JP4037777B2 - 基板搬送装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、角型の基板を搬送するための基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造プロセスにおいて、角型のマスク基板にレジスト液を塗布し、フォトマスクを用いてそのレジスト膜を露光し、更に現像することによって所望のパタ−ンマスクを作製することが行われている。上記のような処理を行う場合、例えば基板にレジスト液の塗布処理を行う塗布膜ユニットと、基板に現像液を供給して現像処理を行う現像ユニットと、塗布処理や現像処理の前後の処理を行う複数の処理ユニットとを、１つの装置内に設け、当該装置内において基板を搬送アームによりこれらのユニットに対して搬送して所定の処理が行われている。
【０００３】
ところで前記マスク基板は角型であるが、処理ユニットとの間の基板の受け渡しの点から、図１５（ａ）の平面図、図１５（ｂ）の側部断面図に示すように、搬送アーム１の内縁１１は円弧状に形成されている。そして前記アーム１の内縁１１の４箇所に基板１０の角部を挟みこむように保持する保持部１２を設け、この保持部１２に基板１０の４個の角部を保持させた状態で基板１０を搬送していた。この際搬送アーム１の内縁１１の円弧の中心位置と基板１０の中心位置とが揃うように基板１０を位置決めして搬送アーム１に載置することが好ましいが、基板１０には例えば±０．５ｍｍの誤差があるので、保持部１２には基板精度の最大公差以上のクリアランスがとってある。このため保持部１２にて基板１０の角部を保持しても、搬送中に基板１０が縦方向や横方向にずれやすく、基板１０を確実に位置決めした状態で搬送することは困難であった。
【０００４】
このため本発明者らは、基板を位置決めした状態で保持する搬送アームについて検討している。このような構成としては、基板を搬送アーム上にて機械的に押圧して位置決めをする手法が知られており、例えば角型基板を載置手段に載置し、角型基板の第１の角部の２側面を対角線方向に押圧すると共に、角型基板の第１の角部と対向する第２の角部の２側面を対角線方向に押圧する機構を搬送アーム上に設ける構成（例えば、特許文献１参照）が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開平５−１００１９８号公報（図１参照）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで上述の構成では、基板の対向する２つの角部を押圧する機構を搬送アームに設けなくてはならず、構造的に複雑になる上、重量的にも問題である。マスク基板は基板自体が０．３ｋｇ程度と重いので、アームの軽量化を図りたいという背景もある。
【０００７】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、角型の基板を搬送するにあたり、前記基板を精度良く位置決めした状態で保持させ、正確な搬送を行う技術を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板搬送装置は、４個の角部の側面と底面との間に保持用の傾斜面を有する角型のマスク基板を載置する保持アームを備えた基板搬送装置において、
前記保持アームは、前記マスク基板の４個の角部が夫々載置される４個の載置部を備え、
前記載置部の一つは、マスク基板の角部の前記傾斜面を保持する傾斜載置面と、当該角部を挟む２辺の端面と接触して、当該角部を規制する略垂直な接触面とを有する規制載置部であり、
他の３個の載置部は、マスク基板の裏面の角部を挟む２辺の端縁を下方側に案内し、且つ当該端縁を保持するように保持アームの内側に向けて下方側に傾斜する第１の傾斜面を備えた傾斜載置部であり、
マスク基板の角部を傾斜載置部に載置して傾斜面に沿って案内することにより、マスク基板の角部を前記規制載置部に当接させ、これによりマスク基板を位置合わせした状態で保持アームに載置することを特徴とする。
【００１０】
このような基板搬送装置では、マスク基板の角部を傾斜載置部に載置して、前記角部を挟む２辺の端縁を傾斜面に沿って案内することにより、マスク基板の左右方向の位置を修正した状態で、マスク基板の第１の角部を前記規制載置部に当接させることができ、これによりマスク基板が精度良く位置合わせした状態で保持アームに載置される。また前記マスク基板の２箇所の角部にて、角部を挟む２辺の端縁の位置が規制された状態で保持されるので、搬送中のマスク基板Ｇの左右方向のずれが抑えられ、マスク基板が正確に位置決めされた状態で確実に搬送を行うことができる。
【００１１】
ここで前記傾斜載置部は、前記第１の傾斜面の上方側に、この第１の傾斜面よりも緩やかに傾斜する第２の傾斜面を備え、この第２の傾斜面に置かれたマスク基板の角部が当該第２の傾斜面に沿って第１の傾斜面に案内されるようにしてもよい。また前記基板搬送装置の保持アームを進退自在、昇降自在、略鉛直軸まわりに回転自在に移動させる駆動機構と、保持アームの進退方向の前方側に設けられた前記規制載置部と、マスク基板が保持アームに載置されたときに、保持アームを進退方向の後方側に、マスク基板が慣性力で規制載置部側に移動するように第１の速度で僅かに移動させ、次いで保持アームを進退方向の後方側に第１の速度よりも小さい第２の速度で移動させるように前記駆動機構の駆動を制御する制御部と、を備えるようにしてもよい。
【００１２】
さらに前記規制載置部以外の載置部に設けられ、マスク基板の裏面側を押圧して持ち上げる押圧機構と、マスク基板が保持アームに載置されたときに、押圧機構によりマスク基板の裏面側を持ち上げるように前記押圧機構の駆動を制御する制御部と、を備えるようにしてもよいし、前記規制載置部以外の載置部に、マスク基板の裏面側と接触するようにボール機構を設けるようにしてもよい。またマスク基板が前記保持アームに、当該保持アームの進退方向の軸に対してマスク基板の互いに対向する一対の辺が斜めに位置した状態で載置されるように、前記載置部を保持アームに設けるようにしてもよい。さらに前記保持アームとしては、当該アームの内縁が円弧状に設けられているものを用いることができる。前記角型のマスク基板の前記規制載置部及び傾斜載置部にて保持される領域は、マスク基板の側面と底面との間に形成される傾斜面である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の基板搬送手段を備えた塗布膜形成装置の一実施の形態について説明する。ここで、図１は塗布膜形成装置の一実施の形態に係る全体構成を示す平面図であって、図２はその概略斜視図である。図中Ｂ１は例えば５枚の基板例えばマスク基板Ｇが収納されたキャリアＣを搬入出するためのキャリアブロックであり、このキャリアブロックＢ１は、前記キャリアＣを載置するキャリア載置部２１と受け渡し手段２２とを備えている。
【００１４】
前記受け渡し手段２１はキャリアＣから基板Ｇを取り出し、取り出した基板ＧをキャリアブロックＢ１の奥側に設けられている処理部Ｂ２へと受け渡すように、左右、前後に移動自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在に構成されている。
【００１５】
処理部Ｂ２の中央には基板搬送装置をなす基板搬送手段３が設けられており、これを取り囲むように例えばキャリアブロックＢ１から奥を見て例えば右側には塗布ユニット２３及び現像ユニット２４、左側には洗浄ユニット２５、手前側、奥側には加熱・冷却系のユニット等を多段に積み重ねた棚ユニットＵ１，Ｕ２が夫々配置されている。塗布ユニット２３は、基板にレジスト液を塗布する処理を行うユニット、現像ユニット２４は、露光後の基板に現像液を液盛りして所定時間そのままの状態にして現像処理を行うユニット、洗浄ユニット２５はレジスト液を塗布する前に基板を洗浄するためのユニットである。
【００１６】
前記棚ユニットＵ１，Ｕ２は、複数のユニットが積み上げられて構成され、例えば図２に示すように、加熱ユニット２６、冷却ユニット２７のほか、基板Ｇの受け渡しユニット２８等が上下に割り当てられている。前記基板搬送手段３は、昇降自在、進退自在及び鉛直軸まわりに回転自在に構成され、棚ユニットＵ１，Ｕ２及び塗布ユニット２３、現像ユニット２４並びに洗浄ユニット２５の間で基板Ｇを搬送する役割を持っている。但し図２では便宜上受け渡し手段２２及び基板搬送手段３は描いていない。
【００１７】
前記処理部Ｂ２はインタ−フェイス部Ｂ３を介して露光装置Ｂ４と接続されている。インタ−フェイス部Ｂ３は受け渡し手段２９を備えており、この受け渡し手段２９は、例えば昇降自在、左右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自在に構成され、前記処理ブロックＢ２と露光装置Ｂ４との間で基板Ｇの受け渡しを行うようになっている。
【００１８】
このような塗布膜形成装置における基板Ｇの流れについて述べておくと、先ず外部からキャリアＣがキャリア載置部２１に搬入され、受け渡し手段２２によりこのキャリアＣ内から基板Ｇが取り出される。基板Ｇは、受け渡し手段２２から棚ユニットＵ１の受け渡しユニット２８を介して基板搬送手段３に受け渡され、所定のユニットに順次搬送される。例えば洗浄ユニット２５にて所定の洗浄処理が行われ、加熱ユニット２６の一つにて加熱乾燥が行われた後、冷却ユニット２７にて所定の温度に調整され、塗布ユニット２３にて塗布膜の成分が溶剤に溶解されたレジスト液の塗布処理が行われる。
【００１９】
続いて基板Ｇは加熱ユニット２６の一つにてプリベーク処理が行われた後、冷却ユニット２７の一つにて所定の温度に調整される。次いで基板搬送手段３により棚ユニットＵ２の受け渡しユニット２８を介してインターフェイス部Ｂ３の受け渡し手段２９に受け渡され、この受け渡し手段２９により露光装置Ｂ４に搬送されて、所定の露光処理が行われる。この後基板Ｇは、インターフェイス部Ｂ３を介して処理部Ｂ２に搬送され、加熱ユニット２６の一つにてポストエクスポージャーベーク処理が行われる。次いで冷却ユニット２７にて所定の温度まで冷却されて温度調整された後、現像ユニット２４にて現像液が液盛りされ、所定の現像処理が行われる。こうして所定の回路パターンが形成された基板Ｇは基板搬送手段３、キャリアブロックＢ１の受け渡し手段２２を介して、例えば元のキャリアＣ内に戻される。
【００２０】
ここで前記マスク基板Ｇについて簡単に説明する。このマスク基板Ｇは例えばパターンマスクを形成するための基板であり、例えば一辺の長さが１５２±０.５ｍｍの正方形であって、厚さが６．３５ｍｍの、一辺の長さが６インチサイズの角型のガラス基板が用いられる。マスク基板Ｇには平面的に見て角部が円弧状にカットされているＲ面タイプと、角部が直線的にカットされているタイプの基板Ｇがあるが、この実施の形態ではＲ面タイプの基板Ｇを例にして説明する。このＲ面タイプのマスク基板Ｇの角部Ｓは、例えば図３（ａ）に示すように、平面的に見て半径２ｍｍの円の円弧の一部にカットされている。
【００２１】
このようなマスク基板Ｇは基板搬送手段３により基板ＧのＣ面１００が保持される。このＣ面１００とは、図３（ｂ）に示すように、マスク基板Ｇの角部の側面と底面との間に形成される傾斜面をいう。マスク基板Ｇでは、基板Ｇのどこかにパーティクルが付着すると、そのパーティクルの存在により、当該マスク基板Ｇをパターンマスクとして用いて露光するウエハが全て使用できなくなってしまうため、パーティクルの付着を抑えるために基板搬送手段３による保持領域がかなり小さく制限されている。
【００２２】
続いて前記基板搬送手段３について図を参照して詳細に説明する。先ず基板搬送手段３の全体構成について図４に基づいて説明すると、前記基板搬送手段３は、基板Ｇを保持する保持アーム３１と、この保持アーム３１を進退自在に支持する基台３２と、この基台３２を昇降自在に支持する一対の案内レール３３，３４と、これら案内レール３３，３４の上端及び下端を夫々連結する連結部材３５，３６と、案内レール３３，３４及び連結部材３５，３６よりなる枠体を鉛直軸周りに回転自在に駆動するために案内レール下端の連結部材３６に一体的に取り付けられた回転駆動部３７と、案内レ−ル上端の連結部材３５に設けられた回転軸部３８と、を備えている。
【００２３】
前記保持アーム３１は、夫々基板Ｇを保持し得るように３段構成になっており、アーム３１の基端部は基台３２の長手方向に設けられた案内溝３２ａに沿ってスライド移動できるようになっている。そのスライド移動によるアーム３１の進退移動や基台３２の昇降移動は、夫々別個の図示しない駆動部により駆動される。従ってそれら図示しない２つの駆動部、案内溝３２ａ、前記案内レール３３，３４及び前記回転駆動部３７は、アーム３１を略鉛直軸まわりに回転自在、かつ昇降自在、かつ進退自在に駆動する駆動機構を構成しており、この駆動機構は図示しない制御部により搬送プログラムに基づいて駆動制御される。
【００２４】
続いて前記保持アーム３１について説明すると、このアーム３１の内縁３０は例えば図５に示すように半径１２７ｍｍの円の円弧の一部により構成され、このアーム３１の内縁３０の４箇所の位置には、基板Ｇの角部Ｓ１〜Ｓ４を保持するための第１の載置部４１、第２の載置部４２、第３の載置部４３、第４の載置部４４が夫々設けられている。この例では、保持アーム３１の内縁の円弧の中心位置と基板Ｇの中心位置とが揃い、かつ図５に矢印で示すアーム３１の進退方向の軸と基板Ｇの互いに対向する一対の辺の長さ方向とが略平行な状態で基板Ｇがアーム３１上に載置されるような位置に前記４個の載置部４（４１〜４４）が設けられている。
【００２５】
これら４個の載置部４Ａ〜４Ｄのうちの１個、例えばアーム３１の進退方向の前方側に設けられた第１の載置部４１は、例えば図６に示すように規制載置部５として構成されている。この規制載置部５は、基板Ｇの第１の角部Ｓ１の裏面側例えば裏面側のＣ面Ｃ１（以下、Ｃ面とは角部の裏面側のＣ面をいうものとする）を載置するために前記Ｃ面Ｃ１の傾斜に合わせて略水平方向から保持アーム３１の内側に向けて傾斜する載置面５１と、基板Ｇの角部Ｓ１を挟む２辺の端面の一部と接触する略垂直な接触面５２と、を備えており、前記基板Ｇの角部Ｓ１を挟む２辺の端面が前記接触面５２に当接するように基板Ｇの角部Ｓ１のＣ面Ｃ１を載置面５１に載置させることにより、基板Ｇを位置決めする役割を果たすものである。つまり第１の角部Ｓ１では、当該角部Ｓ１のＣ面Ｃ１と、前記角部Ｓ１を挟む２辺の端面とが規制載置部５に接触した状態で載置されるので、上下方向と左右方向のずれが規制される。
【００２６】
また前記４個の載置部４のうちの残りの３個、例えば第１〜第３の載置部４２〜４４は、例えば図７，図８に示すように傾斜載置部６として構成されている。この傾斜載置部６は、基板Ｇの裏面の角部Ｓ３（Ｓ２，Ｓ４）を挟む２辺の端縁（この例ではＣ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）を挟む２辺の端縁）を下方側に案内するように、かつ水平面に対して保持アーム３１の内側に向けて下方側に傾斜する第１の傾斜面６１を備えると共に、この第１の傾斜面６１の上方側には第１の傾斜面６１よりも水平面に対しての傾斜が緩やかな第２の傾斜面６２を備えている（図８（ａ）参照）。
【００２７】
ここでマスク基板Ｇを保持するときには、第１の角部Ｓ１が規制載置部５にて基板Ｇを位置決めするように保持されたときに、角部Ｓ３（Ｓ２，Ｓ４）のＣ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）の裏面側の凸縁が第１の傾斜面６１の角部の凹縁に重なる状態で、図８に示すように角部Ｓ３（Ｓ２，Ｓ４）のＣ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）が第１の傾斜面６１に当接する状態で保持される。
【００２８】
このため第１の傾斜面６１の傾斜角度θ１（水平面とのなす角）は、マスク基板ＧのＣ面１００の水平面とのなす角θ（図３参照）と略同じになるように設定されている。例えば前記保持アーム３１は、Ｃ面１００のなす角θが４５度のマスク基板Ｇを保持するときには、第１の傾斜面６１は、例えば幅Ｗ１が３ｍｍ、傾斜角度θ１が約６７度、高さＨ１が７ｍｍ程度に設定され、第２の傾斜面６２は、例えば幅Ｗ２が１．７ｍｍ、傾斜角度θ２が約６０度、高さＨ２が３ｍｍ程度に夫々設定される。
【００２９】
またこの実施の形態では、図８（ｂ）に示すように、第２の傾斜面６２の水平面に対しての傾斜を第１の傾斜面６１よりも大きくなるように設定してもよく、この場合、第１の傾斜面６１は、幅Ｗ１が３ｍｍ、傾斜角度θ１が約６０度、高さＨ１が５ｍｍ程度に設定され、第２の傾斜面６２は、幅Ｗ２が２ｍｍ、傾斜角度θ２が約７０度、高さＨ２が５．５ｍｍ程度に夫々設定される。
【００３０】
このような基板搬送手段３に基板Ｇを載置するときには、所定の処理ユニットの例えば昇降ピン等の受け渡し手段から基板Ｇを受け取る場合を例にして説明すると、複数の例えば４本の昇降ピンにて保持されている基板Ｇの下方側の所定位置に基板搬送手段３を位置させ、昇降ピンを下降させることにより、昇降ピンから基板搬送手段３に基板Ｇの角部Ｓ１〜Ｓ４が４つの載置部４１〜４４に夫々位置するように受け渡す。
【００３１】
ここで通常では、基板Ｇの第１の角部Ｓ１以外の角部Ｓ２〜Ｓ４は、傾斜載置部６の第１の傾斜面６１に基板裏面側の角部Ｓ２〜Ｓ４のＣ面Ｃ２〜Ｃ４が位置するように受け渡される。このように受け渡されると、基板Ｇは０．３ｋｇと重いので、基板Ｇの裏面側の角部Ｓ２を挟む２辺の端縁、この例では前記Ｃ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）を挟む２辺の端縁が第１の傾斜面６１に沿って自重により下方側に案内される（図９（ａ））。
【００３２】
この際保持アーム３１に基板Ｇが受け渡されたときには、角部Ｓ３（Ｓ２，Ｓ４）のＣ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）の裏面側の凸縁が第１の傾斜面６１の角部の凹縁に重なる状態ではないが、基板Ｇの３方の角部Ｓ２〜Ｓ４が第１の傾斜面６１に沿って保持アーム３１の内側に向けて案内されていくので、左右方向のずれが修正されながら移動することとなる。このように基板Ｇが移動することにより、図９（ｂ）に示すように、基板Ｇの第１の角部Ｓ１を挟む２辺の端面は規制載置部５の接触面５２に当接し、この当接した位置で他の角部Ｓ２〜Ｓ４の移動が停止する。
【００３３】
こうして第１の角部Ｓ１が規制載置部５により位置が規制されると、他の角部Ｓ２〜Ｓ４では、角部Ｓ３（Ｓ２，Ｓ４）のＣ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）の裏面側の凸縁が第１の傾斜面６１の角部の凹縁に重なる状態で移動が停止することになり、その状態で固定される。つまり他の角部Ｓ３（Ｓ２，Ｓ４）では、当該角部のＣ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）と、このＣ面Ｃ３（Ｃ２，Ｃ４）を挟む２辺の端縁とが傾斜載置部６に接触した状態で載置されるので、上下方向と左右方向のずれが規制される。このようにして基板Ｇは基板搬送手段３にて水平面に対して僅かに傾斜した状態で位置決めされて保持され、次工程に搬送される。ここで前記基板Ｇの傾斜角度θ３は水平面に対して１．４度程度であり、基板Ｇの搬送や他の処理ユニットとの間の受け渡しには問題のない範囲である。
【００３４】
このような基板搬送手段３では、４個の載置部４１〜４４の内、３個の載置部４２〜４４は第１の傾斜面６１を備えた傾斜載置部６とし、基板Ｇの角部（この例ではＣ面）をガイドした状態で自重により移動させ、残りの１個の載置部４１（規制載置部５）にて基板Ｇの第１の角部Ｓ１を位置決めした状態で規制するように保持しているので、内縁が円弧の一部により形成された保持アーム３１に角型の基板Ｇを正確に位置決めした状態で保持させることができる。このように基板Ｇが上下方向及び左右方向に規制された状態で保持アーム３に保持されるので、搬送中においても基板Ｇが精度良く位置決めされた状態で保持され、正確な搬送を行うことができる。
【００３５】
この際傾斜載置部６と規制載置部５という簡易な構成により、高い位置決め精度を確保できるので、機械的なガイド機構などの複雑な機構を設ける必要がない。このため基板搬送手段３の小型化や軽量化を図ることができ、スペース的、コスト的に有利である。
【００３６】
また仮に基板搬送手段３への基板Ｇの受け渡し時に、基板Ｇの位置がずれて、前記他の角部Ｓ２〜Ｓ４が、傾斜載置部６の第１の傾斜面６１に載らずに、第２の傾斜面６２に位置するように受け渡されたときでも、前記角部Ｓ２〜Ｓ４は当該傾斜面６２に沿って自重により下方側に移動し、第１の傾斜面６１に案内されるので、結果として基板Ｇは正確に位置決めされた状態で保持される。
【００３７】
続いて本発明の他の実施の形態について説明する。この例では、図１０に示すように、保持アーム３１の進退方向の前方側の載置部例えば第１の載置部４１が規制載置部５として構成されており、例えば他の３つの載置部４２〜４４は傾斜載置部６として構成されている。
【００３８】
そしてこの例では、基板Ｇを保持アーム３１に載置したときに、保持アームの進退方向の後方側に第１の速度例えば３００ｍｍ／ｓ以上５００ｍｍ／ｓ以下の速度で僅かに例えば２０ｍｍ程度移動させ（図１１（ａ）、（ｂ））、次いで第１の速度よりも遅い第２の速度例えば１００ｍｍ／ｓ以上３００ｍｍ／ｓ未満の速度で所定距離例えば４５０ｍｍ程度移動させるように（図１１（ｃ））、図示しない制御部により保持アーム３１の進退方向の駆動を制御する。
【００３９】
このように、基板Ｇを保持アーム３１に載置した後、当該保持アーム３１を第１の速度のような大きな速度で保持アームの進退方向の後方側に移動させると（図１１（ａ））、基板Ｇが慣性力により保持アーム３１の進退方向の前方側に向かい、この力と基板Ｇの自重による移動との組み合わせにより、基板Ｇの第１の角部Ｓ１が規制載置部５の所定位置まで瞬間的に移動し（図１１（ｂ））、より確実に前記角部Ｓ１を規制載置部５に当接させることができる。この際第１の速度が早過ぎたり、移動距離が長過ぎたりすると、前記基板Ｇに作用する慣性力が大きくなり過ぎ、基板Ｇが保持アーム３１から落下しやすくなるので、第１の速度にて所定距離移動させた後、第１の速度よりも遅い第２の速度で所定距離移動させる。ここで第２の速度で第１の速度で移動させるときと同じ方向に移動させるのは、基板Ｇへの他の方向からの力が加わるのを抑えて、基板Ｇのずれを抑えるためである。
【００４０】
続いて本発明のさらに他の実施の形態について説明する。この例では、例えば保持アーム３１の１つの載置部４が規制載置部５として構成されており、他の３つの載置部４は傾斜載置部６として構成されている。そしてこの例では、傾斜載置部６の１つが押圧機構を備え、この押圧機構により傾斜載置部６を上昇させることにより基板の裏面側が持ち上がるようになっている。この押圧機構は、例えば図１２に示すように、電磁石７１，７２と電源部７３とにより構成され、基板Ｇが保持アーム３１に受け渡されたときに、制御部７により電源部７３をＯＮ状態として、電磁石７１，７２同士を反発させ、この反発力により傾斜載置部６を上昇させて基板Ｇを下方側から押圧するようになっている（図１２（ａ），（ｂ））。
【００４１】
このように基板Ｇの一部が持ち上げられると（図１２（ｂ））、瞬間的に基板Ｇが傾斜するので基板Ｇの自重との組み合わせにより、基板Ｇの１の角部が規制載置部５の所定位置まで瞬間的に移動し（図１２（ｃ））、より確実に前記１の角部を規制載置部５に当接させることができる。この際傾斜載置部６の持ち上げ高さは大きすぎると基板Ｇが保持アーム３１から落下しやすくなるので、１ｍｍ以上５ｍｍ以下程度が好ましい。または押圧機構としては、電磁石に変えて圧電素子を縦方向（高さ方向）に体積を変えられるように設けた構成であってもよい。
【００４２】
続いて本発明のさらに他の実施の形態について説明する。この例では、例えば保持アーム３１の１つの載置部４が規制載置部５として構成されており、他の３つの載置部は傾斜載置部６として構成されている。そしてこの例では、傾斜載置部６の１つがボール機構８を備え、このボール機構８により基板Ｇの裏面側が滑りやすくなっている。このボール機構８は、例えば第１の傾斜面６１の基板Ｇが保持アーム３１に受け渡されるときの載置位置と、基板Ｇが保持アーム３１に位置合わせされたときの載置位置との間の位置に、例えばセラミックやＰＥＥＫ樹脂などにより構成されたボール８１が、当該ボール８１の一部が基板Ｇの裏面側（裏面側のＣ面の裏面側）と接触するように設けられている。ここでボール８１は例えば第１傾斜面６１の２つの傾斜面に、夫々ボール８１を取り付ける位置の高さが異なると共に、前記傾斜面の幅方向の位置が異なるように設けられる。
【００４３】
このような構成では、基板Ｇが保持アーム３１に受け渡されると（図１３（ａ）、傾斜載置部６では基板Ｇが第１の傾斜面６１に沿って移動する途中に、基板Ｇがボール機構８と接触し、ボール機構８の回転により基板Ｇが送り出されるように前記斜面６１を滑るので（図１３（ｂ））、基板Ｇの自重との組み合わせにより、基板Ｇの１の角部Ｓ１が規制載置部５の所定位置まで速やかに移動し（図１３（ｃ））、より確実に前記１の角部を規制載置部５に当接させることができる。
【００４４】
この際ボール８１は方向指向性を持たないので、基板Ｇをより速やかに移動させることができて、有効である。また既述のように、ボール８１を第１傾斜面６１の２つの傾斜面に、夫々ボール８１を取り付ける位置の高さが異なると共に、前記傾斜面の幅方向の位置が異なるように設けたので、基板Ｇの引っ掛かりが抑えられて基板Ｇがスムーズに滑り落ちることになる。またボール８１は第１傾斜面６１のいずれか一方の傾斜面に設けるようにしてもよいし、第１傾斜面６１の２つの傾斜面のほぼ同じ位置に設けるようにしてもよい。
【００４５】
以上において図１１〜図１３のような構成は、基板Ｇの角部の裏面側と傾斜載置部６の第１の傾斜面６１との接触面の摩擦力が大きく、基板Ｇが第１の傾斜面６１を滑りにくい場合に有効である。またこれらの構成では、確実に基板Ｇの１の角部を規制載置部５に当接できるので、基板Ｇが位置決めされた状態で基板Ｇに載置されたときに、基板Ｇが水平面に対して傾斜しないように予め規制載置部５と傾斜載置部６の形状を設定することができる。
【００４６】
続いて本発明のさらに他の実施の形態について説明する。この実施の形態は、図１４に示すように、基板Ｇが前記保持アーム３１に、基板Ｇの中心位置と保持アームの中心位置とを揃えた状態で、かつ保持アーム３１の進退方向の軸線に対して基板の互いに対向する一対の辺が斜めに位置した状態で載置されるように、４個の載置部を保持アーム３１に設けたものである。このように載置すると、基板Ｇが第１の傾斜面６１に沿って移動するときに、基板Ｇに作用する加速度のベクトルの対角線成分が大きくなり、確実に前記１の角部を規制載置部５に当接させることができる。
【００４７】
以上において上述の実施の形態では、図１０，図１１の例を除いて、４個の載置部４１〜４４の内、いずれか１つを規制載置部５、残りの３個を傾斜載置部６とすればよい。また４個の載置部４１〜４４の内の、基板Ｇの対角線上に対向する２つ載置部が傾斜載置部６同士または一方が規制載置部５であって、他方が傾斜載置部６であれば、左右方向や上下方向のずれを抑えた状態で基板Ｇを保持することができるので、４個の載置部４１〜４４の内、１つを規制載置部５とし、他の載置部の内の２個の載置部を傾斜載置部６として、残りの１個の載置部は、例えばＣ面の傾斜に沿った傾斜面を有する構成としてもよい。
【００４８】
さらに４個の載置部４１〜４４の内、１つを規制載置部５とし、他の載置部のうちの前記規制載置部５と基板Ｇの対角線上に対向する載置部を傾斜載置部６として、残りの２個の載置部は、例えばＣ面の傾斜に沿った傾斜面を有する構成としてもよい。これらの構成においても、傾斜載置部６の第１の傾斜面６１の角部の凹縁と、基板Ｇの角部の裏面側（この例ではＣ面の裏面側）の凸縁とが重なるように基板Ｇを保持アーム３１に載置することにより、基板Ｇの左右方向のずれが抑えられ、基板Ｇが位置決めされた状態で保持されるからである。
【００４９】
また本発明の傾斜載置部６は第２の傾斜面６２を備えない構成としてもよく、この場合第１の傾斜面６１の傾斜角度θ１は６５度、高さＨ１は８ｍｍ程度に設定される。
【００５０】
さらに上述の実施の形態では、半導体マスク用の角型基板を例にとり説明したが、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用の角型基板等を搬送する基板搬送手段についても本発明は適用可能である。Ｃ面が形成されていない基板に対しては、規制載置部５に対しては、基板Ｇの第１の角部Ｓ１の裏面側の角部近傍領域が載置面５１に載置され、前記角部Ｓ１の端面が接触面５２に当接するように載置される。また傾斜載置部６に対しては、基板Ｇの他の角部の裏面側の凸縁が傾斜載置部６の第１の載置面６１の凹縁と重なるように、前記他の角部を挟む２辺の端縁が第１の傾斜面６１にて下方側に案内されるように載置されるので、同様の効果を得ることができる。
【００５１】
【発明の効果】
本発明によれば、角型の基板を精度良く位置決めした状態で保持アームに載置して、正確な搬送を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の基板搬送手段を備えた塗布膜形成装置の一実施の形態の全体構成を示す平面図である。
【図２】前記塗布膜形成装置の全体構成を示す概略斜視図である。
【図３】前記塗布膜形成装置にて処理されるマスク基板を説明するための平面図と側面図である。
【図４】前記基板搬送手段の全体構成を示す斜視図である。
【図５】前記基板搬送手段の保持アームを示す平面図である。
【図６】前記保持アームに設けられる規制載置部の一例を示す平面図と側面図である。
【図７】前記保持アームに設けられる傾斜載置部の一例を示す斜視図である。
【図８】前記傾斜載置部の一例を示す平面図と側面図である。
【図９】前記保持アームの作用を説明するための側面図である。
【図１０】前記保持アームの他の例を説明するための平面図である。
【図１１】前記保持アームの他の例を説明するための側面図である。
【図１２】前記保持アームのさらに他の例を説明するための側面図である。
【図１３】前記保持アームのさらに他の例を説明するための側面図である。
【図１４】前記保持アームのさらに他の例を説明するための平面図である。
【図１５】従来の搬送アームを示す平面図と断面図である。
【符号の説明】
Ｇ マスク基板
Ｂ１ キャリアブロック
Ｂ２ 処理ブロック
３ 基板搬送手段
３１ 保持アーム
４１〜４４ 載置部
５ 規制載置部
５１ 載置面
５２ 接触面
６ 傾斜載置部
６１ 第１の傾斜面
６２ 第２の傾斜面

Claims (7)

1. ４個の角部の側面と底面との間に保持用の傾斜面を有する角型のマスク基板を載置する保持アームを備えた基板搬送装置において、
   前記保持アームは、前記マスク基板の４個の角部が夫々載置される４個の載置部を備え、
   前記載置部の一つは、マスク基板の角部の前記傾斜面を保持する傾斜載置面と、当該角部を挟む２辺の端面と接触して、当該角部を規制する略垂直な接触面とを有する規制載置部であり、
   他の３個の載置部は、マスク基板の裏面の角部を挟む２辺の端縁を下方側に案内し、且つ当該端縁を保持するように保持アームの内側に向けて下方側に傾斜する第１の傾斜面を備えた傾斜載置部であり、
   マスク基板の角部を傾斜載置部に載置して傾斜面に沿って案内することにより、マスク基板の角部を前記規制載置部に当接させ、これによりマスク基板を位置合わせした状態で保持アームに載置することを特徴とする基板搬送装置。
2. 前記傾斜載置部は、前記第１の傾斜面の上方側に、この第１の傾斜面よりも緩やかに傾斜する第２の傾斜面を備え、この第２の傾斜面に置かれたマスク基板の角部が当該第２の傾斜面に沿って第１の傾斜面に案内されることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
3. 前記基板搬送装置の保持アームを進退自在、昇降自在、略鉛直軸まわりに回転自在に移動させる駆動機構と、
   保持アームの進退方向の前方側に設けられた前記規制載置部と、
   マスク基板が保持アームに載置されたときに、保持アームを進退方向の後方側に、マスク基板が慣性力で規制載置部側に移動するように第１の速度で僅かに移動させ、次いで保持アームを進退方向の後方側に第１の速度よりも小さい第２の速度で移動させるように前記駆動機構の駆動を制御する制御部と、を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の基板搬送装置。
4. 前記規制載置部以外の載置部に設けられ、マスク基板の裏面側を押圧して持ち上げる押圧機構と、
   マスク基板が保持アームに載置されたときに、押圧機構によりマスク基板の裏面側を持ち上げるように前記押圧機構の駆動を制御する制御部と、を備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の基板搬送装置。
5. 前記規制載置部以外の載置部に、マスク基板の裏面側と接触するようにボール機構を設けることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板搬送装置。
6. マスク基板が前記保持アームに、当該保持アームの進退方向の軸に対してマスク基板の互いに対向する一対の辺が斜めに位置した状態で載置されるように、前記載置部を保持アームに設けることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の基板搬送装置。
7. 前記保持アームの内縁は、円弧状に設けられていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の基板搬送装置。

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