JP2002236148A - 半導体集積回路の試験装置およびそれを用いた半導体集積回路の試験方法 - Google Patents

半導体集積回路の試験装置およびそれを用いた半導体集積回路の試験方法

Info

Publication number
JP2002236148A
JP2002236148A JP2001032596A JP2001032596A JP2002236148A JP 2002236148 A JP2002236148 A JP 2002236148A JP 2001032596 A JP2001032596 A JP 2001032596A JP 2001032596 A JP2001032596 A JP 2001032596A JP 2002236148 A JP2002236148 A JP 2002236148A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
memory
data
terminal
semiconductor integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001032596A
Other languages
English (en)
Inventor
Osanari Mori
長也 森
Shinji Yamada
真二 山田
Teruhiko Funakura
輝彦 船倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Engineering Corp, Mitsubishi Electric Corp filed Critical Renesas Semiconductor Engineering Corp
Priority to JP2001032596A priority Critical patent/JP2002236148A/ja
Priority to US09/927,368 priority patent/US6900627B2/en
Priority to TW090124917A priority patent/TW558874B/zh
Priority to DE10150370A priority patent/DE10150370A1/de
Publication of JP2002236148A publication Critical patent/JP2002236148A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/3167Testing of combined analog and digital circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Analogue/Digital Conversion (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 A/D変換回路またはD/A変換回路を含ん
だ半導体集積回路の試験装置およびこれを用いた半導体
集積回路の試験方法において、試験を、より高精度、よ
り高速度で実行できるよう、改良する。 【解決手段】 テスト回路基板の近傍に配置されたテス
ト補助装置に、データメモリと解析部を設け、データメ
モリに2つのメモリ区域を構成して、一方のメモリ区域
でデジタル試験データの記憶が行われるときに、他方の
メモリ区域ですでに記憶されたデジタル試験データの解
析のための読み出しを行うようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体集積回路の試験
装置、特にアナログ信号をデジタル信号に変換するA/
D変換回路またはデジタル信号をアナログ信号に変換す
るD/A変換回路とを含んだ半導体集積回路の試験装置
およびこれを用いた半導体集積回路の試験方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】この半導体集積回路の試験装置はテスタ
と呼ばれる。近年、機能的にシステム化された複数回路
モジュールで構成されているワンチップ半導体集積回路
(1チップLSI)または複数回路のそれぞれのチップ
を組み合わせた混成集積回路(チップセットLSI)な
どとして構成されるシステムLSIにおいて、高性能、
高精度のデジタル回路とアナログ回路を組み合わせた混
合化(ミックス・ド・シグナル化)が急速に進んでお
り、これらの半導体集積回路に対する試験装置について
もこの混合化への対応が進み、試験装置メーカからミッ
クス・ド・シグナル化半導体集積回路に対応するテスタ
が提供されている。
【0003】しかし、このミックス・ド・シグナル化半
導体集積回路に対応するテスタはその高性能仕様に対応
するため、装置が高価格化する傾向にあり、そのような
状況のなかで、既存の低速、低精度の、例えばロジック
LSIなどに用いられたテスタを再利用して、テスタの
高価格化を避ける動きも出てきている。
【0004】かかる試験装置での大きな課題が、デジタ
ル信号をアナログ信号に変換するD/A変換回路と、ア
ナログ信号をデジタル信号に変換するA/D変換回路の
試験であり、これらの高精度化に伴い、これらの変換回
路を含んだ半導体集積回路に対する試験装置を如何に低
価格で実現するかが課題となっている。
【0005】一般的なテスタの試験環境では、テスタ内
部の測定装置から被試験半導体集積回路(DUTとい
う)までの測定経路には、DUT回路基板(DUTボー
ド)、ケーブルなどのテスタとDUT間接続治具が複数
存在し、その測定経路も長いため、ノイズ発生、測定精
度低下の原因となり、また複数のDUTを同時に試験す
るようなことも困難である。また、低速テスタでは、そ
の速度の制約から、実使用速度での試験が不可能な点、
量産試験での試験時間の増大が懸念される。
【0006】特開平1−316024号公報には、テス
ト回路のD/A変換部への入力データにより指定された
アドレスに変換データを収納するための記憶素子を設
け、D/A変換したアナログ信号をA/D変換器に入力
し、この出力を記憶素子に順次格納し、全ての入力デー
タに対して変換が終了すると記憶素子に格納した変換デ
ータを順次テスタに送り込み、テスタで入力データと変
換データとを順次比較判定するものが提案されている。
【0007】しかし、D/A変換部への入力データ、変
換データを記憶する記憶素子に対するアドレス、制御信
号をテスタから供給する必要があり、さらに記憶素子の
記憶データをテスタに供給する必要があり、テスタとD
UTとの間の長い測定経路でのノイズにより、測定精度
が低下する恐れがある。またテスタ・ピンエレクトロニ
クス数の占有から複数のDUTに対する同時測定は困難
である。さらに、変換データをテスタへ送る通信に時間
がかかり、また試験結果の判定処理を全試験の終了後に
行うので、試験時間の短縮も困難である。
【0008】この発明の発明者は、かかる課題に関し、
さきに、特願2000−356724号にて、高速度で
しかも高精度の測定をより安価に実現できる半導体集積
回路の試験装置を提案している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】この発明はさきに提案
した半導体集積回路の試験装置をさらに改良し、より高
速で、効率良く半導体集積回路の試験を行うことのでき
る半導体集積回路の試験装置を提案するものである。
【0010】またこの発明は、この半導体集積回路の試
験装置を用いて、より高速で、効率良く半導体集積回路
の試験を行うことのできる半導体集積回路の試験方法を
提案するものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明による半導体集
積回路の試験装置は、アナログ信号をデジタル信号に変
換するA/D変換回路またはデジタル信号をアナログ信
号に変換するD/A変換回路を含んだ被試験半導体集積
回路と信号のやり取りを行うように構成されたテスト回
路基板、および前記A/D変換回路からのデジタル試験
データまたは前記D/A変換回路からのアナログ試験デ
ータをデジタル信号に変換したデジタル試験データを記
憶するデータメモリとこのデータメモリに記憶された前
記デジタル試験データを解析する解析部とを有し前記テ
スト回路基板の近傍に配置されたテスト補助装置を備
え、前記データメモリは、第1、第2メモリ区域を有
し、この第1メモリ区域において前記デジタル試験デー
タの記憶が行われるときに、第2メモリ区域では、すで
に記憶されたデジタル試験データが前記解析部による解
析のために読み出されるように構成されたものである。
【0012】またこの発明による半導体集積回路の試験
装置は、前記データメモリが、第1メモリ素子と第2メ
モリ素子を有し、これらの素子がそれぞれ前記第1、第
2メモリ区域を構成しているものである。
【0013】またこの発明による半導体集積回路の試験
装置は、前記テスト補助装置がメモリ入力切替手段を有
し、このメモリ入力切替手段が前記デジタル試験データ
を前記第1メモリ素子、または第2メモリ素子に切り替
えて記憶させるように構成されているものである。
【0014】またこの発明による半導体集積回路の試験
装置は、前記テスト補助装置がメモリ出力切替手段を有
し、このメモリ出力切替手段が前記第1メモリ素子また
は第2メモリ素子の出力を切り替えて前記解析部へアッ
プロードするように構成されているものである。
【0015】またこの発明による半導体集積回路の試験
装置は、前記データメモリが、内部に前記第1、第2メ
モリ区域を有する1つのメモリ素子で構成されたもので
ある。
【0016】またこの発明による半導体集積回路の試験
方法は、アナログ信号をデジタル信号に変換するA/D
変換回路またはデジタル信号をアナログ信号に変換する
D/A変換回路を含んだ半導体集積回路の試験方法であ
って、この半導体集積回路を搭載してそれと信号のやり
取りを行うように構成されたテスト回路基板、および前
記A/D変換回路からのデジタル試験データまたは前記
D/A変換回路からのアナログ試験データをデジタル信
号に変換したデジタル試験データを記憶するデータメモ
リとこのデータメモリに記憶された前記デジタル試験デ
ータを解析する解析部とを有し前記テスト回路基板の近
傍に配置されたテスト補助装置を備えた半導体集積回路
の試験装置を用いて試験が行われ、さらに前記データメ
モリは、第1、第2メモリ区域を有し、この第1メモリ
区域で前記デジタル試験データの記憶が行われるとき
に、第2メモリ区域では、すでに記憶されたデジタル試
験データが前記解析部による解析のために読み出される
ことを特徴とする。
【0017】
【実施の形態】実施の形態1.図1はこの発明による半
導体集積回路の試験装置に実施の形態1の構成を示す図
である。(a)図はテスト回路基板(DUTボード)部
分の上面図、(b)図はその側面図、(c)図は試験機
(テスタ)部分の構成図である。
【0018】この実施の形態1の試験装置は、テスト回
路基板(DUTボード)10、テスト補助装置(BOS
T装置)20、及び試験機(テスタ)40を備えてい
る。
【0019】テスト回路基板10は、この実施の形態1
では、被試験半導体集積回路(DUT)11として、モ
ールド型ICを対象とするものである。モールド型IC
は半導体集積回路(IC)チップをモールド樹脂で覆
い、モールド樹脂から複数の端子を導出したものであ
る。このDUT11のICチップは、例えばワンチップ
のミックス・ド・シグナル型システムLSIであり、1
つのチップ内にデジタル信号をアナログ信号に変換する
D/A変換器と、アナログ信号をデジタル信号に変換す
るA/D変換器を含むものである。DUT11として
は、複数のチップを共通の回路基板上に集積したミック
ス・ド・シグナル型の混成集積回路(ハイブリッドI
C)も使用することができる。
【0020】テスト回路基板10は被試験半導体集積回
路(DUT)11の端子を挿入するDUTソケット12
を有し、その周りに多数の接続端子13と、テスト用の
リレー・コンデンサ群14を配置したものである。
【0021】テスト回路基板10の下部には、テストヘ
ッド15が配置されている。このテストヘッド15は、
テスト回路基板10に接続される多数の接続ピン16を
有し、この接続ピン16を介してDUT11とテストに
必要な信号のやりとりを行う。
【0022】テスト補助装置(BOST装置)20はテ
スト回路基板10の近傍に配置される。この実施の形態
1では、テスト補助装置20はテスト補助基板(BOS
Tボード)21上に構成され、このBOSTボード21
はDUTボード10の上に搭載される。DUTボード1
0の上には、そのためのソケット17が固定されてお
り、BOSTボード21はこのソケット17に挿入され
るコネクタ22を下面に有し、このコネクタ22をソケ
ット17に挿入して、DUTボード10上に支持され、
このソケット17を経てテストヘッド15との信号のや
りとりが行われる。
【0023】BOSTボード21は、BUILT-OFF-SELF-T
ESTの略称であり、これはテスタ40に依存せず、DU
T内部で自己テスト(BIST:BUILT-IN-SELF-TEST)
を担うテスト回路を補助するDUT外部試験補助装置の
基板であり、AD/DA測定部23、制御部24、DS
P解析部25、メモリ部26、電源部27を有してい
る。
【0024】テスタ40はテストパターン発生器(TP
G)41、電源部42、ピンエレクトロニクス部43を
有し、BOSTボード21に対して、電源電圧Vdを供
給し、BOSTボード21との間でBOST制御信号4
4をやりとりする。この制御信号44には、テスタ40
からBOSTボード21、DUTボード10への指令信
号だけでなく、BOSTボード21からテスタ40への
テスト解析結果信号も含まれる。テスタ40からBOS
Tボード21へ入力されるテスト解析No.、コードな
どを含む制御信号44は、テストプログラムに記述され
たテスト信号条件に基づき、テスタ40に内臓されたテ
ストパターン発生器41により、他のDUT11のテス
トと同様に、テストパターン信号として発生させ、複数
の信号入出力ピンを備えたテスタ40のピンエレクトロ
ニクス部43を通して、BOSTボード21、DUTボ
ード10に供給される。一方、BOSTボード21から
出力されるテスト解析結果(Pass/Fail情報)
は、テスタ40のピンエレクトロニクス部43に送ら
れ、このピンエレクトロニクス部43の判定部にて、テ
ストパターン信号との比較、判定に基づき、その結果情
報を取り込む。
【0025】図2は実施の形態1における電気回路の構
成を示すブロック図である。DUT11は、アナログ信
号をデジタル信号に変換するA/D変換回路51と、デ
ジタル信号をアナログ信号に変換するD/A変換回路5
2を含んでいる。
【0026】BOSTボード21は、DUT11のA/
D変換回路51に対してアナログ試験信号を供給する試
験用D/A変換回路61と、DUT11のD/A変換回
路52からのアナログ試験データをデジタル試験データ
に変換する試験用A/D変換回路62とを有し、さらに
DAC入力データ回路(DACカウンタ)63、データ
書込み制御回路64、測定データメモリアドレスカウン
タ65、測定データメモリ66、基準クロック回路6
7、クロック発生回路68、及びDSP解析部69を有
する。DSP解析部69はDSPプログラムROM70
を有している。
【0027】試験用D/A変換回路61、試験用A/D
変換回路62、DAC入力データ回路63、データ書込
み制御回路64、測定データメモリアドレスカウンタ6
5は、図1のD/A、A/D測定部23に含まれてお
り、測定データメモリ66はメモリ部26に、またDS
P解析部69はDSP解析部25に含まれている。
【0028】試験用のデジタル試験信号(テストデー
タ)はDAC入力データ回路63に蓄えられており、テ
スタ40からの指令に基づいて、このDAC入力データ
回路63からのテストデータは、DUT11のD/A変
換回路52とBOSTボード21の試験用D/A変換回
路61とに供給される。D/A変換回路61に供給され
たデジタル試験信号(テストデータ)はアナログ試験信
号に変換されて、DUT11のA/D変換回路51に供
給され、このDUT11のA/D変換回路51でデジタ
ル試験データに変換され、測定データメモリ66に供給
される。一方、DAC入力データ回路63から直接DU
T11のD/A変換回路52に供給されたデジタル試験
信号は、D/A変換回路52でアナログ試験出力に変換
され、これがBOSTボード21の試験用A/D変換回
路62によりデジタル試験データに変換され、測定デー
タメモリ66に供給される。測定データメモリ66は、
これらのDUT11のA/D変換回路51から供給され
るデジタル試験データと、D/A変換回路52からA/
D変換回路62を経て供給されるデジタル試験データと
を、順次決められたアドレスに記憶する。
【0029】DUT11のA/D変換回路51、BOS
Tボード21のA/D変換回路62は、順次アナログ信
号をデジタル信号に変換するが、1つのデジタル信号を
発生する毎にBUSY信号をそれぞれ出力する。これら
のBUSY信号は、ともにBOSTボード21上のデー
タ書込み制御回路64に供給される。データ書込み制御
回路64は、供給されたBUSY信号に基づき、DAC
入力データ回路63のデジタルテストデータをデータ単
位毎に次のデジタルテストデータに順次進め、また測定
データメモリアドレスカウンタ65に対しては、測定デ
ータメモリ66のアドレスを順次進めるように作用す
る。
【0030】このように、BUSY信号により、DAC
入力データ回路63では、DUT11で変換されるデジ
タルテストデータのコードが進められ、また測定データ
メモリ66では、DUT11で変換されたデジタル試験
出力を記憶するアドレスが順次進められる結果、DUT
11では、A/D変換回路51、D/A変換回路52に
おいて順次試験に必要な変換が進められ、その変換され
た測定データが測定データメモリ66に順次記憶されて
いく。以降は、BOSTボード21のDSP解析部69
で設定された最終コードになるまで、変換テストが進め
られ、その結果が測定データメモリ66にすべて記憶さ
れる。
【0031】BOSTボード21上のDSP解析部69
はDSPプログラムROM70に記憶されたプログラム
を用いて、測定データメモリ66に記憶されている変換
データを順次読み出し、変換特性の解析を行う。この解
析は、A/D変換特性パラメータ、D/A変換特性パラ
メータ、微分直線性、積分非直線性誤差などの算出を含
み、解析結果(Pass/Fail情報)がBOSTボ
ード21からテスタ40に送信され、テスタ40でテス
ト結果処理が行われる。
【0032】実施の形態1において、BOSTボード2
1がDUTボード10の近傍に配置され、DUT11の
A/D変換回路51、D/A変換回路52の変換試験を
行う機能を備えているので、この変換試験はBOSTボ
ード21上で実行することができる。この結果、DUT
ボード10とBOSTボード21間のアナログ測定系ラ
インを短縮でき、ノイズによる測定誤差の発生を充分小
さく抑制し、高精度の試験を実現でき、併せてDUTボ
ード10とその近傍のBOSTボード21間の信号のや
りとりに基づき、より高速度で試験を行うことができ
る。BOSTボード21とテスタ40との間は、アナロ
グ測定系ラインをなくすることができ、試験精度の向上
が図られる。またBOSTボード21上で、必要な変換
試験を終了して、テスタ40にはその結果を送信するの
で、変換データをテスタ40に送信するものに比べ、試
験速度の向上を図ることができる。
【0033】実施の形態1において、DUT11のA/
D変換回路51、D/A変換回路52の変換試験機能が
BOSTボード21上に配置されるので、テスタ40に
はそのための大きな機能を付加する必要がなく、このた
めテスタ40の高価格化を防ぎ、従来の低速のテスタを
流用することも可能となる。なお、特別な測定機能を持
ったテスタ40を製作する場合、テスタのハードウエア
構成による機能拡張に対して制約があり、またテスタ本
来の改造を併発するため、開発コストが高騰するおそれ
がある。実施の形態1によれば、一般的なテスタに標準
的に装備されているテストパターン発生器、ピンエレク
トロニクスを利用するので、各種テスタ仕様、制約に影
響を受けずにBOSTボードの構成、制御が可能であ
り、各種テスタへの適用が可能となる。
【0034】さて、この発明による実施の形態1では、
より高速に、効率良く、DUT11のA/D変換回路5
1、D/A変換回路52の変換試験を実行するために、
さらに改良されたメモリ/解析切替回路80が使用され
る。図7は、このメモリ/解析切替回路80のブロック
回路図である。
【0035】先ず図7において、測定データメモリ66
は、2つの第1、第2のメモリ素子66A,66Bから
構成されている。第1、第2のメモリ素子66A、66
Bは、それぞれメモリバンクA、Bを構成する。これら
のメモリ素子66A、66Bは、3つの接続切替回路8
1、83、85によって、切替制御される。第1、第
2、および第3の接続切替回路81、83、85はいず
れもA1端子、A2端子、B1端子、B2端子およびS
端子を有する。第1の接続切替回路81は、データ接続
切替回路であり、メモリ素子66A、66Bのデータの
切り替えを行う回路である。このデータ接続切替回路8
1のA1端子はDSP解析部69に、A2端子はADC
/DAC測定部23に、B1端子はメモリ素子66A
に、またB2端子はメモリ素子66Bにそれぞれ接続さ
れる。
【0036】この第1のデータ接続切替回路81は、D
SP解析部69に接続されたA1端子を、B1端子また
はB2端子に切替接続する解析用読み出しデータ切り替
え機能と、ADC/DAC測定部23に接続されたA2
端子を、B1端子またはB2端子に切替接続するデータ
書込み切替機能の2つの機能を有する。データ書込み切
替機能は、ADC/DAC測定部23からのデジタル試
験データを、メモリ素子66Aまたは66Bに記憶させ
るために切替入力する機能である。また解析用読み出し
データ切り替え機能は、メモリ素子66Aまたは66B
に記憶されたデータを切替て読み出し、DSP解析部6
9にアップロードする機能である。
【0037】第2の切替回路83はアドレス接続切替回
路であり、DSP解析部69に接続されたA1端子を、
B1端子またはB2端子に切替接続する解析用読み出し
アドレス切替機能と、測定データメモリアドレスカウン
タ65に接続されたA2端子を、B1端子またはB2端
子に切替接続する記憶用の書込みアドレス切替機能を有
している。第3の切替回路85は書込み/読出しクロッ
ク接続切替回路であり、DSP解析部69に接続された
A1端子を、B1端子またはB2端子に切り替え接続す
る読み出しクロック切替機能と、測定データメモリ書込
みクロック回路68Aに接続されたA2端子を、B1端
子またはB2端子に切替接続する書込みクロック切替機
能を有する。
【0038】各切替回路81、83、85は、A1端子
とB1端子が接続され、またA2端子とB2端子が接続
された第1の接続状態と、A1端子とB2端子が接続さ
れ、またA2端子とA1端子が接続された第2の接続状
態とが、切替られる。第1の接続状態において、データ
接続切替回路81はメモリバンク66AをDSP解析部
69に、またメモリバンク66BをADC/DAC測定
部23に、それぞれ接続する。この第1の接続状態にお
いて、メモリバンク66Bには、DAC/ADC測定部
23からのデジタル試験データが書き込まれ、またメモ
リバンク66Aではすでに記憶されているデジタル試験
データが解析部69へ読み出され、アップロードされ
る。第2の接続状態においては、逆に、メモリバンク6
6Aには、DAC/ADC測定部23からのデジタル試
験データが書き込まれ、またメモリバンク66Bでは、
すでに記憶されたデジタル試験データが解析部69へ読
み出され、アップロードされる。
【0039】前記第1の接続状態では、アドレス接続切
替回路83によって、DSP解析部69からの読み出し
アドレスがメモリバンク66Aに、また測定データアド
レスカウンタ65からの書込みアドレスがメモリバンク
66Bにそれぞれ供給される。さらにこの第1の接続状
態では、書込み/読出しクロック接続切替回路85によ
って、DSP解析部69からの読み出しクロックがメモ
リバンク66Aに、また測定データメモリ書き込みクロ
ック生成部68Aからの書き込みクロックがメモリバン
ク66Bにそれぞれ供給される。前記第2の接続状態で
は、アドレス接続切替回路83によって、DSP解析部
69からの読み出しアドレスがメモリバンク66Bに、
また測定データアドレスカウンタ65からの書込みアド
レスがメモリバンク66Aにそれぞれ供給される。さら
にこの第2の接続状態では、書込み/読出しクロック接
続切替回路85によって、DSP解析部69からの読み
出しクロックがメモリバンク66Bに、また測定データ
メモリ書き込みクロック回路68Aからの書き込みクロ
ックがメモリバンク66Aにそれぞれ供給される。
【0040】メモリバンク切替信号生成部87は、半導
体試験装置の制御装置89から、メモリ切替信号SKC
とクロックイン信号SCLの供給を受け、メモリバンク
切替信号SSを生成し、それを各切替回路81、83、
85のS端子に供給する。メモリバンク切替信号SS
は、それが立ち上がる毎に、各切替回路81、83、8
5の状態を、前記第1の接続状態と、第2の接続状態と
の間で、切り替える。この結果、各切替回路81、8
3、85は前記第1の接続状態と前記第2の接続状態を
交互に与え、2つのメモリバンク66A、66Bには、
図8に示す通り、ADC/DAC測定部23のA/D変
換回路51、D/A変換回路52からのデジタル試験デ
ータを取り込む測定状態と、記憶したデジタル試験デー
タをDSP解析部69にアップロードしてその解析を行
う解析状態が、交互に与えられる。
【0041】図8において、最初のテスト1のステップ
S1では、前記第2の接続状態であり、メモリバンク6
6Aに測定状態が与えられる。次のステップS2では、
メモリバンク切替信号SSが与えられ、バンク切替が行
われる。その結果、接続状態が反転したテスト2のステ
ップS3では、前記第1の接続状態となり、メモリバン
ク66Aはテスト1の解析状態、メモリバンク66Bは
テスト2の測定状態となる。次のステップS4では、メ
モリバンク切替信号SSが与えられてバンク切替が行わ
れ、次のステップS5では、再び第2の接続状態とな
り、メモリバンク66Aはテスト3の測定状態、メモリ
バンク66Bはテスト2の解析状態となる。次のステッ
プS6では再びバンク切替が行われ、次にステップS7
では、再び第1の接続状態となり、メモリバンク66A
がテスト3の解析状態、メモリバンク66Bがテスト4
の測定状態となる。なお、テスト1で、メモリバンクB
を空白状態としているが、これは、最初、まだ測定デー
タが記憶されていないため、結果として解析が行われな
いことを示したものである。
【0042】図9は、この発明による半導体集積回路の
試験の具体的なテスト解析フローチャートであり、これ
は携帯電話機に使われる半導体集積回路の試験のフロー
チャートである。この携帯電話機には、D/A変換回
路、およびA/D変換回路を含んだ複数の集積回路が使
用されている。この携帯電話機は、まず制御用DAブロ
ックに7つのD/A変換回路52を持ち、図9ではこの
7つのD/A変換回路52が、DA1からDA7で示さ
れている。この携帯電話機は、またIQ−DAブロック
にD/A変換回路を含んだ4つの出力回路を持ち、図9
ではこれらがIO、IBO、QO、QBOで示されてお
り、さらにこの携帯電話機は、1つのA/D変換回路5
1を持ち、図9ではこれがADとして示されている。
【0043】図9のフローチャートでは、最初にステッ
プS10に示す制御用DAブロックテスト開始(DA1
−DA7)が行われる。この制御用DAブロックでは、
7つのD/A変換回路DA1からDA7のテストと解析
が行われる。ステップS11では、DA1のテスト(測
定)が行われ、DA1からのデジタル試験データが一方
のメモリバンクに記憶される。ステップS12、S13
は同時に実行されるステップであり、ステップS12で
はDA2のテストが、ステップS13では、DSP解析
部69によるDA1の測定データ解析が行われる。この
測定データ解析では、最初に解析部69がテスタ40か
らシリアルデータ受信を行って解析がスタートされ、最
後にはテスト結果を解析部69からテスタ40に送信し
て、解析が完了する。次のステップS14、S15も同
時に実行され、ステップS14ではDA3のテストが、
ステップS15ではDA2の測定データ解析が行われ
る。次のステップS16ではDA4のテストが、ステッ
プS17ではDA3の測定データ解析が、同時に実行さ
れる。その後、DA5のテスト、DA4の測定データ解
析が、さらにDA6のテスト、DA5の測定データ解析
が行われ、図9のステップS18ではDA7のテスト
が、ステップS19ではDA6の測定データ解析が行わ
れ、ステップS21で、DA7の測定データ解析が行わ
れるときに、ステップS20では、ダミー(DUMM
Y)の空試験が挿入される。
【0044】続いて、ステップS22に示すI/Q−D
Aブロックテスト開始(IO,IBO,QO,QBO)
が行われる。これも出力回路IO、IBO、QO、QB
Oに含まれたD/A変換回路の試験であり、前記と同様
にテスト、解析の並列処理が実行される。ステップS2
3では、IOテストが実行される。次のステップS2
4、S25は同時に並列処理されるステップであり、ス
テップ24ではIBOテスト(データ書込み)が、また
ステップ25ではIO測定データ解析(データ読み出
し)が行われる。同様に、ステップS26でのQOテス
ト、ステップS27でのIBO測定データ解析が並列処
理され、また次のステップS28でのQBOテストと、
ステップS29でのQO測定データ解析が同時に実行さ
れる。その後のステップS30でのダミー(DUMM
Y)テスト中に、ステップS31でのQBO測定データ
解析が実行される。続いて、ステップS32に示すAD
ブロックテストが開始され、ステップS33でADテス
トを実施した後、ステップS34でのダミー(DUMM
Y)テスト中に、ステップ35でのAD測定データ解析
が行われて、テストが完了する。
【0045】以上2つのメモリ区域を構成するメモリバ
ンク66A、66Bにおける、テスト(テストデータ書
き込み)と、テストデータの解析(テストデータ読み出
し、解析部へのアップロード)とが、同時に、並列処理
される結果、試験時間の半減が達成できる。
【0046】実施の形態2.図3はこの発明による半導
体集積回路の試験装置の実施の形態2のDUT部分を示
す側面図である。この実施の形態2では、実施の形態1
のBOSTボード21がDUTボード10の上面に積載
されている。この実施の形態2も、モールド型半導体集
積回路がDUTボード10上のソケット12に挿入さ
れ、そのA/D変換器41とD/A変換器42が試験さ
れる。
【0047】図3において、DUTボード10の右上面
には、BOSTボード21が載置され、この載置部分で
両ボード間の接続が行われており、テストヘッド15と
の間で信号のやりとりが行われる。なお、BOSTボー
ド20上の構成は図1と同じであり、回路構成は図2と
同じである。
【0048】実施の形態3.図4はこの発明による半導
体集積回路の試験装置の実施の形態3のDUT部分の構
成を示す。(a)図はBOSTボード21Aの上面図、
(b)図はBOSTIFボードの上面図、(c)図はD
UTボード10Aの上面図、(d)図はそれらの側面図
である。この実施の形態3では、ウエハ状態の半導体集
積回路が試験対象(DUT)として用いられる。DUT
ボード10Aプローブカードであり、円形に構成され、
その中心部の下面にウエハ11Aに対する多数のプロー
ブ30を有する。このDUTボード10Aの上には、接
続構体31を介して、BOST IFボード32が配置
され、このBOST IFボード32上にはコネクタ3
3が取り付けられている。BOST装置20を構成する
BOSTボード21Aも円形に構成され、このBOST
ボード21A上面には、実施の形態1と同様の、AD/
DA測定部23、制御部24、メモリ部26、DSP解
析部25、及び電源部27が配置されている。
【0049】実施の形態3の電気回路の構成は、実施の
形態1の図2と同じであり、プローブ30をウエハ11
Aのチップ相当部分の多数の端子に接触させて、実施の
形態1と同様の試験が行われる。ウエハ11Aのチップ
相当部分を順次ずらし、順次隣接するチップ相当部分の
試験を実施する。
【0050】実施の形態4.図5はこの発明による半導
体集積回路の試験装置の実施の形態4のDUT部分を示
し、(a)図は側面図、(b)図は上面図である。この
実施の形態4では、実施の形態3において、BOSTボ
ード20Aが省略され、またBOST IFボード1
7、接続構体16も省略され、BOST装置20を構成
するAD/DA測定部21、制御部22、メモリ部2
4、DSP解析部23、電源部25が全て、プローブ3
0を持ったDUTボード10A上面に配置され、必要な
接続が行われる。
【0051】この実施の形態4の回路構成は実施の形態
1の図2と同じであり、同様にしてDUT11AのA/
D変換回路51、D/A変換回路52の試験が行われ
る。
【0052】実施の形態2、3、4においても、BOS
T装置20、またはBOSTボード21、21AはDU
Tボード10、10Aの近傍に配置され、実施の形態1
と同様に試験が実施されるので、実施の形態1と同様
に、試験の高精度化、高速化、装置の低価格化を図るこ
とができ、さらに実施の形態1に示したメモリ/解析切
替回路80の採用により、より高速で、より効率よく、
テスト(測定)と、解析を実行できる。
【0053】実施の形態5.図6はこの発明による半導
体集積回路の試験装置の実施の形態5の回路構成を示す
ブロック図である。この実施の形態5では、DUT11
のA/D変換回路51がBUSY信号を発生しないタイ
プであり、このため、テスタ40からトリガ信号74が
供給され、データ回路63のデジタル単位で進める動作
と、測定データメモリ66のアドレスを進める動作を行
わせる。なお、BOSTボードのA/D変換回路62は
BUSY信号を発生するように構成できるので、このB
USY信号はトリガ信号74と併用できる。その他の構
成は、図2と同じである。
【0054】この実施の形態5においても、テスタ40
からBOST装置20に送信されるトリガ信号74はデ
ジタル信号であり、テスタ40とBOST装置20との
間に、ノイズの影響を受けやすいアナログ信号系を追加
するものではなく、実施の形態1と同様に、試験の高精
度化、高速化を図ることができ、さらに実施の形態1に
示したメモリ/解析切替回路80の採用により、より高
速で、より効率よく、テスト(測定)と、解析を実行で
きる。
【0055】実施の形態6.図10は、この発明による
半導体集積回路の試験装置の実施の形態6で使用される
メモリ/解析切替回路90を示すブロック回路図であ
る。このメモリ/解析切替回路90は、図7に示す実施
の形態1のメモリ/解析切替回路80をさらに具体化し
たものである。
【0056】図10のメモリ/解析切替回路90は、図
7に示すメモリ/解析切替回路80のデータ接続切替回
路81が、データ出力切替セレクタ811と、データ入
力切替セレクタ813と、バンクAのI/O切替セレク
タ815と、バンクBのI/O切替セレクタ817によ
って構成されている。データ出力切替セレクタ811
は、A端子、B端子、Q端子およびS端子を有し、この
Q端子はデータ接続切替回路81のA1端子を構成し、
DSP解析部69に接続される。データ入力切替セレク
タ813も、A端子、B端子、Q端子およびS端子を有
し、このQ端子はデータ接続切替回路81のA2端子を
構成し、ADC/DAC測定部23に接続される。デー
タ出力切替セレクタ811およびデータ入力切替セレク
タ813は、何れも、前記第1の接続状態において、Q
端子とA端子を接続し、前記第2の接続状態において、
Q端子とB端子を接続するもので、この第1、第2の接
続状態は、それぞれのS端子への切替信号SSによって
切替られる。
【0057】バンクAのI/O切替セレクタ815はO
UT端子、IN端子、D端子、およびOE端子を有し、
このD端子はデータ接続切替回路81のB1端子を構成
し、メモリバンク66Aのデータ端子DQに接続され
る。このI/O切替セレクタ815のOUT端子はデー
タ出力切替セレクタ811のA端子に接続され、またそ
のIN端子はデータ入力切替セレクタ813のB端子に
接続される。バンクBのI/O切替セレクタ817もO
UT端子、IN端子、D端子およびOE端子を有し、こ
のD端子はデータ接続切替回路81のB2端子を構成
し、メモリバンク66Bのデータ端子DQに接続され
る。このI/O切替セレクタ817のOUT端子はデー
タ出力切替セレクタ811のB端子に、またそのIN端
子はデータ入力切替セレクタ815のA端子にそれぞれ
接続される。I/O切替セレクタ815および817
は、何れも、前記第1の接続状態において、OUT端子
とD端子を接続し、また前記第2の接続状態において、
IN端子とD端子を接続するもので、この第1、第2の
接続状態は、それぞれのOE端子への切替信号SOEに
よって切替られる。
【0058】前記第1の接続状態では、データ出力切替
セレクタ811のQ端子、A端子、およびI/O切替セ
レクタ815のOUT端子、D端子がそれぞれ接続され
る結果、A1端子とB1端子が接続され、またデータ入
力切替セレクタ813のQ端子、A端子、およびI/O
切替セレクタ817のIN端子、D端子が接続される結
果、A2端子とB2端子が接続される。前記第2の接続
状態では、データ出力切替セレクタ811のQ端子、B
端子、およびI/O切替セレクタ817のOUT端子、
D端子が接続される結果、A1端子とB2端子の接続が
達成され、またデータ入力切替セレクタ813のQ端
子、B端子、およびI/O切替セレクタ815のIN端
子、D端子が接続される結果、A2端子とB1端子の接
続が達成される。
【0059】メモリ/解析切替回路80の書込み/読出
しクロック接続切替回路85は、メモリ読出し制御バン
ク切替回路851、およびメモリ書込み制御バンク切替
回路853によって構成される。メモリ読出し制御バン
ク切替回路851は、Q端子、A端子、B端子およびS
端子を有し、Q端子は書込み/読出しクロック接続切替
回路85のA1端子を構成し、A端子はメモリバンク6
6AのOE端子に接続されるとともに、バンクAのI/
O切替セレクタ815のOE端子に接続されている。ま
たメモリ読出し制御バンク切替回路851のB端子は、
メモリバンク66BのOE端子と、バンクAのI/O切
替セレクタ817のOE端子とに接続されている。メモ
リ書込み制御バンク切替回路853もQ端子、A端子、
B端子およびS端子を有し、このQ端子は書込み/読出
しクロック接続切替回路85のA2端子を構成し、その
A端子はメモリバンク66BのWR端子に、またそのB
端子はメモリバンク66AのWR端子にそれぞれ接続さ
れ、メモリバンク66A、66Bの読出し/書込みの切
替を行う。
【0060】前記第1の接続状態では、メモリ読出し制
御バンク切替回路851のQ端子とA端子が接続される
結果、メモリバンク66AのOE端子が活性化され、メ
モリバンク66Aは読み出し可能な状態とされ、またバ
ンクAのI/O切替セレクタ815のOE端子が活性化
され、そのOUT端子がD端子に接続されて、メモリバ
ンク66AからDSP解析部69への読み出しが達成さ
れる。併せて、バンクBのI/O切替セレクタ817で
は、IN端子とD端子が接続され、メモリバンク66B
へのデジタル試験データの書込みが達成される。この第
1の接続状態では、メモリ書込み制御バンク切替回路8
53は、メモリバンク66BのWR端子を活性化し、メ
モリバンク66Bを書き込み可能状態にする。前記第2
の接続状態では、メモリ読出し制御バンク切替回路85
1のQ端子とB端子が接続される結果、メモリバンク6
6BのOE端子が活性化され、メモリバンク66Bは読
み出し可能な状態とされ、またバンクBのI/O切替セ
レクタ817のOE端子が活性化され、そのOUT端子
がD端子に接続されて、メモリバンク66BからDSP
解析部69への読み出しが達成される。併せて、バンク
AのI/O切替セレクタ815では、IN端子とD端子
が接続され、メモリバンク66Aへのデジタル試験デー
タの書込みが達成される。この第1の接続状態では、メ
モリ書込み制御バンク切替回路853は、メモリバンク
66AのWR端子を活性化し、メモリバンク66Aを書
き込み可能状態にする。
【0061】メモリバンク切替信号生成部87は、A/
B切替セレクタ871と、フリップフロップ873と、
インバータ875を有する。A/B切替セレクタ871
は、A端子、B端子、Q端子およびS端子を有し、フリ
ップフロップ873はD端子、Q端子およびR端子を有
し、インバータ875はA/B切替セレクタ871のB
端子に接続され、A/B切替セレクタ971のA端子と
フリップフロップ873のQ端子は互いに接続され、A
/B切替セレクタ871のQ端子とフリップフロップ8
73のD端子も互いに接続されている。半導体試験装置
制御装置89からのメモリ切替信号SKCはA/B切替
セレクタ871のS端子に、またクロックイン信号SC
Lはフリップフロップ873のR端子に与えられる。メ
モリ切替信号SKCは幅の広い信号であり、クロックイ
ン信号SCLは、信号SKCの幅の中の、より幅の狭い
信号である。フリップフロップ873のQ端子には、メ
モリバンク切替信号SSが生成されるが、この信号SS
はメモリ切替信号SKCの各立ち上がりで反転する信号
となる。クロックイン信号SCLは、信号SSをラッチ
するのに、使用される。
【0062】実施の形態7.図11は、この発明による
半導体集積回路の試験装置の実施の形態7で使用される
メモリ/解析切替回路100を示すブロック回路図であ
る。このメモリ/解析切替回路100は、図7に示す実
施の形態1のメモリ/解析切替回路80を変形したもの
である。このメモリ/解析切替回路100は、デュアル
ポートメモリ102を中心に構成したものである。
【0063】このデュアルポートメモリ102は、一対
のデータ端子DataR、DataLと、一対のアドレ
ス端子AddR、AddLと、一対の出力可能信号端子
OER、OELと、一対の書き込み可能信号端子WR
R、WRLを有する。このデュアルポートメモリ102
は、内部に2つのメモリ区域を有し、前記各端子の制御
に基づき、図7のメモリ/解析部80と同様の機能を果
たす。このデュアルポートメモリ102の使用により、
回路部品数を低減できる。
【0064】実施の形態8.上記各実施の形態は、DU
T11、11AがA/D変換回路51と、D/A変換回
路52の両方を含むものであるが、それらの一方を含む
ものであっても、この発明は効果を得ることができる。
複数のA/D変換回路51、または複数のD/A変換回
路52を含むDUTであっても、高精度、高速の試験
を、低価格の試験装置で達成できる。
【0065】実施の形態9.実施の形態1から9の半導
体集積回路の試験装置を用いた半導体集積回路の試験方
法も、半導体集積回路を、より高精度に、またより高速
度で試験するのに有効である。特に、デジタル試験デー
タの記憶(書き込み)と、その解析を並列処理すること
により、さらに高速度の試験を行うことができ、生産性
を向上することができる。
【0066】
【発明の効果】以上のようにこの発明による半導体集積
回路の試験装置は、テスト回路基板の近傍に配置された
テスト補助装置に、データメモリと解析部とを設け、デ
ータメモリに2つのメモリ区域を構成して、一方のメモ
リ区域でデジタル試験データの記憶が行われるときに、
他方のメモリ区域ですでに記憶されたデジタル試験デー
タの解析のための読み出しを行うようにしたものであ
り、半導体集積回路のA/D変換回路またはD/A変換
回路の試験を、より高精度に、より高速度に行うことが
でき、併せて試験装置の低価格化を図ることができる。
【0067】またデータメモリを2つのメモリ素子で構
成したものでは、各メモリ素子の単位で、より高精度
に、より高速度に行うことができる。
【0068】また2つのメモリ素子に入力切替手段、出
力切替手段を設けたものでは、これらの切替手段によっ
てデータの書き込み、またはデータの読み出しを切替な
がら、より高精度に、より高速度に試験を行うことがで
きる。
【0069】また1つのメモリ素子に、2つのメモリ区
域を構成するものでは、回路部品数の低減を図ることが
できる。
【0070】また、テスト回路基板の近傍に配置された
テスト補助装置に、データメモリと解析部とを設け、デ
ータメモリに2つのメモリ区域を構成して、一方のメモ
リ区域でデジタル試験データの記憶が行われるときに、
他方のメモリ区域ですでに記憶されたデジタル試験デー
タの解析のための読み出しを行うようにした半導体集積
回路の試験装置を用いた半導体集積回路の試験方法によ
れば、半導体集積回路のA/D変換回路またはD/A変
換回路の試験を、より高精度に、より高速度に行うこと
ができ、生産性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明による半導体集積回路の試験装置の
実施の形態1を示し、(a)図はDUT部分の上面図、
(b)図はその側面図、(c)図は試験機の構成図。
【図2】 実施の形態1の回路構成を示すブロック図。
【図3】 この発明による半導体集積回路の試験装置の
実施の形態2のDUT部分の側面図。
【図4】 この発明による半導体集積回路の試験装置の
実施の形態3を示し、(a)図はBOSTボードの上面
図、(b)図はBOST IFボードの上面図、(c)
図はDUTボードの上面図、(d)図はそれらの側面
図。
【図5】 この発明による半導体集積回路の試験装置の
実施の形態4のDUT部分を示し、(a)図はその側面
図、(b)図は上面図。
【図6】 この発明による半導体集積回路の試験装置の
実施の形態5の回路構成を示すブロック図。
【図7】 この発明による半導体集積回路の試験装置の
実施の形態1から5で使用されるメモリ/解析部の構成
を示すブロック回路図。
【図8】 メモリ/解析部の測定と解析のフローを示す
フローチャート。
【図9】 メモリ/解析部の測定と解析のより具体的な
フローを示すフローチャート。
【図10】 この発明による半導体集積回路の試験装置
の実施の形態6で使用されるメモリ/解析部の構成を示
すブロック回路図。
【図11】 この発明による半導体集積回路の試験装置
の実施の形態7で使用されるメモリ/解析部の構成を示
すブロック回路図。
【符号の説明】
10,10A テスト回路基板(DUTボード) 11,11A 被試験半導体集積回路(DUT) 20 テスト補助装置(BOST装置) 21,21A テスト補助基板(BOSTボード) 40 試験機(テスタ) 51 被試験半導体集積回路のA/D変換回路 52 被試験半導体集積回路のD/A変換回路 61 試験用D/A変換回路 62 試験用A/D変換回路 63 データ回路 66 測定データメモリ 69 DSP解析部 80,90,100 メモリ/解析切替回路 81 データ接続切替回路 83 アドレス接続切替回路 85 書込み/読出しクロック接続切替回路 102 デュアルポートメモリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H03M 1/10 G01R 31/28 R (72)発明者 山田 真二 兵庫県伊丹市瑞原四丁目1番地 菱電セミ コンダクタシステムエンジニアリング株式 会社内 (72)発明者 船倉 輝彦 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 2G011 AA17 AE02 2G032 AA09 AB01 AE08 AE10 AE11 AE12 AE14 AF01 AF10 AG04 AG07 AH01 AJ07 4M106 AA01 AA04 AA08 AC01 AC10 BA01 CA01 DD03 DD10 DD23 DJ20 5J022 AA01 AB01 AC04 BA05 CD02 CE01 CE05 CG01

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アナログ信号をデジタル信号に変換する
    A/D変換回路またはデジタル信号をアナログ信号に変
    換するD/A変換回路を含んだ被試験半導体集積回路と
    信号のやり取りを行うように構成されたテスト回路基
    板、および前記A/D変換回路からのデジタル試験デー
    タまたは前記D/A変換回路からのアナログ試験データ
    をデジタル信号に変換したデジタル試験データを記憶す
    るデータメモリとこのデータメモリに記憶された前記デ
    ジタル試験データを解析する解析部とを有し前記テスト
    回路基板の近傍に配置されたテスト補助装置を備え、前
    記データメモリは、第1、第2メモリ区域を有し、この
    第1メモリ区域において前記デジタル試験データの記憶
    が行われるときに、第2メモリ区域では、すでに記憶さ
    れたデジタル試験データが前記解析部による解析のため
    に読み出されるように構成された半導体集積回路の試験
    装置。
  2. 【請求項2】 前記データメモリは、第1メモリ素子と
    第2メモリ素子を有し、これらの素子がそれぞれ前記第
    1、第2メモリ区域を構成している請求項1記載の半導
    体集積回路の試験装置。
  3. 【請求項3】 前記テスト補助装置はメモリ入力切替手
    段を有し、このメモリ入力切替手段が前記デジタル試験
    データを前記第1メモリ素子、または第2メモリ素子に
    切り替えて記憶させるように構成されている請求項2記
    載の半導体集積回路の試験装置。
  4. 【請求項4】 前記テスト補助装置はメモリ出力切替手
    段を有し、このメモリ出力切替手段が前記第1メモリ素
    子または第2メモリ素子の出力を切り替えて前記解析部
    へアップロードするように構成されている請求項2記載
    の半導体集積回路の試験装置。
  5. 【請求項5】 前記データメモリが、内部に前記第1、
    第2メモリ区域を有する1つのメモリ素子で構成された
    請求項1記載の半導体集積回路の試験装置。
  6. 【請求項6】 アナログ信号をデジタル信号に変換する
    A/D変換回路またはデジタル信号をアナログ信号に変
    換するD/A変換回路を含んだ半導体集積回路の試験方
    法であって、この半導体集積回路を搭載してそれと信号
    のやり取りを行うように構成されたテスト回路基板、お
    よび前記A/D変換回路からのデジタル試験データまた
    は前記D/A変換回路からのアナログ試験データをデジ
    タル信号に変換したデジタル試験データを記憶するデー
    タメモリとこのデータメモリに記憶された前記デジタル
    試験データを解析する解析部とを有し前記テスト回路基
    板の近傍に配置されたテスト補助装置を備えた半導体集
    積回路の試験装置を用いて試験が行われ、さらに前記デ
    ータメモリは、第1、第2メモリ区域を有し、この第1
    メモリ区域で前記デジタル試験データの記憶が行われる
    ときに、第2メモリ区域では、すでに記憶されたデジタ
    ル試験データが前記解析部による解析のために読み出さ
    れることを特徴とする半導体集積回路の試験方法。
JP2001032596A 2001-02-08 2001-02-08 半導体集積回路の試験装置およびそれを用いた半導体集積回路の試験方法 Withdrawn JP2002236148A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001032596A JP2002236148A (ja) 2001-02-08 2001-02-08 半導体集積回路の試験装置およびそれを用いた半導体集積回路の試験方法
US09/927,368 US6900627B2 (en) 2001-02-08 2001-08-13 Apparatus and method for testing semiconductor integrated circuit
TW090124917A TW558874B (en) 2001-02-08 2001-10-09 Apparatus and method for testing semiconductor integrated circuit
DE10150370A DE10150370A1 (de) 2001-02-08 2001-10-11 Apparat und Verfahren zum Testen einer integrierten Halbleiterschaltung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001032596A JP2002236148A (ja) 2001-02-08 2001-02-08 半導体集積回路の試験装置およびそれを用いた半導体集積回路の試験方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002236148A true JP2002236148A (ja) 2002-08-23

Family

ID=18896495

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001032596A Withdrawn JP2002236148A (ja) 2001-02-08 2001-02-08 半導体集積回路の試験装置およびそれを用いた半導体集積回路の試験方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6900627B2 (ja)
JP (1) JP2002236148A (ja)
DE (1) DE10150370A1 (ja)
TW (1) TW558874B (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1271163A1 (en) * 2001-06-20 2003-01-02 STMicroelectronics Limited Methods and systems for testing electronic devices
US7587642B2 (en) * 2003-07-08 2009-09-08 Texas Instruments Incorporated System and method for performing concurrent mixed signal testing on a single processor
US7307433B2 (en) * 2004-04-21 2007-12-11 Formfactor, Inc. Intelligent probe card architecture
US7262616B2 (en) * 2006-01-10 2007-08-28 Telco Testing Systems Llc Apparatus, method and system for testing electronic components
WO2007081324A1 (en) * 2006-01-10 2007-07-19 Telco Testing System Llc Apparatus, method and system for testing electronic components
JP2010145175A (ja) * 2008-12-17 2010-07-01 Sharp Corp 半導体集積回路
TWI386649B (zh) * 2009-03-18 2013-02-21 Mjc Probe Inc 探針卡
CN102955732A (zh) * 2011-08-29 2013-03-06 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Cpu测试系统及其测试治具
US10776233B2 (en) 2011-10-28 2020-09-15 Teradyne, Inc. Programmable test instrument
US9759772B2 (en) 2011-10-28 2017-09-12 Teradyne, Inc. Programmable test instrument
US20130227367A1 (en) * 2012-01-17 2013-08-29 Allen J. Czamara Test IP-Based A.T.E. Instrument Architecture
US9910086B2 (en) 2012-01-17 2018-03-06 Allen Czamara Test IP-based A.T.E. instrument architecture
US9229059B2 (en) * 2013-12-06 2016-01-05 Elite Semiconductor Memory Technology Inc. Memory test system and method
CN108072830B (zh) * 2017-12-28 2020-05-12 北京航天控制仪器研究所 一种三浮惯性平台单板自动化测试装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58158566A (ja) * 1982-03-17 1983-09-20 Hitachi Ltd 検査装置
JPH01316024A (ja) * 1988-06-15 1989-12-20 Mitsubishi Electric Corp D/a変換器のテスト装置
JP2577495B2 (ja) * 1990-08-21 1997-01-29 株式会社東芝 半導体評価回路
US5509019A (en) * 1990-09-20 1996-04-16 Fujitsu Limited Semiconductor integrated circuit device having test control circuit in input/output area
US5414365A (en) * 1992-09-25 1995-05-09 Martin Marietta Corporation Diagnostic apparatus for testing an analog circuit
JPH08233912A (ja) 1995-02-24 1996-09-13 Hitachi Ltd Lsiテスタ
US5646521A (en) 1995-08-01 1997-07-08 Schlumberger Technologies, Inc. Analog channel for mixed-signal-VLSI tester
US5999008A (en) * 1997-04-30 1999-12-07 Credence Systems Corporation Integrated circuit tester with compensation for leakage current
JP3184539B2 (ja) * 1997-12-02 2001-07-09 株式会社アドバンテスト 電圧印加電流測定装置
JP2000162450A (ja) 1998-11-25 2000-06-16 Mitsubishi Rayon Co Ltd プラスチック製混合多芯光ファイバ、光ファイバケーブル、及びプラグ付き光ファイバケーブル
US6317549B1 (en) 1999-05-24 2001-11-13 Lucent Technologies Inc. Optical fiber having negative dispersion and low slope in the Erbium amplifier region
KR100394347B1 (ko) * 2000-04-19 2003-08-09 삼성전자주식회사 인터페이스 기판 및 이를 이용한 반도체 집적회로 소자테스트 방법
JP2002162450A (ja) 2000-11-22 2002-06-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路の試験装置および半導体集積回路の試験方法
JP2002236150A (ja) * 2001-02-08 2002-08-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路の試験装置及び試験方法
JP2002236149A (ja) * 2001-02-08 2002-08-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路の試験装置及び試験方法
JP2002236152A (ja) * 2001-02-08 2002-08-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路の試験装置及び試験方法
JP2003075515A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路の試験装置およびその試験方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20020105352A1 (en) 2002-08-08
US6900627B2 (en) 2005-05-31
DE10150370A1 (de) 2002-09-12
TW558874B (en) 2003-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002162450A (ja) 半導体集積回路の試験装置および半導体集積回路の試験方法
JP2002236148A (ja) 半導体集積回路の試験装置およびそれを用いた半導体集積回路の試験方法
KR100240662B1 (ko) 제이태그에 의한 다이나믹램 테스트장치
CN109524055B (zh) 基于soc ate定位存储器失效位的方法及测试系统
TW200417154A (en) Apparatus for testing semiconductor integrated circuit and method of manufacturing semiconductor integrated circuit
KR20010104362A (ko) 교차-dut 및 내부-dut 비교를 이용한 집적 회로디바이스의 병렬 테스트
KR100286491B1 (ko) 반도체장치와 반도체장치의 검사방법 및 반도체장치의 검사장치
KR100500102B1 (ko) 반도체 집적회로의 시험장치
US6690189B2 (en) Apparatus and method for testing semiconductor integrated circuit
JP2002236152A (ja) 半導体集積回路の試験装置及び試験方法
JP2002236151A (ja) 外部試験補助装置および半導体装置の試験方法
CN104205639B (zh) 可再构成的半导体装置
US6628137B2 (en) Apparatus and method for testing semiconductor integrated circuit
US6675336B1 (en) Distributed test architecture for multiport RAMs or other circuitry
JP2660028B2 (ja) Lsiのテスト装置
JP5151988B2 (ja) テスト回路と方法並びに半導体装置
JP2000182398A (ja) 半導体装置及び半導体装置の試験方法
JP2002236153A (ja) 半導体試験装置および半導体装置の試験方法
KR100630716B1 (ko) 다양한 패턴 데이터를 쓸 수 있는 반도체 메모리 소자 및그 전기적 검사방법
JP2000091388A (ja) Ic試験装置の救済判定方式
JP2002286800A (ja) 半導体試験装置
KR20020070278A (ko) 반도체 메모리의 검사방법
JP3489742B2 (ja) 半導体集積回路およびそのテスト方法
JP3165131B2 (ja) 半導体集積回路のテスト方法及びテスト回路
JPH07104386B2 (ja) 論理回路試験装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080513