JP2002334591A - 不揮発性半導体メモリ - Google Patents

不揮発性半導体メモリ

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JP2002334591A JP2001135774A JP2001135774A JP2002334591A JP 2002334591 A JP2002334591 A JP 2002334591A JP 2001135774 A JP2001135774 A JP 2001135774A JP 2001135774 A JP2001135774 A JP 2001135774A JP 2002334591 A JP2002334591 A JP 2002334591A
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Noriyuki Kurokawa
敬之 黒川
Kenichi Ushigoe
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レイアウトの自由度を向上させることができ
る不揮発性半導体メモリを提供する。 【解決手段】 グローバルビット線GBが、各スイッチ
群Y2S00乃至Y2S03及びY2S10乃至Y2S
13の上層を行方向に延びるように配置されている。即
ち、スイッチ群Y2S00の上層には、スイッチ群Y2
S00に含まれる32個のトランジスタTr3に夫々接
続された32本のグローバルビット線GBが設けられ、
他のスイッチ群Y2S10等の上層にも、夫々32本ず
つグローバルビット線GBが設けられている。各グロー
バルビット線GBには、メモリセルアレイMCA00及
びMCA02に共有された128本のメインビット線M
B並びにメモリセルアレイMCA01及びMCA03に
共有された128本のメインビット線MBから1本ずつ
が接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、不揮発性フラッシ
ュメモリ等の不揮発性半導体メモリに関し、特に、レイ
アウトの自由度の向上を図った不揮発性半導体メモリに
関する。
【0002】
【従来の技術】近時、不揮発性フラッシュメモリにおい
ては、複数頁分のデータを複数ビット同時に読み出すも
のがある。図9は8頁分のデータを16ビット同時に読
み出すことができる従来の不揮発性フラッシュメモリの
レイアウトを示す模式図である。また、図10は図9に
示す従来の不揮発性フラッシュメモリにおけるメモリセ
ルアレイの制御部を示す回路図である。
【0003】この従来の不揮発性フラッシュメモリは、
2つのバンクB0及びバンクB1に区画されている。バ
ンクB0には、4個のメモリセルアレイMCA00乃至
MCA03が平面視で長方形をなすように配置され、バ
ンクB1には、4個のメモリセルアレイMCA10乃至
MCA13が平面視で長方形をなすように配置されてい
る。1個のメモリセルアレイには、実際512列のメモ
リセルMCが形成されており、これらのメモリセルMC
に接続され列方向に延びる512本のローカルビット線
LBが設けられている。以下、説明の便宜上、図10に
示すように、1個のメモリセルアレイ中に16本のロー
カルビット線LBがあるものとして説明する。16本の
ローカルビット線LBには、図10に示すように、平面
視で1本おきにその上側にトランジスタTr1が接続さ
れ、トランジスタTr1が接続されていないものには、
平面視で下側にトランジスタTr2が接続されている。
また、1個のメモリセルアレイについては、2個のトラ
ンジスタTr1及び2個のトランジスタTr2の計4個
のトランジスタ毎に1本のメインビット線MBが接続さ
れている。従って、1個のメモリセルアレイに対して、
メインビット線MBは4本(実際には128本)設けら
れている。メインビット線MBは列方向に延びており、
平面視で互いに上下に位置するメモリセルアレイ間で共
有されている。
【0004】なお、1本のメインビット線MBに対し
て、平面視で各メモリセルアレイMCA00、MCA0
1、MCA10及びMCA11の上側に夫々8個(実際
には256個)ずつ設けられたトランジスタTr1から
スイッチ群Y1S0が構成され、平面視でこれら4個の
メモリセルアレイの下側に夫々設けられたトランジスタ
Tr2からスイッチ群Y1S1が構成されている。ま
た、平面視で各メモリセルアレイMCA02、MCA0
3、MCA12及びMCA13の上側に夫々設けられた
トランジスタTr1からスイッチ群Y1S2が構成さ
れ、平面視でこれら4個のメモリセルアレイの下側に夫
々設けられたトランジスタTr2からスイッチ群Y1S
3が構成されている。
【0005】1個のスイッチ群Y1S0を構成するトラ
ンジスタTr1のゲートは、図10に示すように、2本
の信号線D10及びD11によってドライバY1D0に
接続されている。他のスイッチ群についても、同様であ
る。ドライバY1D0、Y1D1、Y1D2及びY1D
3は、夫々同一バンク内で隣り合う2個のスイッチ群Y
1S0間、2個のスイッチ群Y1S1間、2個のスイッ
チ群Y1S2間及び2個のスイッチ群Y1S3間に配置
されている。
【0006】また、各メインビット線MBには、トラン
ジスタTr4が接続されている。バンクB0において
は、列方向に並んだメモリセルアレイMCA00及びM
CA02により共有された4本のメインビット線MBに
夫々接続された4個(実際には128個)のトランジス
タTr4から1個のスイッチ群Y3S0が構成され、メ
モリセルアレイMCA01及びMCA03により共有さ
れた4本のメインビット線MBに夫々接続された4個
(実際には128個)のトランジスタTr4から他の1
個のスイッチ群Y3S0が構成されている。各スイッチ
群Y3S0を構成するトランジスタTr4のゲートは信
号線D30に共通接続され、ドライバY3D0に接続さ
れている。バンクB1においては、2個のスイッチ群Y
3S1が設けられ、各スイッチ群Y3S1を構成するト
ランジスタTr4のゲートが共通接続されてドライバY
3D1に接続されている。
【0007】更に、従来の不揮発性フラッシュメモリに
おいては、図10に示すように、メインビット線MB毎
に、スイッチ群Y3S0又はY3S1を介して1個のセ
ンスアンプSAが設けられている。従って、メモリセル
アレイMCA00及びMCA02には、4個(実際には
128個)のセンスアンプSAが設けられている。
【0008】そして、各センスアンプSAの出力端子が
接続されたデータの入出力端子としてのDQパッドPA
D1が設けられている。
【0009】また、アドレス信号及び制御信号等を入力
する入力パッドPAD2、アドレスバッファ等の周辺回
路P1、電源生成回路等の周辺回路P2並びに読み出し
及び書き込みの制御回路等の周辺回路P3が設けられて
いる。
【0010】更に、バンクB0には、図9に示すよう
に、夫々メモリセルアレイMCA00乃至MCA03に
設けられたワード線WLを選択する副XデコーダXSU
B00乃至XSUB03が設けられている。バンクB1
には、同様に、副XデコーダXSUB10乃至XSUB
13が設けられている。
【0011】更にまた、副XデコーダXSUB00及び
XSUB01用の主XデコーダXDEC10、副Xデコ
ーダXSUB02及びXSUB03用の主XデコーダX
DEC11、副XデコーダXSUB10及びXSUB1
1用の主XデコーダXDEC12、並びに副Xデコーダ
XSUB12及びXSUB13用の主XデコーダXDE
C13が設けられている。また、副XデコーダXSUB
00乃至XSUB03用の主XデコーダXDEC20並
びに副XデコーダXSUB10乃至XSUB13用の主
XデコーダXDEC21が設けられている。主Xデコー
ダXDEC20及びXDEC21は、夫々平面視でバン
クB0及びB1に設けられたドライバY1D0の上側に
配置されている。
【0012】このような構造の従来の不揮発性フラッシ
ュメモリにおいては、実際、夫々のメモリセルアレイM
CA00、MCA01、MCA10及びMCA11は同
時にアクセスされ、また、夫々128個のセンスアンプ
を備えているので、512個のセンスアンプSAからの
出力信号がDQパッドPAD1を介して同時に読み出さ
れる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の不揮発性フラッシュメモリには、512個
のセンスアンプSAが並列して配置されているため、行
方向の長さがセンスアンプSAの大きさにより定められ
てしまい、レイアウトの自由度が低いという問題点があ
る。この結果、より一層の高集積化が困難となってい
る。
【0014】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、レイアウトの自由度を向上させることがで
きる不揮発性半導体メモリを提供することを目的とす
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明に係る不揮発性半
導体メモリは、2個以上のメモリセルアレイを備えた複
数個のバンクを有し、n(nは2以上の自然数)ビット
のデータの同時読み出しが可能な不揮発性半導体メモリ
において、1個の前記メモリセルアレイ内において列を
なす複数個のメモリセルが共通接続されたn×k(kは
自然数)本の副ビット線と、1個の前記メモリセルアレ
イ毎にn本設けられ列方向に延びる第1の主ビット線
と、少なくともn個のセンスアンプと、アドレス信号に
基づいて前記第1の主ビット線毎にk本の前記副ビット
線のうちの1本を接続させる副ビット線選択手段と、前
記アドレス信号に基づいて互いに同一のメモリセルアレ
イに設けられたn本の第1の主ビット線を前記センスア
ンプに1本ずつ接続させる第1の主ビット線選択手段
と、前記アドレス信号に基づいて複数個の前記バンクか
ら活性状態となる1個のバンクを選択するバンク選択手
段と、を有することを特徴とする。
【0016】本発明においては、第1の主ビット線選択
手段により、同一のメモリセルアレイに設けられたn本
の第1の主ビット線がセンスアンプに1本ずつ接続され
るので、第1の主ビット線と同数のセンスアンプを設け
る必要がない。例えば、1個のバンク内に256本の第
1の主ビット線が設けられている場合、1個のバンクに
128個のセンスアンプを設ければ、第1の主ビット線
選択手段による第1の主ビット線の選択により128ビ
ットの同時読み出しを行うことが可能となる。従って、
行方向に並列するセンスアンプの数を従来の半数以下に
することができるため、レイアウトの自由度が向上す
る。
【0017】なお、前記第1の主ビット線選択手段に、
前記第1の主ビット線に接続され平面視で前記メモリセ
ルアレイの上下に同数個ずつ分散して配置された複数個
のスイッチング素子と、行方向に延びバンク毎にn本設
けられ前記スイッチング素子を介して前記第1の主ビッ
ト線に接続される第2の主ビット線と、を設け、前記第
2の主ビット線を、前記スイッチング素子の上層に形成
し、前記センスアンプを、前記バンク間に配置すること
により、列方向におけるレイアウトの自由度をも向上さ
せることができる。この場合、前記バンク選択手段は、
前記バンク間に配置されていることが好ましい。
【0018】また、階層ビット線構成を有していてもよ
く、前記第1の主ビット線は、列方向で隣り合う2個以
上のメモリセルアレイにより共有されていてもよい。
【0019】更に、前記nの値が128である場合、前
記センスアンプとして、16個の書込・消去用センスア
ンプと、128個の読出用センスアンプを有することが
できる。
【0020】本発明に係る他の不揮発性半導体メモリ
は、複数の主ビット線と、夫々が前記複数の主ビット線
の1つに対応して設けられ夫々複数の副ビット線を備え
た複数の副ビット線群と、夫々が前記複数のビット線の
1つに対応して設けられた複数のメモリセルと、前記複
数の主ビット線のうち一方のグループに共通に接続され
た第1のグローバルビット線と、前記複数の主ビット線
のうち他方のグループに共通に接続された第2のグロー
バルビット線と、第1のグローバルビット線に接続され
た第1のセンスアンプと、前記第2のグローバルビット
線に接続された第2のセンスアンプと、を有することを
特徴とする。
【0021】なお、前記複数のメモリセルを第1の方向
に沿って配置し、前記第1及び第2のグローバルビット
線を互いに前記複数のメモリセルを挟むようにして配置
し、前記第1及び第2のセンスアンプを前記複数のメモ
リセルから前記第1の方向の延長線上に配置してもよ
い。この場合、前記主ビット線を前記第1の方向に直交
する第2の方向に延在させ、前記複数のメモリセルが形
成されている領域から前記第2の方向に離間した位置に
設けられた接続トランジスタ形成領域に前記第1及び第
2のグローバルビット線と前記主ビット線とを接続する
複数の接続トランジスタを設け、前記第1及び第2のグ
ローバルビット線を前記接続トランジスタ形成領域上を
前記第1の方向に延在させることが好ましい。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係る不揮
発性半導体メモリについて、添付の図面を参照して具体
的に説明する。図1は本発明の第1の実施例に係る不揮
発性フラッシュメモリのレイアウトを示す模式図であ
る。また、図2は第1の実施例に係る不揮発性フラッシ
ュメモリにおけるメモリセルアレイの制御部を示す回路
図である。
【0023】第1の実施例には、図1に示すように、2
つのバンクB0及びバンクB1が設けられている。バン
クB0には、4個のメモリセルアレイMCA00乃至M
CA03が平面視で長方形をなすように配置され、バン
クB1には、4個のメモリセルアレイMCA10乃至M
CA13が平面視で長方形をなすように配置されてい
る。1個のメモリセルアレイには、512列のメモリセ
ル(図示せず)が形成されており、これらのメモリセル
に接続され列方向に延びる512本のローカルビット線
LBが設けられている。以下、説明の便宜上、図2に示
すように、1個のメモリセルアレイ中に16本のローカ
ルビット線LBがあるものとして説明する。16本のロ
ーカルビット線LBには、図2に示すように、平面視で
1本おきにその上側にトランジスタTr1(副ビット線
選択手段)が接続され、トランジスタTr1が接続され
ていないものには、平面視で下側にトランジスタTr2
(副ビット線選択手段)が接続されている。また、1個
のメモリセルアレイについては、2個のトランジスタT
r1及び2個のトランジスタTr2の計4個のトランジ
スタ毎に1本のメインビット線MBが接続されている。
従って、1個のメモリセルアレイに対して、メインビッ
ト線MBは4本(実際には128本)設けられている。
メインビット線MBは列方向に延びており、平面視で互
いに上下に位置するメモリセルアレイ間で共有されてい
る。即ち、例えばメモリセルアレイMCA00及びメモ
リセルアレイMCA02によって、4本(実際には12
8本)のメインビット線MBが共有されている。同様
に、例えばメモリセルアレイMCA11及びメモリセル
アレイMCA13によっても、4本(実際には128
本)のメインビット線MBが共有されている。
【0024】なお、1本のメインビット線MBに対し
て、平面視で各メモリセルアレイMCA00、MCA0
1、MCA10及びMCA11の上側に夫々8個(実際
には256個)ずつ設けられたトランジスタTr1から
スイッチ群Y1S0が構成され、平面視で各メモリセル
アレイMCA00、MCA01、MCA10及びMCA
11の下側に夫々8個(実際には256個)ずつ設けら
れたトランジスタTr2からスイッチ群Y1S1が構成
されている。また、平面視で各メモリセルアレイMCA
02、MCA03、MCA12及びMCA13の上側に
夫々8個(実際には256個)ずつ設けられたトランジ
スタTr1からスイッチ群Y1S2が構成され、平面視
で各メモリセルアレイMCA02、MCA03、MCA
12及びMCA13の下側に夫々8個(実際には256
個)ずつ設けられたトランジスタTr2からスイッチ群
Y1S3が構成されている。
【0025】1個のスイッチ群Y1S0を構成するトラ
ンジスタTr1のゲートは、1個おきに共通接続され、
行方向に延びる2本の信号線D10及びD11によって
ドライバY1D0に接続されている。同様に、1個のス
イッチ群Y1S1を構成するトランジスタTr2のゲー
トは、行方向に延びる2本の信号線D12及びD13に
よってドライバY1D1に接続されている。また、1個
のスイッチ群Y1S2を構成するトランジスタTr1の
ゲートは、1個おきに共通接続され、行方向に延びる2
本の信号線によってドライバY1D2に接続されてい
る。同様に、1個のスイッチ群Y1S3を構成するトラ
ンジスタTr2のゲートは、行方向に延びる2本の信号
線によってドライバY1D3に接続されている。
【0026】ドライバY1D0、Y1D1、Y1D2及
びY1D3は、夫々同一バンク内で隣り合う2個のスイ
ッチ群Y1S0間、2個のスイッチ群Y1S1間、2個
のスイッチ群Y1S2間及び2個のスイッチ群Y1S3
間に配置されている。
【0027】図3はドライバY1D0及びY1D1の構
造を示す回路図である。ドライバY1D0には、2個の
3入力ナンドゲートNAND0及びNAND1並びに2
個のインバータIV0及びIV1が設けられている。イ
ンバータIV0及びIV1の入力端は、夫々ナンドゲー
トNAND0及びNAND1の出力端に接続されてい
る。一方、ドライバY1D1には、2個の3入力ナンド
ゲートNAND2及びNAND3並びに2個のインバー
タIV2及びIV3が設けられている。インバータIV
2及びIV3の入力端は、夫々ナンドゲートNAND2
及びNAND3の出力端に接続されている。
【0028】ナンドゲートNAND0には、ビット線選
択信号AY0T及びAY1Tが入力され、ナンドゲート
NAND1には、ビット線選択信号AY0N及びAY1
Tが入力される。ビット線選択信号AY0Nは、ビット
線選択信号AY0Tの反転信号である。また、ナンドゲ
ートNAND2には、ビット線選択信号AY0T及びA
Y1Nが入力され、ナンドゲートNAND3には、ビッ
ト線選択信号AY0N及びAY1Nが入力される。ビッ
ト線選択信号AY1Nは、ビット線選択信号AY1Tの
反転信号である。更に、各ナンドゲートNAND0乃至
NAND3には、メモリセルアレイMCA00、MCA
01、MCA10又はMCA11を選択するときにアク
ティブになるセクタ選択信号SECTOR0が入力され
る。また、インバータIV0乃至IV3からは、夫々デ
コード信号D10乃至D13が出力される。デコード信
号D10は、スイッチ群Y1S0を構成するトランジス
タTr1のゲートが共通接続された一方の信号線に入力
され、デコード信号D11は、他方の信号線に入力され
る。また、デコード信号D12は、スイッチ群Y1S1
を構成するトランジスタTr2のゲートが共通接続され
た一方の信号線に入力され、デコード信号D13は、他
方の信号線に入力される。
【0029】ドライバY1D2及びY1D3は、夫々ド
ライバY1D0及びY1D1と同様の構造を有している
が、各ナンドゲートには、セクタ選択信号SECTOR
0の替わりに、メモリセルアレイMCA02、MCA0
3、MCA12又はMCA13を選択するときにアクテ
ィブになるセクタ選択信号SECTOR1が入力され
る。
【0030】また、各メインビット線MBには、トラン
ジスタTr3(第1の主ビット線選択手段、スイッチン
グ素子)が接続されている。バンクB0においては、列
方向に並んだメモリセルアレイMCA00及びMCA0
2により共有されたメインビット線MBに夫々接続され
た4個(実際には128個)のトランジスタTr3から
スイッチ群Y2S0が構成され、メモリセルアレイMC
A01及びMCA03により共有されたメインビット線
に接続された4個(実際には128個)のトランジスタ
Tr3からスイッチ群Y2S1が構成されている。スイ
ッチ群Y2S0及びY2S1は、いずれも平面視でスイ
ッチ群Y1S3の下側に配置されている。スイッチ群Y
2S0を構成する各トランジスタTr3のゲートは共通
接続され、ドライバY2D0に接続されている。一方、
スイッチY2S1を構成する各トランジスタTr3のゲ
ートも共通接続され、ドライバY2D1に接続されてい
る。
【0031】図4はドライバY2D0の構造を示す回路
図である。ドライバY2D0には、インバータIV4及
びこの出力端に入力端が接続されたインバータIV5が
設けられている。インバータIV4には、メモリセルア
レイMCA00又はMCA02を選択するときにアクテ
ィブになるグループ選択信号GROUP0が入力され、
インバータIV5からは、そのデコード信号D20が出
力される。
【0032】ドライバY2D1は、ドライバY2D0と
同様の構造を有しているが、インバータIV4には、グ
ループ選択信号GROUP0の替わりに、メモリセルア
レイMCA01又はMCA03を選択するときにアクテ
ィブになるグループ選択信号GROUP1が入力され
る。また、インバータIV5からは、デコード信号D2
0の替わりに、グループ選択信号GROUP1のデコー
ド信号D21が出力される。
【0033】バンクB1においても、同様に、スイッチ
群Y2S0及びY2S1がスイッチ群Y1S3の下側に
配置され、ドライバY2D0及びY2D1が設けられて
いる。
【0034】ドライバY2D0及びY2D1は、夫々ス
イッチ群Y2S0及びY2S1に隣接するようにして、
これらの間に配置されている。
【0035】更に、各トランジスタTr3の他端にトラ
ンジスタTr4(バンク選択手段)が接続されている。
バンクB0においては、スイッチ群Y2S0に接続され
た4個(実際には128個)のトランジスタTr4から
スイッチ群Y3S0が構成され、また、スイッチ群Y2
S1に接続された4個(実際には128個)のトランジ
スタTr4からスイッチ群Y3S0が構成されている。
各スイッチ群Y3S0を構成するトランジスタTr4の
ゲートは共通接続され、夫々個別のドライバY3D0に
接続されている。
【0036】図5はドライバY3D0の構造を示す回路
図である。ドライバY3D0には、インバータIV6及
びこの出力端に入力端が接続されたインバータIV7が
設けられている。インバータIV6には、バンクB0を
選択するときにアクティブになるバンク選択信号BAN
K0が入力され、インバータIV7からは、そのデコー
ド信号D30が出力される。
【0037】一方、バンクB1においては、スイッチ群
Y2S0に接続された実際128個のトランジスタTr
4からスイッチ群Y3S1が構成され、また、スイッチ
群Y2S1に接続された実際128個のトランジスタT
r4からスイッチ群Y3S1が構成されている(図示せ
ず)。各スイッチ群Y3S1を構成するトランジスタT
r4のゲートは共通接続され、夫々個別のドライバY3
D1に接続されている。
【0038】ドライバY3D1は、ドライバY3D0と
同様の構造を有しているが、インバータIV6には、バ
ンク選択信号BANK0の替わりに、バンク1を選択す
るときにアクティブになるバンク選択信号BANK1が
入力される。また、インバータIV7からは、デコード
信号D30の替わりに、バンク選択信号BANK1のデ
コード信号(図示せず)が出力される。
【0039】ドライバY3D0及びY3D1は、夫々ス
イッチ群Y3S0間及びスイッチ群Y3S1間に配置さ
れている。
【0040】また、バンクB0には、スイッチ群Y3S
0及びY3S1の下側に、行方向に延びる4本(実際に
は128本)のグローバルビット線GBが設けられてい
る。従って、実際には、各グローバルビット線GBに
は、メモリセルアレイMCA00及びMCA02に共有
された128本のメインビット線MB並びにメモリセル
アレイMCA01及びMCA03に共有された128本
のメインビット線MBから1本ずつが接続されている。
そして、各グローバルビット線GBには、1個ずつセン
スアンプSAが接続されている。
【0041】バンクB1においても、同様に、128本
のグローバルビット線(図示せず)及び128個のセン
スアンプSAが設けられている。
【0042】なお、センスアンプSAは、図2では、平
面視でグローバルビット線GBの下側に配置されている
が、実際にはグローバルビット線GBの下層に形成され
ている。
【0043】そして、各センスアンプSAの出力端子が
接続されたデータの入出力端子としてのDQパッドPA
D1が設けられている。
【0044】また、第1の実施例には、アドレス信号及
び制御信号等を入力する入力パッドPAD2、アドレス
バッファ等の周辺回路P1、電源生成回路等の周辺回路
P2並びに読み出し及び書き込みの制御回路等の周辺回
路P3が設けられている。
【0045】更に、バンクB0には、夫々メモリセルア
レイに設けられたワード線WLを選択する副Xデコーダ
XSUB00乃至XSUB03が設けられている。副X
デコーダXSUB00及びXSUB01は、メモリセル
アレイMCA00及びMCA01間に配置され、副Xデ
コーダXSUB02及びXSUB03は、メモリセルア
レイMCA02及びMCA03間に配置されている。バ
ンクB1には、同様に、副XデコーダXSUB10乃至
XSUB13が配置されている。
【0046】更にまた、副XデコーダXSUB00及び
XSUB01用の主XデコーダXDEC10、副Xデコ
ーダXSUB02及びXSUB03用の主XデコーダX
DEC11、副XデコーダXSUB10及びXSUB1
1用の主XデコーダXDEC12、並びに副Xデコーダ
XSUB12及びXSUB13用の主XデコーダXDE
C13が設けられている。主XデコーダXDEC10及
びXDEC12は、メモリセルアレイMCA01及びM
CA10間に配置され、主XデコーダXDEC11及び
XDEC13は、メモリセルアレイMCA03及びMC
A12間に配置されている。また、副XデコーダXSU
B00乃至XSUB03用の主XデコーダXDEC20
並びに副XデコーダXSUB10乃至XSUB13用の
主XデコーダXDEC21が設けられている。主Xデコ
ーダXDEC20及びXDEC21は、夫々平面視でバ
ンクB0及びB1に設けられたドライバY1D0の上側
に配置されている。
【0047】次に、上述のように構成された第1の実施
例に係る不揮発性フラッシュメモリの動作について説明
する。
【0048】入力パッドPAD2に入力されたアドレス
信号は、アドレスバッファから主XデコーダXDEC1
0及びXDEC20等並びにドライバY1D0、Y2D
0及びY3D0等に出力される。以下、データを読み出
すメモリセルがメモリセルアレイMCA00に設けられ
ている場合について説明するが、他のメモリセルアレイ
に設けられている場合にも、同様の動作が行われる。
【0049】ドライバY3D0及びY3D1は、アドレ
ス信号から生成されたバンク選択信号BANK0及びB
ANK1に基づいてバンクB0を選択し、ドライバY3
D0がスイッチ群Y3S0に含まれるトランジスタTr
4を導通状態とする。なお、データを読み出すメモリセ
ルがバンクB1に属する場合には、バンクB1を選択
し、ドライバY3D1がスイッチ群Y3S1に含まれる
トランジスタTr4を導通状態とする。
【0050】また、ドライバY2D0及びY2D1は、
アドレス信号から生成されたグループ選択信号GROU
P0及びGROUP1に基づいてメモリセルアレイMC
A00及びMCA02を選択し、ドライバY2D0がス
イッチ群Y2S0に含まれるトランジスタTr3を導通
状態とする。この結果、128本のメインビット線MB
が128本のグローバルビット線GBを介して(図2で
は、4本のメインビット線MBが4本のグローバルビッ
ト線GBを介して)、センスアンプSAに接続される。
なお、データを読み出すメモリセルがメモリセルアレイ
MCA01又はMCA03に設けられているときには、
ドライバY2D1がスイッチ群Y2S1に含まれるトラ
ンジスタTr3を導通状態とする。
【0051】更に、ドライバY1D0及びY1D1に、
アドレス信号から生成されたハイ(アクティブ)のセク
タ選択信号SECTOR0並びにビット線選択信号AY
0T、AY1T、AY0N及びAY1Nが入力される。
この結果、ドライバY1D0からビット線選択信号AY
0T及びAY1T等に関連づけて変化するデコード信号
D10及びD11が出力され、ドライバY1D1からビ
ット線選択信号AY0T及びAY1T等に関連づけて変
化するデコード信号D12及びD13が出力される。そ
して、スイッチ群Y1S0及びY1S1に含まれる4本
の信号線のうちから1本の信号線のみが選択され、この
選択された信号線にゲートが接続されたトランジスタT
r1又はTr2が導通状態となる。従って、メモリセル
アレイMCA00に設けられた512本のローカルビッ
ト線LBのうちの128本(図2では、16本のローカ
ルビット線LBのうちの4本)が、互いに異なるメイン
ビット線MBに接続される。即ち、128本のローカル
ビット線LBが、メインビット線MB及びグローバルビ
ット線GBを介してセンスアンプSAに接続される。
【0052】なお、メモリセルアレイMCA02につい
ては、ドライバY1D2及びY1D3にロウのセクタ選
択信号SECTOR1が入力され、ドライバY1D2及
びY1D3のデコード信号はロウのまま変化しない。こ
のため、メモリセルアレイMCAに設けられたローカル
ビット線LBは、いずれもメインビット線MBには接続
されない。
【0053】また、アドレス信号を主XデコーダXDE
C10及びXDEC20がデコードし、その両デコード
信号の論理により、副XデコーダXSUB00がメモリ
セルアレイMCA00に設けられた複数本のワード線W
Lから1本を選択する。
【0054】この結果、選択された1本のワード線と選
択された128本のローカルビット線LBとの交点に配
置されている128個のメモリセルMCに書き込まれて
いるデータがセンスアンプSAに入力され、これらのデ
ータが同時にDQパッドPAD1から出力される。
【0055】このような第1の実施例によれば、1個の
センスアンプSAに1本のグローバルビット線GBを介
して2本のメインビット線MBが接続可能となっている
ので、256個のセンスアンプSAがあれば、512本
のメインビット線MBを介して128ビットの同時読出
が可能である。従って、センスアンプSAの数を半減す
ることができ、そのレイアウトの自由度を高めることが
できる。
【0056】次に、本発明に第2の実施例について説明
する。図6は本発明の第2の実施例に係る不揮発性フラ
ッシュメモリのレイアウトを示す模式図である。なお、
図6に示す第2の実施例において、図1及び図2に示す
第1の実施例と同一の構成要素には、同一の符号を付し
てその詳細な説明は省略する。
【0057】第2の実施例においては、バンクB0及び
バンクB1により、128本のグローバルビット線GB
が共有され、各グローバルビット線GBに1個ずつ読出
用センスアンプRSAが接続されている。従って、読出
用センスアンプRSAは、総計で128個設けられてい
る。
【0058】また、これらの読出用センスアンプRSA
の他に書込・消去用センスアンプVSAが設けられてい
る。書込・消去用センスアンプVSAは、各バンクB0
及びB1に16個ずつ設けられている。
【0059】このように構成された第2の実施例におい
ては、読出用センスアンプRSAが第1の実施例の半分
の数だけしか設けられていないが、バンクB0及びバン
クB1において、同時にデータの読み出しが行われるこ
とはなく、また、グループ選択信号に基づくドライバY
2D0及びY2D1によるスイッチ群Y2S0及びY2
S1の排他的な駆動により、1本のグローバルビット線
GBに複数本のメインビット線MBが同時に接続される
ことはないので、正常なデータの読み出しを行うことが
できる。従って、第1の実施例より一層レイアウトの自
由度を向上させることが可能である。
【0060】また、書込・消去用センスアンプVSAが
バンク毎に設けられているので、一方のバンクにおいて
データの消去及び書き込みを行いながら、他方のバンク
においてデータの読み出しを行うことができる。
【0061】なお、書込・消去用センスアンプVSAの
数については、少なくとも同時書込を行う1頁当たりの
ビット数分が各バンクに設けられていれば、16個に限
定されるものではないが、最低限の数を設けることによ
り、他の回路等のレイアウトの自由度を高く確保するこ
とができる。
【0062】次に、本発明の第3の実施例について説明
する。図7は本発明の第3の実施例に係る不揮発性フラ
ッシュメモリのレイアウトを示す模式図である。また、
図8は第3の実施例に係る不揮発性フラッシュメモリに
おけるメモリセルアレイの制御部を示す回路図である。
なお、図7及び図8に示す第3の実施例において、図1
及び2に示す第1の実施例と同一の構成要素には、同一
の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【0063】第3の実施例においては、第1の実施例に
おけるスイッチ群Y2S0が4つのスイッチ群Y2S0
0、Y2S01、Y2S02及びY2S03に分割され
ている。より具体的には、スイッチ群Y2S00には、
4本(実際には128本)のメインビット線MBのう
ち、左側から1本目(実際には、1、5、9、・・・1
25本目)のものに接続された1個(実際には32個)
のトランジスタTr3が含まれ、スイッチ群Y2S01
には、実際128本のメインビット線MBのうち、左側
から2、6、10、・・・126本目のものに接続され
た32個のトランジスタTr3が含まれている。また、
スイッチ群Y2S02には、実際128本のメインビッ
ト線MBのうち、左側から3、7、11、・・・127
本目のものに接続された32個のトランジスタTr3が
含まれ、スイッチ群Y2S03には、実際128本のメ
インビット線MBのうち、左側から4、8、12、・・
・126本目のものに接続された32個のトランジスタ
Tr3が含まれている。そして、スイッチ群Y2S00
は、平面視でスイッチ群Y1S0の上側に配置され、ス
イッチ群Y2S01は、平面視でスイッチ群Y1S1の
下側に配置され、スイッチ群Y2S02は、平面視でス
イッチ群Y1S2の上側に配置され、スイッチ群Y2S
03は、平面視でスイッチ群Y1S3の下側に配置され
ている。
【0064】スイッチ群Y2S00、Y2S01、Y2
S02及びY2S03を構成する各トランジスタTr3
のゲートは、夫々共通接続されてドライバY2D00、
Y2D01、Y2D02、Y2D03に接続されてい
る。ドライバY2D00、Y2D01、Y2D02及び
Y2D03は、ドライバY2D0と同様の構造を有して
おり、メモリセルアレイMCA00又はMCA02を選
択するときにアクティブになるグループ選択信号GRO
UP0を入力し、そのデコード信号D20を出力する。
【0065】また、第1の実施例におけるスイッチ群Y
2S1が4つのスイッチ群Y2S10、Y2S11、Y
2S12及びY2S13に分割され、夫々スイッチ群Y
2S00、Y2S01、Y2S02及びY2S03と同
様に配置されている。スイッチ群Y2S10、Y2S1
1、Y2S12及びY2S13を構成する各トランジス
タTr3のゲートは、夫々共通接続されてドライバY2
D10、Y2D11、Y2D12、Y2D13に接続さ
れている。ドライバY2D10、Y2D11、Y2D1
2及びY2D13は、ドライバY2D1と同様の構造を
有しており、メモリセルアレイMCA01又はMCA0
3を選択するときにアクティブになるグループ選択信号
GROUP1を入力し、そのデコード信号D21を出力
する。
【0066】また、第3の実施例においては、図7に示
すように、グローバルビット線GBが、各スイッチ群Y
2S00乃至Y2S03及びY2S10乃至Y2S13
の上層を行方向に延びるように配置されている。即ち、
スイッチ群Y2S00の上層には、スイッチ群Y2S0
0に含まれる32個のトランジスタTr3に夫々接続さ
れた32本のグローバルビット線GBが設けられ、他の
スイッチ群Y2S10等の上層にも、夫々32本ずつグ
ローバルビット線GBが設けられている。各グローバル
ビット線GBには、メモリセルアレイMCA00及びM
CA02に共有された128本のメインビット線MB並
びにメモリセルアレイMCA01及びMCA03に共有
された128本のメインビット線MBから1本ずつが接
続されている。なお、図8では、便宜上、グローバルビ
ット線GBとスイッチ群Y2S00等とをずらしてい
る。
【0067】更に、第3の実施例においては、第1の実
施例におけるスイッチ群Y3S0が、32本のグローバ
ルビット線GBの束毎に4つのスイッチ群Y3S00、
Y3S01、Y3S02及びY3S03に分割されてい
る。同様に、第1の実施例におけるスイッチ群Y3S1
が、32本のグローバルビット線GBの束毎に4つのス
イッチ群Y3S10、Y3S11、Y3S12及びY3
S13に分割されている。スイッチ群Y3S00、Y3
S01、Y3S02及びY3S03を構成する各トラン
ジスタTr4のゲートは、夫々共通接続されてドライバ
Y3D00、Y3D01、Y3D02、Y3D03に接
続されている。同様に、スイッチ群Y3S10、Y3S
11、Y3S12及びY3S13を構成する各トランジ
スタTr4のゲートは、夫々共通接続されてドライバY
3D10、Y3D11、Y3D12、Y3D13に接続
されている。また、ドライバY3D00、Y3D01、
Y3D02及びY3D03は、ドライバY3D0と同様
の構造を有しており、バンクB0を選択するときにアク
ティブになるバンク選択信号BANK0を入力し、その
デコード信号D30を出力する。一方、ドライバY3D
10、Y3D11、Y3D12及びY3D13は、ドラ
イバY3D1と同様の構造を有しており、バンクB1を
選択するときにアクティブになるバンク選択信号BAN
K1を入力し、そのデコード信号D31を出力する。
【0068】これらのスイッチ群Y3S00等及びドラ
イバY3D00等は、バンクB0及びB1の他のスイッ
チ群Y2S10等及びY1S0等間に配置されている。
【0069】また、図7に示すように、主XデコーダX
DEC10及びXDEC12間に64個の読出用センス
アンプRSAが配置され、主XデコーダXDEC11及
びXDEC13間に64個の読出用センスアンプRSA
が配置されている。64個の読出用センスアンプRSA
は、図8に示すように、平面視で32個ずつ上下2段に
区画されており、一の区画内では、行方向に32個の読
出用センスアンプRSAが並べられている。
【0070】スイッチ群Y3S00及びY3S10を構
成する32個ずつのトランジスタTr4の他端は、各ス
イッチ群から1個ずつ共通接続されて1個の読出用セン
スアンプRSAに接続されている。同様に、スイッチ群
Y3S01及びY3S11を構成する32個ずつのトラ
ンジスタTr4の他端は、各スイッチ群から1個ずつ共
通接続されて1個の読出用センスアンプRSAに接続さ
れている。このような配置は、主XデコーダXDEC1
1及びXDEC13間の読出用センスアンプRSAにつ
いても同様である。
【0071】更に、読出用センスアンプRSAと主Xデ
コーダXDEC10等との間には、8個ずつ、総計で3
2個の書込・消去用センスアンプVSAが設けられてい
る。
【0072】このように構成された第3の実施例におい
ては、第2の実施例と同様のスイッチの切り替えを行う
ことにより、1本のグローバルビット線GBに複数本の
メインビット線MBが同時に接続されることはないの
で、正常なデータの読み出しを行うことができる。ま
た、書込・消去用センスアンプVSAがバンク毎に設け
られているので、一方のバンクにおいてデータの消去及
び書き込みを行いながら、他方のバンクにおいてデータ
の読み出しを行うことができる。
【0073】更に、レイアウトに関し、列方向では、行
方向に延びるグローバルビット線GBがスイッチ群Y2
S00等の上層に設けられているので、グローバルビッ
ト線GB専用の領域を確保する必要がない。また、読出
用センスアンプRSA及び書込・消去用センスアンプV
SAのいずれもバンクB0及びB1間に配置されてい
る。一方、第1及び第2の実施例では、128本分のグ
ローバルビット線GBに専用の領域が必要である上、少
なくとも読出用センスアンプRSAの領域が必要であ
る。第2の実施例では、更に書込・消去用センスアンプ
VSAの領域も必要である。従って、第3の実施例で
は、これらの実施例と比較して列方向のレイアウトの自
由度が極めて高くなる。
【0074】一方、行方向では、各センスアンプRSA
及びVSAがバンクB0及びB1間に配置されるため、
その分の面積増加が発生するが、読出用センスアンプR
SAについては、32個が並列するのみである。また、
列方向に延び各センスアンプとスイッチ群Y3S00及
びY3S10等とを接続する信号線の全体的な幅は、実
質的に32本分である。更に、これらの信号線はセンス
アンプの上層に設けることが可能である。従って、行方
向におけるレイアウト面積の増加は、列方向におけるレ
イアウト面積の減少と比較すれば、十分に小さいものと
いえる。
【0075】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
第1の主ビット線選択手段により、同一のメモリセルア
レイに設けられたn本の第1の主ビット線がセンスアン
プに1本ずつ接続されるので、第1の主ビット線と同数
のセンスアンプを設ける必要がないため、行方向に並列
するセンスアンプの数を従来の半数以下にすることがで
きる。このため、レイアウトの自由度が向上し、より一
層の高集積化が可能となる。また、前記第1の主ビット
線選択手段に、スイッチング素子及びその上層に形成さ
れた第2の主ビット線を設け、センスアンプをバンク間
に配置することにより、列方向におけるレイアウトの自
由度をも向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る不揮発性フラッシ
ュメモリのレイアウトを示す模式図である。
【図2】第1の実施例に係る不揮発性フラッシュメモリ
におけるメモリセルアレイの制御部を示す回路図であ
る。
【図3】ドライバY1D0及びY1D1の構造を示す回
路図である。
【図4】ドライバY2D0の構造を示す回路図である。
【図5】ドライバY3D0の構造を示す回路図である。
【図6】本発明の第2の実施例に係る不揮発性フラッシ
ュメモリのレイアウトを示す模式図である。
【図7】本発明の第3の実施例に係る不揮発性フラッシ
ュメモリのレイアウトを示す模式図である。
【図8】第3の実施例に係る不揮発性フラッシュメモリ
におけるメモリセルアレイの制御部を示す回路図であ
る。
【図9】8頁分のデータを16ビット同時に読み出すこ
とができる従来の不揮発性フラッシュメモリのレイアウ
トを示す模式図である。
【図10】図9に示す従来の不揮発性フラッシュメモリ
におけるメモリセルアレイの制御部を示す回路図であ
る。
【符号の説明】
MCA00、MCA01、MCA02、MCA03、M
CA10、MCA11、MCA12、MCA13;メモ
リセルアレイ Y1S0、Y1S1、Y1S2、Y1S3;スイッチ群 Y2S0、Y2S1、Y2S00、Y2S01、Y2S
02、Y2S03、Y2S10、Y2S11、Y2S1
2、Y2S13;スイッチ群 Y3S0、Y3S1、Y3S00、Y3S01、Y3S
02、Y3S03、Y3S10、Y3S11、Y3S1
2、Y3S13;スイッチ群 Y1D0、Y1D1、Y1D2、Y1D3;ドライバ Y2D0、Y2D1、Y2D00、Y2D01、Y2D
02、Y2D03、Y2D10、Y2D11、Y2D1
2、Y2D13;ドライバ Y3D0、Y3D1、Y3D00、Y3D01、Y3D
02、Y3D03、Y3D10、Y3D11、Y3D1
2、Y3D13;ドライバ RSA;読出用センスアンプ VSA;書込・消去用センスアンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三木 淳範 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 黒川 敬之 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 牛越 謙一 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 Fターム(参考) 5B025 AD00 AD02 AD06 AE00

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2個以上のメモリセルアレイを備えた複
    数個のバンクを有し、n(nは2以上の自然数)ビット
    のデータの同時読み出しが可能な不揮発性半導体メモリ
    において、1個の前記メモリセルアレイ内において列を
    なす複数個のメモリセルが共通接続されたn×k(kは
    自然数)本の副ビット線と、1個の前記メモリセルアレ
    イ毎にn本設けられ列方向に延びる第1の主ビット線
    と、少なくともn個のセンスアンプと、アドレス信号に
    基づいて前記第1の主ビット線毎にk本の前記副ビット
    線のうちの1本を接続させる副ビット線選択手段と、前
    記アドレス信号に基づいて互いに同一のメモリセルアレ
    イに設けられたn本の第1の主ビット線を前記センスア
    ンプに1本ずつ接続させる第1の主ビット線選択手段
    と、前記アドレス信号に基づいて複数個の前記バンクか
    ら活性状態となる1個のバンクを選択するバンク選択手
    段と、を有することを特徴とする不揮発性半導体メモ
    リ。
  2. 【請求項2】 前記第1の主ビット線選択手段は、前記
    第1の主ビット線に接続され平面視で前記メモリセルア
    レイの上下に同数個ずつ分散して配置された複数個のス
    イッチング素子と、行方向に延びバンク毎にn本設けら
    れ前記スイッチング素子を介して前記第1の主ビット線
    に接続される第2の主ビット線と、を有し、前記第2の
    主ビット線は、前記スイッチング素子の上層に形成さ
    れ、前記センスアンプは、前記バンク間に配置されてい
    ることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メ
    モリ。
  3. 【請求項3】 階層ビット線構成を有することを特徴と
    する請求項1又は2に記載の不揮発性半導体メモリ。
  4. 【請求項4】 前記第1の主ビット線は、列方向で隣り
    合う2個以上のメモリセルアレイにより共有されている
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載
    の不揮発性半導体メモリ。
  5. 【請求項5】 前記バンク選択手段は、前記バンク間に
    配置されていることを特徴とする請求項2乃至4のいず
    れか1項に記載の不揮発性半導体メモリ。
  6. 【請求項6】 前記nの値は128であり、前記センス
    アンプとして、16個の書込・消去用センスアンプと、
    128個の読出用センスアンプを有することを特徴とす
    る請求項1乃至5のいずれか1項に記載の不揮発性半導
    体メモリ。
  7. 【請求項7】 複数の主ビット線と、夫々が前記複数の
    主ビット線の1つに対応して設けられ夫々複数の副ビッ
    ト線を備えた複数の副ビット線群と、夫々が前記複数の
    ビット線の1つに対応して設けられた複数のメモリセル
    と、前記複数の主ビット線のうち一方のグループに共通
    に接続された第1のグローバルビット線と、前記複数の
    主ビット線のうち他方のグループに共通に接続された第
    2のグローバルビット線と、第1のグローバルビット線
    に接続された第1のセンスアンプと、前記第2のグロー
    バルビット線に接続された第2のセンスアンプと、を有
    することを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
  8. 【請求項8】 前記複数のメモリセルは第1の方向に沿
    って配置されており、前記第1及び第2のグローバルビ
    ット線は互いに前記複数のメモリセルを挟むようにして
    配置されており、前記第1及び第2のセンスアンプは前
    記複数のメモリセルから前記第1の方向の延長線上に配
    置されていることを特徴とする請求項7に記載の不揮発
    性半導体メモリ。
  9. 【請求項9】 前記主ビット線は前記第1の方向に直交
    する第2の方向に延在し、前記複数のメモリセルが形成
    されている領域から前記第2の方向に離間した位置に設
    けられた接続トランジスタ形成領域に前記第1及び第2
    のグローバルビット線と前記主ビット線とを接続する複
    数の接続トランジスタが設けられ、前記第1及び第2の
    グローバルビット線は前記接続トランジスタ形成領域上
    を前記第1の方向に延在していることを特徴とする請求
    項8に記載の不揮発性半導体メモリ。
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