物中の無水トリフェニルホスフィン溶液を一滴
ずつ加える。混合物を加熱還流し、次に減圧下濃縮し
て、化合物5を残す。この実施態様の詳細な例を下記実
施例9として提供する。 【0196】このプロセスの他の実施態様において、化
合物31は式: 【0197】 【化48】 【0198】の化合物である。 【0199】本発明の他の局面は、式: 【0200】 【化49】 【0201】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで:R2、R4、R5、R20およびR21は上で定
義したとおりである。 【0202】Y1はモノ−、ジ−または非置換のアミノ
基である。典型的には、Y1は式−N(R302、フタル
イミドまたは窒素含有複素環(上記でWとして定義し
た)であり、より典型的には、Y1はフタルイミドであ
り、さらになお典型的には、フタルイミド塩である。 【0203】このプロセスの実施態様は、式: 【0204】 【化50】 【0205】の化合物とアミン試薬との反応を包含す
る。典型的には、アミン試薬は式HY1のアミンまたは
HY1の塩、例えば、例示として、NH3(McMann
sら、「Bull Soc. Chim. Franc
e」850(1974))、HY 1全般(Mousse
von, M.ら、「Synth. Commun.」
3:177(1973))またはフタルイミド(Gab
rielら、「Ber.」20:2224(1887)
またはGibsonら、「Angew, Chem.
Int.」、7:919−930(1968))であ
る。 【0206】このプロセスは、化合物40をアミン試薬
で処理して、化合物32を生成する工程を包含する。よ
り典型的には、化合物40を適切な極性の非プロトン性
溶媒(例えば、CH3CN、DMFまたはTHF)中の
アミン試薬で処理する。任意に、化合物40はアミン試
薬および塩基で処理される。このプロセスの実施態様の
典型的な詳細は、March、「Advanced O
rganic Chemistry」第4版、第425
頁〜第427頁に見いだされ得る。 【0207】このプロセスの他の実施態様において、化
合物41は式: 【0208】 【化51】【0209】の化合物である。 【0210】本発明の他の局面は、式: 【0211】 【化52】 【0212】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで:R2、R4、R20、R21およびY1は上で定
義したとおりである。 【0213】このプロセスの実施態様は、式: 【0214】 【化53】 【0215】の化合物と酸化試薬との反応を包含する。
広範囲の適切な酸化試薬が当該分野で公知であり、ここ
では詳述しない。例えば、House, H.O.「M
odern Synthetic Reaction
s、第2版」、第5章、第259頁〜第273頁はアル
コールの選択的酸化を記載する。典型的な試薬は、Cr
3、Na2Cr27、KMnO4、PDCおよびPCC
を包含する。このプロセスの実施態様の典型的な詳細
は、Larock, 「ComprehensiveO
rganic Transformations」、第
604頁〜第614頁;Coreyら、「Tetrah
edron Lett.」31:2647−50(19
75);Leyら、「Chem. Common」16
25(1987); Sweonら、「J. Org.
Chem.」43:2480−2(1978);およ
びMartinら、「J. Org. Chem.」4
8:4155−56(1983)に見いだされ得る。溶
媒は典型的には不活性な極性溶媒(例えばCH2Cl2
トルエンまたはCH3CN)を包含する。 【0216】本発明のプロセスの他の実施態様におい
て、化合物51は式: 【0217】 【化54】 【0218】の化合物である。 【0219】本発明の他の局面は、式: 【0220】 【化55】 【0221】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここでR2、R4、R20、R21およびY1は上で定義
したとおりである。 【0222】このプロセスの実施態様は、式: 【0223】 【化56】 【0224】の化合物と塩基との反応を包含する。典型
的には、塩基はヒンダードアミンまたはヒンダードアル
コキシドあるいはそのいずれかの塩である。より典型的
には、塩基は式NaOR25、KOR25またはNR25 3
あり、さらになお典型的には、DBN、DBUまたはジ
イソプロピルエチルアミンである。 【0225】このプロセスの他の実施態様において、化
合物61は式: 【0226】 【化57】 【0227】の化合物である。 【0228】本発明の他の局面は、式: 【0229】 【化58】【0230】の化合物の調製のためのプロセスに関す
る。ここで:R2、R4、R7、R20、R21およびY1は上
で定義したとおりである。 【0231】このプロセスの実施態様は、式: 【0232】 【化59】 【0233】の化合物と還元的アミノ化試薬との反応を
包含する。このプロセスの実施態様の典型的な詳細なら
びに参照は、Larock(前掲)の第421頁〜第4
25頁に見いだされ得る。他の典型的な説明(NaCN
BH3法)はBorch、「J. Am. Che
m. Soc.」93:2897−2904(197
1)である。 【0234】スキーム1および2は、本発明の実施態様
を示す。スキーム1および2のプロセスの詳細な説明
は、実施例(後述)で提供される。 【0235】本発明のさらなる個別のプロセスの実施態
様は、スキーム1および2のプロセスAA、AB、A
C、AD、AE、AF、AG、AH、AI、AJ、また
はAKのうちのいずれか1つまたはそれらの系列的な組
み合わせを包含する。「系列的な組み合わせ」とは、本
明細書において、1つより多いプロセスであって、個別
のプロセスが指示された順序で順次行われるプロセスを
意味する。単離、分離、精製は、いずれの個別のプロセ
スの前でも、任意に行われる。 【0236】本発明のさらなる個別のプロセスの実施態
様は、実施例1、実施例2、実施例3、実施例4、実施
例5、実施例6、実施例7、実施例8、実施例9、実施
例10、実施例11、実施例12または実施例13のい
ずれか1つまたはそれらの系列的な組み合わせを包含す
る。 【0237】(スキーム1) 【0238】 【化60】【0239】(スキーム2) 【0240】 【化61】 【0241】スキーム3は、代替の窒素求核試薬(Ma
rch,「Advanced Organic Che
mistry,」第4版、第425頁〜第427頁)を
用いてエポキシド201を開環することによる、ノイラ
ミニダーゼインヒビター206(R=H2)の合成を示
す。アジドアルコール202の酸化によりケトン203
が得られ(Larock, 「Comprehensi
ve OrganicTransformation
s」、第604頁〜第614頁)、ここでβアキシャル
NR基は異性体化されてαエクアトリアル立体配置20
4となる。ケトン204の還元的アミノ化(Laroc
k(前掲)、第421頁〜第425頁)により、βエク
アトリアルアミン205が得られ、これをアセチル化し
て206を得る。R部分の開裂(Greene、「Pr
otective Groupsin Organic
Synthesis」、第218頁〜第287頁)に
よりノイラミダーゼインヒビター206(R=H2)が
得られる。 【0242】本発明のさらなる個別のプロセスの実施態
様は、スキーム3のプロセスAL、AM、AN、AO、
またはAPのうちのいずれか1つまたはそれらの系列的
な組み合わせを包含する。 【0243】(スキーム3) 【0244】 【化62】 【0245】上記スキームの各々の改変により、上で生
成される特定の例示物質の種々のアナログが導かれる。
適切な有機合成方法を記載する上記引用参照文献は、こ
のような改変に適用可能である。 【0246】上記例示スキームの各々において、反応生
成物を互いに分離すること、および/または出発物質か
ら分離することが有利であり得る。各工程または一連の
工程の所望の生成物を、当該分野で一般的な技術で所望
の均一度まで分離および/または精製して(以下、分
離)する。典型的には、このような分離は、多相抽出、
溶媒または溶媒混合物からの結晶化、蒸留、昇華、また
はクロマトグラフィーを伴う。クロマトグラフィーは、
任意の数の方法を伴い得る。例えば、サイズ排除または
イオン交換クロマトグラフィー、高圧、中圧、または低
圧液体クロマトグラフィー、小規模および分取の薄層ま
たは厚層クロマトグラフィー、ならびに小規模な薄層お
よびフラッシュクロマトグラフィーの技術が包含され
る。 【0247】分離方法の他のクラスは、所望の生成物、
未反応の出発物質、反応副生成物などに結合するように
選択された試薬、あるいは他の方法で分離し得る試薬で
混合物を処理することを伴う。このような試薬は、吸着
剤または吸収剤、例えば、活性炭、モレキュラーシー
ブ、イオン交換媒体など包含する。あるいは、この試薬
は、塩基性物質の場合には酸であり得、酸性物質の場合
は塩基であり得、抗体、結合タンパク質のような結合試
薬、クラウンエーテルのような選択的錯形成剤、液/液
イオン抽出試薬(LIX)などであり得る。 【0248】適切な分離方法の選択は、関与する物質の
性質に依存する。例えば、蒸留および昇華の場合、沸点
および分子量、クロマトグラフィーの場合、極性官能基
の存在または非存在、多相抽出の場合、酸性媒体および
塩基性媒体中での物質の安定性などである。当業者は所
望の分離が達成される可能性が最も高い技術を適用す
る。 【0249】(立体異性体)本発明の化合物は、いずれ
かのまたはすべての不斉原子で濃縮(enrich)ま
たは分割された光学異性体である。例えば、記述から明
らかなキラル中心が、キラル異性体またはラセミ混合物
として提供される。ラセミ混合物およびジアステレオマ
ー混合物の両方、ならびに単離または合成された個別の
光学異性体(そのエナンチオマーまたはジアステレオマ
ー対応物を実質的に含まないもの)がすべて、本発明の
範囲内である。 【0250】下記の多くの方法の1つ以上を用いて、エ
ナンチオマー的に濃縮された異性体または純粋な異性体
が、ここで調製される。これらの方法は、ほぼその優先
度の順に列記される。すなわち、キラル前駆体からの立
体特異的合成は、クロマトグラフィーによる分割の前に
行うべきであり、クロマトグラフィーによる分割は自発
的結晶化の前に行われるべきである。 【0251】立体特異的合成は実施例中で記載される。
このタイプの方法は、適切なキラル出発物質が入手可能
な場合に都合良く行われ、そして反応工程は、キラル部
位での所望されないラセミ化が生じないように選択され
る。立体特異的合成の1つの利点は、所望されないエナ
ンチオマーを生成しないことである。所望されないエナ
ンチオマーは最終生成物から除去しなければならないた
め、全体としての合成収率を低下させる。通常、当業者
は、立体特異的合成によって所望のエナンチオマー的に
濃縮された異性体あるいは純粋な異性体を得るために、
どのような出発物質および反応条件を使用すべきか理解
する。立体特異的であると考えられる方法において予期
せぬラセミ化が起こった場合にのみ、所望の生成物を得
るために次の分離方法のうちの1つを使用する必要があ
る。 【0252】適切な立体特異的合成が、ルーチンの実験
で経験的に設計されないかあるいは決定され得ない場
合、当業者は他の方法に変えるべきである。全般的に有
用な1つの方法は、キラルクロマトグラフィー樹脂によ
るエナンチオマーのクロマトグラフィー分割である。こ
れらの樹脂はカラム(一般にPirkleカラムと呼ば
れる)に充填され、そして市販されている。カラムはキ
ラル固定相を含む。ラセミ化合物を溶液中に入れ、そし
てカラムにロードし、その後HPLCで分離する。例え
ば、Proceedings Chromatogra
phic Society−キラル分離に関する国際シ
ンポジウム(1987年9月3日〜4日)を参照のこ
と。最適な分離技術に関してスクリーニングのために使
用され得るキラルカラムの例は、Diacel Chr
iacel OD、Regis Pirkle Cov
alent Dphenylglycine、Regi
s Pirkle Type 1A、Astec Cy
clobond II、Astec Cyclobon
d III、Serva Chiral D−DL=D
altosil 100、Bakerbond DNB
Leu、SumipaxOA−1000、Merck
Cellulose Triacetatecolum
n、Astec Cyclobond I−Beta、
またはRegis Pirkle Covalent
D−Naphthylalanineを包含する。これ
らのカラムのすべてがすべてのラセミ混合物に有効な可
能性があるわけではない。しかし、当業者は、最も有効
な固定相を同定するためにある程度の量のルーチンのス
クリーニングが必要とされ得ることを理解する。このよ
うなカラムを用いる場合、電荷が中和されていない(例
えば、カルボキシルのような酸性官能基がエステル化ま
たはアミド化されていない)本発明の化合物の実施態様
を使用することが望ましい。 【0253】他の方法は、混合物中のエナンチオマーを
キラル助剤を用いてジアステレオマーに転化し、次に普
通のカラムクロマトグラフィーでこの結合体を分離する
ことを伴う。これは、特に実施態様が、キラル助剤と塩
を形成するか、あるいは共有結合する遊離のカルボキシ
ル、アミノまたはヒドロキシルを含む場合に、非常に適
した方法である。キラル的に純粋なアミノ酸、有機酸ま
たは有機スルホン酸はすべてキラル助剤として検討する
に値し、これらはすべて当該分野で周知である。このよ
うな助剤との塩が形成され得、あるいはこのような助剤
は官能基と共有結合(しかし可逆的に)し得る。例え
ば、純粋なDまたはLアミノ酸を用いて本発明の実施態
様のカルボキシル基をアミド化することができ、そして
次にクロマトグラフィーで分離する。 【0254】酵素的分割は、潜在的価値のある別の方法
である。このような方法において、ラセミ混合物中のエ
ナンチオマーの共有結合誘導体(通常低級アルキルエス
テル(例えばカルボキシルエステル))を調製し、次に
この誘導体を酵素によって開裂(通常、加水分解)させ
る。この方法を成功させるためには、立体特異的開裂を
可能とする酵素を選択しなければならず、そのため、こ
れにはしばしばいくつもの酵素をルーチンにスクリーニ
ングする必要がある。エステルを開裂させる場合、エス
テラーゼ、ホスファターゼ、およびリパーゼのグループ
を選択し、そして誘導体に対するそれらの活性を決定す
る。典型的なエステラーゼは肝臓、膵臓または他の動物
の器官から得られ、ブタ肝臓エステラーゼを包含する。 【0255】エナンチオマー混合物が溶液または溶融物
から塊として、すなわちエナンチオマー的に純粋な結晶
の混合物として分離される場合、結晶は機械的に分離さ
れ得、それによりエナンチオマー的に濃縮された調製物
が生成される。しかしこの方法は、大規模な調製のため
には実用的ではなく、そして真のラセミ化合物に対して
は無価値である。 【0256】不斉合成が、エナンチオマー的濃縮を達成
するための別の技術である。例えば、キラル保護基を保
護すべき基と反応させ、そしてこの反応混合物を平衡化
させる。この反応がエナンチオマー的に特異的である場
合、生成物はそのエナンチオマーにおいて濃縮される。 【0257】エナンチオマー混合物の分離におけるさら
なるガイダンスは、例示であり限定ではないが、「En
antiomers, Racemates, and
resolutions」、Jean Jacque
s, Andre Collet, および Samu
el H. Wilen (Krieger Publ
ishing Company, Malabar,
FL, 1991,ISBN 0−89464−618
−4)に見いだされ得る。詳細には、第2部、「エナン
チオマー混合物の分割」、第217頁〜第435頁;よ
り詳細には、第4節、「直接結晶化による分割」、第2
17頁〜第251頁、第5節、「ジアステレオマーの形
成および分離」、第251頁〜第369頁、第6節、
「結晶化誘導不斉変換」、第369頁〜第378頁、お
よび第7節、「分割の実験的局面および技術」、第37
8頁〜第435頁;さらに詳細には、第5.1.4節、
「アルコールの分割、アルコールから塩形成誘導体への
変換」、第263頁〜第266頁、第5.2.3節、
「アルコール、チオール、およびフェノールの共有結合
誘導体」、第332頁〜第335頁、第5.1.1節、
「酸の分割」、第257頁〜第259頁、第5.1.2
節、「塩基の分割」、第259頁〜第260頁、第5.
1.3節、「アミノ酸の分割」、第261頁〜第263
頁、第5.2.1節、「酸の共有結合誘導体」、第32
9頁、第5.2.2節、「アミンの共有結合誘導体」、
第330頁〜第331頁、第5.2.4節、「アルデヒ
ド、ケトン、およびスルホキシドの共有結合誘導体」、
第335頁〜第339頁、および第5.2.7節、「共
有結合ジアステレオマーのクロマトグラフィー挙動」、
第348頁〜第354頁が当業者の例として引用され
る。 【0258】(塩および水和物)本発明の組成物は、任
意に本明細書中の化合物の塩、例えば、Na+、Li+
+、Ca++およびMg++を含む。このような塩は、ア
ルカリおよびアルカリ土類金属イオンまたはアンモニウ
ムおよび第四級アミノイオンのような適切なカチオンと
酸アニオン部分との組み合わせによって誘導される塩を
含み得る。水溶性塩が所望される場合、一価の塩が好ま
しい。 【0259】金属塩は典型的には金属水酸化物と本発明
の化合物とを反応させることによって調製される。この
方法で調製される金属塩の例は、Li+、Na+、および
+を含む塩である。溶解性の低い金属塩は、適切な金
属化合物を添加することによって、より溶解性の高い塩
の溶液から沈殿し得る。 【0260】さらに、塩は、特定の有機酸および無機
酸、例えばHCl、HBr、H2SO4、H3PO4または
有機スルホン酸の、塩基性中心、典型的にはアミンへの
酸付加によって形成され得る。最後に、本明細書の組成
物は、本発明の化合物の非イオン化形態、ならびに双性
イオン形態を含み、そして化学量論量の水と水和物とし
て組み合わされたものを含むことが理解される。 【0261】また本発明の範囲内に含まれるのは、親化
合物と1つ以上のアミノ酸との塩である。上記のアミノ
酸のいずれもが適しており、特にタンパク質の成分とし
て見いだされる天然アミノ酸が適しているが、このアミ
ノ酸は典型的には、塩基性または酸性基を有する側鎖を
持っているアミノ酸、例えば、リジン、アルギニンまた
はグルタミン酸、あるいは中性の基を有する側鎖を持っ
ているアミノ酸、例えば、グリシン、セリン、トレオニ
ン、アラニン、イソロイシン、またはロイシンである。 【0262】(発明の化合物のさらなる使用)本発明の
化合物は多官能性である。それ自体として、本発明の化
合物はポリマーの合成のための独特のクラスのモノマー
を代表する。例示であり限定ではないが、本発明の化合
物から調製されるポリマーは、ポリアミド、ポリエステ
ルおよび混合ポリエステル−ポリアミドを包含する。 【0263】本発明の化合物は、独特のペンダント官能
基を有するポリマーを入手する手段を提供するモノマー
として使用される。本発明の化合物は、本発明の範囲内
に入らないモノマーと組み合わされるコモノマーとして
有用である。本発明の化合物のポリマーはモレキュラー
シーブ(ポリアミド)、織物、繊維、フィルム、成形物
品などの調製におけるカチオン交換剤(ポリエステルま
たはポリアミド)としての有用性を有する。ポリマーは
任意の従来方法によって調製される。例えば、本発明の
化合物の−OHまたは−NH2基を二酸コモノマーで架
橋することによって調製される。本発明の化合物からの
これらのポリマーの調製は、それ自体従来的である。 【0264】本発明の化合物はまた多官能性界面活性剤
の独特のクラスとしてもまた有用である。特にR4また
はR2が親水性置換基を含まず、そして例えばアルキル
である場合、その化合物は二官能性界面活性剤の性質を
有する。それ自体として、この化合物は、界面活性、表
面コーティング、乳化改変、レオロジー改変、および表
面湿潤の特性を有する。 【0265】定義された形を有し、かつ極性部分と非極
性部分を同時に有する多官能性化合物として、本発明の
化合物は相転移剤の独特のクラスとして有用である。例
示であり限定ではないが、本発明の化合物は相転移触媒
作用および液/液イオン抽出(LIX)において有用で
ある。 【0266】本発明の化合物は任意に不斉炭素原子を含
む。それ自体として、他の光学活性物質の合成または分
割において使用するためのキラル助剤の独特のクラスと
である。例えば、カルボン酸のラセミ混合物は、1)−
OHまたは−NH2基を含む本発明の化合物と共に、ジ
アステレオマー性のエステルまたはアミドの混合物を形
成し;2)このジアステレオマーを分離し;そして3)
エステル構造を加水分解することによって、その成分の
エナンチオマーに分割され得る。さらに、このような方
法は、ラセミ出発物質の代わりに光学活性な酸を使用す
るならば、本発明の化合物それ自体を分割するために使
用され得る。 【0267】本発明の化合物は、親和性吸収マトリク
ス、プロセス制御のための固定化酵素、またはイムノア
ッセイ試薬を調製する際のリンカーまたはスペーサーと
して有用である。本明細書の化合物は、複数の官能基を
含み、これは所望の物質との架橋のための部位として適
している。例えば、ホルモン、ペプチド、抗体、薬剤な
どの親和性試薬を不溶性基質に連結させることは従来的
である。これらの不溶化試薬は、製造調製物、診断試
料、および他の不純な混合物から親和性試薬に対する結
合パートナーを吸収するための公知のやり方で使用され
る。同様に、固定化酵素は、酵素が容易に回収される触
媒的転化を行うために使用される。二官能性化合物は一
般に、診断試薬の調製において分析物を検出可能な基に
連結するために使用される。 【0268】本発明の化合物の多くの官能基は架橋にお
ける使用に適している。例えば、−OHおよび−NH2
基である。架橋試薬を構築する間、必要な場合には反応
性基を適切に保護して、本発明の二官能性化合物の重合
を防ぐ。通常、この化合物は、ヒドロキシルまたはアミ
ノ基を介してそれらを第1の連結パートナーのカルボン
酸またはホスホン酸基と連結させ、次に他の−OHまた
は−NH2基を介して他の結合パートナーに共有結合さ
せることによって使用される。例えば、ステロイドホル
モンのような第1の結合パートナーを反応させて、本発
明の化合物の−NH2基とアミド結合を形成し、そして
次にこの結合体を、ヒドロキシルを介して臭化シアン活
性化Sepaharoseに架橋し、このようにして固
定化ステロイドが得られる。結合のための他の化学が周
知である。例えば、Maggio、「Enzyme−I
mmunoassay」(CRC、1988、第71頁
〜第135頁)およびその中で引用されている参考文献
を参照のこと。 【0269】以下の実施例は、当業者に本発明の化合物
および組成物の作製方法の完全な開示および説明を提供
するために提示され、本発明者らがその発明であると見
なす範囲を限定することを意図するものではない。使用
される数値(例えば、量、温度など)に関して正確を期
すべく努力したが、いくぶんかの実験誤差および偏差は
考慮されるべきである。他に指示のない限り、部は重量
部であり、温度は摂氏温度であり、そして圧力は大気圧
付近である。 【0270】 【実施例】(実施例1) ラクトン100: キニン酸(20kg、104mo
l;[α]D−43.7°(c=1.12、水);「M
erck Index第11版」、8071:[α]D
−42゜から−44°(水))、2,2−ジメトキシプ
ロパン(38.0kg、365mol)およびp−トル
エンスルホン酸一水和物(0.200kg、1.05m
ol)のアセトン(80kg)中の溶液を2時間加熱還
流した。エタノール中の21%ナトリウムエトキシド
(0.340kg、1.05mol)を加えて反応をク
エンチし、そして溶媒の大部分を減圧蒸留した。残渣を
酢酸エチル(108kg)と水(30kg)との間で分
配した。水層を酢酸エチル(13kg)で逆抽出し、そ
して合わせた有機層を5%重炭酸ナトリウム水溶液(1
4kg)で洗浄した。酢酸エチルの大部分を減圧蒸留す
ると、淡黄色の固体残渣100が残り、これを次の工程
に直接使用した。 【0271】(実施例2) ヒドロキシエステル101: 粗ラクトン100(10
4molの(−)キニン酸から)の無水エタノール(7
0kg)中の溶液をエタノール中の20%ナトリウムエ
トキシド(0.340kg、1.05mol)で処理し
た。室温で2時間後、酢酸(0.072kg、1.2m
ol)を加え、そして溶媒を減圧蒸留した。酢酸エチル
(36kg)を加え、そしてほぼ乾固するまで蒸留を続
けた。黄褐色の固体残渣は101:100の約5:1の
混合物から構成され、これを酢酸エチル(9kg)に還
流下溶解し、そしてヘキサン(9kg)を加えた。冷却
すると、白色結晶性固体が形成され、これを濾過により
単離して、101:100の約6.5:1の混合物を得
た(19.0kg、収率70%)。 【0272】(実施例3) メシルエステル102: ジクロロメタン(77kg)
中のヒドロキシエステル101とラクトン100との約
6.5:1混合物(18.7kg、約72mol)の溶
液を0−10℃に冷却し、そして塩化メタンスルホニル
(8.23kg、71.8mol)で処理し、次にトリ
エチルアミン(10.1kg、100mol)をゆっく
りと加えた。塩化メタンスルホニルの追加部分(0.8
4kg、7.3mol)を加えた。1時間後、水(10
kg)および3%塩酸(11kg)を加えた。層分離
し、そして有機層を水(9kg)で洗浄し、次に減圧蒸
留すると、メシルエステル102とメシルラクトン10
3との約6.5:1混合物から構成される半固体残渣が
残った。残渣を酢酸エチル(11kg)に溶解し、そし
て−10℃から−20℃に2時間かけて冷却した。メシ
ルラクトン103が結晶化し、これを濾過により分離
し、そして冷酢酸エチル(11kg)で洗浄した。濾液
を濃縮して、メシルエステル102をオレンジ色の樹脂
(20.5kg、収率84.3%)として得た。 【0273】(実施例4) メシルアセトニド104: メシルエステル102(1
0.3kg、30.4mol)およびピリジン(10.
4kg、183mol)のジクロロメタン(63kg)
中の溶液を−20℃から−30℃に冷却し、そして塩化
スルフリル(6.22kg、46mol)で一滴ずつ処
理した。発熱反応が鎮静した後、得られたスラリーをエ
タノール(2.4kg)でクエンチし、0℃に加温し、
そして16%硫酸(35kg)、水(15kg)および
5%重炭酸ナトリウム水溶液(1kg)で順次洗浄し
た。有機層は104:105:106の約4:1:1:
混合物を含み、これを減圧濃縮し、そして酢酸エチル
(14kg)を加えた。アリル性メシレート105を、
ピロリジン(2.27kg、31.9mol)およびテ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)
(0.0704kg、0.061mol)の酢酸エチル
溶液で周囲温度で5時間処理し、次に16%硫酸(48
kg)で洗浄することによって選択的に除去した。有機
層をシリカゲルのパッド(11kg)を通して濾過し、
そして酢酸エチル(42kg)で溶出した。濾液を減圧
濃縮すると、104:106の約4:1混合物から構成
される濃厚なオレンジ色の油状物が残った。残渣を酢酸
エチル(5.3kg)中に還流下溶解し、そしてヘキサ
ン(5.3kg)を加えた。冷却すると、メシルアセト
ニド104が結晶化し、そしてこれを濾過により分離
し、そしてヘキサン中の14%酢酸エチル(2.1k
g)で洗浄した。減圧乾燥の後、104が淡黄色針状物
として得られた(4.28kg、収率43.4%)。融
点102−3℃。 【0274】(実施例5) ペンチルケタール107: アセトニド104(8.9
kg、27.8mol)、3−ペンタノン(24kg、
279mol)および70%過塩素酸(0.056k
g、0.39mol)の溶液を18時間攪拌した。揮発
性物質を周囲温度で減圧蒸留し、そして新しい3−ペン
タノン(30kg、348mol)を蒸留が進行するに
つれ徐々に加えた。反応混合物を濾過し、トルエン(1
8kg)を加え、そして得られた溶液を6%重炭酸ナト
リウム水溶液(19kg)、水(18kg)および食塩
水(24kg)で順次洗浄した。有機層を減圧濃縮し、
そしてトルエン(28kg)を蒸留が進行するにつれ徐
々に加えた。蒸留がそれ以上できなくなった時点で、残
渣はオレンジ色の油状物であり、これはペンチルケター
ル107(9.7kg、収率100%)およびトルエン
(約2kg)から構成されていた。 【0275】(実施例6) ペンチルエーテル108: ケタール107(8.6k
g、25mol)のジクロロメタン(90kg)中の溶
液を−30℃から−20℃に冷却し、そしてボラン−メ
チルスルフィド錯体(2.1kg、27.5mol)お
よびトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル
(7.2kg、32.5mol)で処理した。1時間
後、10%重炭酸ナトリウム水溶液(40kg)をゆっ
くりと加えた。混合物を周囲温度まで加温し、そして1
2時間攪拌した。有機層を濾過し、そして減圧濃縮する
と、108:109の約8:1混合物が灰色のろう状固
体として残った(7.8kg、収率90%)。 【0276】(実施例7) エポキシド110: エタノール(26kg)中のペン
チルエーテル異性体108:109の約8:1混合物
(7.8kg、22.3mol)を水22(kg)中の
炭酸水素カリウム(3.52kg、35mol)の溶液
で処理した。55℃〜65℃に2時間加熱した後、溶液
を冷却し、そして2回ヘキサン(31kg、次に22k
g)で抽出した。未反応の109が水性エタノール層中
に残留した。合わせたヘキサン抽出物を濾過し、そして
減圧濃縮すると、エポキシド110が羊毛状の白色結晶
固体として残った(3.8kg、収率60%)。融点5
4.6℃。 【0277】(実施例8) ヒドロキシアジド111: 水(0.265L)および
エタノール(1.065L)中のエポキシド110(5
48g、2.0mol)、アジ化ナトリウム(156
g、2.4mol)および塩化アンモニウム(128.
4g、2.4mol)の混合物を70℃〜75℃に8時
間加熱した。重炭酸ナトリウム水溶液(8%溶液0.4
2L)を加え、そしてエタノールを減圧蒸留した。水性
残渣を酢酸エチル(1L)で抽出し、そして抽出物を水
(0.5L)で洗浄した。水洗浄物を酢酸エチル(0.
5L)で逆抽出した。合わせた有機抽出物を食塩水
(0.5L)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過および減圧濃縮すると、ヒドロキシアジド異性体1
11:112の約10:1混合物(608g、収率10
2%)が暗褐色の油状物として残った。 【0278】(実施例9) アジリジン113: ヒドロキシアジド111:112
の約10:1混合物(608g、2.0mol)を減圧
下3回、無水アセトニトリル(3×0.3L)から共蒸
発させ、次に無水アセトニトリル(1L)中に溶解し
た。無水テトラヒドロフラン(0.1L)および無水ア
セトニトリル(0.92L)中の無水トリフェニルホス
フィン(483g、1.84mol)の溶液を2時間か
けて一滴ずつ加えた。混合物を6時間還流加熱し、次に
減圧下濃縮すると、アジリジン113、トリフェニルホ
スフィンオキシドおよび微量のトリフェニルホスフィン
から構成される金色のペーストが残った。このペースト
をジエチルエーテル(0.35L)で粉末化した。不溶
のトリフェニルホスフィンオキシドの大部分を濾過によ
り除去し、そしてジエチルエーテル(1.5L)で洗浄
した。濾液を減圧下濃縮すると、暗褐色の油状物が残
り、これを20%水性メタノールに溶解し、そしてヘキ
サン(3×1L)で3回抽出して、トリフェニルホスフ
ィンを除去した。ヘキサン抽出物を20%水性メタノー
ル(0.5L)で逆抽出し、そして合わせた水性メタノ
ール層を減圧下濃縮した。残渣を無水アセトニトリル
(2×0.5L)から減圧下2回共蒸発すると、暗褐色
の油状物が残り、これはアジリジン(aziriden
e)113(490、収率96.8%)およびトリフェ
ニルホスフィンオキシド(約108g)から構成されて
おり、これを次の工程に直接用いた。 【0279】(実施例10) アセトアミドアジド115: アジリジン113(49
0g、1.93mol)およびトリフェニルホスフィン
オキシド(約108g)、アジ化ナトリウム(151
g、2.33mol)および塩化アンモニウム(125
g、2.33mol)のジメチルホルムアミド(1.3
L)中の混合物を80℃〜85℃に5時間加熱した。重
炭酸ナトリウム(32.8g、0.39mol)および
水(0.6L)を加えた。アミノアジド114を反応混
合物からヘキサン(6×1L)で6回抽出することによ
って単離した。合わせたヘキサン抽出物を減圧下濃縮し
て総容積約4.5Lとし、そしてジクロロメタン(1.
04L)を加えた。重炭酸ナトリウム水溶液(8%溶液
4.2L、3.88mol)を加え、次いで無水酢酸
(198g、1.94mol)を加えた。周囲温度で1
時間攪拌した後、水層を捨てた。有機相を減圧下濃縮し
て全体で1.74kgとし、これを還流下酢酸エチル
(0.209L)に溶解した。冷却すると、アセトアミ
ドアジド115が結晶化し、これを濾過によって単離し
た。ヘキサン(1L)中の冷15%酢酸エチルで洗浄
し、そして減圧下周囲温度で乾燥した後、純粋な115
がオフホワイト色の結晶(361g、収率55%)とし
て得られた。融点126−132℃。 【0280】(実施例11) アセトアミドアミン116: アジド115(549
g、1.62mol)およびリンドラー触媒(50g)
の無水エタノール(3.25L)中の混合物を18時間
攪拌し、その間、水素(1気圧)を混合物を通してバブ
リングした。セライトを通して濾過し、そして濾液を減
圧濃縮して、116を泡状物として得、これは放置する
と固化した(496g、収率98%)。 【0281】(実施例12) 116のリン酸塩: アセトアミドアミン116(5.
02g、16.1mmol)のアセトン(75mL)中
の溶液を還流し、これを無水エタノール(25mL)中
の85%リン酸(1.85g、16.1mmol)で処
理した。即時に結晶化が開始し、そして0℃で12時間
冷却した後、沈殿を濾過により採取して、116・H3
PO4を長い無色針状物として得た(4.94g、収率
75%;[α]D−39.9゜(c=1、水))。融点
203−4℃。 【0282】(実施例13) 116の塩酸塩: アセトアミドアミン116(2.8
g、8.96mmol)の無水エタノール(9mL)中
の溶液をエタノール中2.08M塩化水素(8.6m
L、17.9mmol)で処理した。エタノールの大部
分を減圧下蒸発させ、そして油状残渣を酢酸エチル(2
0mL)と共に固体が形成されるまで攪拌した。ヘキサ
ン(20mL)を攪拌した混合物に徐々に加えた。周囲
温度で1時間後、固体を濾過により採取し、ジエチルエ
ーテルで洗浄し、そして減圧下乾燥した。これは116
・HClをオフホワイト色の固体として与えた(2.5
4g、収率81%;[α]D−43゜(c=0.4、
水))。融点206℃。 【0283】上記引用の文献および特許のすべては、本
明細書中にその全体がその引用箇所に明白に参考として
援用される。特に上記引用の著作の引用部分または頁
は、明確に援用される。 【0284】本明細書中に記載の化合物が1つより多い
同じ記号の基(例えば、例示であり限定ではないが、
「R7」、「R8」、「R9」、「R20」、または
「R22」)で置換される場合にはいつも、それらの基の
各々は、同じであってもよく、異なっていても良いこと
が理解される。すなわち、各基は独立して選択される。
そのため例えば、「R22は」という語句は、「各R22
独立して」という語句と同義である。 【0285】本発明を、当業者が以下の請求の範囲の内
容を作製および使用することが可能であるように十分詳
細に記載した。以下の請求の範囲の方法および組成の特
定改変は、本発明の範囲および思想の範囲内でなし得る
ことは明らかである。 【0286】本発明は、新規合成法ならびに新規組成物
を提供する。特に、式(I)−(IV)を有するような
中間体、式(I)−(IV)を有し、ノイラミニダーゼ
インヒビターの合成において有用な中間体、およびそれ
自体がノイラミニダーゼインヒビターの合成において有
用な中間体として有用な組成物の調製のための新規方法
が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チョウン ユー. キム アメリカ合衆国 カリフォルニア 94070, サン カルロス, エリザベス ストリ ート 1750 (72)発明者 ローレンス アール. マックギー アメリカ合衆国 カリフォルニア 94044, パシフィカ, テラ ノバ ブールバー ド 1451 (72)発明者 ジョン ディー. マンジャー アメリカ合衆国 カリフォルニア 95002, アルビソ, キャセリン ストリート 1044 (72)発明者 アーネスト ジェイ. プリスビ アメリカ合衆国 カリフォルニア 94024, ロス アルトス, リチャードソン ア ベニュー 1336 (72)発明者 マイケル ジェイ. ポスティック アメリカ合衆国 カリフォルニア 94403, サン マテオ, エス. ノーフォーク ストリート ナンバー109 2715 (72)発明者 ジョン シー. ローロフ アメリカ合衆国 カリフォルニア 94040, マウンテン ビュー, コーネル ドラ イブ 1654 (72)発明者 ダフィン イー. ケリー アメリカ合衆国 カリフォルニア 94122, サン フランシスコ, 33アールディー アベニュー 1404 (72)発明者 マシュー エイ. ウィリアムズ アメリカ合衆国 カリフォルニア 94404, フォスター シティ, フォスター シ ティ ブールバード ナンバーシー 1077 (72)発明者 ザン, リジュン アメリカ合衆国 カリフォルニア 94404, フォスター シティ, シェル ブール バード ナンバー203エル 845 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC81

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 式: 【化1】 の化合物の調製方法であって、 ここで、 R1が環状ヒドロキシ保護基であり;R2がカルボン酸保
    護基であり;R3がヒドロキシ保護基であり;そして各
    20が独立してHまたは炭素原子1個から12個のアル
    キルであり;該方法が、式: 【化2】 の化合物と脱水試薬との反応を包含する、方法。
JP2002162217A 1996-08-23 2002-06-03 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製 Withdrawn JP2003002888A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US2412296P 1996-08-23 1996-08-23
US08/701,942 US5859284A (en) 1996-08-23 1996-08-23 Preparation of carbocyclic compounds
US60/024,122 1996-08-23
US08/701,942 1996-08-23

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51100698A Division JP3622983B2 (ja) 1996-08-23 1997-08-22 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009103480A Division JP2009167210A (ja) 1996-08-23 2009-04-21 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003002888A true JP2003002888A (ja) 2003-01-08

Family

ID=26698076

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51100698A Expired - Lifetime JP3622983B2 (ja) 1996-08-23 1997-08-22 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製
JP2002162217A Withdrawn JP2003002888A (ja) 1996-08-23 2002-06-03 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製
JP2009103480A Withdrawn JP2009167210A (ja) 1996-08-23 2009-04-21 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51100698A Expired - Lifetime JP3622983B2 (ja) 1996-08-23 1997-08-22 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009103480A Withdrawn JP2009167210A (ja) 1996-08-23 2009-04-21 シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製

Country Status (12)

Country Link
EP (1) EP0920410B1 (ja)
JP (3) JP3622983B2 (ja)
AT (1) ATE215062T1 (ja)
AU (1) AU738577C (ja)
DE (1) DE69711395T2 (ja)
DK (1) DK0920410T3 (ja)
ES (1) ES2173480T3 (ja)
HK (1) HK1021815A1 (ja)
MX (1) MXPA99001697A (ja)
NZ (2) NZ507106A (ja)
PT (1) PT920410E (ja)
WO (1) WO1998007685A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7475578B2 (ja) 2020-07-01 2024-04-30 信越化学工業株式会社 1,3-ジヒドロキシ-1,1,3,3-テトラ-tert-ブトキシジシロキサンの製造方法

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69607704T2 (de) 1995-02-27 2000-12-28 Gilead Sciences Inc Neue selektive inhibitoren viraler oder bakterieller neuraminidasen
US6518438B2 (en) 1996-08-23 2003-02-11 Gilead Sciences, Inc. Preparation of cyclohexene carboxylate derivatives
US5859284A (en) 1996-08-23 1999-01-12 Gilead Sciences, Inc. Preparation of carbocyclic compounds
US5994377A (en) 1996-10-21 1999-11-30 Gilead Sciences, Inc. Piperidine compounds
NZ502988A (en) * 1997-09-17 2002-08-28 Gilead Sciences Inc 5-Acetamido-4-amino-2-propionyloxy-6-isopropoxy-1-cyclohexene useful for treating influenza
US6455571B1 (en) 1998-04-23 2002-09-24 Abbott Laboratories Inhibitors of neuraminidases
US6518305B1 (en) 1998-04-23 2003-02-11 Abbott Laboratories Five-membered carbocyclic and heterocyclic inhibitors of neuraminidases
ATE209621T1 (de) * 1998-05-13 2001-12-15 Hoffmann La Roche Verfahren zur herstellung von shikiminsäure und deren derivate
EP1059283B1 (en) * 1999-06-11 2003-05-28 F. Hoffmann-La Roche Ag Process for preparing neuraminidase inhibitor ro-64-0796
US6593314B1 (en) 1999-10-19 2003-07-15 Abbott Laboratories Neuraminidase inhibitors
AU2039301A (en) * 1999-10-19 2001-04-30 Abbott Laboratories Neuraminidase inhibitors
JP2001131144A (ja) 1999-11-02 2001-05-15 Sagami Chem Res Center 7−アザビシクロ[4.1.0]ヘプト−3−エン−3−カルボン酸エステル類の製造方法
US6462226B1 (en) 1999-12-03 2002-10-08 Hoffmann-La Roche Inc. Process for the preparation of 4,5-diamino shikimic acid derivatives
US6797832B1 (en) 1999-12-27 2004-09-28 Sagami Chemical Research Center Process for the production of 5-oxy-7-oxabicyclo [4.1.0] hept-3-ene-3-carboxylic acid esters
US6403824B2 (en) 2000-02-22 2002-06-11 Hoffmann-La Roche Inc. Process for the preparation for 4,5-diamino shikimic acid derivatives
US6518048B2 (en) 2000-04-10 2003-02-11 Hoffmann-La Roche Inc. Stereo-specific synthesis of shimikic acid derivatives with improved efficiency
US7122684B2 (en) 2003-03-13 2006-10-17 Roche Colorado Corporation Process for preparing 1,2-diamino compounds
RS51073B (sr) 2003-12-23 2010-10-31 Tibotec Pharmaceuticals Ltd. Proces za pripremanje (3r,3as,6ar)-heksahidrofuro│2,3-b│ furan-3-il (1s,2r)-3-││(4-aminofenil) sulfonil│(izobutil) amino │-1-benzil-2-hidroksipropilkarbamata
MX2007002316A (es) 2004-09-02 2007-04-17 Hoffmann La Roche Proceso para preparacion de acido 4,5-diamino shikimico.
PL1951654T3 (pl) * 2005-11-25 2011-11-30 Hetero Drugs Ltd Ulepszony sposób wytwarzania fosforanu oseltamiwiru
EP2178819A2 (en) 2005-12-28 2010-04-28 F.Hoffmann-La Roche Ag Epoxide intermediate in the tamiflu synthesis
US7732632B2 (en) 2006-01-02 2010-06-08 Hetero Drugs Limited Process for obtaining pure oseltamivir
EP1987825B1 (en) 2006-02-20 2018-09-05 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Pharmaceutical composition comprising oseltamivir phosphate
JP2008050336A (ja) * 2006-07-28 2008-03-06 Univ Of Tokyo イソキヌクリジン誘導体およびこれを利用した1−シクロヘキセン−1−カルボン酸誘導体の製法
WO2009037137A2 (en) 2007-09-18 2009-03-26 F. Hoffmann-La Roche Ag Process from shikimic acid to oseltamivir phosphate
US8334319B2 (en) * 2008-01-04 2012-12-18 Roche Palo Alto Llc Polymorphic forms of oseltamivir phosphate
TWI482775B (zh) 2008-09-01 2015-05-01 Tibotec Pharm Ltd 用於製備(3r,3as,6ar)-六氫呋喃并〔2,3-b〕呋喃-3-基(1s,2r)-3-〔〔(4-胺基苯基)磺醯基〕(異丁基)胺基〕-1-苯甲基-2-羥基丙基胺基甲酸酯之方法
JP5698128B2 (ja) 2009-06-09 2015-04-08 国立大学法人 岡山大学 ジヒドロキシヘキセン酸エステル及びその製造方法
JP4496351B1 (ja) * 2009-09-01 2010-07-07 国立大学法人 岡山大学 1,3−ジオキソラン化合物及びその製造方法
SK288218B6 (sk) 2010-05-05 2014-08-05 Synkola, S.R.O. Spôsob prípravy 1-nitro-4-oxobutanylamidov a ich opačných enantiomérov
JP5039236B1 (ja) 2011-04-27 2012-10-03 学校法人東邦大学 抗不整脈剤及び心房細動抑制剤
WO2014208753A1 (ja) * 2013-06-28 2014-12-31 富士フイルム株式会社 シキミ酸誘導体の製造法および中間体
TWI481600B (zh) * 2013-07-24 2015-04-21 Nat Applied Res Laboratories 一種奎尼酸衍生物、其製程及其用途
CN105439884A (zh) * 2015-10-27 2016-03-30 沈阳药科大学 一种奥司他韦的制备方法
CN110272381A (zh) * 2019-06-19 2019-09-24 五邑大学 含吡啶片段的奥司他韦类似物及其应用

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69607704T2 (de) * 1995-02-27 2000-12-28 Gilead Sciences Inc Neue selektive inhibitoren viraler oder bakterieller neuraminidasen

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7475578B2 (ja) 2020-07-01 2024-04-30 信越化学工業株式会社 1,3-ジヒドロキシ-1,1,3,3-テトラ-tert-ブトキシジシロキサンの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
NZ507106A (en) 2003-01-31
HK1021815A1 (en) 2000-10-05
WO1998007685A1 (en) 1998-02-26
DE69711395D1 (de) 2002-05-02
AU4157997A (en) 1998-03-06
DK0920410T3 (da) 2002-06-10
MXPA99001697A (es) 2004-04-05
EP0920410B1 (en) 2002-03-27
JP2000517306A (ja) 2000-12-26
PT920410E (pt) 2002-07-31
ES2173480T3 (es) 2002-10-16
NZ522535A (en) 2004-07-30
ATE215062T1 (de) 2002-04-15
JP2009167210A (ja) 2009-07-30
JP3622983B2 (ja) 2005-02-23
AU738577B2 (en) 2001-09-20
AU738577C (en) 2002-04-11
EP0920410A1 (en) 1999-06-09
DE69711395T2 (de) 2002-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003002888A (ja) シクロヘキセンカルボキシレート誘導体の調製
US5886213A (en) Preparation of carbocyclic compounds
KR100564891B1 (ko) 사이클로헥센 카복실레이트 유도체의 제조 방법
EP1200384B1 (de) 2-alkyl-5-halogen-pent-4-encarbonsäuren und deren herstellung
WO1999055664A1 (en) Preparation of carbocyclic compounds
US6518438B2 (en) Preparation of cyclohexene carboxylate derivatives
AU772214B2 (en) Preparation of cyclohexene carboxylate derivatives
JPS62120393A (ja) ホスホン酸のふっ素含有誘導体の製造法
JP2009215239A (ja) オセルタミビル及びその類縁化合物の製造方法
JPS58192846A (ja) α,β−不飽和ケトンの製造法
JPH0623181B2 (ja) シアノグアニジン誘導体及びその製造法
JP4532734B2 (ja) 13−シスレチン酸を製造する方法
CN111556872B (zh) 硼酸酯衍生物的合成及其用途
US3898248A (en) Dioxatricyclodecenes
JPS5840939B2 (ja) シクロヘキサンジオン誘導体の製造方法
JP2023155765A (ja) アミド化合物の製造方法
JPS6354335A (ja) 光学活性ヘキサ−2,4−ジイン−1,6−ジオ−ル類の製法
JPH0193563A (ja) (2S,3R,4S)―α―(カルボキシシクロプロピル)グリシン及びその製造法
JPH013170A (ja) ピリジン誘導体の新規製造法
EP0695747A1 (fr) Dérivés N-oxydes de 1-(7-chloroquinoléin-4-yl)pyrazole-3-carboxamides substitués, procédé pour leur préparation et les compositions pharmaceutiques les contenant
JP2001199949A (ja) 光学活性体の合成法
JPS62187465A (ja) 5―ヒドロキシ―2,5―ジヒドロフラン―2―オンのエーテル
JP2016530293A (ja) イソオキサゾール化合物のジアステレオ選択的合成方法
JPS5942330A (ja) 1,3−ジオ−ル及びその誘導体の立体特異的製造法
JPH06256363A (ja) 光学活性なシリル化合物の製造法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040806

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080516

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080814

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080819

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080909

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080912

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20081007

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20081010

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081224

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20110426