JP2010137975A - 基板保管供給システム - Google Patents

Abstract

【課題】基板保管供給システム１の設置面積を削減して、工場内のスペースの有効利用を容易に図ること。
【解決手段】離隔ステーションＥＳに、基板カセット３を昇降可能に間接的に支持するカセット昇降支持機構１５が配設され、中間ステーションＭＳに配設した支持フレーム３１に、カセットＸ軸移動機構２５によって移動された基板カセット３を受け取る第１カセットレシーバ３３が昇降可能に設けられ、支持フレーム３１に第１カセットレシーバ３３側から基板カセット３を受け取る第２カセットレシーバ４３が昇降可能に設けられ、離隔ステーションＥＳに、空カセットＸ軸移動機構５７によって移動された空の基板カセット３を支持する空カセット支持機構６５が配設されたこと。
【選択図】図１

Description

本発明は、多数のガラス基板等の基板を一時的に保管すると共に、基板をプロセス処理装置等の基板処理装置へ供給する基板保管供給システムに関する。

クリーン搬送の分野において、多数の基板を一時的に保管したり、基板を基板処理装置へ供給したりする場合に、一般に、基板を保管可能な複数段の保管部を有した基板カセットが用いられている。また、特許文献１に示す基板保管供給システムのように、基板処理装置の運転中断時間の短縮化を踏まえて、基板処理装置のＸ軸方向の片側のステーションに基板カセットを支持する複数のカセット支持機構をＹ軸方向に沿って配設すること、換言すれば、複数の基板カセットを平面的にストックすることもよく行われている。
特開２００５−６０１１０号公報

ところで、前述のように、基板処理装置のＸ軸方向の片側のステーションに複数の基板カセットを平面的にストックすると、基板保管供給システムの設置面積が増大して、工場内のスペースの有効利用を図ることが困難になるという問題がある。

そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板保管供給システムを提供することを目的とする。

本発明の特徴は、基板を保管可能な複数段の保管部を有した基板カセットを用いて、多数の基板を一時的に保管すると共に、基板を基板処理装置へ供給する基板保管供給システムにおいて、前記基板処理装置に対してＸ軸方向に離隔した離隔ステーションに配設され、前記基板カセットを昇降可能に間接的又は直接的に支持するカセット昇降支持機構と、前記カセット昇降支持機構側から前記基板カセットをＸ軸方向の一方側へ移動させるカセットＸ軸移動機構と、前記基板処理装置と前記離隔ステーションの間の中間ステーションに配設した支持フレームに昇降可能に設けられ、前記カセットＸ軸移動機構によって移動された前記基板カセットを受け取る第１カセットレシーバと、前記支持フレームに昇降可能に設けられ、前記基板カセットにおける複数段の前記保管部を下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めできるように構成され、前記第１カセットレシーバの相対的な下降により前記第１カセットレシーバ側から前記基板カセットを受け取る第２カセットレシーバと、前記所定の送出高さ位置に順次位置決めされた前記基板カセットの前記保管部に保管した基板をＸ軸方向の一方側へ送り出す基板送出機構と、前記第２カセットレシーバ側から空の前記基板カセットをＸ軸方向の他方側へ移動させる空カセットＸ軸移動機構と、前記離隔ステーションに配設され、前記空カセットＸ軸移動機構によって移動された空の前記基板カセットを支持する空カセット支持機構と、を具備したことを要旨とする。

なお、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、ブラケット等の介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意であって、同様に、「配設され」とは、直接的に配設されたことの他に、ブラケット等の介在部材を介して間接的に配設されたことを含む意である。また、基板処理装置とは、基板に対してプロセス処理（エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等を含む）、搬送処理等の基板処理を行う装置のことをいう。

本発明の特徴によると、前記第２カセットレシーバによって前記基板カセットを受け取りかつ前記カセット昇降支持機構によって他の前記基板カセットを間接的又は直接的に支持した状態の下で、前記第２カセットレシーバを下降させて、前記基板カセットにおける複数段の前記保管部を下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めする。また、前記所定の送出高さ位置に順次位置決めされた前記基板カセットの前記保管部に保管した基板を前記基板送出機構によってＸ軸方向の一方側へ送り出す。これにより、前記第２カセットレシーバ上の前記基板カセット（前記第２カセットレシーバによって受け取った前記基板カセット）における複数段の前記保管部に保管した基板（前記第２カセットレシーバ上の前記基板カセットに保管した全ての基板）を前記基板処理装置へ供給することができる。

基板を前記基板処理装置へ供給している間又は供給する前に、前記カセット昇降支持機構によって他の前記基板カセットを上昇させて、前記カセットＸ軸移動機構によって他の前記基板カセットをＸ軸方向の一方側へ移動させる。そして、前記第１カセットレシーバによって他の前記基板カセットを受け取る。

前記基板カセットに保管した全ての基板を前記基板処理装置へ供給した後に、前記空カセットＸ軸移動機構によって前記第２カセットレシーバ側から空の前記基板カセットをＸ軸方向の他方側へ移動させて、前記空カセット支持機構に支持させる。そして、前記第１カセットレシーバを前記第２カセットレシーバに対して相対的に下降させて、前記第２カセットレシーバによって前記第１カセットレシーバ側から他の前記基板カセットを受け取る。なお、空の前記基板カセットは、前記空カセット支持機構から適宜に排出される。

前述の一連の動作を繰り返すことにより、前記基板処理装置の運転状況に応じて、多数の基板を前記基板処理装置へ供給することができる。

要するに、多数の基板を前記基板処理装置へ供給する過程において、前記カセット昇降支持機構、前記第１カセットレシーバ、前記第２カセットレシーバ、及び前記空カセット支持機構を経由させつつ、仮想の垂直面に沿って複数の前記基板カセットを移動させることができる。これにより、前記基板処理装置の運転中断時間の短縮化を踏まえて、前記離隔ステーション及び前記中間ステーションにおいて複数の前記基板カセットを立体的にストックすることができる。

本発明によれば、前記基板処理装置の運転中断時間の短縮化を踏まえて、前記離隔ステーション及び前記中間ステーションにおいて複数の前記基板カセットを立体的にストックすることができるため、前記基板保管供給システムの設置面積を削減して、工場内のスペースの有効利用を容易に図ることができる。

本発明の実施形態について図１から図８を参照して説明する。

ここで、図１は、本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの側面図、図２は、図１におけるII-II線に沿った図、図３は、図１におけるIII-III線に沿った図、図４は、図３における矢視部IVの拡大図、図５から図７は、本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの動作説明図、図８は、本発明の実施形態に係る基板カセットの正面図である。

図１に示すように、本発明の実施形態に係る基板保管供給システムは、基板Ｗを保管可能な複数段の保管部（保管棚）３ｓを有した基板カセット３を用いて、多数の基板Ｗを一時的に保管すると共に、基板Ｗをプロセス処理装置５（基板処理装置の一例９へ供給するシステムである。そして、基板保管供給システム１の具体的な構成について説明する前に、まず、基板カセット３の具体的な構成について説明する。

図８に示すように、本発明の実施形態に係る基板カセット３は、特開２００２−１６７０３８号公報に記載された公知の構成の箱型のカセット本体７を備えており、このカセット本体７の下側（底側）は、部分的又は全体的に開放されている。また、カセット本体７の各内側面には、基板Ｗの端部を支持する複数の支持ピン９が長さ方向（基板カセット３の長さ方向）及び上下方向に沿って間隔を置いて設けられており、複数の支持ピン９によって前述の複数段の保管部３ｓが形成されるようになっている。更に、カセット本体７の各外側面には、長さ方向へ延びたフランジ１１が設けられており、カセット本体７の各外側面と対応するフランジ１１の間には、複数のフリーローラ１３が長さ方向に間隔を置いて設けられてあって、各フリーローラ１３は、幅方向（基板カセット３の幅方向）に平行な軸心周りに回転自在である。なお、カセット本体７の各内側面に複数の支持ピン９が設けられる代わりに、カセット本体７の一対の内側面の間に基板Ｗの支持する複数の支持ワイヤが長さ方向及び上下方向に間隔を置いて架設されるようにしても構わない。

続いて、基板保管供給システム１の具体的な構成について説明する。

図１から図４に示すように、プロセス処理装置５に対してＸ軸方向（換言すれば、左右方向）に離隔した離隔ステーションＥＳには、基板カセット３を昇降可能に間接的に支持するカセット昇降支持機構１５がＹ軸方向（換言すれば、前後方向）へ移動可能に設けられている。具体的には、離隔ステーションＥＳには、台車１７が一対のレール１９を介してＹ軸方向へ移動可能に設けられており、この台車１７の適宜位置には、台車１７をＹ軸方向へ移動させる台車用Ｙ軸移動モータ等の台車用Ｙ軸移動アクチュエータ（図示省略）が設けられている。また、台車１７には、基板カセット３を間接的に支持する昇降テーブル２１がリンク機構２３を介して昇降可能に設けられており、リンク機構２３の適宜位置には、昇降テーブル２１を昇降させるテーブル用昇降シリンダ等のテーブル用昇降アクチュエータ（図示省略）が設けられている。

昇降テーブル２１には、基板カセット３を昇降テーブル２１側からＸ軸方向の一方側（換言すれば、プロセス処理装置５側又は右方向）へ移動させるカセットＸ軸移動機構２５が設けられている。具体的には、昇降テーブル２１には、下部スライダ２７がＸ軸方向へ移動可能に設けられており、下部スライダ２７には、基板カセット３のカセット本体７を直接的に支持する上部スライダ２９がＸ軸方向へ移動可能に設けられている。また、昇降テーブル２１の適宜位置には、下部スライダ２７及び上部スライダ２９をＸ軸方向へ移動させるスライダ用Ｘ軸移動モータ等のスライダ用Ｘ軸移動アクチュエータ（図示省略）が設けられている。

なお、カセット昇降支持機構１５及びカセットＸ軸移動機構２５は基板保管供給システム１以外のシステムの一部を構成するように台車１７によってＹ軸方向へ移動可能になっているが、カセット昇降支持機構１５はＹ軸方向へ移動不能であっても構わない。また、昇降テーブル２１によって基板カセット３を上部スライダ２９を介して間接的に支持する代わりに、昇降テーブル２１によって基板カセット３を直接的に支持するようにしても構わない。

プロセス処理装置５と離隔ステーションＥＳの間の中間ステーションＭＳには、上下方向へ延びた一対の支持フレーム３１が配設されており、一対の支持フレームは、Ｙ軸方向に離隔しかつ対向してある。

各支持フレーム３１の対向面（対向側）には、Ｘ軸方向へ延びた第１カセットレシーバ３３が昇降可能に設けられており、一対の第１カセットレシーバ３３は、カセットＸ軸移動機構２５によって移動された基板カセット３を受け取るものであって、Ｙ軸方向に離隔しかつ対向してある。また、各第１カセットレシーバ３３は、基板カセット３のフランジ１１を下側から支持する一対の支持爪３５を有しており、各第１カセットレシーバの各支持爪３５は、爪用支持位置（図３及び図４において実線で示す位置）と爪用回避位置（図４において仮想線で示す位置）との間で僅かに移動可能に構成されている。ここで、爪用支持位置とは、第１カセットレシーバ３３の対向面３３ｆに対して突出しかつ基板カセット３のフランジ１１を支持可能な通常の位置のことであって、爪用回避位置とは、第１カセットレシーバ３３の対向面３３ｆに対して没入しかつ基板カセット３のフランジ１１との干渉を回避可能な位置のことである。そして、各第１カセットレシーバ３３の適宜位置には、各支持爪３５を僅かに移動させる爪用ミニシリンダ等の爪用アクチュエータ（図示省略）が設けられている。なお、爪用回避位置は、基板カセット３のフランジ１１との干渉を回避可能な位置であれば、第１カセットレシーバ３３の対向面３３ｆに対して没入しなくても構わない。

各支持フレーム３１の上部には、第１カセットレシーバ３３を昇降させる第１レシーバ用昇降モータ３７（第１レシーバ用昇降アクチュエータの一例）が設けられている。また、各支持フレーム３１の内部には、第１レシーバ用昇降モータ３７の出力軸に連動連結しかつ上下方向へ延びた第１ボールねじ３９が回転可能に設けられており、各第１カセットレシーバ３３には、第１ボールねじ３９に螺合したナット部材４１が設けられている。

各支持フレーム３１の対向面には、第２カセットレシーバ４３が昇降可能かつ第１カセットレシーバ３３とすれ違い可能に設けられており、一対の第２カセットレシーバ４３は、一対の第１カセットレシーバ３３の相対的な下降により基板カセット３を第１カセットレシーバ３３側から受け取るものである。また、各第２カセットレシーバ４３は、対応する第１カセットレシーバ３３とすれ違うように、上から見みると対応する第１カセットレシーバ３３を囲むようになってあって、自身の下降（第２カセットレシーバ４３の下降）により基板カセット３における複数段の保管部３ｓを下段側から所定の送出高さ位置（図５参照）に順次位置決めできるように構成されている。

各支持フレーム３１の上部には、第２カセットレシーバ４３を昇降させる一対の第２レシーバ用昇降モータ４５（第２レシーバ用昇降アクチュエータの一例）が設けられている。また、各支持フレーム３１の内部には、対応する第２レシーバ用昇降モータ４５の出力軸に連動連結しかつ上下方向へ延びた一対の第２ボールねじ４７が回転可能に設けられており、各第２カセットレシーバ４３には、対応する第２ボールねじ４７に螺合した一対（１つのみ図示）のナット部材４９が設けられている。

中間ステーションＭＳには、所定の送出高さ位置に順次位置決めされた基板カセット３の保管部３ｓに保管した基板ＷをＸ軸方向の一方側へ送り出す基板送出機構５１が配設されており、この基板送出機構５１は、特開２００２−１６７０３８号公報に記載された公知の構成からなる。具体的には、中間ステーションＭＳには、送出フレーム５３が配設されており、この送出フレーム５３は、複数の送出ローラ５５がＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って間隔を置いて設けられてあって、各送出ローラ５５は、Ｙ軸方向に平行な軸心周りに回転可能である。また、複数の送出ローラ５５は、第２カセットレシーバ４３上の基板カセット３（第２カセットレシーバ４３によって受け取った基板カセット３）の下側から基板Ｗの裏面に接触するようになっている。そして、送出フレーム５３の適宜位置には、複数の送出ローラ５５を回転させるローラ用回転モータ等のローラ用回転アクチュエータ（図示省略）が設けられている。

なお、複数の送出ローラ５５及びローラ用回転アクチュエータを備えた基板送出機構５１の代わりに、基板Ｗの端部を把持しかつＸ軸方向へ移動可能なクランパを備えた基板送出機構等を用いても構わない。

送出フレーム５３には、第２カセットレシーバ４３側から空の基板カセット３をＸ軸方向の他方側（換言すれば、プロセス処理装置５側の反対側又は左方向）へ移動させる空カセットＸ軸移動機構５７が設けられている。具体的には、送出フレーム５３の上部には、一対のロッドレスシリンダ５９が設けられており、各ロッドレスシリンダ５９は、Ｘ軸方向へ延びてあって、Ｘ軸方向へ移動可能なＸ軸可動子６１を有している。また、各ロッドレスシリンダ５９のＸ軸可動子６１には、空の基板カセット３のカセット本体７をＸ軸方向の他方側へ押し出し可能な空カセット押出部材６３が設けられている。

なお、ロッドレスシリンダ５９及び空カセット押出部材６３を備えた空カセットＸ軸移動機構５７の代わりに、各第２カセットレシーバ４３に空の基板カセット３をＸ軸方向の他方側へ搬送可能な複数の搬送ローラを備えた空カセットＸ軸移動機構等を用いても構わない。

離隔ステーションＥＳには、空カセットＸ軸移動機構５７によって移動された空の基板カセット３を支持する空カセット支持機構６５が配設されている。具体的には、離隔ステーションＥＳには、固定フレーム６７（一部のみ図示）が配設されており、この固定フレーム６７は、垂下した一対の取付部６７ａを有してあって、一対の取付部６７ａは、Ｙ軸方向に離隔してある。また、固定フレーム６７の各取付部６７ａには、空の基板カセット３を支持する空カセット支持アーム（空カセット支持部材）６９が設けられており、各空カセット支持アーム６９は、Ｙ軸方向へ延びている。更に、一対の空カセット支持アーム６９は、カセット昇降支持機構１５及びカセットＸ軸移動機構２５との干渉を回避できるように互いに接近・離反するＹ軸方向へ移動可能に構成されてあって、昇降テーブル２１の相対的な上昇により空の基板カセット３を昇降テーブル２１側に受け渡しできるように構成されている。そして、固定フレーム６７の各取付部６７ａには、対応する空カセット支持アーム６９をＹ軸方向へ移動させるアーム用Ｙ軸移動シリンダ７１（アーム用Ｙ軸移動アクチュエータの一例）が設けられており、各アーム用Ｙ軸移動シリンダ７１の可動ロッド７３の先端部は、対応する空カセット支持アーム６９の適宜位置に連結されている。

続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。

一対の第２カセットレシーバ４３によって基板カセット３を受け取りかつ昇降テーブル２１によって基板カセット３を間接的に支持した状態の下で、図５に示すように、複数の第２レシーバ用昇降モータ４５の駆動により一対の第２カセットレシーバ４３を下降させて、基板カセット３における複数段の保管部３ｓを下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めする。また、ローラ用回転アクチュエータの駆動により複数の送出ローラ５５を回転させて、所定の送出高さ位置に順次位置決めされた基板カセット３の保管部３ｓに保管した基板ＷをＸ軸方向の一方側へ送り出す。これにより、一対の第２カセットレシーバ４３上の基板カセット３（一対の第２カセットレシーバ４３によって受け取った基板カセット３）における複数段の保管部３ｓに保管した基板Ｗ（一対の第２カセットレシーバ４３上の基板カセット３に保管した全ての基板Ｗ）をプロセス処理装置５へ供給することができる。

基板Ｗをプロセス処理装置５へ供給している間又は供給する前に、一対のアーム用Ｙ軸移動シリンダ７１の駆動により一対の空カセット支持アーム６９を互いに離反するＹ軸方向へ移動させる。次に、図５に示すように、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル２１を上昇させて、スライダ用Ｘ軸移動アクチュエータの駆動により下部スライダ２７及び上部スライダ２９をＸ軸方向の一方側へ移動させることにより、他の基板カセット３を一対の第１カセットレシーバ３３の上側に位置させる。そして、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル２１を僅かに下降させることにより、上部スライダ２９の支持面（上面）を第１カセットレシーバ３３における支持爪３５の支持面（上面）よりも低い高さ位置に位置させて、一対の第１カセットレシーバ３３によって他の基板カセット３を受け取る。更に、テーブル用昇降アクチュエータ、スライダ用Ｘ軸移動アクチュエータ、及び一対のアーム用Ｙ軸移動シリンダ７１の駆動により昇降テーブル２１、下部スライダ２７、上部スライダ２９、及び一対の空カセット支持アーム６９を元の状態（通常の状態）に復帰させておく。なお、昇降テーブル２１等を元の状態に復帰させた後に、台車用Ｙ軸アクチュエータの駆動により台車１７をＹ軸方向へ移動させて、カセット昇降支持機構１５及びカセットＸ軸移動機構２５を基板保管供給システム１以外のシステムに運転に使用しても構わない。

一対の第２カセットレシーバ４３上の基板カセット３に保管した全ての基板Ｗをプロセス処理装置５へ供給した後に、図６に示すように、一対のロッドレスシリンダ５９の駆動により一対のＸ軸可動子６１をＸ軸方向の他方側へ移動させて、一対の空カセット押出部材６３によって空の基板カセット３をＸ軸方向の他方側へ押し出す（移動させる）ことにより、一対の第２カセットレシーバ４３側から空の基板カセット３を一対の空カセット支持アーム６９に支持させる。そして、一対のロッドレスシリンダ５９の駆動により一対のＸ軸可動子６１等を元の状態に復帰させる。

他の空の基板カセット３を一対の空カセット支持アーム６９に支持させた後に、複数の第１レシーバ用昇降モータ３７の駆動により一対の第１カセットレシーバ３３を下降させて、一対の第２カセットレシーバ４３とすれ違わせることにより、一対の第２カセットレシーバ４３によって一対の第１カセットレシーバ３３側から他の基板カセット３を受け取る。そして、各爪用アクチュエータの駆動により各支持爪３５を爪用支持位置から爪用回避位置まで僅かに移動させて、複数の第１レシーバ用昇降モータ３７の駆動により一対の第１カセットレシーバ３３を上昇させて、元の状態に復帰させる。更に、各爪用アクチュエータの駆動により各支持爪３５を爪用回避位置から爪用支持位置に僅かに移動させて、元の状態に復帰させる。

他の空の基板カセット３を一対の空カセット支持アーム６９に支持させた後に、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル２１を上昇させることにより、一対の空カセット支持アーム６９によって空の基板カセット３を昇降テーブル２１側に受け渡す。次に、一対のアーム用Ｙ軸移動シリンダ７１の駆動により一対の空カセット支持アーム６９を互いに離反するＹ軸方向へ移動させて、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル２１を下降させることにより、空の基板カセット３を一対の空カセット支持アーム６９の下側に位置させる。そして、台車用Ｙ軸アクチュエータの駆動により台車１７を所定のカセット交換位置までＹ軸方向へ移動させて、昇降テーブル２１側に対して空の基板カセット３と複数の基板Ｗを保管した基板カセット３との交換を行う。更に、台車用Ｙ軸アクチュエータの駆動により台車１７を元の状態に復帰させる。

前述の一連の動作を繰り返すことにより、プロセス処理装置５の運転状況に応じて、多数の基板Ｗをプロセス処理装置５へ供給することができる。

要するに、多数の基板Ｗをプロセス処理装置５へ供給する過程において、カセット昇降支持機構１５、一対の第１カセットレシーバ３３、一対の第２カセットレシーバ４３、及び空カセット支持機構６５を経由させつつ、仮想の垂直面に沿って複数の基板カセット３を循環移動させることができる。これにより、プロセス処理装置５の運転中断時間の短縮化を踏まえて離隔ステーションＥＳ及び中間ステーションＭＳにおいて複数の基板カセット３を立体的にストックすることができる。

従って、本発明の実施形態によれば、基板保管供給システム１の設置面積を削減して、工場内のスペースの有効利用を容易に図ることができる。

なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、その他、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。

本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの側面図である。 図１におけるII-II線に沿った図である。 図１におけるIII-III線に沿った図である。 図３における矢視部IVの拡大図である。 本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの動作説明図である。 本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの動作説明図である。 本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの動作説明図である。 本発明の実施形態に係る基板カセットの正面図である。

符号の説明

ＥＳ 離隔ステーション
ＭＳ 中間ステーション
Ｗ 基板
１ 基板保管供給システム
３ 基板カセット
３ｓ 保管部
５ プロセス処理装置
１５ カセット昇降支持機構
１７ 台車
２１ 昇降テーブル
２３ リンク機構
２５ カセットＸ軸移動機構
２７ 下部スライダ
２９ 上部スライダ
３１ 支持フレーム
３３ 第１カセットレシーバ
３５ 支持爪
３７ 第１レシーバ用昇降モータ
４３ 第２カセットレシーバ
４５ 第２レシーバ用昇降モータ
５１ 基板送出機構
５３ 送出フレーム
５５ 送出ローラ
５７ 空カセットＸ軸移動機構
５９ ロッドレスシリンダ
６３ 空カセット押出部材
６５ 空カセット支持機構
６７ 固定フレーム
６９ 空カセット支持アーム
７１ アーム用Ｙ軸移動シリンダ

Claims (6)

1. 基板を保管可能な複数段の保管部を有した基板カセットを用いて、多数の基板を一時的に保管すると共に、基板を基板処理装置へ供給する基板保管供給システムにおいて、
   前記基板処理装置に対してＸ軸方向に離隔した離隔ステーションに配設され、前記基板カセットを昇降可能に間接的又は直接的に支持するカセット昇降支持機構と、
   前記カセット昇降支持機構側から前記基板カセットをＸ軸方向の一方側へ移動させるカセットＸ軸移動機構と、
   前記基板処理装置と前記離隔ステーションの間の中間ステーションに配設した支持フレームに昇降可能に設けられ、前記カセットＸ軸移動機構によって移動された前記基板カセットを受け取る第１カセットレシーバと、
   前記支持フレームに昇降可能に設けられ、前記基板カセットにおける複数段の前記保管部を下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めできるように構成され、前記第１カセットレシーバの相対的な下降により前記第１カセットレシーバ側から前記基板カセットを受け取る第２カセットレシーバと、
   前記所定の送出高さ位置に順次位置決めされた前記基板カセットの前記保管部に保管した基板をＸ軸方向の一方側へ送り出す基板送出機構と、
   前記第２カセットレシーバ側から空の前記基板カセットをＸ軸方向の他方側へ移動させる空カセットＸ軸移動機構と、
   前記離隔ステーションに配設され、前記空カセットＸ軸移動機構によって移動された空の前記基板カセットを支持する空カセット支持機構と、を具備したことを特徴とする基板保管供給システム。
2. 前記空カセット支持機構は、前記カセット昇降支持機構の相対的な上昇により空の前記基板カセットを前記カセット昇降支持機構側に受け渡しできるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板保管供給システム。
3. 前記空カセット支持機構は、
   前記離隔ステーションに配設された固定フレームと、
   前記固定フレームにＹ軸方向に離隔して設けられ、Ｘ軸方向へ延びてあって、前記カセット昇降支持機構との干渉を回避できるように互いに接近・離反するＹ軸方向へ移動可能に構成され、空の前記基板カセットの端部を支持する一対の空カセット支持アームと、を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板保管供給システム。
4. 前記基板カセットの下側が部分的又は全体的に開放されてあって、
   前記基板送出機構は、
   前記中間ステーションに配設された送出フレームと、
   前記送出フレームにＸ軸方向に沿って間隔を置いて設けられ、Ｙ軸方向に平行な軸心周りに回転可能であって、前記基板カセットの下側から基板の裏面に接触するようになっている複数の送出ローラと、を備えたことを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の基板保管供給システム。
5. 前記カセット昇降支持機構は、
   前記離隔ステーションにＹ軸方向へ移動可能に設けられた台車と、
   前記台車にリンク機構を介して昇降可能に設けられ、前記基板カセットを間接的又は直接的に支持する昇降テーブルと、を備えたことを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれかの請求項に記載の基板保管供給システム。
6. 前記カセットＸ軸移動機構は、
   前記昇降テーブルにＸ軸方向へ移動可能に設けられ下部スライダと、
   前記下部スライダにＸ軸方向へ移動可能に設けられ、基板を直接的に支持する上部スライダと、を備えたことを特徴とする請求項５に記載の基板保管供給システム。

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