JP2002086039A

JP2002086039A - 液処理装置

Info

Publication number: JP2002086039A
Application number: JP2000277632A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Yamazaki; 剛山崎; Kazunori Yuzuhara; 和則柚原; Takashi Nakamitsu; 孝志中満; Kazuhito Miyazaki; 一仁宮崎; Mitsuhiro Sakai; 光広坂井; Masaya Aoki; 賢哉青木
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2000-09-13
Filing date: 2000-09-13
Publication date: 2002-03-26
Also published as: KR100776626B1; TW513739B; KR20020024529A

Abstract

(57)【要約】【課題】処理液吐出ノズルを安定して一軸方向に移動
させ、処理液を均一に基板に供給することを可能とする
液処理装置を提供する。【解決手段】液処理装置、例えば、その一形態である
現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃは、基板Ｇ
を載置して保持するスピンチャック４１等の保持手段
と、スピンチャック４１に保持された基板Ｇの表面に所
定の現像液を吐出するパドル形成用ノズル８０と、パド
ル形成用ノズル８０を保持するノズル保持アーム５１
と、ノズル保持アーム５１の長さ方向端部近傍において
ノズル保持アーム５１と嵌合するように平行に配設され
たガイドレール５３ａ・５３ｂを具備し、駆動機構５２
により、スピンチャック４１に保持された基板Ｇの表面
に沿ってノズル保持アーム５１をガイドレール５３ａ・
５３ｂの長さ方向に移動させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶ディ
スプレイ（ＬＣＤ）用ガラス基板や半導体ウエハ等の基
板に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示ディスプレイ（ＬＣＤ）や半導
体デバイスのフォトリソグラフィー工程においては、洗
浄処理されたＬＣＤ基板や半導体ウエハ等の基板にフォ
トレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、所定のパ
ターンでレジスト膜を露光し、これを現像処理するとい
う一連の処理が行われている。このうち洗浄処理、レジ
スト塗布処理、現像処理は、一般的にスピンナ型と呼ば
れる液処理装置を用いて、基板を水平に保持し静止させ
た状態で、または基板を面内で回転させながら、所定の
処理液を基板表面に供給して行われている。

【０００３】例えば、ＬＣＤ基板の現像処理において
は、露光処理された基板をスピンチャック等に載置、固
定して現像液を基板に液盛りし、パドルを形成して現像
反応を進行させ、所定時間経過した後にリンス液の供給
を開始するとほぼ同時に基板を回転させて現像液とリン
ス液を振り切り、その後にリンス液の供給を停止して基
板を高速で回転させ、スピン乾燥を行うといった方法が
採用されている。

【０００４】ここで、基板に現像液を供給するための現
像液吐出ノズルとしては、例えば、現像液が帯状に吐出
されるように現像液吐出口が形成された一方向に長い形
状を有するものが用いられている。また、このような現
像液吐出ノズルは、同様に一方向に長く、現像液吐出ノ
ズルの幅と同等幅を有するノズル保持アームに取り付け
られている。

【０００５】そして、現像液吐出ノズルが基板表面に沿
って現像液吐出ノズルの長さ方向に垂直な一軸方向に移
動できるように、例えば、ノズル保持アームの長さ方向
の片端近傍にノズル保持アームを移動方向である一軸方
向に案内するガイドレールと、このガイドレールに沿っ
てノズル保持アームを駆動させる駆動機構を配設した片
持ち構造が採られ、ノズル保持アームの他端は完全にフ
リーで宙に浮いた状態となっているか、または移動方向
に回転する車等が取り付けられて、この車等が液処理装
置に固定して設けられたレール等に接地してレール等の
上を移動する構造となっていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年に
なって処理する基板の大型化が進むにつれて、ノズル保
持アームを従来の片持ち構造とした場合に種々の問題が
生ずることが明らかとなってきた。例えば、大型化され
た基板上に均一に現像液を吐出するためには、現像液吐
出ノズルの長さ方向の長さを基板の大きさに合わせて長
くする必要があるが、このときにノズル保持アームの片
端がフリーな状態であると、ノズル保持アームや現像液
吐出ノズルの自重に起因してノズル保持アームが長さ方
向で傾き、現像液吐出ノズルの現像液吐出口の高さ位置
を基板表面に対して平行に保持し難くなり、その結果、
基板上に均一なパドルを形成することが困難となる。

【０００７】また、ノズル保持アームの片端が車等を介
して接地している場合には、現像液吐出口の高さ位置は
基板の表面に対して平行に保持できるが、ノズル保持ア
ームの駆動中に、車等の回転による振動が現像液吐出ノ
ズルに伝達され現像液の吐出が均一に行えなくなる。さ
らに、現像液の吐出が終了して現像液吐出ノズルを上昇
させる際にはノズル保持アームの片端は浮いた状態とな
るので、現像液吐出ノズルに傾きが生じて、高さの低く
なる位置に形成された現像液吐出口から現像液が液垂れ
し易くなる問題も生ずる。

【０００８】なお、現像液吐出ノズルの長さ方向の長さ
が長くなると、一軸方向の駆動時において急激な発進動
作や停止動作を行った場合には、慣性によって現像液吐
出ノズルに生ずるぶれが大きくなり、現像液吐出時にこ
のようなぶれが生ずると現像液の吐出均一性が低下する
おそれがある。

【０００９】本発明はこのような従来技術が有する課題
に鑑みてなされたものであり、現像液に限らず処理液一
般について、処理液吐出ノズルを安定して一軸方向に移
動させ、処理液を均一に基板に供給することが可能な液
処理装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、基板を載置して保持する保持手段
と、前記保持手段に保持された基板の表面に所定の処理
液を吐出する処理液吐出ノズルと、前記処理液吐出ノズ
ルを保持するノズル保持アームと、前記ノズル保持アー
ムの長さ方向端部近傍において前記ノズル保持アームと
嵌合するように平行に配設されたガイドレールと、前記
保持手段に保持された基板の表面に沿って前記ノズル保
持アームを前記ガイドレールの長さ方向に移動させる駆
動機構部と、を具備することを特徴とする液処理装置、
が提供される。

【００１１】また、本発明によれば、基板を載置して保
持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板の表
面に所定の処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、前記
処理液吐出ノズルを保持するノズル保持アームと、前記
ノズル保持アームの長さ方向端部近傍において前記ノズ
ル保持アームと嵌合するように平行に配設されたガイド
レールと、前記保持手段に保持された基板の表面に沿っ
て前記ノズル保持アームを前記ガイドレールの長さ方向
に移動させる駆動機構部と、前記ノズル保持アームに発
生するぶれまたは振動が低減されるように前記ノズル保
持アームの駆動加速度を制御する駆動制御機構と、を具
備することを特徴とする液処理装置、が提供される。

【００１２】これら本発明の液処理装置では、ノズル保
持アームは平行に配設されたガイドレールと嵌合した両
持ち型構造となっているために、ノズル保持アームの一
端の高さ位置が変化したり、また、片端にぶれが生じた
りすることなく、ノズル保持アームおよび処理液吐出ノ
ズルをガイドレールの長さ方向に沿って安定して、移動
させることが可能となる。また、ノズル保持アームを車
等を使用して接地させていないことから振動発生が低減
される。さらに、ノズル保持アームの駆動加速度を制御
して、例えば、ノズル保持アームの駆動開始時と駆動終
了時の動きが緩やかに制御されることから、ノズル保持
アームに発生するぶれまたは振動が低減され、処理液の
吐出を均一に行うことが可能となる。こうして、処理液
を均一に基板に吐出することが可能となり、製品の品質
が安定し、歩留まりが向上する。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の液処理装置につい
て、その一実施形態である、ＬＣＤ基板のレジスト塗布
・現像処理システムに用いられる現像処理装置、を例と
して添付図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、
現像処理装置（現像処理ユニット）（ＤＥＶ）２４ａ〜
２４ｃを有するＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理シ
ステム１００を示す平面図である。

【００１４】レジスト塗布・現像処理システム１００
は、複数のＬＣＤ基板（基板）Ｇを収容するカセットＣ
を載置するカセットステーション１と、基板Ｇにレジス
ト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の
処理ユニットを備えた処理部２と、露光装置（図示せ
ず）との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフ
ェイス部３とを備えており、処理部２の両端にそれぞれ
カセットステーション１およびインターフェイス部３が
配置されている。

【００１５】カセットステーション１は、カセットＣと
処理部２との間で基板Ｇの搬送を行うための搬送機構１
０を備えている。そして、カセットステーション１にお
いてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１
０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１０
ａ上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アー
ム１１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬
送が行われる。

【００１６】処理部２は、前段部２ａと中段部２ｂと後
段部２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１２
・１３・１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニ
ットが配設されている。そして、これらの間には中継部
１５・１６が設けられている。

【００１７】前段部２ａは、搬送路１２に沿って移動可
能な主搬送装置１７を備えており、搬送路１２の一方側
には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂが
配置されており、搬送路１２の他方側には紫外線照射ユ
ニット（ＵＶ）と冷却ユニット（ＣＯＬ）とが２段に重
ねられた処理ブロック２５、加熱処理ユニット（ＨＰ）
が２段に重ねられてなる処理ブロック２６および冷却ユ
ニット（ＣＯＬ）が２段に重ねられてなる処理ブロック
２７が配置されている。

【００１８】また、中段部２ｂは、搬送路１３に沿って
移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１３の
一方側には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２お
よび基板Ｇの周縁部のレジストを除去する周縁レジスト
除去ユニット（ＥＲ）２３が一体的に設けられており、
搬送路１３の他方側には、加熱処理ユニット（ＨＰ）が
２段に重ねられてなる処理ブロック２８、加熱処理ユニ
ット（ＨＰ）と冷却処理ユニット（ＣＯＬ）が上下に重
ねられてなる処理ブロック２９、およびアドヒージョン
処理ユニット（ＡＤ）と冷却ユニット（ＣＯＬ）とが上
下に重ねられてなる処理ブロック３０が配置されてい
る。

【００１９】さらに、後段部２ｃは、搬送路１４に沿っ
て移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送路１４
の一方側には、３つの現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４
ａ・２４ｂ・２４ｃが配置されており、搬送路１４の他
方側には加熱処理ユニット（ＨＰ）が２段に重ねられて
なる処理ブロック３１、およびともに加熱処理ユニット
（ＨＰ）と冷却処理ユニット（ＣＯＬ）が上下に重ねら
れてなる処理ブロック３２・３３が配置されている。

【００２０】なお、処理部２は、搬送路を挟んで一方の
側に洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ、レジスト塗布処理
ユニット（ＣＴ）２２、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２
４ａのようなスピンナ系ユニットのみを配置しており、
他方の側に加熱処理ユニット（ＨＰ）や冷却処理ユニッ
ト（ＣＯＬ）等の熱系処理ユニットのみを配置する構造
となっている。

【００２１】また、中継部１５・１６のスピンナ系ユニ
ット配置側の部分には、薬液供給ユニット３４が配置さ
れており、さらに主搬送装置１７・１８・１９のメンテ
ナンスを行うためのスペース３５が設けられている。

【００２２】主搬送装置１７・１８・１９は、それぞれ
水平面内の２方向のＸ軸駆動機構、Ｙ軸駆動機構、およ
び垂直方向のＺ軸駆動機構を備えており、さらにＺ軸を
中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞれ基
板Ｇを支持するアームを有している。

【００２３】主搬送装置１７は、搬送アーム１７ａを有
し、搬送機構１０の搬送アーム１１との間で基板Ｇの受
け渡しを行うとともに、前段部２ａの各処理ユニットに
対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１５との間
で基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。また、主
搬送装置１８は搬送アーム１８ａを有し、中継部１５と
の間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、中段部２ｂの
各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには
中継部１６との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有し
ている。さらに、主搬送装置１９は搬送アーム１９ａを
有し、中継部１６との間で基板Ｇの受け渡しを行うとと
もに、後段部２ｃの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬
入・搬出、さらにはインターフェイス部３との間の基板
Ｇの受け渡しを行う機能を有している。なお、中継部１
５・１６は冷却プレートとしても機能する。

【００２４】インターフェイス部３は、処理部２との間
で基板Ｇを受け渡しする際に一時的に基板Ｇを保持する
エクステンション３６と、さらにその両側に設けられ
た、バッファカセットを配置する２つのバッファステー
ジ３７と、これらと露光装置（図示せず）との間の基板
Ｇの搬入出を行う搬送機構３８とを備えている。搬送機
構３８はエクステンション３６およびバッファステージ
３７の配列方向に沿って設けられた搬送路３８ａ上を移
動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９に
より処理部２と露光装置との間で基板Ｇの搬送が行われ
る。

【００２５】このように各処理ユニットを集約して一体
化することにより、省スペース化および処理の効率化を
図ることができる。

【００２６】このように構成されたレジスト塗布・現像
処理システム１００においては、カセットＣ内の基板Ｇ
が処理部２に搬送され、処理部２では、まず前段部２ａ
の処理ブロック２５の紫外線照射ユニット（ＵＶ）で表
面改質・洗浄処理が行われ、冷却処理ユニット（ＣＯ
Ｌ）で冷却された後、洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・
２１ｂでスクラバ洗浄が施され、処理ブロック２６のい
ずれかの加熱処理ユニット（ＨＰ）で加熱乾燥された
後、処理ブロック２７のいずれかの冷却ユニット（ＣＯ
Ｌ）で冷却される。

【００２７】その後、基板Ｇは中段部２ｂに搬送され、
レジストの定着性を高めるために、処理ブロック３０の
上段のアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）にて疎水化
処理（ＨＭＤＳ処理）され、下段の冷却処理ユニット
（ＣＯＬ）で冷却後、レジスト塗布処理ユニット（Ｃ
Ｔ）２２でレジストが塗布され、周縁レジスト除去ユニ
ット（ＥＲ）２３で基板Ｇの周縁の余分なレジストが除
去される。その後、基板Ｇは、中段部２ｂの中の加熱処
理ユニット（ＨＰ）の１つでプリベーク処理され、処理
ブロック２９または３０の下段の冷却ユニット（ＣＯ
Ｌ）で冷却される。

【００２８】その後、基板Ｇは中継部１６から主搬送装
置１９にてインターフェイス部３を介して露光装置に搬
送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、
基板Ｇは再びインターフェイス部３を介して搬入され、
必要に応じて後段部２ｃの処理ブロック３１・３２・３
３のいずれかの加熱処理ユニット（ＨＰ）でポストエク
スポージャーベーク処理を施した後、現像処理ユニット
（ＤＥＶ）２４ａ・２４ｂ・２４ｃのいずれかで現像処
理され、所定の回路パターンが形成される。現像処理さ
れた基板Ｇは、後段部２ｃのいずれかの加熱処理ユニッ
ト（ＨＰ）にてポストベーク処理が施された後、いずれ
かの冷却ユニット（ＣＯＬ）にて冷却され、主搬送装置
１９・１８・１７および搬送機構１０によってカセット
ステーション１上の所定のカセットに収容される。

【００２９】次に、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ
〜２４ｃについて詳細に説明する。図２は現像処理ユニ
ット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃの一実施形態を示す平面
図であり、図３は図２記載の現像処理ユニット（ＤＥ
Ｖ）２４ａ〜２４ｃにおけるカップ部分の断面図であ
る。現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃはシン
ク４８により全体が包囲されており、その内部に基板Ｇ
を機械的に保持する保持手段、例えば、スピンチャック
４１がモータ等の回転駆動機構４２により回転されるよ
うに設けられ、このスピンチャック４１の下側には、回
転駆動機構４２を包囲するカバー４３が配置されてい
る。スピンチャック４１は図示しない昇降機構により昇
降可能となっており、上昇位置において搬送アーム１９
ａとの間で基板Ｇの受け渡しを行う。スピンチャック４
１は真空吸引力等により、基板Ｇを吸着保持できるよう
になっている。

【００３０】カバー４３の外周囲には２つのアンダーカ
ップ４４・４５が離間して設けられており、この２つの
アンダーカップ４４・４５の間の上方には、主として現
像液を下方に流すためのインナーカップ４６が昇降自在
に設けられ、アンダーカップ４５の外側には、主として
リンス液を下方に流すためのアウターカップ４７がイン
ナーカップ４６と一体的に昇降自在に設けられている。
なお、図３において、左側には現像液の排出時にインナ
ーカップ４６およびアウターカップ４７が上昇される位
置が示され、右側にはリンス液の排出時にこれらが降下
される位置が示されており、また後述するノズル洗浄機
構１２０等は示していない。

【００３１】アンダーカップ４４の内周側底部には回転
乾燥時にユニット内を排気するための排気口４９が配設
されており、２つのアンダーカップ４４・４５間には主
に現像液を排出するためのドレイン管５０ａが、アンダ
ーカップ４５の外周側底部には主にリンス液を排出する
ためにドレイン管５０ｂが、設けられている。

【００３２】アウターカップ４７の一方の側には、図２
に示すように、現像液供給用のノズル保持アーム５１が
設けられ、ノズル保持アーム５１には、基板Ｇに現像液
を塗布するために用いられる現像液吐出ノズルの一実施
形態であるパドル形成用ノズル８０が取り付けられてい
る。パドル形成用ノズル８０としては、例えば、現像液
を帯状に垂直方向に吐出できるように、全体が一方向に
長く、その長さ方向に複数の吐出口が形成されたもの
や、長さ方向にスリット状の吐出口が形成された形態の
ものを用いることができる。パドル形成用ノズル８０に
は、図示しない現像液供給源から所定のタイミングで現
像液が送液される。

【００３３】ノズル保持アーム５１は、長さ方向の両端
近傍において、シンク４８に固定されたガイドレール５
３ａ・５３ｂと嵌合した両持ち型構造となっている。ノ
ズル保持アーム５１は直接にガイドレール５３ａ・５３
ｂと嵌合していてもよく、後に説明する図４に示すよう
に、ノズル保持アーム５１の端部と強固に接合された別
の部材と嵌合していてもよい。また、ガイドレール５３
ａ・５３ｂの形状に限定はなく、ノズル保持アーム５１
またはノズル保持アーム５１の端部と強固に接合された
別の部材が、ガイドレール５３ａ・５３ｂの長さ方向に
垂直ないずれかの方向へ脱離することがない構造であれ
ばよい。

【００３４】ノズル保持アーム５１はガイドレール５３
ａ・５３ｂの長さ方向に沿って駆動機構５２により基板
Ｇを横切って移動できる構造となっており、パドル形成
用ノズル８０が使用されないときには、ノズル待機部１
１５に待機されるようになっている。なお、ノズル待機
部１１５にはパドル形成用ノズル８０を洗浄するノズル
洗浄機構１２０が設けられている。

【００３５】このように、ノズル保持アーム５１をその
長さ方向の端部で両持ち型構造としてガイドレール５３
ａ・５３ｂの長さ方向に移動させた場合には、例えば、
ガイドレールをノズル保持アーム５１の中央部分に設け
た場合や従来のように片端にのみガイドレールを設けた
場合と比較して、ノズル保持アーム５１の長さ方向にお
ける傾きが生ずることが抑えられ、また、ノズル保持ア
ーム５１に発生する振動やぶれを抑えながら、ノズル保
持アーム５１を安定して移動させること可能となる。

【００３６】ノズル保持アーム５１の上面には昇降装置
であるシリンダ５８ａが取り付けられ、このシリンダ５
８ａの動作によって支持板５８ｂの昇降が行えるように
なっている。一方、パドル形成用ノズル８０は吊り下げ
棒５８ｃにより支持板５８ｂから吊支されており、こう
してシリンダ５８ａの昇降動作により、パドル形成用ノ
ズル８０が昇降自在な構成となっている。これらシリン
ダ５８ａ、支持板５８ｂ、吊り下げ棒５８ｃが昇降機構
５８を構成する。

【００３７】アウターカップ４７を降下させ、かつパド
ル形成用ノズル８０をノズル保持アーム５１に近接した
上方位置（待避位置）に保持した状態で、ノズル保持ア
ーム５１をガイドレール５３ａ・５３ｂの長さ方向にス
ライドさせることで、パドル形成用ノズル８０がアウタ
ーカップ４７の上端に接することなく、インナーカップ
４６内に配置することができる。そして、昇降機構５８
によりパドル形成用ノズル８０の現像液吐出口を基板Ｇ
の表面から所定の高さの位置（処理位置）に合わせて、
現像液を吐出しながらノズル保持アーム５１を静止した
基板Ｇ上をスキャンさせることで、基板Ｇ上に現像液パ
ドルを形成することができる。

【００３８】このようにノズル保持アーム５１を両持ち
型構造とすることで、基板Ｇが大型化してパドル形成用
ノズル８０の長さ方向の長さが長くなっても、安定して
ガイドレール５３ａ・５３ｂの長さ方向に移動させるこ
とが可能となる。また、パドル形成用ノズル８０がノズ
ル保持アーム５１と同様に両持ち型の構成とされている
ことから、パドル形成用ノズル８０の現像液吐出口を基
板Ｇの処理面と平行に保持することが容易となり、これ
により現像液の均一な基板Ｇへの塗布が可能となる。さ
らに図３に示すように、ノズル保持アーム５１の幅はパ
ドル形成用ノズル８０の幅よりもかなり広く形成されて
剛性が確保され、ノズル保持アーム５１のスキャン時の
振動等がパドル形成用ノズル８０に伝わり難い構造とな
っている。これによっても、パドル形成用ノズル８０か
らの均一な現像液の吐出が可能となる。

【００３９】次に、ノズル保持アーム５１の駆動機構５
２の駆動原理について、図４から図６を参照しながら説
明する。図４は、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜
２４ｃにおける駆動機構５２の配設状態を示した断面図
であり、図５は図４の左側に示した駆動部分Ｐ１の構造
を矢視Ａ方向から示した説明図であり、図６は図４の右
側に示した駆動部分Ｐ２を矢視Ｂ方向から示した説明図
である。

【００４０】図４および図５に示されるように、現像処
理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃにおける駆動部分
Ｐ１においては、ガイドレール５３ａの一端近傍の下方
に回転駆動機構の１つであるモータ６１ａが配設されて
おり、モータ６１ａの回転軸にはプーリー６２ａが取り
付けられている。プーリー６２ａとプーリー６２ａの下
方に配置されたプーリー６４ａとの間にはベルト７１ａ
が架けられており、プーリー６４ａが取り付けられてい
るシャフト６３ａには別のプーリー６５ａが配設されて
いる。プーリー６５ａとガイドレール５３ａの長さ方向
の他端にはプーリー６６ａが配設されており、プーリー
６５ａとプーリー６６ａとの間にはベルト７２ａが架け
られている。ガイドレール５３ａは、ノズル保持アーム
５１をその上部で連結する支持壁６９ａを貫通してお
り、支持壁６９ａの下部に配設された連結部材６８ａは
ベルト７２ａの一部に取り付けられた固定部材６７ａと
接続されている。

【００４１】このような構成により、駆動部分Ｐ１にお
いては、モータ６１ａが回転するとプーリー６２ａが回
転し、この回転はベルト７１ａによってプーリー６４ａ
に伝達され、こうしてシャフト６３ａが軸周りに回転す
るようになる。シャフト６３ａの回転によりプーリー６
５ａが回転し、プーリー６５ａとプーリー６６ａとの間
に架けられたベルト７２ａがプーリー６５ａの回転量ほ
ど回転する。ベルト７２ａの回転によってベルト７２ａ
に取り付けられた固定部材６７ａは、モータ６１ａの回
転の向きに応じて、所定距離ほどガイドレール５３ａの
長さ方向にスライド移動する。この固定部材６７ａのス
ライド移動は連結部材６８ａを介して支持壁６９ａに伝
えられるが、ここで支持壁６９ａをガイドレール５３ａ
が貫通しているために、支持壁６９ａは安定してガイド
レール５３ａの長さ方向にスライドする。

【００４２】一方、図４および図６に示すように、シャ
フト６３ａは駆動部分Ｐ１・Ｐ２間に架けられており、
モータ６１ａの回転はシャフト６３ａを介して駆動部分
Ｐ２に伝達されるようになっている。シャフト６３ａの
駆動部分Ｐ２側にはプーリー８１ａが配設されており、
プーリー８１ａの上方に設けられたプーリー８２ａとの
間にベルト７３ａが架けられている。こうしてシャフト
６３ａの回転がプーリー８２ａに伝達される。プーリー
８２ａの回転軸にはプーリー８３ａが配設されており、
プーリー８２ａの回転によりプーリー８３ａが回転す
る。

【００４３】また、ガイドレール５３ｂの長さ方向他端
側にはプーリー８４ａが配設されており、プーリー８３
ａ・８４ａ間にはベルト７４ａが架けられている。こう
してプーリー８３ａの回転量ほどベルト７４ａが回転す
る。ベルト７４ａの一部には固定部材８５ａが取り付け
られており、固定部材８５ａはノズル保持アーム５１を
その上部で連結する連結部材８６ａと接続されている。
ガイドレール５３ｂは連結部材８６ａを貫通するように
配設されていることから、連結部材８６ａはベルト７４
ａの動きに合わせてガイドレール５３ｂの長さ方向にス
ライドする。

【００４４】上述のように、駆動部分Ｐ２において、シ
ャフト６３ａの回転動力を上部へ伝達する構造とした理
由は、図４に示されるように、駆動部分Ｐ２側のシンク
４８の壁面に搬送アーム１９ａとスピンチャック４１と
の間で基板Ｇの受け渡しを行うための窓部６が形成され
ているためである。

【００４５】このように駆動機構５２においては、１個
のモータ６１ａの回転がノズル保持アーム５１を連結す
る駆動部分Ｐ１側の支持壁６９ａと駆動部分Ｐ２側の連
結部材８６ａに同時に伝達され、ノズル保持アーム５１
のガイドレール５３ａ・５３ｂの長さ方向でのスキャン
を実現している。このような両側駆動によってノズル保
持アーム５１の駆動制御特性が向上する。

【００４６】また、駆動機構５２においては、ノズル保
持アーム５１の動作開始時や終了時にノズル保持アーム
５１に発生するぶれまたは振動が低減されるように、ノ
ズル保持アーム５１の駆動加速度が制御される。

【００４７】例えば、静止状態にあるノズル保持アーム
５１に大きな加速度を与えて急なスライド動作を始めた
り、逆にスライド動作中のノズル保持アーム５１を急停
止させたりした場合には、パドル形成用ノズル８０等に
大きな負荷が加わり、振動やぶれの発生が起こり易くな
ると考えられる。このようなパドル形成用ノズル８０の
振動やぶれは、現像液の吐出中においては、形成される
現像液パドルの部分的な波打ち等の発生等の影響を与
え、現像処理状態に不均一性を生じさせる原因となり、
また、装置の耐久性にも悪影響を与えると考えられる。

【００４８】そこで、このような問題を回避するため
に、例えば、ノズル保持アーム５１の駆動開始時には徐
々に加速度が大きくなるようにゆっくりと加速し、一
方、駆動停止時には徐々に加速度が小さくなるようにゆ
っくりと停止するように、ノズル保持アーム５１の駆動
加速度を制御することが好ましい。このような制御機構
は、後述する制御装置７０に組み込まれる。

【００４９】また、図４に示されるように、モータ６１
ａ周りやベルト７１ａ〜７４ａ周りといった発塵（パー
ティクルの発生）が予想される部分はカップ部分と隔離
され、基板Ｇの表面にパーティクルが飛散しない構造と
なっている。これらの部分には、局所的に排気機構を設
けることによって、より確実に基板Ｇにパーティクルが
飛散しない構造とすることが好ましい。昇降機構５８に
ついても、例えば、昇降機構５８およびパドル形成用ノ
ズル８０を上昇位置において包囲するようなカバーを設
けて、そのカバー内を排気する構造とすることが好まし
い。

【００５０】さて、アウターカップ４７の他方の側に
は、純水等のリンス液吐出用のノズル保持アーム５４が
設けられ、ノズル保持アーム５４には、リンス液吐出ノ
ズル５５が設けられている。リンス液吐出ノズル５５と
しては、例えば、パイプ状の吐出口を有するもの用いる
ことができる。ノズル保持アーム５４は、ノズル保持ア
ーム５１と同様に両持ち型構造を有し、所定の剛性が確
保されるようにその幅が広く設定されている。

【００５１】ノズル保持アーム５４は、駆動機構５６に
よりガイドレール５３ａ・５３ｂの長さ方向に沿ってス
ライド自在に構成されており、リンス液吐出ノズル５５
からリンス液を吐出させながら、基板Ｇ上をスキャンで
きるようになっている。なお、図２には示していない
が、リンス液吐出ノズル５５の高さ位置を調整する昇降
機構がノズル保持アーム５４に配設されている。

【００５２】駆動機構５６の駆動原理は前述した駆動機
構５２の駆動原理と同じである。すなわち、図４および
図５に示されるように、ガイドレール５３ａの長さ方向
の端部であって、モータ６１ａが配設されている端部と
は反対側の端部にモータ６１ｂが配設され、モータ６１
ｂの回転軸にプーリー６２ｂが取り付けられている。こ
こで省スペース化を考慮して、モータ６１ｂはプーリー
６６ａの横側に取り付けられ、プーリー６４ｂをプーリ
ー６２ｂの上方に配置して、これらのプーリー６２ｂ・
６４ｂ間にベルト７１ｂが架けられている。プーリー６
４ｂが取り付けられているシャフト６３ｂには別のプー
リー６５ｂが配設されており、プーリー６５ｂとガイド
レール５３ａの長さ方向の他端にはプーリー６６ｂが配
設されている。そして、プーリー６５ｂ・６６ｂとの間
にはベルト７２ｂが架けられている。

【００５３】ガイドレール５３ａは、ノズル保持アーム
５４をその上部で連結する支持壁６９ｂを貫通してお
り、支持壁６９ｂの下部に配設された連結部材６８ｂは
ベルト７２ｂの一部に取り付けられた固定部材６７ｂと
接続されている。

【００５４】このような構成により、駆動部分Ｐ１にお
いては、モータ６１ｂが回転するとプーリー６２ｂが回
転し、この回転はベルト７１ｂによってプーリー６４ｂ
に伝達され、こうしてシャフト６３ｂが軸周りに回転す
るようになる。シャフト６３ｂの回転によりプーリー６
５ｂが回転し、プーリー６５ｂとプーリー６６ｂとの間
に架けられたベルト７２ｂがプーリー６５ｂの回転量ほ
ど回転する。ベルト７２ｂの回転によってベルト７２ｂ
に取り付けられた固定部材６７ｂは、モータ６１ｂの回
転の向きに応じて、所定距離ほどガイドレール５３ａの
長さ方向にスライド移動する。この固定部材６７ｂのス
ライド移動は連結部材６８ｂを介して支持壁６９ａに伝
えられるが、ここで支持壁６９ｂをガイドレール５３ａ
が貫通しているために、支持壁６９ｂおよび支持壁６９
ｂに接続されたノズル保持アーム５４は、安定してガイ
ドレール５３ａの長さ方向にスライドする。

【００５５】一方、図４および図６に示すように、シャ
フト６３ｂは駆動部分Ｐ１・Ｐ２間に架けられており、
モータ６１ｂの回転はシャフト６３ｂを介して駆動部分
Ｐ２に伝達されるようになっている。シャフト６３ｂの
駆動部分Ｐ２側にはプーリー８１ｂが配設されており、
プーリー８１ｂの上方に設けられたプーリー８２ｂとの
間にベルト７３ｂが架けられている。こうしてシャフト
６３ｂの回転がプーリー８２ｂに伝達される。プーリー
８２ｂの回転軸にはプーリー８３ｂが配設されており、
プーリー８２ｂの回転によりプーリー８３ｂが回転す
る。

【００５６】また、ガイドレール５３ｂの長さ方向他端
側にはプーリー８４ｂが配設されており、プーリー８３
ｂ・８４ｂ間にはベルト７４ｂが架けられている。こう
してプーリー８３ｂの回転量ほどベルト７４ｂが回転す
る。ベルト７４ｂの一部には固定部材８５ｂが取り付け
られており、固定部材８５ｂはノズル保持アーム５１を
その上部で連結する連結部材８６ｂと接続されている。
ガイドレール５３ｂは連結部材８６ｂを貫通するように
配設されていることから、連結部材８６ｂはベルト７４
ｂの動きに合わせてガイドレール５３ｂの長さ方向にス
ライドする。このように、ノズル保持アーム５４もまた
両側駆動され、高い駆動性能を有している。

【００５７】上述した現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４
ａ〜２４ｃにおけるスピンチャック４１を回転させる回
転駆動機構４２、現像液用のノズル保持アーム５１をス
ライド移動させる駆動機構５２、およびリンス液用のノ
ズル保持アーム５４をスライド移動させる駆動機構５６
は、図７に示すようにいずれも制御装置７０により制御
されるようになっている。

【００５８】次に、上述したパドル形成用ノズル８０を
有する現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃを用
いた現像処理工程について説明する。まず、インナーカ
ップ４６とアウターカップ４７とを下段（図３右側位
置）に保持した状態として、窓部６を開けて、基板Ｇを
保持した搬送アーム１９ａを現像処理ユニット（ＤＥ
Ｖ）２４ａ〜２４ｃ内に挿入し、このタイミングに合わ
せてスピンチャック４１を上昇させて、基板Ｇをスピン
チャック４１へ受け渡す。

【００５９】搬送アーム１９ａを現像処理ユニット（Ｄ
ＥＶ）２４ａ〜２４ｃ外に待避させた後に窓部６を閉
め、基板Ｇが載置されたスピンチャック４１を降下させ
て所定位置に保持する。パドル形成用ノズル８０がアウ
ターカップ４７の上端に接触しないように待避位置にあ
る状態として駆動機構５２を動作させ、ノズル保持アー
ム５１をインナーカップ４６内の所定位置に移動、配置
する。昇降機構５８を用いてパドル形成用ノズル８０を
下方の処理位置に移動させて保持し、パドル形成用ノズ
ル８０から所定の現像液を基板Ｇ上に吐出しながら基板
Ｇ上をスキャンさせることで、現像液パドルを形成す
る。

【００６０】現像液パドルが形成された後、所定の現像
処理時間（現像反応時間）が経過するまでの間に、パド
ル形成用ノズル８０を昇降機構５８を動作させて待避位
置へ戻し、ノズル保持アーム５１をノズル待機部１１５
へ移動させる。代わりにノズル保持アーム５４を駆動し
て、リンス液吐出ノズル５５を基板Ｇ上の所定位置にお
いて所定高さに保持し、インナーカップ４６とアウター
カップ４７を上昇させて上段位置（図３の左側位置）に
保持する。この上段位置は、基板Ｇの表面の水平位置が
ほぼインナーカップ４６のテーパー部の位置に合う高さ
とする。

【００６１】基板Ｇを低速で回転させて基板Ｇ上の現像
液を振り切る動作に入るのとほぼ同時にリンス液吐出ノ
ズル５５からリンス液を吐出し、さらにこれらの動作と
ほぼ同時に、排気口４９による排気動作を開始する。つ
まり、現像反応時間の経過前には排気口４９は未動作の
状態とすることが好ましく、これにより、基板Ｇ上に形
成された現像液パドルには、排気口４９の動作による気
流発生等の悪影響が及ばない。

【００６２】基板Ｇの回転が開始され、基板Ｇからその
外周に向けて飛散する現像液およびリンス液は、インナ
ーカップ４６のテーパー部や外周壁（垂直壁）に当たっ
て下方へ導かれ、ドレイン管５０ａから排出される。こ
のとき基板Ｇの回転開始から所定の時間が経過するまで
は、主に現像液からなる現像液濃度の高い処理液がドレ
イン管５０ａから排出されるために、このような排出液
はドレイン管５０ａに設けられた図示しない切替バルブ
等を操作して回収し、再利用に供することが好ましい。

【００６３】基板Ｇの回転開始から所定時間経過後に
は、リンス液を吐出しながら、また基板Ｇを回転させた
ままの状態でインナーカップ４６とアウターカップ４７
を降下させて下段位置に保持する。下段位置は、基板Ｇ
の表面の水平位置がほぼアウターカップ４７のテーパー
部の位置に合う高さである。そして、現像液の残渣が少
なくなるように、基板Ｇの回転数を現像液を振り切るた
めの回転動作開始時よりも大きくする。この基板Ｇの回
転数を上げる操作は、インナーカップ４６とアウターカ
ップ４７の降下動作と同時にまたはその前後のいずれの
段階で行ってもよい。こうして、基板Ｇから飛散する主
にリンス液からなる処理液は、アウターカップ４７のテ
ーパー部や外周壁に当たってドレイン管５０ｂから排出
される。

【００６４】次に、リンス液の吐出を停止して、リンス
液吐出ノズル５５の高さ調節を行い、リンス液吐出ノズ
ル５５およびノズル保持アーム５４をアウターカップ４
７外に待避させる。そして、基板Ｇの回転数をさらに上
げて所定時間保持し、基板Ｇを乾燥するスピン乾燥を行
う。このスピン乾燥時には、基板Ｇの上方からガスブロ
ー機構を用いて、乾燥した窒素ガス等を基板に供給しな
がら行うことが好ましい。

【００６５】こうしてスピン乾燥が終了した後には基板
Ｇの回転を停止し、スピンチャック４１を上昇させ、そ
のタイミングに合わせて搬送アーム１９ａを現像処理ユ
ニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃ内に挿入して、基板Ｇ
の受け渡しを行い、以降は、所定数の基板Ｇについて、
上述した動作を繰り返し行うことで現像処理が終了す
る。なお、基板Ｇの回転終了後から基板Ｇの搬送アーム
１９ａへの受け渡しに至る間に、排気口４９による排気
動作を停止する。

【００６６】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、本発明は上記形態に限定されるものでなく、
種々の変形が可能である。例えば、上記形態では、ノズ
ル保持アーム５１・５４は平行に配設されたガイドレー
ル５３ａ・５３ｂと嵌合した両持ち型構造であって、し
かも駆動部分Ｐ１・Ｐ２による両端駆動構造としていた
が、例えば、両持ち型構造であって、駆動部分Ｐ１のみ
による片端駆動構造としてもよい。この場合であって
も、ガイドレール５３ａ・５３ｂによって、ノズル保持
アーム５１・５４の位置精度が確保される。

【００６７】また、ガイドレール５３ａ・５３ｂの位置
は上記実施形態に示された位置に限定されるものではな
く、ノズル保持アーム５１・５４の長さ方向の端部近傍
であればその高さ位置に制限はない。そして、ガイドレ
ール５３ａ・５３ｂに加えて、ノズル保持アーム５１の
長さ方向の両端近傍や、場合によっては中央部分にさら
に別のガイドレールを設けてることも可能である。

【００６８】さらに、ノズル保持アーム５１・５４の駆
動機構５２・５６としては、回転動力をプーリーとベル
トを用いて伝達する方法を用いたが、例えば、ガイドレ
ール５３ａ・５３ｂに、その長さ方向に移動可能なリニ
アアクチュエータ等を配設し、このリニアアクチュエー
タとノズル保持アーム５１・５４を接合した構造とする
ことによっても、両持ち型構造であって、片端駆動また
は両端駆動を行うことが可能となる。

【００６９】また、ノズル保持アーム５１・５４に配設
される現像液吐出ノズルやリンス液吐出ノズルはそれぞ
れ１本に限定されることなく、２本以上を配設し、しか
も現像液やリンス液の吐出形態の異なるノズルを配設す
ることが可能である。複数の現像液吐出ノズルを配設し
た場合には、それぞれの現像液吐出ノズルから異なる種
類および／または濃度の現像液が吐出できるように構成
しておくと、使用する現像液の異なるロットの基板Ｇに
対する現像処理に容易に対応することができるようにな
る。

【００７０】さらに、基板Ｇを保持する手段としては、
上記実施形態のように基板Ｇを吸着力により保持するス
ピンチャック４１に限定されず、例えば、基板Ｇよりも
大きなスピンプレート上に凸に形成された複数の固定ピ
ン上に基板Ｇを載置して、基板Ｇを回転させた際に基板
Ｇの位置がずれないように、基板Ｇの端面の所定位置、
例えば、４隅において基板Ｇを別のピン等で保持するメ
カニカルな方法を用いることもできる。

【００７１】さらにまた、現像処理工程においては、イ
ンナーカップ４６とアウターカップ４７とを昇降させて
現像液の振り切り、リンス処理、スピン乾燥時の位置調
節を行ったが、インナーカップ４６とアウターカップ４
７を固定として、スピンチャック４１を昇降させて所定
位置に保持しながら、現像液の振り切り等の処理を行う
ことも可能である。上記実施形態では、ＬＣＤ基板を被
処理基板として説明してきたが、半導体ウエハ、ＣＤ基
板等の他の基板についても用いることが可能であり、ま
た、現像処理に限定されず、これら種々の基板の洗浄処
理やレジスト塗布処理等の他の液処理にも用いることが
できる。

【００７２】

【発明の効果】上述の通り、本発明によれば、ノズル保
持アームは平行に配設されたガイドレールと嵌合した両
持ち型構造となっているために、ノズル保持アームの一
端の高さ位置が変化したり、また、片端にぶれが生じた
りすることなく、ノズル保持アームおよび処理液吐出ノ
ズルを、ガイドレールの長さ方向に沿って安定して移動
させることが可能となる。また、ノズル保持アームを車
等を使用して接地させていないことから振動発生が低減
される。さらに、ノズル保持アームの駆動加速度を制御
して、例えば、ノズル保持アームの駆動開始時と駆動終
了時の動きを緩やかに制御することにより、ノズル保持
アームに発生するぶれまたは振動が低減され、処理液の
吐出の均一に行うことが可能となる。こうして、処理液
を均一に基板に吐出して均一な液処理を行うことが可能
となり、製品の品質が安定し、生産歩留まりが向上する
という顕著な効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液処理装置の一実施形態である現像処
理装置（現像処理ユニット）が用いられるレジスト塗布
・現像処理システムを示す平面図。

【図２】本発明に係る現像処理ユニットの一実施形態を
示す平面図。

【図３】図２記載の現像処理ユニットの断面図。

【図４】図２記載の現像処理ユニットの別の断面図。

【図５】図２記載の現像処理ユニットのノズル保持アー
ムの駆動機構を示す説明図。

【図６】図２記載の現像処理ユニットのノズル保持アー
ムの駆動機構を示す別の説明図。

【図７】図２記載の現像処理ユニットにおける駆動系を
示す説明図。

【符号の説明】

１；カセットステーション２；処理部３；インターフェイス部２４ａ〜２４ｃ；現像処理ユニット（ＤＥＶ）４１；スピンチャック４６；インナーカップ４７；アウターカップ４８；シンク５１；ノズル保持アーム５２；駆動機構５３ａ・５３ｂ；ガイドレール５８；昇降機構６１；モータ６３ａ；シャフト８０；パドル形成用ノズル（現像液吐出ノズル）１００；レジスト塗布・現像処理システムＧ；基板（被処理基板）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４３Ｃ５Ｆ０４６ 21/304 ６４３ 21/30 ５６４Ｃ 21/306 ５６９Ｃ 21/306 Ｒ (72)発明者中満孝志熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４東京エレクトロン九州株式会社大津事業所内 (72)発明者宮崎一仁熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４東京エレクトロン九州株式会社大津事業所内 (72)発明者坂井光広熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４東京エレクトロン九州株式会社大津事業所内 (72)発明者青木賢哉熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４東京エレクトロン九州株式会社大津事業所内Ｆターム(参考） 2H096 AA25 AA30 GA31 4D075 AC64 AC84 DA06 DC22 4F041 AA02 AA05 AB02 BA05 BA12 BA22 BA57 CA04 4F042 AA07 EB18 EB19 5F043 EE07 EE08 5F046 JA02 JA27 LA04 LA19

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を載置して保持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板の表面に所定の処理液を
吐出する処理液吐出ノズルと、前記処理液吐出ノズルを保持するノズル保持アームと、前記ノズル保持アームの長さ方向端部近傍において前記
ノズル保持アームと嵌合するように平行に配設されたガ
イドレールと、前記保持手段に保持された基板の表面に沿って前記ノズ
ル保持アームを前記ガイドレールの長さ方向に移動させ
る駆動機構部と、を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】基板を載置して保持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板の表面に所定の処理液を
吐出する処理液吐出ノズルと、前記処理液吐出ノズルを保持するノズル保持アームと、前記ノズル保持アームの長さ方向端部近傍において前記
ノズル保持アームと嵌合するように平行に配設されたガ
イドレールと、前記保持手段に保持された基板の表面に沿って前記ノズ
ル保持アームを前記ガイドレールの長さ方向に移動させ
る駆動機構部と、前記ノズル保持アームに発生するぶれまたは振動が低減
されるように前記ノズル保持アームの駆動加速度を制御
する駆動制御機構と、を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項３】前記処理液吐出ノズルを処理位置と待避
位置との間で昇降移動させるノズル昇降機構が前記ノズ
ル保持アームに配設されていることを特徴とする請求項
１または請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】前記ノズル保持アームの幅が、前記処理
液吐出ノズルの幅よりも広く、所定の高い剛性を有する
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項
に記載の液処理装置。
【請求項５】前記駆動機構部および／または前記ノズ
ル昇降機構における発塵性のある駆動部分が局所排気さ
れるように局所排気機構が配設されていることを特徴と
する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液処
理装置。
【請求項６】前記駆動機構部は、回転駆動機構と、前記回転駆動機構の回転が伝達されることにより前記ノ
ズル保持アームを前記ガイドレールの長さ方向の所定位
置に移動させるアーム搬送機構と、前記回転駆動機構の回転を前記アーム搬送機構へ伝達す
る回転伝達機構と、を有し、前記ノズル搬送機構は前記ノズル保持アームの長さ方向
の片端部にのみ配設されて、前記ノズル保持アームが片
端駆動されることを特徴とする請求項１から請求項５の
いずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項７】前記駆動機構部は、回転駆動機構と、前記ノズル保持アームの長さ方向の両端部にそれぞれに
配設され、前記回転駆動機構の回転が伝達されることに
より前記ノズル保持アームを前記ガイドレールの長さ方
向の所定位置に移動させるアーム搬送機構と、前記回転駆動機構の回転を前記ノズル保持アームの両端
に配設された２つの前記アーム搬送機構へ伝達する回転
伝達機構と、を有し、前記ノズル保持アームが長さ方向の両端部を用いて駆動
されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれ
か１項に記載の液処理装置。