JP2002167038A

JP2002167038A - 基板移載装置

Info

Publication number: JP2002167038A
Application number: JP2000366134A
Authority: JP
Inventors: Takaaki Hasegawa; 敬晃長谷川; Kengo Matsuo; 研吾松尾; Takahisa Suzuki; 孝久鈴木; Hiroki Murakami; 弘記村上; Hiroshi Suzuoka; 浩鈴岡
Original assignee: IHI Corp
Current assignee: IHI Corp
Priority date: 2000-11-30
Filing date: 2000-11-30
Publication date: 2002-06-11

Abstract

(57)【要約】【課題】可動要素が少なく、広いスペースをとらず、
プロセスの稼働効率を高める基板移載装置を提供する。【解決手段】水平にした基板１が多段に収納されてい
るカセット２を所定のカセット搬送水準で搬送するカセ
ット搬送手段３を設け、搬送されたカセット２をカセッ
ト搬送水準より下に下降させるカセット下降手段４を設
け、その下降するカセット２の下で基板を待ち受けるロ
ーラ５を設け、上記カセット２を下降させることによ
り、カセット２内の基板１を上記ローラ５に到着させ、
このローラ５により上記カセット搬送水準より低い基板
移載水準で基板１をカセット２外に移載し、さらにカセ
ット２を下降させることにより、順次、上記基板移載水
準で基板１をカセット２外に移載する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板をカセットか
ら取り出してプロセスに受け渡す、或いは基板をプロセ
スから受け取ってカセットに収納するための移載装置に
係り、特に、可動要素が少なく、広いスペースをとら
ず、プロセスの稼働効率を高める基板移載装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】フラットパネルディスプレイの製造ライ
ンにおいて、パネル用のガラス基板は、各プロセスにお
いて単葉毎に処理されるが、プロセス間では複葉のガラ
ス基板をカセットに収納して一括搬送される。従って、
搬送ラインとプロセスとの間で、カセットから単葉のガ
ラス基板を取り出してプロセスに受け渡す、或いはプロ
セスから受け取った単葉のガラス基板をカセットに収納
するための移載装置（ローダ・アンローダ）が使用され
る。移載の方式として、ローラ式とハンド式とが一般に
採用されている。以下、カセットからガラス基板を取り
出す場合について説明する。

【０００３】ハンド式は、ガラス基板を載せることので
きるロボットハンドをカセット内のガラス基板の下に差
し込み、そのロボットハンドを上昇させることにより、
ガラス基板をカセットから離間させてロボットハンド上
に載せ、そのロボットハンドをカセット外へ移動させた
後、ロボットハンドからプロセスにガラス基板を受け渡
す方式である。

【０００４】ローラ式は、ローラをカセット内に挿入
し、このローラによってガラス基板をプロセスに移送す
る方式である。従来のローラ式は、ローラをカセットの
下方から上昇させてカセット内に挿入している。カセッ
ト内の最下段の基板をローラで送り出した後は、それよ
り高い位置に次に送り出す基板があるが、プロセスにて
基板を受け取る高さを固定とするために、カセットを下
降させる手段が必要になる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ハンド式は、カセット
とプロセスとの間にロボットハンドがカセット内外を運
動するためのスペースを必要とする。カセットを設置す
る場所とプロセスとの間には、上記の運動スペースだけ
でなく、その運動スペースの側方にも無駄スペースが生
じてしまう。その結果として製造ライン全体の占めるス
ペースが大きくなってしまう。フラットパネルディスプ
レイの製造ラインは、その全体をクリーンルーム内に設
置するなどして清浄雰囲気に管理することが必要である
ため、占有スペースが大きいことはコスト的に不利であ
る。その点、ローラ式はカセットとプロセスとの間にス
ペースが要らないので、コスト的に有利である。

【０００６】しかしながら、従来のローラ式は、カセッ
トを水平搬送するときのカセット底面の高さ（これをカ
セット搬送水準という）よりもローラが基板を送り出す
高さ（これを基板移載水準という）が高いので、ローラ
を基板移載水準に待機させた状態でカセットをローラの
場所まで搬入しようするとカセットがローラに干渉して
しまう。そこで、予めローラを下方に退避させておき、
カセットをローラの場所に搬入した後、ローラを上昇さ
せてカセット内に挿入している。このため、カセットを
下降させる手段とローラを上昇させる手段とが共に必要
になる。

【０００７】ここでカセットは、図１８に示されるよう
に、矩形の穴空き板を天板１０１及び底板１０２とし、
これら天板１０１及び底板１０２の両長辺間を複数の柱
１０３で支持したものである。また、天板１０１及び底
板１０２の両長辺間にはガラス基板を載せ置くためのリ
ブ１０４を多段に配した棚部材１０５が設けられてい
る。このリブ１０４に載せ置かれたガラス基板を短辺に
臨む方向へ取り出すよう、短辺側開口部（基板出口）に
は部材が設けられていない。ローラは、底板１０２の穴
からカセット内に挿入することになる。このような構造
であるため、カセットを水平搬送するときには、ローラ
を退避させる必要が生じる。

【０００８】従来の移載装置のもう一つの問題点とし
て、プロセスの稼働効率の問題点がある。カセットから
基板を取り出しているため、カセットが空になったと
き、その空カセットを充実カセットに交換しなくてはな
らない。このカセット交換の間に、プロセスが最後に受
け取った基板を処理し終えてしまうと、プロセスはカセ
ット交換の終了まで待ち状態になる。プロセスの稼働効
率を高めるには、カセット交換によるプロセスの待ち状
態を短縮させる必要がある。

【０００９】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、可動要素が少なく、広いスペースをとらず、プロセ
スの稼働効率を高める基板移載装置を提供することにあ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、水平にした基板が多段に収納されているカ
セットを所定のカセット搬送水準で搬送するカセット搬
送手段を設け、搬送されたカセットをカセット搬送水準
より下に下降させるカセット下降手段を設け、その下降
するカセットの下で基板を待ち受けるローラを設け、上
記カセットを下降させることにより、カセット内の基板
を上記ローラに到着させ、このローラにより上記カセッ
ト搬送水準より低い基板移載水準で基板をカセット外に
移載し、さらにカセットを下降させることにより、順
次、上記基板移載水準で基板をカセット外に移載するも
のである。

【００１１】上記カセット下降手段のカセット搬送方向
直上流にカセット搬送水準でカセットを待機させる待機
場所を設け、上記カセット下降手段のカセット搬送方向
直下流に空カセットをカセット搬送水準で排出する排出
場所を設け、上記ローラにより基板を排出した後、空カ
セットをカセット搬送水準まで復帰させ、この空カセッ
トを上記排出場所へ排出するときに、上記待機場所で待
機していたカセットを上記カセット下降手段まで搬入し
てもよい。

【００１２】複数の上記カセット搬送手段、カセット下
降手段及びローラを基板移載水準が同じで各カセットの
基板出口が並ぶよう並列に設け、各カセットから送出さ
れてきた基板をその送出方向にさらに送出可能で、かつ
基板出口の並びに沿って移動自在な基板中継コンベアを
設け、この基板中継コンベアで一方のカセット下降手段
のカセットから送出された基板を基板出口の並びに対向
する任意の送出先に送出する間に、他方のカセット下降
手段ではカセット交換を行ってもよい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を添付
図面に基づいて詳述する。

【００１４】本発明に係る基板移載装置は、図１、図２
に示されるように、水平にしたガラス基板１が多段に収
納されているカセット２を所定のカセット搬送水準（図
ではカセット搬送レベル）で搬送するカセット搬送手段
３を設け、搬送されたカセット２をカセット搬送水準よ
り下に下降させるカセット下降手段（図では昇降装置）
４を設け、その下降するカセット２の下で基板を待ち受
けるローラ（図では差込コンベア）５を設け、図３に示
されるように、カセット２を下降させることにより、カ
セット２内のガラス基板１をローラ５に到着させ、この
ローラ５により上記カセット搬送水準より低い基板移載
水準（図では基板搬送レベル）でガラス基板１をカセッ
ト２外に移載し、図４に示されるように、さらにカセッ
ト２を下降させることにより、順次、上記基板移載水準
でガラス基板１をカセット２外に移載するものである。

【００１５】カセット２の構造は既に説明したとおりで
ある。

【００１６】カセット搬送手段３は、カセット２を短辺
に沿う方向、即ち、紙面の奥行き側から紙面の手前側に
搬送するもので、具体的には、複数の回転要素３ａを搬
送方向に並べた回転要素列３ｂをカセット２の両短辺に
それぞれ沿わせて平行配置したものである。（図６の平
面図を参照）。各回転要素３ａの上面がカセット搬送水
準となる。

【００１７】カセット下降手段４は、カセット２をカセ
ット搬送手段３に載せたまま昇降するもので、具体的に
は、４本のシリンダ４ａをカセット２の底面の四隅にあ
たる位置に配置したものである。カセット搬送手段３の
２つの回転要素列３ｂがそれぞれ２本のシリンダ４ａで
支持されていることになる。シリンダ４ａの最大ストロ
ーク位置は、少なくともカセット２がカセット搬送水準
にある位置であり、シリンダ４ａの最小ストローク位置
は、少なくともカセット２内の最上段のガラス基板１が
基板移載水準にある位置である。

【００１８】ローラ５は、カセット２の底板の穴からカ
セット２内に挿入可能に支持柱５ａを配置・構成し、そ
の支持柱５ａの頂部に回転要素５ｂを設け、この回転要
素５ｂによりカセット２の両短辺側からガラス基板１を
カセット２外に移載するものである。各回転要素５ｂの
上面が基板移載水準となる。本発明において重要な特徴
点は、ローラ５がカセット下降手段４の復帰状態におい
てカセット搬送手段３より低い位置に配置されているこ
と、及びローラ５が伸縮等の運動をしない固定のもので
あることである。これらの特徴点により、ローラ５は、
カセット下降手段４によって下降するカセット２の下で
ガラス基板１を待ち受け、カセット搬送水準より低い基
板移載水準でガラス基板１をカセット２外に移載するこ
とになる。言い換えると、カセット搬送水準より低いと
ころに基板移載水準を設定したので、専らカセット２を
下降させるだけとし、ローラ５を固定とすることができ
た。即ち、従来より可動要素が少なくできた。

【００１９】なお、図示しないがプロセスはカセット下
降手段４上のカセット２の基板出口に臨んでおり、プロ
セスの基板受け取りの水準は、ローラ５による基板移送
の水準に等しいものとする。

【００２０】次に、本発明に係る基板移載装置の動作を
図１〜図５を用いて説明する。

【００２１】図１は、待機状態を示している。ここで
は、カセット下降手段４の４本のシリンダ４ａが最大ス
トロークに伸びており、カセット搬送手段３の２つの回
転要素列３ｂの上面がカセット搬送水準に位置してい
る。

【００２２】図２は、カセット搬送手段３上にカセット
２が配置された状態を示している。ローラ５がカセット
２に届いておらず、このため、カセット２をローラ５に
干渉させることなく、紙面の奥行き側から搬入すること
ができる。

【００２３】図３は、カセット下降動作とガラス基板排
出動作とを示している。図２の状態から、カセット２を
下降させることにより、カセット２内の最下段のガラス
基板１をローラ５に到着させてカセット下降を停止さ
せ、その後、ローラ５を駆動してカセット搬送水準より
低い基板移載水準でガラス基板１をカセット２外に移載
する。その後も、カセット２をカセット２内のリブピッ
チずつ下降させることにより、順次、ガラス基板１を固
定の基板移載水準でカセット２外に移載する。

【００２４】図４は、最上段のガラス基板１が排出され
ている状態を示している。カセット下降手段４の４本の
シリンダ４ａが最小ストロークまで縮んでいる。図３か
ら図４までの過程により、最下段のガラス基板１から最
上段のガラス基板１までが同じ基板移載水準でカセット
２外に移載される。

【００２５】図５は、空カセットをカセット搬送水準ま
で復帰させる動作を示している。カセット下降手段４の
４本のシリンダ４ａを最大ストロークに伸ばすことによ
り、カセット２が空であるほかは図２と同じ状態にな
る。

【００２６】本発明の基板移載装置は、ローラ式を採用
しているので、プロセスに直結することができ、ハンド
式に比べて占有スペースが小さいため、清浄雰囲気に管
理することが必要な工場の空間を小さくし、或いは限ら
れた工場空間を有効利用することが可能になる。

【００２７】次に、本発明の他の実施形態を説明する。

【００２８】図６〜図１１に示した形態は、３ステーシ
ョン式と呼ぶものである。

【００２９】図６に示されるように、図１で説明したカ
セット搬送手段（横行コンベア）３、カセット下降手段
４及びローラ（差込コンベア）５が設けられており、カ
セット下降手段４のカセット搬送方向直上流にカセット
搬送水準でカセットを待機させる待機場所（配置場所）
６が設けられ、また、カセット下降手段４のカセット搬
送方向直下流に空カセットをカセット搬送水準で排出す
る排出場所７が設けられている。待機場所６及び排出場
所７には、カセット下降手段４に設けたのと同様のカセ
ット搬送手段３が設けられている。なお、待機場所６に
カセット２を設置する手段、排出場所７より空カセット
２を除去する手段は、限定しない。

【００３０】カセット搬送手段３は、複数の回転要素３
ａを搬送方向に並べた回転要素列３ｂをカセット２の両
短辺にそれぞれ沿わせて平行配置したものである。ま
た、カセット下降手段４は、４本のシリンダ４ａをカセ
ット２の底面の四隅にあたる位置に配置したものであ
る。

【００３１】次に、この基板移載装置の動作を図６〜図
１１を用いて説明する。

【００３２】図６の状態では、カセット下降手段４が図
１で説明した待機状態にあり、待機場所６、カセット下
降手段４及び排出場所７の各カセット搬送手段３が水平
に並んでいる。ここで、外部より待機場所６にカセット
（充填カセット）２が設置されたものとする。

【００３３】図７において、待機場所６からカセット下
降手段４へカセット２を搬送する。これにより、カセッ
ト下降手段４が図２で説明したカセット配置状態とな
る。

【００３４】図８において、カセット下降手段４及びロ
ーラ５により、既に説明したカセット下降動作とガラス
基板排出動作とを行う。このとき、カセット２内のガラ
ス基板１が排出終了する以前に、待機場所６には次に使
用するカセット２が設置される。

【００３５】カセット２内のガラス基板１が排出終了し
たとき、図９に示されるように、空カセット２をカセッ
ト搬送水準まで復帰させる。そして、この空カセット２
を排出場所７へ排出するとき、図１０に示されるよう
に、同時に、待機場所６で待機していたカセット２をカ
セット下降手段４まで搬入する。その後、図１１に示さ
れるように、カセット下降手段４を下降させて新しいカ
セット２からのガラス基板排出を行うが、このとき、待
機場所６へのカセット２の設置と、排出場所７からの空
カセット２の除去とを行う。

【００３６】以上の説明からわかるように、この基板移
載装置は、カセット下降手段４から空カセット２を排出
場所７へ排出するときに、待機場所６で待機していたカ
セットをカセット下降手段４まで搬入できるので、時間
の無駄がない。また、カセット下降手段４上のカセット
２からガラス基板１をプロセスに移載している間に、待
機場所６へのカセット２の設置と、排出場所７からの空
カセット２の除去とを行うことができ、時間的効率が良
い。

【００３７】また、この基板移載装置は、プロセスに直
結することができると共に、待機場所６、カセット下降
手段４及び排出場所７が、それぞれカセット２とほぼ同
じの平面サイズで構成され、しかも互いに隣接させて設
けるので、スペース効率も良い。

【００３８】図１２〜図１７に示した形態は、２ステー
ション式と呼ぶものである。

【００３９】図１２に示されるように、図１で説明した
カセット搬送手段３、カセット下降手段４及びローラ５
からなる装置が２組設けられており、各組の装置（装置
Ａ、装置Ｂ）は、基板移載水準が互いに同じで各カセッ
ト２の基板出口が並ぶよう並列に設けられている。そし
て、これらの基板出口に臨ませて基板中継コンベア８
（受取・受渡コンベア）が設けられている。

【００４０】基板中継コンベア８は、各カセット２から
送出されてきたガラス基板１をその送出方向にさらに送
出可能とするべく、複数の回転要素８ａを送出方向に並
べたものである。そして、基板中継コンベア８は、基板
出口の並びに沿って移動自在に構成されている。基板中
継コンベア８を移動させる機構については、ここでは限
定しないが、例えば、カセット下降手段４の短辺に平行
なガイド軸８ｂを２組の装置Ａ，Ｂに渡らせて設け、こ
れらのガイド軸８ｂによって基板中継コンベア８を案内
するとよい。

【００４１】次に、この基板移載装置の動作を図１２〜
図１７を用いて説明する。

【００４２】図１２の状態では、装置Ｂが図１で説明し
た待機状態にあり、装置Ａには既にカセット（充填カセ
ット）２が設置されている。基板中継コンベア８は、装
置Ａの基板出口で待機している。

【００４３】図１３において、装置Ａでは、カセット下
降手段４及びローラ５により、カセット下降動作とガラ
ス基板排出動作とを行う。これにより１枚のガラス基板
１が基板中継コンベア８上に載せられることになる。一
方、装置Ｂでは、カセット下降手段４上に次に使用する
カセット２が設置される。

【００４４】次いで、図１４に示すように、装置Ａのカ
セット下降手段４は、カセット２内の１段上のガラス基
板１を基板移載水準に位置させるべく、下降する。ま
た、ガラス基板１を載せた基板中継コンベア８は、プロ
セス入口まで移動し、ガラス基板１をプロセスへと送り
出す。プロセス入口は、装置Ａ，Ｂの中央に描かれてい
るが、基板中継コンベア８が移動できる範囲内のどこに
でも設置できる。

【００４５】その後、装置Ａのカセット下降手段４が順
次、下降し、基板中継コンベア８が装置Ａプロセス間を
往復し、装置Ａのローラ５による基板排出が繰り返され
る。装置Ａのカセット２内のガラス基板１が全て排出終
了したとき、図１５に示されるように、空カセット２を
カセット搬送水準まで復帰させる。基板中継コンベア８
は、最後に受け取ったガラス基板１をプロセスに送り出
した後、装置Ａに戻らず、装置Ｂまで移動する。この間
に、装置Ａでは空カセット２が除去される。

【００４６】次いで、図１６に示すように、今度は装置
Ｂにおいて、カセット下降手段４及びローラ５により、
カセット下降動作とガラス基板排出動作とを行う。これ
により１枚のガラス基板１が基板中継コンベア８上に載
せられることになる。一方、装置Ａでは、カセット下降
手段４上に次に使用するカセット２が設置される。

【００４７】図１７に示すように、装置Ｂにおいて移載
を行っている間は、基板中継コンベア８が装置Ｂプロセ
ス間を往復することになる。

【００４８】以上の説明からわかるように、この基板移
載装置は、基板中継コンベア８で一方のカセット下降手
段４のカセット２から送出されたガラス基板１を基板出
口の並びに対向する任意の送出先に送出する間に、他方
のカセット下降手段４ではカセット交換を行うので、時
間的効率が良い。

【００４９】また、この基板移載装置は、装置Ａ，Ｂと
プロセスとの間に、基板中継コンベア８が挿入されてい
るので、この基板中継コンベア８上にて、カセット２か
ら受け渡されたガラス基板１を検査したり、プロセス投
入のための予備処理を行うことができる。

【００５０】さらに、この基板移載装置は、基板中継コ
ンベア８の移動範囲の任意位置にプロセスを配置するこ
とができる。言い換えると、プロセスに対して基板移載
装置を任意に配置することができ、工場内のレイアウト
の自由度が高くなる。

【００５１】なお、これまで、基板をカセットから取り
出してプロセスに受け渡す場合を中心に説明したが、基
板をプロセスから受け取ってカセットに収納する場合で
も、本発明が効果を発揮することは勿論である。

【００５２】

【発明の効果】本発明は次の如き優れた効果を発揮す
る。

【００５３】（１）ローラ式を採用したことにより、プ
ロセス直結が可能となり、スペース効率が向上する。

【００５４】（２）カセット搬送水準より低いところに
基板移載水準を設定したので、専らカセットを下降させ
るだけで、ローラを固定とすることができ、可動要素が
少なくできる。

【００５５】（３）３ステーション式では、カセット下
降手段上のカセットから基板をプロセスに移載している
間に、待機場所へのカセット設置と排出場所からの空カ
セット除去とを行うことができ、時間的効率が良い。

【００５６】（４）２ステーション式では、一方のカセ
ット下降手段のカセットから基板をプロセスに移載して
いる間に、他方のカセット下降手段ではカセット交換を
行うことができ、時間的効率が良い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示す基板移載装置の正面
図である。

【図２】図１の基板移載装置の動作途中の正面図であ
る。

【図３】図１の基板移載装置の動作途中の正面図であ
る。

【図４】図１の基板移載装置の動作途中の正面図であ
る。

【図５】図１の基板移載装置の動作途中の正面図であ
る。

【図６】本発明の他の実施形態を示す基板移載装置の三
面図である。上が平面図、下右が正面図、下左が側面図
である。

【図７】図６の基板移載装置の動作途中の三面図であ
る。

【図８】図６の基板移載装置の動作途中の三面図であ
る。

【図９】図６の基板移載装置の動作途中の三面図であ
る。

【図１０】図６の基板移載装置の動作途中の三面図であ
る。

【図１１】図６の基板移載装置の動作途中の三面図であ
る。

【図１２】本発明の他の実施形態を示す基板移載装置の
三面図である。上が平面図、下右が装置Ａの正面図、下
左が側面図である。

【図１３】図１２の基板移載装置の動作途中の三面図で
ある。

【図１４】図１２の基板移載装置の動作途中の三面図で
ある。

【図１５】図１２の基板移載装置の動作途中の三面図で
ある。

【図１６】図１２の基板移載装置の動作途中の三面図で
ある。

【図１７】図１２の基板移載装置の動作途中の三面図で
ある。

【図１８】カセットの斜視図である。

【符号の説明】

１ガラス基板２カセット３カセット搬送手段４カセット下降手段（昇降装置）５ローラ６待機場所７排出場所８基板中継コンベア

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木孝久東京都江東区豊洲三丁目１番15号石川島播磨重工業株式会社東京エンジニアリングセンター内 (72)発明者村上弘記東京都江東区豊洲三丁目２番16号石川島播磨重工業株式会社東京エンジニアリングセンター内 (72)発明者鈴岡浩東京都江東区毛利一丁目19番10号石川島播磨重工業株式会社江東事務所内Ｆターム(参考） 2H088 FA17 HA01 3F022 AA08 CC02 EE05 JJ20 LL33 MM01 MM13 MM15 5F031 CA05 DA01 FA02 FA03 FA07 FA11 GA53 GA60 LA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水平にした基板が多段に収納されている
カセットを所定のカセット搬送水準で搬送するカセット
搬送手段を設け、搬送されたカセットをカセット搬送水
準より下に下降させるカセット下降手段を設け、その下
降するカセットの下で基板を待ち受けるローラを設け、
上記カセットを下降させることにより、カセット内の基
板を上記ローラに到着させ、このローラにより上記カセ
ット搬送水準より低い基板移載水準で基板をカセット外
に移載し、さらにカセットを下降させることにより、順
次、上記基板移載水準で基板をカセット外に移載するこ
とを特徴とする基板移載装置。
【請求項２】上記カセット下降手段のカセット搬送方
向直上流にカセット搬送水準でカセットを待機させる待
機場所を設け、上記カセット下降手段のカセット搬送方
向直下流に空カセットをカセット搬送水準で排出する排
出場所を設け、上記ローラにより基板を排出した後、空
カセットをカセット搬送水準まで復帰させ、この空カセ
ットを上記排出場所へ排出するときに、上記待機場所で
待機していたカセットを上記カセット下降手段まで搬入
することを特徴とする請求項１記載の基板移載装置。
【請求項３】複数の上記カセット搬送手段、カセット
下降手段及びローラを基板移載水準が同じで各カセット
の基板出口が並ぶよう並列に設け、各カセットから送出
されてきた基板をその送出方向にさらに送出可能で、か
つ基板出口の並びに沿って移動自在な基板中継コンベア
を設け、この基板中継コンベアで一方のカセット下降手
段のカセットから送出された基板を基板出口の並びに対
向する任意の送出先に送出する間に、他方のカセット下
降手段ではカセット交換を行うことを特徴とする請求項
１記載の基板移載装置。