JP2002371710A - 基礎および基礎の構築方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 脱型後、時間が経過しても基礎が乾燥収縮す
ることなく、表面に形成される微小孔を目立たなくさせ
て、美観に優れた基礎とすることのできる基礎および基
礎の構築方法を提供すること。 【解決手段】 基礎型枠１内にコンクリート２を打設し
た後に、基礎型枠１内のコンクリート２を攪拌手段（例
えば、スページング治具３）を用いて、少なくとも基礎
型枠１の内面に沿って地盤上に露出する部分を攪拌し、
その後、脱型し、基礎２０の表面２０aを補修して該表
面２０aを平らにする。次いで、基礎２０の表面２０a
に、該基礎２０の乾燥収縮を防止する乾燥収縮低減剤２
９を塗布する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、建築物を支持する
基礎および基礎の構築方法に関するものである。

【０００２】

【背景の技術】建物のコンクリート製基礎を施工する場
合は、基礎型枠内にコンクリートを流し込んだ後に、養
生させ、基礎型枠を取り外すことによって脱型して基礎
を施工する。しかし、基礎型枠にコンクリートを打設す
る場合、基礎型枠に接するコンクリートの表面には気泡
が発生するので、脱型した後には、この気泡による気泡
跡がコンクリートの表面に生じることがあった。そのた
め、基礎の美観を損ねることがあり、この気泡低減対策
として、基礎型枠に沿ってコンクリートを棒等で掻いた
りすることにより気泡を追い出すスページングと呼ばれ
る方法が知られている。この一例として、特開平８−２
３８６０９号公報に記載されている技術が挙げられる。
この技術では、扁平な形状の振動部の片面にスポンジを
取り付けて構成したバイブレータを基礎型枠内に挿入
し、側型枠に沿って振動を加えて、同側型枠に接するコ
ンクリート中の気泡を追い出している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記特開平
８−２３８６０９号公報では、前記バイブレータを基礎
型枠内に沿って振動を加えて、基礎型枠に接するコンク
リート表面の気泡を除去しているが、しかし、このバイ
ブレータを使用するだけでは、必ずしも前記気泡を完全
には除去することができない場合があり、残存していた
小さな気泡によって、脱型後、基礎の表面に微小孔が生
じることがあった。そのため、この微小孔を外側から見
た際に目立たないように、例えば、前記微小孔をモルタ
ルで埋めるなどして基礎の表面を平らにしている。しか
し、コンクリートからなる基礎は、時間が経過するにつ
れてコンクリート内の水分が蒸発して乾燥収縮すること
があるので、微小孔に埋め込まれたモルタルが剥落する
ことがあった。そのため、微小孔が外側から見えてしま
い、基礎の表面の美観が損なわれることがあった。

【０００４】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、脱型後、時間が経過しても基礎が乾燥収縮すること
がなく、表面に形成される微小孔を目立たなくさせて、
美観に優れた基礎とすることのできる基礎および基礎の
構築方法を提供することを課題としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１の発明は、例えば、図１(a),(b)、図９、
図１０、図１２に示すように、建築物を支持する基礎２
０の構築方法であって、基礎型枠１内にコンクリート２
を打設した後に、前記基礎型枠１内のコンクリート２を
攪拌手段（例えば、スページング治具３）を用いて攪拌
するとともに、前記コンクリート２の攪拌に際し、前記
攪拌手段３を少なくとも基礎型枠１の内面に沿って地盤
上に露出する部分を攪拌する攪拌工程と、前記攪拌工程
の後、脱型し、前記基礎２０の表面２０aを補修して該
表面２０aを平らにする補修工程と、補修された基礎２
０の表面２０aに、該基礎２０の乾燥収縮を防止する乾
燥収縮低減剤２９を塗布する塗布工程とを備えているこ
とを特徴とする。

【０００６】請求項１の発明によれば、前記攪拌工程
と、前記補修工程と、前記塗布工程とを備えているの
で、まず、攪拌工程において、前記基礎型枠１の内面に
沿って地盤上に露出する部分を、攪拌手段３で攪拌する
ことによって、コンクリート２を打設する際に、基礎型
枠１の表面に浮き出た大きな気泡を微粒子に拡散させる
とともに除去することができる。次に、前記補修工程に
おいて、前記基礎２０の表面２０aを補修して該表面２
０aを平らにするので、凹凸がなく美観に優れた基礎２
０とすることができる。

【０００７】さらに、前記塗布工程において、基礎２０
の表面２０aに前記乾燥収縮低減剤２９を塗布するの
で、従来と異なり、基礎２０のコンクリート２内に含ま
れた水分が外に蒸発して基礎２０が乾燥収縮することを
防ぐことができる。したがって、基礎２０が乾燥収縮す
ることがないので、前記補修工程において基礎２０の表
面２０aの補修された箇所を、凹凸がなく美観に優れた
状態で維持することができる。つまり、例えば、前記補
修工程において、基礎２０の表面２０aにモルタル２４
が塗りつけられている場合は（請求項３）、乾燥収縮に
よって、このモルタル２４が剥落することがなく、確実
に補修することができ、美観に優れた基礎２０とするこ
とができる。また、前記補修工程は、前記塗布工程の前
に行うので、平滑な基礎２０の表面２０aとされた状態
で前記乾燥収縮低減剤２９を塗布することができ、乾燥
収縮低減剤２９を塗布し易い。

【０００８】前記乾燥収縮低減剤２９とは、例えば、低
級アルコール等が挙げられる。

【０００９】請求項２の発明は、例えば、図１７に示す
ように、請求項１記載の基礎２０の構築方法において、
前記塗布工程の後、前記基礎２０の表面２０aに仕上げ
材３６を塗布して基礎２０の表面２０aを仕上げる仕上
げ工程を備えていることを特徴とする。

【００１０】請求項２の発明によれば、前記仕上げ工程
において、前記基礎２０の表面２０aに前記仕上げ材３
６を塗布することによって、基礎２０の表面２０a全体
を平らな状態で仕上げることができるとともに、一体感
のある基礎２０の表面２０aとすることができる。

【００１１】前記仕上げ材３６とは、例えば、着色した
モルタル等が挙げられる。

【００１２】請求項３の発明は、例えば、図９および図
１０(a),(b)に示すように、請求項２記載の基礎２０の
構築方法において、前記補修工程は、前記基礎型枠１，
１どうしの継ぎ目により基礎２０の表面２０aに形成さ
れた段差部分２１を削る第１の補修工程と、前記攪拌工
程により、前記基礎２０の表面２０aに形成された微小
孔２１aを充填材（例えば、補修用モルタル粉体２４）
で埋める第２の補修工程とを備えていることを特徴とす
る。

【００１３】請求項３の発明によれば、前記第１の補修
工程において、前記基礎型枠１，１どうしの継ぎ目によ
り、基礎２０の表面２０aに形成された段差部分２１を
削るので、この段差部分２１がなくなって、外側から見
た際に見栄えが良い。また、前記第２の補修工程におい
て、前記基礎２０の表面２０aに形成された微小孔２１a
を充填材２４で埋めるので、微小孔２１aに埋め込まれ
た充填材２４の表面と基礎２０の表面２０aとが平らと
なり、よって、美観に優れた基礎２０とすることができ
る。

【００１４】前記充填材とは、例えば、補修用モルタル
粉体２４やセメント等が挙げられる。前記第１の補修工
程は、例えば、前記段差部分２１をスクレーパー２２を
使用して削ることである。（図９参照） 前記第２の補修工程は、例えば、前記微小孔２１aに水
を吹きかけて、その後、補修用モルタル粉体２４が付着
した補修治具２５の当接部２７を、前記微小穴２１aに
擦りつけることによって、モルタル粉体２４を埋め込む
ことである。（図１０参照）

【００１５】請求項４の発明は、例えば、図１５に示す
ように、請求項３記載の基礎２０の構築方法において、
前記塗布工程の後で、かつ、前記仕上げ工程の前に、前
記第１の補修工程において削られた前記基礎２０の表面
２０aの段差部分２１の凹部をパテ３４で埋めるパテ処
理工程を備えていることを特徴とする。

【００１６】請求項４の発明によれば、前記パテ処理工
程において、前記基礎２０の表面２０aで、前記第１の
補修工程において削られた段差部分２１の凹部をパテ３
４で埋めるので、このパテ３４によって段差部分２１の
表面２０aを均一とすることができる。よって、請求項
１〜３に比してより、美観に優れた基礎２０とすること
ができる。

【００１７】請求項５の発明は、例えば、図１７に示す
ように、請求項２〜４のいずれか１項に記載の基礎２０
の構築方法により表面２０aが仕上げられたことを特徴
とする。

【００１８】請求項５の発明によれば、前記攪拌工程、
前記補修工程、前記塗布工程、前記仕上げ工程によって
表面２０aが仕上げられているので、脱型後、時間が経
過しても乾燥収縮することがない。したがって、前記補
修工程において基礎２０の表面２０aの補修された箇所
を凹凸がなく、平らな状態に維持することができ、よっ
て美観に優れた基礎２０とすることができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１〜図１７は、本発明の実施の
形態の基礎の構築方法を示す作業工程図である。建築物
を支持する基礎の構築方法について説明する。まず、図
１(a),(b)に示すように、構築すべき基礎２０の周囲を
囲う鋼製の基礎型枠１を組み立てる。そして、組み立て
られた基礎型枠１に気泡が入らないようにバイブレータ
ー（図示しない）を使用しながらコンクリート２を打設
し、コンクリート２を締め固める。

【００２０】コンクリート２打設後、スページング処理
を行う。つまり、バイブレーターによって基礎型枠１の
表面に浮き出た大きな気泡をスページング治具３によっ
て微粒子に拡散する。このスページング治具３は、基礎
型枠１に沿って該基礎型枠１面に対して均一に押し当て
るようにして移動させ、地盤上に露出する部分を攪拌さ
せて使用する（攪拌工程）。

【００２１】そして、このようにして打設したコンクリ
ート２を養生させた後、打設されたコンクリート天端４
のブリーディングが引いたら、図２(a),(b)に示すよう
にコンクリート天端４に天端釘５を複数埋め込む。

【００２２】前記天端釘５は、図３(a),(b)に示すよう
に、コンクリート２に埋め込まれる釘部６と、該釘部６
の上端部に螺合される高さ調整部材７とを備えており、
この高さ調整部材７を回転させることによって、天端釘
５の上端の高さが調整できるようになっている。前記高
さ調整部材７は亜鉛メッキ製のビスである。そして、こ
の天端釘５の高さ調整部材７がコンクリート天端４より
突出し、かつ、釘部６のツバ６aが見えなくなるよう
に、コンクリート天端４に対して垂直に５０ｃｍ〜１ｍ
間隔で複数埋め込む（図２(a),図３(a)参照）。

【００２３】次に、コンクリート天端４に埋め込まれた
天端釘５の高さ調整部材７を、水平器付き天端釘専用調
整ドライバー８を回転させながら、高さ調整部材７がコ
ンクリート天端４から５〜１０ｍｍ突出するようにレベ
ル調整を行う。レベル調整を行う際には、調整ドライバ
ー８の水平器を確認しながら行う（図２(b),図３(b)参
照）。

【００２４】ここで、高さ調整部材７をコンクリート天
端４から５〜１０ｍｍ突出するように調整するのは、５
ｍｍ未満とした場合は、打設するセルフレベリング材９
の量が少ないので、セルフレベリング材９を打設しても
基礎天端を平らに均すことができず、また、１０ｍｍ以
上とした場合は、打設するセルフレベリング材９の材料
の性質上、精度が出しづらくなってしまうためである。
このようにして天端釘５を基礎型枠１の全周に亘って設
置する。

【００２５】次に、前記コンクリート天端４にセルフレ
ベリング材９を打設する。なお、コンクリート２を打設
してからセルフレベリング材９を打設するまでの時間
は、夏季で１〜２時間、冬季で２〜３時間とする。ま
た、コンクリート天端４にセルフレベリング材９を打設
する前に、コンクリート天端４のブリーディングが引い
ていない場合は、刷毛等で水分やゴミを吸い取ってお
く。また、コンクリート２打設後、コンクリート天端４
が乾燥してしまっている場合は、このコンクリート２に
水を十分湿らせておく。まず、図４に示すように、硬化
したコンクリート２と打設するセルフレベリング材９と
の付着力を高めるために、コンクリート天端４に刷毛１
１等を使用して引っ掻き傷１２を形成し、さらに、この
コンクリート天端４にプライマーを塗布する。

【００２６】一方、図５に示すように、混練用容器１３
に水を入れ、電動ハンドミキサー１４で撹拌しながら徐
々にセルフレベリング材９を入れママコ等の固まりがな
くなるまで十分混練し、流すタイミングに合わせてセル
フレベリング材９を準備しておく。

【００２７】そして、図６(a),(b)に示すように、コン
クリート天端４に複数のせき止め用板１５を１ｍ間隔
で、かつ、隣り合うせき止め用板１５，１５で区画され
たせき止め区画１６に少なくとも１以上の天端釘５が位
置するようにして設置する。この際に、せき止め用板１
６の下端部とコンクリート天端４との間にスポンジ（図
示しない）を挟み込んで設置しておく。このようにスポ
ンジを挟みこんでおくと、せき止め区画１６に打設され
るセルフレベリング材９を他のせき止め区画１６に漏れ
ないように確実にせき止めることができる。

【００２８】せき止め用板１５を設置したら、区画され
たせき止め区画１６にセルフレベリング材９を打設し、
このせき止め区画１６と隣接するせき止め区画１６にセ
ルフレベリング材９を打設する。つまり、それぞれのせ
き止め区画１６において、コンクリート天端４から天端
釘５の高さ調整部材７の上端まで、セルフレベリング材
９を５〜１０ｍｍ程度打設する。

【００２９】このようにして、隣接する２箇所のせき止
め区画１６，１６にセルフレベリング材９を打設した
ら、図７(a),(b)に示すように、セルフレベリング材９
が硬化する前に、一方のせき止め区画１６と他方のせき
止め区画１６との間にあるせき止め用板１５を取り外
し、このせき止め用板１５が取り外されたつなぎ部分１
７をトンボ１８を使用して、両せき止め区画１６，１６
に打設されたセルフレベリング材９によって平らに均
す。

【００３０】隣接するせき止め区画１６のつなぎ部分１
７を平らに均した後に、このせき止め区画１６と隣接す
る次のせき止め区画１６にセルフレベリング材９を打設
し、さらにそのつなぎ部分１７を平らに均し、この作業
を順次繰り返すことによってコンクリート天端４の全周
に亘ってセルフレベリング材９を打設する。

【００３１】コンクリート天端４にセルフレベリング材
９を打設した後、図８に示すように、コンクリート２お
よびセルフレベリング材９が打設された基礎型枠１にビ
ニールシート１９をかぶせてセルフレベリング材９を養
生させる。セルフレベリング材９の脱型までの養生期間
は、コンクリート２養生期間と同様とする。

【００３２】前記セルフレベリング材９を養生した後、
基礎型枠１を取り外す。ここで、図９に示すように、脱
型された基礎２０の表面２０aには、基礎型枠１と基礎
型枠１との継ぎ目による段差部分２１が形成されている
ので、例えば、スクレーパー２２またはベビーサンダー
を使用してこの段差部分２１を削る（第１の補修工
程）。

【００３３】その後、上述したスページング処理が行え
なかった箇所や不十分だった箇所等に形成されて基礎２
０の表面２０aにあらわれた微小孔２１aの補修を行う。
つまり、この微小孔２１aに霧吹き２３等で水を拭きか
け（図１０(a)参照）、微小孔２１aに擦りこまれる補修
用モルタル粉体２４をなじみやすい状態にしておく。そ
して、この微小孔２１aに補修用のモルタル粉体２４を
擦り込むことによって、微小孔２１aをモルタル２４で
埋めて表面２０aを平滑にする（図１０(b)参照）（第２
の補修工程）。このモルタル粉体２４を基礎２０の表面
２０aに擦り込むには、補修治具２５を使用する。

【００３４】この補修治具２５は、図１１(a),(b)に示
すように、内部にモルタル粉体２４が充填されている充
填部２６と、この充填部２６に設けられて、基礎２０の
表面２０aに当接する当接部２７とを備えている。前記
当接部２７の下面にはスポンジ２８が設けられている。

【００３５】前記充填部２６は円筒状で、この筒内にモ
ルタル粉体２４が充填されており、この充填部２６を手
で持つようになっている。前記当接部２７は、平面視矩
形状の板状部材であって、中央部に円形状の穴が形成さ
れている。そして、この穴内に前記充填部２６が嵌合さ
れており、当設部２７に対して突出し、かつ、傾斜して
取り付けられている。そして、充填部２６に充填されて
いるモルタル粉体２４を、スポンジ２８に付着させて、
このスポンジ２８を基礎２０の表面２０aに弧を描くよ
うにして擦り付けることによって、基礎２０表面２０a
の微小孔２１a内にモルタル粉体２４を埋め込む。

【００３６】なお、この作業で補修しきれない微小孔２
１aがある場合は、補修用のモルタル粉体２４を別容器
に取り、水を多少加えて溶いたものをゴム刷毛またはコ
テなどで微小孔２１aを埋めると良い。

【００３７】次いで、基礎２０の表面２０aに残った余
分な補修用のモルタル粉体２４をサンドペーパーまたは
ウエスで仕上げる。

【００３８】このように基礎２０の表面２０aの下地処
理をした後に、図１２に示すように、基礎２０の表面２
０aに乾燥収縮低減剤２９を塗布する（塗布工程）。す
なわち、無色透明の低級アルコールである乾燥収縮低減
剤２９をローラー３０で基礎２０の表面２０aに対して
均等に２回塗布する。その後、図１３に示すように、強
化ポリエチレンシートの基礎養生シート３１によって基
礎２０を覆って基礎２０の表面２０aを汚さないように
しておく。

【００３９】そして、上述したようにして施工された基
礎２０上に建物躯体３２を設置する。すなわち、このよ
うに建物躯体３２を設置する際には、基礎２０の表面２
０aは平らな状態とされている。建物躯体３２を設置し
た後に、前記基礎養生シート３１を取り外して、図１４
に示すように、基礎２０の下端部回りの余分な土３３を
掘削してよける。そして、再び基礎型枠１と基礎型枠１
との継ぎ目に形成された段差部分２１を上述しように基
礎立ち上がり面に沿ってスクレーパー２２で丁寧に削
り、この基礎立ち上がり面に付着した泥はね等の汚れを
ウエスやブラシで落とす（図示しない）。

【００４０】その後、図１５に示すように、スクレーパ
ー２２によって削られた基礎２０の表面２０aの段差部
分２１の凹部をパテ３４で埋めることによって調整し、
この凹部を目立たなくする（パテ処理工程）。前記パテ
３４は、硬いペースト状の充填材である。

【００４１】次いで、図１６に示すように、基礎２０の
水切上部２０bに、後述する仕上げ材３６を塗布した際
に養生するためのガムテープ３５を貼る。その後、図１
７に示すように、基礎２０の表面２０aに仕上げ材３６
を上下方向にローラー３７で２回塗布する（仕上げ工
程）。前記仕上げ材３６は、着色したモルタル等であっ
て、塗布する前にままこが残らないように攪拌機によっ
て十分に混練しておく。

【００４２】このようにして仕上げ材３６を塗布した
後、水切上部２０bに貼り付けられたガムテープ３５を
剥がし、さらに仕上げ前に掘り返した土３３を基礎２０
下端部に埋め戻す。この際に、仕上げた表面２０aを土
で汚さないようにする。

【００４３】本発明の実施の形態によれば、基礎型枠１
内にコンクリート２を打設した後に、基礎型枠１内のコ
ンクリート２をスページング治具３を用いて攪拌する
（攪拌工程）ので、基礎型枠１の表面に浮き出た大きな
気泡を微粒子に拡散させるとともに除去することができ
る。

【００４４】また、脱型後、基礎２０の表面２０aに形
成された段差部分２１をスクレーパー２２またはベビー
サンダーによって削る（第１補修工程）ので、段差部分
２１がなくなり外側から見た際に見栄えが良い。

【００４５】さらに、補修用モルタル粉体２４が付着し
た補修治具２５の当接部２７を微小孔２１aに擦りつけ
る（第２補修工程）ので、該微小孔２１aに補修用モル
タル粉体２４がなじむとともに、補修用モルタル粉体２
４が埋め込まれる。よって、微小孔２１aに埋め込まれ
た補修用モルタル粉体２４の表面と基礎２０の表面２０
aとが平らとなり、美観に優れた基礎２０とすることが
できる。

【００４６】また、前記補修治具２５は、充填部２６と
当接部２７とを備えており、その構成が単純であるの
で、容易に製造することができるとともに、誰でも容易
にこの補修治具２５を使用して補修作業を行うことがで
きる。

【００４７】補修された基礎２０の表面２０aに乾燥収
縮低減剤２９を塗布する（塗布工程）ので、基礎２０の
コンクリート２内に含まれた水分が外に蒸発して基礎２
０が乾燥収縮することを防げる。したがって、微小孔２
１aに埋め込まれた補修用モルタル粉体２４が、乾燥収
縮によって剥落することがなく、確実に補修することが
できる。

【００４８】また、乾燥収縮剤２９を塗布した後に、基
礎２０の表面２０aで、前記スクレーパー２２によって
削られた段差部分２１の凹部をパテ３４で埋めるパテ処
理を施す（パテ処理工程）ので、段差部分２１の表面を
均一とすることができる。このようにパテ処理によって
平滑な基礎２０の表面２０aとされた状態で、この表面
２０aに仕上げ材３６を塗布する（仕上げ工程）ので、
仕上げ材３６を塗布し易く、さらに、仕上げ材３６を塗
布することによって基礎２０の表面２０a全体を平らな
状態で仕上げることができるとともに、一体感のある基
礎２０の表面２０aとすることができる。

【００４９】建物躯体３２を設置する前に補修工程やパ
テ処理工程を行っているので、例えば、建物躯体３２を
設置した後にこれら補修工程やパテ処理工程を行う場合
に比して、その作業を行い易い。また、建物躯体３２を
設置する前の段階において、常に、基礎２０の表面２０
aの見栄えが良い。

【００５０】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、前記コンクリ
ートを打設する際に、基礎型枠の表面に浮き出た大きな
気泡を微粒子に拡散させるとともに除去することができ
る。よって、脱型後、この攪拌した部分の基礎の表面に
生じる微小孔を低減することができる。また、前記基礎
の表面を補修して該表面を平らにするので、凹凸がなく
美観に優れた基礎とすることができる。

【００５１】さらに、前記基礎の表面に乾燥収縮低減剤
を塗布するので、基礎のコンクリート内に含まれた水分
が蒸発して基礎が乾燥収縮することを防ぐことができ、
よって、基礎が乾燥収縮しないので、補修工程による補
修箇所の美観が維持される。

【００５２】請求項２の発明によれば、請求項１と同様
の効果を得ることができるのは勿論のこと、前記仕上げ
材を塗布することによって、基礎の表面全体を平らな状
態で仕上げることができるとともに、一体感のある基礎
の表面とすることができる。

【００５３】請求項３の発明によれば、請求項２と同様
の効果を得ることができるのは勿論のこと、前記基礎型
枠どうしの継ぎ目により形成された段差部分を削るの
で、外側から見た際に段差部分がなくなって見栄えが良
い。また、前記基礎の表面に形成された微小孔を充填材
で埋めるので、微小孔に埋め込まれた充填材の表面と基
礎の表面とが平らとなり、美観に優れた基礎とすること
ができる。

【００５４】請求項４の発明によれば、請求項３と同様
の効果を得ることができるのは勿論のこと、前記基礎の
表面で、削られた段差部分の凹部をパテで埋めるので、
このパテによって段差部分の表面を均一とすることがで
きる。

【００５５】請求項５の発明によれば、前記攪拌工程、
前記補修工程、前記塗布工程、前記仕上げ工程によって
表面が仕上げられているので、脱型後、時間が経過して
もコンクリートが乾燥収縮することがない。したがっ
て、前記補修工程において基礎の表面の補修された箇所
を凹凸がなく、平らな状態に維持することができ、よっ
て美観に優れた基礎とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示すためのもので、(a)
はスページング処理（攪拌工程）を示す斜視図、(b)は
スページング処理（攪拌工程）を示す側断面図である。

【図２】同、(a)はコンクリート天端に天端釘を設置す
る作業を示す斜視図、(b)は天端釘を調整する作業を示
す斜視図である。

【図３】同、(a)はコンクリートに天端釘が設置されて
いる状態を示す側断面図、(b)は天端釘が調整されてい
る状態を示す側断面図である。

【図４】同、コンクリート天端に引っかき傷を形成する
作業を示す斜視図である。

【図５】同、セルフレベリング材の準備作業を示す斜視
図である。

【図６】同、(a)はせき止め区画にセルフレベリング材
を打設する作業を示す斜視図、(b)はせき止め区画にセ
ルフレベリング材が打設されている状態を示す側断面図
である。

【図７】同、(a)はつなぎ部分を平らに均す作業を示す
斜視図、(b)はつなぎ部分が平らに均されている状態を
示す側断面図である。

【図８】同、ビニールシートをかぶせる作業を示す斜視
図である。

【図９】同、基礎の表面の段差を削る作業（第１の補修
工程）を示す斜視図である。

【図１０】同、(a)および(b)は微小孔の補修作業（第２
の補修工程）を示す斜視図である。

【図１１】同、(a)は微小孔補修治具の側断面図、(b)は
微小孔補修治具の下面図である。

【図１２】同、基礎の表面に乾燥収縮低減剤を塗布する
作業（塗布工程）を示す斜視図である。

【図１３】同、基礎の表面に基礎養生シートをかぶせる
作業を示す斜視図である。

【図１４】同、基礎下端部の土を掘削する作業を示す斜
視図である。

【図１５】同、基礎の表面にパテ処理工程を示す斜視図
である。

【図１６】同、基礎水切上部にガムテープを貼る作業を
示す斜視図である。

【図１７】同、基礎の表面に仕上げ材を塗布する作業
（仕上げ工程）を示す斜視図である。

【符号の説明】

１ 基礎型枠 ２ コンクリート ３ 攪拌手段 ２０ 基礎 ２０a 表面 ２１ 段差部分 ２１a 微小孔 ２４ 充填材 ２９ 乾燥収縮低減剤 ３４ パテ ３６ 仕上げ材

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 建築物を支持する基礎の構築方法であっ
   て、 基礎型枠内にコンクリートを打設した後に、前記基礎型
   枠内のコンクリートを攪拌手段を用いて攪拌するととも
   に、前記コンクリートの攪拌に際し、前記攪拌手段を少
   なくとも基礎型枠の内面に沿って地盤上に露出する部分
   を攪拌する攪拌工程と、 前記攪拌工程の後、脱型し、前記基礎の表面を補修して
   該表面を平らにする補修工程と、 補修された基礎の表面に、該基礎の乾燥収縮を防止する
   乾燥収縮低減剤を塗布する塗布工程とを備えていること
   を特徴とする基礎の構築方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基礎の構築方法におい
   て、 前記塗布工程の後、前記基礎の表面に仕上げ材を塗布し
   て基礎の表面を仕上げる仕上げ工程を備えていることを
   特徴とする基礎の構築方法。
3. 【請求項３】 請求項２記載の基礎の構築方法におい
   て、 前記補修工程は、前記基礎型枠どうしの継ぎ目により、
   基礎の表面に形成された段差部分を削る第１の補修工程
   と、 前記攪拌工程により、前記基礎の表面に形成された微小
   孔を充填材で埋める第２の補修工程とを備えていること
   を特徴とする基礎の構築方法。
4. 【請求項４】 請求項３記載の基礎の構築方法におい
   て、 前記塗布工程の後で、かつ、前記仕上げ工程の前に、前
   記第１の補修工程において削られた前記基礎の表面の段
   差部分の凹部をパテで埋めるパテ処理工程を備えている
   ことを特徴とする基礎の構築方法。
5. 【請求項５】 請求項２〜４のいずれか１項に記載の基
   礎の構築方法により表面が仕上げられたことを特徴とす
   る基礎。