JP2002239446A - 基板塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 テーブルコータへ搬送される基板を簡単な構
成で迅速に位置決めでき基板の処理時間を短縮すること
のできる基板塗布装置を提供する。 【解決手段】 減圧手段に連通する複数の吸引孔を設け
た平坦なテーブル１７に対して昇降可能で、かつ、進退
可能なダイ本体１６を有する基板塗布装置において、前
記テーブルの下面に配設した昇降可能な基台３２にテー
ブルを貫通して設けた軸３３の一端を固定し、他端に位
置決め部３５を有する基板載置部３６を設けた基板Ｗの
位置決め手段３４と、前記テーブルを貫通して設けた軸
３７の一端を前記基台に回転可能に保持し、他端の偏心
位置に押圧部４０を有する基板載置部４１を設けた押圧
手段３９とを前記基板を挟んで対向配置した基板保持装
置３０を設け、前記基台の上昇端で前記位置決め手段お
よび押圧手段の基板載置面がテーブル表面より突出する
とともに、基台の下降端で前記位置決め手段および押圧
手段の最上部がテーブル表面より下方に位置するように
した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はガラス基板等の基板
に塗布液を塗布する基板塗布装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板をテーブルの所定位置に迅
速、かつ、正確に搬送することのできる塗布装置として
特許第３１０５２０７号公報に記載のものがある。

【０００３】この塗布装置は、図４に示すように、図示
しない上流側の設備から基板Ｗを搬送する搬送装置１
と、ダイ本体１６を有するテーブルコータ１５と、前記
搬送装置１で所定位置に搬送されてきた基板Ｗを把持
し、前記テーブルコータ１５へ移送する移送装置５とで
構成されている。

【０００４】そして、前記搬送装置１は、基板Ｗを搬送
するローラ２と、所定位置に来た基板Ｗを持ち上げる昇
降手段３とで構成されている。

【０００５】また、前記移送装置５は、支持台６に一端
を回動自在に保持されたアーム７と、このアーム７の他
端にシリンダ８により昇降するロッド９の下端に設けた
基板Ｗを保持する把持手段１０とで構成され、この把持
手段１０は、把持した基板Ｗに対向する本体１１と、本
体１１に載置したシリンダ１２と、シリンダ１２に取り
付けた保持部１３とで構成されている。

【０００６】一方、前記テーブルコータ１５は、昇降可
能で、かつ、進退可能な周知のダイ本体１６と、基板Ｗ
を載置する所定の平面度を有するテーブル１７と、前記
移送装置５で運ばれた基板Ｗを受け取り前記テーブル１
７上に載置するとともに、塗布膜を形成された基板Ｗを
持ち上げ、前記移送装置５に受け渡す昇降機構１９とで
構成されている。

【０００７】なお、前記昇降機構１９は、シリンダ２０
と、シリンダ２０によりテーブル１７に設けた貫通孔１
８内を昇降する支持ロッド２１とで構成されている。

【０００８】さらに、図５に示すように、前記テーブル
コータ１５は、基板Ｗを挟んで対向するストッパ２３
と、一端が軸支され、他端に回動自在な押圧部２５を有
する押圧手段（アーム）２４とからなる位置決め機構２
２を前記テーブル１７上面の所定位置に備えた構成とな
っている。

【０００９】そして、前記搬送装置１で所定位置に基板
Ｗが送られてくると、基板Ｗを前記昇降手段３で持ち上
げ、その基板Ｗを前記移送装置５の保持部１３をシリン
ダ１２を駆動することにより保持し、保持したままシリ
ンダ８により若干上昇させたうえで、アーム７を図示し
ない旋回手段により回動して前記テーブルコータ１５の
所定位置へ基板Ｗを移送する。

【００１０】基板Ｗが前記移送装置５で前記テーブル１
７上に移送されると、テーブルコータ１５に設けた昇降
機構１９の支持ロッド２１を上昇させて支持ロッド２１
上に基板Ｗを載置する。その後、保持部材１３はシリン
ダ１２の駆動により基板Ｗを開放する。

【００１１】ついで、前記支持ロッド２１をシリンダ２
０の駆動により下降させ、基板Ｗをテーブル１７上に載
置する。その後、テーブル１７上の位置決め機構２２を
駆動し、押圧部２５で基板Ｗをストッパ２３に押圧して
基板Ｗの位置決めを行った後、図示しない吸引手段で基
板Ｗをテーブル１７上に吸引保持するとともに、ダイ本
体１６を移動させてダイ本体１６に設けた図示しない距
離測定センサで基板Ｗの表面とダイ本体１６のリップ部
との距離（ギャップ）を検出し、検出したギャップから
求まるギャップの変位に合わせてダイ本体１６を昇降さ
せながら基板Ｗの表面に塗布液を供給して塗布膜を形成
する。

【００１２】塗布が完了すると前記吸引手段を停止し、
基板Ｗを前記昇降機構１９の支持ロッド２１で上方に持
ち上げ、前記移送装置５の把持手段１０で保持し、搬送
装置１の所定位置に旋回移送し、搬送装置１の昇降手段
３上に基板Ｗを載置して受け渡した後、昇降手段３を下
降させて塗布を終えた基板Ｗをローラ２上に載置し、図
示しない下流側の設備に搬送するようになっている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記基
板塗布装置では、昇降機構１９と位置決め機構２２とを
別々に設けていたので構成が複雑になるとともに、移送
装置５から基板Ｗを受け取ってテーブル１７上に載置し
た後、基板Ｗの位置決めを実施し、位置決め完了後に吸
引手段を駆動するため、基板Ｗの受け取りと位置決めと
が別工程になり、しかも、位置決め完了後に吸引手段を
駆動して基板Ｗを保持するので、塗布開始までに時間が
掛かるという課題を有していた。

【００１４】したがって、本発明は構成が簡単で、しか
も基板の受け取りと位置決めをほぼ同時に行えて、短時
間で塗布開始を行うことができる基板塗布装置を提供す
ることを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、基板塗布装置を、減圧手段に連通する複
数の吸引孔を設けた平坦なテーブルに対して昇降可能
で、かつ、進退可能なダイ本体を有する基板塗布装置に
おいて、前記テーブルの下面に配設した昇降可能な基台
に前記テーブルを貫通して設けた軸の一端を固定し、他
端に位置決め部を有する基板載置部を設けた基板の位置
決め手段と、前記テーブルを貫通して設けた軸の一端を
前記基台に回転可能に保持し、他端の偏心位置に押圧部
を有する基板載置部を設けた押圧手段とを前記基板を挟
んで対向配置した基板保持装置を設け、前記基台の上昇
端で前記位置決め手段および押圧手段の基板載置面が前
記テーブル表面より突出するとともに、前記基台の下降
端で前記位置決め手段および押圧手段の最上部が前記テ
ーブル表面より下方に位置するようにしたものである。

【００１６】

【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を図
１〜図３にしたがって説明する。図１と図４を比較すれ
ば明らかなように、本発明は、図４に記載のテーブル１
７に設置する昇降機構１９と位置決め機構２２が１つの
基板保持装置３０となっている点においてのみ相違す
る。

【００１７】すなわち、この基板保持装置３０は、図
１、図２に示すように、前記移送装置５でテーブル１７
上に運ばれてきた基板Ｗを受け取り、受け取った基板Ｗ
の位置決め機能と昇降機能との両方の機能を有するもの
で、前記テーブル１７の下面にシリンダ３１を介して配
設した昇降可能な基台３２に前記テーブル１７に設けた
貫通孔１８を貫通して設けた軸３３の一端を固定し、他
端に垂直面と水平面とを有する段部を設け、前記段部の
垂直面を位置決め部３５、前記段部の水平面を基板載置
部３６とした基板Ｗの位置決め手段（ストッパ）３４
と、前記テーブル１７を貫通して設けた軸３７の一端を
ロータリアクチュエータ３８により前記基台３２に回転
可能に保持し、他端の偏心位置に押圧部４０を有する基
板載置部４１を設けた押圧手段３９とで構成してあり、
前記位置決め手段３４と押圧手段３９とを前記基板Ｗを
挟んで対向配置したものである。

【００１８】なお、前記位置決め手段３４と押圧手段３
９とは軸３３，３７より大径となっている。

【００１９】また、前記位置決め手段３４の基板載置部
３６と押圧手段３９の基板載置部４１の高さは基板Ｗを
水平に保持できるよう同一にしてある。

【００２０】さらに、前記基台３２の上昇端で前記位置
決め手段３４および押圧手段３９の基板載置部３６，４
１が前記テーブル１７表面より突出するとともに、前記
基台３２の下降端で前記位置決め手段３４および押圧手
段３９の最上部が前記テーブル１７の表面より下方に位
置するように前記貫通孔１８の上部に収納部１８ａを設
けてある。

【００２１】したがって、前記従来例と同様、基板Ｗが
前記移送装置５でテーブル１７上の所定位置に移送され
てくると、前記基板保持装置３０のシリンダ３１を駆動
して位置決め手段３４および押圧手段３９をテーブル１
７の上方に突出させ、その後、位置決め手段３４および
押圧手段３９の基板載置部３６，４１上に基板Ｗを載置
する（図２、図３（Ａ））。基板Ｗが載置されると、移
送装置５を退避させるとともに、前記基板保持装置３０
の軸３７をロータリアクチュエータ３８で回動すること
により押圧部４０で基板Ｗを位置決め部３５に押し付け
て位置決めする（図３（Ｂ））。基板Ｗの位置決めを実
施した後、シリンダ３１を駆動して両軸３３，３７を下
降させて基板Ｗをテーブル１７上に載置し、図示しない
吸引手段によりテーブル１７上に吸引保持する。

【００２２】ついで、ダイ本体１６に設けた図示しない
距離測定センサで基板Ｗの表面とダイ本体１６のリップ
部との距離（ギャップ）を検出し、検出したギャップか
ら求まるギャップの変位に合わせてダイ本体１６を昇降
させながら基板Ｗの表面に塗布液を供給し、塗布膜を形
成する。

【００２３】前記のようにして、塗布の完了した基板Ｗ
は、前記吸引手段を停止した後、前記基板保持装置３０
の位置決め手段３４および押圧手段３９の基板載置部３
６，４１でテーブル１７上に持ち上げ、前記移送装置５
の把持手段１０で保持し、搬送装置１の所定位置に移送
し、搬送装置１の昇降手段３上に基板Ｗを載置して受け
渡し、昇降手段３の下降により塗布を終えた基板Ｗをロ
ーラ２上に載置し、図示しない下流側の設備に搬送す
る。

【００２４】前記実施の形態では、位置決め手段３４と
押圧手段３９とは基板Ｗの隣接する各辺でそれぞれ１組
設けた場合であるが、図３の如く、隣接する各辺に同一
手段を１または複数組設け、他の辺に他の手段を１また
は複数組設けてもよい。

【００２５】また、前記実施の形態では、前記位置決め
手段３４と押圧手段３９とは図２に示すように軸３３，
３７より大径としたが、基板載置部３６，４１が基板Ｗ
を載置するのに充分な大きさを確保できるなら軸３３，
３７と同径またはそれ以下であってもよい。この場合、
前記位置決め手段３４の段部は切欠きにより一体構造と
して形成してもよいし、前記押圧手段３９の押圧部４０
と同様、水平面を有する円柱部に垂直面を有する突起を
別途設けたものであってもよい。

【００２６】さらに、前記位置決め手段３４の段部を形
成する切欠きまたは突起、あるいは、前記押圧手段３９
の押圧部４０は、前述の如く、軸の端面に基板Ｗを載置
するのに充分な面積を確保できるなら、前記軸３３，３
７の上端面に直接設けても何ら問題ない。このように、
位置決め手段３４と押圧手段３９とを軸３３，３７と同
径またはそれ以下に形成した場合、テーブル１７に設け
る貫通孔１８の上部に収納部１８ａを設けなくてもよ
い。

【００２７】さらに、前記実施の形態では、基板Ｗの位
置決めを実施した後、基板Ｗをテーブル１７上に載置し
たが、移送装置５から基板Ｗを受け取ると同時に基板保
持装置３０（位置決め手段３４と押圧手段３９）の下降
を開始し、受け取った基板Ｗを下降させながら位置決め
手段３４を回動させて位置決めを実施するようにしても
よい。

【００２８】また、前述の説明では、基板Ｗを移送装置
５から受け取るものとしたが、基板Ｗのテーブルコータ
１５への供給はこれに限らず、たとえば、テーブル１７
に昇降可能な搬送ローラを設け、搬送装置１から直接テ
ーブルコータ１５へ基板Ｗを搬送するもの（特願２００
０−３５１１２１号）にも適応できる。この場合、テー
ブル１７に設けた搬送ローラの搬送面より基板保持装置
３０の上端面を下方に位置させ、前記搬送ローラの下降
により基板Ｗを基板保持装置３０へ移載することもでき
るし、逆に、前記搬送ローラの搬送面より基板保持装置
３０の上端面を上方に位置させ、搬送ローラから基板Ｗ
を受け取った後、搬送ローラと基板保持装置３０を下降
させて基板Ｗをテーブル１７に載置することもできる。

【００２９】ところで、前記基板保持装置３０は基台３
２に固定した位置決め手段３４と基台３２に回動可能に
保持した押圧手段３９とで構成したが、本発明はこの構
成に限定するものではなく、位置決め手段３４の代わり
に押圧手段３９を配設して基板保持装置３０をすべて押
圧手段３９で構成し、基板Ｗを位置決めする基準を対向
する押圧手段３９の回転中心を通る線の交点（基準点）
として位置決めの際には基板Ｗを挟んで対向する押圧手
段３９同士の回転を同調させる。これにより、押圧部４
０の移動量が対向する辺で同量となるので、基板Ｗの中
心（対角線の交点）を基準点と一致させることができ
る。

【００３０】このように、基板保持装置３０をすべて押
圧手段３９で構成しても基板Ｗの位置決めとテーブル１
７への載置とを同時に実施できるので、前記第１の発明
と同等の効果を得ることができる。

【００３１】

【発明の効果】以上の発明で明らかなように、本発明に
よれば、位置決め手段と押圧手段とを組み合わせ、１つ
の基板保持装置を構成したので構造が簡素化されるばか
りか、基板の受け取りと位置決めとをほぼ同時に実施で
きるので、テーブルコータにおける基板の処理時間を短
縮できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明にかかる基板塗布装置の概略図。

【図２】 基板保持装置の一部拡大斜視図。

【図３】 （Ａ），（Ｂ）は位置決め機構の動作状態を
示す平面図。

【図４】 従来例の概略図。

【図５】 図４の位置決め装置の動作状態を示す平面
図。

【符号の説明】

１〜搬送装置、２〜ローラ、５〜移送装置、７〜アー
ム、１０〜把持手段、１５〜テーブルコータ、１６〜ダ
イ本体、１７〜テーブル、１８〜貫通孔、３０〜基板保
持装置、３１〜シリンダ、３３，３７〜軸、３４〜位置
決め手段、３５〜位置決め部、３６，４１〜基板載置
部、３８〜ロータリアクチュエータ、３９〜押圧手段、
４０〜押圧部、Ｗ〜基板。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AB08 AB13 AB14 AB17 EA04 4F041 AA05 AB01 BA23 CA02 4F042 AA06 BA08 DD12 DD17 DF09 DF29 DF34 5F046 JA27

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 減圧手段に連通する複数の吸引孔を設け
   た平坦なテーブルに対して昇降可能で、かつ、進退可能
   なダイ本体を有する基板塗布装置において、 前記テーブルの下面に配設した昇降可能な基台に前記テ
   ーブルを貫通して設けた軸の一端を固定し、他端に位置
   決め部を有する基板載置部を設けた基板の位置決め手段
   と、前記テーブルを貫通して設けた軸の一端を前記基台
   に回転可能に保持し、他端の偏心位置に押圧部を有する
   基板載置部を設けた押圧手段とを前記基板を挟んで対向
   配置した基板保持装置を設け、前記基台の上昇端で前記
   位置決め手段および押圧手段の基板載置面が前記テーブ
   ル表面より突出するとともに、前記基台の下降端で前記
   位置決め手段および押圧手段の最上部が前記テーブル表
   面より下方に位置することを特徴とする基板塗布装置。