JPH0685032A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
- Publication number
- JPH0685032A JPH0685032A JP13667993A JP13667993A JPH0685032A JP H0685032 A JPH0685032 A JP H0685032A JP 13667993 A JP13667993 A JP 13667993A JP 13667993 A JP13667993 A JP 13667993A JP H0685032 A JPH0685032 A JP H0685032A
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- JP
- Japan
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- substrate
- unit
- processing unit
- traveling
- traverse
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】搬送装置の休止時間、待機時間を低減し、搬送
効率を向上させる。 【構成】複数の走行手段を有する走行搬送ユニット11
に沿って複数の横行ユニット14,15,16を設け、
各複数の走行手段と前記複数の横行ユニットを独立して
駆動可能とし、被搬送物7を各走行搬送ユニット及び各
横行ユニットが同時に搬送し、走行搬送ユニット及び各
横行ユニットの休止時間、待機時間を低減する。
効率を向上させる。 【構成】複数の走行手段を有する走行搬送ユニット11
に沿って複数の横行ユニット14,15,16を設け、
各複数の走行手段と前記複数の横行ユニットを独立して
駆動可能とし、被搬送物7を各走行搬送ユニット及び各
横行ユニットが同時に搬送し、走行搬送ユニット及び各
横行ユニットの休止時間、待機時間を低減する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置等、基板
搬送装置を具備する省力化装置に於ける基板搬送装置に
関するものである。
搬送装置を具備する省力化装置に於ける基板搬送装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造は、基板表面に薄膜を生成
し、エッチング処理し、又スパッタリングする等の多数
の処理工程を経てなされる。
し、エッチング処理し、又スパッタリングする等の多数
の処理工程を経てなされる。
【0003】近年は、顧客要求の多様化、高機能化等に
伴い、半導体製品の多種少量生産の必要に迫られてい
る。斯かる多種少量生産化に対応した生産様式として、
基板を1枚ずつ処理していく、枚葉処理方式の半導体製
造装置がある。又枚葉式半導体製造装置に於いて、ユー
ザ側の設備費用の削減と複合プロセス対応の要求から、
処理ユニットを複数個組合わせたクラスタ装置が注目さ
れている。クラスタ装置の1つの問題点はスループット
の低下であり、このスループットは、複数の処理ユニッ
トに於ける各プロセスの中で最も時間のかかるプロセス
時間に規制されてしまう。又、1種類のプロセスを実施
するシステムでは処理ユニットの数を増やしてそれぞれ
の処理ユニットで同一のプロセスを並行して実施してス
ループットを向上させることが必要になる。
伴い、半導体製品の多種少量生産の必要に迫られてい
る。斯かる多種少量生産化に対応した生産様式として、
基板を1枚ずつ処理していく、枚葉処理方式の半導体製
造装置がある。又枚葉式半導体製造装置に於いて、ユー
ザ側の設備費用の削減と複合プロセス対応の要求から、
処理ユニットを複数個組合わせたクラスタ装置が注目さ
れている。クラスタ装置の1つの問題点はスループット
の低下であり、このスループットは、複数の処理ユニッ
トに於ける各プロセスの中で最も時間のかかるプロセス
時間に規制されてしまう。又、1種類のプロセスを実施
するシステムでは処理ユニットの数を増やしてそれぞれ
の処理ユニットで同一のプロセスを並行して実施してス
ループットを向上させることが必要になる。
【0004】図7により従来の基板搬送装置の例を説明
する。
する。
【0005】図7は、センタハンドリング方式のクラス
タ型処理装置を上から見た断面図であり、該クラスタ型
処理装置に於いて、搬送ユニット1を中心にロードユニ
ット2、アンロードユニット3、第1処理ユニット4、
第2処理ユニット5、第3処理ユニット6が放射状に配
設され、前記搬送ユニット1には基板搬送用の回転可能
な伸縮アームを具備した搬送ロボット60が設置されて
いる。又前記ロードユニット2、アンロードユニット3
は基板7が装填される基板カセット8を基板の装填ピッ
チ分だけ間欠昇降可能なカセットエレベータを具備し、
更に第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6は基板7を載置する為の試料台62と前記
搬送ロボット60より基板7を授受する為のペデスタル
61を昇降可能に具備している。
タ型処理装置を上から見た断面図であり、該クラスタ型
処理装置に於いて、搬送ユニット1を中心にロードユニ
ット2、アンロードユニット3、第1処理ユニット4、
第2処理ユニット5、第3処理ユニット6が放射状に配
設され、前記搬送ユニット1には基板搬送用の回転可能
な伸縮アームを具備した搬送ロボット60が設置されて
いる。又前記ロードユニット2、アンロードユニット3
は基板7が装填される基板カセット8を基板の装填ピッ
チ分だけ間欠昇降可能なカセットエレベータを具備し、
更に第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6は基板7を載置する為の試料台62と前記
搬送ロボット60より基板7を授受する為のペデスタル
61を昇降可能に具備している。
【0006】搬送ユニット1、ロードユニット2、アン
ロードユニット3、第1処理ユニット4、第2処理ユニ
ット5、第3処理ユニット6は気密構造となっており、
搬送ユニット1とロードユニット2、アンロードユニッ
ト3、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3
処理ユニット6はそれぞれ基板を出入れする為のゲート
弁63,64,65,66,67を介して前記搬送ユニ
ット1に連設されている。
ロードユニット3、第1処理ユニット4、第2処理ユニ
ット5、第3処理ユニット6は気密構造となっており、
搬送ユニット1とロードユニット2、アンロードユニッ
ト3、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3
処理ユニット6はそれぞれ基板を出入れする為のゲート
弁63,64,65,66,67を介して前記搬送ユニ
ット1に連設されている。
【0007】斯かる従来例の基板搬送動作について図8
により説明する。
により説明する。
【0008】ロードユニット2に基板7を装填した基板
カセット8aをセットすると共に、アンロードユニット
3に空の基板カセット8bをセットして、ロードユニッ
ト2とアンロードユニット3を図示しないポンプで排気
する。搬送ユニット1と第1処理ユニット4、第2処理
ユニット5、第3処理ユニット6は予め図示しないポン
プで排気完了している。
カセット8aをセットすると共に、アンロードユニット
3に空の基板カセット8bをセットして、ロードユニッ
ト2とアンロードユニット3を図示しないポンプで排気
する。搬送ユニット1と第1処理ユニット4、第2処理
ユニット5、第3処理ユニット6は予め図示しないポン
プで排気完了している。
【0009】図8中矢印線は、前記搬送ユニット1、及
びロードユニット2、アンロードユニット3のカセット
エレベータ、更に第1処理ユニット4、第2処理ユニッ
ト5、第3処理ユニット6のペデスタルの動きを示して
おり、同心状の円弧矢印線は伸縮アームの回転動、放射
矢印線は伸縮アームの伸縮動、該放射矢印線に対して直
角方向の矢印線、即ち弦矢印線は前記ロードユニット
2、アンロードユニット3のカセットエレベータの昇降
動、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6のペデスタル(図示せず)の昇降動を示し
ている。
びロードユニット2、アンロードユニット3のカセット
エレベータ、更に第1処理ユニット4、第2処理ユニッ
ト5、第3処理ユニット6のペデスタルの動きを示して
おり、同心状の円弧矢印線は伸縮アームの回転動、放射
矢印線は伸縮アームの伸縮動、該放射矢印線に対して直
角方向の矢印線、即ち弦矢印線は前記ロードユニット
2、アンロードユニット3のカセットエレベータの昇降
動、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6のペデスタル(図示せず)の昇降動を示し
ている。
【0010】ここで、前記第1処理ユニット4、第2処
理ユニット5、第3処理ユニット6にそれぞれ基板が装
入されており、それぞれの基板は処理が完了しているも
のとする。又、該搬送ユニット1の搬送動作開始前のア
ーム先端位置を図中Xで示し、搬送動作終了後のアーム
先端位置を図中Yで示す。
理ユニット5、第3処理ユニット6にそれぞれ基板が装
入されており、それぞれの基板は処理が完了しているも
のとする。又、該搬送ユニット1の搬送動作開始前のア
ーム先端位置を図中Xで示し、搬送動作終了後のアーム
先端位置を図中Yで示す。
【0011】アームが伸長して第1処理ユニット4内に
移動し、ペデスタルとの協働で処理基板を受取り、アー
ムが縮短する。前記搬送ユニット1が回転し、アームと
前記アンロードユニット3とが対峙した位置で、アーム
が伸長する。該アームとアンロードユニット3のカセッ
トエレベータとの協働で処理基板を基板カセットに移載
する。
移動し、ペデスタルとの協働で処理基板を受取り、アー
ムが縮短する。前記搬送ユニット1が回転し、アームと
前記アンロードユニット3とが対峙した位置で、アーム
が伸長する。該アームとアンロードユニット3のカセッ
トエレベータとの協働で処理基板を基板カセットに移載
する。
【0012】アームが縮短し、更に搬送ユニット1が回
転してアームが前記ロードユニット2と対峙した位置で
停止し、アームが伸長し、該アームとロードユニット2
のカセットエレベータとの協働でカセットより未処理基
板を受領する。
転してアームが前記ロードユニット2と対峙した位置で
停止し、アームが伸長し、該アームとロードユニット2
のカセットエレベータとの協働でカセットより未処理基
板を受領する。
【0013】アームが縮短し、更に搬送ユニット1が回
転して該アームと前記第1処理ユニット4とが対峙した
位置で停止し、アームが伸長しペデスタルとの協働によ
り、未処理基板を第1処理ユニット4に装填する。空き
となつたアームを縮短させ搬送ユニット1を図中時計方
向に回転させ、アームを前記第2処理ユニット5と対峙
させ、アームを伸長すると共にペデスタルとの協働で第
2処理ユニット5内の処理基板を受領する。
転して該アームと前記第1処理ユニット4とが対峙した
位置で停止し、アームが伸長しペデスタルとの協働によ
り、未処理基板を第1処理ユニット4に装填する。空き
となつたアームを縮短させ搬送ユニット1を図中時計方
向に回転させ、アームを前記第2処理ユニット5と対峙
させ、アームを伸長すると共にペデスタルとの協働で第
2処理ユニット5内の処理基板を受領する。
【0014】アームを縮短させ、第2処理ユニット5か
ら搬送ユニット1を図中反時計方向に回転させ、アーム
を前記アンロードユニット3に対峙させ、アームの伸長
とカセットエレベータとの協働で処理基板をカセットに
移載する。
ら搬送ユニット1を図中反時計方向に回転させ、アーム
を前記アンロードユニット3に対峙させ、アームの伸長
とカセットエレベータとの協働で処理基板をカセットに
移載する。
【0015】以下、同様な動作を繰返してロードユニッ
ト2の未処理基板を前記第2処理ユニット5に装填し、
第3処理ユニット6の処理基板をアンロードユニット3
に移載し、ロードユニット2の未処理基板を前記第3処
理ユニット6に装填して前記第1処理ユニット4、第2
処理ユニット5、第3処理ユニット6についての基板の
搬送動作を完了する。
ト2の未処理基板を前記第2処理ユニット5に装填し、
第3処理ユニット6の処理基板をアンロードユニット3
に移載し、ロードユニット2の未処理基板を前記第3処
理ユニット6に装填して前記第1処理ユニット4、第2
処理ユニット5、第3処理ユニット6についての基板の
搬送動作を完了する。
【0016】これら一連の動作を繰返し、ロードユニッ
ト内の基板カセット8に装填された基板7を処理して、
基板カセット8aが空になると、ゲート弁63を閉じて
ロードユニット2内に窒素ガスを導入して大気圧に戻
す。ロードユニット2内の圧力が大気圧になった後、基
板カセット8aに新たな基板7を装填してロードユニッ
ト2内のカセットエレベータ上にセットし、図示しない
ポンプによってロードユニット2を排気する。
ト内の基板カセット8に装填された基板7を処理して、
基板カセット8aが空になると、ゲート弁63を閉じて
ロードユニット2内に窒素ガスを導入して大気圧に戻
す。ロードユニット2内の圧力が大気圧になった後、基
板カセット8aに新たな基板7を装填してロードユニッ
ト2内のカセットエレベータ上にセットし、図示しない
ポンプによってロードユニット2を排気する。
【0017】アンロードユニット3内の基板カセット8
bが満杯になると、ゲート弁67を閉じてアンロードユ
ニット3内に窒素ガスを導入して大気圧に戻す。アンロ
ードユニット3内の圧力が復圧した後、基板カセット8
bを空にした後アンロードユニット3内のカセットエレ
ベータ上に設置し、アンロードユニット3を図示しない
ポンプで排気し、更に処理を継続する。
bが満杯になると、ゲート弁67を閉じてアンロードユ
ニット3内に窒素ガスを導入して大気圧に戻す。アンロ
ードユニット3内の圧力が復圧した後、基板カセット8
bを空にした後アンロードユニット3内のカセットエレ
ベータ上に設置し、アンロードユニット3を図示しない
ポンプで排気し、更に処理を継続する。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】上記した枚葉処理方式
の半導体製造装置に於いて、1枚の基板を処理する時
間、即ちスループットは半導体製造装置の生産性、ひい
ては製品価格を決定する大きな要因となる。
の半導体製造装置に於いて、1枚の基板を処理する時
間、即ちスループットは半導体製造装置の生産性、ひい
ては製品価格を決定する大きな要因となる。
【0019】ところが、上記した従来例の基板搬送装置
では1つの搬送ユニット1により第1処理ユニット4、
第2処理ユニット5、第3処理ユニット6に対して基板
を搬送しており、前記搬送ユニット1が所定の処理ユニ
ットに対して基板の搬送動作を行っている場合は、他の
処理ユニットは待ち状態となり半導体製造装置全体のス
ループットが上がらない。この状態を更に、図9で説明
する。図9中斜線で示す部分が基板の処理状態を示して
いる。而して、各処理ユニットとも待機時間がある為、
各処理ユニットの稼働率が低くなっているのが分かる。
では1つの搬送ユニット1により第1処理ユニット4、
第2処理ユニット5、第3処理ユニット6に対して基板
を搬送しており、前記搬送ユニット1が所定の処理ユニ
ットに対して基板の搬送動作を行っている場合は、他の
処理ユニットは待ち状態となり半導体製造装置全体のス
ループットが上がらない。この状態を更に、図9で説明
する。図9中斜線で示す部分が基板の処理状態を示して
いる。而して、各処理ユニットとも待機時間がある為、
各処理ユニットの稼働率が低くなっているのが分かる。
【0020】本発明は斯かる実情に鑑み、高スループッ
トを可能にした基板搬送装置を提供しようとするもので
ある。
トを可能にした基板搬送装置を提供しようとするもので
ある。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数の走行手
段を有する走行搬送ユニットに沿って複数の横行ユニッ
トを設け、各複数の走行手段と前記複数の横行ユニット
を独立して駆動可能としたことを特徴とするものであ
る。
段を有する走行搬送ユニットに沿って複数の横行ユニッ
トを設け、各複数の走行手段と前記複数の横行ユニット
を独立して駆動可能としたことを特徴とするものであ
る。
【0022】
【作用】複数の走行搬送ユニット及び複数の横行ユニッ
トが独立して駆動可能であることから、各走行搬送ユニ
ット及び各横行ユニットが同時に被搬送物を搬送可能で
あり、各走行搬送ユニット及び各横行ユニットの休止時
間、待機時間が大幅に低減され、搬送能率が向上する。
トが独立して駆動可能であることから、各走行搬送ユニ
ット及び各横行ユニットが同時に被搬送物を搬送可能で
あり、各走行搬送ユニット及び各横行ユニットの休止時
間、待機時間が大幅に低減され、搬送能率が向上する。
【0023】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【0024】図1は外壁を省略した内部機構斜視図であ
り、図中5図で示したものと同一のものには同符号を付
してある。
り、図中5図で示したものと同一のものには同符号を付
してある。
【0025】直線的に構成した基板搬送装置10の上流
側にロードユニット2を設け、下流側にアンロードユニ
ット3を設ける。更に、基板搬送装置10の上流側よ
り、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6を設ける。
側にロードユニット2を設け、下流側にアンロードユニ
ット3を設ける。更に、基板搬送装置10の上流側よ
り、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6を設ける。
【0026】前記基板搬送装置10、ロードユニット
2、アンロードユニット3、第1処理ユニット4、第2
処理ユニット5、第3処理ユニット6は気密な構成とな
っており、又ロードユニット2、アンロードユニット
3、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6それぞれは、ゲート弁(図中では省略)を
介して気密に前記基板搬送装置10に連設されている。
2、アンロードユニット3、第1処理ユニット4、第2
処理ユニット5、第3処理ユニット6は気密な構成とな
っており、又ロードユニット2、アンロードユニット
3、第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3処
理ユニット6それぞれは、ゲート弁(図中では省略)を
介して気密に前記基板搬送装置10に連設されている。
【0027】前記ロードユニット2は、基板7を多段に
保持する基板カセット8が載置可能なカセットエレベー
タ(図示せず)を具備し、該カセットエレベータは前記
基板カセット8を基板7の装填ピッチだけ間欠送り可能
な構成になっている。
保持する基板カセット8が載置可能なカセットエレベー
タ(図示せず)を具備し、該カセットエレベータは前記
基板カセット8を基板7の装填ピッチだけ間欠送り可能
な構成になっている。
【0028】前記アンロードユニット3は、前記ロード
ユニット2と同様な構成を有しており、その説明は省略
する。尚、アンロードユニット3は基板カセット8、カ
セットエレベータが筐体に内蔵されている状態を示す。
ユニット2と同様な構成を有しており、その説明は省略
する。尚、アンロードユニット3は基板カセット8、カ
セットエレベータが筐体に内蔵されている状態を示す。
【0029】前記基板搬送装置10は主に、上流−下流
方向に基板7を搬送する走行搬送ユニット11と前記ロ
ードユニット2に対向して設けられた上流横行搬送ユニ
ット12と、該上流横行搬送ユニット12と同様な構成
を有し、前記アンロードユニット3に対向して設けられ
た下流横行搬送ユニット13と、前記第1処理ユニット
4、第2処理ユニット5、第3処理ユニット6にそれぞ
れ対向して設けられ、同様な構成を有する第1横行ユニ
ット14、第2横行ユニット15、第3横行ユニット1
6と、前記上流横行搬送ユニット12に対応して下方に
設けられた基板昇降ユニット17と、前記下流横行搬送
ユニット13に対応して下方に設けられ前記基板昇降ユ
ニット17と同様な構成を有する基板昇降ユニット18
と、前記第1横行ユニット14、第2横行ユニット1
5、第3横行ユニット16に対応し、それぞれ下方に設
けられた基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット2
0、基板貯留ユニット21を、具備している。
方向に基板7を搬送する走行搬送ユニット11と前記ロ
ードユニット2に対向して設けられた上流横行搬送ユニ
ット12と、該上流横行搬送ユニット12と同様な構成
を有し、前記アンロードユニット3に対向して設けられ
た下流横行搬送ユニット13と、前記第1処理ユニット
4、第2処理ユニット5、第3処理ユニット6にそれぞ
れ対向して設けられ、同様な構成を有する第1横行ユニ
ット14、第2横行ユニット15、第3横行ユニット1
6と、前記上流横行搬送ユニット12に対応して下方に
設けられた基板昇降ユニット17と、前記下流横行搬送
ユニット13に対応して下方に設けられ前記基板昇降ユ
ニット17と同様な構成を有する基板昇降ユニット18
と、前記第1横行ユニット14、第2横行ユニット1
5、第3横行ユニット16に対応し、それぞれ下方に設
けられた基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット2
0、基板貯留ユニット21を、具備している。
【0030】尚、該基板貯留ユニット19、基板貯留ユ
ニット20、基板貯留ユニット21は同様な構成を有し
ている。
ニット20、基板貯留ユニット21は同様な構成を有し
ている。
【0031】以下、各ユニットについて説明する。
【0032】先ず、前記走行搬送ユニット11(図1中
では他ユニット説明の為、中途部を破断してある)につ
いて説明する。
では他ユニット説明の為、中途部を破断してある)につ
いて説明する。
【0033】前記上流横行搬送ユニット12から前記下
流横行搬送ユニット13に掛亘って上中下3段に上位走
行レール22、中位走行レール23、下位走行レール2
4を設け、これら走行レール22,23、24にそれぞ
れスライダ25、スライダ26、スライダ27を摺動自
在に設け、該スライダ25,26,27はロッドレスシ
リンダ等所要の駆動手段で駆動可能にする。
流横行搬送ユニット13に掛亘って上中下3段に上位走
行レール22、中位走行レール23、下位走行レール2
4を設け、これら走行レール22,23、24にそれぞ
れスライダ25、スライダ26、スライダ27を摺動自
在に設け、該スライダ25,26,27はロッドレスシ
リンダ等所要の駆動手段で駆動可能にする。
【0034】前記スライダ25に下流側に向って延びる
2股フォーク28を設け、前記スライダ26に下流側に
向って延びる2股フォーク29を設け、又前記スライダ
27には上流側に向って延びる2股フォーク30を設け
る。該2股フォーク28、2股フォーク29、2股フォ
ーク30は基板7を授受可能であり、各2股フォーク2
8,29,30の4箇所には内側に向かって傾斜する斜
片31が固着され、該斜片31の斜面で基板を受ける様
になっており、該斜片31によって載置された基板7の
安定が保証される。
2股フォーク28を設け、前記スライダ26に下流側に
向って延びる2股フォーク29を設け、又前記スライダ
27には上流側に向って延びる2股フォーク30を設け
る。該2股フォーク28、2股フォーク29、2股フォ
ーク30は基板7を授受可能であり、各2股フォーク2
8,29,30の4箇所には内側に向かって傾斜する斜
片31が固着され、該斜片31の斜面で基板を受ける様
になっており、該斜片31によって載置された基板7の
安定が保証される。
【0035】次に、上流横行搬送ユニット12を説明す
る。
る。
【0036】前記走行レール22,23、24の更に上
流側に、該走行レール22,23、24と直角に横行レ
ール32を設け、該横行レール32に横行スライダ33
を摺動自在に設け、該横行スライダ33はロッドレスシ
リンダ等所要の駆動手段で駆動可能にする。又、該横行
スライダ33には前記2股フォーク28と同様な構成を
有する2股フォーク34が、前記下位走行レール24、
2股フォーク30等に干渉しない様設けられ、該2股フ
ォーク34の4箇所には前記した斜片31が固着され
る。
流側に、該走行レール22,23、24と直角に横行レ
ール32を設け、該横行レール32に横行スライダ33
を摺動自在に設け、該横行スライダ33はロッドレスシ
リンダ等所要の駆動手段で駆動可能にする。又、該横行
スライダ33には前記2股フォーク28と同様な構成を
有する2股フォーク34が、前記下位走行レール24、
2股フォーク30等に干渉しない様設けられ、該2股フ
ォーク34の4箇所には前記した斜片31が固着され
る。
【0037】前記下流横行搬送ユニット13は上述した
上流横行搬送ユニット12と同様な構成を有するので説
明を省略する。
上流横行搬送ユニット12と同様な構成を有するので説
明を省略する。
【0038】前記上流横行搬送ユニット12の下方に設
けられた基板昇降ユニット17は基板受台35を有し、
該受台35は図示しない昇降装置に設けられ、該受台3
5は前記2股フォーク34、2股フォーク30の間を通
過可能となっている。
けられた基板昇降ユニット17は基板受台35を有し、
該受台35は図示しない昇降装置に設けられ、該受台3
5は前記2股フォーク34、2股フォーク30の間を通
過可能となっている。
【0039】前記基板昇降ユニット18は前記した基板
昇降ユニット17と同様な構成を有するので説明を省略
する。
昇降ユニット17と同様な構成を有するので説明を省略
する。
【0040】又、前記第1横行ユニット14を説明す
る。
る。
【0041】該第1横行ユニット14は、上基板装入装
脱機40と下基板装入装脱機41の上下2段構成であ
り、上基板装入装脱機40は前記下位走行レール24の
下方で且、該下位走行レール24と直交する方向に延び
る装入装脱レール36に装入装脱スライダ38が摺動自
在に設けられ、該装入装脱スライダ38はロッドレスシ
リンダ等所要の駆動手段で駆動される構成となってい
る。
脱機40と下基板装入装脱機41の上下2段構成であ
り、上基板装入装脱機40は前記下位走行レール24の
下方で且、該下位走行レール24と直交する方向に延び
る装入装脱レール36に装入装脱スライダ38が摺動自
在に設けられ、該装入装脱スライダ38はロッドレスシ
リンダ等所要の駆動手段で駆動される構成となってい
る。
【0042】又、前記装入装脱スライダ38は前記装入
装脱レール36に対して直角方向に延出し、前記装入装
脱スライダ38には前記装入装脱レール36と平行な2
本の基板載置シャフト39が基板7よりも幅広の間隔で
回転可能に設けられ、該2本の基板載置シャフト39に
はそれぞれ前後一対の基板受舌片42が固着されてい
る。
装脱レール36に対して直角方向に延出し、前記装入装
脱スライダ38には前記装入装脱レール36と平行な2
本の基板載置シャフト39が基板7よりも幅広の間隔で
回転可能に設けられ、該2本の基板載置シャフト39に
はそれぞれ前後一対の基板受舌片42が固着されてい
る。
【0043】下基板装入装脱機41は前記上基板装入装
脱機40の下方に設けられ、前記装入装脱レール36に
対向して平行に設けられた装入装脱レール37と、該装
入装脱レール37に摺動自在に設けられ前記装入装脱ス
ライダ38に対し下方に位置する装入装脱スライダ43
と、基板載置シャフト44と、基板受舌片45を具備
し、前記上基板装入装脱機40と同様な構成を有する。
脱機40の下方に設けられ、前記装入装脱レール36に
対向して平行に設けられた装入装脱レール37と、該装
入装脱レール37に摺動自在に設けられ前記装入装脱ス
ライダ38に対し下方に位置する装入装脱スライダ43
と、基板載置シャフト44と、基板受舌片45を具備
し、前記上基板装入装脱機40と同様な構成を有する。
【0044】前記第2横行ユニット15、第3横行ユニ
ット16も前記第1横行ユニット14と同様な構成であ
るので説明を省略する。
ット16も前記第1横行ユニット14と同様な構成であ
るので説明を省略する。
【0045】前記した様に第1横行ユニット14、第2
横行ユニット15、第3横行ユニット16の下方にはそ
れぞれ基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20、
基板貯留ユニット21が設けられており、これら3組の
基板貯留ユニットは同一構成であるので、以下は基板貯
留ユニット21について説明する。
横行ユニット15、第3横行ユニット16の下方にはそ
れぞれ基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20、
基板貯留ユニット21が設けられており、これら3組の
基板貯留ユニットは同一構成であるので、以下は基板貯
留ユニット21について説明する。
【0046】昇降基板46がボール螺子等で構成される
リフト手段47に固定されており、該昇降基板46には
以下に述べる基板アライメント手段が設けてある。
リフト手段47に固定されており、該昇降基板46には
以下に述べる基板アライメント手段が設けてある。
【0047】前記昇降基板46の略中央に基板保持台4
8が設けられ、該基板保持台48は水平方向に自在に動
き得る基板受座49を具備している。又、前記昇降基板
46には基板7の一辺に当接する2本の固定ピン50が
植設され、更に前記昇降基板46には基板7の対角線方
向に出入りする2本のスライドアーム51が設けられて
いる。又、該スライドアーム51の先端にはコーナピン
52が2本宛て設けられ、該2本のコーナピン52は基
板7の角を挾む様に該基板7の2辺に当接する。
8が設けられ、該基板保持台48は水平方向に自在に動
き得る基板受座49を具備している。又、前記昇降基板
46には基板7の一辺に当接する2本の固定ピン50が
植設され、更に前記昇降基板46には基板7の対角線方
向に出入りする2本のスライドアーム51が設けられて
いる。又、該スライドアーム51の先端にはコーナピン
52が2本宛て設けられ、該2本のコーナピン52は基
板7の角を挾む様に該基板7の2辺に当接する。
【0048】以下、本実施例の作動を説明する。
【0049】尚、以下の作動は、第1処理ユニット4、
第2処理ユニット5、第3処理ユニット6共に基板7の
処理が完了されているものとする。
第2処理ユニット5、第3処理ユニット6共に基板7の
処理が完了されているものとする。
【0050】前記受台35の上方にから2股フォーク2
8、2股フォーク29、2股フォーク30が退避した状
態で、前記横行スライダ33がロードユニット2に対し
て前進し、ロードユニット2のカセットエレベータとの
協働で2股フォーク34に基板7を受領する。該基板7
受領後、前記横行スライダ33が後退し、該基板7の中
心と前記受台35の中心とが一致した位置で停止する。
8、2股フォーク29、2股フォーク30が退避した状
態で、前記横行スライダ33がロードユニット2に対し
て前進し、ロードユニット2のカセットエレベータとの
協働で2股フォーク34に基板7を受領する。該基板7
受領後、前記横行スライダ33が後退し、該基板7の中
心と前記受台35の中心とが一致した位置で停止する。
【0051】前記受台35が上昇し、上流横行搬送ユニ
ット12の2股フォーク34より基板7を受取る。前記
2股フォーク28、2股フォーク29、2股フォーク3
0の所要の2股フォーク例えばスライダ26の2股フォ
ーク30が基板7の下方に進入し、更に前記受台35が
下降して基板7を2股フォーク30に移載する。
ット12の2股フォーク34より基板7を受取る。前記
2股フォーク28、2股フォーク29、2股フォーク3
0の所要の2股フォーク例えばスライダ26の2股フォ
ーク30が基板7の下方に進入し、更に前記受台35が
下降して基板7を2股フォーク30に移載する。
【0052】前記スライダ26が図中右方へ移動し、前
記第1処理ユニット4と対峙した位置に停止する。この
スライダ26の停止位置では2股フォーク30が保持す
る基板7の中心と前記基板貯留ユニット19の中心とが
略合致する。以下、該基板貯留ユニット19と上基板装
入装脱機40、下基板装入装脱機41との協働で基板7
を基板受舌片42、基板受舌片45に保持させるが、受
渡し前の状態では、前記基板載置シャフト39を回転さ
せ、前記基板受舌片42を起立状態とし、基板7と基板
受舌片42が干渉しない様にする。
記第1処理ユニット4と対峙した位置に停止する。この
スライダ26の停止位置では2股フォーク30が保持す
る基板7の中心と前記基板貯留ユニット19の中心とが
略合致する。以下、該基板貯留ユニット19と上基板装
入装脱機40、下基板装入装脱機41との協働で基板7
を基板受舌片42、基板受舌片45に保持させるが、受
渡し前の状態では、前記基板載置シャフト39を回転さ
せ、前記基板受舌片42を起立状態とし、基板7と基板
受舌片42が干渉しない様にする。
【0053】前記リフト手段47を作動させ、昇降基板
46を上昇させ、基板7を基板受座49に受取り、前記
2股フォーク30を基板貯留ユニット19位置より退避
させる。
46を上昇させ、基板7を基板受座49に受取り、前記
2股フォーク30を基板貯留ユニット19位置より退避
させる。
【0054】前記スライドアーム51を引込み、前記コ
ーナピン52を基板7の角に当て、更にスライドアーム
51を引込む、基板7は基板受座49と一体で移動し、
前記固定ピン50に当接し、姿勢、水平方向の位置決め
がなされる。前記スライドアーム51が再び延出して基
板を解放し、アライメントが完了する。
ーナピン52を基板7の角に当て、更にスライドアーム
51を引込む、基板7は基板受座49と一体で移動し、
前記固定ピン50に当接し、姿勢、水平方向の位置決め
がなされる。前記スライドアーム51が再び延出して基
板を解放し、アライメントが完了する。
【0055】次に、前記基板受舌片42、基板受舌片4
5によって基板7を受領するが、いずれの基板受舌片で
受領するかは基板7の移載の手順によって決定される。
以下は下段の下基板装入装脱機41を優先させた場合で
ある。
5によって基板7を受領するが、いずれの基板受舌片で
受領するかは基板7の移載の手順によって決定される。
以下は下段の下基板装入装脱機41を優先させた場合で
ある。
【0056】前記基板受舌片42を起立状態のまま、前
記リフト手段47を駆動して昇降基板46を下降させ、
基板7を基板受舌片45に移載する。
記リフト手段47を駆動して昇降基板46を下降させ、
基板7を基板受舌片45に移載する。
【0057】前記基板載置シャフト39の回転により、
基板受舌片42を水平状態にした後、図示しない前記第
1処理ユニット4のゲートバルブを開き、前記装入装脱
スライダ38を前進させ基板載置シャフト39を第1処
理ユニット4内に挿入する。このとき、該第1処理ユニ
ット4内の処理基板は、該第1処理ユニット4内のペデ
スタル(図示せず)によって、基板舌片42より上方に
持上げられた状態になっている。その後ペデスタル(図
示せず)が下降して、第1処理ユニット4内の処理基板
を前記基板受舌片42に受取る。
基板受舌片42を水平状態にした後、図示しない前記第
1処理ユニット4のゲートバルブを開き、前記装入装脱
スライダ38を前進させ基板載置シャフト39を第1処
理ユニット4内に挿入する。このとき、該第1処理ユニ
ット4内の処理基板は、該第1処理ユニット4内のペデ
スタル(図示せず)によって、基板舌片42より上方に
持上げられた状態になっている。その後ペデスタル(図
示せず)が下降して、第1処理ユニット4内の処理基板
を前記基板受舌片42に受取る。
【0058】装入装脱スライダ38を後退させて処理基
板の装脱を行うと共に前記装入装脱スライダ43を前進
させ、基板7を第1処理ユニット4内に装入する。図示
しない第1処理ユニット4のペデスタルとの協働によ
り、基板7を第1処理ユニット4に装填し、装入装脱ス
ライダ43を後退させ、更に図示しないゲートバルブを
閉鎖して、第1処理ユニット4への基板7の装填を完了
する。
板の装脱を行うと共に前記装入装脱スライダ43を前進
させ、基板7を第1処理ユニット4内に装入する。図示
しない第1処理ユニット4のペデスタルとの協働によ
り、基板7を第1処理ユニット4に装填し、装入装脱ス
ライダ43を後退させ、更に図示しないゲートバルブを
閉鎖して、第1処理ユニット4への基板7の装填を完了
する。
【0059】処理基板は前記基板貯留ユニット19とス
ライダ25、スライダ26、スライダ27のいずれか、
例えばスライダ26との協働で処理基板を該スライダ2
6の2股フォーク29に移載する。
ライダ25、スライダ26、スライダ27のいずれか、
例えばスライダ26との協働で処理基板を該スライダ2
6の2股フォーク29に移載する。
【0060】スライダ26を図中右方に移動させ、2股
フォーク29が保持する処理基板を前記受台35の上方
に位置させ、前記基板昇降ユニット18との協働で該処
理基板を前記下流横行搬送ユニット13の2股フォーク
34に移載する。更に下流横行搬送ユニット13の横行
スライダ33が横行して処理基板を前記アンロードユニ
ット3内に挿入し、アンロードユニット3の図示しない
カセットエレベータとの協働で処理基板をアンロードユ
ニット3の基板カセットに移載する。
フォーク29が保持する処理基板を前記受台35の上方
に位置させ、前記基板昇降ユニット18との協働で該処
理基板を前記下流横行搬送ユニット13の2股フォーク
34に移載する。更に下流横行搬送ユニット13の横行
スライダ33が横行して処理基板を前記アンロードユニ
ット3内に挿入し、アンロードユニット3の図示しない
カセットエレベータとの協働で処理基板をアンロードユ
ニット3の基板カセットに移載する。
【0061】又、前記スライダ27による基板7の第1
処理ユニット4への装填、前記スライダ26による処理
基板のアンロードユニット3への移載動作とは独立して
前記スライダ25は動作可能であり、前記第2横行ユニ
ット15は図中左端に移動して前記上流横行搬送ユニッ
ト12と前記基板昇降ユニット17との協働で前記ロー
ドユニット2より前記スライダ25の2股フォーク28
上に基板7を受領する。該基板7を受領したスライダ2
5は該基板7を挿入すべき処理ユニット、例えば第2横
行ユニット15の位置迄移動する。
処理ユニット4への装填、前記スライダ26による処理
基板のアンロードユニット3への移載動作とは独立して
前記スライダ25は動作可能であり、前記第2横行ユニ
ット15は図中左端に移動して前記上流横行搬送ユニッ
ト12と前記基板昇降ユニット17との協働で前記ロー
ドユニット2より前記スライダ25の2股フォーク28
上に基板7を受領する。該基板7を受領したスライダ2
5は該基板7を挿入すべき処理ユニット、例えば第2横
行ユニット15の位置迄移動する。
【0062】而して、前記第2処理ユニット5への基板
7の装入、第2処理ユニット5からの処理基板の装脱
が、第2横行ユニット15と基板貯留ユニット20との
協働で前述した第1処理ユニット4への装入装脱と同様
に行われる。
7の装入、第2処理ユニット5からの処理基板の装脱
が、第2横行ユニット15と基板貯留ユニット20との
協働で前述した第1処理ユニット4への装入装脱と同様
に行われる。
【0063】更に、前記第3処理ユニット6への基板7
の装入、第2処理ユニット5からの処理基板の装脱も同
様にして行われる。
の装入、第2処理ユニット5からの処理基板の装脱も同
様にして行われる。
【0064】上述した作動で明らかな様に、第1横行ユ
ニット14、第2横行ユニット15、第3横行ユニット
16、それぞれの上基板装入装脱機40、下基板装入装
脱機41はそれぞれ独立して横行可能であり、更に上流
横行搬送ユニット12、第1横行ユニット14、第2横
行ユニット15、第3横行ユニット16、下流横行搬送
ユニット13の各ユニットはやはり独立して動作可能で
あり、更に又これら横行ユニット12,14,15,1
6,13と前記走行搬送ユニット11とは独立して動作
可能であり、更に該走行搬送ユニット11は独立して走
行可能な3の基板搬送用のスライダ25、スライダ2
6、スライダ27を具備している。
ニット14、第2横行ユニット15、第3横行ユニット
16、それぞれの上基板装入装脱機40、下基板装入装
脱機41はそれぞれ独立して横行可能であり、更に上流
横行搬送ユニット12、第1横行ユニット14、第2横
行ユニット15、第3横行ユニット16、下流横行搬送
ユニット13の各ユニットはやはり独立して動作可能で
あり、更に又これら横行ユニット12,14,15,1
6,13と前記走行搬送ユニット11とは独立して動作
可能であり、更に該走行搬送ユニット11は独立して走
行可能な3の基板搬送用のスライダ25、スライダ2
6、スライダ27を具備している。
【0065】従って、各第1処理ユニット4、第2処理
ユニット5、第3処理ユニット6に対する基板の装入装
脱が、他の装入装脱動作に影響を受けることなく行え、
装入装脱動作を行うに当たって待ち時間がなくなる。
ユニット5、第3処理ユニット6に対する基板の装入装
脱が、他の装入装脱動作に影響を受けることなく行え、
装入装脱動作を行うに当たって待ち時間がなくなる。
【0066】この各第1処理ユニット4、第2処理ユニ
ット5、第3処理ユニット6に対する装入装脱を図案化
すると図2の如くなる。即ち、各処理ユニットに対して
時間の無駄なく基板の装入装脱が行われ、従来の装入装
脱を示す図6と対比すれば、本実施例のスループットの
高さが証明される。図2中、斜線で示す部分が基板の処
理状態を示している。
ット5、第3処理ユニット6に対する装入装脱を図案化
すると図2の如くなる。即ち、各処理ユニットに対して
時間の無駄なく基板の装入装脱が行われ、従来の装入装
脱を示す図6と対比すれば、本実施例のスループットの
高さが証明される。図2中、斜線で示す部分が基板の処
理状態を示している。
【0067】尚、上記実施例では各スライダの駆動手段
としてロッドレスシリンダを用いたが、駆動手段として
モータを用い、該モータの駆動力をボール螺子を介して
スライダの直進動に変換し、或はベルト等を使用してス
ライダの直進動に変換する様にしてもよい。又、第1横
行ユニット14、第2横行ユニット15、第3横行ユニ
ット16の第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、
第3処理ユニット6とは反対側にそれぞれ待機ステージ
を設ければ、前記した基板受舌片42、基板受舌片45
の回転機構を省略することができる。
としてロッドレスシリンダを用いたが、駆動手段として
モータを用い、該モータの駆動力をボール螺子を介して
スライダの直進動に変換し、或はベルト等を使用してス
ライダの直進動に変換する様にしてもよい。又、第1横
行ユニット14、第2横行ユニット15、第3横行ユニ
ット16の第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、
第3処理ユニット6とは反対側にそれぞれ待機ステージ
を設ければ、前記した基板受舌片42、基板受舌片45
の回転機構を省略することができる。
【0068】上記実施例はロードユニット2、アンロー
ドユニット3を基板搬送装置10の上流と下流に分離し
て設けたが図3に示す様に、上流側にまとめて設けても
よい。
ドユニット3を基板搬送装置10の上流と下流に分離し
て設けたが図3に示す様に、上流側にまとめて設けても
よい。
【0069】以下、図3、図4により他の実施例を説明
する。尚、図3、図4中、図1中で示したものと同一の
機能を有するものには同符号を付してある。
する。尚、図3、図4中、図1中で示したものと同一の
機能を有するものには同符号を付してある。
【0070】該他の実施例では、ロードユニット2とア
ンロードユニット3とを基板搬送装置10を挾み対峙さ
せ設けたものであり、上流横行搬送ユニット12と下流
横行搬送ユニット13とは垂直方向のレベルを異ならせ
オーバラップさせ設けたものであり、上流横行搬送ユニ
ット12と下流横行搬送ユニット13は他のユニットと
同様独立して動作可能となっている。
ンロードユニット3とを基板搬送装置10を挾み対峙さ
せ設けたものであり、上流横行搬送ユニット12と下流
横行搬送ユニット13とは垂直方向のレベルを異ならせ
オーバラップさせ設けたものであり、上流横行搬送ユニ
ット12と下流横行搬送ユニット13は他のユニットと
同様独立して動作可能となっている。
【0071】又、該他の実施例では、基板昇降ユニット
17、基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20、
基板貯留ユニット21に於ける基板支持を放射状に形成
した昇降アーム54の先端に立設した基板支持ピン55
によっている。更に又、該他の実施例では基板搬送装置
10の第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3
処理ユニット6の間に待機ステージ56、待機ステージ
57、待機ステージ58を設けている。この待機ステー
ジを設けることで前記第1処理ユニット4、第2処理ユ
ニット5、第3処理ユニット6での基板処理順序に更に
自由度が増し、処理の多様化に対応することができる。
17、基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20、
基板貯留ユニット21に於ける基板支持を放射状に形成
した昇降アーム54の先端に立設した基板支持ピン55
によっている。更に又、該他の実施例では基板搬送装置
10の第1処理ユニット4、第2処理ユニット5、第3
処理ユニット6の間に待機ステージ56、待機ステージ
57、待機ステージ58を設けている。この待機ステー
ジを設けることで前記第1処理ユニット4、第2処理ユ
ニット5、第3処理ユニット6での基板処理順序に更に
自由度が増し、処理の多様化に対応することができる。
【0072】又、上記実施例に於いて、基板アライメン
ト手段として基板受座49に回転機構を連結し、該基板
受座49を回転させることで基板のアライメントを行う
ようにしてもよく、更にロードユニット2、アンロード
ユニット3、第1処理ユニット4、第2処理ユニット
5、第3処理ユニット6の配置、処理ユニットの数も変
更可能である。
ト手段として基板受座49に回転機構を連結し、該基板
受座49を回転させることで基板のアライメントを行う
ようにしてもよく、更にロードユニット2、アンロード
ユニット3、第1処理ユニット4、第2処理ユニット
5、第3処理ユニット6の配置、処理ユニットの数も変
更可能である。
【0073】図5は外壁を省略した内部機構斜視図であ
り、図中、図1で示したものと同一の機能を有するもの
には同符号を付してある。
り、図中、図1で示したものと同一の機能を有するもの
には同符号を付してある。
【0074】直線的に構成した基板搬送装置10の上流
側にロードユニット2を連設し、下流側にアンロードユ
ニット3を連設する。更に基板搬送装置10の側方略中
央位置に処理ユニット4を連設する。前記基板搬送装置
10、ロードユニット2、アンロードユニット3、処理
ユニット4は気密な構造となっており、又ロードユニッ
ト2、アンロードユニット3、処理ユニット4のそれぞ
れは、ゲート弁(図中では省略)を介して気密に前記基
板搬送装置10に連設されている。
側にロードユニット2を連設し、下流側にアンロードユ
ニット3を連設する。更に基板搬送装置10の側方略中
央位置に処理ユニット4を連設する。前記基板搬送装置
10、ロードユニット2、アンロードユニット3、処理
ユニット4は気密な構造となっており、又ロードユニッ
ト2、アンロードユニット3、処理ユニット4のそれぞ
れは、ゲート弁(図中では省略)を介して気密に前記基
板搬送装置10に連設されている。
【0075】前記ロードユニット2は、基板7を多段に
保持するロード用の基板カセット8aが載置可能なカセ
ットエレベータ(図示せず)を具備し、該カセットエレ
ベータは前記基板カセット8aを基板7の装填ピッチだ
け間欠送り可能な構成になっている。
保持するロード用の基板カセット8aが載置可能なカセ
ットエレベータ(図示せず)を具備し、該カセットエレ
ベータは前記基板カセット8aを基板7の装填ピッチだ
け間欠送り可能な構成になっている。
【0076】前記アンロードユニット3は、前記ロード
ユニット2と同様な構成を有しており、アンロード用の
基板カセット8bが載置される。
ユニット2と同様な構成を有しており、アンロード用の
基板カセット8bが載置される。
【0077】前記基板搬送装置10は主に、上流ー下流
方向に基板7を搬送する走行搬送ユニット11と、前記
処理ユニット4に対向して設けられた横行ユニット14
と、横行ユニット14に対応してその下方に設けられた
基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20を具備し
ている。尚、該基板貯留ユニット19、基板貯留ユニッ
ト20はそれぞれリフト駆動部79によって昇降基板4
6を上下し、又上昇した状態で水平面上に於いて90度
回転する機構を具備している。
方向に基板7を搬送する走行搬送ユニット11と、前記
処理ユニット4に対向して設けられた横行ユニット14
と、横行ユニット14に対応してその下方に設けられた
基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20を具備し
ている。尚、該基板貯留ユニット19、基板貯留ユニッ
ト20はそれぞれリフト駆動部79によって昇降基板4
6を上下し、又上昇した状態で水平面上に於いて90度
回転する機構を具備している。
【0078】以下、各ユニットついて説明する。
【0079】先ず、前記走行搬送ユニット11(図5中
では他ユニット説明の為、中途部を破断してある)につ
いて説明する。
では他ユニット説明の為、中途部を破断してある)につ
いて説明する。
【0080】走行搬送ユニット11の上流端から下流端
に掛かって上下2段に上位走行レール22a、下位走行
レール24a及び上位ガイドレール22b、下位ガイド
レール24bを設け、これら上位走行レール22aと上
位ガイドレール22b、下位走行レール24aと下位ガ
イドレール24bにそれぞれ上位スライダ25、下位ス
ライダ27が跨がる様に摺動自在に設ける。前記上位走
行レール22a、下位走行レール24aはボール螺子と
なっており、前記上位スライダ25、下位スライダ27
はそれぞれ前記上位走行レール22a、下位走行レール
24aに螺合し、両スライダ25、27は上下走行レー
ルを走行レール駆動部53で駆動することにより移動す
る。
に掛かって上下2段に上位走行レール22a、下位走行
レール24a及び上位ガイドレール22b、下位ガイド
レール24bを設け、これら上位走行レール22aと上
位ガイドレール22b、下位走行レール24aと下位ガ
イドレール24bにそれぞれ上位スライダ25、下位ス
ライダ27が跨がる様に摺動自在に設ける。前記上位走
行レール22a、下位走行レール24aはボール螺子と
なっており、前記上位スライダ25、下位スライダ27
はそれぞれ前記上位走行レール22a、下位走行レール
24aに螺合し、両スライダ25、27は上下走行レー
ルを走行レール駆動部53で駆動することにより移動す
る。
【0081】前記スライダ25に上流側に向かって延び
る2股フォーク28を複数段(例えば5段)設け、又前
記スライダ27には下流側に向かって延びる2股フォー
ク30を複数段(例えば5段)設ける。該2股フォーク
28、2股フォーク30は基板7を複数枚一括授受可能
である。
る2股フォーク28を複数段(例えば5段)設け、又前
記スライダ27には下流側に向かって延びる2股フォー
ク30を複数段(例えば5段)設ける。該2股フォーク
28、2股フォーク30は基板7を複数枚一括授受可能
である。
【0082】前記横行ユニット14を説明する。
【0083】該横行ユニット14は、上基板装入装脱機
40と下基板装入装脱機41の上下2段構成であり、上
基板装入装脱機40は前記下位走行レール24aの下方
で且、該下位走行レール24aと直行する方向に延びる
一対の装入装脱レール36に装入装脱スライダ38が摺
動自在に設けられ、該装入装脱スライダ38はボール螺
子等所要の駆動手段で駆動される構成となっている。
又、前記装入装脱スライダ38は前記一対の装入装脱レ
ール36に対して直角方向に跨がり、前記装入装脱スラ
イダ38には前記装入装脱レール36と平行な3本の基
板載置バー70,71が回転可能に設けられ、1枚の基
板7が一側側の基板載置バー70と中央の基板載置バー
71に掛渡って載置され、計2枚の基板7が受載可能と
なっている。
40と下基板装入装脱機41の上下2段構成であり、上
基板装入装脱機40は前記下位走行レール24aの下方
で且、該下位走行レール24aと直行する方向に延びる
一対の装入装脱レール36に装入装脱スライダ38が摺
動自在に設けられ、該装入装脱スライダ38はボール螺
子等所要の駆動手段で駆動される構成となっている。
又、前記装入装脱スライダ38は前記一対の装入装脱レ
ール36に対して直角方向に跨がり、前記装入装脱スラ
イダ38には前記装入装脱レール36と平行な3本の基
板載置バー70,71が回転可能に設けられ、1枚の基
板7が一側側の基板載置バー70と中央の基板載置バー
71に掛渡って載置され、計2枚の基板7が受載可能と
なっている。
【0084】前記下基板装入装脱機41は前記上基板装
入装脱機40の下方に設けられ、前記装入装脱レール3
6の下方に平行に設けられた装入装脱レール37と、該
装入装脱レール37に摺動自在に設けられた装入装脱ス
ライダ43と、基板載置バー72,73を具備し、上基
板装入装脱機40と略同様な構成を有している。前記基
板載置バー72,73は2枚の基板を受載可能である
が、回転はしない。
入装脱機40の下方に設けられ、前記装入装脱レール3
6の下方に平行に設けられた装入装脱レール37と、該
装入装脱レール37に摺動自在に設けられた装入装脱ス
ライダ43と、基板載置バー72,73を具備し、上基
板装入装脱機40と略同様な構成を有している。前記基
板載置バー72,73は2枚の基板を受載可能である
が、回転はしない。
【0085】前記上基板装入装脱機40、下基板装入装
脱機41は上下基板装入装脱機移動機74の上下基板装
入装脱機移動スライダ75に設けられている。基板装入
装脱機移動スライダ75は基板装入装脱機移動ガイド7
6及び基板装入装脱機移動レール77に摺動自在に取付
けられている。
脱機41は上下基板装入装脱機移動機74の上下基板装
入装脱機移動スライダ75に設けられている。基板装入
装脱機移動スライダ75は基板装入装脱機移動ガイド7
6及び基板装入装脱機移動レール77に摺動自在に取付
けられている。
【0086】前記した様に横行ユニット14の下方には
前記基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20が設
けられている。該基板貯留ユニット20はリフトロッド
78に取付けられた昇降基板46と、該昇降基板46を
上下に駆動すると共に、90度回転させる為のリフト駆
動部79で構成される。又、前記基板貯留ユニット19
は、基板貯留ユニット20と同一構成である。
前記基板貯留ユニット19、基板貯留ユニット20が設
けられている。該基板貯留ユニット20はリフトロッド
78に取付けられた昇降基板46と、該昇降基板46を
上下に駆動すると共に、90度回転させる為のリフト駆
動部79で構成される。又、前記基板貯留ユニット19
は、基板貯留ユニット20と同一構成である。
【0087】以下、本実施例の作動を説明する。
【0088】前記ロードユニット2に基板7を装填した
基板カセット8aを設置し、前記アンロードユニット3
に空の基板カセット8bを設置した後、ロードユニット
2及びアンロードユニット3を排気する。前記基板搬送
装置10及び前記処理ユニット4は予め排気しているも
のとする。
基板カセット8aを設置し、前記アンロードユニット3
に空の基板カセット8bを設置した後、ロードユニット
2及びアンロードユニット3を排気する。前記基板搬送
装置10及び前記処理ユニット4は予め排気しているも
のとする。
【0089】前記ロードユニット2とアンロードユニッ
ト3の排気完了後、前記基板搬送装置10とロードユニ
ット2及びアンロードユニット3の間に設置された図示
しないゲート弁を開く。前記ロードユニット2内の図示
しないエレベータの動作によって基板カセット8aの上
下方向の位置が調節される。同時にアンロードユニット
3内のエレベータの動作によって、基板カセット8bの
上下方向の位置が調節される。
ト3の排気完了後、前記基板搬送装置10とロードユニ
ット2及びアンロードユニット3の間に設置された図示
しないゲート弁を開く。前記ロードユニット2内の図示
しないエレベータの動作によって基板カセット8aの上
下方向の位置が調節される。同時にアンロードユニット
3内のエレベータの動作によって、基板カセット8bの
上下方向の位置が調節される。
【0090】前記スライダ27がロードユニット2側へ
移動し、前記2股フォーク30が基板カセット8a内に
挿入された状態で停止する。ロードユニット2内の図示
しないエレベータにより基板カセット8aが基板カセッ
トのピッチ分下降し、5枚の基板が5段の2股フォーク
30の上に乗載された状態となる。
移動し、前記2股フォーク30が基板カセット8a内に
挿入された状態で停止する。ロードユニット2内の図示
しないエレベータにより基板カセット8aが基板カセッ
トのピッチ分下降し、5枚の基板が5段の2股フォーク
30の上に乗載された状態となる。
【0091】この状態でスライダ27がアンロードユニ
ット3の方向に移動し、前記基板貯留ユニット19上で
停止する。この停止位置ではスライダ27は前記処理ユ
ニットの図中左半分に対峙した状態となる。このスライ
ダ27の停止位置は、基板載置バー70,71の図中左
側で保持すべき基板7の中心と該スライダ27の2股フ
ォーク上の基板7の中心が略合致する。
ット3の方向に移動し、前記基板貯留ユニット19上で
停止する。この停止位置ではスライダ27は前記処理ユ
ニットの図中左半分に対峙した状態となる。このスライ
ダ27の停止位置は、基板載置バー70,71の図中左
側で保持すべき基板7の中心と該スライダ27の2股フ
ォーク上の基板7の中心が略合致する。
【0092】前記リフト駆動部79を駆動し、リフトロ
ッド78を介して前記昇降基板46を上昇させてスライ
ダ27の5段2股フォーク30上の最下段の基板7を昇
降基板46で受取る。基板7の受渡し後、前記スライダ
27は、アンロードユニット3側へ移動し待機する。
ッド78を介して前記昇降基板46を上昇させてスライ
ダ27の5段2股フォーク30上の最下段の基板7を昇
降基板46で受取る。基板7の受渡し後、前記スライダ
27は、アンロードユニット3側へ移動し待機する。
【0093】昇降基板46は前記リフト駆動部79によ
り基板7を乗せたまま90度回転され、基板7の向きを
変える。この状態で図示しない基板アライメント機構に
より昇降基板46上の基板7の位置合わせが行われる。
リフトロッド78を介して昇降基板46を下降させて基
板載置バー70,71で昇降基板46上の基板7を受取
る。
り基板7を乗せたまま90度回転され、基板7の向きを
変える。この状態で図示しない基板アライメント機構に
より昇降基板46上の基板7の位置合わせが行われる。
リフトロッド78を介して昇降基板46を下降させて基
板載置バー70,71で昇降基板46上の基板7を受取
る。
【0094】次に前記スライダ27が前記ロードユニッ
ト2方向に移動し、基板貯留ユニット20上に停止す
る。スライダ27は処理ユニット4の図中右半分に対峙
する。このスライダ27の停止位置は、図中右側の基板
載置バー70,71の中心と該スライダ27の2股フォ
ーク30上の基板7の中心とが略合致するものである。
ト2方向に移動し、基板貯留ユニット20上に停止す
る。スライダ27は処理ユニット4の図中右半分に対峙
する。このスライダ27の停止位置は、図中右側の基板
載置バー70,71の中心と該スライダ27の2股フォ
ーク30上の基板7の中心とが略合致するものである。
【0095】これ以降基板貯留ユニット19,20、ス
ライダ27が前記と同様に動作し、スライダ27の5段
の2股フォーク30上の基板7が下から順に基板載置バ
ー70,71上に渡される。
ライダ27が前記と同様に動作し、スライダ27の5段
の2股フォーク30上の基板7が下から順に基板載置バ
ー70,71上に渡される。
【0096】前記基板搬送装置10と処理ユニット4間
に設置された図示しないゲート弁が開き、基板装入装脱
機移動スライダ75が前進し、更に装入装脱スライダ3
8,43が処理ユニット4側に前進する。前記装入装脱
機移動スライダ75の水平動作と装入装脱スライダ38
の水平動作との協働で処理ユニット4内に装入された2
枚の基板7は処理ユニット4内の図示しない2つのペデ
スタルの上昇でそれぞれのペデスタル上に受載され、基
板載置バー70,71から浮いた状態となる。この状態
で基板装入装脱機移動スライダ75と装入装脱スライダ
38は基板搬送装置10内に戻り、処理ユニット4内の
ペデスタルが下降し、2枚の基板7は処理ユニット4内
に収納される。
に設置された図示しないゲート弁が開き、基板装入装脱
機移動スライダ75が前進し、更に装入装脱スライダ3
8,43が処理ユニット4側に前進する。前記装入装脱
機移動スライダ75の水平動作と装入装脱スライダ38
の水平動作との協働で処理ユニット4内に装入された2
枚の基板7は処理ユニット4内の図示しない2つのペデ
スタルの上昇でそれぞれのペデスタル上に受載され、基
板載置バー70,71から浮いた状態となる。この状態
で基板装入装脱機移動スライダ75と装入装脱スライダ
38は基板搬送装置10内に戻り、処理ユニット4内の
ペデスタルが下降し、2枚の基板7は処理ユニット4内
に収納される。
【0097】前記基板搬送装置10と処理ユニット4間
に設置された図示しないゲート弁が閉じ、処理ユニット
4内の基板7の処理が開始される。同時にスライダ27
が、前記動作と同様にして基板載置バー70,71上に
スライダ27の2股フォーク30上の基板7を2枚移換
える。
に設置された図示しないゲート弁が閉じ、処理ユニット
4内の基板7の処理が開始される。同時にスライダ27
が、前記動作と同様にして基板載置バー70,71上に
スライダ27の2股フォーク30上の基板7を2枚移換
える。
【0098】処理ユニット4に於ける基板7の処理が終
了した時点で基板搬送装置10と処理ユニット4間に設
置された図示しないゲート弁を開き、同時に処理ユニッ
ト4内の2枚の基板7を処理ユニット4内の図示しない
2つのペデスタルでそれぞれ基板載置バー70,71と
基板載置バー72,73の中間の高さまで上昇させる。
了した時点で基板搬送装置10と処理ユニット4間に設
置された図示しないゲート弁を開き、同時に処理ユニッ
ト4内の2枚の基板7を処理ユニット4内の図示しない
2つのペデスタルでそれぞれ基板載置バー70,71と
基板載置バー72,73の中間の高さまで上昇させる。
【0099】基板装入装脱機移動スライダ75が前進
し、更に基板装入装脱スライダ38,43が処理ユニッ
ト4側に前進する。該処理ユニット4内の図示しない2
つのペデスタルを下降させペデスタル上の2枚の処理済
基板7を基板載置バー72,73上に乗せた後、装入装
脱スライダ43のみ基板搬送装置10側に後退する。
し、更に基板装入装脱スライダ38,43が処理ユニッ
ト4側に前進する。該処理ユニット4内の図示しない2
つのペデスタルを下降させペデスタル上の2枚の処理済
基板7を基板載置バー72,73上に乗せた後、装入装
脱スライダ43のみ基板搬送装置10側に後退する。
【0100】処理ユニット4内の図示しない2つのペデ
スタルが再び上昇し、基板載置バー70,71上の処理
前の2枚の基板7を該ペデスタルに移載する。
スタルが再び上昇し、基板載置バー70,71上の処理
前の2枚の基板7を該ペデスタルに移載する。
【0101】装入装脱スライダ38が基板装入装脱機移
動スライダ75上に後退すると共に該基板装入装脱機移
動スライダ75は基板搬送装置10内に後退する。
動スライダ75上に後退すると共に該基板装入装脱機移
動スライダ75は基板搬送装置10内に後退する。
【0102】処理ユニット4の図示しない2つのペデス
タルが下降し、2枚の基板7は処理ユニット4内に載置
される。前記処理ユニット4と基板搬送装置10との間
に設置された図示しないゲート弁を閉じ、処理ユニット
4内の2枚の基板7の処理が開始される。
タルが下降し、2枚の基板7は処理ユニット4内に載置
される。前記処理ユニット4と基板搬送装置10との間
に設置された図示しないゲート弁を閉じ、処理ユニット
4内の2枚の基板7の処理が開始される。
【0103】前記装入装脱スライダ38の3本の基板載
置バー70,71を90度回転して直立させ、その下方
の基板装入装脱スライダ43の基板載置バー72,73
上の処理済基板7の上昇を、基板載置バー70,71が
妨げない状態とする。
置バー70,71を90度回転して直立させ、その下方
の基板装入装脱スライダ43の基板載置バー72,73
上の処理済基板7の上昇を、基板載置バー70,71が
妨げない状態とする。
【0104】リフトロッド78を介して昇降基板46を
上昇させて基板載置バー72,73上の処理済基板7を
受取り、前記2股フォーク28上の最上段の上部で停止
させる。昇降基板46はリフト駆動部79により基板7
を乗せたまま90度回転し、基板7の向きを変える。ス
ライダ25がアンロードユニット3側に移動し基板貯留
ユニット20上で停止する。
上昇させて基板載置バー72,73上の処理済基板7を
受取り、前記2股フォーク28上の最上段の上部で停止
させる。昇降基板46はリフト駆動部79により基板7
を乗せたまま90度回転し、基板7の向きを変える。ス
ライダ25がアンロードユニット3側に移動し基板貯留
ユニット20上で停止する。
【0105】リフトロッド78を介して昇降基板46を
下降させ、処理済基板7をスライダ25の2股フォーク
28の最上段に受取る。スライダ25がロードユニット
2側に移動し待機する。
下降させ、処理済基板7をスライダ25の2股フォーク
28の最上段に受取る。スライダ25がロードユニット
2側に移動し待機する。
【0106】前記基板貯留ユニット20と同様に基板貯
留ユニット19が作動し基板貯留ユニット19上の基板
7をスライダ25に載置されている基板7の1つ下方の
2股フォーク28の中間の高さに上昇させる。
留ユニット19が作動し基板貯留ユニット19上の基板
7をスライダ25に載置されている基板7の1つ下方の
2股フォーク28の中間の高さに上昇させる。
【0107】前記したと同様にスライダ25と基板貯留
ユニット19が作動し、基板貯留ユニット19上の基板
7をスライダ25に移換えた後、スライダ25はロード
ユニット2側に移動して待機する。同時に基板装入装脱
スライダ38の3本の基板載置バー70,71を90度
回転して水平にし、処理済基板7を受載可能とする。
ユニット19が作動し、基板貯留ユニット19上の基板
7をスライダ25に移換えた後、スライダ25はロード
ユニット2側に移動して待機する。同時に基板装入装脱
スライダ38の3本の基板載置バー70,71を90度
回転して水平にし、処理済基板7を受載可能とする。
【0108】スライダ27がロードユニット2側に移動
し前記の動作と同様にして、スライダ27内の基板2枚
を基板貯留ユニット19,20の作動により装入装脱ス
ライダ38の基板載置バー70,71上に移す。
し前記の動作と同様にして、スライダ27内の基板2枚
を基板貯留ユニット19,20の作動により装入装脱ス
ライダ38の基板載置バー70,71上に移す。
【0109】スライダ27の2股フォーク上の基板7が
全て空になった時点でスライダ27はロードユニット2
側に移動し、前記と同様にロードユニット2内の図示し
ないエレベータとの協働で基板カセット8a内の基板7
を5枚一括して受取る。
全て空になった時点でスライダ27はロードユニット2
側に移動し、前記と同様にロードユニット2内の図示し
ないエレベータとの協働で基板カセット8a内の基板7
を5枚一括して受取る。
【0110】スライダ25の5段に設けた2股フォーク
28に基板7が満杯になった時点でスライダ25はアン
ロードユニット3側に移動し、アンロードユニット3内
の図示しないエレベータとの協働で5段2股フォーク上
の5枚の基板7を一括して基板カセット5に移換える。
28に基板7が満杯になった時点でスライダ25はアン
ロードユニット3側に移動し、アンロードユニット3内
の図示しないエレベータとの協働で5段2股フォーク上
の5枚の基板7を一括して基板カセット5に移換える。
【0111】ロードユニット2内の基板カセット7が空
になったら、基板搬送装置10とロードユニット2間に
設置された図示しないゲート弁を閉じ、ロードユニット
2内に窒素ガスを導入して大気圧に戻す。ロードユニッ
ト2内が大気圧に戻ったら、空の基板カセット8に基板
7を装填してロードユニット2にセットし、前記と同様
にロードユニット2を排気する。
になったら、基板搬送装置10とロードユニット2間に
設置された図示しないゲート弁を閉じ、ロードユニット
2内に窒素ガスを導入して大気圧に戻す。ロードユニッ
ト2内が大気圧に戻ったら、空の基板カセット8に基板
7を装填してロードユニット2にセットし、前記と同様
にロードユニット2を排気する。
【0112】前記アンロードユニット3内の基板カセッ
ト5の基板7が満杯になったら基板搬送装置10とアン
ロードユニット3間に設置されている図示しないゲート
弁を閉じアンロードユニット3内に窒素ガスを導入して
大気圧に戻す。アンロードユニット3が大気圧に戻った
ら、満杯の基板カセット8を空にしてアンロードユニッ
ト3にセットした後、アンロードユニット3を排気す
る。
ト5の基板7が満杯になったら基板搬送装置10とアン
ロードユニット3間に設置されている図示しないゲート
弁を閉じアンロードユニット3内に窒素ガスを導入して
大気圧に戻す。アンロードユニット3が大気圧に戻った
ら、満杯の基板カセット8を空にしてアンロードユニッ
ト3にセットした後、アンロードユニット3を排気す
る。
【0113】これら一連の動作により、ロードユニット
2に設置された基板カセット8a内の基板7を順次処理
し、処理を終了した基板7をアンロードユニット3に設
置された基板カセット8bに装填していく。
2に設置された基板カセット8a内の基板7を順次処理
し、処理を終了した基板7をアンロードユニット3に設
置された基板カセット8bに装填していく。
【0114】スライダ25,27の2股フォーク28,
30の段数は、設計の段階で処理ユニット4における処
理時間を考慮して、1段から20段の範囲で選べば良
い。
30の段数は、設計の段階で処理ユニット4における処
理時間を考慮して、1段から20段の範囲で選べば良
い。
【0115】本実施例では、処理ユニット4内に載置す
る基板7の数は2枚であるが、1枚でも3枚以上でも良
く、この枚数はスループットや装置の大きさを考慮して
決定し、また処理ユニット4内に装入する基板7の枚数
に対応して装入装脱スライダ38,43の基板載置バー
70,71,72,73及び基板貯留ユニット19,2
0を増減すれば良い。
る基板7の数は2枚であるが、1枚でも3枚以上でも良
く、この枚数はスループットや装置の大きさを考慮して
決定し、また処理ユニット4内に装入する基板7の枚数
に対応して装入装脱スライダ38,43の基板載置バー
70,71,72,73及び基板貯留ユニット19,2
0を増減すれば良い。
【0116】本発明によれば、処理ユニット4における
基板の処理を実施している間に装入装脱スライダ38,
43上の基板の授受を完了していれば、処理ユニット4
に対する基板の入換え時間は処理ユニット4に装入する
基板7の枚数によらず一定である。
基板の処理を実施している間に装入装脱スライダ38,
43上の基板の授受を完了していれば、処理ユニット4
に対する基板の入換え時間は処理ユニット4に装入する
基板7の枚数によらず一定である。
【0117】又処理ユニット4に於いて基板の処理を実
施している間に装入装脱スライダ38,43上の基板の
授受を完了していれば、処理ユニット4に対する基板の
入換え時間、つまり処理ユニット4の待ち時間は処理ユ
ニット4と装入装脱スライダ38,43との授受で消費
される時間となり、従来のセンタハンドリング方式に比
べて極めて短くなる。
施している間に装入装脱スライダ38,43上の基板の
授受を完了していれば、処理ユニット4に対する基板の
入換え時間、つまり処理ユニット4の待ち時間は処理ユ
ニット4と装入装脱スライダ38,43との授受で消費
される時間となり、従来のセンタハンドリング方式に比
べて極めて短くなる。
【0118】センタハンドリング方式では、処理ユニッ
ト4に対して複数の基板の出入れを行うことは、装置の
構成上極めて困難であるが、本発明では基板搬送装置1
0が直線的に構成されている為、処理ユニット4に対す
る複数の基板の出入れが容易である。
ト4に対して複数の基板の出入れを行うことは、装置の
構成上極めて困難であるが、本発明では基板搬送装置1
0が直線的に構成されている為、処理ユニット4に対す
る複数の基板の出入れが容易である。
【0119】更に、センタハンドリング方式では、搬送
ユニット1に接続する処理ユニットの数が最大4程度で
あるが、本発明の基板搬送装置10では、上位及び下位
走行レール22a,24aと上位及び下位ガイドレール
22b,24bの長さを大きくすれば、図6に示す様に
幾つでも設置することができる。
ユニット1に接続する処理ユニットの数が最大4程度で
あるが、本発明の基板搬送装置10では、上位及び下位
走行レール22a,24aと上位及び下位ガイドレール
22b,24bの長さを大きくすれば、図6に示す様に
幾つでも設置することができる。
【0120】又、複数枚処理用と1枚処理用の処理ユニ
ットを混合して設置することも容易に実現できる。図6
は本発明の走行搬送ユニットに処理ユニットを増設した
システムを上から見た断面図である。処理ユニット8
0,81が増設した処理ユニットで、それぞれ1枚処理
用と2枚処理用である。
ットを混合して設置することも容易に実現できる。図6
は本発明の走行搬送ユニットに処理ユニットを増設した
システムを上から見た断面図である。処理ユニット8
0,81が増設した処理ユニットで、それぞれ1枚処理
用と2枚処理用である。
【0121】尚、スライダ25,27、装入装脱スライ
ダの駆動はボール螺子に代えロッドレスシリンダ等他の
手段を用いてもよい。
ダの駆動はボール螺子に代えロッドレスシリンダ等他の
手段を用いてもよい。
【0122】更に、上記実施例は半導体製造装置につい
て説明したが、半導体製造装置以外の装置にも実施可能
であることは言う迄もない。
て説明したが、半導体製造装置以外の装置にも実施可能
であることは言う迄もない。
【0123】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、被搬送
物例えば半導体製造基板を搬送する場合の休止、待機時
間を大幅に解消し得、搬送効率を向上させ得、更に本発
明を半導体製造装置に実施した場合は高スループットを
実現させることができると共に処理ユニットを複数設け
た装置の構成が容易に実現することができる。
物例えば半導体製造基板を搬送する場合の休止、待機時
間を大幅に解消し得、搬送効率を向上させ得、更に本発
明を半導体製造装置に実施した場合は高スループットを
実現させることができると共に処理ユニットを複数設け
た装置の構成が容易に実現することができる。
【図1】本発明の一実施例を示す概略斜視図である。
【図2】該実施例の作動説明図である。
【図3】本発明の他の実施例の概略平面図である。
【図4】図3のA−A矢視図である。
【図5】本発明の更に他の実施例を示す概略斜視図であ
る。
る。
【図6】本発明の応用例を示す説明図である。
【図7】従来例の説明図である。
【図8】該従来例の作動説明図である。
【図9】該従来例の作動説明図である。
2 ロードユニット 3 アンロードユニット 4 第1処理ユニット 5 第2処理ユニット 6 第3処理ユニット 7 基板 10 基板搬送装置 11 走行搬送ユニット 12 上流横行搬送ユニット 13 下流横行搬送ユニット 14 第1横行ユニット 15 第2横行ユニット 16 第3横行ユニット 17 基板昇降ユニット 18 基板昇降ユニット 19 基板貯留ユニット 20 基板貯留ユニット 21 基板貯留ユニット 39 基板載置シャフト 40 上基板装入装脱機 41 下基板装入装脱機 42 基板受舌片 45 基板受舌片 46 昇降基板 53 走行レール駆動部 74 基板装入装脱機移動機
Claims (16)
- 【請求項1】 複数の走行手段を有する走行搬送ユニッ
トに沿って複数の横行ユニットを設け、各複数の走行手
段と前記複数の横行ユニットを独立して駆動可能とした
ことを特徴とする基板搬送装置。 - 【請求項2】 走行搬送ユニットの複数の走行手段をレ
ベルを異ならせ相互に干渉しない様設けると共に該走行
搬送ユニットと横行ユニットとをレベルを異ならせ干渉
しない様設けた請求項1の基板搬送装置。 - 【請求項3】 所要位置、所要数の横行ユニットに対し
て処理ユニットを設け、走行ユニットの複数の走行手段
が基板を運搬可能とすると共に前記所要数の処理ユニッ
トに対して設けた横行ユニットが基板運搬可能な横行手
段を有する請求項1の基板搬送装置。 - 【請求項4】 横行手段が複数の基板を同時に運搬可能
とした請求項3の基板搬送装置。 - 【請求項5】 横行ユニットの少なくとも1つに複数の
横行手段を設け、該各横行手段のレベルを異ならせ相互
に干渉しない様にした請求項1、請求項3の基板搬送装
置。 - 【請求項6】 走行ユニット、横行ユニットがロッドレ
スシリンダを有する請求項4の基板搬送装置。 - 【請求項7】 走行ユニット、横行ユニットがボール螺
子を有する請求項4の基板搬送装置。 - 【請求項8】 横行ユニットの1つに対してロードユニ
ットを設け、横行ユニットの他の1つに対してアンロー
ドユニットを設けた請求項1、請求項3の基板搬送装
置。 - 【請求項9】 走行搬送ユニット、処理ユニット、ロー
ドユニット、アンロードユニットをそれぞれ気密構成に
した請求項7の基板搬送装置。 - 【請求項10】 各横行ユニットに対応させ基板を支持
し、基板を昇降可能なユニットを設けた請求項1、請求
項3の基板搬送装置。 - 【請求項11】 基板を平板状の受座で支持可能とした
請求項9の基板搬送装置。 - 【請求項12】 立設された基板支持ピンで基板を支持
可能とした請求項9の基板搬送装置。 - 【請求項13】 処理ユニットに対して基板貯留ユニッ
トを設け、該基板貯留ユニットが基板アライメント手段
を有する請求項3の基板搬送装置。 - 【請求項14】 基板アライメント手段が、基板を載置
し水平方向に移動自在な基板受座と、2本の固定ピン
と、対角線上を移動する2本宛て2対のコーナピンによ
って構成される請求項12の基板搬送装置。 - 【請求項15】 走行手段、横行手段の少なくとも1つ
に相対向して設けた2本の回転可能な基板載置シャフト
及び該基板載置シャフトに設けられた基板受舌片で構成
される基板載置手段を具備する請求項3の基板搬送装
置。 - 【請求項16】 走行手段、横行手段がそれぞれ基板を
載置可能な2股状のフォークを有し、該フォークの4箇
所に内側に向かって降下する斜面を有する斜片が設けら
れ、前記基板が該斜辺の斜面によって支持される様にし
た請求項1の基板搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13667993A JPH0685032A (ja) | 1992-07-14 | 1993-05-14 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20974492 | 1992-07-14 | ||
JP4-209744 | 1992-07-14 | ||
JP13667993A JPH0685032A (ja) | 1992-07-14 | 1993-05-14 | 基板搬送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0685032A true JPH0685032A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=26470183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13667993A Pending JPH0685032A (ja) | 1992-07-14 | 1993-05-14 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0685032A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006310471A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置システム |
JP2009071180A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Intevac Inc | 基板を搬送及び処理する装置並びに方法 |
JP2009145723A (ja) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Ips Alpha Technology Ltd | 液晶表示装置の製造方法および検査システム |
KR100948888B1 (ko) * | 2007-12-05 | 2010-03-24 | 전홍희 | 텔레스코프식 이송유닛을 구비한 반도체기판 가공장치 |
JP2013074183A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Sinfonia Technology Co Ltd | サイド用ロードポート、efem |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP13667993A patent/JPH0685032A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006310471A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置システム |
JP2009071180A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Intevac Inc | 基板を搬送及び処理する装置並びに方法 |
KR100948888B1 (ko) * | 2007-12-05 | 2010-03-24 | 전홍희 | 텔레스코프식 이송유닛을 구비한 반도체기판 가공장치 |
JP2009145723A (ja) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Ips Alpha Technology Ltd | 液晶表示装置の製造方法および検査システム |
JP2013074183A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Sinfonia Technology Co Ltd | サイド用ロードポート、efem |
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