JP2001111195A - 回路基板の製造方法 - Google Patents

回路基板の製造方法

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JP2001111195A JP29053799A JP29053799A JP2001111195A JP 2001111195 A JP2001111195 A JP 2001111195A JP 29053799 A JP29053799 A JP 29053799A JP 29053799 A JP29053799 A JP 29053799A JP 2001111195 A JP2001111195 A JP 2001111195A
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laminated block
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 配線パターンの高密度配線化を低コストで実
現可能な回路基板の製造方法を提供する。 【構成】 絶縁樹脂基板1上に複数本の直線状の導体パ
ターン5を平行に形成する工程と、絶縁樹脂基板1どう
しを導体パターン5どうしが平行となるように複数枚積
層して積層ブロック8を形成する工程と、積層ブロック
8を導体パターン5と直交する方向に所要の厚さにスラ
イスして、切断された導体パターンの切断面10が表裏
面に露出形成された多数の回路路基板9を形成する工程
とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する利用分野】本発明は、回路基板の製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】MCM(Multi Chip Module)などの
高密度実装基板の製造方法には、微細で高密度配線が要
求されており、多層配線基板の各層を電気的に接続する
ビア穴径やビア穴間ピッチも微細化が要求されている。
この基板材料としては、セラミック基板を用い、該セラ
ミック基板内に同時焼成によるビア導体を貫通して形成
する方法が提案されている。この方法はグリーンシート
表面にあけた穴に金属粉末や金属ペーストを埋めたもの
を積層して焼成することによりビア導体が形成されるた
め基板両面を効率的に利用でき高密度配線が可能であ
る。また、特開平6−61611号に示すようにビア穴
径やビア穴間ピッチを各々50μm以下に設計するた
め、セラミックグリーンシートに金属ワイヤを平行に配
列し、該セラミックグリーンシートを積層、焼成して積
層体を形成し、該積層体を金属ワイヤに垂直の方向にス
ライスして基板を形成する方法が提案されている。
【0003】或いは絶縁性の樹脂基板に銅箔などの金属
薄膜を積層した基材に、レーザー或いはプラズマエッチ
ングにより穴あけしてビア穴を形成し、該ビア穴の内壁
に無電解銅めっきなどのビアホールめっきを施して金属
薄膜層と電気的に接続したり、金属薄膜層上に感光性レ
ジスト層を形成しておき、これにUV光を部分的に照射
して金属薄膜層を部分的に露出させてフォトビアを形成
し、該フォトビア内に電解銅めっきなどのビアホールめ
っきを施して金属薄膜層と電気的に接続していた。この
基材表面に感光性レジスト層を形成して露光現像した
後、エッチング施して配線パターンを形成した後、レジ
ストを剥離してベース基板を形成する。このベース基板
の配線パターン上にはんだ或いは銀などによる金属柱を
形成してプリプレグを介して銅箔などの金属薄膜を積層
してプレスすることにより、金属柱と上層の金属薄膜と
を電気的に接続した多層回路基板が形成されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述したセラミック基
板を用いた回路基板の製造方法においては、基板材料は
高価であり製造工程が多岐にわたるため製造コストが高
くなるという課題があった。また、セラミック基板を用
いた場合には誘電率特性が管理し難いという電気的特性
に課題があった。また、絶縁性の樹脂基板を用いた場合
には、レーザー、プラズマエッチング或いはフォトビア
によりビア穴を形成する場合に穴径を50μm以下に形
成するのは困難であり100μm〜150μm程度が限
界となっていた。また、金属柱を立設した金属薄膜にプ
リプレグを介して金属薄膜を積層してプレスして多層配
線基板を形成するため、金属柱と上層の金属薄膜との間
の電気的な接続信頼性が低いという課題があった。
【0005】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決し、配線パターンの高密度配線化を低コストで実現可
能な回路基板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、第1の方法
は、絶縁樹脂基板上に、複数本の直線状の導体パターン
を平行に形成する工程と、絶縁樹脂基板どうしを導体パ
ターンどうしが平行となるように複数枚積層した積層ブ
ロックを形成する工程と、積層ブロックを導体パターン
と直交する方向に所要の厚さにスライスして、切断され
た前記導体パターンの切断面が表裏面に露出形成された
多数の回路基板を形成する工程とを含むことを特徴とす
る。
【0007】また、第2の方法は、絶縁樹脂基板上に、
連結部の両端から互いに逆方向に平行に延設部が形成さ
れた複数の導体パターンを形成する工程と、絶縁樹脂基
板どうしを前記導体パターンの連結部どうしが重なるよ
うに複数枚積層した積層ブロックを形成する工程と、積
層ブロックを導体パターンの連結部を含んで延設部と直
交する方向に所要の厚さにスライスして、切断された連
結部を含み延設部の切断面が表裏面に各々露出形成され
た多数の回路基板を形成する工程とを含むことを特徴と
する。
【0008】また、第3の方法は、絶縁樹脂基板上に、
連結部の両端から互いに同方向に平行に延設部が形成さ
れた複数の導体パターンを形成する工程と、絶縁樹脂基
板どうしを導体パターンの連結部どうしが重なるように
複数枚積層した積層ブロックを形成する工程と、積層ブ
ロックを導体パターンの連結部を含んで延設部と直交す
る方向に所要の厚さにスライスして、切断された連結部
を含み延設部の切断面が一方の面に各々露出形成された
多数の回路基板を形成する工程とを含むことを特徴とす
る。これら第1〜第3の方法において、回路基板の表面
に露出形成された導体パターンの切断面どうしを電気的
に導通するよう再配線する工程を有していても良い。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について添付図面に基づいて詳細に説明する。 [第1実施例]図1(a)〜(f)は絶縁樹脂基板上に導
体パターンを形成する工程を示す説明図、図2は導体パ
ターンが形成された絶縁樹脂基板の斜視図、図3は複数
の絶縁樹脂基板を積層してなる積層ブロックの斜視図、
図4は積層ブロックをスライスして形成された回路基板
の説明図、図5は回路基板に再配線パターンを形成した
場合の説明図である。
【0010】先ず、絶縁樹脂基板上に導体パターンを形
成する工程について図1(a)〜(f)を参照して説明
する。図1(a)において、1はエポキシ系の絶縁樹脂
基板であり、該絶縁樹脂基板1の表面には無電解銅めっ
きにより金属薄膜層2が形成されている。この金属薄膜
層2は、めっきの代わりに銅箔を貼り合わせて形成して
も良い。
【0011】次に、図1(b)において、金属薄膜層2
の表面に所要のパターンに形成されたレジスト層3を形
成する。このレジスト層3の形成方法は印刷、貼着或い
は塗布のいずれによっても良い。次に、図1(c)にお
いて、レジスト層3より露出する金属薄膜層2上に電解
銅めっきを施し導体層4を形成する。次いで、図1
(d)においてレジスト層3を剥離して金属薄膜層2を
露出させる。
【0012】次に、図1(e)において、導体層4間に
露出する金属薄膜層2をエッチングにより除去して、絶
縁樹脂基板1上に導体パターン5を形成する。そして、
図1(f)において導体パターン5間にソルダレジスト
層6を形成して平坦化してベース基板7を製造する。こ
のようにして製造したベース基板7を図2に示す。この
ベース基板7のサイズは任意であるが例えば、幅400
mm、長さ500mm、厚さ0.1mm程度の基板が用
いられる。また、ベース基板7には任意の導体パターン
5が形成できるが、切断面に露出形成される導体パター
ン5を考慮して形成するのが望ましい。尚、最上層に積
層するベース基板7は導体パターン5をソルダレジスト
層6などの絶縁樹脂層に覆って形成しても良い。
【0013】次に、図3に示すように複数枚のベース基
板7どうしをプリプレグなどの接着剤層を介して積層し
てプレスすることにより貼り合わせて積層ブロック8を
形成する。このとき、積層ブロック8は、ベース基板7
どうしを導体パターン5どうしが平行となるように積層
されている。次に、図3の破線に示すように、積層ブロ
ック8を、導体パターン5と直交する方向に所要の厚さ
にスライスして多数の回路基板9を形成する。この回路
基板9を図4に示す。各回路基板9には切断された導体
パターン5の切断面10が表裏面に露出形成されてお
り、しかも導体パターン5は回路基板9を貫通して形成
されている。このようにして形成された回路基板9を複
数枚積層して多層回路路基板を形成しても良い。
【0014】上記回路基板の製造方法によれば、導体パ
ターン5が形成されたベース基板7を積層してなる積層
ブロック8を導体パターン5と直交する方向に所要の厚
さにスライスして、回路基板9を貫通した導体パターン
5が形成されるので、スルーホールめっきやビアホール
めっきを行って内部配線パターンを電気的導通する場合
に比べて穴径や配線径を50μm以下抑えて形成でき、
配線パターンの微細配線化が図れると共に内部配線パタ
ーンの接続信頼性を高めることができる。また、回路基
板9の表裏面に形成される配線パターンどうしを電気的
に導通するためのスルーホールめっきは不要となるた
め、製造工程も簡略化でき、製造コストを低減できる。
【0015】また、回路基板9の表面に露出形成された
切断面10を利用して導体パターン5どうしを電気的に
導通するように再配線しても良い。図5において、回路
基板9の一方の面に露出する切断面10どうしをアディ
ティブ法により銅めっきを施して接続パターン11を形
成したり、はんだボール12などの接続端子を形成する
パッド13を形成したりしても良い。或いは再配線パタ
ーンを形成した面に銅箔付きの絶縁樹脂基材を積層して
ビア穴をあけてビアホールめっきを施してパターニング
を行い配線層を形成する作業を繰り返して多層回路基板
を形成しても良い。このように、回路基板9の表面に露
出形成された導体パターン5の切断面10を用いて再配
線することにより、汎用性の高い回路基板を提供でき
る。
【0016】[第2実施例]次に他例に係る回路基板の製
造方法について図6〜図8を参照して説明する。尚、第
1実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用す
るものとする。先ず、図6に示すように、絶縁樹脂基板
1上に、連結部5aの両端から互いに逆方向に平行に延
設部5bが形成された複数の導体パターン5を有するベ
ース基板7を製造する。この導体パターン5の形成工程
は第1実施例の図1に示す工程と同様にして形成する。
【0017】次に、図7において、ベース基板7どうし
を導体パターン5の連結部5aどうしが重なるように複
数枚積層した積層ブロック8を形成する。そして、積層
ブロック8を破線に示すように導体パターン5の連結部
5aを含んで延設部5bと直交する方向に所要の厚さに
複数枚にスライスする。切断された回路基板14を図8
に示す。回路基板14は連結部5aを内部配線パターン
15として含み延設部5bの切断面10が表裏面に各々
露出形成されている。
【0018】上記回路基板の製造方法によれば、積層ブ
ロック8を切断して得られた回路基板14に内部配線パ
ターン15を形成できるので、ビア穴径や内部配線パタ
ーンの配線径を50μm以下抑えて形成でき、配線パタ
ーンの微細配線化が図れると共に配線パターンどうしの
接続信頼性を高めることができる。また、回路基板14
の表裏面に内部配線パターン15と導通した切断面10
が露出形成されているので内部配線パターン15と電気
的に導通するためのビアホールめっきや多工程にわたる
内部配線パターン15の形成工程は不要となるため、製
造工程も簡略化でき、製造コストを低減できる。
【0019】[第3実施例]次に他例に係る回路基板の製
造方法について図9〜図11を参照して説明する。尚、
第1実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用
するものとする。先ず、図9に示すように、絶縁樹脂基
板1上に、連結部5aの両端から互いに同方向に平行に
延設部5bが形成された複数の導体パターン5を有する
ベース基板7を製造する。この導体パターン5の形成工
程は第1実施例の図1に示す工程と同様にして形成す
る。
【0020】次に、図10において、ベース基板7どう
しを導体パターン5の連結部5aどうしが重なるように
複数枚積層した積層ブロック8を形成する。そして、積
層ブロック8を破線に示すように、導体パターン5の連
結部5aを含んで延設部5bと直交する方向に所要の厚
さにスライスする。切断された回路基板16を図11に
示す。回路基板16は、切断された連結部5aを内部配
線パターン15として含み延設部5bの切断面10が一
方の面側に露出形成されている。
【0021】上記回路基板の製造方法によれば、積層ブ
ロック8を切断して得られた回路基板16に一方の面に
形成される配線パターンどうしを電気的に導通する内部
配線パターン15を形成できるので、ビア穴径や内部配
線パターンの配線径を50μm以下抑えて形成でき、配
線パターンの微細配線化が図れると共に配線パターンの
接続信頼性を高めることができる。また、回路基板16
の一方の面に内部配線パターン15と導通した切断面1
0が各々露出形成されているので内部配線パターン15
と電気的に導通するためのビアホールめっきや、多工程
にわたる内部配線パターン15の形成工程は不要となる
ため、製造工程も簡略化でき、製造コストを低減でき
る。
【0022】以上本発明の好適な実施例を挙げて種々説
明したが、本発明は上記実施例に限定されるものでな
く、第1実施例〜第3実施例に示す回路基板9、11、
16を組み合わせて積層し多層回路基板を形成しても良
い。また、ベース基板7に形成する導体パターン5の形
態は任意に設計可能であり、各回路基板の内部配線パタ
ーンのレイアウトも任意に設計可能である等、発明の精
神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得ることはも
ちろんである。
【0023】
【発明の効果】本発明に係る回路基板の製造方法によれ
ば、導体パターンが形成された絶縁樹脂基板を積層して
なる積層ブロックを導体パターンと直交する方向に所要
の厚さにスライスして、回路基板を貫通した導体パター
ンや内部配線パターンが形成できるので、スルーホール
めっきやビアホールめっきを行って内部配線パターンを
電気的導通する場合に比べて穴径や配線径を50μm以
下抑えて形成でき、配線パターンの微細配線化が図れる
と共に内部配線パターンの接続信頼性を高めることがで
きる。また、回路基板の表裏面に形成される配線パター
ンどうしを電気的に導通するためのスルーホールめっき
や内部配線パターンどうしを電気的に導通するためのビ
アホールめっきや多工程にわたる内部配線パターンの形
成工程は不要となるため、製造工程も簡略化でき、製造
コストを低減できる。また、回路基板の表面に露出形成
された内部配線パターンに導通する切断面を用いて再配
線することにより、汎用性の高い回路基板を提供でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例に係る絶縁樹脂基板上に導体パター
ンを形成する工程を示す説明図である。
【図2】導体パターンが形成された絶縁樹脂基板の斜視
図である。
【図3】複数の絶縁樹脂基板を積層してなる積層ブロッ
クの斜視図である。
【図4】積層ブロックをスライスして形成された回路基
板の説明図である。
【図5】回路基板に再配線パターンを形成した場合の説
明図である。
【図6】第2実施例に係る導体パターンが形成された絶
縁樹脂基板の斜視図である。
【図7】複数の絶縁樹脂基板を積層してなる積層ブロッ
クの斜視図である。
【図8】積層ブロックをスライスして形成された回路基
板の説明図である。
【図9】第2実施例に係る導体パターンが形成された絶
縁樹脂基板の斜視図である。
【図10】複数の絶縁樹脂基板を積層してなる積層ブロ
ックの斜視図である。
【図11】積層ブロックをスライスして形成された回路
基板の説明図である。
【符号の説明】
1 絶縁樹脂基板 2 金属薄膜層 3 レジスト層 4 導体層 5 導体パターン 5a 連結部 5b 延設部 6 ソルダレジスト層 7 ベース基板 8 積層ブロック 9,14,16 回路基板 10 切断面 11 接続パターン 12 はんだボール 13 パッド 15 内部配線パターン

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁樹脂基板上に、複数本の直線状の導
    体パターンを平行に形成する工程と、 前記絶縁樹脂基板どうしを前記導体パターンどうしが平
    行となるように複数枚積層した積層ブロックを形成する
    工程と、 前記積層ブロックを前記導体パターンと直交する方向に
    所要の厚さにスライスして、切断された前記導体パター
    ンの切断面が表裏面に露出形成された多数の回路基板を
    形成する工程とを含むことを特徴とする回路基板の製造
    方法。
  2. 【請求項2】 絶縁樹脂基板上に、連結部の両端から互
    いに逆方向に平行に延設部が形成された複数の導体パタ
    ーンを形成する工程と、 前記絶縁樹脂基板どうしを前記導体パターンの連結部ど
    うしが重なるように複数枚積層した積層ブロックを形成
    する工程と、 前記積層ブロックを前記導体パターンの連結部を含んで
    延設部と直交する方向に所要の厚さにスライスして、切
    断された前記連結部を含み前記延設部の切断面が表裏面
    に各々露出形成された多数の回路基板を形成する工程と
    を含むことを特徴とする回路基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 絶縁樹脂基板上に、連結部の両端から互
    いに同方向に平行に延設部が形成された複数の導体パタ
    ーンを形成する工程と、 前記絶縁樹脂基板どうしを前記導体パターンの連結部ど
    うしが重なるように複数枚積層した積層ブロックを形成
    する工程と、 前記積層ブロックを前記導体パターンの連結部を含んで
    延設部と直交する方向に所要の厚さにスライスして、切
    断された前記連結部を含み前記延設部の切断面が一方の
    面側に各々露出形成された多数の回路基板を形成する工
    程とを含むことを特徴とする回路基板の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記回路基板の表面に露出形成された前
    記導体パターンの切断面どうしを電気的に導通するよう
    再配線する工程を有していることを特徴とする請求項
    1、2又は3記載の回路基板の製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011024469A1 (ja) * 2009-08-28 2011-03-03 株式会社村田製作所 基板製造方法および樹脂基板
JP2013062473A (ja) * 2011-09-15 2013-04-04 Toppan Printing Co Ltd 配線基板およびその製造方法
KR101732813B1 (ko) 2015-10-30 2017-05-08 희성전자 주식회사 발광다이오드 어레이의 제조방법
WO2019189063A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 長瀬産業株式会社 半導体装置及び配線構造体の製造方法
JP2021040021A (ja) * 2019-09-03 2021-03-11 富士通インターコネクトテクノロジーズ株式会社 基板、基板の製造方法、及び電子機器
US11145586B2 (en) 2017-11-01 2021-10-12 Murata Manufacturing Co., Ltd. Interposer and electronic device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011024469A1 (ja) * 2009-08-28 2011-03-03 株式会社村田製作所 基板製造方法および樹脂基板
JP5257518B2 (ja) * 2009-08-28 2013-08-07 株式会社村田製作所 基板製造方法および樹脂基板
JP2013062473A (ja) * 2011-09-15 2013-04-04 Toppan Printing Co Ltd 配線基板およびその製造方法
KR101732813B1 (ko) 2015-10-30 2017-05-08 희성전자 주식회사 발광다이오드 어레이의 제조방법
US11145586B2 (en) 2017-11-01 2021-10-12 Murata Manufacturing Co., Ltd. Interposer and electronic device
WO2019189063A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 長瀬産業株式会社 半導体装置及び配線構造体の製造方法
JP2019176063A (ja) * 2018-03-29 2019-10-10 長瀬産業株式会社 半導体装置及び配線構造体の製造方法
US11367627B2 (en) 2018-03-29 2022-06-21 Nagase & Co., Ltd. Methods for manufacturing semiconductor device and wiring structure
JP2021040021A (ja) * 2019-09-03 2021-03-11 富士通インターコネクトテクノロジーズ株式会社 基板、基板の製造方法、及び電子機器
WO2021044675A1 (ja) * 2019-09-03 2021-03-11 富士通インターコネクトテクノロジーズ株式会社 基板、基板の製造方法、及び電子機器

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