JPS62120393A - ホスホン酸のふっ素含有誘導体の製造法 - Google Patents
ホスホン酸のふっ素含有誘導体の製造法Info
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
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- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
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-
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- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5304—Acyclic saturated phosphine oxides or thioxides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明の主題は、次式(1)
〔ここで、R1及びR2は同−又は異なっていてよく、
6〜14個の炭素原子を含有するアリール基、8個まで
の炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若しく
は分岐状アルキル基、18個までの炭素原子を含有する
アラルキル基、6〜14個の炭翠原子を含有するアリー
ルオキシ基、8個までの炭素)皇子を含有する飽和若し
くは不室和の線状若しくは分液状アルキルオキシ基、又
は18(固までの炭繋原子を含有するアラルキルオキシ
基を表わし、成るいはR1とR2はこれらとりんとの間
で環を形成してもよく、 Yは、−CO2R3基(ここでR3は81′!19まで
の炭素原子を含有できる飽和若しくは不飽和の、置換さ
れていてよい線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)
、−CN基、次式 (ここで、R4及□びR6は同−又は異なっていてよく
、水素原子、8個までの炭素原子を含有する飽和若しく
は不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は14個ま
での炭素原子を含有するアリール基を表わす) の基、又は−C−Rs基(ここでR6は10個までの炭
素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若しくは分
岐状の又は環状のアルキル基或るいは14個までの炭素
原子を含有するアリール基を表わす)を表わす〕 の化合物の製造方法であって、次式(n) O でalkは8個までの炭素原子を含有する飽和若しくは
不飽和の線状若しくは分岐状アルギル基を表わす)を表
わし、RI SR2及びYは前記したものと同じ意味を
有する〕 の化合物にふっ素を作用させて対応する式(I)の化合
物を得ることを特徴とする式け)の化合物の製造法にあ
る。
6〜14個の炭素原子を含有するアリール基、8個まで
の炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若しく
は分岐状アルキル基、18個までの炭素原子を含有する
アラルキル基、6〜14個の炭翠原子を含有するアリー
ルオキシ基、8個までの炭素)皇子を含有する飽和若し
くは不室和の線状若しくは分液状アルキルオキシ基、又
は18(固までの炭繋原子を含有するアラルキルオキシ
基を表わし、成るいはR1とR2はこれらとりんとの間
で環を形成してもよく、 Yは、−CO2R3基(ここでR3は81′!19まで
の炭素原子を含有できる飽和若しくは不飽和の、置換さ
れていてよい線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)
、−CN基、次式 (ここで、R4及□びR6は同−又は異なっていてよく
、水素原子、8個までの炭素原子を含有する飽和若しく
は不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は14個ま
での炭素原子を含有するアリール基を表わす) の基、又は−C−Rs基(ここでR6は10個までの炭
素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若しくは分
岐状の又は環状のアルキル基或るいは14個までの炭素
原子を含有するアリール基を表わす)を表わす〕 の化合物の製造方法であって、次式(n) O でalkは8個までの炭素原子を含有する飽和若しくは
不飽和の線状若しくは分岐状アルギル基を表わす)を表
わし、RI SR2及びYは前記したものと同じ意味を
有する〕 の化合物にふっ素を作用させて対応する式(I)の化合
物を得ることを特徴とする式け)の化合物の製造法にあ
る。
R1及びR2がアリール基を表わすときは、フェニル基
であるのが好ましい。
であるのが好ましい。
R1及びR2がアルキル基を表わすときは、下記の基の
一つ、即ちメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、116e−ブチル、イソブチル、n−
ペンチル、n−ヘキシル、t−ブチルであるのが好まし
い。
一つ、即ちメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、116e−ブチル、イソブチル、n−
ペンチル、n−ヘキシル、t−ブチルであるのが好まし
い。
R1及びR2がアラルキル基を表わすときは、ベンジル
基又はフェネチル基であるのが好ましい。
基又はフェネチル基であるのが好ましい。
R1及びR2がアリールオキシ基を表わすときは、フェ
ノキシ基であるのが好ましい。
ノキシ基であるのが好ましい。
R,及びR2がアルキルオキシ基を表わすときは、下記
の基の一つ、即ちメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ
、イソプロポキシ、n−ブトキシ、5ec−ブトキシ、
イソブトキシ、t−ブトキシであるのが好ましい。
の基の一つ、即ちメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ
、イソプロポキシ、n−ブトキシ、5ec−ブトキシ、
イソブトキシ、t−ブトキシであるのが好ましい。
R1及びR2がアラルキルオキシ基を表わすときは、ベ
ンゾキシ又はフェノキシ基であるのが好ましい。
ンゾキシ又はフェノキシ基であるのが好ましい。
R1及びR2がりんとともに環を形成するときは、R1
及びR2は次の基の一つ、即ち、R2−ジメチルエチレ
ンジオキシ、$1.2.2−テトラメチルエチレンジオ
キシ、プロピレン−i、5−ジオキシ又は2.2−ジメ
チルプロピレン−R5−ジオキシを表わすことが好まし
い。
及びR2は次の基の一つ、即ち、R2−ジメチルエチレ
ンジオキシ、$1.2.2−テトラメチルエチレンジオ
キシ、プロピレン−i、5−ジオキシ又は2.2−ジメ
チルプロピレン−R5−ジオキシを表わすことが好まし
い。
R3及びalkは、1次の基の一つ、即ち、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、!1
ee−ブチル、イソブチル、n−ペンチル又はt−ブチ
ルを表わすのが好ましい。
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、!1
ee−ブチル、イソブチル、n−ペンチル又はt−ブチ
ルを表わすのが好ましい。
R4及びR5がアルキル基を表わすときは、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル又はn−ブチル基で
あるのが好ましい。
チル、n−プロピル、イソプロピル又はn−ブチル基で
あるのが好ましい。
R4及びR5がアリール基を表わすときは、フェニル基
であるのが好ましい。
であるのが好ましい。
R6がアルキル基を表わすときは、次の基の一つ、即ち
、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、!+!le−ブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、n−ヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル又はシクロヘキシルであるのが好ましい。
、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、!+!le−ブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、n−ヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル又はシクロヘキシルであるのが好ましい。
R6がアリール基を表わすときは、フェニル基でおるの
が好ましい。
が好ましい。
式(I)の化合物は、全体として新規である。ただこれ
らの化合物の一つ、即ち(0,0−ジエチルホスホノ)
−2−フルオル−2−酢酸エチルが知られており、この
ものは、グレル及びマクライドの両氏によりLiebi
g&Ann、 Chem、 695 (1965)、9
.141に記載の方法によって下記の式に従い一10℃
の無水アルコール中でジエチルホスホノオキザル酢酸ジ
エチルのカリウムエノラートにぶつ化ベルク四すルを作
用させることにより製造することができる。
らの化合物の一つ、即ち(0,0−ジエチルホスホノ)
−2−フルオル−2−酢酸エチルが知られており、この
ものは、グレル及びマクライドの両氏によりLiebi
g&Ann、 Chem、 695 (1965)、9
.141に記載の方法によって下記の式に従い一10℃
の無水アルコール中でジエチルホスホノオキザル酢酸ジ
エチルのカリウムエノラートにぶつ化ベルク四すルを作
用させることにより製造することができる。
02Et
ぶつ化ベルクロリルは、易動性水素を持つ化合物にふっ
素を付加させるのに有用な試薬であるが、しかしその使
用には激しい爆発の危険を伴なう。
素を付加させるのに有用な試薬であるが、しかしその使
用には激しい爆発の危険を伴なう。
この事実のため、ぶつ化ベルクロリルは化学製品の工業
生産に用いることができない。
生産に用いることができない。
したがって、この試薬の使用を回避させる製造法を手に
することが望まれた。
することが望まれた。
ここに、ぶつ化ベルクロリルに代えてふっ素を用いて(
0,0−ジエチルホスホノ)−2−フルオル−2−酢酸
エチルを非常に良好な収率で製造できることが発見され
た。さらに、ふっ素の使用はぶつ化ベルクロリルの場合
のような爆発の危険を伴なわず、したがってこの事実か
ら本発明の方法は工業的方法となる。
0,0−ジエチルホスホノ)−2−フルオル−2−酢酸
エチルを非常に良好な収率で製造できることが発見され
た。さらに、ふっ素の使用はぶつ化ベルクロリルの場合
のような爆発の危険を伴なわず、したがってこの事実か
ら本発明の方法は工業的方法となる。
本発明の方法は全く驚くべきことである。即ち、ふっ素
の極めて大きな反応性を考慮すれば、生成物として次式 のモノぶつ化物誘導体ではなくて次式 のジふつ化物誘導体が得られることが予期できたのであ
る。
の極めて大きな反応性を考慮すれば、生成物として次式 のモノぶつ化物誘導体ではなくて次式 のジふつ化物誘導体が得られることが予期できたのであ
る。
また、ふっ素がR1及びR2において副反応を起し得る
ことも予期できた。
ことも予期できた。
したがって、それ自体非常に反応性の式(II)の化合
物に対してふっ素の使用を可能ならしめる本発明に対し
てふっ素の使用を可能ならしめる本発明の方法は全く予
期できなかったことであって、工業的実施を可能にする
という利点を提供する(なぜならば、爆発の危険を伴な
わないからである)。
物に対してふっ素の使用を可能ならしめる本発明に対し
てふっ素の使用を可能ならしめる本発明の方法は全く予
期できなかったことであって、工業的実施を可能にする
という利点を提供する(なぜならば、爆発の危険を伴な
わないからである)。
特に、本発明の主題は、塩基性試剤の存在下に式(II
)の化合物にふっ素を作用さセで対応する式CI)の化
合物を得ることを特徴とする製造法にある。
)の化合物にふっ素を作用さセで対応する式CI)の化
合物を得ることを特徴とする製造法にある。
塩基性試剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸アルカリ及びアルカリ土金属、炭酸水素アルカ
リ及びアルカリ土金属があげられる。
ム、炭酸アルカリ及びアルカリ土金属、炭酸水素アルカ
リ及びアルカリ土金属があげられる。
本発明の好ましい実施方法において、ふっ素化には窒素
のような不活性ガスで5〜20%に希釈したふっ素の気
流が用いられる。
のような不活性ガスで5〜20%に希釈したふっ素の気
流が用いられる。
式(II)の化合物は一般的には知られており、そして
ZがCuO基を表わす式(It)の化合物は下記の方法
により製造することができる。
ZがCuO基を表わす式(It)の化合物は下記の方法
により製造することができる。
s
以下の実験の部にR1=R2=OCzH5、Y=CO2
CzHs及びZ=−C−C(hCzHsの式(It)の
化合物の製造を記載する。
CzHs及びZ=−C−C(hCzHsの式(It)の
化合物の製造を記載する。
また、多くの式(II)の化合物がS、 T、ヨツ7工
氏他によりT@trahedron Vol、 28.
1972、p。
氏他によりT@trahedron Vol、 28.
1972、p。
2783〜2798に記載されている。その他の文献は
実験の部に示す。
実験の部に示す。
さらに詳しくは、本発明の主題は、弱塩基性水性媒体中
でZ=CHOである式(II)の化合物又はその対応す
る塩形成された形の化合物にふっ素を作用させて対応す
る式(I)の化合物を得ることを特徴とする製造法、そ
してアセトニトリルの存在下に実施することを特徴とす
る製造法にある。
でZ=CHOである式(II)の化合物又はその対応す
る塩形成された形の化合物にふっ素を作用させて対応す
る式(I)の化合物を得ることを特徴とする製造法、そ
してアセトニトリルの存在下に実施することを特徴とす
る製造法にある。
さらに具体的には、本発明の主題は、次式(ll’A)
の化合物又はその対応する塩形成された形(■lB)の
化合物 (ここでN1はアルカリ金属又はアルカリ土金属を表わ
し、R1、R2、Y及びalk4を前記したものと同じ
意味を有する) にふっ素と相容性の有伽溶媒中でふっ素を作用させ、次
いで得られた化合物に塩基性水溶液を作用させて対応す
る式(I)の化合物を得ることを特徴とする製造法にあ
る。
の化合物又はその対応する塩形成された形(■lB)の
化合物 (ここでN1はアルカリ金属又はアルカリ土金属を表わ
し、R1、R2、Y及びalk4を前記したものと同じ
意味を有する) にふっ素と相容性の有伽溶媒中でふっ素を作用させ、次
いで得られた化合物に塩基性水溶液を作用させて対応す
る式(I)の化合物を得ることを特徴とする製造法にあ
る。
アルカリ金属としては、ナトリウム又はカリウムがあげ
られる。
られる。
また、さらに具体的には、本発明の主題は、式(Ir’
A)又は(■′B)の化合物に塩基性水溶液中でふっ素
を作用させて対応する式(I)の化合物を得ろことを特
徴とする製造法にある。
A)又は(■′B)の化合物に塩基性水溶液中でふっ素
を作用させて対応する式(I)の化合物を得ろことを特
徴とする製造法にある。
さらに具体的には、本発明の主題は、R1及びR2がそ
れぞれ1〜4個の炭素原子を含有する線状アルキルオキ
シ基を表わすことを特徴とする製造法;Yが−CO2R
3基(ここでR,は1〜6個の炭素原子を含有する飽和
若しくは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基を表わ
す)を表わすことを特徴とする製造法;Yが−C−R基
(ここでR6は6個までの炭素原子を含有する飽和若し
くは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は6〜1
4個の炭素原子を含有するアリール基を表わす)を表わ
すことを特徴とする製造法;そしてYがシアノ基を表わ
すことを特徴とする製造法にある。
れぞれ1〜4個の炭素原子を含有する線状アルキルオキ
シ基を表わすことを特徴とする製造法;Yが−CO2R
3基(ここでR,は1〜6個の炭素原子を含有する飽和
若しくは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基を表わ
す)を表わすことを特徴とする製造法;Yが−C−R基
(ここでR6は6個までの炭素原子を含有する飽和若し
くは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は6〜1
4個の炭素原子を含有するアリール基を表わす)を表わ
すことを特徴とする製造法;そしてYがシアノ基を表わ
すことを特徴とする製造法にある。
式(I)の化合物は、R,及びR2がそれぞれエチルオ
キシ基を表わしかつYが−C(hczHi基を表わす化
合物を除いて新規であり、したがって本発明の主題は式
(I)のこれら新規な化合物にある。
キシ基を表わしかつYが−C(hczHi基を表わす化
合物を除いて新規であり、したがって本発明の主題は式
(I)のこれら新規な化合物にある。
本発明の好ましい化合物のうちでも、特に実施例に記載
の化合物をあげることができる。
の化合物をあげることができる。
式(I)の化合物は有用な化学物質であって、例えばヨ
ーロッパ特許第0050534号に記載のようにペスチ
サイド化合物の製造における中間体化合物として用いる
ことができる。このヨーロッパ特許には、次式(V) のラクトン形のelg−アルデヒドにウィチヒ反応に従
って強塩基の存在下に次式(M) υ (ここでRts及びR2(1はアルキル基を表わし、X
はハロゲン原子を表わす) のホスホン酸エステルを反応させて次式の化合物を得、
この化合物に弐BOH(Bはピレスリノイド系のエステ
ルの合成に用いられるアルフールの残基を表わす)のア
ルコールを作用させることからなる方法が記載されてい
る。
ーロッパ特許第0050534号に記載のようにペスチ
サイド化合物の製造における中間体化合物として用いる
ことができる。このヨーロッパ特許には、次式(V) のラクトン形のelg−アルデヒドにウィチヒ反応に従
って強塩基の存在下に次式(M) υ (ここでRts及びR2(1はアルキル基を表わし、X
はハロゲン原子を表わす) のホスホン酸エステルを反応させて次式の化合物を得、
この化合物に弐BOH(Bはピレスリノイド系のエステ
ルの合成に用いられるアルフールの残基を表わす)のア
ルコールを作用させることからなる方法が記載されてい
る。
式(I)の化合物は、ウィチヒ反応で用いると非常に多
くの他の生物活性化合物又は生物活性化合物の中間体を
与えることができる。
くの他の生物活性化合物又は生物活性化合物の中間体を
与えることができる。
特に、式CI)の化合物は、薬剤として、成るいは植物
又は動物の寄生虫を駆除するためのペスチサイド、殺虫
剤又は殺だに剤として使用することができる化合物を誘
導することができる。
又は動物の寄生虫を駆除するためのペスチサイド、殺虫
剤又は殺だに剤として使用することができる化合物を誘
導することができる。
下記の実施例は本発明を例示するもので、これを何ら制
限するものではない。
限するものではない。
有機溶媒中での製造
t45りの3−(0,0−ジエチルホスホノ )−1,
4−ジェトキシ−14−ジオキソ−2−丁ノテンー2−
オールのカリウム塩を15CCのクロロホルムと10C
Cのトリクロルフルオルメタンに溶解して一60℃に冷
却した溶液に窒素で10%に希釈したふっ素の流れを通
じる。−60°Cで1時間放置し、そして窒素雰囲気下
に0℃に予熱して過剰のふっ素を追出した後、重炭酸ナ
トリウムとチオ硫酸ナトリウムの溶液を加える。この混
合物をかきまぜ、デカンテーションし、塩化メチレンで
抽出し、蒸留して濃縮する。残留物をシリカでのクロマ
トグラフィー、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1−
1)での溶離によって精製し、薄層クロマトグラフィー
で純粋なα659の所期化合物を得た。Rf=α2゜ 水性媒体中での製造 t459の5−(O,O−ジエチルホスホノ)−14−
ジェトキシ−1,4−ジオキソ−2−プテン−2−オー
ルのカリウム塩とt2りの重炭酸ナトリウムをO℃〜+
2℃に冷却した20CCの水に溶解し、窒素で10%に
薄めたふっ素の流れを必要量のふっ素が吸収されるまで
吹込み、次いで窒素を0℃で1時間パージして過剰のふ
っ素を迫出し、次いでチオ硫酸ナトリウムを加える。塩
化メチレンで抽出し、蒸留により濃縮した後、cL94
gの所期化合物を得た。
4−ジェトキシ−14−ジオキソ−2−丁ノテンー2−
オールのカリウム塩を15CCのクロロホルムと10C
Cのトリクロルフルオルメタンに溶解して一60℃に冷
却した溶液に窒素で10%に希釈したふっ素の流れを通
じる。−60°Cで1時間放置し、そして窒素雰囲気下
に0℃に予熱して過剰のふっ素を追出した後、重炭酸ナ
トリウムとチオ硫酸ナトリウムの溶液を加える。この混
合物をかきまぜ、デカンテーションし、塩化メチレンで
抽出し、蒸留して濃縮する。残留物をシリカでのクロマ
トグラフィー、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1−
1)での溶離によって精製し、薄層クロマトグラフィー
で純粋なα659の所期化合物を得た。Rf=α2゜ 水性媒体中での製造 t459の5−(O,O−ジエチルホスホノ)−14−
ジェトキシ−1,4−ジオキソ−2−プテン−2−オー
ルのカリウム塩とt2りの重炭酸ナトリウムをO℃〜+
2℃に冷却した20CCの水に溶解し、窒素で10%に
薄めたふっ素の流れを必要量のふっ素が吸収されるまで
吹込み、次いで窒素を0℃で1時間パージして過剰のふ
っ素を迫出し、次いでチオ硫酸ナトリウムを加える。塩
化メチレンで抽出し、蒸留により濃縮した後、cL94
gの所期化合物を得た。
例1及び2の出発物質、3−(0,0−ジエチルホスホ
/)−1,4−ジェトキシ−14−ジオキソ−2−ブテ
ン−2−オールのカリウム塩は次のように製造した。
/)−1,4−ジェトキシ−14−ジオキソ−2−ブテ
ン−2−オールのカリウム塩は次のように製造した。
6.77のカリウムを10occのエチルエーテルに溶
解したものに25.3 ccのエタノールを加え、4時
間還流させる。251のしゆう酸エチルと58、49の
(0,0−ジエチルホスホノ)酢酸エチルの混合物を約
10分間で導入する。得られた混合物をさらに2時間加
熱還流し、20℃で20時間かきまぜ、生じた沈殿を分
離し、エチルエーテルで洗い、2N4gの所期化合物を
得た。mp=160℃。
解したものに25.3 ccのエタノールを加え、4時
間還流させる。251のしゆう酸エチルと58、49の
(0,0−ジエチルホスホノ)酢酸エチルの混合物を約
10分間で導入する。得られた混合物をさらに2時間加
熱還流し、20℃で20時間かきまぜ、生じた沈殿を分
離し、エチルエーテルで洗い、2N4gの所期化合物を
得た。mp=160℃。
36gの2−(0,0−ジエチルホスホノ)−3−ヒド
ロキシ−2−プロペン酸エチル(ドウソン氏他によりJ
AC3,74,5312(1952)に記載の方法によ
り製造)を439の重炭酸ナトリウムを含有する720
ccの水に溶解し、+3℃に冷却する。窒素で10%に
薄めたふっ素の気流を6時間通じ、次いで窒素の気流に
より過剰のふっ素を追出し、そして残存するかもしれな
い過剰のふっ素をチオ硫酸ナトリウムを加えて還元する
。塩化メチレンで抽出し、抽出物を減圧蒸留により濃縮
し、25.69の粗製の所期化合物を得た。23りの所
期化合物を減圧蒸留し、1&59の純粋な所期化合物を
得た。bp=110℃/ 0.8 sm)(g 。
ロキシ−2−プロペン酸エチル(ドウソン氏他によりJ
AC3,74,5312(1952)に記載の方法によ
り製造)を439の重炭酸ナトリウムを含有する720
ccの水に溶解し、+3℃に冷却する。窒素で10%に
薄めたふっ素の気流を6時間通じ、次いで窒素の気流に
より過剰のふっ素を追出し、そして残存するかもしれな
い過剰のふっ素をチオ硫酸ナトリウムを加えて還元する
。塩化メチレンで抽出し、抽出物を減圧蒸留により濃縮
し、25.69の粗製の所期化合物を得た。23りの所
期化合物を減圧蒸留し、1&59の純粋な所期化合物を
得た。bp=110℃/ 0.8 sm)(g 。
259の〔1−(ヒドロキシメチレン)−2−オキソプ
ロピル〕ホスホン駿ジメチル、500ccの水及び32
.77の重炭酸ナトリウムを窒素雰囲気下にかきまぜな
から0℃〜+2℃に冷却する。
ロピル〕ホスホン駿ジメチル、500ccの水及び32
.77の重炭酸ナトリウムを窒素雰囲気下にかきまぜな
から0℃〜+2℃に冷却する。
窒素で10%に薄めたふっ素の気流を5時間吹込む。窒
素の気流により残留ふっ素を追出し、チオ硫酸ナトリウ
ムを加え、この混合物を約O℃で16時間放置する。ク
ロロホルムで抽出し、乾燥し、減圧蒸留した後、159
の生成物を得、これをクロマトグラフィーし、ヘキサン
−酢酸エチル混合物(1−1)で溶離する。947gの
所期化合物を得た。
素の気流により残留ふっ素を追出し、チオ硫酸ナトリウ
ムを加え、この混合物を約O℃で16時間放置する。ク
ロロホルムで抽出し、乾燥し、減圧蒸留した後、159
の生成物を得、これをクロマトグラフィーし、ヘキサン
−酢酸エチル混合物(1−1)で溶離する。947gの
所期化合物を得た。
Rf −CL 27 (CHCl3−アセトン−ヘキサ
ン:1−1−1)。
ン:1−1−1)。
例5:(5,3−ジメチル−1−フルオル−2−オ五1
7L!の〔5,3−ジメチル−1−(ヒドロキシメチレ
ン)−2−オキソブチル〕ホスホン酸ジエチル、60C
Cの水及び49の重炭酸ナトリウムを含有する溶液を窒
素雰囲気下に0℃〜+5℃に冷却する。窒素で10%に
薄めたふっ素の気流を上記溶液に強くかきまぜながら1
時間吠込む。ふつ素の気流を止め、窒素の気流を通じて
残留ふっ素を追出し、少量のチオ硫酸ナトリウムを加え
る。
7L!の〔5,3−ジメチル−1−(ヒドロキシメチレ
ン)−2−オキソブチル〕ホスホン酸ジエチル、60C
Cの水及び49の重炭酸ナトリウムを含有する溶液を窒
素雰囲気下に0℃〜+5℃に冷却する。窒素で10%に
薄めたふっ素の気流を上記溶液に強くかきまぜながら1
時間吠込む。ふつ素の気流を止め、窒素の気流を通じて
残留ふっ素を追出し、少量のチオ硫酸ナトリウムを加え
る。
溶液を塩化メチレンで抽出し、抽出物を乾燥し、減圧蒸
留する。2.689の生成物を得、これをシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物(1−
1)で溶離する。α42りの所期化合物を得た。Rf=
125゜ 61gの(1−ベンゾイル−2−ヒドロキシエチニル)
ホスホン酸ジエチル、120CCの脱塩水及び60CC
のシアン化メチルを含有する溶液に62の重炭酸カリウ
ムを加える。得られた溶液を窒素雰囲気下に0℃〜+2
℃に冷却し、窒素で10%に薄めたふっ素の気流を約1
時間吹き込む。ふっ素の通人を止め、窒素の気流を30
分間通じ、少量のチオ硫酸ナトリウムを加える。混合物
をクロロホルムで抽出し、抽出物を乾燥し、蒸留する。
留する。2.689の生成物を得、これをシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物(1−
1)で溶離する。α42りの所期化合物を得た。Rf=
125゜ 61gの(1−ベンゾイル−2−ヒドロキシエチニル)
ホスホン酸ジエチル、120CCの脱塩水及び60CC
のシアン化メチルを含有する溶液に62の重炭酸カリウ
ムを加える。得られた溶液を窒素雰囲気下に0℃〜+2
℃に冷却し、窒素で10%に薄めたふっ素の気流を約1
時間吹き込む。ふっ素の通人を止め、窒素の気流を30
分間通じ、少量のチオ硫酸ナトリウムを加える。混合物
をクロロホルムで抽出し、抽出物を乾燥し、蒸留する。
得られた生成物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキ
サン−酢酸エチル混合物(1−1)で溶層する。これに
より工64ノの所期化合物を単離した。
サン−酢酸エチル混合物(1−1)で溶層する。これに
より工64ノの所期化合物を単離した。
Rf = 0.50 (CHCl5−アセトン−ヘキサ
ン=j−1−1)。
ン=j−1−1)。
ルエステル
415gの5−シアノ−2−(0,0−ジエチルホスホ
ノ)−1−プロペン−1−オールのナトリウム塩(キリ
ノフ氏によりMonatsh、 99.166(196
0)に記載のようにして製造)と4300 CCの水を
含む溶液を水浴中で窒素雰囲気下にかきまぜながら約3
℃に冷却する。a 4. q gの本炭酸ナトリウムを
3℃で加える。窒素で10%に薄めたふっ素の気流を吹
き込む。6時間30分後にふっ素の導入を止める。反応
混合物に少量のチオ硫酸ナトリウムを加え、次いで塩化
メチレンで抽出する。抽出物を乾燥し、減圧蒸留する。
ノ)−1−プロペン−1−オールのナトリウム塩(キリ
ノフ氏によりMonatsh、 99.166(196
0)に記載のようにして製造)と4300 CCの水を
含む溶液を水浴中で窒素雰囲気下にかきまぜながら約3
℃に冷却する。a 4. q gの本炭酸ナトリウムを
3℃で加える。窒素で10%に薄めたふっ素の気流を吹
き込む。6時間30分後にふっ素の導入を止める。反応
混合物に少量のチオ硫酸ナトリウムを加え、次いで塩化
メチレンで抽出する。抽出物を乾燥し、減圧蒸留する。
24.1りの生成物を得、これをシリカでクロマトグラ
フィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物(1−1)で溶
離する。2t09の所期化合物を得た。Rf=13゜
フィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物(1−1)で溶
離する。2t09の所期化合物を得た。Rf=13゜
Claims (12)
- (1)次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ここで、R_1及びR_2は同一又は異なっていてよ
く、6〜14個の炭素原子を含有するアリール基、8個
までの炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若
しくは分岐状アルキル基、18個までの炭素原子を含有
するアラルキル基、6〜14個の炭素原子を含有するア
リールオキシ基、8個までの炭素原子を含有する飽和若
しくは不飽和の線状若しくは分岐状アルキルオキシ基、
又は18個までの炭素原子を含有するアラルキルオキシ
基を表わし、或るいはR_1とR_2はこれらとりんと
の間で環を形成してもよく、 Yは、−CO_2R_3基(ここでR_3は8個までの
炭素原子を含有できる飽和若しくは不飽和の、置換され
ていてよい線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)、
−CN基、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、R_4及びR_5は同一又は異なっていてよ
く、水素原子、8個までの炭素原子を含有する飽和若し
くは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は14個
までの炭素原子を含有するアリール基を表わす) の基、又は▲数式、化学式、表等があります▼基(ここ
でR_6は10個までの炭素原子を含有する飽和若しく
は不飽和の線状若しくは分岐状の又は環状のアルキル基
或るいは14個までの炭素原子を含有するアリール基を
表わす)を表わす〕 の化合物の製造方法であって、次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔ここで、ZはCHO基又は▲数式、化学式、表等があ
ります▼(ここ でalkは8個までの炭素原子を含有する飽和若しくは
不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)を表
わし、R_1、R_2及びYは前記したものと同じ意味
を有する〕 の化合物にふっ素を作用させて対応する式( I )の化
合物を得ることを特徴とする式( I )の化合物の製造
法。 - (2)塩基性試剤の存在下に式(II)の化合物にふっ素
を作用させて対応する式( I )の化合物を得ることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造法。 - (3)弱塩基性水性媒体中でZ=CHOである式(II)
の化合物又はその対応する塩形成された形の化合物にふ
っ素を作用させて対応する式( I )の化合物を得るこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造法。 - (4)アセトニトリルの存在下に実施することを特徴と
する特許請求の範囲第3項記載の製造法。 - (5)次式(II′_A)の化合物又はその対応する塩形
成された形(II′_B)の化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼(II′_A) ▲数式、化学式、表等があります▼(II′_B) (ここでMはアルカリ金属又はアルカリ土金属を表わし
、R_1、R_2、Y及びalkは前記したものと同じ
意味を有する) にふっ素と相容性の有機溶媒中でふっ素を作用させ、次
いで得られた化合物に塩基性水溶液を作用させて対応す
る式( I )の化合物を得ることを特徴とする特許請求
の範囲第1又は2項記載の製造法。 - (6)式(II′_A)又は(II′_B)の化合物に塩基
性水溶液中でふっ素を作用させて対応する式( I )の
化合物を得ることを特徴とする特許請求の範囲第1又は
2項記載の製造法。 - (7)R_1及びR_2がそれぞれ1〜4個の炭素原子
を含有する線状アルキルオキシ基を表わすことを特徴と
する特許請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載の製造
法。 - (8)Yが−CO_2R_3基(ここでR_3は1〜6
個の炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若し
くは分岐状アルキル基を表わす)を表わすことを特徴と
する特許請求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の製造
法。 - (9)Yが▲数式、化学式、表等があります▼基(ここ
でR_6は6個までの炭素原子を含有する飽和若しくは
不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は6〜14個
の炭素原子を含有するアリール基を表わす)を表わすこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1〜7項のいずれかに
記載の製造法。 - (10)Yがシアノ基を表わすことを特徴とする特許請
求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の製造法。 - (11)次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ここで、R_1及びR_2は同一又は異なっていてよ
く、6〜14個の炭素原子を含有するアリール基、8個
までの炭素原子を含有する飽和若しくは不飽和の線状若
しくは分岐状アルキル基、18個までの炭素原子を含有
するアラルキル基、6〜14個の炭素原子を含有するア
リールオキシ基、8個までの炭素原子を含有する飽和若
しくは不飽和の線状若しくは分岐状アルキルオキシ基、
又は18個までの炭素原子を含有するアラルキルオキシ
基を表わし、或るいはR_1とR_2はこれらとりんと
の間で環を形成してもよく、 Yは、−CO_2R_3基(ここでR_3は8個までの
炭素原子を含有できる飽和若しくは不飽和の、置換され
ていてよい線状若しくは分岐状アルキル基を表わす)、
−CN基、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、R_4及びR_5は同一又は異なっていてよ
く、水素原子、8個までの炭素原子を含有する飽和若し
くは不飽和の線状若しくは分岐状アルキル基又は14個
までの炭素原子を含有するアリール基を表わす) の基、又は▲数式、化学式、表等があります▼基(ここ
でR_6は10個までの炭素原子を含有する飽和若しく
は不飽和の線状若しくは分岐状の又は環状のアルキル基
或るいは14個までの炭素原子を含有するアリール基を
表わす)を表わす〕 の化合物(ただし、R_1及びR_2がそれぞれエチル
オキシ基を表わすときはYは−CO_2C_2H_5基
を表わさないものとする)。 - (12)化合物名が下記の通りの特許請求の範囲第11
項記載の式( I )の化合物。 (1−フルオル−2−オキソプロピル)ホスホン酸のジ
メチルエステル、 (3,3−ジメチル−1−フルオル−2−オキソブチル
)ホスホン酸のジエチルエステル、 (1−フルオル−2−オキソ−2−フェニルエチル)ホ
スホン酸のジエチルエステル、 フルオルシアノメチルホスホン酸のジエチルエステル、 O,O−ジメチルホスホノ−2−フルオル−2−酢酸メ
チル。
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FR8517145A FR2590259B1 (fr) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | Procede de preparation de derives fluores de l'acide phosphonique, et produits obtenus par la mise en oeuvre de ce procede |
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Citations (2)
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JPS6023343A (ja) * | 1980-10-01 | 1985-02-05 | ルセル−ユクラフ | ピレトリン酸と関連したシクロプロパンカルボン酸のエステル、それらの製造方法 |
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1985
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-
1986
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- 1986-11-20 DE DE8686402577T patent/DE3667980D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-11-20 US US06/933,031 patent/US4757127A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-20 EP EP86402577A patent/EP0224417B1/fr not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE2651979A1 (de) * | 1975-11-14 | 1977-05-26 | Hoffmann La Roche | Polyenverbindungen |
JPS6023343A (ja) * | 1980-10-01 | 1985-02-05 | ルセル−ユクラフ | ピレトリン酸と関連したシクロプロパンカルボン酸のエステル、それらの製造方法 |
Also Published As
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DE3667980D1 (de) | 1990-02-08 |
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