JP2002148820A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2002148820A5 JP2002148820A5 JP2000347661A JP2000347661A JP2002148820A5 JP 2002148820 A5 JP2002148820 A5 JP 2002148820A5 JP 2000347661 A JP2000347661 A JP 2000347661A JP 2000347661 A JP2000347661 A JP 2000347661A JP 2002148820 A5 JP2002148820 A5 JP 2002148820A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000347661A JP2002148820A (ja) | 2000-11-15 | 2000-11-15 | パターン形成方法及びこの方法に使用される処理剤 |
| EP01978871A EP1338923A4 (en) | 2000-11-15 | 2001-10-24 | PATTERN FORMATION METHOD AND PROCESSING AGENT FOR USE IN THE SAME |
| CNB018188796A CN1223908C (zh) | 2000-11-15 | 2001-10-24 | 形成图形的方法和在其中使用的处理剂 |
| PCT/JP2001/009320 WO2002041081A1 (fr) | 2000-11-15 | 2001-10-24 | Procede de formation de motif et agent de traitement a utiliser dans ce dernier |
| US10/416,412 US7018785B2 (en) | 2000-11-15 | 2001-10-24 | Method for forming pattern and treating agent for use therein |
| KR1020037006529A KR100825657B1 (ko) | 2000-11-15 | 2001-10-24 | 내식막 패턴의 형성방법 |
| MYPI20014966A MY140694A (en) | 2000-11-15 | 2001-10-26 | Pattern forming method and treating agent therefor |
| TW090127496A TW583517B (en) | 2000-11-15 | 2001-11-06 | Surface treatment process for chemically amplified resist and the material thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000347661A JP2002148820A (ja) | 2000-11-15 | 2000-11-15 | パターン形成方法及びこの方法に使用される処理剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002148820A JP2002148820A (ja) | 2002-05-22 |
| JP2002148820A5 true JP2002148820A5 (enExample) | 2007-02-08 |
Family
ID=18821354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000347661A Pending JP2002148820A (ja) | 2000-11-15 | 2000-11-15 | パターン形成方法及びこの方法に使用される処理剤 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7018785B2 (enExample) |
| EP (1) | EP1338923A4 (enExample) |
| JP (1) | JP2002148820A (enExample) |
| KR (1) | KR100825657B1 (enExample) |
| CN (1) | CN1223908C (enExample) |
| MY (1) | MY140694A (enExample) |
| TW (1) | TW583517B (enExample) |
| WO (1) | WO2002041081A1 (enExample) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050164122A1 (en) * | 2004-01-26 | 2005-07-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Chemically amplified resist and pattern formation method |
| CN1947065B (zh) * | 2004-04-23 | 2011-03-30 | 东京应化工业株式会社 | 抗蚀图案的形成方法及复合冲洗液 |
| JP4493393B2 (ja) * | 2004-04-23 | 2010-06-30 | 東京応化工業株式会社 | リソグラフィー用リンス液 |
| JP4665712B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2011-04-06 | 株式会社ニコン | 基板処理方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP4485913B2 (ja) | 2004-11-05 | 2010-06-23 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法およびレジスト組成物 |
| JP5008280B2 (ja) * | 2004-11-10 | 2012-08-22 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP5154007B2 (ja) * | 2004-12-06 | 2013-02-27 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP4926433B2 (ja) * | 2004-12-06 | 2012-05-09 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP4794232B2 (ja) * | 2004-12-06 | 2011-10-19 | 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ | 基板処理装置 |
| JP4585299B2 (ja) * | 2004-12-09 | 2010-11-24 | 東京応化工業株式会社 | リソグラフィー用リンス液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 |
| JP4237184B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2009-03-11 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP4761907B2 (ja) * | 2005-09-28 | 2011-08-31 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP4654119B2 (ja) * | 2005-11-29 | 2011-03-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布・現像装置及び塗布・現像方法 |
| JP5018388B2 (ja) * | 2007-10-11 | 2012-09-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
| JP2010128464A (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Az Electronic Materials Kk | レジストパターン形成方法 |
| JPWO2014088018A1 (ja) * | 2012-12-07 | 2017-01-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機ｅｌ表示装置 |
| JP6089667B2 (ja) * | 2012-12-13 | 2017-03-08 | 大日本印刷株式会社 | レジスト付きフォトマスクブランクスの製造方法、および、フォトマスクの製造方法 |
| TWI558850B (zh) * | 2014-03-29 | 2016-11-21 | 精密聚合物股份有限公司 | 電子零件用處理液及電子零件之製造方法 |
| TWI559082B (zh) | 2014-07-07 | 2016-11-21 | 財團法人工業技術研究院 | 生質材料與其形成方法與印刷電路板 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0522990B1 (en) | 1991-06-28 | 1996-09-25 | International Business Machines Corporation | Top antireflective coating films |
| JP2961975B2 (ja) * | 1991-08-06 | 1999-10-12 | 日本電気株式会社 | 微細パターンの形成方法 |
| US5514526A (en) * | 1992-06-02 | 1996-05-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | Fluorine-containing composition for forming anti-reflection film on resist surface and pattern formation method |
| JPH05341536A (ja) | 1992-06-12 | 1993-12-24 | Toshiba Corp | レジストパターンの形成方法 |
| JPH06242605A (ja) | 1993-02-15 | 1994-09-02 | Hoechst Japan Ltd | ポジ型放射感応性混合物 |
| JP3300089B2 (ja) | 1993-02-15 | 2002-07-08 | クラリアント インターナショナル リミテッド | ポジ型放射感応性混合物 |
| JPH06267838A (ja) * | 1993-03-11 | 1994-09-22 | Hitachi Ltd | レジストパターンの形成方法 |
| JP2803549B2 (ja) | 1993-12-21 | 1998-09-24 | 信越化学工業株式会社 | 光反射性防止材料及びパターン形成方法 |
| JP3402415B2 (ja) | 1994-03-03 | 2003-05-06 | 沖電気工業株式会社 | レジストパターン形成方法 |
| JPH086256A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-01-12 | Mitsubishi Electric Corp | レジストパターンの形成方法および該方法に用いられる酸性の水溶性材料組成物 |
| JPH0980753A (ja) | 1995-09-13 | 1997-03-28 | Toshiba Corp | 感光性組成物 |
| US5879853A (en) * | 1996-01-18 | 1999-03-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Top antireflective coating material and its process for DUV and VUV lithography systems |
| JP3694703B2 (ja) * | 1996-04-25 | 2005-09-14 | Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | 反射防止コーティング用組成物 |
| JPH1195442A (ja) | 1997-09-24 | 1999-04-09 | Sharp Corp | フォトレジストパターン形成方法 |
| JP3673399B2 (ja) * | 1998-06-03 | 2005-07-20 | クラリアント インターナショナル リミテッド | 反射防止コーティング用組成物 |
| JP3967466B2 (ja) * | 1998-06-19 | 2007-08-29 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜材料 |
| WO2000031781A1 (fr) * | 1998-11-20 | 2000-06-02 | Clariant International Ltd. | Procede relatif a la formation d'un motif de resist |
-
2000
- 2000-11-15 JP JP2000347661A patent/JP2002148820A/ja active Pending
-
2001
- 2001-10-24 WO PCT/JP2001/009320 patent/WO2002041081A1/ja not_active Ceased
- 2001-10-24 EP EP01978871A patent/EP1338923A4/en not_active Withdrawn
- 2001-10-24 CN CNB018188796A patent/CN1223908C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-24 US US10/416,412 patent/US7018785B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-24 KR KR1020037006529A patent/KR100825657B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-26 MY MYPI20014966A patent/MY140694A/en unknown
- 2001-11-06 TW TW090127496A patent/TW583517B/zh not_active IP Right Cessation