JPH0647324A - ロールコータ - Google Patents
ロールコータInfo
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- JPH0647324A JPH0647324A JP22465792A JP22465792A JPH0647324A JP H0647324 A JPH0647324 A JP H0647324A JP 22465792 A JP22465792 A JP 22465792A JP 22465792 A JP22465792 A JP 22465792A JP H0647324 A JPH0647324 A JP H0647324A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- stage
- coating liquid
- roll coater
- horizontal
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板をステージ上に保持して搬送する形式の
ロールコータにおいて、作業時間の無駄及び塗液の無駄
な消費を少なくし、作業効率の向上及び塗液消費量の低
減化を図る。 【構成】 コーティング部14で塗液が塗布された基板を
排出した後の基板搬送ステージ26を、基板の水平搬送路
の終端位置からその始端位置へ搬送するための帰還搬送
路24を配設し、基板の水平搬送路及び帰還搬送路上に基
板搬送ステージを複数台配置する。
ロールコータにおいて、作業時間の無駄及び塗液の無駄
な消費を少なくし、作業効率の向上及び塗液消費量の低
減化を図る。 【構成】 コーティング部14で塗液が塗布された基板を
排出した後の基板搬送ステージ26を、基板の水平搬送路
の終端位置からその始端位置へ搬送するための帰還搬送
路24を配設し、基板の水平搬送路及び帰還搬送路上に基
板搬送ステージを複数台配置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶用ガラス基板、
フレキシブルＬＣＤ用フィルム、イメージセンサ用基
板、半導体基板等の各種基板を搬送しながら、その基板
表面に塗液、例えばフォトレジスト液、カラーフィルタ
用顔料、ポリイミド樹脂等を塗布して、基板表面に塗膜
を形成するために使用されるロールコータに関する。
フレキシブルＬＣＤ用フィルム、イメージセンサ用基
板、半導体基板等の各種基板を搬送しながら、その基板
表面に塗液、例えばフォトレジスト液、カラーフィルタ
用顔料、ポリイミド樹脂等を塗布して、基板表面に塗膜
を形成するために使用されるロールコータに関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のロールコータにおいて、従前に
おける基板の搬送は、搬送路に沿って複数本の搬送ロー
ラを並設し、主にローラと基板との摩擦を利用して行な
っていた。しかしながら、このような搬送方法では、基
板を搬送する速度が不安定となり、また、基板表面に形
成される塗膜の厚みをコントロールするのが難しく、さ
らに、摩擦を利用した搬送であるため、静電気による基
板へのパーティクルの付着などといった問題がある。
おける基板の搬送は、搬送路に沿って複数本の搬送ロー
ラを並設し、主にローラと基板との摩擦を利用して行な
っていた。しかしながら、このような搬送方法では、基
板を搬送する速度が不安定となり、また、基板表面に形
成される塗膜の厚みをコントロールするのが難しく、さ
らに、摩擦を利用した搬送であるため、静電気による基
板へのパーティクルの付着などといった問題がある。
【０００３】そこで、例えば特開平２−１３５１７４号
公報や実開平２−１３３４７０号公報等に開示されてい
るように、上面が平面状に形成されたステージ上に基板
を保持し、ステージを水平方向へ直線移動させることに
より基板を搬送するようにしたロールコータが開発さ
れ、現在使用されている。
公報や実開平２−１３３４７０号公報等に開示されてい
るように、上面が平面状に形成されたステージ上に基板
を保持し、ステージを水平方向へ直線移動させることに
より基板を搬送するようにしたロールコータが開発さ
れ、現在使用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ステージ上
に基板を保持して基板の搬送を行なうロールコータで
は、基板の水平搬送路の上方に配設され基板表面に塗液
を塗布するアプリケータロール等を備えたコーティング
部へ基板を送り込み、コーティング部で基板の表面に塗
液を塗布し、表面に塗液が塗布された基板をコーティン
グ部から水平搬送路の終端位置まで搬送して、基板をス
テージの上面から排出した後、ステージは、次に塗液を
塗布すべき基板の搬送のために、水平搬送路の終端位置
から始端位置へ戻すようにされている。従って、ステー
ジを水平搬送路の始端位置へ移動させる間は、次の塗布
操作を行なうことができず、作業時間の無駄を生じるこ
とになる。
に基板を保持して基板の搬送を行なうロールコータで
は、基板の水平搬送路の上方に配設され基板表面に塗液
を塗布するアプリケータロール等を備えたコーティング
部へ基板を送り込み、コーティング部で基板の表面に塗
液を塗布し、表面に塗液が塗布された基板をコーティン
グ部から水平搬送路の終端位置まで搬送して、基板をス
テージの上面から排出した後、ステージは、次に塗液を
塗布すべき基板の搬送のために、水平搬送路の終端位置
から始端位置へ戻すようにされている。従って、ステー
ジを水平搬送路の始端位置へ移動させる間は、次の塗布
操作を行なうことができず、作業時間の無駄を生じるこ
とになる。
【０００５】また、ロールコータでは、ステージが水平
搬送路の始端位置へ戻されている間も、塗液供給用ロー
ル等からアプリケータロールへは塗液が供給されてお
り、基板の表面へ転移されずにアプリケータロールの外
周円筒面上に付着残留した塗液は、それが液溜部へその
まま戻されると液溜部内の新鮮な塗液の品質を低下させ
ることになるため、スクレーパによってアプリケータロ
ール外周円筒面から掻き取られるようにされている。こ
のため、ステージが水平搬送路の始端位置へ戻される間
にアプリケータロールへ供給された塗液は、使用されな
いまま無駄に消費されてしまい、工程全体としての塗液
の消費量が大きくなってしまう、といった問題点があ
る。
搬送路の始端位置へ戻されている間も、塗液供給用ロー
ル等からアプリケータロールへは塗液が供給されてお
り、基板の表面へ転移されずにアプリケータロールの外
周円筒面上に付着残留した塗液は、それが液溜部へその
まま戻されると液溜部内の新鮮な塗液の品質を低下させ
ることになるため、スクレーパによってアプリケータロ
ール外周円筒面から掻き取られるようにされている。こ
のため、ステージが水平搬送路の始端位置へ戻される間
にアプリケータロールへ供給された塗液は、使用されな
いまま無駄に消費されてしまい、工程全体としての塗液
の消費量が大きくなってしまう、といった問題点があ
る。
【０００６】この発明は、上記した問題点を解消するた
めになされたものであり、基板をステージ上に保持して
搬送する形式のロールコータにおいて、作業時間の無駄
及び塗液の無駄な消費を少なくし、工程全体としての作
業効率を向上させるとともに、塗液の消費量を低減させ
ることを目的とする。
めになされたものであり、基板をステージ上に保持して
搬送する形式のロールコータにおいて、作業時間の無駄
及び塗液の無駄な消費を少なくし、工程全体としての作
業効率を向上させるとともに、塗液の消費量を低減させ
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明では、基板の水
平搬送路の終端位置において基板が排出された後の基板
搬送ステージを水平搬送路の始端位置へ搬送するための
帰還搬送路を配設し、その帰還搬送路を通して基板搬送
ステージを移動させる帰還用ステージ駆動手段を設け、
基板の水平搬送路及び前記帰還搬送路上に基板搬送ステ
ージを複数台配置するようにした。
平搬送路の終端位置において基板が排出された後の基板
搬送ステージを水平搬送路の始端位置へ搬送するための
帰還搬送路を配設し、その帰還搬送路を通して基板搬送
ステージを移動させる帰還用ステージ駆動手段を設け、
基板の水平搬送路及び前記帰還搬送路上に基板搬送ステ
ージを複数台配置するようにした。
【０００８】図８は、この発明に係るロールコータの概
略構成を示した模式図である。このロールコータは、水
平方向へ直線移動自在に配設され、上面に基板１を保持
して搬送する基板搬送ステージ２、この基板搬送ステー
ジ２を水平方向へ直線移動させるステージ駆動機構（図
示を省略）、基板の水平搬送路の上方に配設され、基板
搬送ステージ２の上面に保持されて搬送される基板１の
表面に外周円筒面を接触させ又は押し付けながら回転す
ることにより基板１の表面に塗液を塗布するアプリケー
タロール４、このアプリケータロール４の外周円筒面に
塗液を供給する塗液供給用ロール５及び図示しない液溜
部、並びに、表面に塗液が塗布された基板１ａを基板搬
送ステージ２の上面から排出する基板搬出機構（図示を
省略）を備えて構成されている。そして、基板１ａが排
出された後の基板搬送ステージ２を基板の水平搬送路の
終端位置Ｅから始端位置Ｓへ搬送するため、水平搬送路
の下方側に帰還搬送路が配設されるとともに、基板搬送
ステージ２を水平搬送路の終端位置Ｅから始端位置Ｓま
で移動させる帰還用ステージ駆動機構（図示を省略）が
設けられており、基板の水平搬送路及び帰還搬送路上に
複数台、図示例では２台の基板搬送ステージ２、３が配
置されている。また、帰還搬送路は、基板の水平搬送路
と同一平面内に配設することもできる。
略構成を示した模式図である。このロールコータは、水
平方向へ直線移動自在に配設され、上面に基板１を保持
して搬送する基板搬送ステージ２、この基板搬送ステー
ジ２を水平方向へ直線移動させるステージ駆動機構（図
示を省略）、基板の水平搬送路の上方に配設され、基板
搬送ステージ２の上面に保持されて搬送される基板１の
表面に外周円筒面を接触させ又は押し付けながら回転す
ることにより基板１の表面に塗液を塗布するアプリケー
タロール４、このアプリケータロール４の外周円筒面に
塗液を供給する塗液供給用ロール５及び図示しない液溜
部、並びに、表面に塗液が塗布された基板１ａを基板搬
送ステージ２の上面から排出する基板搬出機構（図示を
省略）を備えて構成されている。そして、基板１ａが排
出された後の基板搬送ステージ２を基板の水平搬送路の
終端位置Ｅから始端位置Ｓへ搬送するため、水平搬送路
の下方側に帰還搬送路が配設されるとともに、基板搬送
ステージ２を水平搬送路の終端位置Ｅから始端位置Ｓま
で移動させる帰還用ステージ駆動機構（図示を省略）が
設けられており、基板の水平搬送路及び帰還搬送路上に
複数台、図示例では２台の基板搬送ステージ２、３が配
置されている。また、帰還搬送路は、基板の水平搬送路
と同一平面内に配設することもできる。
【０００９】
【作用】上記した構成のロールコータでは、基板１を一
方の基板搬送ステージ２上に保持して搬送しながら、ア
プリケータロール４によって基板１の表面に塗液を塗布
する動作と併行して、塗液が塗布された基板１ａを排出
した後の他方の基板搬送ステージ３を水平搬送路の終端
位置Ｅから始端位置Ｓへ戻す動作を行なうことができ
る。従って、基板搬送ステージを基板の水平搬送路の終
端位置から始端位置へ戻すための待機時間を無くすこと
ができるとともに、従来、基板が水平搬送路の終端位置
から始端位置まで移動する間に消費されていた塗液の無
駄を無くすことができる。また、薄い基板の表面に塗液
を塗布する場合などには、基板搬送ステージの上面に不
要な塗液が付着してステージ上面を汚染するといったこ
とが起こるが、この発明に係るロールコータでは、基板
搬送ステージを基板の水平搬送路の始端位置へ戻す過程
でステージ上面の清掃を行なうようにすればよく、その
清掃のために余分な時間をとる必要が無い。
方の基板搬送ステージ２上に保持して搬送しながら、ア
プリケータロール４によって基板１の表面に塗液を塗布
する動作と併行して、塗液が塗布された基板１ａを排出
した後の他方の基板搬送ステージ３を水平搬送路の終端
位置Ｅから始端位置Ｓへ戻す動作を行なうことができ
る。従って、基板搬送ステージを基板の水平搬送路の終
端位置から始端位置へ戻すための待機時間を無くすこと
ができるとともに、従来、基板が水平搬送路の終端位置
から始端位置まで移動する間に消費されていた塗液の無
駄を無くすことができる。また、薄い基板の表面に塗液
を塗布する場合などには、基板搬送ステージの上面に不
要な塗液が付着してステージ上面を汚染するといったこ
とが起こるが、この発明に係るロールコータでは、基板
搬送ステージを基板の水平搬送路の始端位置へ戻す過程
でステージ上面の清掃を行なうようにすればよく、その
清掃のために余分な時間をとる必要が無い。
【００１０】
【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図１
ないし図７を参照しながら説明する。
ないし図７を参照しながら説明する。
【００１１】図１は、この発明の１実施例を示すロール
コータの要部斜視図である。このロールコータは、装置
フレーム10の上部中央部に固設された固定台板12、この
固定台板12の上方に配設されたコーティング部14、固定
台板12の両側にそれぞれ昇降自在に配設された始端側昇
降台板16及び終端側昇降台板18、それぞれの昇降台板1
6、18のエレベータ駆動装置20、22、固定台板12の真下
位置に配設された帰還搬送路24、２台の自走式ステージ
26、並びに制御装置28を備えている。
コータの要部斜視図である。このロールコータは、装置
フレーム10の上部中央部に固設された固定台板12、この
固定台板12の上方に配設されたコーティング部14、固定
台板12の両側にそれぞれ昇降自在に配設された始端側昇
降台板16及び終端側昇降台板18、それぞれの昇降台板1
6、18のエレベータ駆動装置20、22、固定台板12の真下
位置に配設された帰還搬送路24、２台の自走式ステージ
26、並びに制御装置28を備えている。
【００１２】固定台板12及び両昇降台板16、18にはそれ
ぞれ両側に、互いに平行にかつ一定距離を隔てて一対の
ガイドレール30、32、34が固着されている。それらの各
ガイドレール30、32、34はそれぞれ、ラック部36、40、
44とガイド平面部38、42、46とを有している。また、帰
還搬送路24は、固定台板12の一対のガイドレール30と同
一距離だけ隔てて互いに平行にかつそれぞれ固定台板12
と平行に配設された一対のガイドレール48から形成され
ている。このガイドレール48も、ガイドレール30、32、
34と同様、ラック部50とガイド平面部52とを有してい
る。そして、両昇降台板16、18はそれぞれ、エレベータ
駆動装置20、22により、固定台板12と同一水平面をなす
上方位置と帰還搬送路24と同一水平面をなす下方位置と
の間を往復移動するように支持されている。
ぞれ両側に、互いに平行にかつ一定距離を隔てて一対の
ガイドレール30、32、34が固着されている。それらの各
ガイドレール30、32、34はそれぞれ、ラック部36、40、
44とガイド平面部38、42、46とを有している。また、帰
還搬送路24は、固定台板12の一対のガイドレール30と同
一距離だけ隔てて互いに平行にかつそれぞれ固定台板12
と平行に配設された一対のガイドレール48から形成され
ている。このガイドレール48も、ガイドレール30、32、
34と同様、ラック部50とガイド平面部52とを有してい
る。そして、両昇降台板16、18はそれぞれ、エレベータ
駆動装置20、22により、固定台板12と同一水平面をなす
上方位置と帰還搬送路24と同一水平面をなす下方位置と
の間を往復移動するように支持されている。
【００１３】コーティング部14の構成は、従来のロール
コータと特に変わったところはなく、図１に示したコー
ティング部14は、水平軸回りに回転自在に支持されたア
プリケータロール54、このアプリケータロール54の外周
円筒面に外周円筒面が接触もしくは近接するようにアプ
リケータロール54と平行に配置され、水平軸回りに回転
自在に支持された塗液供給用ロール56、これら各ロール
54、56をそれぞれ回転駆動させる駆動装置58、図示しな
い塗液供給装置などから構成されている。
コータと特に変わったところはなく、図１に示したコー
ティング部14は、水平軸回りに回転自在に支持されたア
プリケータロール54、このアプリケータロール54の外周
円筒面に外周円筒面が接触もしくは近接するようにアプ
リケータロール54と平行に配置され、水平軸回りに回転
自在に支持された塗液供給用ロール56、これら各ロール
54、56をそれぞれ回転駆動させる駆動装置58、図示しな
い塗液供給装置などから構成されている。
【００１４】自走式ステージ26は、図２及び図３（図２
は図３のII−II横断面図、図３は図２のIII−III縦断面
図である）に示すように、平面形状が矩形状をなし、底
面が開口した支持枠体60、この支持枠体60の上面に取着
され、表面が平滑面とされた基板載置板62、支持枠体60
の前後にそれぞれ左右一対固着された軸受部材64、64、
66、66、前方側の一対の軸受部材64、64によってそれぞ
れ回転自在に支持され、それぞれ内方端側に抜止め70が
固着された一対の回転軸68、68、後方側の一対の軸受部
材66、66によって回転自在に支持され、各軸受部材66に
近接してそれぞれその内方側に抜止め74、74が固着され
た回転シャフト72、一対の回転軸68、68の外方端側及び
回転シャフト72の両端側にそれぞれ固着された一対の従
動車輪76、76及び一対の駆動車輪78、78、回転シャフト
72の両端側の、各駆動車輪78の外側にそれぞれ固着され
た一対の駆動車輪ギヤ80、80、回転シャフト72の、一対
の抜止め74、74間に固着された従動側プーリ82、支持枠
体60の下面側に固設された減速機付きサーボモータ84、
このサーボモータ84の回転軸86に固着された駆動側プー
リ88、並びに、駆動側プーリ88と従動側プーリ82との間
に掛け渡されたタイミングベルト90から構成されてい
る。
は図３のII−II横断面図、図３は図２のIII−III縦断面
図である）に示すように、平面形状が矩形状をなし、底
面が開口した支持枠体60、この支持枠体60の上面に取着
され、表面が平滑面とされた基板載置板62、支持枠体60
の前後にそれぞれ左右一対固着された軸受部材64、64、
66、66、前方側の一対の軸受部材64、64によってそれぞ
れ回転自在に支持され、それぞれ内方端側に抜止め70が
固着された一対の回転軸68、68、後方側の一対の軸受部
材66、66によって回転自在に支持され、各軸受部材66に
近接してそれぞれその内方側に抜止め74、74が固着され
た回転シャフト72、一対の回転軸68、68の外方端側及び
回転シャフト72の両端側にそれぞれ固着された一対の従
動車輪76、76及び一対の駆動車輪78、78、回転シャフト
72の両端側の、各駆動車輪78の外側にそれぞれ固着され
た一対の駆動車輪ギヤ80、80、回転シャフト72の、一対
の抜止め74、74間に固着された従動側プーリ82、支持枠
体60の下面側に固設された減速機付きサーボモータ84、
このサーボモータ84の回転軸86に固着された駆動側プー
リ88、並びに、駆動側プーリ88と従動側プーリ82との間
に掛け渡されたタイミングベルト90から構成されてい
る。
【００１５】上記構成の自走式ステージ26は、固定台板
12、両昇降台板16、18及び帰還搬送路24の各左右一対の
ガイドレール30、32、34、48のガイド平面部38、42、4
6、52上に左右一対の従動車輪76及び左右一対の駆動車
輪78をそれぞれ転動可能に載せるとともに、各左右一対
のガイドレール30、32、34、48のラック部36、40、44、
50に左右一対の駆動車輪ギヤ80を噛合させることによ
り、各ガイドレール30、32、34、48に沿って直線移動自
在に支承されている。そして、減速機付きサーボモータ
84を駆動させることにより、その回転軸86から駆動側プ
ーリ88、タイミングベルト90、従動側プーリ82及び回転
シャフト72を介してそれぞれ一対の駆動車輪78及び駆動
車輪ギヤ80へ動力を伝達し、それら駆動車輪78及び駆動
車輪ギヤ80を回転させて、自走式ステージ26が直線移動
するようになっている。
12、両昇降台板16、18及び帰還搬送路24の各左右一対の
ガイドレール30、32、34、48のガイド平面部38、42、4
6、52上に左右一対の従動車輪76及び左右一対の駆動車
輪78をそれぞれ転動可能に載せるとともに、各左右一対
のガイドレール30、32、34、48のラック部36、40、44、
50に左右一対の駆動車輪ギヤ80を噛合させることによ
り、各ガイドレール30、32、34、48に沿って直線移動自
在に支承されている。そして、減速機付きサーボモータ
84を駆動させることにより、その回転軸86から駆動側プ
ーリ88、タイミングベルト90、従動側プーリ82及び回転
シャフト72を介してそれぞれ一対の駆動車輪78及び駆動
車輪ギヤ80へ動力を伝達し、それら駆動車輪78及び駆動
車輪ギヤ80を回転させて、自走式ステージ26が直線移動
するようになっている。
【００１６】また、帰還搬送路24の上方には、その帰還
搬送路を通って移動する自走式ステージ26の上面に摺接
し、その自走式ステージ26の上面に付着した余分な塗液
などを除去するステージ清掃部材92が配設されている。
搬送路を通って移動する自走式ステージ26の上面に摺接
し、その自走式ステージ26の上面に付着した余分な塗液
などを除去するステージ清掃部材92が配設されている。
【００１７】図４は、自走式ステージ26の駆動装置の制
御回路の概略構成を示すブロック図である。この制御回
路は、減速機付きサーボモータ84を駆動制御するドライ
バ94、サーボモータ84の駆動状態をモニタするためのエ
ンコーダ96、ＣＰＵ98及びコントロールユニット100、
アプリケータロール54の回転数などのコーティング条件
を入力設定するためのデータ入力装置102、並びに、自
走式ステージ26の位置及び昇降台板16、18の位置を検出
してそれぞれの位置信号をＣＰＵ98へ送信するステージ
位置検出器104及び昇降台板位置検出器106などから構成
されている。
御回路の概略構成を示すブロック図である。この制御回
路は、減速機付きサーボモータ84を駆動制御するドライ
バ94、サーボモータ84の駆動状態をモニタするためのエ
ンコーダ96、ＣＰＵ98及びコントロールユニット100、
アプリケータロール54の回転数などのコーティング条件
を入力設定するためのデータ入力装置102、並びに、自
走式ステージ26の位置及び昇降台板16、18の位置を検出
してそれぞれの位置信号をＣＰＵ98へ送信するステージ
位置検出器104及び昇降台板位置検出器106などから構成
されている。
【００１８】次に、このロールコータにおける動作につ
いて説明する。始端側昇降台板16及び終端側昇降台板18
をそれぞれ上昇させ、一方の自走式ステージ26を始端側
昇降台板16上に位置させた状態において、図示しない基
板搬入機構によりこのロールコータへ基板が搬入され、
その基板が自走式ステージ26の上面に保持されると、自
走式ステージ26の減速機付きサーボモータ84が駆動し
て、自走式ステージ26が始端側昇降台板16上から固定台
板12上へ、さらに固定台板12上から終端側昇降台板18上
へと搬送される。そして、自走式ステージ26が固定台板
12上方のコーティング部14を通過する間に、自走式ステ
ージ26の上面に保持された基板の表面に塗液が塗布され
る。この場合、自走式ステージ26が走行して始端側昇降
台板16上から固定台板12上へ移動すると、始端側昇降台
板16は、エレベータ駆動装置20によって下降させられ、
帰還搬送路24と同一水平面をなす下方位置まで移動して
停止する。
いて説明する。始端側昇降台板16及び終端側昇降台板18
をそれぞれ上昇させ、一方の自走式ステージ26を始端側
昇降台板16上に位置させた状態において、図示しない基
板搬入機構によりこのロールコータへ基板が搬入され、
その基板が自走式ステージ26の上面に保持されると、自
走式ステージ26の減速機付きサーボモータ84が駆動し
て、自走式ステージ26が始端側昇降台板16上から固定台
板12上へ、さらに固定台板12上から終端側昇降台板18上
へと搬送される。そして、自走式ステージ26が固定台板
12上方のコーティング部14を通過する間に、自走式ステ
ージ26の上面に保持された基板の表面に塗液が塗布され
る。この場合、自走式ステージ26が走行して始端側昇降
台板16上から固定台板12上へ移動すると、始端側昇降台
板16は、エレベータ駆動装置20によって下降させられ、
帰還搬送路24と同一水平面をなす下方位置まで移動して
停止する。
【００１９】上記したように一方の自走式ステージ26が
搬送されながら基板の表面に塗液が塗布される間に、上
面に基板を保持していない、もう一方の自走式ステージ
26は、帰還搬送路24を通って始端側昇降台板16の方へ搬
送させられる。そして、その自走式ステージ26が始端側
昇降台板16上まで移動して停止すると、自走式ステージ
26を載置した状態で始端側昇降台板16は、エレベータ駆
動装置20によって上昇させられ、固定台板12と同一水平
面をなす上方位置まで移動して停止し、次に塗液を塗布
すべき基板の搬入に備える。
搬送されながら基板の表面に塗液が塗布される間に、上
面に基板を保持していない、もう一方の自走式ステージ
26は、帰還搬送路24を通って始端側昇降台板16の方へ搬
送させられる。そして、その自走式ステージ26が始端側
昇降台板16上まで移動して停止すると、自走式ステージ
26を載置した状態で始端側昇降台板16は、エレベータ駆
動装置20によって上昇させられ、固定台板12と同一水平
面をなす上方位置まで移動して停止し、次に塗液を塗布
すべき基板の搬入に備える。
【００２０】一方、表面に塗液が塗布された基板を保持
した一方の自走式ステージ26が終端側昇降台板18上まで
移動して停止すると、図示しない基板搬出機構により自
走式ステージ26の上面から基板が排出される。ロールコ
ータから基板が搬出されると、空になった自走式ステー
ジ26を載置した終端側昇降台板18は、エレベータ駆動装
置22によって下降させられ、帰還搬送路24と同一水平面
をなす下方位置まで移動して停止する。そして、その自
走式ステージ26は、終端側昇降台板18上から、上記した
ように帰還搬送路24を通って始端側昇降台板16の方へ搬
送させられることになる。以上のような動作を繰り返す
ことにより、多数の基板の表面に順次塗液が塗布され、
それぞれの基板の表面に所定の膜厚の塗膜が形成されて
いく。
した一方の自走式ステージ26が終端側昇降台板18上まで
移動して停止すると、図示しない基板搬出機構により自
走式ステージ26の上面から基板が排出される。ロールコ
ータから基板が搬出されると、空になった自走式ステー
ジ26を載置した終端側昇降台板18は、エレベータ駆動装
置22によって下降させられ、帰還搬送路24と同一水平面
をなす下方位置まで移動して停止する。そして、その自
走式ステージ26は、終端側昇降台板18上から、上記した
ように帰還搬送路24を通って始端側昇降台板16の方へ搬
送させられることになる。以上のような動作を繰り返す
ことにより、多数の基板の表面に順次塗液が塗布され、
それぞれの基板の表面に所定の膜厚の塗膜が形成されて
いく。
【００２１】図５に平面図を、図６に図５のVI−VI縦断
面図を示したロールコータは、基板の水平搬送路と帰還
搬送路とを同一水平面内に配設するとともに、基板搬送
ステージ自身は駆動装置を具備しないように構成された
例である。このロールコータに使用されている２台の基
板搬送ステージ110は、下面側に複数個の球形ボールが
転動可能に保持され、水平面内において何れの方向にも
移動可能な構成を備えている。そして、基板の搬入位置
であるＡ位置からコーティング部14を通って、基板の搬
出位置であるＢ位置まで、基板を保持した基板搬送ステ
ージ110を搬送するための搬送手段、並びに、Ｃ位置か
らＤ位置へ基板搬送ステージ110を帰還搬送するための
搬送手段として、それぞれハイドロコンバータロッドレ
スシリンダ112が設けられている。また、Ｂ位置からＣ
位置へ基板搬送ステージ110を搬送するための搬送手
段、並びに、Ｄ位置からＡ位置へ基板搬送ステージ110
を搬送するための搬送手段として、それぞれ直行駆動シ
リンダ114が設けられている。図中の符号116は、基板搬
送ステージ110をハイドロコンバータロッドレスシリン
ダ112の走行部に一体的に保持するためのチャッキング
ソレノイドであり、また、118は、ガイド溝である。
面図を示したロールコータは、基板の水平搬送路と帰還
搬送路とを同一水平面内に配設するとともに、基板搬送
ステージ自身は駆動装置を具備しないように構成された
例である。このロールコータに使用されている２台の基
板搬送ステージ110は、下面側に複数個の球形ボールが
転動可能に保持され、水平面内において何れの方向にも
移動可能な構成を備えている。そして、基板の搬入位置
であるＡ位置からコーティング部14を通って、基板の搬
出位置であるＢ位置まで、基板を保持した基板搬送ステ
ージ110を搬送するための搬送手段、並びに、Ｃ位置か
らＤ位置へ基板搬送ステージ110を帰還搬送するための
搬送手段として、それぞれハイドロコンバータロッドレ
スシリンダ112が設けられている。また、Ｂ位置からＣ
位置へ基板搬送ステージ110を搬送するための搬送手
段、並びに、Ｄ位置からＡ位置へ基板搬送ステージ110
を搬送するための搬送手段として、それぞれ直行駆動シ
リンダ114が設けられている。図中の符号116は、基板搬
送ステージ110をハイドロコンバータロッドレスシリン
ダ112の走行部に一体的に保持するためのチャッキング
ソレノイドであり、また、118は、ガイド溝である。
【００２２】この発明のロールコータは以上のように構
成されているが、この発明の範囲は上記説明並びに図面
の内容によって限定されず要旨を逸脱しない範囲で種々
の変形例を包含し得る。例えば、基板搬送ステージの駆
動方式としては、上記実施例で示した方式の他、図７に
示すように、基板搬送ステージ120の両側面に、レール1
24を挾持するように上下一対ずつのローラ122をそれぞ
れ回転自在に取着し、ローラ122を回転駆動させること
により基板搬送ステージ120を走行させるトラクション
方式や、キャタピラー走行方式など、各種方式のものを
使用し得る。また、基板搬送ステージの数は２台に限定
されず、３台或いはそれ以上の台数の基板搬送ステージ
を配置するようにしてもよい。また、本発明が適用され
るロールコータの塗布機構としては、上記実施例に限ら
ず、例えば切欠きロールやグラビアロールを有するもの
であってもよい。
成されているが、この発明の範囲は上記説明並びに図面
の内容によって限定されず要旨を逸脱しない範囲で種々
の変形例を包含し得る。例えば、基板搬送ステージの駆
動方式としては、上記実施例で示した方式の他、図７に
示すように、基板搬送ステージ120の両側面に、レール1
24を挾持するように上下一対ずつのローラ122をそれぞ
れ回転自在に取着し、ローラ122を回転駆動させること
により基板搬送ステージ120を走行させるトラクション
方式や、キャタピラー走行方式など、各種方式のものを
使用し得る。また、基板搬送ステージの数は２台に限定
されず、３台或いはそれ以上の台数の基板搬送ステージ
を配置するようにしてもよい。また、本発明が適用され
るロールコータの塗布機構としては、上記実施例に限ら
ず、例えば切欠きロールやグラビアロールを有するもの
であってもよい。
【００２３】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、この発明に係るロールコータを使用
すれば、１台の基板搬送ステージを繰返し往復移動させ
ながら順次基板表面に塗液を塗布していた従来のロール
コータに比べ、工程全体としての作業効率を向上させる
とともに、塗液の消費量を低減させることができ、ま
た、ステージの清掃などのために基板表面への塗液の塗
布作業を中断したりする必要も無くなる。
かつ作用するので、この発明に係るロールコータを使用
すれば、１台の基板搬送ステージを繰返し往復移動させ
ながら順次基板表面に塗液を塗布していた従来のロール
コータに比べ、工程全体としての作業効率を向上させる
とともに、塗液の消費量を低減させることができ、ま
た、ステージの清掃などのために基板表面への塗液の塗
布作業を中断したりする必要も無くなる。
【図１】この発明の１実施例を示すロールコータの要部
斜視図である。
斜視図である。
【図２】図１に示したロールコータに使用される自走式
ステージの構成の１例を示す横断面図であって、図３の
II−II矢視方向に見た図である。
ステージの構成の１例を示す横断面図であって、図３の
II−II矢視方向に見た図である。
【図３】図２のIII−III矢視縦断面図である。
【図４】図２及び図３に示した自走式ステージの駆動装
置の制御回路の概略構成を示すブロック図である。
置の制御回路の概略構成を示すブロック図である。
【図５】この発明の別の構成例を示すロールコータの概
略平面図である。
略平面図である。
【図６】図５のIV−IV縦断面図である。
【図７】自走式ステージの別の構成例を示す部分斜視図
である。
である。
【図８】この発明の構成及び作用を説明するための模式
図である。
図である。
【符号の説明】 １ 基板 ２、３ 基板搬送ステージ ４、54 アプリケータロール ５、56 塗液供給用ロール 12 固定台板 14 コーティング部 16 始端側昇降台板 18 終端側昇降台板 20、22 エレベータ駆動装置 24 帰還搬送路 26、120 自走式ステージ 30、32、34、48 ガイドレール 110 基板搬送ステージ 112 ハイドロコンバータロッドレスシリンダ 114 直行駆動シリンダ
Claims (1)
- 【請求項１】 水平方向へ直線移動自在に配設され、上
面に基板を保持して搬送する基板搬送ステージと、この
基板搬送ステージを水平方向へ直線移動させるステージ
駆動手段と、基板の水平搬送路の上方に配設され、前記
基板搬送ステージの上面に保持されて搬送される基板の
表面に外周円筒面を接触させ又は押し付けながら回転す
ることにより基板表面に塗液を塗布するアプリケータロ
ールと、このアプリケータロールの外周円筒面に塗液を
供給する塗液供給手段と、表面に塗液が塗布された基板
を前記基板搬送ステージの上面から排出する基板搬出手
段とを備えてなるロールコータにおいて、前記基板搬出
手段によって基板が排出された後の前記基板搬送ステー
ジを前記基板の水平搬送路の終端位置からその始端位置
へ搬送するための帰還搬送路を配設し、その帰還搬送路
を通して前記基板搬送ステージを移動させる帰還用ステ
ージ駆動手段を設け、前記基板の水平搬送路及び前記帰
還搬送路上に前記基板搬送ステージを複数台配置したこ
とを特徴とするロールコータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22465792A JPH0647324A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | ロールコータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22465792A JPH0647324A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | ロールコータ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0647324A true JPH0647324A (ja) | 1994-02-22 |
Family
ID=16817164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22465792A Pending JPH0647324A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | ロールコータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0647324A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2777069A2 (en) * | 2011-11-08 | 2014-09-17 | Intevac, Inc. | Substrate processing system and method |
| US9303314B2 (en) | 2009-06-23 | 2016-04-05 | Intevac, Inc. | Ion implant system having grid assembly |
| US9318332B2 (en) | 2012-12-19 | 2016-04-19 | Intevac, Inc. | Grid for plasma ion implant |
-
1992
- 1992-07-31 JP JP22465792A patent/JPH0647324A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9303314B2 (en) | 2009-06-23 | 2016-04-05 | Intevac, Inc. | Ion implant system having grid assembly |
| US9741894B2 (en) | 2009-06-23 | 2017-08-22 | Intevac, Inc. | Ion implant system having grid assembly |
| EP2777069A2 (en) * | 2011-11-08 | 2014-09-17 | Intevac, Inc. | Substrate processing system and method |
| EP2777069A4 (en) * | 2011-11-08 | 2015-01-14 | Intevac Inc | SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND METHOD |
| CN104428883A (zh) * | 2011-11-08 | 2015-03-18 | 因特瓦克公司 | 基板处理系统和方法 |
| US9324598B2 (en) | 2011-11-08 | 2016-04-26 | Intevac, Inc. | Substrate processing system and method |
| JP2017085136A (ja) * | 2011-11-08 | 2017-05-18 | インテヴァック インコーポレイテッド | 基板処理システムおよび基板処理方法 |
| US9875922B2 (en) | 2011-11-08 | 2018-01-23 | Intevac, Inc. | Substrate processing system and method |
| US9318332B2 (en) | 2012-12-19 | 2016-04-19 | Intevac, Inc. | Grid for plasma ion implant |
| US9583661B2 (en) | 2012-12-19 | 2017-02-28 | Intevac, Inc. | Grid for plasma ion implant |
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