JPS62120393A - ホスホン酸のふっ素含有誘導体の製造法 - Google Patents

ホスホン酸のふっ素含有誘導体の製造法

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JPS62120393A
JPS62120393A JP61274236A JP27423686A JPS62120393A JP S62120393 A JPS62120393 A JP S62120393A JP 61274236 A JP61274236 A JP 61274236A JP 27423686 A JP27423686 A JP 27423686A JP S62120393 A JPS62120393 A JP S62120393A
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    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の主題は、次式(1) 〔ここで、R1及びR2は同−又は異なっていてよく、
6〜14個の炭素原子を含有するアリール基、8個まで
の炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若しく
は分岐状アルキル基、18個までの炭素原子を含有する
アラルキル基、6〜14個の炭翠原子を含有するアリー
ルオキシ基、8個までの炭素)皇子を含有する飽和若し
くは不室和の線状若しくは分液状アルキルオキシ基、又
は18(固までの炭繋原子を含有するアラルキルオキシ
基を表わし、成るいはR1とR2はこれらとりんとの間
で環を形成してもよく、 Yは、−CO2R3基(ここでR3は81′!19まで
の炭素原子を含有できる飽和若しくは不飽和の、置換さ
れていてよい線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)
、−CN基、次式 (ここで、R4及□びR6は同−又は異なっていてよく
、水素原子、8個までの炭素原子を含有する飽和若しく
は不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は14個ま
での炭素原子を含有するアリール基を表わす) の基、又は−C−Rs基(ここでR6は10個までの炭
素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若しくは分
岐状の又は環状のアルキル基或るいは14個までの炭素
原子を含有するアリール基を表わす)を表わす〕 の化合物の製造方法であって、次式(n)  O でalkは8個までの炭素原子を含有する飽和若しくは
不飽和の線状若しくは分岐状アルギル基を表わす)を表
わし、RI SR2及びYは前記したものと同じ意味を
有する〕 の化合物にふっ素を作用させて対応する式(I)の化合
物を得ることを特徴とする式け)の化合物の製造法にあ
る。
R1及びR2がアリール基を表わすときは、フェニル基
であるのが好ましい。
R1及びR2がアルキル基を表わすときは、下記の基の
一つ、即ちメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、116e−ブチル、イソブチル、n−
ペンチル、n−ヘキシル、t−ブチルであるのが好まし
い。
R1及びR2がアラルキル基を表わすときは、ベンジル
基又はフェネチル基であるのが好ましい。
R1及びR2がアリールオキシ基を表わすときは、フェ
ノキシ基であるのが好ましい。
R,及びR2がアルキルオキシ基を表わすときは、下記
の基の一つ、即ちメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ
、イソプロポキシ、n−ブトキシ、5ec−ブトキシ、
イソブトキシ、t−ブトキシであるのが好ましい。
R1及びR2がアラルキルオキシ基を表わすときは、ベ
ンゾキシ又はフェノキシ基であるのが好ましい。
R1及びR2がりんとともに環を形成するときは、R1
及びR2は次の基の一つ、即ち、R2−ジメチルエチレ
ンジオキシ、$1.2.2−テトラメチルエチレンジオ
キシ、プロピレン−i、5−ジオキシ又は2.2−ジメ
チルプロピレン−R5−ジオキシを表わすことが好まし
い。
R3及びalkは、1次の基の一つ、即ち、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、!1
ee−ブチル、イソブチル、n−ペンチル又はt−ブチ
ルを表わすのが好ましい。
R4及びR5がアルキル基を表わすときは、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル又はn−ブチル基で
あるのが好ましい。
R4及びR5がアリール基を表わすときは、フェニル基
であるのが好ましい。
R6がアルキル基を表わすときは、次の基の一つ、即ち
、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、!+!le−ブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、n−ヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル又はシクロヘキシルであるのが好ましい。
R6がアリール基を表わすときは、フェニル基でおるの
が好ましい。
式(I)の化合物は、全体として新規である。ただこれ
らの化合物の一つ、即ち(0,0−ジエチルホスホノ)
−2−フルオル−2−酢酸エチルが知られており、この
ものは、グレル及びマクライドの両氏によりLiebi
g&Ann、 Chem、 695 (1965)、9
.141に記載の方法によって下記の式に従い一10℃
の無水アルコール中でジエチルホスホノオキザル酢酸ジ
エチルのカリウムエノラートにぶつ化ベルク四すルを作
用させることにより製造することができる。
02Et ぶつ化ベルクロリルは、易動性水素を持つ化合物にふっ
素を付加させるのに有用な試薬であるが、しかしその使
用には激しい爆発の危険を伴なう。
この事実のため、ぶつ化ベルクロリルは化学製品の工業
生産に用いることができない。
したがって、この試薬の使用を回避させる製造法を手に
することが望まれた。
ここに、ぶつ化ベルクロリルに代えてふっ素を用いて(
0,0−ジエチルホスホノ)−2−フルオル−2−酢酸
エチルを非常に良好な収率で製造できることが発見され
た。さらに、ふっ素の使用はぶつ化ベルクロリルの場合
のような爆発の危険を伴なわず、したがってこの事実か
ら本発明の方法は工業的方法となる。
本発明の方法は全く驚くべきことである。即ち、ふっ素
の極めて大きな反応性を考慮すれば、生成物として次式 のモノぶつ化物誘導体ではなくて次式 のジふつ化物誘導体が得られることが予期できたのであ
る。
また、ふっ素がR1及びR2において副反応を起し得る
ことも予期できた。
したがって、それ自体非常に反応性の式(II)の化合
物に対してふっ素の使用を可能ならしめる本発明に対し
てふっ素の使用を可能ならしめる本発明の方法は全く予
期できなかったことであって、工業的実施を可能にする
という利点を提供する(なぜならば、爆発の危険を伴な
わないからである)。
特に、本発明の主題は、塩基性試剤の存在下に式(II
)の化合物にふっ素を作用さセで対応する式CI)の化
合物を得ることを特徴とする製造法にある。
塩基性試剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸アルカリ及びアルカリ土金属、炭酸水素アルカ
リ及びアルカリ土金属があげられる。
本発明の好ましい実施方法において、ふっ素化には窒素
のような不活性ガスで5〜20%に希釈したふっ素の気
流が用いられる。
式(II)の化合物は一般的には知られており、そして
ZがCuO基を表わす式(It)の化合物は下記の方法
により製造することができる。
s 以下の実験の部にR1=R2=OCzH5、Y=CO2
CzHs及びZ=−C−C(hCzHsの式(It)の
化合物の製造を記載する。
また、多くの式(II)の化合物がS、 T、ヨツ7工
氏他によりT@trahedron Vol、 28.
1972、p。
2783〜2798に記載されている。その他の文献は
実験の部に示す。
さらに詳しくは、本発明の主題は、弱塩基性水性媒体中
でZ=CHOである式(II)の化合物又はその対応す
る塩形成された形の化合物にふっ素を作用させて対応す
る式(I)の化合物を得ることを特徴とする製造法、そ
してアセトニトリルの存在下に実施することを特徴とす
る製造法にある。
さらに具体的には、本発明の主題は、次式(ll’A)
の化合物又はその対応する塩形成された形(■lB)の
化合物 (ここでN1はアルカリ金属又はアルカリ土金属を表わ
し、R1、R2、Y及びalk4を前記したものと同じ
意味を有する) にふっ素と相容性の有伽溶媒中でふっ素を作用させ、次
いで得られた化合物に塩基性水溶液を作用させて対応す
る式(I)の化合物を得ることを特徴とする製造法にあ
る。
アルカリ金属としては、ナトリウム又はカリウムがあげ
られる。
また、さらに具体的には、本発明の主題は、式(Ir’
A)又は(■′B)の化合物に塩基性水溶液中でふっ素
を作用させて対応する式(I)の化合物を得ろことを特
徴とする製造法にある。
さらに具体的には、本発明の主題は、R1及びR2がそ
れぞれ1〜4個の炭素原子を含有する線状アルキルオキ
シ基を表わすことを特徴とする製造法;Yが−CO2R
3基(ここでR,は1〜6個の炭素原子を含有する飽和
若しくは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基を表わ
す)を表わすことを特徴とする製造法;Yが−C−R基
(ここでR6は6個までの炭素原子を含有する飽和若し
くは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は6〜1
4個の炭素原子を含有するアリール基を表わす)を表わ
すことを特徴とする製造法;そしてYがシアノ基を表わ
すことを特徴とする製造法にある。
式(I)の化合物は、R,及びR2がそれぞれエチルオ
キシ基を表わしかつYが−C(hczHi基を表わす化
合物を除いて新規であり、したがって本発明の主題は式
(I)のこれら新規な化合物にある。
本発明の好ましい化合物のうちでも、特に実施例に記載
の化合物をあげることができる。
式(I)の化合物は有用な化学物質であって、例えばヨ
ーロッパ特許第0050534号に記載のようにペスチ
サイド化合物の製造における中間体化合物として用いる
ことができる。このヨーロッパ特許には、次式(V) のラクトン形のelg−アルデヒドにウィチヒ反応に従
って強塩基の存在下に次式(M) υ (ここでRts及びR2(1はアルキル基を表わし、X
はハロゲン原子を表わす) のホスホン酸エステルを反応させて次式の化合物を得、
この化合物に弐BOH(Bはピレスリノイド系のエステ
ルの合成に用いられるアルフールの残基を表わす)のア
ルコールを作用させることからなる方法が記載されてい
る。
式(I)の化合物は、ウィチヒ反応で用いると非常に多
くの他の生物活性化合物又は生物活性化合物の中間体を
与えることができる。
特に、式CI)の化合物は、薬剤として、成るいは植物
又は動物の寄生虫を駆除するためのペスチサイド、殺虫
剤又は殺だに剤として使用することができる化合物を誘
導することができる。
下記の実施例は本発明を例示するもので、これを何ら制
限するものではない。
有機溶媒中での製造 t45りの3−(0,0−ジエチルホスホノ )−1,
4−ジェトキシ−14−ジオキソ−2−丁ノテンー2−
オールのカリウム塩を15CCのクロロホルムと10C
Cのトリクロルフルオルメタンに溶解して一60℃に冷
却した溶液に窒素で10%に希釈したふっ素の流れを通
じる。−60°Cで1時間放置し、そして窒素雰囲気下
に0℃に予熱して過剰のふっ素を追出した後、重炭酸ナ
トリウムとチオ硫酸ナトリウムの溶液を加える。この混
合物をかきまぜ、デカンテーションし、塩化メチレンで
抽出し、蒸留して濃縮する。残留物をシリカでのクロマ
トグラフィー、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1−
1)での溶離によって精製し、薄層クロマトグラフィー
で純粋なα659の所期化合物を得た。Rf=α2゜ 水性媒体中での製造 t459の5−(O,O−ジエチルホスホノ)−14−
ジェトキシ−1,4−ジオキソ−2−プテン−2−オー
ルのカリウム塩とt2りの重炭酸ナトリウムをO℃〜+
2℃に冷却した20CCの水に溶解し、窒素で10%に
薄めたふっ素の流れを必要量のふっ素が吸収されるまで
吹込み、次いで窒素を0℃で1時間パージして過剰のふ
っ素を迫出し、次いでチオ硫酸ナトリウムを加える。塩
化メチレンで抽出し、蒸留により濃縮した後、cL94
gの所期化合物を得た。
例1及び2の出発物質、3−(0,0−ジエチルホスホ
/)−1,4−ジェトキシ−14−ジオキソ−2−ブテ
ン−2−オールのカリウム塩は次のように製造した。
6.77のカリウムを10occのエチルエーテルに溶
解したものに25.3 ccのエタノールを加え、4時
間還流させる。251のしゆう酸エチルと58、49の
(0,0−ジエチルホスホノ)酢酸エチルの混合物を約
10分間で導入する。得られた混合物をさらに2時間加
熱還流し、20℃で20時間かきまぜ、生じた沈殿を分
離し、エチルエーテルで洗い、2N4gの所期化合物を
得た。mp=160℃。
36gの2−(0,0−ジエチルホスホノ)−3−ヒド
ロキシ−2−プロペン酸エチル(ドウソン氏他によりJ
AC3,74,5312(1952)に記載の方法によ
り製造)を439の重炭酸ナトリウムを含有する720
ccの水に溶解し、+3℃に冷却する。窒素で10%に
薄めたふっ素の気流を6時間通じ、次いで窒素の気流に
より過剰のふっ素を追出し、そして残存するかもしれな
い過剰のふっ素をチオ硫酸ナトリウムを加えて還元する
。塩化メチレンで抽出し、抽出物を減圧蒸留により濃縮
し、25.69の粗製の所期化合物を得た。23りの所
期化合物を減圧蒸留し、1&59の純粋な所期化合物を
得た。bp=110℃/ 0.8 sm)(g 。
259の〔1−(ヒドロキシメチレン)−2−オキソプ
ロピル〕ホスホン駿ジメチル、500ccの水及び32
.77の重炭酸ナトリウムを窒素雰囲気下にかきまぜな
から0℃〜+2℃に冷却する。
窒素で10%に薄めたふっ素の気流を5時間吹込む。窒
素の気流により残留ふっ素を追出し、チオ硫酸ナトリウ
ムを加え、この混合物を約O℃で16時間放置する。ク
ロロホルムで抽出し、乾燥し、減圧蒸留した後、159
の生成物を得、これをクロマトグラフィーし、ヘキサン
−酢酸エチル混合物(1−1)で溶離する。947gの
所期化合物を得た。
Rf −CL 27 (CHCl3−アセトン−ヘキサ
ン:1−1−1)。
例5:(5,3−ジメチル−1−フルオル−2−オ五1
7L!の〔5,3−ジメチル−1−(ヒドロキシメチレ
ン)−2−オキソブチル〕ホスホン酸ジエチル、60C
Cの水及び49の重炭酸ナトリウムを含有する溶液を窒
素雰囲気下に0℃〜+5℃に冷却する。窒素で10%に
薄めたふっ素の気流を上記溶液に強くかきまぜながら1
時間吠込む。ふつ素の気流を止め、窒素の気流を通じて
残留ふっ素を追出し、少量のチオ硫酸ナトリウムを加え
る。
溶液を塩化メチレンで抽出し、抽出物を乾燥し、減圧蒸
留する。2.689の生成物を得、これをシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物(1−
1)で溶離する。α42りの所期化合物を得た。Rf=
125゜ 61gの(1−ベンゾイル−2−ヒドロキシエチニル)
ホスホン酸ジエチル、120CCの脱塩水及び60CC
のシアン化メチルを含有する溶液に62の重炭酸カリウ
ムを加える。得られた溶液を窒素雰囲気下に0℃〜+2
℃に冷却し、窒素で10%に薄めたふっ素の気流を約1
時間吹き込む。ふっ素の通人を止め、窒素の気流を30
分間通じ、少量のチオ硫酸ナトリウムを加える。混合物
をクロロホルムで抽出し、抽出物を乾燥し、蒸留する。
得られた生成物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキ
サン−酢酸エチル混合物(1−1)で溶層する。これに
より工64ノの所期化合物を単離した。
Rf = 0.50 (CHCl5−アセトン−ヘキサ
ン=j−1−1)。
ルエステル 415gの5−シアノ−2−(0,0−ジエチルホスホ
ノ)−1−プロペン−1−オールのナトリウム塩(キリ
ノフ氏によりMonatsh、 99.166(196
0)に記載のようにして製造)と4300 CCの水を
含む溶液を水浴中で窒素雰囲気下にかきまぜながら約3
℃に冷却する。a 4. q gの本炭酸ナトリウムを
3℃で加える。窒素で10%に薄めたふっ素の気流を吹
き込む。6時間30分後にふっ素の導入を止める。反応
混合物に少量のチオ硫酸ナトリウムを加え、次いで塩化
メチレンで抽出する。抽出物を乾燥し、減圧蒸留する。
24.1りの生成物を得、これをシリカでクロマトグラ
フィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物(1−1)で溶
離する。2t09の所期化合物を得た。Rf=13゜

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ここで、R_1及びR_2は同一又は異なっていてよ
    く、6〜14個の炭素原子を含有するアリール基、8個
    までの炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若
    しくは分岐状アルキル基、18個までの炭素原子を含有
    するアラルキル基、6〜14個の炭素原子を含有するア
    リールオキシ基、8個までの炭素原子を含有する飽和若
    しくは不飽和の線状若しくは分岐状アルキルオキシ基、
    又は18個までの炭素原子を含有するアラルキルオキシ
    基を表わし、或るいはR_1とR_2はこれらとりんと
    の間で環を形成してもよく、 Yは、−CO_2R_3基(ここでR_3は8個までの
    炭素原子を含有できる飽和若しくは不飽和の、置換され
    ていてよい線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)、
    −CN基、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、R_4及びR_5は同一又は異なっていてよ
    く、水素原子、8個までの炭素原子を含有する飽和若し
    くは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は14個
    までの炭素原子を含有するアリール基を表わす) の基、又は▲数式、化学式、表等があります▼基(ここ
    でR_6は10個までの炭素原子を含有する飽和若しく
    は不飽和の線状若しくは分岐状の又は環状のアルキル基
    或るいは14個までの炭素原子を含有するアリール基を
    表わす)を表わす〕 の化合物の製造方法であって、次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔ここで、ZはCHO基又は▲数式、化学式、表等があ
    ります▼(ここ でalkは8個までの炭素原子を含有する飽和若しくは
    不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)を表
    わし、R_1、R_2及びYは前記したものと同じ意味
    を有する〕 の化合物にふっ素を作用させて対応する式( I )の化
    合物を得ることを特徴とする式( I )の化合物の製造
    法。
  2. (2)塩基性試剤の存在下に式(II)の化合物にふっ素
    を作用させて対応する式( I )の化合物を得ることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造法。
  3. (3)弱塩基性水性媒体中でZ=CHOである式(II)
    の化合物又はその対応する塩形成された形の化合物にふ
    っ素を作用させて対応する式( I )の化合物を得るこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造法。
  4. (4)アセトニトリルの存在下に実施することを特徴と
    する特許請求の範囲第3項記載の製造法。
  5. (5)次式(II′_A)の化合物又はその対応する塩形
    成された形(II′_B)の化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼(II′_A) ▲数式、化学式、表等があります▼(II′_B) (ここでMはアルカリ金属又はアルカリ土金属を表わし
    、R_1、R_2、Y及びalkは前記したものと同じ
    意味を有する) にふっ素と相容性の有機溶媒中でふっ素を作用させ、次
    いで得られた化合物に塩基性水溶液を作用させて対応す
    る式( I )の化合物を得ることを特徴とする特許請求
    の範囲第1又は2項記載の製造法。
  6. (6)式(II′_A)又は(II′_B)の化合物に塩基
    性水溶液中でふっ素を作用させて対応する式( I )の
    化合物を得ることを特徴とする特許請求の範囲第1又は
    2項記載の製造法。
  7. (7)R_1及びR_2がそれぞれ1〜4個の炭素原子
    を含有する線状アルキルオキシ基を表わすことを特徴と
    する特許請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載の製造
    法。
  8. (8)Yが−CO_2R_3基(ここでR_3は1〜6
    個の炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若し
    くは分岐状アルキル基を表わす)を表わすことを特徴と
    する特許請求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の製造
    法。
  9. (9)Yが▲数式、化学式、表等があります▼基(ここ
    でR_6は6個までの炭素原子を含有する飽和若しくは
    不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は6〜14個
    の炭素原子を含有するアリール基を表わす)を表わすこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1〜7項のいずれかに
    記載の製造法。
  10. (10)Yがシアノ基を表わすことを特徴とする特許請
    求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の製造法。
  11. (11)次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ここで、R_1及びR_2は同一又は異なっていてよ
    く、6〜14個の炭素原子を含有するアリール基、8個
    までの炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若
    しくは分岐状アルキル基、18個までの炭素原子を含有
    するアラルキル基、6〜14個の炭素原子を含有するア
    リールオキシ基、8個までの炭素原子を含有する飽和若
    しくは不飽和の線状若しくは分岐状アルキルオキシ基、
    又は18個までの炭素原子を含有するアラルキルオキシ
    基を表わし、或るいはR_1とR_2はこれらとりんと
    の間で環を形成してもよく、 Yは、−CO_2R_3基(ここでR_3は8個までの
    炭素原子を含有できる飽和若しくは不飽和の、置換され
    ていてよい線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)、
    −CN基、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、R_4及びR_5は同一又は異なっていてよ
    く、水素原子、8個までの炭素原子を含有する飽和若し
    くは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は14個
    までの炭素原子を含有するアリール基を表わす) の基、又は▲数式、化学式、表等があります▼基(ここ
    でR_6は10個までの炭素原子を含有する飽和若しく
    は不飽和の線状若しくは分岐状の又は環状のアルキル基
    或るいは14個までの炭素原子を含有するアリール基を
    表わす)を表わす〕 の化合物(ただし、R_1及びR_2がそれぞれエチル
    オキシ基を表わすときはYは−CO_2C_2H_5基
    を表わさないものとする)。
  12. (12)化合物名が下記の通りの特許請求の範囲第11
    項記載の式( I )の化合物。 (1−フルオル−2−オキソプロピル)ホスホン酸のジ
    メチルエステル、 (3,3−ジメチル−1−フルオル−2−オキソブチル
    )ホスホン酸のジエチルエステル、 (1−フルオル−2−オキソ−2−フェニルエチル)ホ
    スホン酸のジエチルエステル、 フルオルシアノメチルホスホン酸のジエチルエステル、 O,O−ジメチルホスホノ−2−フルオル−2−酢酸メ
    チル。
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