JP2002239446A - 基板塗布装置 - Google Patents
基板塗布装置Info
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Abstract
成で迅速に位置決めでき基板の処理時間を短縮すること
のできる基板塗布装置を提供する。 【解決手段】 減圧手段に連通する複数の吸引孔を設け
た平坦なテーブル17に対して昇降可能で、かつ、進退
可能なダイ本体16を有する基板塗布装置において、前
記テーブルの下面に配設した昇降可能な基台32にテー
ブルを貫通して設けた軸33の一端を固定し、他端に位
置決め部35を有する基板載置部36を設けた基板Wの
位置決め手段34と、前記テーブルを貫通して設けた軸
37の一端を前記基台に回転可能に保持し、他端の偏心
位置に押圧部40を有する基板載置部41を設けた押圧
手段39とを前記基板を挟んで対向配置した基板保持装
置30を設け、前記基台の上昇端で前記位置決め手段お
よび押圧手段の基板載置面がテーブル表面より突出する
とともに、基台の下降端で前記位置決め手段および押圧
手段の最上部がテーブル表面より下方に位置するように
した。
Description
に塗布液を塗布する基板塗布装置に関するものである。
速、かつ、正確に搬送することのできる塗布装置として
特許第3105207号公報に記載のものがある。
しない上流側の設備から基板Wを搬送する搬送装置1
と、ダイ本体16を有するテーブルコータ15と、前記
搬送装置1で所定位置に搬送されてきた基板Wを把持
し、前記テーブルコータ15へ移送する移送装置5とで
構成されている。
するローラ2と、所定位置に来た基板Wを持ち上げる昇
降手段3とで構成されている。
を回動自在に保持されたアーム7と、このアーム7の他
端にシリンダ8により昇降するロッド9の下端に設けた
基板Wを保持する把持手段10とで構成され、この把持
手段10は、把持した基板Wに対向する本体11と、本
体11に載置したシリンダ12と、シリンダ12に取り
付けた保持部13とで構成されている。
能で、かつ、進退可能な周知のダイ本体16と、基板W
を載置する所定の平面度を有するテーブル17と、前記
移送装置5で運ばれた基板Wを受け取り前記テーブル1
7上に載置するとともに、塗布膜を形成された基板Wを
持ち上げ、前記移送装置5に受け渡す昇降機構19とで
構成されている。
と、シリンダ20によりテーブル17に設けた貫通孔1
8内を昇降する支持ロッド21とで構成されている。
コータ15は、基板Wを挟んで対向するストッパ23
と、一端が軸支され、他端に回動自在な押圧部25を有
する押圧手段(アーム)24とからなる位置決め機構2
2を前記テーブル17上面の所定位置に備えた構成とな
っている。
Wが送られてくると、基板Wを前記昇降手段3で持ち上
げ、その基板Wを前記移送装置5の保持部13をシリン
ダ12を駆動することにより保持し、保持したままシリ
ンダ8により若干上昇させたうえで、アーム7を図示し
ない旋回手段により回動して前記テーブルコータ15の
所定位置へ基板Wを移送する。
7上に移送されると、テーブルコータ15に設けた昇降
機構19の支持ロッド21を上昇させて支持ロッド21
上に基板Wを載置する。その後、保持部材13はシリン
ダ12の駆動により基板Wを開放する。
0の駆動により下降させ、基板Wをテーブル17上に載
置する。その後、テーブル17上の位置決め機構22を
駆動し、押圧部25で基板Wをストッパ23に押圧して
基板Wの位置決めを行った後、図示しない吸引手段で基
板Wをテーブル17上に吸引保持するとともに、ダイ本
体16を移動させてダイ本体16に設けた図示しない距
離測定センサで基板Wの表面とダイ本体16のリップ部
との距離(ギャップ)を検出し、検出したギャップから
求まるギャップの変位に合わせてダイ本体16を昇降さ
せながら基板Wの表面に塗布液を供給して塗布膜を形成
する。
基板Wを前記昇降機構19の支持ロッド21で上方に持
ち上げ、前記移送装置5の把持手段10で保持し、搬送
装置1の所定位置に旋回移送し、搬送装置1の昇降手段
3上に基板Wを載置して受け渡した後、昇降手段3を下
降させて塗布を終えた基板Wをローラ2上に載置し、図
示しない下流側の設備に搬送するようになっている。
板塗布装置では、昇降機構19と位置決め機構22とを
別々に設けていたので構成が複雑になるとともに、移送
装置5から基板Wを受け取ってテーブル17上に載置し
た後、基板Wの位置決めを実施し、位置決め完了後に吸
引手段を駆動するため、基板Wの受け取りと位置決めと
が別工程になり、しかも、位置決め完了後に吸引手段を
駆動して基板Wを保持するので、塗布開始までに時間が
掛かるという課題を有していた。
も基板の受け取りと位置決めをほぼ同時に行えて、短時
間で塗布開始を行うことができる基板塗布装置を提供す
ることを目的とする。
成するために、基板塗布装置を、減圧手段に連通する複
数の吸引孔を設けた平坦なテーブルに対して昇降可能
で、かつ、進退可能なダイ本体を有する基板塗布装置に
おいて、前記テーブルの下面に配設した昇降可能な基台
に前記テーブルを貫通して設けた軸の一端を固定し、他
端に位置決め部を有する基板載置部を設けた基板の位置
決め手段と、前記テーブルを貫通して設けた軸の一端を
前記基台に回転可能に保持し、他端の偏心位置に押圧部
を有する基板載置部を設けた押圧手段とを前記基板を挟
んで対向配置した基板保持装置を設け、前記基台の上昇
端で前記位置決め手段および押圧手段の基板載置面が前
記テーブル表面より突出するとともに、前記基台の下降
端で前記位置決め手段および押圧手段の最上部が前記テ
ーブル表面より下方に位置するようにしたものである。
1〜図3にしたがって説明する。図1と図4を比較すれ
ば明らかなように、本発明は、図4に記載のテーブル1
7に設置する昇降機構19と位置決め機構22が1つの
基板保持装置30となっている点においてのみ相違す
る。
1、図2に示すように、前記移送装置5でテーブル17
上に運ばれてきた基板Wを受け取り、受け取った基板W
の位置決め機能と昇降機能との両方の機能を有するもの
で、前記テーブル17の下面にシリンダ31を介して配
設した昇降可能な基台32に前記テーブル17に設けた
貫通孔18を貫通して設けた軸33の一端を固定し、他
端に垂直面と水平面とを有する段部を設け、前記段部の
垂直面を位置決め部35、前記段部の水平面を基板載置
部36とした基板Wの位置決め手段(ストッパ)34
と、前記テーブル17を貫通して設けた軸37の一端を
ロータリアクチュエータ38により前記基台32に回転
可能に保持し、他端の偏心位置に押圧部40を有する基
板載置部41を設けた押圧手段39とで構成してあり、
前記位置決め手段34と押圧手段39とを前記基板Wを
挟んで対向配置したものである。
9とは軸33,37より大径となっている。
36と押圧手段39の基板載置部41の高さは基板Wを
水平に保持できるよう同一にしてある。
決め手段34および押圧手段39の基板載置部36,4
1が前記テーブル17表面より突出するとともに、前記
基台32の下降端で前記位置決め手段34および押圧手
段39の最上部が前記テーブル17の表面より下方に位
置するように前記貫通孔18の上部に収納部18aを設
けてある。
前記移送装置5でテーブル17上の所定位置に移送され
てくると、前記基板保持装置30のシリンダ31を駆動
して位置決め手段34および押圧手段39をテーブル1
7の上方に突出させ、その後、位置決め手段34および
押圧手段39の基板載置部36,41上に基板Wを載置
する(図2、図3(A))。基板Wが載置されると、移
送装置5を退避させるとともに、前記基板保持装置30
の軸37をロータリアクチュエータ38で回動すること
により押圧部40で基板Wを位置決め部35に押し付け
て位置決めする(図3(B))。基板Wの位置決めを実
施した後、シリンダ31を駆動して両軸33,37を下
降させて基板Wをテーブル17上に載置し、図示しない
吸引手段によりテーブル17上に吸引保持する。
距離測定センサで基板Wの表面とダイ本体16のリップ
部との距離(ギャップ)を検出し、検出したギャップか
ら求まるギャップの変位に合わせてダイ本体16を昇降
させながら基板Wの表面に塗布液を供給し、塗布膜を形
成する。
は、前記吸引手段を停止した後、前記基板保持装置30
の位置決め手段34および押圧手段39の基板載置部3
6,41でテーブル17上に持ち上げ、前記移送装置5
の把持手段10で保持し、搬送装置1の所定位置に移送
し、搬送装置1の昇降手段3上に基板Wを載置して受け
渡し、昇降手段3の下降により塗布を終えた基板Wをロ
ーラ2上に載置し、図示しない下流側の設備に搬送す
る。
押圧手段39とは基板Wの隣接する各辺でそれぞれ1組
設けた場合であるが、図3の如く、隣接する各辺に同一
手段を1または複数組設け、他の辺に他の手段を1また
は複数組設けてもよい。
手段34と押圧手段39とは図2に示すように軸33,
37より大径としたが、基板載置部36,41が基板W
を載置するのに充分な大きさを確保できるなら軸33,
37と同径またはそれ以下であってもよい。この場合、
前記位置決め手段34の段部は切欠きにより一体構造と
して形成してもよいし、前記押圧手段39の押圧部40
と同様、水平面を有する円柱部に垂直面を有する突起を
別途設けたものであってもよい。
成する切欠きまたは突起、あるいは、前記押圧手段39
の押圧部40は、前述の如く、軸の端面に基板Wを載置
するのに充分な面積を確保できるなら、前記軸33,3
7の上端面に直接設けても何ら問題ない。このように、
位置決め手段34と押圧手段39とを軸33,37と同
径またはそれ以下に形成した場合、テーブル17に設け
る貫通孔18の上部に収納部18aを設けなくてもよ
い。
置決めを実施した後、基板Wをテーブル17上に載置し
たが、移送装置5から基板Wを受け取ると同時に基板保
持装置30(位置決め手段34と押圧手段39)の下降
を開始し、受け取った基板Wを下降させながら位置決め
手段34を回動させて位置決めを実施するようにしても
よい。
5から受け取るものとしたが、基板Wのテーブルコータ
15への供給はこれに限らず、たとえば、テーブル17
に昇降可能な搬送ローラを設け、搬送装置1から直接テ
ーブルコータ15へ基板Wを搬送するもの(特願200
0−351121号)にも適応できる。この場合、テー
ブル17に設けた搬送ローラの搬送面より基板保持装置
30の上端面を下方に位置させ、前記搬送ローラの下降
により基板Wを基板保持装置30へ移載することもでき
るし、逆に、前記搬送ローラの搬送面より基板保持装置
30の上端面を上方に位置させ、搬送ローラから基板W
を受け取った後、搬送ローラと基板保持装置30を下降
させて基板Wをテーブル17に載置することもできる。
2に固定した位置決め手段34と基台32に回動可能に
保持した押圧手段39とで構成したが、本発明はこの構
成に限定するものではなく、位置決め手段34の代わり
に押圧手段39を配設して基板保持装置30をすべて押
圧手段39で構成し、基板Wを位置決めする基準を対向
する押圧手段39の回転中心を通る線の交点(基準点)
として位置決めの際には基板Wを挟んで対向する押圧手
段39同士の回転を同調させる。これにより、押圧部4
0の移動量が対向する辺で同量となるので、基板Wの中
心(対角線の交点)を基準点と一致させることができ
る。
圧手段39で構成しても基板Wの位置決めとテーブル1
7への載置とを同時に実施できるので、前記第1の発明
と同等の効果を得ることができる。
よれば、位置決め手段と押圧手段とを組み合わせ、1つ
の基板保持装置を構成したので構造が簡素化されるばか
りか、基板の受け取りと位置決めとをほぼ同時に実施で
きるので、テーブルコータにおける基板の処理時間を短
縮できるという効果を奏する。
示す平面図。
図。
ム、10〜把持手段、15〜テーブルコータ、16〜ダ
イ本体、17〜テーブル、18〜貫通孔、30〜基板保
持装置、31〜シリンダ、33,37〜軸、34〜位置
決め手段、35〜位置決め部、36,41〜基板載置
部、38〜ロータリアクチュエータ、39〜押圧手段、
40〜押圧部、W〜基板。
Claims (1)
- 【請求項1】 減圧手段に連通する複数の吸引孔を設け
た平坦なテーブルに対して昇降可能で、かつ、進退可能
なダイ本体を有する基板塗布装置において、 前記テーブルの下面に配設した昇降可能な基台に前記テ
ーブルを貫通して設けた軸の一端を固定し、他端に位置
決め部を有する基板載置部を設けた基板の位置決め手段
と、前記テーブルを貫通して設けた軸の一端を前記基台
に回転可能に保持し、他端の偏心位置に押圧部を有する
基板載置部を設けた押圧手段とを前記基板を挟んで対向
配置した基板保持装置を設け、前記基台の上昇端で前記
位置決め手段および押圧手段の基板載置面が前記テーブ
ル表面より突出するとともに、前記基台の下降端で前記
位置決め手段および押圧手段の最上部が前記テーブル表
面より下方に位置することを特徴とする基板塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001037216A JP2002239446A (ja) | 2001-02-14 | 2001-02-14 | 基板塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001037216A JP2002239446A (ja) | 2001-02-14 | 2001-02-14 | 基板塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=18900380
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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