JP2002359345A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 構成される全てのチップに導電性バンプなど
の外部接続部材を設けるようにして配線基板に搭載した
半導体装置を提供し、配線基板とこの配線基板にフリッ
プチップ接続されたチップとの間の空間に完全に収納さ
れる他のチップをフリップチップ接続させた、熱的歪み
による破損の少ないチップを有する半導体装置の製造方
法を提供する。 【解決手段】 配線基板１０３とこの配線基板にフリッ
プチップ接続された半導体チップ１０１との間の空間に
完全に収納される他の半導体チップ１０１′をフリップ
チップ接続させる。これらフリップチップ接続は、セル
フアラインで行うことが可能であり、また、半導体素子
が形成された複数の半導体チップ間で高速大容量のデー
タ転送が可能になる。複数の半導体チップが配線基板上
に形成されていても熱的歪みによる大きな影響が１方向
に限られるので半導体装置の機械的強度が向上する。
の外部接続部材を設けるようにして配線基板に搭載した
半導体装置を提供し、配線基板とこの配線基板にフリッ
プチップ接続されたチップとの間の空間に完全に収納さ
れる他のチップをフリップチップ接続させた、熱的歪み
による破損の少ないチップを有する半導体装置の製造方
法を提供する。 【解決手段】 配線基板１０３とこの配線基板にフリッ
プチップ接続された半導体チップ１０１との間の空間に
完全に収納される他の半導体チップ１０１′をフリップ
チップ接続させる。これらフリップチップ接続は、セル
フアラインで行うことが可能であり、また、半導体素子
が形成された複数の半導体チップ間で高速大容量のデー
タ転送が可能になる。複数の半導体チップが配線基板上
に形成されていても熱的歪みによる大きな影響が１方向
に限られるので半導体装置の機械的強度が向上する。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、半導体素子形成面同士を
対向させた複数の半導体チップを直接積層させたフリッ
プチップ型半導体パッケージに関するものである。
対向させた複数の半導体チップを直接積層させたフリッ
プチップ型半導体パッケージに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、複数の半導体チップを直接積層す
るパッケージとしては、大きな半導体チップの上に小さ
な半導体チップを共に素子形成面を上を向けてダイマウ
ントしそれらの半導体チップの外周に形成された接続端
子からキャリアにワイヤボンディングする構造のパッケ
ージ（図４８）と、大きな半導体チップの外周と中央部
に接続端子を設けて、その中央部の接続端子上に小さな
半導体チップをフリップチップ接続する一方で外周部の
接続端子からキャリアにワイヤボンディングする構造の
パッケージ（図４９）が知られている。図４８におい
て、配線基板９３の上には、第１の半導体チップ９１が
搭載されている。第１の半導体チップ９１は、半導体素
子形成面９２を上にしている。配線基板には配線基板の
内部配線に接続されるアルミニウムなどからなる接続端
子（あるいは接続電極、接続パッドともいう）が基板表
面に形成されている。また、半導体チップにも内部に形
成された半導体素子に電気的に接続されるアルミニウム
などからなる接続端子（あるいは接続電極、接続パッド
ともいう）がチップ表面に形成されている。第１の半導
体チップ９１に形成された接続端子（図示しない）と配
線基板９３に形成された接続端子（図示しない）との間
は、Ａｌ、Ａｕなどのボンディングワイヤ９７により接
続されている。また、配線基板９３に搭載された第１の
半導体チップ９１の上には第２の半導体チップ９１′が
ダイボンド接着剤９８により接合されている。第２の半
導体チップ９１′は、半導体素子形成面９２′を上にし
ている。第２の半導体チップ９１′に形成された接続端
子（図示しない）と配線基板９３に形成された接続端子
（図示しない）との間は、Ａｌ、Ａｕなどのボンディン
グワイヤ１２７により接続されている。
るパッケージとしては、大きな半導体チップの上に小さ
な半導体チップを共に素子形成面を上を向けてダイマウ
ントしそれらの半導体チップの外周に形成された接続端
子からキャリアにワイヤボンディングする構造のパッケ
ージ（図４８）と、大きな半導体チップの外周と中央部
に接続端子を設けて、その中央部の接続端子上に小さな
半導体チップをフリップチップ接続する一方で外周部の
接続端子からキャリアにワイヤボンディングする構造の
パッケージ（図４９）が知られている。図４８におい
て、配線基板９３の上には、第１の半導体チップ９１が
搭載されている。第１の半導体チップ９１は、半導体素
子形成面９２を上にしている。配線基板には配線基板の
内部配線に接続されるアルミニウムなどからなる接続端
子（あるいは接続電極、接続パッドともいう）が基板表
面に形成されている。また、半導体チップにも内部に形
成された半導体素子に電気的に接続されるアルミニウム
などからなる接続端子（あるいは接続電極、接続パッド
ともいう）がチップ表面に形成されている。第１の半導
体チップ９１に形成された接続端子（図示しない）と配
線基板９３に形成された接続端子（図示しない）との間
は、Ａｌ、Ａｕなどのボンディングワイヤ９７により接
続されている。また、配線基板９３に搭載された第１の
半導体チップ９１の上には第２の半導体チップ９１′が
ダイボンド接着剤９８により接合されている。第２の半
導体チップ９１′は、半導体素子形成面９２′を上にし
ている。第２の半導体チップ９１′に形成された接続端
子（図示しない）と配線基板９３に形成された接続端子
（図示しない）との間は、Ａｌ、Ａｕなどのボンディン
グワイヤ１２７により接続されている。
【０００３】図４９において、配線基板９３の上には半
導体素子形成面９２を上にして第１の半導体チップ９１
が接合されている。第１の半導体チップ９１に形成され
た外周部の接続端子（図示しない）と配線基板９３に形
成された接続端子（図示しない）との間は、Ａｌ、Ａｕ
などのボンディングワイヤ９７により接続されている。
また、配線基板９３に搭載された第１の半導体チップ９
１の上には第２の半導体チップ９１′が載置されてい
る。第２の半導体チップ９１′は、半導体素子形成面９
２′を下にしている。第２の半導体チップ９１′に形成
された接続端子（図示しない）と第１の半導体チップ９
１の中央部に形成された接続端子（図示しない）とは、
半田バンプなどのフリップチップ接続バンプ９９により
接続されている。
導体素子形成面９２を上にして第１の半導体チップ９１
が接合されている。第１の半導体チップ９１に形成され
た外周部の接続端子（図示しない）と配線基板９３に形
成された接続端子（図示しない）との間は、Ａｌ、Ａｕ
などのボンディングワイヤ９７により接続されている。
また、配線基板９３に搭載された第１の半導体チップ９
１の上には第２の半導体チップ９１′が載置されてい
る。第２の半導体チップ９１′は、半導体素子形成面９
２′を下にしている。第２の半導体チップ９１′に形成
された接続端子（図示しない）と第１の半導体チップ９
１の中央部に形成された接続端子（図示しない）とは、
半田バンプなどのフリップチップ接続バンプ９９により
接続されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
構造（図４８）では複数の半導体チップを最近接させて
いるにも関わらず、その間での接続がワイヤボンディン
グを介さざるを得ないため、高速大容量のデータ転送が
出来ないという問題があった。また、一方後者において
は（図４９）、複数の半導体チップ間が最短距離で多端
子接続出来るため高速大容量のデータ転送が出来るもの
の小さいチップ側からの外部端子は下の大きいチップを
介さずに外部と接続することが出来なかった。またいず
れのパッケージにおいてもチップサイズは、必ずいずれ
かが大きくなければならず、且つ小さい方のチップは、
他方のチップとの高速大容量データ転送と外部とのデー
タ転送のいずれか一方を断念せざるを得ないという制約
があった。また、いずれのパッケージにおいても、半導
体チップに形成された半導体素子への電源供給をエリア
状にして効果的に行うことが不可能であった。つまり、
従来電源電圧は、配線基板からボンディングワイヤを介
して半導体チップの周辺に形成された接続端子（接続パ
ッド）を通り、半導体チップの中央部分に形成された半
導体素子へ半導体チップ内部に形成された配線を介して
供給されていた。本発明は、このような事情によりなさ
れたものであり、構成される全てのチップに導電性バン
プなどの外部接続部材を設けるようにして配線基板に搭
載した半導体装置を提供し、配線基板とこの配線基板に
フリップチップ接続された半導体チップとの間の空間に
収納される他の半導体チップをフリップチップ接続させ
た、熱的歪みによる破損の少ない半導体チップを有する
半導体装置及びこれらフリップチップ接続をセルフアラ
インにより行うことができる半導体装置の製造方法を提
供する。
構造（図４８）では複数の半導体チップを最近接させて
いるにも関わらず、その間での接続がワイヤボンディン
グを介さざるを得ないため、高速大容量のデータ転送が
出来ないという問題があった。また、一方後者において
は（図４９）、複数の半導体チップ間が最短距離で多端
子接続出来るため高速大容量のデータ転送が出来るもの
の小さいチップ側からの外部端子は下の大きいチップを
介さずに外部と接続することが出来なかった。またいず
れのパッケージにおいてもチップサイズは、必ずいずれ
かが大きくなければならず、且つ小さい方のチップは、
他方のチップとの高速大容量データ転送と外部とのデー
タ転送のいずれか一方を断念せざるを得ないという制約
があった。また、いずれのパッケージにおいても、半導
体チップに形成された半導体素子への電源供給をエリア
状にして効果的に行うことが不可能であった。つまり、
従来電源電圧は、配線基板からボンディングワイヤを介
して半導体チップの周辺に形成された接続端子（接続パ
ッド）を通り、半導体チップの中央部分に形成された半
導体素子へ半導体チップ内部に形成された配線を介して
供給されていた。本発明は、このような事情によりなさ
れたものであり、構成される全てのチップに導電性バン
プなどの外部接続部材を設けるようにして配線基板に搭
載した半導体装置を提供し、配線基板とこの配線基板に
フリップチップ接続された半導体チップとの間の空間に
収納される他の半導体チップをフリップチップ接続させ
た、熱的歪みによる破損の少ない半導体チップを有する
半導体装置及びこれらフリップチップ接続をセルフアラ
インにより行うことができる半導体装置の製造方法を提
供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体素子が
形成された２つ以上の半導体チップを互いにはみ出すよ
うに積層接続し、一方の半導体チップを配線基板にフリ
ップチップ接続する一方で、他方の半導体チップが配線
基板とワイヤーボンディング接続されていることを特徴
としている。すべての半導体チップに対し、配線基板に
電気的に接続される外部接続部材を設けることができる
とともに、半導体素子が形成された複数の半導体チップ
間で高速大容量のデータ転送が可能になる。また、本発
明は、配線基板とこの配線基板にフリップチップ接続さ
れた半導体チップとの間の空間に収納される他の半導体
チップをフリップチップ接続させることを特徴としてい
る。また、半導体素子が形成された複数の半導体チップ
間で高速大容量のデータ転送が可能になる。さらに、複
数の半導体チップが配線基板上に形成されていても熱的
歪みによる大きな影響が１方向に限られるので半導体装
置の機械的強度が向上する。また、配線基板にフリップ
チップ接続された接続端子の内の任意の一部は電源ある
いはグランド（ＧＮＤ）電位供給用に設定することがで
きるので、電源もしくはグランド電位供給用の配線長を
短くすることが可能になる。
形成された２つ以上の半導体チップを互いにはみ出すよ
うに積層接続し、一方の半導体チップを配線基板にフリ
ップチップ接続する一方で、他方の半導体チップが配線
基板とワイヤーボンディング接続されていることを特徴
としている。すべての半導体チップに対し、配線基板に
電気的に接続される外部接続部材を設けることができる
とともに、半導体素子が形成された複数の半導体チップ
間で高速大容量のデータ転送が可能になる。また、本発
明は、配線基板とこの配線基板にフリップチップ接続さ
れた半導体チップとの間の空間に収納される他の半導体
チップをフリップチップ接続させることを特徴としてい
る。また、半導体素子が形成された複数の半導体チップ
間で高速大容量のデータ転送が可能になる。さらに、複
数の半導体チップが配線基板上に形成されていても熱的
歪みによる大きな影響が１方向に限られるので半導体装
置の機械的強度が向上する。また、配線基板にフリップ
チップ接続された接続端子の内の任意の一部は電源ある
いはグランド（ＧＮＤ）電位供給用に設定することがで
きるので、電源もしくはグランド電位供給用の配線長を
短くすることが可能になる。
【０００６】すなわち、本発明の半導体装置は、素子形
成面上の異なる領域に第１及び第２の接続端子群を備え
た第１の半導体チップと、前記第１の接続端子群と対向
する位置にある第３の接続端子群及び第４の接続端子群
を備えた第２の半導体チップと、第５及び第６の接続端
子群を備えた配線基板とを具備し、前記第１の半導体チ
ップと前記第２の半導体チップとが前記第１の接続端子
群及び前記第３の接続端子群を介して対向接続されてお
り、前記第１の半導体チップと前記配線基板とが前記第
２の接続端子群及びこの第２の接続端子群とは鏡面対向
する位置にある前記第５の接続端子群を介してフリップ
チップ接続されており、且つ前記第４の接続端子群及び
第６の接続端子群がワイヤボンディングによって互いに
接続されていることを特徴としている。前記第５及び第
６の接続端子群は、配線基板の同じ面側に配置され、前
記第３及び第４の接続端子群は、前記第２の半導体チッ
プに形成された素子形成面上の異なる領域に配置されて
いるようにしても良い。前記第３及び第４の接続端子群
が前記第２の半導体チップの素子形成面の反対側の異な
る領域に配置されていて、前記第２の半導体チップの前
記第３及び第４の接続端子群の直下あるいは近傍に導電
層が埋め込まれた貫通穴が形成され、この導電層を介し
て前記第３及び第４の接続端子群が前記第２のチップに
形成された半導体素子と電気的に接続されているように
しても良い。前記第１及び第３の接続端子群を接続する
接続高さと前記第２の半導体チップの厚さとの和が前記
第２及び第５の接続端子群を接続する接続高さ以下であ
るようにしても良い。前記配線基板は、貫通窓を具備
し、前記第２の半導体チップがこの貫通窓の中に挿入さ
れているようにしても良い。前記配線基板は、貫通窓を
具備し、前記第５及び第６の接続端子群が前記配線基板
の異なる面に別々に配置されており、前記第６の接続端
子群が前記配線基板の貫通窓の外周に配置されており、
前記第３及び第４の接続端子群が前記第２の半導体チッ
プの異なる面に別々に配置されており、前記第３及び第
４の接続端子群のうちの前記第２の半導体チップの素子
形成面と異なる面に配置された端子群の直下あるいは近
傍に導電層が埋め込まれた貫通穴が形成されており、こ
の導電層を介して素子形成面の反対側の面に形成された
接続端子群と前記第２の半導体チップに形成された半導
体素子が電気的に接続されているようにしても良い。前
記第２の半導体チップの前記第４の接続端子群の背面と
前記配線基板の前記第４の接続端子群の直下の位置との
間に突起が形成されているようにしても良い。前記第２
及び第５の接続端子群の少なくとも一部のいずれか一方
に導電性バンプが形成され、このときの導電性バンプの
高さの和が、前記第１及び第３の接続端子群の接続高さ
と前記第２の半導体チップの厚さと前記突起の高さとの
和以上に設定され、且つ前記導電性バンプの溶融後の高
さが、前記第１及び第３の接続端子群の接続高さと前記
第２の半導体チップの厚さと前記突起の高さとの和以下
となるようにしても良い。前記第２の半導体チップは前
記配線基板と対向する面に第７の接続端子を具備し、前
記配線基板はこの第７の接続端子に対向する位置に第８
の接続端子を具備し、前記第７及び第８の接続端子が接
続されているようにしても良い。前記第２の半導体チッ
プは前記配線基板と対向する面に第７の接続端子を具備
し、前記配線基板は前記第７の接続端子に対向する位置
に第８の接続端子を具備し、前記第７と第８の接続端子
が接続されており、前記第２の半導体チップの前記第７
の接続端子の直下あるいは近傍に導電層が埋め込まれた
貫通穴が形成され、この導電層を介して、前記第７の接
続端子と前記第２の半導体チップに形成された半導体素
子が電気的に接続されているようにしても良い。
成面上の異なる領域に第１及び第２の接続端子群を備え
た第１の半導体チップと、前記第１の接続端子群と対向
する位置にある第３の接続端子群及び第４の接続端子群
を備えた第２の半導体チップと、第５及び第６の接続端
子群を備えた配線基板とを具備し、前記第１の半導体チ
ップと前記第２の半導体チップとが前記第１の接続端子
群及び前記第３の接続端子群を介して対向接続されてお
り、前記第１の半導体チップと前記配線基板とが前記第
２の接続端子群及びこの第２の接続端子群とは鏡面対向
する位置にある前記第５の接続端子群を介してフリップ
チップ接続されており、且つ前記第４の接続端子群及び
第６の接続端子群がワイヤボンディングによって互いに
接続されていることを特徴としている。前記第５及び第
６の接続端子群は、配線基板の同じ面側に配置され、前
記第３及び第４の接続端子群は、前記第２の半導体チッ
プに形成された素子形成面上の異なる領域に配置されて
いるようにしても良い。前記第３及び第４の接続端子群
が前記第２の半導体チップの素子形成面の反対側の異な
る領域に配置されていて、前記第２の半導体チップの前
記第３及び第４の接続端子群の直下あるいは近傍に導電
層が埋め込まれた貫通穴が形成され、この導電層を介し
て前記第３及び第４の接続端子群が前記第２のチップに
形成された半導体素子と電気的に接続されているように
しても良い。前記第１及び第３の接続端子群を接続する
接続高さと前記第２の半導体チップの厚さとの和が前記
第２及び第５の接続端子群を接続する接続高さ以下であ
るようにしても良い。前記配線基板は、貫通窓を具備
し、前記第２の半導体チップがこの貫通窓の中に挿入さ
れているようにしても良い。前記配線基板は、貫通窓を
具備し、前記第５及び第６の接続端子群が前記配線基板
の異なる面に別々に配置されており、前記第６の接続端
子群が前記配線基板の貫通窓の外周に配置されており、
前記第３及び第４の接続端子群が前記第２の半導体チッ
プの異なる面に別々に配置されており、前記第３及び第
４の接続端子群のうちの前記第２の半導体チップの素子
形成面と異なる面に配置された端子群の直下あるいは近
傍に導電層が埋め込まれた貫通穴が形成されており、こ
の導電層を介して素子形成面の反対側の面に形成された
接続端子群と前記第２の半導体チップに形成された半導
体素子が電気的に接続されているようにしても良い。前
記第２の半導体チップの前記第４の接続端子群の背面と
前記配線基板の前記第４の接続端子群の直下の位置との
間に突起が形成されているようにしても良い。前記第２
及び第５の接続端子群の少なくとも一部のいずれか一方
に導電性バンプが形成され、このときの導電性バンプの
高さの和が、前記第１及び第３の接続端子群の接続高さ
と前記第２の半導体チップの厚さと前記突起の高さとの
和以上に設定され、且つ前記導電性バンプの溶融後の高
さが、前記第１及び第３の接続端子群の接続高さと前記
第２の半導体チップの厚さと前記突起の高さとの和以下
となるようにしても良い。前記第２の半導体チップは前
記配線基板と対向する面に第７の接続端子を具備し、前
記配線基板はこの第７の接続端子に対向する位置に第８
の接続端子を具備し、前記第７及び第８の接続端子が接
続されているようにしても良い。前記第２の半導体チッ
プは前記配線基板と対向する面に第７の接続端子を具備
し、前記配線基板は前記第７の接続端子に対向する位置
に第８の接続端子を具備し、前記第７と第８の接続端子
が接続されており、前記第２の半導体チップの前記第７
の接続端子の直下あるいは近傍に導電層が埋め込まれた
貫通穴が形成され、この導電層を介して、前記第７の接
続端子と前記第２の半導体チップに形成された半導体素
子が電気的に接続されているようにしても良い。
【０００７】本発明の半導体装置は、素子形成面上の異
なる領域に第１及び第２の接続端子群を具備した第１乃
至第ｍの半導体チップと、当該第１の接続端子群の少な
くとも一部と対向する位置にある第３の接続端子群と外
周部に配置された第４の接続端子群とを具備した第（ｍ
＋１）乃至第ｎの半導体チップと、第５及び第６の接続
端子群を具備した配線基板とからなり、前記第１乃至第
ｍと第（ｍ＋１）乃至第ｎの半導体チップが前記第１及
び第３の接続端子群を介して対向接続されており、前記
第１乃至第ｍの半導体チップと前記配線基板とが、互い
に対向する位置にある前記第２及び第５の接続端子群を
介してフリップチップ接続されており、前記第４及び第
６の接続端子群がワイヤボンディングによって接続され
ていることを特徴としている。
なる領域に第１及び第２の接続端子群を具備した第１乃
至第ｍの半導体チップと、当該第１の接続端子群の少な
くとも一部と対向する位置にある第３の接続端子群と外
周部に配置された第４の接続端子群とを具備した第（ｍ
＋１）乃至第ｎの半導体チップと、第５及び第６の接続
端子群を具備した配線基板とからなり、前記第１乃至第
ｍと第（ｍ＋１）乃至第ｎの半導体チップが前記第１及
び第３の接続端子群を介して対向接続されており、前記
第１乃至第ｍの半導体チップと前記配線基板とが、互い
に対向する位置にある前記第２及び第５の接続端子群を
介してフリップチップ接続されており、前記第４及び第
６の接続端子群がワイヤボンディングによって接続され
ていることを特徴としている。
【０００８】本発明の半導体装置は、素子形成面上の異
なる領域に第１及び第２の接続端子群を備えた第１の半
導体チップと、前記第１の接続端子群と対向する位置に
ある第３の接続端子群及びこの第３の接続端子群とは異
なる面に配置された第４の接続端子群を備えた第２の半
導体チップと、第５及び第６の接続端子群を備えた配線
基板とを具備し、前記第１の半導体チップと前記第２の
半導体チップとが前記第１の接続端子群及び前記第３の
接続端子群を介してフリップチップ接続されており、前
記第１の半導体チップと前記配線基板とが前記第２の接
続端子群及びこの第２の接続端子群とは対向する位置に
ある前記第５の接続端子群を介してフリップチップ接続
されており、且つ前記第２の半導体チップと前記配線基
板とが前記第４の接続端子群及びこの第４の接続端子群
とは対向する位置にある第６の接続端子群を介してフリ
ップチップ接続されていることを特徴としている。
なる領域に第１及び第２の接続端子群を備えた第１の半
導体チップと、前記第１の接続端子群と対向する位置に
ある第３の接続端子群及びこの第３の接続端子群とは異
なる面に配置された第４の接続端子群を備えた第２の半
導体チップと、第５及び第６の接続端子群を備えた配線
基板とを具備し、前記第１の半導体チップと前記第２の
半導体チップとが前記第１の接続端子群及び前記第３の
接続端子群を介してフリップチップ接続されており、前
記第１の半導体チップと前記配線基板とが前記第２の接
続端子群及びこの第２の接続端子群とは対向する位置に
ある前記第５の接続端子群を介してフリップチップ接続
されており、且つ前記第２の半導体チップと前記配線基
板とが前記第４の接続端子群及びこの第４の接続端子群
とは対向する位置にある第６の接続端子群を介してフリ
ップチップ接続されていることを特徴としている。
【０００９】本発明の半導体装置の製造方法は、素子形
成面上の異なる領域に第１及び第２の接続端子群を備え
た第１の半導体チップを形成する工程と、前記第１の接
続端子群と対向する位置にある第３の接続端子群及びこ
の第３の接続端子群とは異なる面に配置された第４の接
続端子群を備えた第２の半導体チップを形成する工程
と、第５及び第６の接続端子群を備えた配線基板を形成
する工程と、前記第１の半導体チップと前記第２の半導
体チップとを前記第１の接続端子群及び前記第３の接続
端子群を介してフリップチップ接続する工程と、前記第
２の接続端子群及びこの第２の接続端子群とは対向する
位置にある前記第５の接続端子群のいずれか一方もしく
は双方の各接続端子に第１の低融点金属ボールを接合す
る工程と、前記第４の接続端子群及びこの第４の接続端
子群とは対向する位置にある第６の接続端子群のいずれ
か一方もしくは双方の各接続端子に第２の低融点金属ボ
ールを接合する工程と、前記第２の接続端子群と前記第
５の接続端子群とを前記第１の低融点金属ボールを介し
てフリップチップ接続するとともに、同時に前記第４の
接続端子群と前記第６の接続端子群とを前記第２の低融
点金属ボールを介してフリップチップ接続する工程とを
具備することを特徴としている。前記第１の低融点金属
ボールの厚さは、前記第２の低融点金属ボールの厚さよ
り厚く、且つ前記第１の低融点金属ボールの介在によっ
て形成される前記第１の半導体チップと前記配線基板と
の間の空間に前記第２の半導体チップ及び前記第２の低
融点金属ボールが配置されるようにしても良い。
成面上の異なる領域に第１及び第２の接続端子群を備え
た第１の半導体チップを形成する工程と、前記第１の接
続端子群と対向する位置にある第３の接続端子群及びこ
の第３の接続端子群とは異なる面に配置された第４の接
続端子群を備えた第２の半導体チップを形成する工程
と、第５及び第６の接続端子群を備えた配線基板を形成
する工程と、前記第１の半導体チップと前記第２の半導
体チップとを前記第１の接続端子群及び前記第３の接続
端子群を介してフリップチップ接続する工程と、前記第
２の接続端子群及びこの第２の接続端子群とは対向する
位置にある前記第５の接続端子群のいずれか一方もしく
は双方の各接続端子に第１の低融点金属ボールを接合す
る工程と、前記第４の接続端子群及びこの第４の接続端
子群とは対向する位置にある第６の接続端子群のいずれ
か一方もしくは双方の各接続端子に第２の低融点金属ボ
ールを接合する工程と、前記第２の接続端子群と前記第
５の接続端子群とを前記第１の低融点金属ボールを介し
てフリップチップ接続するとともに、同時に前記第４の
接続端子群と前記第６の接続端子群とを前記第２の低融
点金属ボールを介してフリップチップ接続する工程とを
具備することを特徴としている。前記第１の低融点金属
ボールの厚さは、前記第２の低融点金属ボールの厚さよ
り厚く、且つ前記第１の低融点金属ボールの介在によっ
て形成される前記第１の半導体チップと前記配線基板と
の間の空間に前記第２の半導体チップ及び前記第２の低
融点金属ボールが配置されるようにしても良い。
【００１０】本発明の半導体装置は、同一面内の異なる
領域に第１及び第２の接続端子を備えた第１の半導体チ
ップと、前記第１の接続端子と対向する位置に第３の接
続端子を備えた第２の半導体チップと、前記第２の接続
端子と対向する位置に第４の接続端子を備えた配線基板
とを具備し、前記第２の半導体チップが前記第１の半導
体チップと前記配線基板との間に収納され、前記第１及
び第２の接続端子が前記第１の半導体チップに形成され
た半導体素子に電気的に接続され、前記第３の接続端子
が前記第２の半導体チップに形成された半導体素子に電
気的に接続され、前記第１の半導体チップと前記第２の
半導体チップとが前記第１の接続端子及び前記第３の接
続端子を介して接続され、前記第１の半導体チップと前
記配線基板とが前記第２の接続端子と前記第４の接続端
子を介して接続され、前記第２の接続端子と前記第４の
接続端子の間に導電性バンプが介在しており、前記導電
性バンプの高さが、前記第１の接続端子と前記第３の接
続端子を介した接続高さと前記第２の半導体チップの厚
さとの加算値以上であることを特徴としている。
領域に第１及び第２の接続端子を備えた第１の半導体チ
ップと、前記第１の接続端子と対向する位置に第３の接
続端子を備えた第２の半導体チップと、前記第２の接続
端子と対向する位置に第４の接続端子を備えた配線基板
とを具備し、前記第２の半導体チップが前記第１の半導
体チップと前記配線基板との間に収納され、前記第１及
び第２の接続端子が前記第１の半導体チップに形成され
た半導体素子に電気的に接続され、前記第３の接続端子
が前記第２の半導体チップに形成された半導体素子に電
気的に接続され、前記第１の半導体チップと前記第２の
半導体チップとが前記第１の接続端子及び前記第３の接
続端子を介して接続され、前記第１の半導体チップと前
記配線基板とが前記第２の接続端子と前記第４の接続端
子を介して接続され、前記第２の接続端子と前記第４の
接続端子の間に導電性バンプが介在しており、前記導電
性バンプの高さが、前記第１の接続端子と前記第３の接
続端子を介した接続高さと前記第２の半導体チップの厚
さとの加算値以上であることを特徴としている。
【００１１】本発明の半導体装置は、同一面内の異なる
領域に第１及び第２の接続端子を備えた第１の半導体チ
ップと、前記第１の接続端子と対向する位置に第３の接
続端子を備えた第２の半導体チップと、前記第２の接続
端子と対向する位置に第４の接続端子を備えた配線基板
とを具備し、前記第２の半導体チップが前記第１の半導
体チップと前記配線基板との間に収納され、前記第２の
半導体チップと前記配線基板の互いに対向する面上の少
なくともいずれか一方に突起が形成されていて、前記第
１及び第２の接続端子が前記第１の半導体チップに形成
された半導体素子に電気的に接続され、前記第３の接続
端子が前記第２の半導体チップに形成された半導体素子
に電気的に接続され、前記第１の半導体チップと前記第
２の半導体チップとが前記第１の接続端子及び前記第３
の接続端子を介して接続され、前記第１の半導体チップ
と前記配線基板とが前記第２の接続端子と前記第４の接
続端子を介して接続され、前記第２の接続端子と前記第
４の接続端子の間に導電性バンプが介在しており、前記
導電性バンプの高さが、前記第１の接続端子と前記第３
の接続端子を介した接続高さと、前記第２の半導体チッ
プの厚さと、前記第２の半導体チップと前記配線基板の
間の前記突起の高さとの加算値以上であることを特徴と
している。前記導電性バンプは、少なくとも一部が低融
点金属からなるようにしても良い。前記第２の接続端子
上と前記第４の接続端子上の少なくともいずれか一方に
高融点金属からなるバンプが形成されているようにして
も良い。前記第２の半導体チップと前記配線基板との間
の少なくとも一部に低融点金属が介在しているようにし
ても良い。前記第２の半導体チップの前記配線基板と対
向する面のうちの少なくとも一部の表面が前記低融点金
属と合金を形成する材料からなるようにしても良い。前
記配線基板の前記第２の半導体チップと対向する面のう
ちの少なくとも一部の表面が前記低融点金属と合金を形
成する材料からなるようにしても良い。前記第１の半導
体チップと前記配線基板との間の接続最小ピッチの１／
２の２乗に円周率を乗じた値を前記第２と第４の接続端
子間のバンプ体積で割った値が、前記第１の接続端子と
前記第３の接続端子を介した接続高さと前記第２の半導
体チップの厚さとの加算値未満であるようにしても良
い。前記第１の半導体チップと前記配線基板との間の接
続最小ピッチの１／２の２乗に円周率を乗じた値を前記
第２と第４の接続端子間のバンプ体積で割った値が、前
記第１の接続端子と前記第３の接続端子を介した接続高
さと、前記第２の半導体チップの厚さと、前記第２の半
導体チップと前記配線基板の間の前記突起の高さとの加
算値未満であるようにしても良い。前記第２の半導体チ
ップと前記配線基板の間の前記突起は、高放熱材料から
なるようにしても良い。前記第２の半導体チップと前記
配線基板の間の前記突起は、セラミック、金属、ガラ
ス、ダイヤモンド、グラファイトカーボンのいずれかを
有しているようにしても良い。前記第２の半導体チップ
に隣接して形成された前記第２と第４の接続端子の少な
くとも一部を介して電源あるいはグランド電位が供給さ
れるようにしても良い。前記第２の半導体チップは、複
数個からなるようにしても良い。前記複数個の第２の半
導体チップがそれぞれ平面的に配置されたときの相互間
に、前記第２の接続端子と第４の接続端子を介した接続
の少なくとも一部が配置されているようにしても良い。
前記複数個の第２の半導体チップがそれぞれ平面的に配
置されたときの相互間に配置された前記第２と第４の接
続端子の少なくとも一部を介して電源あるいはグランド
電位が供給されるようにしても良い。
領域に第１及び第２の接続端子を備えた第１の半導体チ
ップと、前記第１の接続端子と対向する位置に第３の接
続端子を備えた第２の半導体チップと、前記第２の接続
端子と対向する位置に第４の接続端子を備えた配線基板
とを具備し、前記第２の半導体チップが前記第１の半導
体チップと前記配線基板との間に収納され、前記第２の
半導体チップと前記配線基板の互いに対向する面上の少
なくともいずれか一方に突起が形成されていて、前記第
１及び第２の接続端子が前記第１の半導体チップに形成
された半導体素子に電気的に接続され、前記第３の接続
端子が前記第２の半導体チップに形成された半導体素子
に電気的に接続され、前記第１の半導体チップと前記第
２の半導体チップとが前記第１の接続端子及び前記第３
の接続端子を介して接続され、前記第１の半導体チップ
と前記配線基板とが前記第２の接続端子と前記第４の接
続端子を介して接続され、前記第２の接続端子と前記第
４の接続端子の間に導電性バンプが介在しており、前記
導電性バンプの高さが、前記第１の接続端子と前記第３
の接続端子を介した接続高さと、前記第２の半導体チッ
プの厚さと、前記第２の半導体チップと前記配線基板の
間の前記突起の高さとの加算値以上であることを特徴と
している。前記導電性バンプは、少なくとも一部が低融
点金属からなるようにしても良い。前記第２の接続端子
上と前記第４の接続端子上の少なくともいずれか一方に
高融点金属からなるバンプが形成されているようにして
も良い。前記第２の半導体チップと前記配線基板との間
の少なくとも一部に低融点金属が介在しているようにし
ても良い。前記第２の半導体チップの前記配線基板と対
向する面のうちの少なくとも一部の表面が前記低融点金
属と合金を形成する材料からなるようにしても良い。前
記配線基板の前記第２の半導体チップと対向する面のう
ちの少なくとも一部の表面が前記低融点金属と合金を形
成する材料からなるようにしても良い。前記第１の半導
体チップと前記配線基板との間の接続最小ピッチの１／
２の２乗に円周率を乗じた値を前記第２と第４の接続端
子間のバンプ体積で割った値が、前記第１の接続端子と
前記第３の接続端子を介した接続高さと前記第２の半導
体チップの厚さとの加算値未満であるようにしても良
い。前記第１の半導体チップと前記配線基板との間の接
続最小ピッチの１／２の２乗に円周率を乗じた値を前記
第２と第４の接続端子間のバンプ体積で割った値が、前
記第１の接続端子と前記第３の接続端子を介した接続高
さと、前記第２の半導体チップの厚さと、前記第２の半
導体チップと前記配線基板の間の前記突起の高さとの加
算値未満であるようにしても良い。前記第２の半導体チ
ップと前記配線基板の間の前記突起は、高放熱材料から
なるようにしても良い。前記第２の半導体チップと前記
配線基板の間の前記突起は、セラミック、金属、ガラ
ス、ダイヤモンド、グラファイトカーボンのいずれかを
有しているようにしても良い。前記第２の半導体チップ
に隣接して形成された前記第２と第４の接続端子の少な
くとも一部を介して電源あるいはグランド電位が供給さ
れるようにしても良い。前記第２の半導体チップは、複
数個からなるようにしても良い。前記複数個の第２の半
導体チップがそれぞれ平面的に配置されたときの相互間
に、前記第２の接続端子と第４の接続端子を介した接続
の少なくとも一部が配置されているようにしても良い。
前記複数個の第２の半導体チップがそれぞれ平面的に配
置されたときの相互間に配置された前記第２と第４の接
続端子の少なくとも一部を介して電源あるいはグランド
電位が供給されるようにしても良い。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、発明
の実施の形態を説明する。本発明は、全ての半導体チッ
プに導電性チップなどの外部接続部材を設けるようにす
ることができ、半導体チップ間で高速大容量のデータ転
送を可能にした半導体装置を特徴とする。また、本発明
は、配線基板にフリップチップ接続した半導体チップと
この配線基板との間の空間に収納した少なくとも１つの
半導体チップをフリップチップ接続した半導体装置及び
これらのフリップチップ接続をセルフアラインで行う半
導体装置の製造方法を特徴とする。
の実施の形態を説明する。本発明は、全ての半導体チッ
プに導電性チップなどの外部接続部材を設けるようにす
ることができ、半導体チップ間で高速大容量のデータ転
送を可能にした半導体装置を特徴とする。また、本発明
は、配線基板にフリップチップ接続した半導体チップと
この配線基板との間の空間に収納した少なくとも１つの
半導体チップをフリップチップ接続した半導体装置及び
これらのフリップチップ接続をセルフアラインで行う半
導体装置の製造方法を特徴とする。
【００１３】まず、図１及び図２を参照して第１の実施
例を説明する。図１は、半導体装置のパッケージ概略斜
視図、図２は、図１のＡ−Ａ′線及びＢ−Ｂ′線に沿う
部分の断面図である。内部接続構造を透視するため、パ
ッケージ内に施される樹脂封止の図示を省いている。図
１に示すように、半導体素子が作り込まれた２つのチッ
プ（第１のチップ１及び第２のチップ２）は、素子形成
面（チップの両方の面の内半導体素子が形成されている
面をいう）同士が対向してフリップチップ接続されてい
る。配線基板３の回路配線に接続された接続端子は、第
１のチップ１の素子形成面１′に形成された接続端子に
半田などのバンプ５を介してフリップチップ接続されて
いる。また第２のチップ２の素子形成面２′に形成され
た接続端子は、第１のチップ１の素子形成面１′に形成
された接続端子に半田などのバンプ４を介してフリップ
チップ接続されている。さらに、配線基板３の回路配線
に接続された接続端子は、第２のチップ２の素子形成面
２′に形成された接続端子にＡｕ又はＡｌなどのボンデ
ィングワイヤ６を介して接続されている。フリップチッ
プ接続される前のバンプ５は、配線基板３あるいは第１
のチップ１もしくは両者（この場合、配線基板及び第１
のチップの双方に形成されたバンプがフリップチップ接
続後に１つのバンプ５を構成するようになっている。）
に形成されている。また、フリップチップ接続される前
のバンプ４は、第１のチップ１あるいは第２のチップ２
もしくは両者（この場合、第１のチップ１及び第２のチ
ップ２の双方に形成されたバンプがフリップチップ接続
後に１つのバンプ４を構成するようになっている。）に
形成されている。
例を説明する。図１は、半導体装置のパッケージ概略斜
視図、図２は、図１のＡ−Ａ′線及びＢ−Ｂ′線に沿う
部分の断面図である。内部接続構造を透視するため、パ
ッケージ内に施される樹脂封止の図示を省いている。図
１に示すように、半導体素子が作り込まれた２つのチッ
プ（第１のチップ１及び第２のチップ２）は、素子形成
面（チップの両方の面の内半導体素子が形成されている
面をいう）同士が対向してフリップチップ接続されてい
る。配線基板３の回路配線に接続された接続端子は、第
１のチップ１の素子形成面１′に形成された接続端子に
半田などのバンプ５を介してフリップチップ接続されて
いる。また第２のチップ２の素子形成面２′に形成され
た接続端子は、第１のチップ１の素子形成面１′に形成
された接続端子に半田などのバンプ４を介してフリップ
チップ接続されている。さらに、配線基板３の回路配線
に接続された接続端子は、第２のチップ２の素子形成面
２′に形成された接続端子にＡｕ又はＡｌなどのボンデ
ィングワイヤ６を介して接続されている。フリップチッ
プ接続される前のバンプ５は、配線基板３あるいは第１
のチップ１もしくは両者（この場合、配線基板及び第１
のチップの双方に形成されたバンプがフリップチップ接
続後に１つのバンプ５を構成するようになっている。）
に形成されている。また、フリップチップ接続される前
のバンプ４は、第１のチップ１あるいは第２のチップ２
もしくは両者（この場合、第１のチップ１及び第２のチ
ップ２の双方に形成されたバンプがフリップチップ接続
後に１つのバンプ４を構成するようになっている。）に
形成されている。
【００１４】図２に示されているように、第１のチップ
１、第２のチップ２及び配線基板３は、それぞれ複数の
接続端子が形成されている。第１のチップ１は、素子形
成面１′にチップに作り込まれた半導体素子と電気的に
接続されたアルミニウムなどからなる複数の接続端子
（接続電極あるいはボンディングパッドともいう）を有
しており、これらの接続端子は、第１及び第２の接続端
子群に分かれている。第２のチップ２は、素子形成面
２′にチップに作り込まれた半導体素子と電気的に接続
されたアルミニウムなどからなる複数の接続端子を有し
ており、これらの接続端子は、第３及び第４の接続端子
群に分かれている。また、配線基板３は、主面に回路配
線と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる複数
の接続端子を有しており、これらの接続端子は、第５及
び第６の接続端子群に分かれている。第１のチップ１に
形成された第１の接続端子群の接続端子１１は、第２の
チップ２に形成された第３の接続端子群の接続端子１３
に接続されている。また、第１のチップ１に形成された
第２の接続端子群の接続端子１２は、配線基板３の第５
の接続端子群の接続端子１５に接続されている。また、
第２のチップ２に形成された第４の接続端子群の接続端
子１４は、配線基板３の第６の接続端子群の接続端子１
６に接続されている。
１、第２のチップ２及び配線基板３は、それぞれ複数の
接続端子が形成されている。第１のチップ１は、素子形
成面１′にチップに作り込まれた半導体素子と電気的に
接続されたアルミニウムなどからなる複数の接続端子
（接続電極あるいはボンディングパッドともいう）を有
しており、これらの接続端子は、第１及び第２の接続端
子群に分かれている。第２のチップ２は、素子形成面
２′にチップに作り込まれた半導体素子と電気的に接続
されたアルミニウムなどからなる複数の接続端子を有し
ており、これらの接続端子は、第３及び第４の接続端子
群に分かれている。また、配線基板３は、主面に回路配
線と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる複数
の接続端子を有しており、これらの接続端子は、第５及
び第６の接続端子群に分かれている。第１のチップ１に
形成された第１の接続端子群の接続端子１１は、第２の
チップ２に形成された第３の接続端子群の接続端子１３
に接続されている。また、第１のチップ１に形成された
第２の接続端子群の接続端子１２は、配線基板３の第５
の接続端子群の接続端子１５に接続されている。また、
第２のチップ２に形成された第４の接続端子群の接続端
子１４は、配線基板３の第６の接続端子群の接続端子１
６に接続されている。
【００１５】このチップ間接続方式の場合、接続距離
は、フリップチップに要するバンプ高さのみであるので
非常に短く、且つ平面上に多数の端子が配置出来るため
に高速で大容量のデータ転送が可能となっている。バン
プ高さは、例えば、接続端子径を１００μｍとして、い
ずれか一方のチップの接続端子上に３０μｍの半田バン
プを形成しておいて、溶融接続すれば、１７μｍの高さ
にすることが出来る。一方の接続ピッチも、接続する対
象が寸法精度が高く平面性が良好な上に熱膨張率差が無
いチップ同士であるため、実装基板への接続に比べて容
易に微細化可能である。例えば、前記１００μｍ径の接
続端子に対して、１００μｍの間隙を確保した２００μ
ｍピッチは全く問題なく製造できる。また、上方に配置
した第１のチップ１は、下方に配置した第２のチップ２
の外側の箇所でフリップチップ接続によって配線基板３
と高密度接続されている。この部分もフリップチップ接
続が用いられているため前記２つのチップ間程ではない
にしても、十分高速で大容量のデータ転送が可能となっ
ている。
は、フリップチップに要するバンプ高さのみであるので
非常に短く、且つ平面上に多数の端子が配置出来るため
に高速で大容量のデータ転送が可能となっている。バン
プ高さは、例えば、接続端子径を１００μｍとして、い
ずれか一方のチップの接続端子上に３０μｍの半田バン
プを形成しておいて、溶融接続すれば、１７μｍの高さ
にすることが出来る。一方の接続ピッチも、接続する対
象が寸法精度が高く平面性が良好な上に熱膨張率差が無
いチップ同士であるため、実装基板への接続に比べて容
易に微細化可能である。例えば、前記１００μｍ径の接
続端子に対して、１００μｍの間隙を確保した２００μ
ｍピッチは全く問題なく製造できる。また、上方に配置
した第１のチップ１は、下方に配置した第２のチップ２
の外側の箇所でフリップチップ接続によって配線基板３
と高密度接続されている。この部分もフリップチップ接
続が用いられているため前記２つのチップ間程ではない
にしても、十分高速で大容量のデータ転送が可能となっ
ている。
【００１６】前記第２のチップ２は、薄く加工され、前
記第１のチップ１と配線基板３の間のフリップチップ接
続の高さ以内に収まっている。チップの薄肉加工は、例
えば、特願平９−１９７２９１号公報に示す公知の技術
を用いれば、５０μｍ以下にすることが可能である。し
たがって、前記チップ間の接続高さを加算した６７μｍ
の高さが、第１のチップ１と配線基板３の間に挿入され
ていることになる。これに対して、例えば、第１のチッ
プ１と配線基板３の間のフリップチップ接続の端子径を
１００μｍとして、チップ側に１００μｍ高さの半田バ
ンプを配線基板側に３０μｍ高さの半田バンプをそれぞ
れ形成しておいて、溶融接続すれば、同部の接続高さは
８１μｍとなり、前記第２のチップ２を抱え込むことは
十分可能である。第２のチップ２は、第１のチップ１が
フリップチップ接続によって配線基板３と接続している
領域以外の長辺側からはみ出した配置となっている。そ
して、このはみ出した箇所からワイヤーボンディングに
よって、配線基板３との外部接続を行っている。このよ
うな配置を取ることによって、第２のチップ２に、従来
共存できなかった外部接続とチップ間高速接続を形成す
ることが可能となった。さらに、第１のチップ１と第２
のチップ２は、いずれも任意のチップ面積を作成するこ
とが可能であり、従来制約されていたチップサイズの組
み合わせに対して自由度を大幅に向上させることが可能
となった。
記第１のチップ１と配線基板３の間のフリップチップ接
続の高さ以内に収まっている。チップの薄肉加工は、例
えば、特願平９−１９７２９１号公報に示す公知の技術
を用いれば、５０μｍ以下にすることが可能である。し
たがって、前記チップ間の接続高さを加算した６７μｍ
の高さが、第１のチップ１と配線基板３の間に挿入され
ていることになる。これに対して、例えば、第１のチッ
プ１と配線基板３の間のフリップチップ接続の端子径を
１００μｍとして、チップ側に１００μｍ高さの半田バ
ンプを配線基板側に３０μｍ高さの半田バンプをそれぞ
れ形成しておいて、溶融接続すれば、同部の接続高さは
８１μｍとなり、前記第２のチップ２を抱え込むことは
十分可能である。第２のチップ２は、第１のチップ１が
フリップチップ接続によって配線基板３と接続している
領域以外の長辺側からはみ出した配置となっている。そ
して、このはみ出した箇所からワイヤーボンディングに
よって、配線基板３との外部接続を行っている。このよ
うな配置を取ることによって、第２のチップ２に、従来
共存できなかった外部接続とチップ間高速接続を形成す
ることが可能となった。さらに、第１のチップ１と第２
のチップ２は、いずれも任意のチップ面積を作成するこ
とが可能であり、従来制約されていたチップサイズの組
み合わせに対して自由度を大幅に向上させることが可能
となった。
【００１７】次に、図３及び図４を参照して第２の実施
例を説明する。図３及び図４は、製造歩留まりを向上さ
せることが可能となる半導体装置のパッケージ概略断面
図である。この実施例の第１及び第２のチップのサイズ
及びこれらと配線基板との基本的な接続構造は第１の実
施例と同じである。内部接続構造を透視するため、パッ
ケージ内に施されるアンダーフィルなどの樹脂封止の図
示を省いている。図３及び図４に示すように、半導体素
子が作り込まれた２つのチップ（第１のチップ２１及び
第２のチップ２２）は、素子形成面２１′、２２′同士
が対向してフリップチップ接続されている。配線基板２
３の回路配線に接続された接続端子（図示しない）は、
第１のチップ２１の素子形成面２１′に形成された接続
端子（図示しない）に半田などのバンプ（図示しない）
を介してフリップチップ接続されている。また、第２の
チップ２２の素子形成面２２′に形成された接続端子
（図示しない）は、第１のチップ２１の素子形成面２
１′に形成された接続端子（図示しない）に半田などの
バンプ２４を介してフリップチップ接続されている。さ
らに、配線基板２３の回路配線に接続された接続端子
（図示しない）は、第２のチップ２２の素子形成面２
２′に形成された接続端子（図示しない）にＡｕ又はＡ
ｌなどのボンディングワイヤ２６を介して接続されてい
る。フリップチップ接続される前のバンプ２４は、第１
のチップ２１あるいは第２のチップ２２もしくは両者
（この場合、第１のチップ２１及び第２のチップ２２の
双方に形成されたバンプがフリップチップ接続後に１つ
のバンプ２４を構成するようになっている。）に形成さ
れている。
例を説明する。図３及び図４は、製造歩留まりを向上さ
せることが可能となる半導体装置のパッケージ概略断面
図である。この実施例の第１及び第２のチップのサイズ
及びこれらと配線基板との基本的な接続構造は第１の実
施例と同じである。内部接続構造を透視するため、パッ
ケージ内に施されるアンダーフィルなどの樹脂封止の図
示を省いている。図３及び図４に示すように、半導体素
子が作り込まれた２つのチップ（第１のチップ２１及び
第２のチップ２２）は、素子形成面２１′、２２′同士
が対向してフリップチップ接続されている。配線基板２
３の回路配線に接続された接続端子（図示しない）は、
第１のチップ２１の素子形成面２１′に形成された接続
端子（図示しない）に半田などのバンプ（図示しない）
を介してフリップチップ接続されている。また、第２の
チップ２２の素子形成面２２′に形成された接続端子
（図示しない）は、第１のチップ２１の素子形成面２
１′に形成された接続端子（図示しない）に半田などの
バンプ２４を介してフリップチップ接続されている。さ
らに、配線基板２３の回路配線に接続された接続端子
（図示しない）は、第２のチップ２２の素子形成面２
２′に形成された接続端子（図示しない）にＡｕ又はＡ
ｌなどのボンディングワイヤ２６を介して接続されてい
る。フリップチップ接続される前のバンプ２４は、第１
のチップ２１あるいは第２のチップ２２もしくは両者
（この場合、第１のチップ２１及び第２のチップ２２の
双方に形成されたバンプがフリップチップ接続後に１つ
のバンプ２４を構成するようになっている。）に形成さ
れている。
【００１８】第１の実施例では、第２のチップにワイヤ
ーボンディングするために、第２のチップの下へのアン
ダーフィルなどの補強樹脂の充填が必須であり、この補
強樹脂の這い上がりや硬化時のアウトガスによるワイヤ
ーボンディングパッドの汚染によるワイヤーボンディン
グの接続歩留まりの低下に対して細心の注意が必要であ
る。また、ワイヤーボンディングの衝撃を支えるために
は、補強樹脂が所定の弾性率以上の剛性を具備しなけれ
ばならなかったため材料選定に制約が必要となってい
た。この実施例では、第２のチップ２２のボンディング
ワイヤ２６がボンディングされる部分の直下に突起を設
けてワイヤーボンディングの衝撃を支える構造となって
いるため補強樹脂は軟らかいものであっても良いし、場
合によっては、補強樹脂の充填前にワイヤーボンディン
グすることも可能である。勿論、本発明では、突起を形
成することは必須ではなく、突起のない場合も含まれて
いる。
ーボンディングするために、第２のチップの下へのアン
ダーフィルなどの補強樹脂の充填が必須であり、この補
強樹脂の這い上がりや硬化時のアウトガスによるワイヤ
ーボンディングパッドの汚染によるワイヤーボンディン
グの接続歩留まりの低下に対して細心の注意が必要であ
る。また、ワイヤーボンディングの衝撃を支えるために
は、補強樹脂が所定の弾性率以上の剛性を具備しなけれ
ばならなかったため材料選定に制約が必要となってい
た。この実施例では、第２のチップ２２のボンディング
ワイヤ２６がボンディングされる部分の直下に突起を設
けてワイヤーボンディングの衝撃を支える構造となって
いるため補強樹脂は軟らかいものであっても良いし、場
合によっては、補強樹脂の充填前にワイヤーボンディン
グすることも可能である。勿論、本発明では、突起を形
成することは必須ではなく、突起のない場合も含まれて
いる。
【００１９】ボンディングワイヤの直下における突起
は、例えば、図３に示すような、バンプ突起２７であっ
ても良く、また、図４に示すように、ソルダーレジスト
等を配線基板２３上に盛り上げた突起２８でも構わな
い。図３に示すバンプ突起２７は、配線基板２３上に設
けてもよいし、第２のチップ２２の裏面に設けてもよ
い。チップ裏面にバンプ突起２７を設けるためのパッド
を形成する方法としては、両面露光可能なステッパーに
よって接続端子を設けても良く、ボンディングワイヤ２
６の下に貫通穴を掘って金属などの導電層を充填しても
構わない。バンプの形成方法としては、例えば、印刷に
よって可能である。但し、第２のチップは、５０μｍと
薄いため、ステッパー加工や印刷工程は、有利ではな
い。また、バンプ突起は、高さ精度が要求されるため、
半田バンプを用いることが望ましい。半田バンプを用い
るなら、第１のチップと配線基板との間のフリップチッ
プ接続の際に、同時に溶融して所望の高さに自ら調整さ
れるからである。
は、例えば、図３に示すような、バンプ突起２７であっ
ても良く、また、図４に示すように、ソルダーレジスト
等を配線基板２３上に盛り上げた突起２８でも構わな
い。図３に示すバンプ突起２７は、配線基板２３上に設
けてもよいし、第２のチップ２２の裏面に設けてもよ
い。チップ裏面にバンプ突起２７を設けるためのパッド
を形成する方法としては、両面露光可能なステッパーに
よって接続端子を設けても良く、ボンディングワイヤ２
６の下に貫通穴を掘って金属などの導電層を充填しても
構わない。バンプの形成方法としては、例えば、印刷に
よって可能である。但し、第２のチップは、５０μｍと
薄いため、ステッパー加工や印刷工程は、有利ではな
い。また、バンプ突起は、高さ精度が要求されるため、
半田バンプを用いることが望ましい。半田バンプを用い
るなら、第１のチップと配線基板との間のフリップチッ
プ接続の際に、同時に溶融して所望の高さに自ら調整さ
れるからである。
【００２０】ここで、例えば、配線基板２３上に第１の
チップ２１とのフリップチップ接続に用いた場合と同じ
１００μｍ径の接続端子と高さ３０μｍの半田バンプ２
７を形成した場合を考察してみる。まず、この半田バン
プ２７は、配線基板２３と第１のチップ２１とのフリッ
プチップ接続用のバンプと同時に一括して形成できるこ
とは勿論である。この配線基板２３上に第１及び第２の
チップ２１、２２の積層チップを載置する際には、第１
のチップ側のバンプが、チップ側１００μｍ＋基板側３
０μｍで計１３０μｍであるのに対し、第２のチップ側
は、チップ間接続高さ１７μｍ＋第２のチップ厚５０μ
ｍ＋基板側バンプ高さ３０μｍで計９７μｍであるた
め、第２のチップ２２には、何ら荷重が掛かることがな
い。第２のチップ２２が薄く割れ易いことを考慮する
と、大変好都合な状態である。一方、加熱により、半田
バンプ２７を含むバンプを溶融接合させると、前記第１
のチップ２１と配線基板２３の間の２つのバンプは、１
つのバンプに纏まり、高さは８１μｍとなる。この接続
高さは、第２のチップ側のトータルの高さ９７μｍより
低いため、第２のチップ２２下のバンプ突起２７は、第
２のチップ２２の裏面に押し当てられるように潰れるこ
とになる。その結果、例えば、バンプ高さに多少のバラ
ツキがあったとしても、問題なく第２のチップ２２下を
支える状態を形成することが出来る。
チップ２１とのフリップチップ接続に用いた場合と同じ
１００μｍ径の接続端子と高さ３０μｍの半田バンプ２
７を形成した場合を考察してみる。まず、この半田バン
プ２７は、配線基板２３と第１のチップ２１とのフリッ
プチップ接続用のバンプと同時に一括して形成できるこ
とは勿論である。この配線基板２３上に第１及び第２の
チップ２１、２２の積層チップを載置する際には、第１
のチップ側のバンプが、チップ側１００μｍ＋基板側３
０μｍで計１３０μｍであるのに対し、第２のチップ側
は、チップ間接続高さ１７μｍ＋第２のチップ厚５０μ
ｍ＋基板側バンプ高さ３０μｍで計９７μｍであるた
め、第２のチップ２２には、何ら荷重が掛かることがな
い。第２のチップ２２が薄く割れ易いことを考慮する
と、大変好都合な状態である。一方、加熱により、半田
バンプ２７を含むバンプを溶融接合させると、前記第１
のチップ２１と配線基板２３の間の２つのバンプは、１
つのバンプに纏まり、高さは８１μｍとなる。この接続
高さは、第２のチップ側のトータルの高さ９７μｍより
低いため、第２のチップ２２下のバンプ突起２７は、第
２のチップ２２の裏面に押し当てられるように潰れるこ
とになる。その結果、例えば、バンプ高さに多少のバラ
ツキがあったとしても、問題なく第２のチップ２２下を
支える状態を形成することが出来る。
【００２１】従って、第２の実施例において、好ましい
接続構造は、配線基板２３上にパッドを設けて、その上
に半田バンプ２７を形成したものである。そして、その
際に以下の関係式が成立する構造にすることが最も好ま
しい。（第１のチップ上の配線基板とのフリップチップ
接続用半田バンプのイニシャル高さ）＋（フリップチッ
プ接続用の配線基板側半田バンプのイニシャル高さ）≧
（第１及び第２のチップ間のフリップチップ接続高さ）
＋（第２のチップの厚さ）＋（第２のチップ下の配線基
板側半田バンプ（２７）のイニシャル高さ）≧（第１の
チップと配線基板とのフリップチップ接続の溶融後のバ
ンプ高さ）（溶融後のバンプ高さの方が小さくなり得る
のは、第２のチップにおける歪み発生の可能性を考慮し
ているからである。）
接続構造は、配線基板２３上にパッドを設けて、その上
に半田バンプ２７を形成したものである。そして、その
際に以下の関係式が成立する構造にすることが最も好ま
しい。（第１のチップ上の配線基板とのフリップチップ
接続用半田バンプのイニシャル高さ）＋（フリップチッ
プ接続用の配線基板側半田バンプのイニシャル高さ）≧
（第１及び第２のチップ間のフリップチップ接続高さ）
＋（第２のチップの厚さ）＋（第２のチップ下の配線基
板側半田バンプ（２７）のイニシャル高さ）≧（第１の
チップと配線基板とのフリップチップ接続の溶融後のバ
ンプ高さ）（溶融後のバンプ高さの方が小さくなり得る
のは、第２のチップにおける歪み発生の可能性を考慮し
ているからである。）
【００２２】次に、図５を参照して第３の実施例を説明
する。図５は、半導体装置のパッケージ概略断面図であ
る。この実施例の第１及び第２のチップのサイズ及びこ
れらと配線基板との基本的な接続構造は、概略第１の実
施例と同じである。内部接続構造を透視するため、パッ
ケージ内に施されるアンダーフィルなどの樹脂封止の図
示を省いている。図５に示すように、半導体素子が作り
込まれた２つのチップ（第１のチップ３１及び第２のチ
ップ３２）は、素子形成面３１′、３２′同士が対向し
ている。配線基板３３の回路配線に接続された接続端子
（図示しない）は、第１のチップ３１の素子形成面３
１′に形成された半田などのバンプ（図示しない）を介
してフリップチップ接続されている。また、第２のチッ
プ３２の素子形成面３２′に形成された接続端子（図示
しない）は、第１のチップ３１の素子形成面３１′に形
成された半田などのバンプ３４を介してフリップチップ
接続されている。さらに、配線基板３３の回路配線に接
続された接続端子（図示しない）は、第２のチップ３２
の素子形成面３２′に形成された接続端子（図示しな
い）に電気的に接続される。
する。図５は、半導体装置のパッケージ概略断面図であ
る。この実施例の第１及び第２のチップのサイズ及びこ
れらと配線基板との基本的な接続構造は、概略第１の実
施例と同じである。内部接続構造を透視するため、パッ
ケージ内に施されるアンダーフィルなどの樹脂封止の図
示を省いている。図５に示すように、半導体素子が作り
込まれた２つのチップ（第１のチップ３１及び第２のチ
ップ３２）は、素子形成面３１′、３２′同士が対向し
ている。配線基板３３の回路配線に接続された接続端子
（図示しない）は、第１のチップ３１の素子形成面３
１′に形成された半田などのバンプ（図示しない）を介
してフリップチップ接続されている。また、第２のチッ
プ３２の素子形成面３２′に形成された接続端子（図示
しない）は、第１のチップ３１の素子形成面３１′に形
成された半田などのバンプ３４を介してフリップチップ
接続されている。さらに、配線基板３３の回路配線に接
続された接続端子（図示しない）は、第２のチップ３２
の素子形成面３２′に形成された接続端子（図示しな
い）に電気的に接続される。
【００２３】この実施例では、第２のチップ３２と配線
基板３３とは、２通りの方法で電気的に接続される。１
つの方法は、配線基板３３に複数の貫通穴３０を形成
し、その中に銀ペーストなどの導電層３９を埋め込み、
これを第２のチップ３２の裏面に配置した半田などのバ
ンプ３８に接続させ、このバンプ３８と配線基板３３に
形成された接続端子とを直接接続する方法と、他の方法
は、第２のチップ３２の素子形成面３２′に形成された
接続端子に電気的に接続され、且つ貫通穴３０に埋め込
まれた導電層３９と配線基板３３上の接続端子とをＡｕ
又はＡｌなどのボンディングワイヤ３６を介して接続す
る方法である。この実施例では、第２のチップ３２の配
線基板３３へ電気的接続を行うための接続端子の直下に
金属などの導電層３９を充填した貫通穴３０を形成して
いる。貫通穴３０の形成は、シリコン半導体などのウェ
ハが厚い時点で行われる、すなわち、予めシリコンに井
戸を掘って金属を充填しておけば、通常通り、シリコン
の裏面を研削加工していくことによって、井戸の底が露
出して、自動的に貫通穴３０に出来るために、第２のチ
ップ３２が例え薄くても問題なく形成することが可能で
ある。
基板３３とは、２通りの方法で電気的に接続される。１
つの方法は、配線基板３３に複数の貫通穴３０を形成
し、その中に銀ペーストなどの導電層３９を埋め込み、
これを第２のチップ３２の裏面に配置した半田などのバ
ンプ３８に接続させ、このバンプ３８と配線基板３３に
形成された接続端子とを直接接続する方法と、他の方法
は、第２のチップ３２の素子形成面３２′に形成された
接続端子に電気的に接続され、且つ貫通穴３０に埋め込
まれた導電層３９と配線基板３３上の接続端子とをＡｕ
又はＡｌなどのボンディングワイヤ３６を介して接続す
る方法である。この実施例では、第２のチップ３２の配
線基板３３へ電気的接続を行うための接続端子の直下に
金属などの導電層３９を充填した貫通穴３０を形成して
いる。貫通穴３０の形成は、シリコン半導体などのウェ
ハが厚い時点で行われる、すなわち、予めシリコンに井
戸を掘って金属を充填しておけば、通常通り、シリコン
の裏面を研削加工していくことによって、井戸の底が露
出して、自動的に貫通穴３０に出来るために、第２のチ
ップ３２が例え薄くても問題なく形成することが可能で
ある。
【００２４】この実施例では、第２のチップ３２の裏面
に露出した貫通穴３０に埋め込まれた導電層３９が接続
端子として役割を果たすことができるため、以下に示す
効果が付加される。 （ａ） 第２のチップからの外部端子の増量と高速化 貫通穴とその下の半田バンプを介して、配線基板にフリ
ップチップ接続すればワイヤボンディングに比べて短距
離での接続が可能となるため、高速のデータ転送が可能
となる。さらに貫通穴を平面上に配置すれば、接続点数
を増加することが出来る上に高速処理が不要な端子をワ
イヤボンディングとして両者を併用すれば飛躍的な接続
点数の増加が実現できる。 （ｂ） 製造方法の自由度 前記第１及び第２の実施例においては、予め第１及び第
２のチップを積層した後でなければ、配線基板上に接続
することが出来なかった。何故なら、第２のチップを予
め配線基板上に載置してしまうと、第１のチップが接続
する２種類の接続箇所である第２のチップ上のフリップ
チップ接続端子と配線基板上のフリップチップ接続端子
との位置精度が不十分となってしまうからである。この
実施例においては、第２のチップの配線基板上への搭載
精度は、配線基板上に形成された接続パッドとその上の
溶融する半田バンプによって自動的に修正されるため、
非常に正確なものとなり、配線基板と第２のチップの２
種類の接続端子を一括して第１のチップにフリップチッ
プ接続することが可能である。
に露出した貫通穴３０に埋め込まれた導電層３９が接続
端子として役割を果たすことができるため、以下に示す
効果が付加される。 （ａ） 第２のチップからの外部端子の増量と高速化 貫通穴とその下の半田バンプを介して、配線基板にフリ
ップチップ接続すればワイヤボンディングに比べて短距
離での接続が可能となるため、高速のデータ転送が可能
となる。さらに貫通穴を平面上に配置すれば、接続点数
を増加することが出来る上に高速処理が不要な端子をワ
イヤボンディングとして両者を併用すれば飛躍的な接続
点数の増加が実現できる。 （ｂ） 製造方法の自由度 前記第１及び第２の実施例においては、予め第１及び第
２のチップを積層した後でなければ、配線基板上に接続
することが出来なかった。何故なら、第２のチップを予
め配線基板上に載置してしまうと、第１のチップが接続
する２種類の接続箇所である第２のチップ上のフリップ
チップ接続端子と配線基板上のフリップチップ接続端子
との位置精度が不十分となってしまうからである。この
実施例においては、第２のチップの配線基板上への搭載
精度は、配線基板上に形成された接続パッドとその上の
溶融する半田バンプによって自動的に修正されるため、
非常に正確なものとなり、配線基板と第２のチップの２
種類の接続端子を一括して第１のチップにフリップチッ
プ接続することが可能である。
【００２５】この工法は、例えば、第２のチップを薄く
したが故に大きく反ってしまったような場合に有効であ
る。すなわち、第１及び第２の実施例においては、積層
して段差が形成されたチップを、反りを矯正しながら、
配線基板にフリップチップ接続しなければならないた
め、反りを矯正するためのツールの寸法精度等に細心の
注意を払わなければならなかった。それに対し、この実
施例においては、第２のチップを単独で配線基板にフリ
ップチップ接続するため、反りを矯正するためのツール
は単に平坦なものであればよい。なお、仮に第２のチッ
プが平坦であったとすれば、第１のチップと第２のチッ
プあるいはそれ以上のチップとの電気的な相互接続及び
これらのチップと配線基板との電気的接続を行う場合に
おいて、すべてフリップチップ接続により、上側のチッ
プを実装する際に発生するセルフアラインを利用して下
側のチップを実装する実装方法が可能になる（第８の実
施例参照）。またいずれにしても、第２のチップに形成
された貫通穴は、第２のチップを第１のチップと配線基
板とのいずれに対しても精度よく配置する機能を具備し
ている点において優れた効果が得られる構造である。
したが故に大きく反ってしまったような場合に有効であ
る。すなわち、第１及び第２の実施例においては、積層
して段差が形成されたチップを、反りを矯正しながら、
配線基板にフリップチップ接続しなければならないた
め、反りを矯正するためのツールの寸法精度等に細心の
注意を払わなければならなかった。それに対し、この実
施例においては、第２のチップを単独で配線基板にフリ
ップチップ接続するため、反りを矯正するためのツール
は単に平坦なものであればよい。なお、仮に第２のチッ
プが平坦であったとすれば、第１のチップと第２のチッ
プあるいはそれ以上のチップとの電気的な相互接続及び
これらのチップと配線基板との電気的接続を行う場合に
おいて、すべてフリップチップ接続により、上側のチッ
プを実装する際に発生するセルフアラインを利用して下
側のチップを実装する実装方法が可能になる（第８の実
施例参照）。またいずれにしても、第２のチップに形成
された貫通穴は、第２のチップを第１のチップと配線基
板とのいずれに対しても精度よく配置する機能を具備し
ている点において優れた効果が得られる構造である。
【００２６】次に、図６を参照して第４の実施例を説明
する。図６は、半導体装置のパッケージ概略斜視図であ
る。この実施例の第１及び第２のチップのサイズ及びこ
れらと配線基板との基本的な接続構造は、第１の実施例
と同じである。内部接続構造を透視するため、パッケー
ジ内に施されるアンダーフィルなどの樹脂封止の図示を
省いている。この実施例では配線基板に貫通する窓を形
成しその中に第２のチップを挿入した構造に特徴があ
る。図６に示すように、半導体素子が作り込まれた第１
のチップ４１及び第２のチップ４２は、素子形成面４
１′、４２′同士が対向してフリップチップ接続されて
いる。配線基板４３の回路配線に接続された接続端子
は、第１のチップ４１の素子形成面４１′に形成された
接続端子に半田などのバンプ４５を介してフリップチッ
プ接続されている。また第２のチップ４２の素子形成面
４２′に形成された接続端子は、第１のチップ４１の素
子形成面４１′に形成された接続端子に半田などのバン
プ４４を介してフリップチップ接続されている。さら
に、配線基板４３の回路配線に接続された接続端子は、
第２のチップ４２の素子形成面４２′に形成された接続
端子にＡｕ又はＡｌなどのボンディングワイヤ４６を介
して接続されている。
する。図６は、半導体装置のパッケージ概略斜視図であ
る。この実施例の第１及び第２のチップのサイズ及びこ
れらと配線基板との基本的な接続構造は、第１の実施例
と同じである。内部接続構造を透視するため、パッケー
ジ内に施されるアンダーフィルなどの樹脂封止の図示を
省いている。この実施例では配線基板に貫通する窓を形
成しその中に第２のチップを挿入した構造に特徴があ
る。図６に示すように、半導体素子が作り込まれた第１
のチップ４１及び第２のチップ４２は、素子形成面４
１′、４２′同士が対向してフリップチップ接続されて
いる。配線基板４３の回路配線に接続された接続端子
は、第１のチップ４１の素子形成面４１′に形成された
接続端子に半田などのバンプ４５を介してフリップチッ
プ接続されている。また第２のチップ４２の素子形成面
４２′に形成された接続端子は、第１のチップ４１の素
子形成面４１′に形成された接続端子に半田などのバン
プ４４を介してフリップチップ接続されている。さら
に、配線基板４３の回路配線に接続された接続端子は、
第２のチップ４２の素子形成面４２′に形成された接続
端子にＡｕ又はＡｌなどのボンディングワイヤ４６を介
して接続されている。
【００２７】フリップチップ接続される前のバンプ４５
は、配線基板４３あるいは第１のチップ４１もしくは両
者（この場合、配線基板及び第１のチップの双方に形成
されたバンプがフリップチップ接続後に１つのバンプ４
５を構成するようになっている。）に形成されている。
また、フリップチップ接続される前のバンプ４４は、第
１のチップ４１あるいは第２のチップ４２もしくは両者
（この場合、第１）のチップ４１及び第２のチップ４２
の双方に形成されたバンプがフリップチップ接続後に１
つのバンプ４４を構成するようになっている。）に形成
されている。各チップ及び配線基板に形成された接続端
子間の接続構造は図２と同じである。すなわち、第１の
チップ４１、第２のチップ４２及び配線基板４３は、そ
れぞれ複数の接続端子が形成されている。第１のチップ
４１は、素子形成面４１′にチップに作り込まれた半導
体素子と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる
複数の接続端子を有しており、これらの接続端子は、第
１及び第２の接続端子群に分かれている。第２のチップ
４２は、素子形成面４２′にチップに作り込まれた半導
体素子と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる
複数の接続端子を有しており、これらの接続端子は、第
３及び第４の接続端子群に分かれている。また、配線基
板４３は、主面に回路配線と電気的に接続されたアルミ
ニウムなどからなる複数の接続端子を有しており、これ
らの接続端子は、第５及び第６の接続端子群に分かれて
いる。配線基板４３には窓４７が形成されている。第２
のチップ４２は、この中に収納されている。
は、配線基板４３あるいは第１のチップ４１もしくは両
者（この場合、配線基板及び第１のチップの双方に形成
されたバンプがフリップチップ接続後に１つのバンプ４
５を構成するようになっている。）に形成されている。
また、フリップチップ接続される前のバンプ４４は、第
１のチップ４１あるいは第２のチップ４２もしくは両者
（この場合、第１）のチップ４１及び第２のチップ４２
の双方に形成されたバンプがフリップチップ接続後に１
つのバンプ４４を構成するようになっている。）に形成
されている。各チップ及び配線基板に形成された接続端
子間の接続構造は図２と同じである。すなわち、第１の
チップ４１、第２のチップ４２及び配線基板４３は、そ
れぞれ複数の接続端子が形成されている。第１のチップ
４１は、素子形成面４１′にチップに作り込まれた半導
体素子と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる
複数の接続端子を有しており、これらの接続端子は、第
１及び第２の接続端子群に分かれている。第２のチップ
４２は、素子形成面４２′にチップに作り込まれた半導
体素子と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる
複数の接続端子を有しており、これらの接続端子は、第
３及び第４の接続端子群に分かれている。また、配線基
板４３は、主面に回路配線と電気的に接続されたアルミ
ニウムなどからなる複数の接続端子を有しており、これ
らの接続端子は、第５及び第６の接続端子群に分かれて
いる。配線基板４３には窓４７が形成されている。第２
のチップ４２は、この中に収納されている。
【００２８】この配線基板に窓を有する構造を用いると
配線基板内の窓を形成した部分に配線や外部接続端子を
設けることが出来なくなる反面、第２のチップを薄くし
なくても、本発明の基本となる効果である２つのチップ
間のフリップチップ接続と両チップからの外部接続端子
の導出が可能となる。また、第２のチップへのワイヤー
ボンディングにおいて、チップ下をステージで支えるこ
とが可能であるため、補強体を形成する必要がない。さ
らに、２つのチップのいずれもが素子形成面の裏面をパ
ッケージの外側に向けているため、両側にヒートスプレ
ッダを装着することができ放熱性を向上させることが出
来る。
配線基板内の窓を形成した部分に配線や外部接続端子を
設けることが出来なくなる反面、第２のチップを薄くし
なくても、本発明の基本となる効果である２つのチップ
間のフリップチップ接続と両チップからの外部接続端子
の導出が可能となる。また、第２のチップへのワイヤー
ボンディングにおいて、チップ下をステージで支えるこ
とが可能であるため、補強体を形成する必要がない。さ
らに、２つのチップのいずれもが素子形成面の裏面をパ
ッケージの外側に向けているため、両側にヒートスプレ
ッダを装着することができ放熱性を向上させることが出
来る。
【００２９】次に、図７及び図８を参照して第５の実施
例を説明する。図７は、半導体装置のパッケージ概略断
面図、図８は、図７のＡ−Ａ′線に沿う部分の断面図で
ある。この実施例では、第２のチップ５２に銀ペースト
などの金属からなる導電層５９を充填した貫通穴５０を
形成して、第２のチップ５２の素子形成面５２′とは反
対側の裏面を第１のチップ５１に対向させて、この導電
層５９を介して、第１のチップ５１に形成された半導体
素子と第２のチップ５２に形成された半導体素子を電気
的に接続している。第１のチップ５１の素子形成面５
１′は、第２のチップ５２の素子形成面５２′の反対側
の裏面に対向している。配線基板５３の回路配線に接続
された接続端子は、第１のチップ５１の素子形成面５
１′に形成された接続端子に半田などのバンプ５５を介
してフリップチップ接続されている。また第２のチップ
５２の裏面に形成された接続端子は、第１のチップ５１
の素子形成面５１′に形成された接続端子に半田などの
バンプ５４を介してフリップチップ接続されている。さ
らに、配線基板５３の回路配線に接続された接続端子
は、第２のチップ５２の素子形成面５２′に形成された
接続端子に半田などのバンプ５８を介して接続されると
ともに、第２のチップ５２の裏面に形成された接続端子
にＡｕ又はＡｌなどのボンディングワイヤ５６を介して
接続されている。フリップチップ接続される前のバンプ
５５は、配線基板５３あるいは第１のチップ５１もしく
は両者に形成されている。またフリップチップ接続され
る前のバンプ５４は、第１のチップ５１あるいは第２の
チップ５２もしくは両者に形成されている。
例を説明する。図７は、半導体装置のパッケージ概略断
面図、図８は、図７のＡ−Ａ′線に沿う部分の断面図で
ある。この実施例では、第２のチップ５２に銀ペースト
などの金属からなる導電層５９を充填した貫通穴５０を
形成して、第２のチップ５２の素子形成面５２′とは反
対側の裏面を第１のチップ５１に対向させて、この導電
層５９を介して、第１のチップ５１に形成された半導体
素子と第２のチップ５２に形成された半導体素子を電気
的に接続している。第１のチップ５１の素子形成面５
１′は、第２のチップ５２の素子形成面５２′の反対側
の裏面に対向している。配線基板５３の回路配線に接続
された接続端子は、第１のチップ５１の素子形成面５
１′に形成された接続端子に半田などのバンプ５５を介
してフリップチップ接続されている。また第２のチップ
５２の裏面に形成された接続端子は、第１のチップ５１
の素子形成面５１′に形成された接続端子に半田などの
バンプ５４を介してフリップチップ接続されている。さ
らに、配線基板５３の回路配線に接続された接続端子
は、第２のチップ５２の素子形成面５２′に形成された
接続端子に半田などのバンプ５８を介して接続されると
ともに、第２のチップ５２の裏面に形成された接続端子
にＡｕ又はＡｌなどのボンディングワイヤ５６を介して
接続されている。フリップチップ接続される前のバンプ
５５は、配線基板５３あるいは第１のチップ５１もしく
は両者に形成されている。またフリップチップ接続され
る前のバンプ５４は、第１のチップ５１あるいは第２の
チップ５２もしくは両者に形成されている。
【００３０】第１のチップ５１、第２のチップ５２及び
配線基板５３は、それぞれ複数の接続端子が形成されて
いる。第１のチップ５１は、素子形成面５１′にチップ
に作り込まれた半導体素子と電気的に接続されたアルミ
ニウムなどからなる複数の接続端子を有しており、これ
らの接続端子は、第１及び第２の接続端子群に分かれて
いる。第２のチップ５２は、素子形成面５２′及び素子
形成面５２′とは反対側の裏面に、チップに作り込まれ
た半導体素子と電気的に接続されたアルミニウムなどか
らなる複数の接続端子を、それぞれ第３及び第４の接続
端子群として有している。また、配線基板５３は、主面
に回路配線と電気的に接続されたアルミニウムなどから
なる複数の接続端子を有しており、これらの接続端子
は、第５及び第６の接続端子群に分かれている。この実
施例の構造を用いると、２つのチップ間の接続は、導電
層が埋め込まれた貫通穴のピッチに制約されるため、前
記第１乃至第４の実施例に比べて、若干減少してしまう
ものの、第２のチップが素子形成面を配線基板に対向さ
せているため、平面上に配置されたフリップチップ接続
が可能となり、第２のチップの外部接続において、高速
大容量のデータ転送が可能になっている。勿論、第２の
チップの外周に貫通穴を形成して、その裏面からワイヤ
ーボンディングを用いて、外部接続端子を追加してやれ
ば、さらなるデータ転送量の増大を実現することも可能
である。
配線基板５３は、それぞれ複数の接続端子が形成されて
いる。第１のチップ５１は、素子形成面５１′にチップ
に作り込まれた半導体素子と電気的に接続されたアルミ
ニウムなどからなる複数の接続端子を有しており、これ
らの接続端子は、第１及び第２の接続端子群に分かれて
いる。第２のチップ５２は、素子形成面５２′及び素子
形成面５２′とは反対側の裏面に、チップに作り込まれ
た半導体素子と電気的に接続されたアルミニウムなどか
らなる複数の接続端子を、それぞれ第３及び第４の接続
端子群として有している。また、配線基板５３は、主面
に回路配線と電気的に接続されたアルミニウムなどから
なる複数の接続端子を有しており、これらの接続端子
は、第５及び第６の接続端子群に分かれている。この実
施例の構造を用いると、２つのチップ間の接続は、導電
層が埋め込まれた貫通穴のピッチに制約されるため、前
記第１乃至第４の実施例に比べて、若干減少してしまう
ものの、第２のチップが素子形成面を配線基板に対向さ
せているため、平面上に配置されたフリップチップ接続
が可能となり、第２のチップの外部接続において、高速
大容量のデータ転送が可能になっている。勿論、第２の
チップの外周に貫通穴を形成して、その裏面からワイヤ
ーボンディングを用いて、外部接続端子を追加してやれ
ば、さらなるデータ転送量の増大を実現することも可能
である。
【００３１】次に、図９及び図１０を参照して第６の実
施例を説明する。図９は、半導体装置のパッケージ概略
斜視図、図１０は、図９のパッケージを裏側から見た斜
視図である。この実施例は、第５の実施例と同様に、第
２のチップ６２に銀ペーストなどの金属からなる導電層
が充填された貫通穴（図示しない）を形成し、第２のチ
ップ６２の素子形成面６２′の裏面を第１のチップ６１
の素子形成面６１′に対向させて、この導電層を介し
て、第１のチップ６１に形成された半導体素子と第２の
チップ６２に形成された半導体素子とを電気的に接続し
ている。しかし、この実施例では、第５の実施例とは異
なり、配線基板６３に貫通した窓６７が形成され、その
中に第２のチップ６２が挿入され、且つ配線基板６３の
裏側に形成された接続端子と第２のチップ６２の素子形
成面６２′の外周に形成した接続端子とがボンディング
ワイヤ６６によって接続されている。この実施例によれ
ば、２つのチップ間の接続は、貫通穴のピッチに制約さ
れるため、第１乃至第４の実施例に比べて若干減少して
しまうものの、第２のチップの外周部全周に外部接続端
子（ボンディングワイヤ）を形成できるため、第２のチ
ップからの外部接続端子数を増量することが出来る。
施例を説明する。図９は、半導体装置のパッケージ概略
斜視図、図１０は、図９のパッケージを裏側から見た斜
視図である。この実施例は、第５の実施例と同様に、第
２のチップ６２に銀ペーストなどの金属からなる導電層
が充填された貫通穴（図示しない）を形成し、第２のチ
ップ６２の素子形成面６２′の裏面を第１のチップ６１
の素子形成面６１′に対向させて、この導電層を介し
て、第１のチップ６１に形成された半導体素子と第２の
チップ６２に形成された半導体素子とを電気的に接続し
ている。しかし、この実施例では、第５の実施例とは異
なり、配線基板６３に貫通した窓６７が形成され、その
中に第２のチップ６２が挿入され、且つ配線基板６３の
裏側に形成された接続端子と第２のチップ６２の素子形
成面６２′の外周に形成した接続端子とがボンディング
ワイヤ６６によって接続されている。この実施例によれ
ば、２つのチップ間の接続は、貫通穴のピッチに制約さ
れるため、第１乃至第４の実施例に比べて若干減少して
しまうものの、第２のチップの外周部全周に外部接続端
子（ボンディングワイヤ）を形成できるため、第２のチ
ップからの外部接続端子数を増量することが出来る。
【００３２】また、第２のチップを薄くする必要がない
ことも勿論であり、さらに、その裏面をワイヤボンディ
ングステージで支えることが出来るのでワイヤボンディ
ングのための補強構造を導入する必要もない。さらに、
ボンディングワイヤが２つのチップ間の接続や第１のチ
ップと配線基板との間の接続とは反対面にあるためにそ
れらの接続工程による接続端子の汚染が生じ難くくなっ
ている。次に、図１１を参照して第７の実施例を説明す
る。図１１は、半導体装置のパッケージ概略斜視図であ
る。本発明では３つ以上のチップを積層することは可能
である。図１１では、その一例として、上に２つ、下に
２つの計４つのチップを積層した例を示す。配線基板７
３のチップ搭載面には、上に配置された第１のチップ７
１ａ、７１ｂ及び下に配置された第２のチップ７２ａ、
７２ｂがある。上に配置されたチップは、いずれのチッ
プ７１ａ、７１ｂも素子形成面７１′ａ、７１′ｂを下
に向けている。下に配置されたチップは、第２のチップ
７２ａが素子形成面７２′ａを上に向け、第２のチップ
７２ｂが素子形成面７２′ｂを下に向けている。その
他、第４あるいは第６の実施例のような配線基板に窓を
開けて挿入する手段を併用することも勿論可能である。
ことも勿論であり、さらに、その裏面をワイヤボンディ
ングステージで支えることが出来るのでワイヤボンディ
ングのための補強構造を導入する必要もない。さらに、
ボンディングワイヤが２つのチップ間の接続や第１のチ
ップと配線基板との間の接続とは反対面にあるためにそ
れらの接続工程による接続端子の汚染が生じ難くくなっ
ている。次に、図１１を参照して第７の実施例を説明す
る。図１１は、半導体装置のパッケージ概略斜視図であ
る。本発明では３つ以上のチップを積層することは可能
である。図１１では、その一例として、上に２つ、下に
２つの計４つのチップを積層した例を示す。配線基板７
３のチップ搭載面には、上に配置された第１のチップ７
１ａ、７１ｂ及び下に配置された第２のチップ７２ａ、
７２ｂがある。上に配置されたチップは、いずれのチッ
プ７１ａ、７１ｂも素子形成面７１′ａ、７１′ｂを下
に向けている。下に配置されたチップは、第２のチップ
７２ａが素子形成面７２′ａを上に向け、第２のチップ
７２ｂが素子形成面７２′ｂを下に向けている。その
他、第４あるいは第６の実施例のような配線基板に窓を
開けて挿入する手段を併用することも勿論可能である。
【００３３】以上説明した実施例（第１乃至第７の実施
例）は、半導体素子が形成された２つ以上の半導体チッ
プを互いにはみ出すように積層接続し、一方の半導体チ
ップを配線基板にフリップチップ接続する一方で、他方
の半導体チップが配線基板とワイヤーボンディング接続
されている半導体装置を対象としている。以下に示す第
８の実施例及びそれ以降の実施例は、配線基板とこの配
線基板にフリップチップ接続された半導体チップとの間
の空間に完全に収納される他の半導体チップをフリップ
チップ接続させる半導体装置を対象としている。半導体
素子が形成された複数の半導体チップ間で高速大容量の
データ転送が可能になることは前述の実施例と同様であ
るが、さらに、上の半導体チップの下に下側の半導体チ
ップを完全に収納するように配線基板上に形成している
ので熱的歪みによる大きな影響が１方向に限られるので
半導体装置の機械的強度が向上する。また、配線基板に
フリップチップ接続された接続端子の内の任意の一部は
電源あるいはグランド（ＧＮＤ）電位に設定することが
できるので、電源もしくはグランド電位供給用の配線長
を短くすることが可能になる。また、これらフリップチ
ップ接続をセルフアラインで行うことが可能であるとい
う工程上の有利さも認められる。
例）は、半導体素子が形成された２つ以上の半導体チッ
プを互いにはみ出すように積層接続し、一方の半導体チ
ップを配線基板にフリップチップ接続する一方で、他方
の半導体チップが配線基板とワイヤーボンディング接続
されている半導体装置を対象としている。以下に示す第
８の実施例及びそれ以降の実施例は、配線基板とこの配
線基板にフリップチップ接続された半導体チップとの間
の空間に完全に収納される他の半導体チップをフリップ
チップ接続させる半導体装置を対象としている。半導体
素子が形成された複数の半導体チップ間で高速大容量の
データ転送が可能になることは前述の実施例と同様であ
るが、さらに、上の半導体チップの下に下側の半導体チ
ップを完全に収納するように配線基板上に形成している
ので熱的歪みによる大きな影響が１方向に限られるので
半導体装置の機械的強度が向上する。また、配線基板に
フリップチップ接続された接続端子の内の任意の一部は
電源あるいはグランド（ＧＮＤ）電位に設定することが
できるので、電源もしくはグランド電位供給用の配線長
を短くすることが可能になる。また、これらフリップチ
ップ接続をセルフアラインで行うことが可能であるとい
う工程上の有利さも認められる。
【００３４】次に、図１９乃至図２６を参照して第８の
実施例を説明する。図１９、図２１乃至図２３は、半導
体装置の断面構造図、図２０は、図１９に示す第１及び
第２の半導体チップの平面図、図２４乃至図２６は、半
導体装置の製造工程断面図である。第１の半導体チップ
１０１と第２の半導体チップ１０１′からなる２つの半
導体チップが、半導体素子形成面１０２、１０２′同士
を対向させて半田などを含む低融点金属からなる導電性
バンプ（以下、バンプという）１０６によりフリップチ
ップ接続されている。また、配線基板１０３に第１の半
導体チップ１０１がバンプ１０７によりフリップチップ
接続されている。第１の半導体チップ１０１には半導体
素子形成面１０２に複数の第１の接続端子１０４及び複
数の第２の接続端子１０４′とを備えている。
実施例を説明する。図１９、図２１乃至図２３は、半導
体装置の断面構造図、図２０は、図１９に示す第１及び
第２の半導体チップの平面図、図２４乃至図２６は、半
導体装置の製造工程断面図である。第１の半導体チップ
１０１と第２の半導体チップ１０１′からなる２つの半
導体チップが、半導体素子形成面１０２、１０２′同士
を対向させて半田などを含む低融点金属からなる導電性
バンプ（以下、バンプという）１０６によりフリップチ
ップ接続されている。また、配線基板１０３に第１の半
導体チップ１０１がバンプ１０７によりフリップチップ
接続されている。第１の半導体チップ１０１には半導体
素子形成面１０２に複数の第１の接続端子１０４及び複
数の第２の接続端子１０４′とを備えている。
【００３５】以下、接続端子は、実施例では接続パッド
という。第２の半導体チップ１０１′は、アルミニウム
などの第１の接続パッド１０４と対向する位置に形成さ
れたアルミニウムなどの第３の接続パッド１２７を備え
ている。配線基板１０３は、アルミニウムなどの第２の
接続パッド１０４′と対向する位置に形成されたアルミ
ニウムなどの第４の接続パッド１０５を備えている。第
２の半導体チップ１０１′は、第１の半導体チップ１０
１と半導体基板１０３との間の空間に収納されており、
図２０に示すように、完全にこの空間内に入っている。
この空間を含めて第１の半導体チップ１０１と配線基板
１０３との間の周辺にはエポキシ樹脂などの樹脂封止体
１０９が形成されている。
という。第２の半導体チップ１０１′は、アルミニウム
などの第１の接続パッド１０４と対向する位置に形成さ
れたアルミニウムなどの第３の接続パッド１２７を備え
ている。配線基板１０３は、アルミニウムなどの第２の
接続パッド１０４′と対向する位置に形成されたアルミ
ニウムなどの第４の接続パッド１０５を備えている。第
２の半導体チップ１０１′は、第１の半導体チップ１０
１と半導体基板１０３との間の空間に収納されており、
図２０に示すように、完全にこの空間内に入っている。
この空間を含めて第１の半導体チップ１０１と配線基板
１０３との間の周辺にはエポキシ樹脂などの樹脂封止体
１０９が形成されている。
【００３６】この接続方式の場合、接続距離は、チップ
間接続に要するバンプ高さのみで、非常に短く、且つ平
面上に多数の端子が配置できるため、高速で大容量のデ
ータ転送が可能となっている。バンプ１０６のバンプ高
さは、例えば、接続パッド径を１００μｍとして、いず
れか一方の半導体チップ１０１又は１０１′の接続パッ
ド１０４、１２７上に３０μｍ径の半田バンプ１０６を
形成しておいて、溶融接続すれば、約１７μｍの高さに
することができる。一方の接続ピッチも、接続する対象
が、寸法精度が高く、平面性が良好なうえに、熱膨脹率
差が無いチップ同士であるため、実装基板への接続に比
べて容易に微細化可能である。例えば、前記１００μｍ
径の接続パッドに対して、１００μｍの間隙を確保した
２００μｍピッチは全く問題なく製造できるし、さら
に、ここでは図示しないが、例えば７５μｍ径の接続パ
ッドで１５０μｍピッチでの接続や、５０μｍ径の接続
パッドで１００μｍピッチの接続を形成することも十分
可能である。
間接続に要するバンプ高さのみで、非常に短く、且つ平
面上に多数の端子が配置できるため、高速で大容量のデ
ータ転送が可能となっている。バンプ１０６のバンプ高
さは、例えば、接続パッド径を１００μｍとして、いず
れか一方の半導体チップ１０１又は１０１′の接続パッ
ド１０４、１２７上に３０μｍ径の半田バンプ１０６を
形成しておいて、溶融接続すれば、約１７μｍの高さに
することができる。一方の接続ピッチも、接続する対象
が、寸法精度が高く、平面性が良好なうえに、熱膨脹率
差が無いチップ同士であるため、実装基板への接続に比
べて容易に微細化可能である。例えば、前記１００μｍ
径の接続パッドに対して、１００μｍの間隙を確保した
２００μｍピッチは全く問題なく製造できるし、さら
に、ここでは図示しないが、例えば７５μｍ径の接続パ
ッドで１５０μｍピッチでの接続や、５０μｍ径の接続
パッドで１００μｍピッチの接続を形成することも十分
可能である。
【００３７】上方に配置した第１の半導体チップ１０１
は、下方に配置した第２の半導体チップ１０１′の外側
の箇所でフリップチップ接続によって配線基板１０３と
高密度接続されている。この部分もフリップチップ接続
が用いられているため、前記２つのチップ間ほどではな
いにしても、十分高速で大容量のデータ転送が可能とな
っている。前記第２の半導体チップ１０１′は、薄く加
工され、前記第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３の間のフリップチップ接続の高さの中に収まってい
る。半導体チップの薄肉加工は、例えば特願平９−１９
７２９１号に記載された技術を用いれば、５０μｍ以下
の薄さであっても製造することが可能である。ここで
は、丁度５０μｍの厚さになるようにしてある。従っ
て、前記チップ間の接続高さを加算した６７μｍの高さ
が、第１の半導体チップ１０１と配線基板１０３の間に
挿入されていることになる。これに対して、例えば、図
２１に示すように、第１の半導体チップ１０１と配線基
板１０３の間のフリップチップ接続の接続パッド径を１
００μｍとして、半導体チップ１０１側に１００μｍ高
さの半田バンプ１０７を形成しておけば、同一面内に第
２の半導体チップ１０１′による６７μｍの突起があっ
たとしても、第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３の間の接続パッド１０４′、１０５同士が接触できる
ため接続を取ることが出来る。また、図２２に示すよう
に、配線基板１０３側にも接続パッド１０５上に３０μ
ｍの高さの半田バンプ１０７′を形成しておけば、この
部分の接続パッド同士が接触する高さは１３０μｍとな
り、仮に半田バンプ１０７の高さのばらつきや配線基板
１０３の反り等の問題が生じたとしても高い歩留まりで
接続を取ることが可能である。
は、下方に配置した第２の半導体チップ１０１′の外側
の箇所でフリップチップ接続によって配線基板１０３と
高密度接続されている。この部分もフリップチップ接続
が用いられているため、前記２つのチップ間ほどではな
いにしても、十分高速で大容量のデータ転送が可能とな
っている。前記第２の半導体チップ１０１′は、薄く加
工され、前記第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３の間のフリップチップ接続の高さの中に収まってい
る。半導体チップの薄肉加工は、例えば特願平９−１９
７２９１号に記載された技術を用いれば、５０μｍ以下
の薄さであっても製造することが可能である。ここで
は、丁度５０μｍの厚さになるようにしてある。従っ
て、前記チップ間の接続高さを加算した６７μｍの高さ
が、第１の半導体チップ１０１と配線基板１０３の間に
挿入されていることになる。これに対して、例えば、図
２１に示すように、第１の半導体チップ１０１と配線基
板１０３の間のフリップチップ接続の接続パッド径を１
００μｍとして、半導体チップ１０１側に１００μｍ高
さの半田バンプ１０７を形成しておけば、同一面内に第
２の半導体チップ１０１′による６７μｍの突起があっ
たとしても、第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３の間の接続パッド１０４′、１０５同士が接触できる
ため接続を取ることが出来る。また、図２２に示すよう
に、配線基板１０３側にも接続パッド１０５上に３０μ
ｍの高さの半田バンプ１０７′を形成しておけば、この
部分の接続パッド同士が接触する高さは１３０μｍとな
り、仮に半田バンプ１０７の高さのばらつきや配線基板
１０３の反り等の問題が生じたとしても高い歩留まりで
接続を取ることが可能である。
【００３８】以上のような高さの組み合わせにより、第
２の半導体チップが第１の半導体チップと配線基板との
間に挿入される構造を実現できるが、その結果、以下の
如く特筆すべき２つの効果が生じる。 １）配線基板として平坦な形状のものが使用できるた
め、安価であるばかりでなく、第２の半導体チップを挿
入した真下にも配線が可能であり、実質的な配線密度を
高くできる。 ２）第１の半導体チップと配線基板との接続パッド（接
続端子）を第２の半導体チップの極近傍まで配置するこ
とが出来るため、当該接続パッドを多数配置することが
出来るばかりでなく、第２の半導体チップから第１の半
導体チップを介して外部との伝送経路を形成した場合の
配線距離を極めて短くすることが出来る。同様に第１と
第２の半導体チップが積層された面内への電源もしくは
グランド電位供給用の配線長も短くすることが出来る。
具体的には、当該配線長を形成する第１の接続パッドと
第２の接続パッドの最短間隔は、第２の半導体チップの
ダイシングラインから接続パッドを形成するために必要
な最低限の距離と第２の接続パッドが第２の半導体チッ
プと接触しないために必要な最低限の間隔分だけ離れて
いればよく、例えば５００μｍ未満の距離は容易に実現
できる。例えば、図１９において、バンプ１０７のう
ち、第２の半導体チップ１０１′に近い任意の位置に電
源用バンプ１０７′を設けることができる。これらの効
果はいずれも、平坦な配線基板を用いることにより初め
て提供されるものである。これに対し、例えば、図２３
に示すように、厚さのある第２の半導体チップ１０１′
を配置するために配線基板１０３にザグリや貫通窓１０
８を開けてしまった場合（この構造は、本発明とは異な
る場合である）には、配線基板の製造上の公差や絶縁特
性から、開口部端の極近傍には導体を形成することがで
きなくなってしまう、具体的には、現在の配線基板の製
造技術では、当該配線長を５００μｍ以下にすることは
不可能である、などの理由から満足できる最短間隔が得
られない。
２の半導体チップが第１の半導体チップと配線基板との
間に挿入される構造を実現できるが、その結果、以下の
如く特筆すべき２つの効果が生じる。 １）配線基板として平坦な形状のものが使用できるた
め、安価であるばかりでなく、第２の半導体チップを挿
入した真下にも配線が可能であり、実質的な配線密度を
高くできる。 ２）第１の半導体チップと配線基板との接続パッド（接
続端子）を第２の半導体チップの極近傍まで配置するこ
とが出来るため、当該接続パッドを多数配置することが
出来るばかりでなく、第２の半導体チップから第１の半
導体チップを介して外部との伝送経路を形成した場合の
配線距離を極めて短くすることが出来る。同様に第１と
第２の半導体チップが積層された面内への電源もしくは
グランド電位供給用の配線長も短くすることが出来る。
具体的には、当該配線長を形成する第１の接続パッドと
第２の接続パッドの最短間隔は、第２の半導体チップの
ダイシングラインから接続パッドを形成するために必要
な最低限の距離と第２の接続パッドが第２の半導体チッ
プと接触しないために必要な最低限の間隔分だけ離れて
いればよく、例えば５００μｍ未満の距離は容易に実現
できる。例えば、図１９において、バンプ１０７のう
ち、第２の半導体チップ１０１′に近い任意の位置に電
源用バンプ１０７′を設けることができる。これらの効
果はいずれも、平坦な配線基板を用いることにより初め
て提供されるものである。これに対し、例えば、図２３
に示すように、厚さのある第２の半導体チップ１０１′
を配置するために配線基板１０３にザグリや貫通窓１０
８を開けてしまった場合（この構造は、本発明とは異な
る場合である）には、配線基板の製造上の公差や絶縁特
性から、開口部端の極近傍には導体を形成することがで
きなくなってしまう、具体的には、現在の配線基板の製
造技術では、当該配線長を５００μｍ以下にすることは
不可能である、などの理由から満足できる最短間隔が得
られない。
【００３９】また、この実施例で説明した構造は高い製
造歩留まりをも提供できる。図２４（ａ）は、第１の半
導体チップの概略断面図である。半導体素子形成面１０
２には、１００μｍ径の接続パッドが形成されていて、
このうちの第２の半導体チップとの接続に用いられる第
１の接続パッド１０４には半田バンプが形成されておら
ず、その他の第２の接続パッド１０４′には、高さ１０
０μｍの半田バンプ１０７が形成されている。図２４
（ｂ）は、第２の半導体チップの概略図である。第２の
半導体チップ１０１′は５０μｍの厚さになっていて、
その半導体素子形成面１０２′には、第１の半導体チッ
プ１０１の接続パッドの少なくとも一部と鏡面対向する
位置に１００μｍ径の第３の接続パッド１２７と３０μ
ｍ高さの半田バンプ１０６が形成されている。図２４
（ｃ）は、配線基板の概略図である。配線基板１０３に
は、第１の半導体チップ１０１の第２の接続パッド１０
４′に対向する位置に１００μｍ径の第４の接続パッド
１０５と高さ３０μｍ以上の半田バンプ１０７′が形成
されている。
造歩留まりをも提供できる。図２４（ａ）は、第１の半
導体チップの概略断面図である。半導体素子形成面１０
２には、１００μｍ径の接続パッドが形成されていて、
このうちの第２の半導体チップとの接続に用いられる第
１の接続パッド１０４には半田バンプが形成されておら
ず、その他の第２の接続パッド１０４′には、高さ１０
０μｍの半田バンプ１０７が形成されている。図２４
（ｂ）は、第２の半導体チップの概略図である。第２の
半導体チップ１０１′は５０μｍの厚さになっていて、
その半導体素子形成面１０２′には、第１の半導体チッ
プ１０１の接続パッドの少なくとも一部と鏡面対向する
位置に１００μｍ径の第３の接続パッド１２７と３０μ
ｍ高さの半田バンプ１０６が形成されている。図２４
（ｃ）は、配線基板の概略図である。配線基板１０３に
は、第１の半導体チップ１０１の第２の接続パッド１０
４′に対向する位置に１００μｍ径の第４の接続パッド
１０５と高さ３０μｍ以上の半田バンプ１０７′が形成
されている。
【００４０】図２５（ａ）は、第１の半導体チップ１０
１と第２の半導体チップ１０１′を積層した図である。
これらの２つの半導体チップを接続パッド１０４、１２
７が形成された半導体素子形成面同士を対向させて、半
田バンプ１０６による溶融接続を行う。半田バンプによ
る溶融接続の方法としては、フラックスによる接続を行
った後、フラックス洗浄を行い、毛管現象による樹脂充
填を行ってもよいし、また、フラックス活性を具備した
成分を含有するノーフローアンダーフィルを用いて、溶
融接続と樹脂充填を一括して行っても構わない。さらに
この実施例では、２つの半導体チップ間の接続に半田溶
融接続を用いたが、金スタッドバンプと半田による合金
接続や金スタッドバンプの超音波接続、異方性導電樹脂
による接続、あるいは他の類似する面実装を可能にする
接続方法のいずれであっても構わないことは勿論であ
る。図２５（ｂ）乃至図２６は、第２の半導体チップを
積層した第１の半導体チップ１０１を配線基板１０３に
フリップチップ接続する工程を示す図である。配線基板
１０３と第１の半導体チップ１０１との間に樹脂を挿入
し（図２５（ｂ））、バンプ１０７をバンプ１０７′に
重ねるように第１及び第２の半導体チップ１０１、１０
１′を樹脂に押し付けて配線基板１０３にこれら半導体
チップを重ねる（図２６（ａ））。そして、バンプ同士
を一体化して第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３との間にバンプ１０７を介在させてフリップチップ接
続を行うとともに、樹脂を硬化させて樹脂封止体１０９
を形成する（図２６（ｂ））。
１と第２の半導体チップ１０１′を積層した図である。
これらの２つの半導体チップを接続パッド１０４、１２
７が形成された半導体素子形成面同士を対向させて、半
田バンプ１０６による溶融接続を行う。半田バンプによ
る溶融接続の方法としては、フラックスによる接続を行
った後、フラックス洗浄を行い、毛管現象による樹脂充
填を行ってもよいし、また、フラックス活性を具備した
成分を含有するノーフローアンダーフィルを用いて、溶
融接続と樹脂充填を一括して行っても構わない。さらに
この実施例では、２つの半導体チップ間の接続に半田溶
融接続を用いたが、金スタッドバンプと半田による合金
接続や金スタッドバンプの超音波接続、異方性導電樹脂
による接続、あるいは他の類似する面実装を可能にする
接続方法のいずれであっても構わないことは勿論であ
る。図２５（ｂ）乃至図２６は、第２の半導体チップを
積層した第１の半導体チップ１０１を配線基板１０３に
フリップチップ接続する工程を示す図である。配線基板
１０３と第１の半導体チップ１０１との間に樹脂を挿入
し（図２５（ｂ））、バンプ１０７をバンプ１０７′に
重ねるように第１及び第２の半導体チップ１０１、１０
１′を樹脂に押し付けて配線基板１０３にこれら半導体
チップを重ねる（図２６（ａ））。そして、バンプ同士
を一体化して第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３との間にバンプ１０７を介在させてフリップチップ接
続を行うとともに、樹脂を硬化させて樹脂封止体１０９
を形成する（図２６（ｂ））。
【００４１】この実施例では、第１と第２の半導体チッ
プ間の接続高さ１７μｍ、第２の半導体チップ厚さ５０
μｍであるのに対し、第１の半導体チップと配線基板の
接続バンプ高さがそれぞれ１００μｍ、３０μｍである
から、マウントした時点で第１の半導体チップと配線基
板の接続バンプ同士が接触することができる。この際、
少なくとも第１の半導体チップと配線基板の接続パッド
部にフラックスあるいはフラックス活性を具備した樹脂
を提供しておけば、例えば、パルスヒートを使ってマウ
ントツールを半田の融点以上に加熱すれば、半田は溶融
して接続が形成される。しかも、第２の半導体チップに
よる６７μｍの突起があるため、半田が潰れすぎてバン
プ間でショートしてしまうこともない。勿論、マウント
ツールによる加熱を行わずに、リフロー炉に投入して半
田の融点以上に加熱してやるだけでも、第１の半導体チ
ップと配線基板との間の接続を形成することは可能であ
る。そして、この方法の場合、第１の半導体チップと配
線基板の間の接続高さは、それらを形成するバンプの表
面張力によって自ら決まるため、その体積が大きくなっ
たとしても、バンプ間でショートを起こすことはないと
いう利点を持っている。しかしながらその一方で、第２
の半導体チップを積層した際に懸念される第１の半導体
チップの第２の接続パッド（接続端子）上の半田バンプ
表面の汚染等を考慮すると、加熱と加圧を同時に行って
機械的に接続パッドを押し付けてやった方がより高い接
続歩留まりを得ることができる。加えて、加熱と加圧を
同時に行った方が、第２の半導体チップが配線基板に接
触する構造となるため、半導体素子からの発熱を配線基
板内に放熱する効果も得られる。
プ間の接続高さ１７μｍ、第２の半導体チップ厚さ５０
μｍであるのに対し、第１の半導体チップと配線基板の
接続バンプ高さがそれぞれ１００μｍ、３０μｍである
から、マウントした時点で第１の半導体チップと配線基
板の接続バンプ同士が接触することができる。この際、
少なくとも第１の半導体チップと配線基板の接続パッド
部にフラックスあるいはフラックス活性を具備した樹脂
を提供しておけば、例えば、パルスヒートを使ってマウ
ントツールを半田の融点以上に加熱すれば、半田は溶融
して接続が形成される。しかも、第２の半導体チップに
よる６７μｍの突起があるため、半田が潰れすぎてバン
プ間でショートしてしまうこともない。勿論、マウント
ツールによる加熱を行わずに、リフロー炉に投入して半
田の融点以上に加熱してやるだけでも、第１の半導体チ
ップと配線基板との間の接続を形成することは可能であ
る。そして、この方法の場合、第１の半導体チップと配
線基板の間の接続高さは、それらを形成するバンプの表
面張力によって自ら決まるため、その体積が大きくなっ
たとしても、バンプ間でショートを起こすことはないと
いう利点を持っている。しかしながらその一方で、第２
の半導体チップを積層した際に懸念される第１の半導体
チップの第２の接続パッド（接続端子）上の半田バンプ
表面の汚染等を考慮すると、加熱と加圧を同時に行って
機械的に接続パッドを押し付けてやった方がより高い接
続歩留まりを得ることができる。加えて、加熱と加圧を
同時に行った方が、第２の半導体チップが配線基板に接
触する構造となるため、半導体素子からの発熱を配線基
板内に放熱する効果も得られる。
【００４２】また、図２４乃至図２６に示す実施例で
は、第１の半導体チップの第２の接続パッドと配線基板
の第４の接続パッドとの両方に半田バンプを形成した
が、いずれか一方に形成するだけであっても、その高さ
が６７μｍ以上であれば一向に構わない。ただし、バン
プの高さ公差、配線基板の反り等を考慮すると、第２と
第４の接続パッドが接触する高さはより高い方が望まし
く、かつそのバンプの体積はショートしない程度に小さ
いことが必要である。したがって、いずれか一方にバン
プを形成するよりも双方に形成した方が、同じ体積でよ
り高い位置で接触できるため、より望ましい。
は、第１の半導体チップの第２の接続パッドと配線基板
の第４の接続パッドとの両方に半田バンプを形成した
が、いずれか一方に形成するだけであっても、その高さ
が６７μｍ以上であれば一向に構わない。ただし、バン
プの高さ公差、配線基板の反り等を考慮すると、第２と
第４の接続パッドが接触する高さはより高い方が望まし
く、かつそのバンプの体積はショートしない程度に小さ
いことが必要である。したがって、いずれか一方にバン
プを形成するよりも双方に形成した方が、同じ体積でよ
り高い位置で接触できるため、より望ましい。
【００４３】なお、ここでは、一実施例として、代表的
な寸法を用いて説明したが、必ずしもこの寸法通りであ
る必要はなく、以下の関係式を満たしていれば、いかな
る組み合わせであっても構わない。すなわち、第１の半
導体チップと配線基板との間の接続を形成するために
は、（第１の半導体チップ１０１上の配線基板１０３と
の接続用フリップチップバンプ１０７の高さ）＋（配線
基板１０３上の第１の半導体チップ１０１との接続用フ
リップチップバンプ１０７′の高さ）≧（第１と第２の
半導体チップ１０１、１０１′間の接続高さ）＋（第２
の半導体チップ１０１′の厚さ）であることが必要であ
り、また、望ましくは、加熱加圧による接続を形成する
ために、（第１と第２の半導体チップ１０１、１０１′
間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の厚
さ）＞π×（第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３の接続ピッチの半分）2 ／｛（第１の半導体チップ１
０１上の配線基板１０３との接続用フリップチップバン
プ１０７の体積）＋（配線基板１０３上の第１の半導体
チップ１０１との接続用フリップチップバンプ１０７′
の体積）｝の関係式をも両立させていることがよりこの
好ましい。
な寸法を用いて説明したが、必ずしもこの寸法通りであ
る必要はなく、以下の関係式を満たしていれば、いかな
る組み合わせであっても構わない。すなわち、第１の半
導体チップと配線基板との間の接続を形成するために
は、（第１の半導体チップ１０１上の配線基板１０３と
の接続用フリップチップバンプ１０７の高さ）＋（配線
基板１０３上の第１の半導体チップ１０１との接続用フ
リップチップバンプ１０７′の高さ）≧（第１と第２の
半導体チップ１０１、１０１′間の接続高さ）＋（第２
の半導体チップ１０１′の厚さ）であることが必要であ
り、また、望ましくは、加熱加圧による接続を形成する
ために、（第１と第２の半導体チップ１０１、１０１′
間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の厚
さ）＞π×（第１の半導体チップ１０１と配線基板１０
３の接続ピッチの半分）2 ／｛（第１の半導体チップ１
０１上の配線基板１０３との接続用フリップチップバン
プ１０７の体積）＋（配線基板１０３上の第１の半導体
チップ１０１との接続用フリップチップバンプ１０７′
の体積）｝の関係式をも両立させていることがよりこの
好ましい。
【００４４】次に、図２７乃至図３１を参照して第９の
実施例を説明する。図２７は、半導体装置の断面図、図
２８は、図２７に示す半導体装置のフリップチップ接続
部に樹脂を充填したときの状態を示す平面図、図２９乃
至図３１は、図２７に示す半導体装置の製造工程断面図
である。この実施例では配線基板１０３に配置された第
４の接続パッド１０５上に高融点金属からなるバンプ１
１０が形成されており、これは、第１の半導体チップ１
０１の第２の接続パッド１０４′上に形成されている半
田バンプ１０７と合わせて第１の半導体チップ１０１を
半導体基板１０３に接続するためのバンプとして用いら
れる。図２７の半導体装置は、高融点金属バンプ１１０
が存在する以外は、図１９の半導体装置の構造と同じで
ある。ここでは、高融点金属バンプとして、例えば、ス
タッドバンプボンダーで容易に形成できる金スタッドバ
ンプを用いる。この実施例の場合も、このバンプの高さ
は、前記同様、下式の関係を満たす必要がある。
実施例を説明する。図２７は、半導体装置の断面図、図
２８は、図２７に示す半導体装置のフリップチップ接続
部に樹脂を充填したときの状態を示す平面図、図２９乃
至図３１は、図２７に示す半導体装置の製造工程断面図
である。この実施例では配線基板１０３に配置された第
４の接続パッド１０５上に高融点金属からなるバンプ１
１０が形成されており、これは、第１の半導体チップ１
０１の第２の接続パッド１０４′上に形成されている半
田バンプ１０７と合わせて第１の半導体チップ１０１を
半導体基板１０３に接続するためのバンプとして用いら
れる。図２７の半導体装置は、高融点金属バンプ１１０
が存在する以外は、図１９の半導体装置の構造と同じで
ある。ここでは、高融点金属バンプとして、例えば、ス
タッドバンプボンダーで容易に形成できる金スタッドバ
ンプを用いる。この実施例の場合も、このバンプの高さ
は、前記同様、下式の関係を満たす必要がある。
【００４５】（第１の半導体チップ１０１上の配線基板
１０３との接続用フリップチップバンプ１０７の高さ）
＋（配線基板１０３上の第１の半導体チップ１０１との
接続用高融点金属バンプ１１０の高さ）≧（第１と第２
の半導体チップ１０１、１０１′間の接続高さ）＋（第
２の半導体チップ１０１′の厚さ）ここで、第４の接続
パッド１０５上に高融点金属バンプ１１０を形成した効
果は、この接続パッドに対向する第２の接続パッド１０
４′表面の汚染や皮膜を高融点金属バンプ１１０によっ
て機械的に突き破ることができることにある。本発明の
半導体装置においては、第１と第２の半導体チップの間
の接続高さは、第１の半導体チップと配線基板との間の
接続高さに比べて、非常に小さくなっている。一般にフ
リップチップ接続の信頼性を確保するためには、接続部
を含む隙間を樹脂充填によって補強する必要があるが、
本発明の半導体装置においては、異なる２箇所の接続高
さが極端に大きさが異なるため、通常のフリップチップ
接続に用いられているような毛細管現象による樹脂充填
を全接続点に対して一括して行うことは困難である。具
体的には、第１と第２の半導体チップの間の非常に狭い
隙間の充填が遅くなってしまうため、その外周部にある
第１の半導体チップと配線基板の間の広い隙間の充填が
先に進んでしまい、その結果、図２６に示すように、第
１と第２の半導体チップの間に大きな気泡を巻き込んで
しまうことになる。勿論真空下での充填等の工夫を施し
てやれば若干の改善は見込めるが、気泡を完全に対策す
ることは極めて困難である。
１０３との接続用フリップチップバンプ１０７の高さ）
＋（配線基板１０３上の第１の半導体チップ１０１との
接続用高融点金属バンプ１１０の高さ）≧（第１と第２
の半導体チップ１０１、１０１′間の接続高さ）＋（第
２の半導体チップ１０１′の厚さ）ここで、第４の接続
パッド１０５上に高融点金属バンプ１１０を形成した効
果は、この接続パッドに対向する第２の接続パッド１０
４′表面の汚染や皮膜を高融点金属バンプ１１０によっ
て機械的に突き破ることができることにある。本発明の
半導体装置においては、第１と第２の半導体チップの間
の接続高さは、第１の半導体チップと配線基板との間の
接続高さに比べて、非常に小さくなっている。一般にフ
リップチップ接続の信頼性を確保するためには、接続部
を含む隙間を樹脂充填によって補強する必要があるが、
本発明の半導体装置においては、異なる２箇所の接続高
さが極端に大きさが異なるため、通常のフリップチップ
接続に用いられているような毛細管現象による樹脂充填
を全接続点に対して一括して行うことは困難である。具
体的には、第１と第２の半導体チップの間の非常に狭い
隙間の充填が遅くなってしまうため、その外周部にある
第１の半導体チップと配線基板の間の広い隙間の充填が
先に進んでしまい、その結果、図２６に示すように、第
１と第２の半導体チップの間に大きな気泡を巻き込んで
しまうことになる。勿論真空下での充填等の工夫を施し
てやれば若干の改善は見込めるが、気泡を完全に対策す
ることは極めて困難である。
【００４６】そこで、第１の半導体チップと配線基板と
を接続する前に、第１と第２の半導体チップの間を事前
に樹脂充填することが必要となってくるが、この樹脂充
填により第１の半導体チップ上の第２の接続パッドが被
覆あるいは汚染されてしまうという問題が生じてしま
う。この問題は、同部の充填に毛細管現象を用いた場合
であっても、フラックス活性を具備した樹脂によって接
続と充填を一括で実施した場合であっても、常に想定さ
れる問題である。これに対し、この実施例の場合、配線
基板上に形成された高融点金属バンプを用いて第１の半
導体チップ上の第２の接続パッドへ機械的に接触させる
ことができるため、前記樹脂被覆膜や汚染膜を突き破る
ことが可能となっている。
を接続する前に、第１と第２の半導体チップの間を事前
に樹脂充填することが必要となってくるが、この樹脂充
填により第１の半導体チップ上の第２の接続パッドが被
覆あるいは汚染されてしまうという問題が生じてしま
う。この問題は、同部の充填に毛細管現象を用いた場合
であっても、フラックス活性を具備した樹脂によって接
続と充填を一括で実施した場合であっても、常に想定さ
れる問題である。これに対し、この実施例の場合、配線
基板上に形成された高融点金属バンプを用いて第１の半
導体チップ上の第２の接続パッドへ機械的に接触させる
ことができるため、前記樹脂被覆膜や汚染膜を突き破る
ことが可能となっている。
【００４７】次に、図２９を参照して、この実施例の製
造方法を示す。図２９（ａ）、図２９（ｂ）は、この実
施例の半導体装置に用いられる第１と第２の半導体チッ
プ１０１、１０１′である。第１の半導体チップ１０１
上には、第２の半導体チップ１０１′に接続される第１
の接続パッド（例えば１００μｍ径）１０４と配線基板
１０３に接続される第２の接続パッド（例えば１００μ
ｍ径）１０４′が形成されていて、そのいずれの上にも
同じ高さの（例えば３０μｍ高さ）半田バンプが形成さ
れている。すなわち第１の接続パッド１０４には半田バ
ンプ１０６、第２の接続パッド１０４′には半田バンプ
１０７が形成されている。一方、第２の半導体チップ１
０１′上には第１の半導体チップ１０１と接続される第
３の接続パッド（例えば１００μｍ径）１２７が形成さ
れていて、その上には半田バンプは形成されていない。
第２の半導体チップの厚さは薄厚化されている（例えば
５０μｍ）。この構成は、製造上極めて都合の２つの利
点を持っている。すなわち、薄厚化されるチップ上にバ
ンプが形成されていないこと及びバンプを形成するチッ
プにおいてその高さが均一であることである。前者は、
チップを薄厚化する際にその反対面を平坦に支えること
が出来ることを意味しており、後者は、バンプ形成方法
がメッキと印刷のいずれであったとしても、一回の工程
で形成することが出来るためである。
造方法を示す。図２９（ａ）、図２９（ｂ）は、この実
施例の半導体装置に用いられる第１と第２の半導体チッ
プ１０１、１０１′である。第１の半導体チップ１０１
上には、第２の半導体チップ１０１′に接続される第１
の接続パッド（例えば１００μｍ径）１０４と配線基板
１０３に接続される第２の接続パッド（例えば１００μ
ｍ径）１０４′が形成されていて、そのいずれの上にも
同じ高さの（例えば３０μｍ高さ）半田バンプが形成さ
れている。すなわち第１の接続パッド１０４には半田バ
ンプ１０６、第２の接続パッド１０４′には半田バンプ
１０７が形成されている。一方、第２の半導体チップ１
０１′上には第１の半導体チップ１０１と接続される第
３の接続パッド（例えば１００μｍ径）１２７が形成さ
れていて、その上には半田バンプは形成されていない。
第２の半導体チップの厚さは薄厚化されている（例えば
５０μｍ）。この構成は、製造上極めて都合の２つの利
点を持っている。すなわち、薄厚化されるチップ上にバ
ンプが形成されていないこと及びバンプを形成するチッ
プにおいてその高さが均一であることである。前者は、
チップを薄厚化する際にその反対面を平坦に支えること
が出来ることを意味しており、後者は、バンプ形成方法
がメッキと印刷のいずれであったとしても、一回の工程
で形成することが出来るためである。
【００４８】図２９（ｃ）は、この実施例の半導体装置
に用いられる配線基板である。配線基板１０３上には、
第１の半導体チップ１０１と接続する第４の接続パッド
１０５が形成されていて、その上に高融点金属からなる
バンプ１１０が形成されている。高融点金属バンプ１１
０の高さは、前記第１と第２の半導体チップ１０１、１
０１′の接続高さと前記第２の半導体チップ１０１′の
厚さとの加算値から、前記第２の接続パッド１０４′上
に形成した半田バンプ１０７の高さを減じた値以上であ
る必要があり、ここでは一例として８０μｍとしてあ
る。また高融点金属バンプおよびその形成法としては、
スタッドバンプボンダを用いた金スタッドバンプであっ
ても構わないし、メッキ工法によって形成された銅ある
いは金のバンプであっても構わない。この実施例では、
金スタッドバンプを用いている。
に用いられる配線基板である。配線基板１０３上には、
第１の半導体チップ１０１と接続する第４の接続パッド
１０５が形成されていて、その上に高融点金属からなる
バンプ１１０が形成されている。高融点金属バンプ１１
０の高さは、前記第１と第２の半導体チップ１０１、１
０１′の接続高さと前記第２の半導体チップ１０１′の
厚さとの加算値から、前記第２の接続パッド１０４′上
に形成した半田バンプ１０７の高さを減じた値以上であ
る必要があり、ここでは一例として８０μｍとしてあ
る。また高融点金属バンプおよびその形成法としては、
スタッドバンプボンダを用いた金スタッドバンプであっ
ても構わないし、メッキ工法によって形成された銅ある
いは金のバンプであっても構わない。この実施例では、
金スタッドバンプを用いている。
【００４９】図３０（ａ）は、第１と第２の半導体チッ
プ１０１、１０１′をフリップチップ接続した後、樹脂
１０９′を充填した状態を示す図である。ここでは樹脂
充填は毛細管現象を用いており、かつ、充填樹脂の熱硬
化は不完全な状態にしてある。充填樹脂の熱硬化を完結
させずにおけば、後述するように次工程である配線基板
との接続用の樹脂の一部として使うことができる。従っ
て、ここでは、充填樹脂が第１の半導体チップの配線基
板との接続パッドである第２の接続パッド上に被ってい
ても何ら問題はない。勿論、充填樹脂を第２の接続パッ
ド上に被らないようにしてやれば、充填樹脂の熱硬化を
完結させてしまっても何ら問題はないが、その場合、充
填樹脂が第２の接続パッドに被らないように細心の注意
が必要となることは当然である。また樹脂充填に毛細管
現象を用いずに、フラックス活性を具備した樹脂を用い
て第１と第２の半導体チップの接続と樹脂充填を一括し
て行ってしまっても構わないが、その場合、第１の接続
パッド上の半田バンプを溶融するための高温になるた
め、充填樹脂の熱硬化は進み易いい状況になっている。
充填樹脂の硬化反応速度を遅くして熱硬化の進行を抑制
するか、充填樹脂のはみ出しを制御して第２の接続パッ
ド上に樹脂が被ることを回避するか、のいずれかの手段
によれば、この工法を採用することも勿論可能である。
プ１０１、１０１′をフリップチップ接続した後、樹脂
１０９′を充填した状態を示す図である。ここでは樹脂
充填は毛細管現象を用いており、かつ、充填樹脂の熱硬
化は不完全な状態にしてある。充填樹脂の熱硬化を完結
させずにおけば、後述するように次工程である配線基板
との接続用の樹脂の一部として使うことができる。従っ
て、ここでは、充填樹脂が第１の半導体チップの配線基
板との接続パッドである第２の接続パッド上に被ってい
ても何ら問題はない。勿論、充填樹脂を第２の接続パッ
ド上に被らないようにしてやれば、充填樹脂の熱硬化を
完結させてしまっても何ら問題はないが、その場合、充
填樹脂が第２の接続パッドに被らないように細心の注意
が必要となることは当然である。また樹脂充填に毛細管
現象を用いずに、フラックス活性を具備した樹脂を用い
て第１と第２の半導体チップの接続と樹脂充填を一括し
て行ってしまっても構わないが、その場合、第１の接続
パッド上の半田バンプを溶融するための高温になるた
め、充填樹脂の熱硬化は進み易いい状況になっている。
充填樹脂の硬化反応速度を遅くして熱硬化の進行を抑制
するか、充填樹脂のはみ出しを制御して第２の接続パッ
ド上に樹脂が被ることを回避するか、のいずれかの手段
によれば、この工法を採用することも勿論可能である。
【００５０】図３０（ｂ）及び図３１は、第１の半導体
チップと配線基板を充填樹脂とともに接続する工程を示
す概略断面図である。配線基板１０３上の第１の半導体
チップ搭載領域に充填樹脂１０９を塗布した後（図３０
（ｂ））、第１の半導体チップ１０１を第２の半導体チ
ップ１０１′とともに配線基板１０３上に押し付けるこ
とにより、塗布された充填樹脂１０９を塗れ広げさせる
とともに、配線基板１０３上の高融点金属バンプ１１０
を第１の半導体チップ１０１上の第２の接続パッド１０
４′にある半田バンプ１０７に接触させる（図３１
（ａ））。ここで、例えば、パルスヒートによって半田
の融点以上に加熱してやれば、第２の接続パッド１０
４′上の半田バンプ１０７表面の酸化膜が高融点金属バ
ンプ１１０によって破壊されるとともに半田と高融点金
属との間での合金接続が形成できる（図３１（ｂ））。
好ましくは、前述の第１と第２の半導体チップ間を充填
する樹脂と配線基板上に塗布する樹脂をともにフラック
ス活性を具備したものにしてやれば、第２の接続パッド
の半田バンプ表面の酸化膜は化学的に除去できるため、
接続歩留まりが向上する。なお、第１と第２の半導体チ
ップ間を充填する樹脂と配線基板上に塗布する樹脂とと
もにフラックス活性を具備したものにした場合、単に半
田の融点以上の高温にさらすだけでも良い。
チップと配線基板を充填樹脂とともに接続する工程を示
す概略断面図である。配線基板１０３上の第１の半導体
チップ搭載領域に充填樹脂１０９を塗布した後（図３０
（ｂ））、第１の半導体チップ１０１を第２の半導体チ
ップ１０１′とともに配線基板１０３上に押し付けるこ
とにより、塗布された充填樹脂１０９を塗れ広げさせる
とともに、配線基板１０３上の高融点金属バンプ１１０
を第１の半導体チップ１０１上の第２の接続パッド１０
４′にある半田バンプ１０７に接触させる（図３１
（ａ））。ここで、例えば、パルスヒートによって半田
の融点以上に加熱してやれば、第２の接続パッド１０
４′上の半田バンプ１０７表面の酸化膜が高融点金属バ
ンプ１１０によって破壊されるとともに半田と高融点金
属との間での合金接続が形成できる（図３１（ｂ））。
好ましくは、前述の第１と第２の半導体チップ間を充填
する樹脂と配線基板上に塗布する樹脂をともにフラック
ス活性を具備したものにしてやれば、第２の接続パッド
の半田バンプ表面の酸化膜は化学的に除去できるため、
接続歩留まりが向上する。なお、第１と第２の半導体チ
ップ間を充填する樹脂と配線基板上に塗布する樹脂とと
もにフラックス活性を具備したものにした場合、単に半
田の融点以上の高温にさらすだけでも良い。
【００５１】さらに、ここでは、高融点金属バンプを配
線基板側である第４の接続パッド上に形成したが、第１
の半導体チップ側である第２の接続パッド上に形成して
も構わないことは勿論である。ただし、この場合、第２
の接続パッドは第１の半導体チップに形成されている半
導体素子上に形成される場合もあるため、例えば、Ａｕ
スタッドバンプを形成する際には、半導体素子へのダメ
ージを引き起こさないように慎重な条件設定を行う必要
がある。なお、メッキによるＡｕバンプであれば、この
ような問題がないことは勿論である。
線基板側である第４の接続パッド上に形成したが、第１
の半導体チップ側である第２の接続パッド上に形成して
も構わないことは勿論である。ただし、この場合、第２
の接続パッドは第１の半導体チップに形成されている半
導体素子上に形成される場合もあるため、例えば、Ａｕ
スタッドバンプを形成する際には、半導体素子へのダメ
ージを引き起こさないように慎重な条件設定を行う必要
がある。なお、メッキによるＡｕバンプであれば、この
ような問題がないことは勿論である。
【００５２】次に、図３２を参照して第１０の実施例を
説明する。図３２は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例においては配線基板１０３上の第２の半導体
チップ搭載領域にアルミニウムなどの金属パッド１１２
が配置されていて、さらにその上に低融点金属からなる
バンプ１１１が形成されている。半導体装置のその他の
構造は、図１９に示す半導体装置と同じである。一般に
半田のような低融点金属は、半導体チップの母材である
シリコンには濡れを形成しないため、この低融点金属バ
ンプ１１１は、第２の半導体チップ１０１′に確実に接
触している。そのため、第２の半導体チップ１０１′に
形成されている半導体素子からの発熱がこの金属バンプ
１１１を介して、配線基板１０３へ放熱できる構造にな
っている。なお、低融点金属バンプは、加熱により潰れ
ることができるため、この実施例の場合の各構成要素の
縦方向寸法は、第８及び第９の実施例と同じく以下の通
りである。
説明する。図３２は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例においては配線基板１０３上の第２の半導体
チップ搭載領域にアルミニウムなどの金属パッド１１２
が配置されていて、さらにその上に低融点金属からなる
バンプ１１１が形成されている。半導体装置のその他の
構造は、図１９に示す半導体装置と同じである。一般に
半田のような低融点金属は、半導体チップの母材である
シリコンには濡れを形成しないため、この低融点金属バ
ンプ１１１は、第２の半導体チップ１０１′に確実に接
触している。そのため、第２の半導体チップ１０１′に
形成されている半導体素子からの発熱がこの金属バンプ
１１１を介して、配線基板１０３へ放熱できる構造にな
っている。なお、低融点金属バンプは、加熱により潰れ
ることができるため、この実施例の場合の各構成要素の
縦方向寸法は、第８及び第９の実施例と同じく以下の通
りである。
【００５３】すなわち、第１の半導体チップ１０１と配
線基板１０３との間の接続を形成するためには、（第１
の半導体チップ１０１上の配線基板１０３との接続用フ
リップチップバンプの高さ）＋（配線基板１０３上の第
１の半導体チップ１０１との接続用フリップチップバン
プの高さ）≧（第１、第２の半導体チップ１０１、１０
１′間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の
厚さ）であることが必要であり、また、望ましくは、加
熱加圧による接続を形成するために、（第１、第２の半
導体チップ１０１、１０１′間の接続高さ）＋（第２の
半導体チップ１０１′の厚さ）＞π×（第１の半導体チ
ップ１０１と配線基板１０３の接続ピッチの半分）2 ／
｛（第１の半導体チップ１０１上の配線基板１０３との
接続用フリップチップバンプの体積）＋（配線基板１０
３上の第１の半導体チップ１０１との接続用フリップチ
ップバンプの体積）｝の関係式をも両立させていること
が好ましい。
線基板１０３との間の接続を形成するためには、（第１
の半導体チップ１０１上の配線基板１０３との接続用フ
リップチップバンプの高さ）＋（配線基板１０３上の第
１の半導体チップ１０１との接続用フリップチップバン
プの高さ）≧（第１、第２の半導体チップ１０１、１０
１′間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の
厚さ）であることが必要であり、また、望ましくは、加
熱加圧による接続を形成するために、（第１、第２の半
導体チップ１０１、１０１′間の接続高さ）＋（第２の
半導体チップ１０１′の厚さ）＞π×（第１の半導体チ
ップ１０１と配線基板１０３の接続ピッチの半分）2 ／
｛（第１の半導体チップ１０１上の配線基板１０３との
接続用フリップチップバンプの体積）＋（配線基板１０
３上の第１の半導体チップ１０１との接続用フリップチ
ップバンプの体積）｝の関係式をも両立させていること
が好ましい。
【００５４】次に、図３３を参照して第１１の実施例を
説明する。図３３は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例では、第１０の実施例と同様に、配線基板１
０３上の第２の半導体チップ搭載領域に金属パッド１１
２と低融点金属からなるバンプ１１１が形成されている
ばかりでなく、第２の半導体チップ１０１′裏面にこの
低融点金属と合金を形成し得る金属膜１１３が形成され
ている。その他の構成は、図２９と同じである。この金
属膜１１３の材料としては、例えば、ニッケルが一般的
であり、加えてその表面にはニッケルの酸化を防止する
ための金蒸着膜などの不活性金属薄膜が、また、ニッケ
ルと半導体基板を構成するシリコンとの間にはシリコン
中へのニッケルの拡散を防止するためのチタンなどのバ
リアメタル層が、それぞれ形成されている。この実施例
では、第２の半導体チップと配線基板とが低融点金属バ
ンプを介して合金接続されているために、第１０の実施
例の場合に比べてより放熱性が向上している。
説明する。図３３は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例では、第１０の実施例と同様に、配線基板１
０３上の第２の半導体チップ搭載領域に金属パッド１１
２と低融点金属からなるバンプ１１１が形成されている
ばかりでなく、第２の半導体チップ１０１′裏面にこの
低融点金属と合金を形成し得る金属膜１１３が形成され
ている。その他の構成は、図２９と同じである。この金
属膜１１３の材料としては、例えば、ニッケルが一般的
であり、加えてその表面にはニッケルの酸化を防止する
ための金蒸着膜などの不活性金属薄膜が、また、ニッケ
ルと半導体基板を構成するシリコンとの間にはシリコン
中へのニッケルの拡散を防止するためのチタンなどのバ
リアメタル層が、それぞれ形成されている。この実施例
では、第２の半導体チップと配線基板とが低融点金属バ
ンプを介して合金接続されているために、第１０の実施
例の場合に比べてより放熱性が向上している。
【００５５】次に、図３４乃至図３６を参照して第１２
の実施例を説明する。図３４及び図３６は、半導体装置
の断面構造図、図３５は、この半導体装置の製造工程断
面図である。この実施例においても、第１１の実施例と
同様に、配線基板１０３上の第２の半導体チップ搭載領
域に金属パッド１１２と低融点金属からなるバンプ１１
５が形成されている。この実施例の半導体装置が第１１
の実施例のものと異なる点は、第２の半導体チップ１０
１′裏面の金属膜に代えて導電性貫通穴１１４を低融点
金属バンプ１１５に対向する位置に形成した点である。
通常の厚さの半導体ウェハであれば、例えば、両面露光
可能なステッパを用いることにより、その裏面にもパッ
ド形成を行うことが可能であるが、この実施例の場合、
第２の半導体チップ１０１′は、極端に薄いため、薄厚
研削後に通常のウェハ工程を流すことは困難である。そ
こで、この実施例では、以下の工法で作成された導電性
スループラグの底部を低融点金属バンプの接続パッドと
して流用した。
の実施例を説明する。図３４及び図３６は、半導体装置
の断面構造図、図３５は、この半導体装置の製造工程断
面図である。この実施例においても、第１１の実施例と
同様に、配線基板１０３上の第２の半導体チップ搭載領
域に金属パッド１１２と低融点金属からなるバンプ１１
５が形成されている。この実施例の半導体装置が第１１
の実施例のものと異なる点は、第２の半導体チップ１０
１′裏面の金属膜に代えて導電性貫通穴１１４を低融点
金属バンプ１１５に対向する位置に形成した点である。
通常の厚さの半導体ウェハであれば、例えば、両面露光
可能なステッパを用いることにより、その裏面にもパッ
ド形成を行うことが可能であるが、この実施例の場合、
第２の半導体チップ１０１′は、極端に薄いため、薄厚
研削後に通常のウェハ工程を流すことは困難である。そ
こで、この実施例では、以下の工法で作成された導電性
スループラグの底部を低融点金属バンプの接続パッドと
して流用した。
【００５６】図３５（ａ）乃至図３５（ｅ）は、第２の
半導体チップへの導電性スループラグ形成方法を示す工
程断面図である。まずＲＩＥ等の異方性エッチングによ
ってシリコンウェハの半導体素子形成面側から深い穴
（例えば１００μｍ）１１６を掘り（図３５（ａ））、
酸化膜等の絶縁膜１１７を内壁に形成する（図３５
（ｂ））。その後、Ｃｕ等の導電物質１１８をメッキ等
の方法により深い穴１１６に充填する（図３５
（ｃ））。次に、シリコンウェハを、例えば、特願平９
−１９７２９１号の技術を用いてウェハ厚以下のダイシ
ング溝１１９を形成して裏面研削することにより（図３
５（ｄ））、薄厚加工とともに半導体チップへの個片化
を行う。この工程により第２の半導体チップ１０１′が
形成される（図３５（ｅ））。ここで第２の半導体チッ
プ１０１′の厚さは５０μｍであるから、この厚さにお
いては、半導体素子面から形成した前記導電性貫通穴
（導電物質１１８が埋め込まれた貫通穴）１１４が露出
する。この導電性貫通穴１１４の導電物質の材質が、例
えば、Ｃｕであれば、半田バンプとの接続に使用するこ
とができる。
半導体チップへの導電性スループラグ形成方法を示す工
程断面図である。まずＲＩＥ等の異方性エッチングによ
ってシリコンウェハの半導体素子形成面側から深い穴
（例えば１００μｍ）１１６を掘り（図３５（ａ））、
酸化膜等の絶縁膜１１７を内壁に形成する（図３５
（ｂ））。その後、Ｃｕ等の導電物質１１８をメッキ等
の方法により深い穴１１６に充填する（図３５
（ｃ））。次に、シリコンウェハを、例えば、特願平９
−１９７２９１号の技術を用いてウェハ厚以下のダイシ
ング溝１１９を形成して裏面研削することにより（図３
５（ｄ））、薄厚加工とともに半導体チップへの個片化
を行う。この工程により第２の半導体チップ１０１′が
形成される（図３５（ｅ））。ここで第２の半導体チッ
プ１０１′の厚さは５０μｍであるから、この厚さにお
いては、半導体素子面から形成した前記導電性貫通穴
（導電物質１１８が埋め込まれた貫通穴）１１４が露出
する。この導電性貫通穴１１４の導電物質の材質が、例
えば、Ｃｕであれば、半田バンプとの接続に使用するこ
とができる。
【００５７】この実施例の場合、第１１の実施例と同様
に、第２の半導体チップから配線基板への放熱経路が確
保されるという効果のほかに、加圧のない加熱だけでも
第１の半導体チップを接続できるというプロセスの自由
度拡大の効果が得られる。すなわち、前記第８乃至第１
１の実施例においては、第１の半導体チップと配線基板
の間にしかセルフアライン効果を発現する半田バンプが
存在しなかったが、この実施例においては、第１の半導
体チップの素子形成面と第２の半導体チップの裏面のい
ずれにおいても半田バンプが存在しているため、より強
いセルフアライン効果が期待できる。なお、ここでいう
セルフアライン効果とは、半田バンプ等の表面張力によ
って、自らを適正な位置に修正できる効果のことであ
る。さらに、この実施例の場合、第２の半導体チップに
形成された導電性貫通穴を第２の半導体チップの素子面
に形成された配線に接続しておけば、この導電性導通穴
を電気的な接続経路として活用することも出来る。この
結果、接続点数が増加できるのは勿論として、第１と第
２の半導体チップによって挟まれた領域に最短経路で電
源の補強をすることも可能となっている。
に、第２の半導体チップから配線基板への放熱経路が確
保されるという効果のほかに、加圧のない加熱だけでも
第１の半導体チップを接続できるというプロセスの自由
度拡大の効果が得られる。すなわち、前記第８乃至第１
１の実施例においては、第１の半導体チップと配線基板
の間にしかセルフアライン効果を発現する半田バンプが
存在しなかったが、この実施例においては、第１の半導
体チップの素子形成面と第２の半導体チップの裏面のい
ずれにおいても半田バンプが存在しているため、より強
いセルフアライン効果が期待できる。なお、ここでいう
セルフアライン効果とは、半田バンプ等の表面張力によ
って、自らを適正な位置に修正できる効果のことであ
る。さらに、この実施例の場合、第２の半導体チップに
形成された導電性貫通穴を第２の半導体チップの素子面
に形成された配線に接続しておけば、この導電性導通穴
を電気的な接続経路として活用することも出来る。この
結果、接続点数が増加できるのは勿論として、第１と第
２の半導体チップによって挟まれた領域に最短経路で電
源の補強をすることも可能となっている。
【００５８】さらに、この実施例の場合、図３６のよう
に第２の半導体チップ１０１′の半導体素子形成面１０
２′を、第１の半導体チップ１０１側に対向させずに、
配線基板１０３側に対向させることもできる。この実施
例の第２の半導体チップ１０１′は導電性貫通穴１１４
を介して、半導体素子形成面の反対面と半導体素子との
間の電気的導通が可能であるため、図３６のような配置
であっても、第１の半導体チップ１０１と第２の半導体
チップ１０１′の間での電気的な接続が可能なためであ
る。このような配置の場合、第１と第２の半導体チップ
間の接続密度は若干低減してしまうものの、第２の半導
体チップから配線基板を介して大量の外部接続を導出す
ることが可能であるという特徴が得られる。
に第２の半導体チップ１０１′の半導体素子形成面１０
２′を、第１の半導体チップ１０１側に対向させずに、
配線基板１０３側に対向させることもできる。この実施
例の第２の半導体チップ１０１′は導電性貫通穴１１４
を介して、半導体素子形成面の反対面と半導体素子との
間の電気的導通が可能であるため、図３６のような配置
であっても、第１の半導体チップ１０１と第２の半導体
チップ１０１′の間での電気的な接続が可能なためであ
る。このような配置の場合、第１と第２の半導体チップ
間の接続密度は若干低減してしまうものの、第２の半導
体チップから配線基板を介して大量の外部接続を導出す
ることが可能であるという特徴が得られる。
【００５９】次に、図３７を参照して第１３の実施例を
説明する。図３７は、半導体装置の概略断面図である。
この実施例においては、配線基板１０３上の第２の半導
体チップ搭載領域に低融点金属ではない突起１２３ある
いはバンプが形成されている。この突起１２３あるいは
バンプが低融点金属でないことから、第１の半導体チッ
プ１０１と配線基板１０３の接続を形成する高温工程に
おいても、この突起１２３はその高さを維持しており、
第２の半導体チップ１０１′と配線基板１０３との間に
一定の厚さの隙間が確実に形成される。その結果、第２
の半導体チップ１０１′と配線基板１０３との間に充填
される樹脂１０９は、シリコン半導体と配線基板の熱膨
脹率の違いによる応力を緩和するに十分な厚さを持つこ
とが出来るため、製品信頼性が向上するという効果が得
られる。また、この突起あるいはバンプに、例えば金、
銀、銅などの高融点金属やアルミナ、窒化珪素等のセラ
ミックやあるいはガラスのような放熱性に優れた材料を
用いれば、突起あるいはバンプを介して、半導体素子か
らの発熱を配線基板側に放熱できることももちろんであ
る。この実施例の場合、第２の半導体チップ下の突起あ
るいはバンプが潰れることがないため各部分の厚さの制
約は前述した第８乃至第１２の実施例若干異なってく
る。
説明する。図３７は、半導体装置の概略断面図である。
この実施例においては、配線基板１０３上の第２の半導
体チップ搭載領域に低融点金属ではない突起１２３ある
いはバンプが形成されている。この突起１２３あるいは
バンプが低融点金属でないことから、第１の半導体チッ
プ１０１と配線基板１０３の接続を形成する高温工程に
おいても、この突起１２３はその高さを維持しており、
第２の半導体チップ１０１′と配線基板１０３との間に
一定の厚さの隙間が確実に形成される。その結果、第２
の半導体チップ１０１′と配線基板１０３との間に充填
される樹脂１０９は、シリコン半導体と配線基板の熱膨
脹率の違いによる応力を緩和するに十分な厚さを持つこ
とが出来るため、製品信頼性が向上するという効果が得
られる。また、この突起あるいはバンプに、例えば金、
銀、銅などの高融点金属やアルミナ、窒化珪素等のセラ
ミックやあるいはガラスのような放熱性に優れた材料を
用いれば、突起あるいはバンプを介して、半導体素子か
らの発熱を配線基板側に放熱できることももちろんであ
る。この実施例の場合、第２の半導体チップ下の突起あ
るいはバンプが潰れることがないため各部分の厚さの制
約は前述した第８乃至第１２の実施例若干異なってく
る。
【００６０】すなわち、第１の半導体チップ１０１と配
線基板１０３との間の接続を形成するためには、（第１
の半導体チップ１０１上の配線基板１０３との接続用フ
リップチップバンプの高さ）＋（配線基板１０３上の第
１の半導体チップ１０１との接続用フリップチップバン
プの高さ）≧（第１、第２の半導体チップ１０１、１０
１′間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の
厚さ）＋（第２の半導体チップ１０１′直下に形成され
た突起１２３あるいはバンプの高さ）であることが必要
であり、また、望ましくは、加熱加圧による接続を形成
するために、（第１、第２の半導体チップ１０１、１０
１′間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の
厚さ）＋（第２の半導体チップ１０１′直下に形成され
た突起１２３あるいはバンプの高さ）＞π×（第１の半
導体チップ１０１と配線基板１０３の接続ピッチの半
分）2 ／｛（第１の半導体チップ１０１上の配線基板１
０３との接続用フリップチップバンプの体積）＋（配線
基板１０３上の第１の半導体チップ１０１との接続用フ
リップチップバンプの体積）｝の関係式をも両立させて
いることがより好ましい。
線基板１０３との間の接続を形成するためには、（第１
の半導体チップ１０１上の配線基板１０３との接続用フ
リップチップバンプの高さ）＋（配線基板１０３上の第
１の半導体チップ１０１との接続用フリップチップバン
プの高さ）≧（第１、第２の半導体チップ１０１、１０
１′間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の
厚さ）＋（第２の半導体チップ１０１′直下に形成され
た突起１２３あるいはバンプの高さ）であることが必要
であり、また、望ましくは、加熱加圧による接続を形成
するために、（第１、第２の半導体チップ１０１、１０
１′間の接続高さ）＋（第２の半導体チップ１０１′の
厚さ）＋（第２の半導体チップ１０１′直下に形成され
た突起１２３あるいはバンプの高さ）＞π×（第１の半
導体チップ１０１と配線基板１０３の接続ピッチの半
分）2 ／｛（第１の半導体チップ１０１上の配線基板１
０３との接続用フリップチップバンプの体積）＋（配線
基板１０３上の第１の半導体チップ１０１との接続用フ
リップチップバンプの体積）｝の関係式をも両立させて
いることがより好ましい。
【００６１】次に、図３８乃至図４０を参照して第１４
の実施例を説明する。図３８は、半導体装置の断面構造
図、図３９は、図３８の半導体装置の第１及び第２の半
導体チップの配置関係を説明する平面図、図４０は、第
２の半導体チップとして厚いものを用いた参考例（本発
明のものとは異なるもの）である半導体装置の断面構造
図である。この実施例においては、第１の半導体チップ
１０１と配線基板１０３との間に格納される第２の半導
体チップ１０１′ａ、１０１′ｂが複数個から構成され
ている。ここでは２つの半導体チップの場合を一例とし
て説明する。便宜上これらの半導体チップを第２、第３
の半導体チップと呼ぶこととする。この実施例における
重要な特徴は、第２と第３の半導体チップの間の部分
で、第１の半導体チップ１０１と配線基板１０３とが接
続パッド１２８、１２９を具備している点である。
の実施例を説明する。図３８は、半導体装置の断面構造
図、図３９は、図３８の半導体装置の第１及び第２の半
導体チップの配置関係を説明する平面図、図４０は、第
２の半導体チップとして厚いものを用いた参考例（本発
明のものとは異なるもの）である半導体装置の断面構造
図である。この実施例においては、第１の半導体チップ
１０１と配線基板１０３との間に格納される第２の半導
体チップ１０１′ａ、１０１′ｂが複数個から構成され
ている。ここでは２つの半導体チップの場合を一例とし
て説明する。便宜上これらの半導体チップを第２、第３
の半導体チップと呼ぶこととする。この実施例における
重要な特徴は、第２と第３の半導体チップの間の部分
で、第１の半導体チップ１０１と配線基板１０３とが接
続パッド１２８、１２９を具備している点である。
【００６２】本発明の半導体装置においては、図３６に
示した第１２の実施例の変形例のように特殊の場合を除
いて、いずれの場合においても、２つの半導体チップが
Ｆａｃｅ ｔｏ ｆａｃｅで積層された領域にある半導
体素子への電源あるいはグランド電位の供給は、その外
周部のみから行う構造になっている。勿論、従来技術に
比べて本発明では、外周部に電源あるいはグランド電位
供給用接続パッドを最近接させて配置することが可能と
なっているため、非常に安定した電源あるいはグランド
供給が可能となっているが、このような積層部の面積、
すなわち、第８の実施例乃至第１３の実施例でいう第２
の半導体チップの面積が大きくなってしまった場合に
は、必ずしも十分な電源・グランド供給ができない状況
も出てくる。そこで第２の半導体チップが、例えば、短
辺側で６ｍｍ以上となってしまったような場合には、こ
れを幾つかに分割して第２、第３の半導体チップとし、
外周部からの距離を短くすることが有効である。当然、
第２、第３の半導体チップの間には、少なくとも電源、
グランド電位供給用の接続パッドが配置されることにな
るが、この接続パッドを第２、第３の半導体チップに最
近接させて配置できる点は本発明の最も重要な効果のひ
とつである。すなわち、図４０に示すように、第２、第
３の半導体チップ１０１′ａ、１０１′ｂが厚く、その
ために配線基板１０３に開口部あるいは貫通穴を形成し
てしまった場合には、第１の半導体チップ１０１と配線
基板１０３との間の接続パッド１２８、１２９は、第
２、第３の半導体チップ１０１′ａ、１０１′ｂから離
れた箇所に形成されることになってしまう。これは、配
線基板１０３の導体が、その開口部あるいは貫通穴の端
部から所定距離以上離れたところにしか形成できないた
めである。これに対し、この実施例の半導体装置におい
ては、図３８に示すように、配線基板１０３からの制約
を受けることのない構造になっている。すなわち、第
２、第３の半導体チップ間の第１の半導体チップ１０１
上の接続パッド１２８及び配線基板１０３上の接続パッ
ド１２９を半田バンプ１２４で接合する。これら接続パ
ッド１２８、１２９は、例えば、電源やグランド電位供
給用として用いることができる。
示した第１２の実施例の変形例のように特殊の場合を除
いて、いずれの場合においても、２つの半導体チップが
Ｆａｃｅ ｔｏ ｆａｃｅで積層された領域にある半導
体素子への電源あるいはグランド電位の供給は、その外
周部のみから行う構造になっている。勿論、従来技術に
比べて本発明では、外周部に電源あるいはグランド電位
供給用接続パッドを最近接させて配置することが可能と
なっているため、非常に安定した電源あるいはグランド
供給が可能となっているが、このような積層部の面積、
すなわち、第８の実施例乃至第１３の実施例でいう第２
の半導体チップの面積が大きくなってしまった場合に
は、必ずしも十分な電源・グランド供給ができない状況
も出てくる。そこで第２の半導体チップが、例えば、短
辺側で６ｍｍ以上となってしまったような場合には、こ
れを幾つかに分割して第２、第３の半導体チップとし、
外周部からの距離を短くすることが有効である。当然、
第２、第３の半導体チップの間には、少なくとも電源、
グランド電位供給用の接続パッドが配置されることにな
るが、この接続パッドを第２、第３の半導体チップに最
近接させて配置できる点は本発明の最も重要な効果のひ
とつである。すなわち、図４０に示すように、第２、第
３の半導体チップ１０１′ａ、１０１′ｂが厚く、その
ために配線基板１０３に開口部あるいは貫通穴を形成し
てしまった場合には、第１の半導体チップ１０１と配線
基板１０３との間の接続パッド１２８、１２９は、第
２、第３の半導体チップ１０１′ａ、１０１′ｂから離
れた箇所に形成されることになってしまう。これは、配
線基板１０３の導体が、その開口部あるいは貫通穴の端
部から所定距離以上離れたところにしか形成できないた
めである。これに対し、この実施例の半導体装置におい
ては、図３８に示すように、配線基板１０３からの制約
を受けることのない構造になっている。すなわち、第
２、第３の半導体チップ間の第１の半導体チップ１０１
上の接続パッド１２８及び配線基板１０３上の接続パッ
ド１２９を半田バンプ１２４で接合する。これら接続パ
ッド１２８、１２９は、例えば、電源やグランド電位供
給用として用いることができる。
【００６３】なお、半導体チップを分割することによ
り、電源・グランド電位供給の問題を低減できる点は従
来一般の半導体装置の場合においても同様であるが、こ
の場合、分割された半導体チップ間のデータ転送量が確
保できなくなってしまうという極めて深刻な課題に直面
してしまう。それに対し、この実施例の半導体装置の場
合、各半導体チップ間の接続は、最短距離かつ超高密度
であるため、上記データ転送量の問題は殆ど生じること
がない。すなわちこの実施例の半導体装置においては、
複数の半導体チップからなる大規模な半導体集積回路
を、必要十分なバンド幅で接続しつつ、十分な電源・グ
ランド電位の供給を実現できるという際だった効果を具
備している。また、第２、第３の半導体チップの外周の
接続パッドを置けない余分なスペースが小さいため、こ
のスペースによって第１の半導体チップが不必要に大き
くなってしまうような問題も起こし難くなっている。こ
の効果は、第８乃至第１３の実施例のように第２の半導
体チップが１個の場合でも同様である。但し、第２の半
導体チップが２個、３個、・・・、ｎ個と分割される数
が多くなってくる程、余分なスペースを生じ易い状況に
なってくる。このような状況においては、本発明の特徴
である第２、第３、・・・、第ｎの半導体チップに最近
接させた接続パッドが配置できる効果はより一層明確と
なってくる。
り、電源・グランド電位供給の問題を低減できる点は従
来一般の半導体装置の場合においても同様であるが、こ
の場合、分割された半導体チップ間のデータ転送量が確
保できなくなってしまうという極めて深刻な課題に直面
してしまう。それに対し、この実施例の半導体装置の場
合、各半導体チップ間の接続は、最短距離かつ超高密度
であるため、上記データ転送量の問題は殆ど生じること
がない。すなわちこの実施例の半導体装置においては、
複数の半導体チップからなる大規模な半導体集積回路
を、必要十分なバンド幅で接続しつつ、十分な電源・グ
ランド電位の供給を実現できるという際だった効果を具
備している。また、第２、第３の半導体チップの外周の
接続パッドを置けない余分なスペースが小さいため、こ
のスペースによって第１の半導体チップが不必要に大き
くなってしまうような問題も起こし難くなっている。こ
の効果は、第８乃至第１３の実施例のように第２の半導
体チップが１個の場合でも同様である。但し、第２の半
導体チップが２個、３個、・・・、ｎ個と分割される数
が多くなってくる程、余分なスペースを生じ易い状況に
なってくる。このような状況においては、本発明の特徴
である第２、第３、・・・、第ｎの半導体チップに最近
接させた接続パッドが配置できる効果はより一層明確と
なってくる。
【００６４】なお、この実施例の変形例として、第９乃
至第１３の実施例に記載の半導体装置における第２の半
導体チップを複数個に分割することも勿論可能である。
図４１は、第９の実施例の変形例、図４２は、第１０の
実施例の変形例、図４３は、第１１の実施例の変形例、
図４４は、第１２の実施例の変形例、図４５は、第１３
の実施例の変形例であり、いずれも、第１の半導体チッ
プ１０１と配線基板１０３との間に配置される第２の半
導体チップ１０１′ａ、１０１′ｂは、１対形成されて
いる。
至第１３の実施例に記載の半導体装置における第２の半
導体チップを複数個に分割することも勿論可能である。
図４１は、第９の実施例の変形例、図４２は、第１０の
実施例の変形例、図４３は、第１１の実施例の変形例、
図４４は、第１２の実施例の変形例、図４５は、第１３
の実施例の変形例であり、いずれも、第１の半導体チッ
プ１０１と配線基板１０３との間に配置される第２の半
導体チップ１０１′ａ、１０１′ｂは、１対形成されて
いる。
【００６５】次に、図４６を参照して第１５の実施例を
説明する。図４６は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例では、第２の半導体チップ１０１′の直下の
略中央部において配線基板１０３に貫通穴１３０が開口
されている。そして、この貫通穴１３０を介して第２の
半導体チップ１０１′には高放熱材料の放熱板１２５が
接着されている。この実施例の半導体装置は、この貫通
穴及び放熱板がある以外は図１９の半導体装置と同じ構
造である。貫通穴１３０の位置は、第２の半導体チップ
１０１′外周から、例えば、５００μｍ以上内側の範囲
に形成されているため、第２の半導体チップ外周に配置
された接続パッドも、この貫通穴１３０から５００μｍ
以上離れている。そのため、基板の製造上制約を受ける
ことはない。従ってこの実施例においても、本発明の最
大の効果である半導体チップ積層部へ最近接された接続
パッドを形成することができる。
説明する。図４６は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例では、第２の半導体チップ１０１′の直下の
略中央部において配線基板１０３に貫通穴１３０が開口
されている。そして、この貫通穴１３０を介して第２の
半導体チップ１０１′には高放熱材料の放熱板１２５が
接着されている。この実施例の半導体装置は、この貫通
穴及び放熱板がある以外は図１９の半導体装置と同じ構
造である。貫通穴１３０の位置は、第２の半導体チップ
１０１′外周から、例えば、５００μｍ以上内側の範囲
に形成されているため、第２の半導体チップ外周に配置
された接続パッドも、この貫通穴１３０から５００μｍ
以上離れている。そのため、基板の製造上制約を受ける
ことはない。従ってこの実施例においても、本発明の最
大の効果である半導体チップ積層部へ最近接された接続
パッドを形成することができる。
【００６６】この実施例に特有の効果は、第２の半導体
チップからの発熱の分散である。本発明における第２の
半導体チップは５０μｍ厚と薄くなっているため、例え
ば、極端に発熱密度の高いような半導体チップを適用し
ようとした場合、瞬間的な発熱を直ちに拡散させるため
の熱容量が不足しているという問題を生じる可能性があ
る。勿論、第１０乃至第１３の実施例に記載された工夫
により、このような熱拡散の課題を解決することは可能
であるが、より確実に解決するために、第２の半導体チ
ップ背面に高放熱材料の放熱板を直接接着し、この部分
で瞬間的な熱拡散を可能としたものがこの実施例であ
る。高放熱材料としては、金属、セラミック、ガラス、
ダイヤモンド、グラファイト等が適当であるが、コスト
や熱伝導性能を考慮すると銅、アルミ及びそれらの合金
が望ましい。なお、当該高放熱材料がシステム実装レベ
ルでヒートスプレッダ等の冷却装置に直結されていれば
より一層好ましいことは勿論である。また、この実施例
は、第１４の実施例のように第２の半導体チップが複数
個に分割されている場合においても、採用できることは
勿論である。
チップからの発熱の分散である。本発明における第２の
半導体チップは５０μｍ厚と薄くなっているため、例え
ば、極端に発熱密度の高いような半導体チップを適用し
ようとした場合、瞬間的な発熱を直ちに拡散させるため
の熱容量が不足しているという問題を生じる可能性があ
る。勿論、第１０乃至第１３の実施例に記載された工夫
により、このような熱拡散の課題を解決することは可能
であるが、より確実に解決するために、第２の半導体チ
ップ背面に高放熱材料の放熱板を直接接着し、この部分
で瞬間的な熱拡散を可能としたものがこの実施例であ
る。高放熱材料としては、金属、セラミック、ガラス、
ダイヤモンド、グラファイト等が適当であるが、コスト
や熱伝導性能を考慮すると銅、アルミ及びそれらの合金
が望ましい。なお、当該高放熱材料がシステム実装レベ
ルでヒートスプレッダ等の冷却装置に直結されていれば
より一層好ましいことは勿論である。また、この実施例
は、第１４の実施例のように第２の半導体チップが複数
個に分割されている場合においても、採用できることは
勿論である。
【００６７】次に、図４７を参照して第１６の実施例を
説明する。図４７は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例においては、第２の半導体チップ１０１′と
配線基板１０３の間に高放熱ペースト１２６が挿入され
ている。この高放熱ペーストが存在する点で、この実施
例の半導体装置は、図１９の半導体装置とは相違するの
みでその他は異なるところはない。高放熱ペーストの種
類としては、例えば、銀等の金属粉やセラミック粉末を
含有したエポキシ樹脂などが好適である。高放熱ペース
ト層の形成方法は、第２の半導体チップ１０１′を積層
した第１の半導体チップ１０１を配線基板１０３上に接
続する際に、配線基板１０３上の第２の半導体チップ搭
載領域に塗布するだけでよい。
説明する。図４７は、半導体装置の断面構造図である。
この実施例においては、第２の半導体チップ１０１′と
配線基板１０３の間に高放熱ペースト１２６が挿入され
ている。この高放熱ペーストが存在する点で、この実施
例の半導体装置は、図１９の半導体装置とは相違するの
みでその他は異なるところはない。高放熱ペーストの種
類としては、例えば、銀等の金属粉やセラミック粉末を
含有したエポキシ樹脂などが好適である。高放熱ペース
ト層の形成方法は、第２の半導体チップ１０１′を積層
した第１の半導体チップ１０１を配線基板１０３上に接
続する際に、配線基板１０３上の第２の半導体チップ搭
載領域に塗布するだけでよい。
【００６８】次に、図１２乃至図１８を参照して第１７
の実施例を説明する。図１２は、半導体装置の製造工程
断面図である。この実施例では、配線基板に少なくとも
２つのチップを搭載する構造において、第８乃至第１６
の実施例と同様に、相互の電気的接続をフリップチップ
接続により行うことに特徴がある。第８乃至第１６の実
施例では、接続端子を接続パッドとしていたが、この実
施例では接続端子として説明する。また、半田バンプ
は、半田ボールという。図１２（ｃ）に示すように、半
導体素子が作り込まれた２つのチップ（第１のチップ８
１及び第２のチップ８２）は素子形成面同士が対向して
フリップチップ接続されている。対向している２つのチ
ップ間にはそれぞれの接続端子を電気的に接続している
半田ボール（または半田バンプ）８４などの低融点金属
の外部接続部材が介在されており、これら半田ボール８
４は、エポキシ樹脂などの樹脂封止体８７により被覆さ
れている。配線基板８３の回路配線に接続された接続端
子は、第１のチップ８１の素子形成面８１′に形成され
た接続端子に半田ボール８５を介してフリップチップ接
続されている。
の実施例を説明する。図１２は、半導体装置の製造工程
断面図である。この実施例では、配線基板に少なくとも
２つのチップを搭載する構造において、第８乃至第１６
の実施例と同様に、相互の電気的接続をフリップチップ
接続により行うことに特徴がある。第８乃至第１６の実
施例では、接続端子を接続パッドとしていたが、この実
施例では接続端子として説明する。また、半田バンプ
は、半田ボールという。図１２（ｃ）に示すように、半
導体素子が作り込まれた２つのチップ（第１のチップ８
１及び第２のチップ８２）は素子形成面同士が対向して
フリップチップ接続されている。対向している２つのチ
ップ間にはそれぞれの接続端子を電気的に接続している
半田ボール（または半田バンプ）８４などの低融点金属
の外部接続部材が介在されており、これら半田ボール８
４は、エポキシ樹脂などの樹脂封止体８７により被覆さ
れている。配線基板８３の回路配線に接続された接続端
子は、第１のチップ８１の素子形成面８１′に形成され
た接続端子に半田ボール８５を介してフリップチップ接
続されている。
【００６９】また、第２のチップ８２の素子形成面８
２′とは反対側の裏面に形成された接続端子は、配線基
板８３の回路配線に接続された接続端子に半田ボール８
６などの低融点金属の外部接続部材を介してフリップチ
ップ接続されている。この素子形成面８２′とは反対側
の裏面に形成された接続端子は、第２のチップ８２に形
成された貫通穴に埋め込まれた導電層（図５及び図８参
照）を介して第２のチップ８２に形成された半導体素子
に電気的に接続されている。フリップチップ接続される
前のバンプ８４は、第１のチップ８１あるいは第２のチ
ップ８２もしくは両者に形成されている。フリップチッ
プ接続される前のバンプ８５は、配線基板８３あるいは
第１のチップ８１もしくは両者に形成されている。ま
た、フリップチップ接続される前のバンプ８６は、配線
基板８３あるいは第２のチップ８２もしくは両者に形成
されている。
２′とは反対側の裏面に形成された接続端子は、配線基
板８３の回路配線に接続された接続端子に半田ボール８
６などの低融点金属の外部接続部材を介してフリップチ
ップ接続されている。この素子形成面８２′とは反対側
の裏面に形成された接続端子は、第２のチップ８２に形
成された貫通穴に埋め込まれた導電層（図５及び図８参
照）を介して第２のチップ８２に形成された半導体素子
に電気的に接続されている。フリップチップ接続される
前のバンプ８４は、第１のチップ８１あるいは第２のチ
ップ８２もしくは両者に形成されている。フリップチッ
プ接続される前のバンプ８５は、配線基板８３あるいは
第１のチップ８１もしくは両者に形成されている。ま
た、フリップチップ接続される前のバンプ８６は、配線
基板８３あるいは第２のチップ８２もしくは両者に形成
されている。
【００７０】このように、第１のチップ８１、第２のチ
ップ８２及び配線基板８３は、それぞれ複数の接続端子
が形成されている。第１のチップ８１は、素子形成面８
１′にチップに作り込まれた半導体素子と電気的に接続
されたアルミニウムや銅などからなる複数の接続端子を
有しており、これらの接続端子は、それぞれ第２のチッ
プの接続端子に電気的に接続される第１の接続端子群及
び配線基板８３の接続端子に電気的に接続される第２の
接続端子群に分かれている。第２のチップ８２は、素子
形成面８２′及び素子形成面８２′と反対側の裏面に、
チップに作り込まれた半導体素子と電気的に接続された
アルミニウムなどからなる複数の接続端子を有してお
り、これらの接続端子は、第１のチップ８１の接続端子
に電気的に接続された第３の接続端子群及び配線基板８
３の接続端子に電気的に接続された第４の接続端子群に
分かれている。また、配線基板８３は、主面に回路配線
と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる複数の
接続端子を有しており、これらの接続端子は、第１のチ
ップ８１の接続端子に電気的に接続された第５の接続端
子群及び第２のチップ８２の接続端子に電気的に接続さ
れた第６の接続端子群に分かれている。
ップ８２及び配線基板８３は、それぞれ複数の接続端子
が形成されている。第１のチップ８１は、素子形成面８
１′にチップに作り込まれた半導体素子と電気的に接続
されたアルミニウムや銅などからなる複数の接続端子を
有しており、これらの接続端子は、それぞれ第２のチッ
プの接続端子に電気的に接続される第１の接続端子群及
び配線基板８３の接続端子に電気的に接続される第２の
接続端子群に分かれている。第２のチップ８２は、素子
形成面８２′及び素子形成面８２′と反対側の裏面に、
チップに作り込まれた半導体素子と電気的に接続された
アルミニウムなどからなる複数の接続端子を有してお
り、これらの接続端子は、第１のチップ８１の接続端子
に電気的に接続された第３の接続端子群及び配線基板８
３の接続端子に電気的に接続された第４の接続端子群に
分かれている。また、配線基板８３は、主面に回路配線
と電気的に接続されたアルミニウムなどからなる複数の
接続端子を有しており、これらの接続端子は、第１のチ
ップ８１の接続端子に電気的に接続された第５の接続端
子群及び第２のチップ８２の接続端子に電気的に接続さ
れた第６の接続端子群に分かれている。
【００７１】次に、このような半導体装置は、以下のよ
うな工程で製造される。まず、第１のチップ８１の素子
形成面には、第２のチップ８２が半田ボール８４によっ
て取り付けられ、さらに、半田ボール８５が取り付けら
れている。また、第２のチップ８２の裏面に半田ボール
８６を取り付ける。そして、第２のチップ８２及び半田
ボール８５、８６が配線基板（実装基板）８３の素子搭
載面に対向するように配置させる。このとき、第１のチ
ップ８１の厚さは、第２のチップ８２の厚さより厚いも
のとなっている（図１２（ａ））。次に、半田ボール８
５を配線基板８３の接続端子に接触させる。このときの
半田ボール８５の直径Ａは、第２のチップ厚さと半田ボ
ール８４、８６の高さの和Ｂより大きい（Ａ＞Ｂ）。こ
のとき、半田ボール８６は、配線基板８３に届かない
（図１２（ｂ））。次に、半田リフローによって第１の
チップ８１を配線基板８３に半田ボール８５を介して接
合する。このとき、半田ボール８５のセルフアラインに
より、第２のチップ８２の半田ボール８６が配線基板８
３に接合される（図１２（ｃ））。
うな工程で製造される。まず、第１のチップ８１の素子
形成面には、第２のチップ８２が半田ボール８４によっ
て取り付けられ、さらに、半田ボール８５が取り付けら
れている。また、第２のチップ８２の裏面に半田ボール
８６を取り付ける。そして、第２のチップ８２及び半田
ボール８５、８６が配線基板（実装基板）８３の素子搭
載面に対向するように配置させる。このとき、第１のチ
ップ８１の厚さは、第２のチップ８２の厚さより厚いも
のとなっている（図１２（ａ））。次に、半田ボール８
５を配線基板８３の接続端子に接触させる。このときの
半田ボール８５の直径Ａは、第２のチップ厚さと半田ボ
ール８４、８６の高さの和Ｂより大きい（Ａ＞Ｂ）。こ
のとき、半田ボール８６は、配線基板８３に届かない
（図１２（ｂ））。次に、半田リフローによって第１の
チップ８１を配線基板８３に半田ボール８５を介して接
合する。このとき、半田ボール８５のセルフアラインに
より、第２のチップ８２の半田ボール８６が配線基板８
３に接合される（図１２（ｃ））。
【００７２】このように、一方の半導体チップを配線基
板にフリップチップ接続するとともに、同時に他方の半
導体チップを配線基板とフリップチップ接続するように
セルフアラインで行うことにより、半導体素子が形成さ
れた複数の半導体チップ間で高速大容量のデータ転送を
可能にしながら全てのチップに半田ボール（もしくは半
田バンプ）などから構成された外部接続部材が設けられ
た半導体パッケージを得ることができる。図１３及び図
１４は、図１２に示した製造工程の変形例である。図１
３は、配線基板８３にも半田ボール８５′を設けておく
ことに特徴がある。そして、両者を合わせて図１３
（ｃ）に示すように第１のチップ８１と配線基板８３と
を接合する半田ボール８５を形成する。図１４は、配線
基板８３に第２のチップ８２を取り付けてから（図１４
（ａ））第１のチップ８１を配線基板８３に取り付ける
ことに特徴がある。図１５は、図１２に示される第１及
び第２のチップの積層状態を説明する平面図を表わして
いる。図１５に示すように、第２のチップ８２は、第１
のチップ８１のほぼ中央に配置されている。これは、第
８乃至第１６の実施例と同じチップ積層構造となってい
る。しかし、この実施例では、必ずしもこのような配置
である必要はない、即ち、第２のチップ８２の一辺が第
１のチップ８１の一辺に一致させることができる。ま
た、第２のチップ８２を完全に第１のチップ８１にあわ
せる必要はなく、互いにずれるように配置しても良い
（図１６（ａ））。また、図１６（ｂ）に示すように、
第２のチップ８２は、その長辺が第１のチップ８１より
長い長方形であっても本発明を適用することは可能であ
る。また、図１６（ｃ）に示すように、第２のチップ８
２、８２′として２つのチップを使用することができ
る。
板にフリップチップ接続するとともに、同時に他方の半
導体チップを配線基板とフリップチップ接続するように
セルフアラインで行うことにより、半導体素子が形成さ
れた複数の半導体チップ間で高速大容量のデータ転送を
可能にしながら全てのチップに半田ボール（もしくは半
田バンプ）などから構成された外部接続部材が設けられ
た半導体パッケージを得ることができる。図１３及び図
１４は、図１２に示した製造工程の変形例である。図１
３は、配線基板８３にも半田ボール８５′を設けておく
ことに特徴がある。そして、両者を合わせて図１３
（ｃ）に示すように第１のチップ８１と配線基板８３と
を接合する半田ボール８５を形成する。図１４は、配線
基板８３に第２のチップ８２を取り付けてから（図１４
（ａ））第１のチップ８１を配線基板８３に取り付ける
ことに特徴がある。図１５は、図１２に示される第１及
び第２のチップの積層状態を説明する平面図を表わして
いる。図１５に示すように、第２のチップ８２は、第１
のチップ８１のほぼ中央に配置されている。これは、第
８乃至第１６の実施例と同じチップ積層構造となってい
る。しかし、この実施例では、必ずしもこのような配置
である必要はない、即ち、第２のチップ８２の一辺が第
１のチップ８１の一辺に一致させることができる。ま
た、第２のチップ８２を完全に第１のチップ８１にあわ
せる必要はなく、互いにずれるように配置しても良い
（図１６（ａ））。また、図１６（ｂ）に示すように、
第２のチップ８２は、その長辺が第１のチップ８１より
長い長方形であっても本発明を適用することは可能であ
る。また、図１６（ｃ）に示すように、第２のチップ８
２、８２′として２つのチップを使用することができ
る。
【００７３】また、図１７は、３つ以上のチップをパッ
ケージに収納する例を示している。配線基板８３上に
は、図１２に示した、２層のチップ構造の上に、さら
に、第３、第４及び第５のチップ８８、８９、９１が積
層されている。図１８に示すように第２のチップ８２の
裏面に形成された半田ボール８６は、第２のチップ８２
に形成された貫通穴８０に埋め込まれた導電層９０によ
り第２のチップ８２に形成された半導体素子と電気的に
接続されるように構成されている。これら積層されたチ
ップの内部回路間の電気的接続はバンプや貫通穴に埋め
込まれた導電層を介して行われる。以上、第８乃至第１
７の実施例の半導体装置ではワイヤボンディング接続を
用いずにチップ間接続をフリップチップ接続により行う
のでパッケージの小形化が可能になると共にチップ間の
高速大容量のデータ転送が可能になる。
ケージに収納する例を示している。配線基板８３上に
は、図１２に示した、２層のチップ構造の上に、さら
に、第３、第４及び第５のチップ８８、８９、９１が積
層されている。図１８に示すように第２のチップ８２の
裏面に形成された半田ボール８６は、第２のチップ８２
に形成された貫通穴８０に埋め込まれた導電層９０によ
り第２のチップ８２に形成された半導体素子と電気的に
接続されるように構成されている。これら積層されたチ
ップの内部回路間の電気的接続はバンプや貫通穴に埋め
込まれた導電層を介して行われる。以上、第８乃至第１
７の実施例の半導体装置ではワイヤボンディング接続を
用いずにチップ間接続をフリップチップ接続により行う
のでパッケージの小形化が可能になると共にチップ間の
高速大容量のデータ転送が可能になる。
【００７４】
【発明の効果】本発明は、以上の構成により、積層され
た少なくとも２つのチップ間での高速大容量のデータ転
送を可能にしながら少なくとも２つのチップのいずれか
らも外部接続端子を導出することが可能であり、且つ少
なくとも一方のチップから高速大容量のデータ転送が可
能である。しかも、いずれチップもチップサイズを任意
に選択することが出来る。また、配線基板とその上にフ
リップチップ接続された第１の半導体チップとの間にこ
の第１の半導体チップにフリップチップ接続した第２の
半導体チップを収納する構造の半導体装置において、２
つの半導体チップ間の高速大容量のデータ転送と上方の
半導体チップからの高速大容量の外部接続端子の導出が
可能であり、２つの半導体チップでお互いに挟み込んで
しまった領域からも高速の外部データ転送可能であり、
さらには、上方の半導体チップの配線基板と直接接続さ
れた領域は勿論として、２つの半導体チップでお互いに
挟み込んでしまった領域にも必要十分な電源・グランド
電位の供給を行うことが可能である。また、配線基板と
第１の半導体チップとの間の空間に第２の半導体チップ
を完全に収納して、第２の半導体チップの熱的な歪みに
対する耐性を高くすることが可能である。また、必要に
応じてすべての半導体チップ内の回路に効率的な電源供
給を可能にできる。
た少なくとも２つのチップ間での高速大容量のデータ転
送を可能にしながら少なくとも２つのチップのいずれか
らも外部接続端子を導出することが可能であり、且つ少
なくとも一方のチップから高速大容量のデータ転送が可
能である。しかも、いずれチップもチップサイズを任意
に選択することが出来る。また、配線基板とその上にフ
リップチップ接続された第１の半導体チップとの間にこ
の第１の半導体チップにフリップチップ接続した第２の
半導体チップを収納する構造の半導体装置において、２
つの半導体チップ間の高速大容量のデータ転送と上方の
半導体チップからの高速大容量の外部接続端子の導出が
可能であり、２つの半導体チップでお互いに挟み込んで
しまった領域からも高速の外部データ転送可能であり、
さらには、上方の半導体チップの配線基板と直接接続さ
れた領域は勿論として、２つの半導体チップでお互いに
挟み込んでしまった領域にも必要十分な電源・グランド
電位の供給を行うことが可能である。また、配線基板と
第１の半導体チップとの間の空間に第２の半導体チップ
を完全に収納して、第２の半導体チップの熱的な歪みに
対する耐性を高くすることが可能である。また、必要に
応じてすべての半導体チップ内の回路に効率的な電源供
給を可能にできる。
【図１】本発明の半導体装置の斜視図。
【図２】図１のＡ−Ａ′線及びＢ−Ｂ′線に沿う部分の
断面図。
断面図。
【図３】本発明の半導体装置の断面図。
【図４】本発明の半導体装置の断面図。
【図５】本発明の半導体装置の断面図。
【図６】本発明の半導体装置の斜視図。
【図７】本発明の半導体装置の斜視図。
【図８】本発明の半導体装置の断面図。
【図９】本発明の半導体装置の斜視図。
【図１０】本発明の半導体装置の斜視図。
【図１１】本発明の半導体装置の斜視図。
【図１２】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図１３】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図１４】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図１５】本発明の半導体装置の底面からみた平面図。
【図１６】本発明の半導体装置の底面からみた平面図。
【図１７】本発明の３つ以上のチップを有するパッケー
ジの断面図。
ジの断面図。
【図１８】図１７のパッケージの接続構造を説明するパ
ッケージの断面図。
ッケージの断面図。
【図１９】本発明の半導体装置の断面図。
【図２０】図１９の半導体装置を構成する第１及び第２
の半導体チップの相互の配置を示す平面図。
の半導体チップの相互の配置を示す平面図。
【図２１】本発明の内部の構造を説明する断面図。
【図２２】本発明の内部の構造を説明する断面図。
【図２３】本発明を説明するための参考例の半導体装置
の断面図。
の断面図。
【図２４】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図２５】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図２６】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図２７】本発明の半導体装置の断面図。
【図２８】図２５の半導体装置を構成する樹脂封止体が
形成される時の樹脂の動きを説明する第１及び第２の半
導体チップの平面図。
形成される時の樹脂の動きを説明する第１及び第２の半
導体チップの平面図。
【図２９】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図３０】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図３１】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図３２】本発明の半導体装置の断面図。
【図３３】本発明の半導体装置の断面図。
【図３４】本発明の半導体装置の断面図。
【図３５】本発明の半導体装置の製造工程断面図。
【図３６】本発明の半導体装置の断面図。
【図３７】本発明の半導体装置の断面図。
【図３８】本発明の半導体装置の断面図。
【図３９】図３８の半導体装置を構成する第１及び第２
の半導体チップの相互の配置を示す平面図。
の半導体チップの相互の配置を示す平面図。
【図４０】本発明を説明するための参考例の半導体装置
の断面図。
の断面図。
【図４１】本発明の半導体装置の断面図。
【図４２】本発明の半導体装置の断面図。
【図４３】本発明の半導体装置の断面図。
【図４４】本発明の半導体装置の断面図。
【図４５】本発明の半導体装置の断面図。
【図４６】本発明の半導体装置の断面図。
【図４７】本発明の半導体装置の断面図。
【図４８】従来の半導体装置の斜視図。
【図４９】従来の半導体装置の斜視図。
１、２１、３１、４１、５１、６１、７１ａ、７１ｂ、
８１、９１・・・上段に配置される第１のチップ、
１′、２１′、３１′、４１′、５１′、６１′、７
１′ａ、７１′ｂ・・・第１のチップの素子形成面、
２、２２、３２、４２、５２、６２、７２ａ、７２ｂ、
８２、８９・・・下段に配置された第２のチップ、
２′、２２′、３２′、４２′、５２′、６２′、７
２′ａ、７２′ｂ、９２′・・・第２のチップの素子形
成面、３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３
・・・配線基板、４、２４、３４、４４、５４、６４、
７４、８４・・・チップ間をフリップチップ接続する外
部接続端子（バンプ又はボール）、５、４５、５５、６
５、７５、８５・・・第１のチップと配線基板とをフリ
ップチップ接続する外部接続端子（バンプ又はボー
ル）、６、２６、３６、４６、５６、６６、７６、９７
・・・金線などのボンディングワイヤ、１１・・・第１
の接続端子群の接続端子、１２・・・第２の接続端子群
の接続端子、１３・・・第３の接続端子群の接続端子、
１４・・・第４の接続端子群の接続端子、１５・・・第
５の接続端子群の接続端子、１６・・・第６の接続端子
群の接続端子、２７・・・第２のチップのボンディング
ワイヤ直下に形成されたバンプ、２８・・・第２のチッ
プのボンディングワイヤ直下に形成された突起、３０、
５０、８０・・・貫通穴、 ３８・・・バンプ、３
９、５９、９０・・・貫通穴に埋め込まれた導電層、４
７、６７・・・配線基板の窓、 ８６・・・半田ボー
ル、９８・・・ダイボンド接着剤、１０１・・・第１の
半導体チップ、１０１′、１０１′ａ、１０１′ｂ・・
・第２の半導体チップ、１０２・・・第１の半導体チッ
プの半導体素子形成面、１０２′・・・第２の半導体チ
ップの半導体素子形成面、１０３・・・配線基板、１０
４、１０４′、１０５、１１２、１２７、１２８、１２
９・・・接続端子（接続パッド）、１０６、１０７、１
０７′、１１１、１１５、１２４・・・バンプ、１０９
・・・樹脂封止体（アンダーフィル樹脂）、１１０・・
・高融点金属バンプ、 １１３・・・金属膜、１１４
・・・導電性貫通穴、 １１６・・・縦穴、 １１７・
・・絶縁膜、１１８・・・導電性物質、 １１９・・
・ダイシング溝、１２３・・・突起、 １２５・・・放
熱板、 １２６・・・高放熱ペースト、１３０・・・貫
通穴。
８１、９１・・・上段に配置される第１のチップ、
１′、２１′、３１′、４１′、５１′、６１′、７
１′ａ、７１′ｂ・・・第１のチップの素子形成面、
２、２２、３２、４２、５２、６２、７２ａ、７２ｂ、
８２、８９・・・下段に配置された第２のチップ、
２′、２２′、３２′、４２′、５２′、６２′、７
２′ａ、７２′ｂ、９２′・・・第２のチップの素子形
成面、３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３
・・・配線基板、４、２４、３４、４４、５４、６４、
７４、８４・・・チップ間をフリップチップ接続する外
部接続端子（バンプ又はボール）、５、４５、５５、６
５、７５、８５・・・第１のチップと配線基板とをフリ
ップチップ接続する外部接続端子（バンプ又はボー
ル）、６、２６、３６、４６、５６、６６、７６、９７
・・・金線などのボンディングワイヤ、１１・・・第１
の接続端子群の接続端子、１２・・・第２の接続端子群
の接続端子、１３・・・第３の接続端子群の接続端子、
１４・・・第４の接続端子群の接続端子、１５・・・第
５の接続端子群の接続端子、１６・・・第６の接続端子
群の接続端子、２７・・・第２のチップのボンディング
ワイヤ直下に形成されたバンプ、２８・・・第２のチッ
プのボンディングワイヤ直下に形成された突起、３０、
５０、８０・・・貫通穴、 ３８・・・バンプ、３
９、５９、９０・・・貫通穴に埋め込まれた導電層、４
７、６７・・・配線基板の窓、 ８６・・・半田ボー
ル、９８・・・ダイボンド接着剤、１０１・・・第１の
半導体チップ、１０１′、１０１′ａ、１０１′ｂ・・
・第２の半導体チップ、１０２・・・第１の半導体チッ
プの半導体素子形成面、１０２′・・・第２の半導体チ
ップの半導体素子形成面、１０３・・・配線基板、１０
４、１０４′、１０５、１１２、１２７、１２８、１２
９・・・接続端子（接続パッド）、１０６、１０７、１
０７′、１１１、１１５、１２４・・・バンプ、１０９
・・・樹脂封止体（アンダーフィル樹脂）、１１０・・
・高融点金属バンプ、 １１３・・・金属膜、１１４
・・・導電性貫通穴、 １１６・・・縦穴、 １１７・
・・絶縁膜、１１８・・・導電性物質、 １１９・・
・ダイシング溝、１２３・・・突起、 １２５・・・放
熱板、 １２６・・・高放熱ペースト、１３０・・・貫
通穴。
フロントページの続き (72)発明者 松井 幹雄 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Ｆターム(参考） 5F044 KK02 KK05 LL01
Claims (29)
- 【請求項１】 素子形成面上の異なる領域に第１及び第
２の接続端子群を備えた第１の半導体チップと、 前記第１の接続端子群と対向する位置にある第３の接続
端子群及び第４の接続端子群を備えた第２の半導体チッ
プと、 第５及び第６の接続端子群を備えた配線基板とを具備
し、 前記第１の半導体チップと前記第２の半導体チップとが
前記第１の接続端子群及び前記第３の接続端子群を介し
て対向接続されており、前記第１の半導体チップと前記
配線基板とが前記第２の接続端子群及びこの第２の接続
端子群とは鏡面対向する位置にある前記第５の接続端子
群を介してフリップチップ接続されており、且つ前記第
４の接続端子群及び第６の接続端子群がワイヤボンディ
ングによって互いに接続されていることを特徴とする半
導体装置。 - 【請求項２】 前記第５及び第６の接続端子群は、配線
基板の同じ面側に配置され、前記第３及び第４の接続端
子群は、前記第２の半導体チップに形成された素子形成
面上の異なる領域に配置されていることを特徴とする請
求項１に記載の半導体装置。 - 【請求項３】 前記第３及び第４の接続端子群が前記第
２の半導体チップの素子形成面の反対側の異なる領域に
配置されていて、前記第２の半導体チップの前記第３及
び第４の接続端子群の直下あるいは近傍に導電層が埋め
込まれた貫通穴が形成され、この導電層を介して前記第
３及び第４の接続端子群が前記第２のチップに形成され
た半導体素子と電気的に接続されていることを特徴とす
る請求項１に記載の半導体装置。 - 【請求項４】 前記第１及び第３の接続端子群を接続す
る接続高さと前記第２の半導体チップの厚さとの和が前
記第２及び第５の接続端子群を接続する接続高さ以下で
あることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の半
導体装置。 - 【請求項５】 前記配線基板は、貫通窓を具備し、前記
第２の半導体チップがこの貫通窓の中に挿入されている
ことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の半導体
装置。 - 【請求項６】 前記配線基板は、貫通窓を具備し、前記
第５及び第６の接続端子群が前記配線基板の異なる面に
別々に配置されており、前記第６の接続端子群が前記配
線基板の貫通窓の外周に配置されており、前記第３及び
第４の接続端子群が前記第２の半導体チップの異なる面
に別々に配置されており、前記第３及び第４の接続端子
群のうちの前記第２の半導体チップの素子形成面と異な
る面に配置された端子群の直下あるいは近傍に導電層が
埋め込まれた貫通穴が形成されており、この導電層を介
して素子形成面の反対側の面に形成された接続端子群と
前記第２の半導体チップに形成された半導体素子が電気
的に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の
半導体装置。 - 【請求項７】 前記第２の半導体チップの前記第４の接
続端子群の背面と前記配線基板の前記第４の接続端子群
の直下の位置との間に突起が形成されていることを特徴
とする請求項４に記載の半導体装置。 - 【請求項８】 前記第２及び第５の接続端子群の少なく
とも一部のいずれか一方に導電性バンプが形成され、こ
のときの導電性バンプの高さの和が、前記第１及び第３
の接続端子群の接続高さと前記第２の半導体チップの厚
さと前記突起の高さとの和以上に設定され、且つ前記導
電性バンプの溶融後の高さが、前記第１及び第３の接続
端子群の接続高さと前記第２の半導体チップの厚さと前
記突起の高さとの和以下となることを特徴とする請求項
７に記載の半導体装置。 - 【請求項９】 前記第２の半導体チップは前記配線基板
と対向する面に第７の接続端子を具備し、前記配線基板
はこの第７の接続端子に対向する位置に第８の接続端子
を具備し、前記第７及び第８の接続端子が接続されてい
ることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに
記載の半導体装置。 - 【請求項１０】 前記第２の半導体チップは前記配線基
板と対向する面に第７の接続端子を具備し、前記配線基
板は前記第７の接続端子に対向する位置に第８の接続端
子を具備し、前記第７と第８の接続端子が接続されてお
り、前記第２の半導体チップの前記第７の接続端子の直
下あるいは近傍に導電層が埋め込まれた貫通穴が形成さ
れ、この導電層を介して、前記第７の接続端子と前記第
２の半導体チップに形成された半導体素子が電気的に接
続されていることを特徴とする請求項２に記載の半導体
装置。 - 【請求項１１】 素子形成面上の異なる領域に第１及び
第２の接続端子群を具備した第１乃至第ｍの半導体チッ
プと、当該第１の接続端子群の少なくとも一部と対向す
る位置にある第３の接続端子群と外周部に配置された第
４の接続端子群とを具備した第（ｍ＋１）乃至第ｎの半
導体チップと、第５及び第６の接続端子群を具備した配
線基板とからなり、前記第１乃至第ｍと第（ｍ＋１）乃
至第ｎの半導体チップが前記第１及び第３の接続端子群
を介して対向接続されており、前記第１乃至第ｍの半導
体チップと前記配線基板とが、互いに対向する位置にあ
る前記第２及び第５の接続端子群を介してフリップチッ
プ接続されており、前記第４及び第６の接続端子群がワ
イヤボンディングによって接続されていることを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項１２】 素子形成面上の異なる領域に第１及び
第２の接続端子群を備えた第１の半導体チップと、 前記第１の接続端子群と対向する位置にある第３の接続
端子群及びこの第３の接続端子群とは異なる面に配置さ
れた第４の接続端子群を備えた第２の半導体チップと、 第５及び第６の接続端子群を備えた配線基板とを具備
し、 前記第１の半導体チップと前記第２の半導体チップとが
前記第１の接続端子群及び前記第３の接続端子群を介し
てフリップチップ接続されており、前記第１の半導体チ
ップと前記配線基板とが前記第２の接続端子群及びこの
第２の接続端子群とは対向する位置にある前記第５の接
続端子群を介してフリップチップ接続されており、且つ
前記第２の半導体チップと前記配線基板とが前記第４の
接続端子群及びこの第４の接続端子群とは対向する位置
にある第６の接続端子群を介してフリップチップ接続さ
れていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項１３】 素子形成面上の異なる領域に第１及び
第２の接続端子群を備えた第１の半導体チップを形成す
る工程と、 前記第１の接続端子群と対向する位置にある第３の接続
端子群及びこの第３の接続端子群とは異なる面に配置さ
れた第４の接続端子群を備えた第２の半導体チップを形
成する工程と、 第５及び第６の接続端子群を備えた配線基板を形成する
工程と、 前記第１の半導体チップと前記第２の半導体チップとを
前記第１の接続端子群及び前記第３の接続端子群を介し
てフリップチップ接続する工程と、 前記第２の接続端子群及びこの第２の接続端子群とは対
向する位置にある前記第５の接続端子群のいずれか一方
もしくは双方の各接続端子に第１の低融点金属ボールを
接合する工程と、 前記第４の接続端子群及びこの第４の接続端子群とは対
向する位置にある第６の接続端子群のいずれか一方もし
くは双方の各接続端子に第２の低融点金属ボールを接合
する工程と、 前記第２の接続端子群と前記第５の接続端子群とを前記
第１の低融点金属ボールを介してフリップチップ接続す
るとともに、同時に前記第４の接続端子群と前記第６の
接続端子群とを前記第２の低融点金属ボールを介してフ
リップチップ接続する工程とを具備することを特徴とす
る半導体装置の製造方法。 - 【請求項１４】 前記第１の低融点金属ボールの厚さ
は、前記第２の低融点金属ボールの厚さより厚く、且つ
前記第１の低融点金属ボールの介在によって形成される
前記第１の半導体チップと前記配線基板との間の空間に
前記第２の半導体チップ及び前記第２の低融点金属ボー
ルが配置されることを特徴とする請求項１３に記載の半
導体装置の製造方法。 - 【請求項１５】 同一面内の異なる領域に第１及び第２
の接続端子を備えた第１の半導体チップと、 前記第１の接続端子と対向する位置に第３の接続端子を
備えた第２の半導体チップと、 前記第２の接続端子と対向する位置に第４の接続端子を
備えた配線基板とを具備し、 前記第２の半導体チップが前記第１の半導体チップと前
記配線基板との間に収納され、前記第１及び第２の接続
端子が前記第１の半導体チップに形成された半導体素子
に電気的に接続され、前記第３の接続端子が前記第２の
半導体チップに形成された半導体素子に電気的に接続さ
れ、前記第１の半導体チップと前記第２の半導体チップ
とが前記第１の接続端子及び前記第３の接続端子を介し
て接続され、前記第１の半導体チップと前記配線基板と
が前記第２の接続端子と前記第４の接続端子を介して接
続され、前記第２の接続端子と前記第４の接続端子の間
に導電性バンプが介在しており、前記導電性バンプの高
さが、前記第１の接続端子と前記第３の接続端子を介し
た接続高さと前記第２の半導体チップの厚さとの加算値
以上であることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項１６】 同一面内の異なる領域に第１及び第２
の接続端子を備えた第１の半導体チップと、 前記第１の接続端子と対向する位置に第３の接続端子を
備えた第２の半導体チップと、 前記第２の接続端子と対向する位置に第４の接続端子を
備えた配線基板とを具備し、 前記第２の半導体チップが前記第１の半導体チップと前
記配線基板との間に収納され、前記第２の半導体チップ
と前記配線基板の互いに対向する面上の少なくともいず
れか一方に突起が形成されていて、前記第１及び第２の
接続端子が前記第１の半導体チップに形成された半導体
素子に電気的に接続され、前記第３の接続端子が前記第
２の半導体チップに形成された半導体素子に電気的に接
続され、前記第１の半導体チップと前記第２の半導体チ
ップとが前記第１の接続端子及び前記第３の接続端子を
介して接続され、前記第１の半導体チップと前記配線基
板とが前記第２の接続端子と前記第４の接続端子を介し
て接続され、前記第２の接続端子と前記第４の接続端子
の間に導電性バンプが介在しており、前記導電性バンプ
の高さが、前記第１の接続端子と前記第３の接続端子を
介した接続高さと、前記第２の半導体チップの厚さと、
前記第２の半導体チップと前記配線基板の間の前記突起
の高さとの加算値以上であることを特徴とする半導体装
置。 - 【請求項１７】前記導電性バンプは、少なくとも一部が
低融点金属からなることを特徴とする請求項１５又は請
求項１６に記載の半導体装置。 - 【請求項１８】 前記第２の接続端子上と前記第４の接
続端子上の少なくともいずれか一方に高融点金属からな
るバンプが形成されていることを特徴とする請求項１５
又は請求項１６に記載の半導体装置。 - 【請求項１９】 前記第２の半導体チップと前記配線基
板との間の少なくとも一部に低融点金属が介在している
ことを特徴とする請求項１５乃至請求項１８のいずれか
に記載の半導体装置。 - 【請求項２０】 前記第２の半導体チップの前記配線基
板と対向する面のうちの少なくとも一部の表面が前記低
融点金属と合金を形成する材料からなることを特徴とす
る請求項１９に記載の半導体装置。 - 【請求項２１】 前記配線基板の前記第２の半導体チッ
プと対向する面のうちの少なくとも一部の表面が前記低
融点金属と合金を形成する材料からなることを特徴とす
る請求項１９に記載の半導体装置。 - 【請求項２２】 前記第１の半導体チップと前記配線基
板との間の接続最小ピッチの１／２の２乗に円周率を乗
じた値を前記第２と第４の接続端子間のバンプ体積で割
った値が、前記第１の接続端子と前記第３の接続端子を
介した接続高さと前記第２の半導体チップの厚さとの加
算値未満であることを特徴とする請求項１５に記載の半
導体装置。 - 【請求項２３】 前記第１の半導体チップと前記配線基
板との間の接続最小ピッチの１／２の２乗に円周率を乗
じた値を前記第２と第４の接続端子間のバンプ体積で割
った値が、前記第１の接続端子と前記第３の接続端子を
介した接続高さと、前記第２の半導体チップの厚さと、
前記第２の半導体チップと前記配線基板の間の前記突起
の高さとの加算値未満であることを特徴とする請求項１
６に記載の半導体装置。 - 【請求項２４】 前記第２の半導体チップと前記配線基
板の間の前記突起は、高放熱材料からなることを特徴と
する請求項１６に記載の半導体装置。 - 【請求項２５】 前記第２の半導体チップと前記配線基
板の間の前記突起は、セラミック、金属、ガラス、ダイ
ヤモンド、グラファイトカーボンのいずれかを有してい
ることを特徴とする請求項２４に記載の半導体装置。 - 【請求項２６】 前記第２の半導体チップに隣接して形
成された前記第２と第４の接続端子の少なくとも一部を
介して電源あるいはグランド電位が供給されることを特
徴とする請求項１５乃至請求項２５のいずれかに記載の
半導体装置。 - 【請求項２７】 前記第２の半導体チップは、複数個か
らなることを特徴とする請求項１５乃至請求項２６のい
ずれかに記載の半導体装置。 - 【請求項２８】 前記複数個の第２の半導体チップがそ
れぞれ平面的に配置されたときの相互間に、前記第２の
接続端子と第４の接続端子を介した接続の少なくとも一
部が配置されていることを特徴とする請求項２７に記載
の半導体装置。 - 【請求項２９】 前記複数個の第２の半導体チップがそ
れぞれ平面的に配置されたときの相互間に配置された前
記第２と第４の接続端子の少なくとも一部を介して電源
あるいはグランド電位が供給されることを特徴とする請
求項２８に記載の半導体装置。
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| JP2001-100004 | 2001-03-30 | ||
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