JP2002167037A - 基板移載装置 - Google Patents
基板移載装置Info
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- JP2002167037A JP2002167037A JP2000366133A JP2000366133A JP2002167037A JP 2002167037 A JP2002167037 A JP 2002167037A JP 2000366133 A JP2000366133 A JP 2000366133A JP 2000366133 A JP2000366133 A JP 2000366133A JP 2002167037 A JP2002167037 A JP 2002167037A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 広いスペースをとらず、基板サイズによらず
利用できる基板移載装置を提供する。 【解決手段】 基板１を収納したカセット２を昇降させ
る昇降台４と、上記カセット２内で上記基板１をプロセ
スに向けて移送するためのローラ５と、このローラ５を
基板移送方向側方より上記カセット２内へ水平に出没さ
せるローラ出没機構６とを備えたので、プロセスに直結
して省スペース化を図ることができる。また、大小の基
板を安定に移送することができる。
利用できる基板移載装置を提供する。 【解決手段】 基板１を収納したカセット２を昇降させ
る昇降台４と、上記カセット２内で上記基板１をプロセ
スに向けて移送するためのローラ５と、このローラ５を
基板移送方向側方より上記カセット２内へ水平に出没さ
せるローラ出没機構６とを備えたので、プロセスに直結
して省スペース化を図ることができる。また、大小の基
板を安定に移送することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板をカセットか
ら取り出してプロセスに受け渡す、或いは基板をプロセ
スから受け取ってカセットに収納するための移載装置に
係り、特に、広いスペースをとらず、基板サイズによら
ず利用できる基板移載装置に関するものである。
ら取り出してプロセスに受け渡す、或いは基板をプロセ
スから受け取ってカセットに収納するための移載装置に
係り、特に、広いスペースをとらず、基板サイズによら
ず利用できる基板移載装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フラットパネルディスプレイの製造ライ
ンにおいて、パネル用のガラス基板は、各プロセスにお
いて単葉毎に処理されるが、プロセス間では複葉のガラ
ス基板をカセットに収納して一括搬送される。従って、
搬送ラインとプロセスとの間で、カセットから単葉のガ
ラス基板を取り出してプロセスに受け渡す、或いはプロ
セスから受け取った単葉のガラス基板をカセットに収納
するための移載装置（ローダ・アンローダ）が使用され
る。移載の方式として、ローラ式とハンド式とが一般に
採用されている。以下、カセットからガラス基板を取り
出す場合について説明する。
ンにおいて、パネル用のガラス基板は、各プロセスにお
いて単葉毎に処理されるが、プロセス間では複葉のガラ
ス基板をカセットに収納して一括搬送される。従って、
搬送ラインとプロセスとの間で、カセットから単葉のガ
ラス基板を取り出してプロセスに受け渡す、或いはプロ
セスから受け取った単葉のガラス基板をカセットに収納
するための移載装置（ローダ・アンローダ）が使用され
る。移載の方式として、ローラ式とハンド式とが一般に
採用されている。以下、カセットからガラス基板を取り
出す場合について説明する。
【０００３】ハンド式は、ガラス基板を載せることので
きるロボットハンドをカセット内のガラス基板の下に差
し込み、そのロボットハンドを上昇させることにより、
ガラス基板をカセットから離間させてロボットハンド上
に載せ、そのロボットハンドをカセット外へ移動させた
後、ロボットハンドからプロセスにガラス基板を受け渡
す方式である。
きるロボットハンドをカセット内のガラス基板の下に差
し込み、そのロボットハンドを上昇させることにより、
ガラス基板をカセットから離間させてロボットハンド上
に載せ、そのロボットハンドをカセット外へ移動させた
後、ロボットハンドからプロセスにガラス基板を受け渡
す方式である。
【０００４】ローラ式は、ローラをカセット内に挿入
し、このローラによってガラス基板をプロセスに移送す
る方式である。従来のローラ式は、ローラをカセットの
下方からカセット内に挿入している。
し、このローラによってガラス基板をプロセスに移送す
る方式である。従来のローラ式は、ローラをカセットの
下方からカセット内に挿入している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ハンド式は、カセット
とプロセスとの間にロボットハンドがカセット内外を運
動するためのスペースを必要とする。カセットを設置す
る場所とプロセスとの間には、上記の運動スペースだけ
でなく、その運動スペースの側方にも無駄スペースが生
じてしまう。その結果として製造ライン全体の占めるス
ペースが大きくなってしまう。フラットパネルディスプ
レイの製造ラインは、その全体をクリーンルーム内に設
置するなどして清浄雰囲気に管理することが必要である
ため、占有スペースが大きいことはコスト的に不利であ
る。その点、ローラ式はカセットとプロセスとの間にス
ペースが要らないので、コスト的に有利である。
とプロセスとの間にロボットハンドがカセット内外を運
動するためのスペースを必要とする。カセットを設置す
る場所とプロセスとの間には、上記の運動スペースだけ
でなく、その運動スペースの側方にも無駄スペースが生
じてしまう。その結果として製造ライン全体の占めるス
ペースが大きくなってしまう。フラットパネルディスプ
レイの製造ラインは、その全体をクリーンルーム内に設
置するなどして清浄雰囲気に管理することが必要である
ため、占有スペースが大きいことはコスト的に不利であ
る。その点、ローラ式はカセットとプロセスとの間にス
ペースが要らないので、コスト的に有利である。
【０００６】しかしながら、従来のローラ式は、ローラ
をカセットの下方からカセット内に挿入しているため、
ローラ配置に大きな制約がある。
をカセットの下方からカセット内に挿入しているため、
ローラ配置に大きな制約がある。
【０００７】ここでカセットは、図１０に示されるよう
に、矩形の穴空き板を天板１０１及び底板１０２とし、
これら天板１０１及び底板１０２の両長辺間を複数の柱
１０３で支持したものである。また、天板１０１及び底
板１０２の両長辺間にはガラス基板を載せ置くためのリ
ブ１０４を多段に配した棚部材１０５が設けられてい
る。このリブ１０４に載せ置かれたガラス基板を短辺に
臨む方向へ取り出すよう、短辺側開口部には部材が設け
られていない。
に、矩形の穴空き板を天板１０１及び底板１０２とし、
これら天板１０１及び底板１０２の両長辺間を複数の柱
１０３で支持したものである。また、天板１０１及び底
板１０２の両長辺間にはガラス基板を載せ置くためのリ
ブ１０４を多段に配した棚部材１０５が設けられてい
る。このリブ１０４に載せ置かれたガラス基板を短辺に
臨む方向へ取り出すよう、短辺側開口部には部材が設け
られていない。
【０００８】上記のようなカセットに下方からローラを
挿入するので、ローラは底板１０２に干渉しないよう配
置や個数が制約される。
挿入するので、ローラは底板１０２に干渉しないよう配
置や個数が制約される。
【０００９】また、ガラス基板をローラで移送すると、
移送中にガラス基板の向きがゆがんだり、位置が偏った
りして蛇行し、ローラやプロセス側コンベアから脱落し
たり、移送方向側方の部材に衝突するおそれがある。移
送方向の側方から何らかの部材によってガラス基板の運
動を規制すれば蛇行は防止できるが、カセットに収納可
能な最大サイズより小さなガラス基板を扱う場合、上記
の規制部材では蛇行が防止できない。また、小さなガラ
ス基板はローラから脱落することが避け難い。ローラの
個数を多くすれば蛇行や脱落を低減することが可能であ
るが、既に述べたように、従来方式ではローラの個数を
増やすことができない。
移送中にガラス基板の向きがゆがんだり、位置が偏った
りして蛇行し、ローラやプロセス側コンベアから脱落し
たり、移送方向側方の部材に衝突するおそれがある。移
送方向の側方から何らかの部材によってガラス基板の運
動を規制すれば蛇行は防止できるが、カセットに収納可
能な最大サイズより小さなガラス基板を扱う場合、上記
の規制部材では蛇行が防止できない。また、小さなガラ
ス基板はローラから脱落することが避け難い。ローラの
個数を多くすれば蛇行や脱落を低減することが可能であ
るが、既に述べたように、従来方式ではローラの個数を
増やすことができない。
【００１０】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、広いスペースをとらず、基板サイズによらず利用で
きる基板移載装置を提供することにある。
し、広いスペースをとらず、基板サイズによらず利用で
きる基板移載装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、基板を収納したカセットを昇降させる昇降
台と、上記カセット内で上記基板をプロセスに向けて移
送するためのローラと、このローラを基板移送方向側方
より上記カセット内へ水平に出没させるローラ出没機構
とを備えたものである。
に本発明は、基板を収納したカセットを昇降させる昇降
台と、上記カセット内で上記基板をプロセスに向けて移
送するためのローラと、このローラを基板移送方向側方
より上記カセット内へ水平に出没させるローラ出没機構
とを備えたものである。
【００１２】上記ローラに上記基板の運動を移送方向側
方から規制するつばを形成してもよい。
方から規制するつばを形成してもよい。
【００１３】上記ローラの上記カセット内への出没量を
可変に構成してもよい。
可変に構成してもよい。
【００１４】上記ローラを上記カセットが上記昇降台へ
移送される水準よりも低い位置に設けてもよい。
移送される水準よりも低い位置に設けてもよい。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を添付
図面に基づいて詳述する。
図面に基づいて詳述する。
【００１６】図１に示されるように、本発明に係る基板
移載装置は、プロセスに臨んだ移載位置に接する待機位
置に設置されガラス基板１を収納して待機するカセット
２を移載位置まで移送する待機コンベア３と、その移載
位置に設置されカセット２を昇降させる昇降台４と、カ
セット２内で回転しガラス基板１をプロセスに向けて移
送するためのローラ５と、このローラ５を基板移送方向
側方よりカセット２内へ水平に出没させるローラ出没機
構６と、移載位置に接する排出位置に設置され移載位置
から排出された空カセットを受け取る排出コンベア７と
を備える。
移載装置は、プロセスに臨んだ移載位置に接する待機位
置に設置されガラス基板１を収納して待機するカセット
２を移載位置まで移送する待機コンベア３と、その移載
位置に設置されカセット２を昇降させる昇降台４と、カ
セット２内で回転しガラス基板１をプロセスに向けて移
送するためのローラ５と、このローラ５を基板移送方向
側方よりカセット２内へ水平に出没させるローラ出没機
構６と、移載位置に接する排出位置に設置され移載位置
から排出された空カセットを受け取る排出コンベア７と
を備える。
【００１７】待機コンベア３、昇降台４及び排出コンベ
ア７は、上から見ると一直線に並んで配置されている。
図１では、昇降台４が降下した位置に描かれているが、
昇降台４を上昇させれば、待機コンベア３、昇降台４及
び排出コンベア７を同じ水準にすることができる。待機
コンベア３及び排出コンベア７の上面には、カセット２
を移送するための複数のローラ又はスプロケットからな
る送り機構８が並べて設けられている。昇降台４の上面
にも同様の送り機構８が並べて設けられている。これに
より、図内に矢印で示したカセット移送方向が実現され
る。昇降台４の両側にはカセットの運動を規制するスト
ッパ９が出没自在に設けられている。このストッパ９
は、移送されるカセット２を正しく移載位置に位置決め
するために設けられている。なお、昇降台４を昇降させ
る機構は図示されていない。
ア７は、上から見ると一直線に並んで配置されている。
図１では、昇降台４が降下した位置に描かれているが、
昇降台４を上昇させれば、待機コンベア３、昇降台４及
び排出コンベア７を同じ水準にすることができる。待機
コンベア３及び排出コンベア７の上面には、カセット２
を移送するための複数のローラ又はスプロケットからな
る送り機構８が並べて設けられている。昇降台４の上面
にも同様の送り機構８が並べて設けられている。これに
より、図内に矢印で示したカセット移送方向が実現され
る。昇降台４の両側にはカセットの運動を規制するスト
ッパ９が出没自在に設けられている。このストッパ９
は、移送されるカセット２を正しく移載位置に位置決め
するために設けられている。なお、昇降台４を昇降させ
る機構は図示されていない。
【００１８】待機コンベア３及び排出コンベア７は、そ
れぞれ支持台１０の上に固定されており、それぞれ昇降
台４に臨む端部では、支持台１０よりせり出して設けら
れている。これにより、待機コンベア３の終端の下方及
び排出コンベア７の始端の下方には、他の機器を配置す
るスペースが形成されている。このスペースを利用し
て、ローラ出没機構６及び昇降台昇降機構を固定する支
持枠１１が設置されている。ローラ出没機構６は、待機
コンベア３の終端の直下方及び排出コンベア７の始端の
直下に配置されている。図示しないがプロセスの基板受
け取りの水準は、ローラ５による基板移送の水準に等し
い。
れぞれ支持台１０の上に固定されており、それぞれ昇降
台４に臨む端部では、支持台１０よりせり出して設けら
れている。これにより、待機コンベア３の終端の下方及
び排出コンベア７の始端の下方には、他の機器を配置す
るスペースが形成されている。このスペースを利用し
て、ローラ出没機構６及び昇降台昇降機構を固定する支
持枠１１が設置されている。ローラ出没機構６は、待機
コンベア３の終端の直下方及び排出コンベア７の始端の
直下に配置されている。図示しないがプロセスの基板受
け取りの水準は、ローラ５による基板移送の水準に等し
い。
【００１９】図２に示されるように、ローラ出没機構６
は、ローラ５の回転軸１２を回転させるモータ（図示せ
ず）とこの回転軸１２を軸方向に移動させる機構（図示
せず）とを具備したものである。ローラ５は、円柱若し
くは円盤状に形成され、１つの回転軸１２上に１個乃至
適宜間隔で複数個設けられている。１つの回転軸１２上
の少なくとも１つのローラ５には、ガラス基板１の運動
を移送方向側方から規制するつば１３が形成されてい
る。ローラ５の軸方向への移動量は、固定であっても可
変であってもよい。なお、正面図１（ｂ）には、ローラ
５が待機コンベア３側及び排出コンベア７側に１セット
ずつしか見られず、平面図１（ａ）には、ローラ５が描
かれていないが、ローラ５は、ガラス基板１の移送方向
に任意個数並べることができる。この場合、ローラ出没
機構６より複数の回転軸１２を櫛歯状に突き出して設
け、各ローラ５を一斉にカセット２内に出没させること
ができる。
は、ローラ５の回転軸１２を回転させるモータ（図示せ
ず）とこの回転軸１２を軸方向に移動させる機構（図示
せず）とを具備したものである。ローラ５は、円柱若し
くは円盤状に形成され、１つの回転軸１２上に１個乃至
適宜間隔で複数個設けられている。１つの回転軸１２上
の少なくとも１つのローラ５には、ガラス基板１の運動
を移送方向側方から規制するつば１３が形成されてい
る。ローラ５の軸方向への移動量は、固定であっても可
変であってもよい。なお、正面図１（ｂ）には、ローラ
５が待機コンベア３側及び排出コンベア７側に１セット
ずつしか見られず、平面図１（ａ）には、ローラ５が描
かれていないが、ローラ５は、ガラス基板１の移送方向
に任意個数並べることができる。この場合、ローラ出没
機構６より複数の回転軸１２を櫛歯状に突き出して設
け、各ローラ５を一斉にカセット２内に出没させること
ができる。
【００２０】次に、本発明に係る基板移載装置の動作を
図３〜図６を用いて説明する。
図３〜図６を用いて説明する。
【００２１】まず、図３に至る前に、カセット２が待機
コンベア３から昇降台４に移送され、ストッパ９によっ
て正しく移載位置に位置決めされて、図３に至っている
ものとする。図３の段階では、カセット２が待機コンベ
ア３で移送される水準に位置しており、ローラ５はそれ
より低い位置に設けられ、退避した状態である。これよ
り、昇降台４を下降させることになる。カセット２の底
板がローラ５より低い位置に下がり、カセット２内の現
在最下段にあるガラス基板１がローラ５より高い位置に
あるとき、昇降台４の下降を停止させ、ローラ出没機構
６により、図４のように、ローラ５をカセット２内に水
平に挿入する。
コンベア３から昇降台４に移送され、ストッパ９によっ
て正しく移載位置に位置決めされて、図３に至っている
ものとする。図３の段階では、カセット２が待機コンベ
ア３で移送される水準に位置しており、ローラ５はそれ
より低い位置に設けられ、退避した状態である。これよ
り、昇降台４を下降させることになる。カセット２の底
板がローラ５より低い位置に下がり、カセット２内の現
在最下段にあるガラス基板１がローラ５より高い位置に
あるとき、昇降台４の下降を停止させ、ローラ出没機構
６により、図４のように、ローラ５をカセット２内に水
平に挿入する。
【００２２】昇降台４をさらに下降させることで、カセ
ット２の最下段にあるガラス基板１がカセット２のリブ
から離間されローラ５に載せられることになる。ここで
昇降台４の下降を停止させ、ローラ５を回転駆動する
と、ガラス基板１がプロセスに向けて移送される。その
後、昇降台４をガラス基板１の収納ピッチずつ下降させ
ていくことで、順次、上段のガラス基板１をプロセスに
向けて移送することができる。
ット２の最下段にあるガラス基板１がカセット２のリブ
から離間されローラ５に載せられることになる。ここで
昇降台４の下降を停止させ、ローラ５を回転駆動する
と、ガラス基板１がプロセスに向けて移送される。その
後、昇降台４をガラス基板１の収納ピッチずつ下降させ
ていくことで、順次、上段のガラス基板１をプロセスに
向けて移送することができる。
【００２３】図５のように、最上段のガラス基板１が払
い出されてカセット２が空になると、ローラ５をカセッ
ト２外へ退避させる。ローラ５がカセット２や昇降台４
に干渉しない状態まで退避した後、昇降台４を上昇させ
る。そして、図６のように、昇降台４が元の高さ、即
ち、カセット２を移送する水準まで戻ったら、昇降台４
の上昇を停止させる。この後、昇降台４上の空カセット
２を排出コンベア７に排出すると共に、次に使用する充
実カセット２を待機コンベア３から昇降台４に搬入す
る。
い出されてカセット２が空になると、ローラ５をカセッ
ト２外へ退避させる。ローラ５がカセット２や昇降台４
に干渉しない状態まで退避した後、昇降台４を上昇させ
る。そして、図６のように、昇降台４が元の高さ、即
ち、カセット２を移送する水準まで戻ったら、昇降台４
の上昇を停止させる。この後、昇降台４上の空カセット
２を排出コンベア７に排出すると共に、次に使用する充
実カセット２を待機コンベア３から昇降台４に搬入す
る。
【００２４】図１の基板移載装置は、ローラ式を採用し
ているので、プロセスに直結することができ、ハンド式
に比べて占有スペースが小さいため、清浄雰囲気に管理
することが必要な工場の空間を小さくし、或いは限られ
た工場空間を有効利用することが可能になる。また、ロ
ーラ５を干渉部材の少ない基板移送方向側方よりカセッ
ト内へ水平に出没させるようにしたので、ローラ５の個
数や２次元的配置に制約が少なく、多数のローラ５を使
用することができる。これにより、基板移送方向のロー
ラ配置ピッチを狭くして基板がローラ間を渡る際の衝撃
を和らげ、かつ基板の蛇行が起こり難くすることがで
き、さらに、基板の大小にかかわらず蛇行や脱落のない
移送が可能になる。
ているので、プロセスに直結することができ、ハンド式
に比べて占有スペースが小さいため、清浄雰囲気に管理
することが必要な工場の空間を小さくし、或いは限られ
た工場空間を有効利用することが可能になる。また、ロ
ーラ５を干渉部材の少ない基板移送方向側方よりカセッ
ト内へ水平に出没させるようにしたので、ローラ５の個
数や２次元的配置に制約が少なく、多数のローラ５を使
用することができる。これにより、基板移送方向のロー
ラ配置ピッチを狭くして基板がローラ間を渡る際の衝撃
を和らげ、かつ基板の蛇行が起こり難くすることがで
き、さらに、基板の大小にかかわらず蛇行や脱落のない
移送が可能になる。
【００２５】また、図１の基板移載装置は、ローラ５を
カセット２が移送される水準よりも低い位置に設けたの
で、カセット２が移送される空間とは異なる空間でロー
ラ５が動作することになり、ローラ５の出没が水平往復
移動だけで可能になる。その一方で、カセット２を移載
位置に接する待機位置、排出位置に待機させることがで
きるようになり、速やかにカセット２の交換を行うこと
ができる。そして、ローラ５を待機コンベア３の下方及
び排出コンベア７の下方に設置することにより、スペー
ス利用効率を高めることができる。
カセット２が移送される水準よりも低い位置に設けたの
で、カセット２が移送される空間とは異なる空間でロー
ラ５が動作することになり、ローラ５の出没が水平往復
移動だけで可能になる。その一方で、カセット２を移載
位置に接する待機位置、排出位置に待機させることがで
きるようになり、速やかにカセット２の交換を行うこと
ができる。そして、ローラ５を待機コンベア３の下方及
び排出コンベア７の下方に設置することにより、スペー
ス利用効率を高めることができる。
【００２６】また、図２のローラ５は、つば１３が形成
されているので、基板の蛇行を防止することができる。
さらに、ローラ５のカセット２内への出没量を可変にす
れば、ローラ位置を調整することにより、小さい基板に
対してもつば１３を利かせることができる。これによ
り、プロセスが要求している位置に正しく基板を受け渡
すことができる。
されているので、基板の蛇行を防止することができる。
さらに、ローラ５のカセット２内への出没量を可変にす
れば、ローラ位置を調整することにより、小さい基板に
対してもつば１３を利かせることができる。これによ
り、プロセスが要求している位置に正しく基板を受け渡
すことができる。
【００２７】次に、本発明の他の実施形態を説明する。
【００２８】図７に示されるように、基板移載装置は、
図１と同様に待機コンベア３、、ローラ５、ローラ出没
機構６、排出コンベア７を備え、待機コンベア３、昇降
台４及び排出コンベア７は、上から見ると一直線に並ん
で配置されている。待機コンベア３及び排出コンベア７
下に配置されたローラ出没機構６には、多数のローラ５
が昇降台４に臨ませて設けられている。この図では、ロ
ーラ５がカセット２内への出現位置にも示されている。
最大サイズの基板１、小さいサイズの基板１’は、いず
れもローラ５で移送することができる。
図１と同様に待機コンベア３、、ローラ５、ローラ出没
機構６、排出コンベア７を備え、待機コンベア３、昇降
台４及び排出コンベア７は、上から見ると一直線に並ん
で配置されている。待機コンベア３及び排出コンベア７
下に配置されたローラ出没機構６には、多数のローラ５
が昇降台４に臨ませて設けられている。この図では、ロ
ーラ５がカセット２内への出現位置にも示されている。
最大サイズの基板１、小さいサイズの基板１’は、いず
れもローラ５で移送することができる。
【００２９】ここでは、昇降台４とプロセスとの間に、
横行コンベア１２が介設されている。この横行コンベア
１２は、プロセスで次に処理する基板を待機させる目的
で設けられている。例えば、この横行コンベア１２上に
て、カセット２から受け渡された基板を検査したり、プ
ロセス投入のための予備処理を行うことができる。ま
た、プロセスが基板処理を実行中に横行コンベア１２上
で次の基板を待機させることができるので、カセット２
から最後の基板を取り出して横行コンベア１２上に待機
させている間に、移載位置のカセット交換を行うことが
でき、これによって、プロセスを間断なく稼働させるこ
とが可能になる。
横行コンベア１２が介設されている。この横行コンベア
１２は、プロセスで次に処理する基板を待機させる目的
で設けられている。例えば、この横行コンベア１２上に
て、カセット２から受け渡された基板を検査したり、プ
ロセス投入のための予備処理を行うことができる。ま
た、プロセスが基板処理を実行中に横行コンベア１２上
で次の基板を待機させることができるので、カセット２
から最後の基板を取り出して横行コンベア１２上に待機
させている間に、移載位置のカセット交換を行うことが
でき、これによって、プロセスを間断なく稼働させるこ
とが可能になる。
【００３０】図８は、図７の基板移載装置を側方から見
たものである。昇降台４の送り機構８上のカセット２
は、待機コンベア３で移送される水準に位置している。
ローラ５及び横行コンベア１２は、カセット移送水準よ
り低い基板移送水準に位置している。この図では、昇降
台４及びカセット２が最下降位置にも示されている。
たものである。昇降台４の送り機構８上のカセット２
は、待機コンベア３で移送される水準に位置している。
ローラ５及び横行コンベア１２は、カセット移送水準よ
り低い基板移送水準に位置している。この図では、昇降
台４及びカセット２が最下降位置にも示されている。
【００３１】別の実施形態では、図９に示されるよう
に、基板移載装置は、並列配置された２つの昇降台４を
有し、それぞれの昇降台４についてローラ出没機構６が
設けられている。そして、昇降台４とプロセスとの間に
は、２つの昇降台４の並びに沿って縦行自在に構成され
たに横行コンベア１２が介設されている。
に、基板移載装置は、並列配置された２つの昇降台４を
有し、それぞれの昇降台４についてローラ出没機構６が
設けられている。そして、昇降台４とプロセスとの間に
は、２つの昇降台４の並びに沿って縦行自在に構成され
たに横行コンベア１２が介設されている。
【００３２】この実施形態では、横行コンベア１２が縦
行することによって、２箇所の昇降台４のカセット２か
ら受け取る基板を１箇所のプロセス入口へ移送するよう
になっている。例えば、＃１の昇降台４のカセット２か
ら基板を受け取る場合には、横行コンベア１２は＃１の
位置で基板を受け取り、その後、プロセス入口まで移動
する。＃２の昇降台４のカセット２から基板を受け取る
場合には、＃２の位置にプロセス入口があるので、横行
コンベア１２は縦行しなくてよい。
行することによって、２箇所の昇降台４のカセット２か
ら受け取る基板を１箇所のプロセス入口へ移送するよう
になっている。例えば、＃１の昇降台４のカセット２か
ら基板を受け取る場合には、横行コンベア１２は＃１の
位置で基板を受け取り、その後、プロセス入口まで移動
する。＃２の昇降台４のカセット２から基板を受け取る
場合には、＃２の位置にプロセス入口があるので、横行
コンベア１２は縦行しなくてよい。
【００３３】このような構成により、一方の昇降台４に
おいてカセット２が移載処理中であるときに、他方の昇
降台４において空のカセット２の排出や充実カセット２
の待機を行うことができるので、プロセスの稼働効率が
高められる。
おいてカセット２が移載処理中であるときに、他方の昇
降台４において空のカセット２の排出や充実カセット２
の待機を行うことができるので、プロセスの稼働効率が
高められる。
【００３４】この実施形態にあっても、側面視は図８の
とおりであり、カセット２が図示しない移送装置から昇
降台４に移送される水準よりもローラ位置が低いので、
カセット２を任意の方向から昇降台４に移送することが
できる。
とおりであり、カセット２が図示しない移送装置から昇
降台４に移送される水準よりもローラ位置が低いので、
カセット２を任意の方向から昇降台４に移送することが
できる。
【００３５】なお、これまで、基板をカセットから取り
出してプロセスに受け渡す場合を中心に説明したが、基
板をプロセスから受け取ってカセットに収納する場合で
も、本発明が効果を発揮することは勿論である。
出してプロセスに受け渡す場合を中心に説明したが、基
板をプロセスから受け取ってカセットに収納する場合で
も、本発明が効果を発揮することは勿論である。
【００３６】
【発明の効果】本発明は次の如き優れた効果を発揮す
る。
る。
【００３７】（１）ローラ式を採用したことにより、プ
ロセス直結が可能となり、スペース効率が向上する。
ロセス直結が可能となり、スペース効率が向上する。
【００３８】（２）ローラを干渉部材の少ない基板移送
方向側方よりカセット内へ水平に出没させるようにした
ので、ローラの個数や２次元的配置に制約が少なく、多
数のローラを使用することができる。これにより、基板
移送方向のローラ配置ピッチを狭くして基板がローラ間
を渡る際の衝撃を和らげ、かつ基板の蛇行が起こり難く
することができ、さらに、基板の大小にかかわらず蛇行
や脱落のない移送が可能になる。
方向側方よりカセット内へ水平に出没させるようにした
ので、ローラの個数や２次元的配置に制約が少なく、多
数のローラを使用することができる。これにより、基板
移送方向のローラ配置ピッチを狭くして基板がローラ間
を渡る際の衝撃を和らげ、かつ基板の蛇行が起こり難く
することができ、さらに、基板の大小にかかわらず蛇行
や脱落のない移送が可能になる。
【００３９】（３）ローラをカセットが移送される水準
よりも低い位置に設けたので、ローラの出没が水平往復
移動だけで可能になると共に、カセット交換が速やかに
なる。
よりも低い位置に設けたので、ローラの出没が水平往復
移動だけで可能になると共に、カセット交換が速やかに
なる。
【００４０】（４）ローラにつばを形成したので、基板
の蛇行を防止することができる。
の蛇行を防止することができる。
【００４１】（５）ローラのカセット内への出没量を可
変にしたので基板の大小に合わせてローラ位置を調整す
ることができる。
変にしたので基板の大小に合わせてローラ位置を調整す
ることができる。
【図１】本発明の一実施形態を示す基板移載装置の構成
図である。（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は正面図で
ある。
図である。（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は正面図で
ある。
【図２】本発明の一実施形態を示すローラの正面図であ
る。
る。
【図３】図１の基板移載装置のカセット降下動作を示す
平面図及び正面図である。
平面図及び正面図である。
【図４】図１の基板移載装置のローラ挿入・基板搬送動
作を示す平面図及び正面図である。
作を示す平面図及び正面図である。
【図５】図１の基板移載装置のローラ退避動作を示す平
面図及び正面図である。
面図及び正面図である。
【図６】図１の基板移載装置のカセット上昇動作を示す
平面図及び正面図である。
平面図及び正面図である。
【図７】本発明の他の実施形態を示す基板移載装置の平
面図である。
面図である。
【図８】図７、図９の基板移載装置の側面図である。
【図９】本発明の他の実施形態を示す基板移載装置の平
面図である。
面図である。
【図１０】一般的に使用されているカセットの斜視図で
ある。
ある。
１ ガラス基板 ２ カセット ３ 待機コンベア ４ 昇降台 ５ ローラ ６ ローラ出没機構 ７ 排出コンベア １３ つば
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 孝久 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 (72)発明者 村上 弘記 東京都江東区豊洲三丁目２番16号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 (72)発明者 鈴岡 浩 東京都江東区毛利一丁目19番10号 石川島 播磨重工業株式会社江東事務所内 Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA30 HA01 MA20 3F022 AA08 CC02 EE05 JJ20 LL33 MM01 MM11 5F031 CA05 DA01 FA02 FA03 FA07 FA11 GA53 GA60 PA16
Claims (4)
- 【請求項１】 基板を収納したカセットを昇降させる昇
降台と、上記カセット内で上記基板をプロセスに向けて
移送するためのローラと、このローラを基板移送方向側
方より上記カセット内へ水平に出没させるローラ出没機
構とを備えたことを特徴とする基板移載装置。 - 【請求項２】 上記ローラに上記基板の運動を移送方向
側方から規制するつばを形成したことを特徴とする請求
項１記載の基板移載装置。 - 【請求項３】 上記ローラの上記カセット内への出没量
を可変に構成したことを特徴とする請求項１又は２記載
の基板移載装置。 - 【請求項４】 上記ローラを上記カセットが上記昇降台
へ移送される水準よりも低い位置に設けたことを特徴と
する請求項１〜３いずれか記載の基板移載装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000366133A JP4356233B2 (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | 基板移載装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000366133A JP4356233B2 (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | 基板移載装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002167037A true JP2002167037A (ja) | 2002-06-11 |
| JP4356233B2 JP4356233B2 (ja) | 2009-11-04 |
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ID=18836801
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000366133A Expired - Fee Related JP4356233B2 (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | 基板移載装置 |
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| JP (1) | JP4356233B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005159141A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 基板搬送装置及び基板保管搬送装置 |
| JP2007131449A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Daifuku Co Ltd | 物品貯留装置 |
| JP2007139763A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Paikomu Corp | ディスプレイパネルの検査システム |
| CN100368269C (zh) * | 2005-07-22 | 2008-02-13 | 友达光电股份有限公司 | 供基板用的储存卡匣，传递输送机和传递系统 |
| JP2008098317A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Daifuku Co Ltd | 板状体処理設備 |
| KR100971511B1 (ko) * | 2003-10-29 | 2010-07-21 | 주성엔지니어링(주) | 기판트레이와, 이를 이용하는 엘씨디 제조장치 및 이를이용하여 기판을 이송하는 방법 |
| JP2011230859A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Seibu Electric & Mach Co Ltd | 板状物の搬送システム |
| JP2012222051A (ja) * | 2011-04-05 | 2012-11-12 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 板状部材移送システム及びその移送方法、並びに板状部材収納システム及びその収納方法 |
| WO2013139053A1 (zh) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃基板的取出装置 |
| CN114743896A (zh) * | 2022-03-17 | 2022-07-12 | 无锡杰进科技有限公司 | 一种自动化芯片测试设备及其使用方法 |
| CN116533391A (zh) * | 2023-06-13 | 2023-08-04 | 麦卡电工器材(陆河)有限公司 | 一种具有检测功能的云母片生产装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4884039B2 (ja) | 2006-03-14 | 2012-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板バッファ装置、基板バッファリング方法、基板処理装置、制御プログラムおよびコンピュータ読取可能な記憶媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09260458A (ja) * | 1996-03-21 | 1997-10-03 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 基板の取り出し方法およびその装置 |
| JPH10310240A (ja) * | 1997-03-10 | 1998-11-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
2000
- 2000-11-30 JP JP2000366133A patent/JP4356233B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09260458A (ja) * | 1996-03-21 | 1997-10-03 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 基板の取り出し方法およびその装置 |
| JPH10310240A (ja) * | 1997-03-10 | 1998-11-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100971511B1 (ko) * | 2003-10-29 | 2010-07-21 | 주성엔지니어링(주) | 기판트레이와, 이를 이용하는 엘씨디 제조장치 및 이를이용하여 기판을 이송하는 방법 |
| JP4715088B2 (ja) * | 2003-11-27 | 2011-07-06 | 株式会社Ｉｈｉ | 基板搬送装置及び基板保管搬送装置 |
| JP2005159141A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 基板搬送装置及び基板保管搬送装置 |
| CN100368269C (zh) * | 2005-07-22 | 2008-02-13 | 友达光电股份有限公司 | 供基板用的储存卡匣，传递输送机和传递系统 |
| JP4609719B2 (ja) * | 2005-11-14 | 2011-01-12 | 株式会社ダイフク | 物品貯留装置 |
| JP2007131449A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Daifuku Co Ltd | 物品貯留装置 |
| JP2007139763A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Paikomu Corp | ディスプレイパネルの検査システム |
| JP4586790B2 (ja) * | 2006-10-11 | 2010-11-24 | 株式会社ダイフク | 板状体処理設備 |
| JP2008098317A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Daifuku Co Ltd | 板状体処理設備 |
| JP2011230859A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Seibu Electric & Mach Co Ltd | 板状物の搬送システム |
| JP2012222051A (ja) * | 2011-04-05 | 2012-11-12 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 板状部材移送システム及びその移送方法、並びに板状部材収納システム及びその収納方法 |
| WO2013139053A1 (zh) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃基板的取出装置 |
| CN114743896A (zh) * | 2022-03-17 | 2022-07-12 | 无锡杰进科技有限公司 | 一种自动化芯片测试设备及其使用方法 |
| CN116533391A (zh) * | 2023-06-13 | 2023-08-04 | 麦卡电工器材(陆河)有限公司 | 一种具有检测功能的云母片生产装置 |
| CN116533391B (zh) * | 2023-06-13 | 2023-10-03 | 麦卡电工器材(陆河)有限公司 | 一种具有检测功能的云母片生产装置 |
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