JPH08236415A - ロールコータ - Google Patents

ロールコータ

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Publication number
JPH08236415A
JPH08236415A JP3355495A JP3355495A JPH08236415A JP H08236415 A JPH08236415 A JP H08236415A JP 3355495 A JP3355495 A JP 3355495A JP 3355495 A JP3355495 A JP 3355495A JP H08236415 A JPH08236415 A JP H08236415A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
roll
backup roll
coating liquid
backup
Prior art date
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Pending
Application number
JP3355495A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshito Ishizaki
義人 石崎
Kenichi Nakamura
研一 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP3355495A priority Critical patent/JPH08236415A/ja
Publication of JPH08236415A publication Critical patent/JPH08236415A/ja
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複雑な機構もしくは操作を必要とすることな
くリバースコーティングを行うこと。 【構成】 基板Wは、回転する複数の搬送ローラ30上
を搬送されて、塗布液供給ユニット7中の各ロール1
2、14、16の回転軸に垂直な水平方向に一定速度で
搬送される。基板Wがアプリケータロール16とバック
アップロール32との間に挟み込まれた状態では、基板
Wはより摩擦の大きなバックアップロール32に送られ
て前進し続け、この際アプリケータロール16の外周面
16aに付着しているレジスト液Rが基板Wの表面全域
にリバース転写される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、アプリケータロール
に供給された所定の塗布液を基板の表面に転写すること
によって塗布液を基板の表面に塗布するロールコータに
関し、さらに詳しくは長尺状の基板ではなく、液晶用ガ
ラス角型基板、プラスチックやフィルムなどからなるフ
レキシブル基板などの単板状の基板表面に所定の塗布液
を塗布するリバースコーティング方式のロールコータに
関する。
【0002】
【従来の技術】従来のリバースコーティング方式のロー
ルコータとして、例えば実開平4−99266号公報に
開示のものが提案されている。このロールコータでは、
基板を定盤によって真空吸着して一体的に保持して水平
方向に搬送させる。これと同時に、塗布液が供給された
アプリケータロールをその下端が基板搬送方向と逆方向
の速度をもつように回転させるとともに、このアプリケ
ータロールをその下端が基板の表面に接するまで下降さ
せた状態とする。これにより、アプリケータロールに供
給された塗布液が基板表面に転写されて基板表面全体に
塗布膜が形成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなリバースコーティング方式のロールコータでは、
基板を定盤に対して着脱するための特別の機構等が必要
となる。すなわち、基板搬送方向に関してアプリケータ
ロールの上流側において基板を定盤に載置して真空吸着
させる機構もしくは操作が必要であるとともに、アプリ
ケータロールの下流側においても定盤に真空吸着されて
いる基板を定盤から降ろす機構もしくは操作が必要であ
り、複雑な機構もしくは操作を必要とするという欠点が
ある。
【0004】そこで、この発明は、複雑な機構もしくは
操作を必要とすることなくリバースコーティングを行う
ことが可能なロールコータを提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1のロールコータは、基板を所定の搬送方向
に搬送するために、基板の裏面に接しつつ所定の回転方
向に回転させられるバックアップロールと、表面に所定
の塗布液が供給されるとともに、その塗布液を基板の表
面に転写するために、基板と対向する部分においてバッ
クアップロールによって搬送される基板の搬送方向と逆
方向に進むように回転させられるアプリケータロールと
を備えることを特徴とする。
【0006】請求項2のロールコータは、バックアップ
ロールの表層部の摩擦係数が、アプリケータロールに供
給される所定の塗布液の摩擦係数よりも大きいことを特
徴とする。
【0007】請求項3のロールコータは、バックアップ
ロールの表層部が、ゴムからなることを特徴とする。
【0008】
【作用】請求項1のロールコータでは、基板を所定の搬
送方向に搬送するために、基板の裏面に接しつつ所定の
回転方向に回転させられるバックアップロールと、表面
に所定の塗布液が供給されるとともに、その塗布液を基
板の表面に転写するために、基板と対向する部分におい
てバックアップロールによって搬送される基板の搬送方
向と逆方向に進むように回転させられるアプリケータロ
ールとを備えるので、バックアップロールとアプリケー
タロールとの間に基板が挟み込まれた場合、この基板
は、表面に塗布液が付着するアプリケータロールに比較
して表面の摩擦抵抗が一般に大きいバックアップロール
の回転に伴って送られ、アプリケータロール側からの比
較的小さな摩擦力に抗して搬送されることとなる。よっ
て、定盤を用いた場合のように特別の着脱機構を用いる
ことなく、複数の基板を一定速度で連続的に搬送するこ
とができる。また、搬送された基板の表面には、アプリ
ケータロールに供給された塗布液が均一に転写され、基
板表面全体に均一な膜厚の塗布膜が形成される。
【0009】請求項2のロールコータでは、バックアッ
プロールの表層部の摩擦係数がアプリケータロールに供
給される所定の塗布液の摩擦係数よりも大きいので、こ
のバックアップロールにより、アプリケータロール側か
らの比較的小さな摩擦力に抗して確実に基板を搬送する
ことができる。
【0010】請求項3のロールコータでは、バックアッ
プロールの表層部がゴムからなるので、バックアップロ
ールによる基板の搬送をさらに確実なものとすることが
できる。
【0011】
【実施例】図1は、第1実施例のロールコータの構造を
示す側面図である。図示のように、第1実施例のロール
コータは、固定された基台5と、これに対し上下方向に
移動自在に取り付けられるとともに基板Wにレジスト液
を供給する塗布液供給ユニット7と、基板Wを水平方向
に搬送する搬送系9とを備える。
【0012】塗布液供給ユニット7は、塗布液であるレ
ジスト液Rを貯留するディップ槽10と、ディップ槽1
0からのレジスト液Rが供給されるピックアップロール
12と、このピックアップロール12からのレジスト液
Rが供給されるオフセットロール14と、このオフセッ
トロール14からのレジスト液Rが供給されるアプリケ
ータロール16とを備える。
【0013】ディップ槽10中のレジスト液Rには、ピ
ックアップロール12が部分的に浸漬されている。この
ピックアップロール12は、水平な回転軸の回りで反時
計方向に一定速度で回転し、レジスト液Rをレジスト膜
としてその外周面12aに付着させてディップ槽10か
ら上方にかき上げる。オフセットロール14は、水平な
回転軸の回りで時計方向(ピックアップロール12と反
対の回転方向)に一定速度で回転する。ここで、ピック
アップロール12はオフセットロール14に対して接離
調節可能となっており、ピックアップロール12の外周
面12aに付着してかき上げられたレジスト液Rがオフ
セットロール14側の外周面14aに適量だけ転写され
る。オフセットロール14の外周面14aと接触した状
態となっているアプリケータロール16は、水平な回転
軸の回りで時計方向に一定速度で回転する。このため、
オフセットロール14の外周面14aに転写されてここ
に付着しているレジスト液Rは、アプリケータロール1
6の外周面16aに再度転写される。なお、アプリケー
タロール16に転写され残ったレジスト液Rは、スクレ
ーパロール18でオフセットロール14の外周面14a
から除去されトレイ20に回収される。
【0014】搬送系9は、基板Wを水平方向に連続的に
搬送する複数の搬送ローラ30と、アプリケータロール
16の下方で基板Wを下方から支持するバックアップロ
ール32とを備える。
【0015】基板Wは、回転する複数の搬送ローラ30
上を搬送されて、塗布液供給ユニット7中の各ロール1
2、14、16の回転軸に垂直な水平方向、即ち図面左
側から右側に向けて一定速度で搬送される。図示のよう
に、基板Wがアプリケータロール16とバックアップロ
ール32との間に挟み込まれた状態では、基板Wはより
摩擦の大きなバックアップロール32に送られて前進し
続け、この際アプリケータロール16の外周面16aに
付着しているレジスト液Rが基板Wの表面全域に転写さ
れる。
【0016】なお、バックアップロール32の外周面3
2aはゴム材で形成されている。したがって、基板Wが
アプリケータロール16とバックアップロール32との
間に挟み込まれた場合、この基板Wは、バックアップロ
ール32側からの比較的大きな摩擦力を受けて、外周面
16aにレジスト液Rが付着するアプリケータロール1
6からの逆進方向の力に抗して、バックアップロール3
2の回転に伴ってこのバックアップロール32の周速度
で送られる。よって、アプリケータロール16とバック
アップロール32との間に挟み込まれた基板Wは、アプ
リケータロール16から所定量のレジスト液Rの供給を
受けつつ、バックアップロール32によって一定速度で
送られることとなるので、表面全体にレジスト液Rの均
一な塗布膜を形成することができる。
【0017】図2は、図1のロールコータに基板Wへの
塗布処理が開始される前の状態を説明する図である。図
1の場合と異なり、塗布液供給ユニット7は上昇してそ
の待機位置にある。この状態において、各ロール12、
14、16を回転させてレジスト液Rの供給を開始し、
次に塗布処置の対象となる基板Wを投入する。基板Wの
先端がバックアップロール32の上端に差し掛かって所
定の塗布開始位置に達したとき、塗布液供給ユニット7
を降下させて、アプリケータロール16の下端が基板W
の表面を所定の力で押圧する動作位置に移動させる。こ
れにより、基板Wがアプリケータロール16とバックア
ップロール32との間に挟み込まれた図1のような状態
となる。以後は、図1で説明したように、バックアップ
ロール32によって基板Wを一定速度で搬送させなが
ら、アプリケータロール16に付着したレジスト液Rを
基板Wの表面全体に均一に塗布することができる。基板
Wの後端がバックアップロール32の上端に差し掛かっ
て所定の塗布終了位置に達したとき、塗布液供給ユニッ
ト7を上昇させて待機位置に移動させレジスト液Rの供
給を中止するが、搬送ローラ30とバックアップロール
32はそのまま動作させて基板Wの搬送を装置外に排出
する。なお、複数の基板Wの連続的な処理の場合、各基
板Wの先端がバックアップロール32に差し掛かるごと
に塗布液供給ユニット7を降下させ、各基板Wの後端が
バックアップロール32に差し掛かるごとに塗布液供給
ユニット7を上昇させることとなる。
【0018】図3は、第2実施例のロールコータを説明
する側面図である。なお、第2実施例は第1実施例の変
形例であるので、同一部分には同一符号を付して説明を
省略する。
【0019】第2実施例のロールコータでは、これに設
けた塗布液供給ユニット17の昇降機構が、第1実施例
のロールコータの塗布液供給ユニット7と異なり、微調
節用のものに過ぎない。この結果、基板Wの先端がバッ
クアップロール32の上端に差し掛かったときに、基板
Wをアプリケータロール16とバックアップロール32
との間にくわえ込ませる必要が生じる。このため、第2
実施例のロールコータでは、バックアップロール32の
上端位置の高さh1を搬送ローラ30の上端位置の高さ
h2よりもわずかに高くしてある。この結果、バックア
ップロール32の上端位置の高さh1は基板Wの下端よ
りもわずかに高くなり、基板Wの先端がバックアップロ
ール32の上端に差し掛かったとき、まずバックアップ
ロール32の上端がわずかにバックアップロール32に
当たり、基板Wの重みがバックアップロール32に加わ
ることとなる。この結果、基板Wの搬送によって生じる
慣性力に、バックアップロール32の回転によって生じ
る水平方向の送り力が加わり、アプリケータロール16
とバックアップロール32との間に基板Wをくわえ込ま
せ易くなる。なお、アプリケータロール16とバックア
ップロール32との隙間間隔cは基板Wの厚みtよりも
わずかに小さくなっていて基板Wが両ロール16、32
間に適当な圧力で挟み込まれるようにしてある。したが
って、一旦両ロール16、32間にくわえ込まれた基板
Wは、バックアップロール32に送られてその周速度で
搬送され、アプリケータロール16に付着したレジスト
液Rが基板Wの表面全体に均一に塗布される。
【0020】以上、実施例に即してこの発明を説明した
が、この発明は上記実施例に限定されるものではない。
例えば、バックアップロール32の外周面の材質として
ゴム以外の任意の材質が使用できる。ただし、アプリケ
ータロール16と基板Wとの間に挟まれるレジスト液R
その他の塗布液の動的な摩擦係数よりも大きな摩擦係数
をバックアップロール32と基板W裏面との間に発生さ
せる必要があることから、バックアップロール32の外
周面の材質は、レジスト液Rその他の塗布液の粘性に応
じて適宜選択する必要がある。
【0021】また、第1実施例では、塗布液供給ユニッ
ト7を昇降させる機構を設けてあるが、このような機構
として、例えばガイド及びネジ機構等の組み合わせによ
って塗布液供給ユニット7の姿勢を保ったままでこれを
上下させるものを使用することができる。さらに、搬送
系9上方であってアプリケータロール16からほぼ水平
方向に十分離れた位置にアプリケータロール16の回転
軸に平行な回転軸を設けてこの回転軸の回りで塗布液供
給ユニット7全体を回転させることにより、塗布液供給
ユニット7を昇降運動させることもできる。
【0022】また、第1実施例では、塗布液供給ユニッ
ト7を昇降させる構造としているが、バックアップロー
ル32側を昇降させる構造として、バックアップロール
32の上昇時にアプリケータロール16とバックアップ
ロール32との間に基板Wをくわえ込ませてこれを搬送
させることとしてもよい。
【0023】また、第2実施例では、基板Wの先端をバ
ックアップロール32とアプリケータロール16との間
にくわえ込ませるため、バックアップロール32の上端
位置の高さh1を搬送ローラ30の上端位置の高さh2よ
りもわずかに高くしてあるが、この代わりに、基板Wの
搬送速度を調節するなどによって搬送時における基板W
の慣性力を増して両ロール16、32間へのくわえ込ま
せを行うこともできる。さらに、基板Wの先端が両ロー
ル16、32の隙間に達した時、基板Wの後端をわずか
に基板Wの進行方向に押すことでくわえ込ませることも
できる。
【0024】
【発明の効果】以上説明のように、請求項1のロールコ
ータによれば、基板を所定の搬送方向に搬送するため
に、基板の裏面に接しつつ所定の回転方向に回転させら
れるバックアップロールと、表面に所定の塗布液が供給
されるとともに、その塗布液を基板の表面に転写するた
めに、基板と対向する部分においてバックアップロール
によって搬送される基板の搬送方向と逆方向に進むよう
に回転させられるアプリケータロールとを備えるので、
バックアップロールとアプリケータロールとの間に基板
が挟み込まれた場合、この基板は、表面に塗布液が付着
するアプリケータロールに比較して表面の摩擦抵抗が一
般に大きいバックアップロールの回転に伴って送られ、
アプリケータロール側からの比較的小さな摩擦力に抗し
て搬送されることとなる。よって、定盤を用いた場合の
ように特別の着脱機構を用いることなく、複数の基板を
一定速度で連続的に搬送することができる。また、搬送
された基板の表面には、アプリケータロールに供給され
た塗布液が均一に転写され、基板表面全体に均一な膜厚
の塗布膜が形成される。
【0025】請求項2のロールコータによれば、バック
アップロールの表層部の摩擦係数がアプリケータロール
に供給される所定の塗布液の摩擦係数よりも大きいの
で、このバックアップロールにより、アプリケータロー
ル側からの比較的小さな摩擦力に抗して確実に基板を搬
送することができる。
【0026】請求項3のロールコータによれば、バック
アップロールの表層部がゴムからなるので、バックアッ
プロールによる基板の搬送をさらに確実なものとするこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例のロールコータの構造を説明する側
面図である。
【図2】図1のロールコータの動作を説明する側面図で
ある。
【図3】第2実施例のロールコータの構造を説明する側
面図である。
【符号の説明】
W 基板 R レジスト液 5 基台 7 塗布液供給ユニット 9 搬送系 10 ディップ槽 12 ピックアップロール 14 オフセットロール 16 アプリケータロール 30 搬送ローラ 32 バックアップロール

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を所定の搬送方向に搬送するため
    に、基板の裏面に接しつつ所定の回転方向に回転させら
    れるバックアップロールと、 表面に所定の塗布液が供給されるとともに、その塗布液
    を基板の表面に転写するために、基板と対向する部分に
    おいてバックアップロールによって搬送される基板の搬
    送方向と逆方向に進むように回転させられるアプリケー
    タロールと、を備えることを特徴とするロールコータ。
  2. 【請求項2】 バックアップロールの表層部の摩擦係数
    は、アプリケータロールに供給される所定の塗布液の摩
    擦係数よりも大きいことを特徴とする請求項1記載のロ
    ールコータ。
  3. 【請求項3】 バックアップロールの表層部は、ゴムか
    らなることを特徴とする請求項2記載のロールコータ。
JP3355495A 1995-02-22 1995-02-22 ロールコータ Pending JPH08236415A (ja)

Priority Applications (1)

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JP3355495A JPH08236415A (ja) 1995-02-22 1995-02-22 ロールコータ

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JP3355495A JPH08236415A (ja) 1995-02-22 1995-02-22 ロールコータ

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10230201A (ja) * 1997-02-20 1998-09-02 Ricoh Co Ltd 液体塗布装置
KR19990078305A (ko) * 1998-03-27 1999-10-25 사사키 요시오 레지스트층의 형성 방법 및 인쇄회로 기판의 제조방법
WO2015147262A1 (ja) * 2014-03-28 2015-10-01 株式会社ハママツ 塗布装置、重ね給紙装置、積層体製造設備、塗布体の製造方法、及び積層体の製造方法
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CN109718993A (zh) * 2017-10-30 2019-05-07 世进产业(株) 石材染色装置

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