JP2002043699A - フレキシブル配線板及びフレキシブル配線板製造方法 - Google Patents
フレキシブル配線板及びフレキシブル配線板製造方法Info
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Abstract
を作成する。 【解決手段】本発明のフレキシブル配線板10は、第一
の配線膜21と第二の配線膜22とを有しており、これ
らの配線膜のうち、第一の配線膜21の厚みは第二配線
膜22よりも大きいので、第一、第二の配線膜21、2
2の幅が略等しい場合でも、その厚みの大きい分第一の
配線膜21の断面積と電気抵抗値とを大きくすることが
できる。従って、第一の配線膜21は幅広に形成されな
くても大電流を流すことができるので、フレキシブル配
線板10の高密度化が容易になる。
Description
の技術分野にかかり、特に、大電流を流すのに適した配
線膜を有するフレキシブル配線板を作成する技術に関す
る。
た配線膜を有するフレキシブル配線板は多用されてい
る。図9の符号110は従来技術のフレキシブル配線板
の一例を示している。
脂膜117と、第一の樹脂膜117表面に配置された第
一、第二の配線膜121、122と、第一、第二の配線
膜121、122上に形成された第二の樹脂膜125と
を有している。
ぞれ厚みは同じであるが、第一の配線膜121は第二の
配線膜122よりも幅広に形成されているので、第一の
配線膜121の断面積は第二の配線膜122の断面積に
比べ大きくなっている。
の配線膜122に比べ電気抵抗が小さいので、より大き
い電流を流すことができる。しかしながら、近年、フレ
キシブル配線板の高密度化に伴い各配線膜の微細化が求
められいるが、上記のような幅広な第一の配線膜121
は微細化の障害になる。
の不都合を解決するために創作されたものであり、その
目的は、電気抵抗が小さい上に、微細なパターンの配線
膜を有するフレキシブル配線板を作成する技術を提供す
ることにある。
に、請求項1記載の発明はフレキシブル配線板であっ
て、第一の樹脂膜と、底面が前記第一の樹脂膜内に嵌入
された第一の配線膜と、底面が前記第一の樹脂膜の表面
に密着された第二の配線膜とを有するフレキシブル配線
板である。請求項2記載の発明は請求項1記載のフレキ
シブル配線板であって、前記第一、第二の配線膜は、表
面が面一に配置されたフレキシブル配線板である。請求
項3記載の発明は請求項1又は請求項2のいずれか1項
記載のフレキシブル配線板であって、前記第一、第二の
配線膜の表面には、第二の樹脂膜が形成されたフレキシ
ブル配線板である。請求項4記載の発明は請求項3記載
のフレキシブル配線板であって、前記第二の樹脂膜には
底面に前記第一の配線膜が露出する第一の開口部と、底
面に前記第二の配線膜が露出する第二の開口部のいずれ
か一方又は両方の開口部が形成されたフレキシブル配線
板である。請求項5記載の発明は請求項1又は請求項2
のいずれか一項記載のフレキシブル配線板であって、前
記第一の樹脂膜には底面に前記第一の配線膜が露出する
第三の開口部が形成されたフレキシブル配線板である。
請求項6記載の発明は請求項4又は請求項5のいずれか
1項記載のフレキシブル配線板であって、前記第一、第
二、第三の開口部のいずれか1種類以上の開口部には、
金属バンプが配置されたフレキシブル配線板である。請
求項7記載の発明はフレキシブル配線板であって、金属
箔を厚み方向に途中までエッチングし、前記金属箔に所
定パターンの凹部を形成する工程と、前記金属箔の凹部
が形成された側の表面に第一の樹脂膜を形成する工程
と、前記金属箔の凹部裏面の所定位置に開口を有するレ
ジスト層を形成する工程と、前記開口底面に露出した部
分をエッチングして、前記金属箔の厚みの第一の配線膜
と、前記凹部の厚みの第二の配線膜とを分離する工程と
を有するフレキシブル配線板製造方法である。請求項8
記載の発明は請求項7記載のフレキシブル配線板製造方
法であって、前記第一の樹脂膜の前記第一、第二の配線
膜が形成された面に第二の樹脂膜を形成する工程を有す
るフレキシブル配線板製造方法である。請求項9記載の
発明は請求項7又は請求項8のいずれか1項記載のフレ
キシブル配線板製造方法であって、前記第一の樹脂膜の
前記第一の配線膜の上方に位置する所定箇所に開口を形
成する工程を有するフレキシブル配線板製造方法。請求
項10記載の発明は請求項8又は請求項9のいずれか1
項記載のフレキシブル配線板製造方法であって、前記第
二の樹脂膜の、前記第一の配線膜又は前記第二の配線膜
のいずれか一方、又は、両方の上方に位置する所定箇所
に開口を形成する工程を有するフレキシブル配線板であ
る。
発明のフレキシブル配線板は溝によって互いに分離され
た第一、第二の配線膜を有している。第一の配線膜は第
二の配線膜よりも膜厚に形成されており、第一の配線膜
の断面積は膜厚な分大きいので、第一の配線膜の幅を第
二の配線膜と等しくした場合でも、第一の配線膜の電気
抵抗値を低くすることができる。
程において、金属箔に所定パターンの凹部を形成した
後、この凹部が形成された面に樹脂液を塗布すれば凹部
がその樹脂液によって充填される。次いで、全体を乾
燥、焼成すれば、表面が平坦な第一の樹脂膜を形成する
ことができる。
成された各配線膜の表面に樹脂液を塗布すれば、各配線
膜間に配置された溝はこの樹脂液に充填され、次いで、
乾燥、焼成を行えば、表面が平坦な第二の樹脂膜を形成
することができる。
れており、第一、第二の配線膜上に前記第二の樹脂膜を
形成した場合、第一の配線膜上の第二の樹脂膜の厚み
と、第二の配線膜上の第二の樹脂膜の厚みとがほぼ等し
くなるので、エッチングによって第二の樹脂膜に開口部
を形成する場合、エッチングの進行により、開口部の底
面に第一、第二の配線膜の表面をほぼ同時に露出させる
ことができる。
図1(a)〜(e)、図2(f)〜(j)、図3(k)〜(m)は本
発明のフレキシブル配線板の第一例の製造工程図であ
る。
こでは厚み32μmの銅箔を用いた)の表面に保護フィ
ルム13を貼付する。次に、金属箔11の裏面にレジス
ト層を形成した後、これを露光、現像し、レジスト層の
パターニングを行う。
ーニングされたレジスト層を示している。このレジスト
層15にはパターニングによって細長の開口16が形成
されており、この開口16の底面には金属箔11が露出
している。
口部16の底面に露出した金属箔11を20μmエッチ
ングすると、図1(c)に示すように、金属箔11に
は、開口部16と同じ平面形状で深さが20μmの凹部
40が形成される。その結果、金属箔11には、レジス
ト層15で保護され元の厚みの厚膜部11aと、凹部4
0が位置し、厚さ12μmの薄膜部11bとが形成され
る。
と、金属箔11裏面の保護フィルム13とを剥離し(図
1(d))、金属箔11の凹部40が形成された面に薄
膜部11bと厚膜部11aとが埋没するまでポリイミド
樹脂の原料液を塗布すると、金属箔11の凹部40はこ
の原料液によって充填される。その状態で乾燥し、次い
で焼成すると、図1(e)に示すように、表面が平坦な
ポリイミドフィルムから成る第一の樹脂膜17が形成さ
れる。
護フィルム27を貼付し、金属箔11の第一の樹脂膜1
7が形成された側とは反対側の表面にレジスト層を形成
する。次いで、そのレジスト層を露光、現像によってパ
ターニングし、図2(f)に示すように、金属箔11の薄
膜部11b上に複数の開口部19を有するレジスト層1
8を形成する。開口部19の底面には金属箔11の薄膜
部11bが露出している。
スト層18は、開口部19によって複数の部分に分割さ
れている。符号18aは、金属箔11の厚膜部11aの
表面に配置されたレジスト層を示しており、符号18b
は、金属箔11の薄膜部11bの表面に配置された部分
を示している。
と、開口部19底面に露出した部分がエッチングされ
る。金属箔11の薄膜部11bが完全に除去されるまで
エッチングし、レジスト層18を剥離すると、図2(g)
に示すように、金属箔11は、レジスト層18の開口部
19と同じ平面形状の溝41によって複数に分割され、
その結果、金属箔11の厚膜部11aから第一の配線膜
21が形成され、薄膜部11bから第二の配線膜22が
形成される。
配線膜22の底面は第一の樹脂膜17に固定されてお
り、第二の配線膜22の底面は第一の樹脂膜17表面に
位置されているが、第一の配線膜21の底面は第二の配
線膜22の底面よりも深く位置置され、第一の樹脂膜1
7に嵌入された状態になっている。且つ、第一の配線膜
21の表面の高さと第二の配線膜22の表面の高さは等
しく、それらの表面は面一に位置されている。
1や第二の配線膜22が形成された面に、これらの配線
21、22が埋没するまでポリイミド樹脂の原料液を塗
布すると、第二の配線膜22の間や、第二の配線膜22
と第一の配線膜21の間に位置する溝41は原料液によ
って充填され、その状態で乾燥し、次いで焼成すると、
図2(h)に示すように、表面が平坦なポリイミドフィル
ムから成る第二の樹脂膜25が形成される。
膜21と第二の配線膜22の上方の所定部分に円形開口
29a、29bを有するレジスト層28を形成し、表面
にアルカリ液を噴霧すると、円形開口29a、29b底
面に露出する第二の樹脂膜25がエッチングされる。
脂膜25の厚みと、第二の配線膜22上の第二の樹脂膜
25の厚みとは等しいから、エッチングの進行により、
第一の配線膜21と第二の配線膜22の表面はほぼ同時
に露出する。次いで、レジスト層28を除去すると、図
2(j)に示すように、第一の配線膜21と第二の配線膜
22上に、円形開口29a、29bと同径にパターニン
グされた第1、第2の開口部42a、42bが得られ
る。
脂膜17表面の保護フィルム27を剥離し、第一の配線
膜21の上方に位置する第一の樹脂層17表面の所定部
分に円形開口39を有するレジスト層37を形成し、第
二の樹脂膜25の表面に新たな保護フィルム30を貼付
する。次いで、そのレジスト層37表面にアルカリ液を
噴霧すると、円形開口39の底面に露出する第一の樹脂
膜17がエッチングされる。
7を剥離すると、図3(l)に示すように、第一の配線
膜21上に円形開口39と同径にパターニングされた第
3の開口部43が得られる。次に、全体を電解メッキ液
に浸漬し、電流を流すと、第一、第二、第三の開口部4
2a、42b、43底面に金属からなる薄膜が成長し、
金属被膜45が形成される。
成された状態の本発明のフレキシブル配線板を示してい
る。このフレキシブル配線板10の第一の配線膜21と
第二の配線膜22の幅は略等しく形成されているが、第
一の配線膜21の厚みは第二の配線膜22の厚みよりも
大きいので、その厚みが大きい分だけ第一の配線膜21
の断面積が大きくなる。
キシブル配線板10に他のフレキシブル配線板を貼り合
わせて多層フレキシブル配線板を作成する工程を、図4
(a)〜(c)、図5(d)を用いて説明する。図4
(a)の符号501と、図4(c)の符号502は本発明
のフレキシブル配線板10との貼り合わせに用いる単層
構造のフレキシブル配線板を示している。
はベースフィルム、51と、ベースフィルム51上に配
置された銅配線53と、銅配線53上に形成されたカバ
ーフィルム55とを有しており、これらのカバーフィル
ム55は熱可塑性の樹脂を有している。
9が直立して形成されており、これらの金属バンプ59
の先端部分はそれぞれカバーフィルム55表面に突き出
されている。
502と本発明のフレキシブル配線板10とを貼り合わ
せ、多層構造のフレキシブル配線板を作成するには、先
ず、図4(a)に示したように、1枚の単層構造のフレ
キシブル配線板501の金属バンプ59を本発明のフレ
キシブル配線板10の第二の樹脂膜25の第一、第二の
開口部42a、42bに向け配置する。
第二の開口部42a、42bの底面に露出した金属被膜
45にそれぞれ当接させる。このとき、フレキシブル配
線板10、501の第二の樹脂膜25とカバーフィルム
551は互いに密着した状態になる。
と、加熱によってカバーフィルム55の熱可塑性の樹脂
が接着性を発現する。金属バンプ59の表面には不図示
の半田メッキ層が形成されているので、全体を更に加熱
すると、その半田メッキ層が溶解する。次いで、全体を
冷却すると、溶解した半田メッキ層が固化し、固化した
半田メッキ層を介して金属バンプ59と第一、第二の配
線膜21、22とが接続されると共に、カバーフィルム
55によってフレキシブル配線板10、50同士が機械
的に貼り合わされる。
フレキシブル配線板10の第一の樹脂層17の第三の開
口部43に向けて別の単層構造のフレキシブル配線板5
02の金属バンプ59を配置する。
部43の底面の金属被膜45に当接させる。このとき、
第一の樹脂膜17はカバーフィルム55に密着されるの
で、この状態で全体を押圧しながら加熱した後、冷却す
ると、金属バンプ59が不図示のメッキ層を介して第一
の配線膜21に接続されると共に、フレキシブル配線板
10、502同士がそのカバーフィルム55を介して貼
り合わされる。
ル配線板10の両面に単層構造のフレキシブル配線板5
01、502がそれぞれ貼り合わされ、形成された多層構
造のフレキシブル配線板を示している。この多層フレキ
シブル配線板5では、銅配線53が第一、第二の配線膜
21、22に金属バンプ59を介して接続されている。
位置関係を相対的に示した図である。第一の配線膜21
の上方の位置には複数の銅配線53の幅広な部分が配置
されており、それらの幅広の部分には上述した金属バン
プ59がそれぞれ形成されている。
して第一の配線膜21上の金属被膜45に接続されてい
るので、第一の配線膜21と複数の銅配線53とが電気
的に接続された状態になっている。ここでは1本の第一
の配線膜21に対して三本の銅配線が接続された状態を
図6に図示した。
みが大きく、その厚みの分だけ断面積が大きくされ、第
一の配線膜21の電気抵抗値は各銅配線53よりも低く
いので、複数の銅配線53から第一の配線膜21に電流
が流れ込んだ場合でも、第一の配線膜21は小さい電圧
降下でその電流を流すことができる。
第二、第三の開口部42a、42b、43の底面に金属
被膜45を露出させた場合について説明したが、本発明
のフレキシブル配線板はこれに限定されるものでは無
い。図7の符号70と図8の符号80はそれぞれ本発明
のフレキシブル配線板の第二、第三の例を示している。
は、図3(m)に示したフレキシブル配線板10と同様
に、第一の樹脂膜76、86と、第一の樹脂膜76、8
6上に形成された第一、第二の配線膜71、72、8
1、82と、第一、第二の配線膜71、72、81、8
2表面に形成された第二の樹脂膜77、87とをそれぞ
れ有しており、第一の配線膜71、81と第二の配線膜
72、82は溝73、83によって互いに分離されてい
る。
開口部74、88が、第二の樹脂膜77、87には第
一、第二の開口部78a、78b、84a、84bがそ
れぞれ形成されている。
うち、図7に示した第二例のフレキシブル配線板70で
は、第三の開口部74の底面に第一の配線膜71底面に
形成された金属被膜75が露出しており、第一、第二の
開口部78a、78bにはそれぞれ金属バンプ79が配
置されている。これらの金属バンプ79はそれぞれ第
一、第二の配線膜71、72表面に直立して形成されて
いる。各金属バンプ79の先端部分は第二の樹脂膜77
表面に突き出されており、その先端表面には金属被膜7
5が形成されている。
配線板80では、第一、第二の開口部84a、84b各
底面にそれぞれ第一、第二の配線膜71、72表面に形
成された金属被膜75が露出しており、第三の開口部8
8内には第一の配線膜71底面に直立して形成された金
属バンプ89が配置されている。これらの金属バンプ8
9の先端部分は第二例のフレキシブル配線板70の場合
と同様に、第一の樹脂膜86表面に突き出され、その先
端表面には金属被膜85が形成されている。
を、それらの金属バンプ79、89を介して図3(m)
に示したようなフレキシブル配線板10と貼り合わせれ
ば、多層構造のフレキシブル配線板を作成することがで
きる。
一、第二、第三の開口部のいずれかに金属バンプが配置
された場合について説明したが、本発明のフレキシブル
配線板では、例えば、各開口部に金属バンプを配置して
も良い。
一、第二の樹脂膜の少なくとも一方の樹脂膜に熱可塑性
樹脂を有するものを用いても良く、この場合は、貼り合
わせに用いる他のフレキシブル配線板の樹脂膜に熱可塑
性の樹脂を有するものを用いる必要が無い。
線板のいずれの樹脂膜も熱可塑性を有しない場合には、
各フレキシブル配線板の間に熱可塑性の樹脂フィルムを
配置し、図4(a)、(b)と同じ工程でフレキシブル
配線板同士を貼り合わせれば良い。この場合は、熱可塑
性の樹脂フィルムの代わりに異方導電性フィルムを用い
ることもできる。
発明のフレキシブル配線板10との貼り合わせに用いる
単層構造のフレキシブル配線板501、502の金属バン
プ59先端表面に半田メッキ層が形成されている場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
無い。
層を有しないフレキシブル配線板であっても、このフレ
キシブル配線板と本発明のフレキシブル配線板10とを
図4(a)、(b)の工程で機械的に接続させた後、少
なくとも一方のフレキシブル配線板表面に超音波振動機
の振動子を当接して超音波を印加し、金属バンプと配線
膜とを超音波によって接続すれば、半田メッキ層が無く
ても、フレキシブル配線板の配線膜同士を確実に接続を
することができる。
作成することができる。このような配線膜を有するフレ
キシブル配線板は高密度化が容易である。
線板を製造する工程の前半を説明するための図
線板を製造する工程の中半を説明するための図
線板を製造する工程の後半を説明するための図
いて多層フレキシブル配線板を作成する工程の前半を説
明するための図
層フレキシブル配線板を作成する工程の後半を説明する
ための図
線膜との位置関係を相対的に示した図
るための図
るための図
の図
スト層18は、開口部19によって複数の部分に分割さ
れている。符号18bは、金属箔11の厚膜部11aの
表面に配置されたレジスト層を示しており、符号18a
は、金属箔11の薄膜部11bの表面に配置された部分
を示している。
開口部78、88が、第二の樹脂膜77、87には第
一、第二の開口部74a、74b、84a、84bがそ
れぞれ形成されている。
うち、図7に示した第二例のフレキシブル配線板70で
は、第三の開口部78の底面に第一の配線膜71底面に
形成された金属被膜75が露出しており、第一、第二の
開口部74a、74bにはそれぞれ金属バンプ79が配
置されている。これらの金属バンプ79はそれぞれ第
一、第二の配線膜71、72表面に直立して形成されて
いる。各金属バンプ79の先端部分は第二の樹脂膜77
表面に突き出されており、その先端表面には金属被膜7
5が形成されている。
配線板80では、第一、第二の開口部84a、84b各
底面にそれぞれ第一、第二の配線膜81、82表面に形
成された金属被膜75が露出しており、第三の開口部8
8内には第一の配線膜71底面に直立して形成された金
属バンプ89が配置されている。これらの金属バンプ8
9の先端部分は第二例のフレキシブル配線板70の場合
と同様に、第一の樹脂膜86表面に突き出され、その先
端表面には金属被膜85が形成されている。
Claims (10)
- 【請求項1】第一の樹脂膜と、 底面が前記第一の樹脂膜内に嵌入された第一の配線膜
と、 底面が前記第一の樹脂膜の表面に密着された第二の配線
膜とを有するフレキシブル配線板。 - 【請求項2】前記第一、第二の配線膜は、表面が面一に
配置された請求項1記載のフレキシブル配線板。 - 【請求項3】前記第一、第二の配線膜の表面には、第二
の樹脂膜が形成された請求項1又は請求項2のいずれか
1項記載のフレキシブル配線板。 - 【請求項4】前記第二の樹脂膜には底面に前記第一の配
線膜が露出する第一の開口部と、底面に前記第二の配線
膜が露出する第二の開口部のいずれ一方又は両方の開口
部が形成された請求項3記載のフレキシブル配線板。 - 【請求項5】前記第一の樹脂膜には底面に前記第一の配
線膜が露出する第三の開口部が形成された請求項1又は
請求項2のいずれか一項記載のフレキシブル配線板。 - 【請求項6】前記第一、第二、第三の開口部のいずれか
1種類以上の開口部には、金属バンプが配置された請求
項4又は請求項5のいずれか1項記載のフレキシブル配
線板。 - 【請求項7】金属箔を厚み方向に途中までエッチング
し、前記金属箔に所定パターンの凹部を形成する工程
と、 前記金属箔の凹部が形成された側の表面に第一の樹脂膜
を形成する工程と、 前記金属箔の凹部裏面の所定位置に開口を有するレジス
ト層を形成する工程と、 前記開口底面に露出した部分をエッチングして、前記金
属箔の厚みの第一の配線膜と、前記凹部の厚みの第二の
配線膜とを分離する工程とを有するフレキシブル配線板
製造方法。 - 【請求項8】前記第一の樹脂膜の前記第一、第二の配線
膜が形成された面に第二の樹脂膜を形成する工程を有す
る請求項7記載のフレキシブル配線板製造方法。 - 【請求項9】前記第一の樹脂膜の前記第一の配線膜の上
方に位置する所定箇所に開口を形成する工程を有する請
求項7又は請求項8のいずれか1項記載のフレキシブル
配線板製造方法。 - 【請求項10】前記第二の樹脂膜の、前記第一の配線膜
又は前記第二の配線膜のいずれか一方、又は、両方の上
方に位置する所定箇所に開口を形成する工程を有する請
求項8又は請求項9のいずれか1項記載のフレキシブル
配線板
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006310689A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Nippon Mektron Ltd | ダブルアクセス型可撓性回路基板の製造方法 |
JP2015065224A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 株式会社村田製作所 | 基板及びその製造方法 |
JP2016207916A (ja) * | 2015-04-27 | 2016-12-08 | 東和プリント工業株式会社 | プリント基板とその製造方法 |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7158953B1 (en) * | 2000-06-27 | 2007-01-02 | Microsoft Corporation | Method and system for limiting the use of user-specific software features |
DE10205592B4 (de) * | 2002-02-11 | 2008-01-03 | Ksg Leiterplatten Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Halbzeugs für Leiterplatten |
US7287068B1 (en) * | 2002-12-13 | 2007-10-23 | Bmc Software, Inc. | System and method for updating devices that execute an operating system or application program directly from nonvolatile storage |
TWI309962B (en) | 2004-02-24 | 2009-05-11 | Sanyo Electric Co | Circuit device and menufacturing method thereof |
JP2005347354A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置およびその製造方法 |
JP2005347353A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置およびその製造方法 |
JP4713131B2 (ja) * | 2004-11-19 | 2011-06-29 | 株式会社マルチ | プリント配線板及びそのプリント配線板の製造方法 |
TWI253714B (en) * | 2004-12-21 | 2006-04-21 | Phoenix Prec Technology Corp | Method for fabricating a multi-layer circuit board with fine pitch |
GB0505826D0 (en) * | 2005-03-22 | 2005-04-27 | Uni Microelektronica Ct Vsw | Methods for embedding of conducting material and devices resulting from said methods |
KR100664500B1 (ko) * | 2005-08-09 | 2007-01-04 | 삼성전자주식회사 | 돌기부를 갖는 메탈 랜드를 구비하는 인쇄회로기판 및 그의제조방법 |
WO2008035416A1 (fr) * | 2006-09-21 | 2008-03-27 | Daisho Denshi Co., Ltd. | Plaquette de circuit imprimé flexorigide et procédé de fabrication de la plaquette de circuit imprimé flexorigide |
JP2008192878A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 多層配線基板及びその製造方法 |
JP4588046B2 (ja) * | 2007-05-31 | 2010-11-24 | 三洋電機株式会社 | 回路装置およびその製造方法 |
KR20090055673A (ko) * | 2007-11-29 | 2009-06-03 | 삼성전자주식회사 | 인쇄회로기판 조립체 및 그 제조방법 |
JP2010056099A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP5512562B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2014-06-04 | 日本特殊陶業株式会社 | 多層配線基板 |
DE102012216926A1 (de) * | 2012-09-20 | 2014-03-20 | Jumatech Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Leiterplattenelements sowie Leiterplattenelement |
CN104717850B (zh) * | 2013-12-12 | 2017-12-12 | 深南电路有限公司 | 一种局部厚铜电路板的制作方法和局部厚铜电路板 |
CN104902700B (zh) * | 2014-03-05 | 2018-06-26 | 深南电路有限公司 | 内层厚铜电路板的加工方法和内层厚铜电路板 |
US9408301B2 (en) * | 2014-11-06 | 2016-08-02 | Semiconductor Components Industries, Llc | Substrate structures and methods of manufacture |
US9397017B2 (en) * | 2014-11-06 | 2016-07-19 | Semiconductor Components Industries, Llc | Substrate structures and methods of manufacture |
KR20170023310A (ko) * | 2015-08-20 | 2017-03-03 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 임베디드 회로 패턴을 가지는 패키지 기판, 제조 방법 및 이를 포함하는 반도체 패키지 |
KR20170050192A (ko) * | 2015-10-29 | 2017-05-11 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조방법 |
JP6803249B2 (ja) * | 2017-01-30 | 2020-12-23 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板及びその製造方法 |
CN106879171A (zh) * | 2017-03-07 | 2017-06-20 | 深南电路股份有限公司 | 一种台阶导体柔性电路板及其加工方法 |
CN111295056B (zh) * | 2020-03-16 | 2024-03-15 | 深圳市实锐泰科技有限公司 | 一种阶梯线路柔性板的制作方法 |
JP7437993B2 (ja) * | 2020-03-26 | 2024-02-26 | 日本メクトロン株式会社 | フレキシブルプリント配線板を用いたヒータ及びその製造方法 |
KR102531701B1 (ko) * | 2021-06-21 | 2023-05-12 | 해성디에스 주식회사 | 프리 몰드 기판 및 프리 몰드 기판의 제조 방법 |
CN114206013A (zh) * | 2021-12-06 | 2022-03-18 | 博罗县精汇电子科技有限公司 | 一种阶梯线路板的制作方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS612552A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-08 | 日本写真印刷株式会社 | フイルム状コイル及びその製造方法 |
JPH0716094B2 (ja) * | 1986-03-31 | 1995-02-22 | 日立化成工業株式会社 | 配線板の製造法 |
JPS6366993A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-25 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板 |
US5723822A (en) * | 1995-03-24 | 1998-03-03 | Integrated Device Technology, Inc. | Structure for fabricating a bonding pad having improved adhesion to an underlying structure |
JP3234757B2 (ja) * | 1995-12-05 | 2001-12-04 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 多層配線基板及びその製造方法 |
US5879570A (en) * | 1997-01-14 | 1999-03-09 | Seagate Technology, Inc. | One piece flexure for a hard disc file head with selective nickel plating |
FR2766618B1 (fr) * | 1997-07-22 | 2000-12-01 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication d'un film conducteur anisotrope a inserts conducteurs |
JP3506002B2 (ja) * | 1997-07-28 | 2004-03-15 | 松下電工株式会社 | プリント配線板の製造方法 |
TW512467B (en) * | 1999-10-12 | 2002-12-01 | North Kk | Wiring circuit substrate and manufacturing method therefor |
WO2001056340A1 (fr) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Sony Chemicals Corp. | Piece de materiau substrat, plaquette de circuits imprimes flexible et son procede de fabrication |
JP2002368370A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フレキシブルプリント基板の接合構造及びその方法 |
-
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006310689A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Nippon Mektron Ltd | ダブルアクセス型可撓性回路基板の製造方法 |
JP2015065224A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 株式会社村田製作所 | 基板及びその製造方法 |
JP2016207916A (ja) * | 2015-04-27 | 2016-12-08 | 東和プリント工業株式会社 | プリント基板とその製造方法 |
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