JP2001506260A

JP2001506260A - ３―アリール置換インデニル含有金属錯体及び重合方法

Info

Publication number: JP2001506260A
Application number: JP52768098A
Authority: JP
Inventors: エヌニクラス，ピーター; ティパットン，ジャッソン
Original assignee: Dow Chemical Co
Current assignee: Dow Chemical Co
Priority date: 1996-12-19
Filing date: 1997-10-17
Publication date: 2001-05-15
Also published as: TR199900841T2; ATE213250T1; AR010798A1; ID21507A; RU2186073C2; KR20000049229A; CA2265515A1; NO991816D0; NO991816L; CN1094129C; AU726123B2; US5959047A; BR9712535A; DE69710491D1; WO1998027102A1; AU5152198A; DE69710491T2; MY115258A; TW397845B; EP0946574A1

Abstract

(57)【要約】３−アリール置換インデニルリガンドからなる４族金属束縛幾何学錯体、その触媒的誘導体、並びに特にエチレン及びモノビニル芳香族モノマーからなるインターポリマーを製造するためのオレフィン重合触媒としてのそれらの使用が開示されている。

Description

【発明の詳細な説明】３−アリール置換インデニル含有金属錯体及び重合方法技術分野本発明は、α−オレフィンのホモポリマー及びコポリマー、特にモノビニル芳香族モノマー及びエチレンからなるコポリマーを製造する重合方法に使用されるのに特に好適である１群の４族金属錯体及びそれから由来する重合触媒に関する。背景技術束縛幾何学的金属錯体及びそれらの製造方法は、１９９０年７月３日に出願された米国特許出願第５４５４０３号（ヨーロッパ特許Ａ第４１６８１５号）に開示されている。この特許は、立体ビニルモノマーの疑似ランダム配合をそのなかに有するモノビニル芳香族モノマーを含む立体障害ビニルモノマー及びエチレンの或る新規なコポリマーの製造も教示している。束縛幾何学的触媒の追加の教示は、１９９０年７月３日に出願された米国特許出願第５４７７１８号（ヨーロッパ特許Ａ第４６８６５１号）：１９９１年５月２０日に出願された米国特許出頭第７０２４７５号（ヨーロッパ特許Ａ第５１４８２８号）；１９９２年５月１日に出願された米国特許出願第８７６２６８号（ヨーロッパ特許Ａ第５２０７３２号）；及び１９９３年１月２１日に出願された米国特許出願第８００３号（ＷＯ９３／１９１０４号）；並びに米国特許Ａ第５０５５４３８、５０５７４７５、５０９６８６７、５０６４８０２、５１３２３８０、５４７０９９３号、ＷＯ９５−００５２６号及び米国Ｐｒｏｖｉｓｉｏｎａｌ出願第６０−００５９１３号に見いだすことができる。種々に置換されたインデニル含有金属錯体は、１９９６年１月２６日に出願された米国特許出願第５９２７５６号、及びＷＯ９５／１４０２４号に教示されている。発明の開示本発明によれば、式（Ｉ）（式中、Ｍは＋２、＋３又は＋４形式酸化状態のチタン、シルコニウム又はハフニウムであり：Ｒ’はアリールリガンドであるか、又はそのハロゲン−、シリル−、アルキル− 、シクロアルキル−、ジヒドロカルビルアミノ−、ヒドロカルビルオキシ−又はヒドロカルビレンアミノ−置換誘導体であって、該Ｒ’は６−４０個の非水素原子を有し；Ｚは２価の基であるか、又はＭへの配位共有結合を形成できる中性の２個の電子対及び１個のσ結合からなる基であり、該Ｚは硼素又は元素の周期律表の１４族の一員からなりそしてまた窒素、燐、硫黄又は酸素からなり；Ｘは環状の非局在化π−結合リガンド基であるリガンドの群を除いて６０個以内の原子を有する１価のアニオン性リガンド基であり；Ｘ’はそれぞれの場合独立して２０個以内の原子を有する中性のルイス塩基配位結合性化合物であり；Ｘ’’は６０個以内の原子を有する２価のアニオン性リガンド基であり；ｐは０、１、２又は３であり；ｑは０、１又は２であり、そしてｒは０又は１である）に相当する金属錯体が提供される。上記の錯体は、所望により純粋な形での単離された結晶として、又は所望により溶媒特に有機液体中の溶媒和付加物の形、並びにキレート剤が有機物質例えばエチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）であるそのキレート化誘導体又はダイマーの形の他の錯体との混合物として存在できる。また、本発明によれば、Ａ．１）式（Ｉ）の金属錯体及び２）活性化共触媒からなり、１）対２）のモル比が１：１００００−１００：１である組成物、又はＢ．活性化技術の使用により式（Ｉ）の金属錯体を活性触媒へ転換することにより形成される反応生成物からなるオレフィン重合用の触媒が提供される。さらに本発明により、Ａ．１）式（Ｉ）の金属錯体及び２）活性化共触媒からなり、１）対２）のモル比が１：１００００−１００：１である紺成物、又はＢ．活性化技術の使用により式（Ｉ）の金属錯体を活性触媒へ転換することにより形成される反応生成物からなるオレフィン重合用の触媒と重合条件下で１種以上のＣ_2-20α−オレフィンを接触させることからなるオレフィンの重合方法が提供される。最後に、本発明によれば、Ａ．１）式（Ｉ）の金属錯体及び２）活性化共触媒からなり、１）対２）のモル比が１：１００００−１００：１である組成物、又はＢ．活性化技術の使用により式（Ｉ）の金属錯体を活性触媒へ転換することにより形成される反応生成物からなる触媒と重合条件下で１種以上のモノビニル芳香族モノマー及びエチレンからなる混合物を接触させることからなる、モノビニル芳香族モノマー及びエチレンのコポリマーの製造方法が提供される。本発明の触媒及び方法の使用は、広い範囲の重合条件でそして特に高温度で高分子量オレフィンポリマーを非常に能率的に製造することをもたらす。それらは、特にエチレン及びスチレンのコポリマー（ＥＳポリマー）及びエチレン／スチレン／ジエン（ＥＳＤＭポリマー）のコポリマーの形成に有用であり、ジエンは、エチリデンノルボルネン、１、４−ヘキサジエン又は同様な非共投ジエンである。本発明の新規な重合触媒の使用は、高い触媒能率及び高いコモノマーの配合の組合せにより、触媒の１単位当たり多量のコモノマー、特にビニル芳香族コモノマーへのコポリマーへの配合を可能にする。本発明の触媒は、また、支持物資上に支持され、そしてスラリー又は気相でオレフィン重合工程に使用できる。触媒は、重合反応槽中でその場で１種以上のオレフィンモノマーと予備重合されるか、又は主要な重合工程の前に予備重合された触媒の中間の回収をする別々の工程で予備重合される。発明を実施するための最良の形態本明細書の周期律表に関するすべての引用は、１９９５年にＣＲＣＰｒｅｓｓ．Ｉｎｃ．により発行されそして著作権を有する周期律表からである。また、族に関するすべての引用は、族を数えるＩＵＰＡＣシステムを使用してこの周期律表に示されている。本発明で使用されるとき、オレフィンは、ビニル性不飽和を含むＣ_2-100000脂肪族又は芳香族の化合物、並びに環状の化合物例えばシクロブテン、シクロペンテン、及びノルボルネン（Ｃ_1-20ヒドロカルビル基により５−及び６−位で置換されているノルボルネンを含む）である。また含まれるのは、これらオレフィンの混合物、並びにこれらオレフィンとＣ_4-40ジオレフィン化合物との混合物である。後者の化合物の例は、エチリデンノルボルネン、１、４−ヘキサジエン、ノルボルナジエンを含む。長鎖ビニル末端モノマーは、重合工程中、例えば成長するポリマー鎖からのプロトンのβ−ヒドリド除去の現象により、形成できる。この工程は、生ずるポリマー中への極めて長い鎖の配合、即ち長鎖枝分かれを生ずる。本発明の触媒及び工程は、特に、エチレン／１−ブテン、エチレン／１−ヘキセン、エチレン／スチレン、エチレン／プロピレン、エチレン／１−ペンテン、エチレン／４−メチル−１−ペンテン及びエチレン／１−オクテンコポリマー、並びにＥＰＤＭターポリマーとよばれるエチレン、プロピレン及び非共投ジエンのターポリマー、ＥＳＤＭポリマーとよばれるエチレン、スチレン及び非共投ジエンのターポリマー、ＥＰＳとよばれるエチレン、プロピレン及びスチレンのターポリマーの製造に使用するのに特に適している。本発明で最も好ましい触媒及び工程は、エチレン／スナレンコポリマーの製造に使用される。本発明で使用されるモノビニル芳香族モノマーは、式（式中、Ｒ₁はそれぞれの場合独立して水素又はＣ_1-4アルキルであり、そしてＲ₂ はそれぞれの場合独立してＲ₁又はハロゲンである）を有するＣ_8-20アリール置換エチレン化合物を含む。金属錯体では、好ましいＸ’基は、一酸化炭素；ホスフィン特にトリメナルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン及びビス（１、２− ジメチルホスフィノ）エタン、Ｐ（ＯＲ）₃（式中、ＲはＣ_1-20ヒドロカルビルである）：エーテル特にテトラヒドロフラン：アミン特にピリシン、ビピリシン、テトラメチルエチルシアミン（ＴＭＤＡ）、及びトリエチルアミン；オレフィン；及び４−４０個の炭素原子を有する共投ジエンである。ジエンＸ’基を含む錯体は、金属が＋２形式酸化状態にあるものを含む。さらに、金属錯体に関して、Ｘは好ましくはハロゲン、ヒドロカルビル及びＮ、Ｎ−ジアルキルアミノ置換ヒドロカルビルからなる群から選ばれる。Ｘ基の数は、Ｘがアニオン性、ジアニオン性又は中性でも、Ｚが２価か又はそうでなくても、そして任意の２価のＸ’’基が存在してもしなくても、Ｍの酸化状態に依存する。当業者は、種々の置換基の質及びＺの本体は、電荷のバランスをもたらしそれにより中性の金属錯体を生ずるように選ばれることを理解するだろう。例えば、Ｚが２価でありそしてｒが０のとき、ｐはＭの形式酸化状態より２小さい。Ｚが一つの中性の２個の電子配位共有結合部位を含みそしてＭが＋３の形式酸化状態であるとき、ｐは０に等しくそしてｒは１に等しいか、又はｐは２に等しくそしてｒは０に等しい。最後の例では、もしＭが＋２の形式酸化状態にあるならば、Ｚは２価のリガンド基であり、ｐ及びｒは両者とも０に等しくそして一つの中性のリガンド基か存在できる。本発明に従って使用される好ましい配位錯体は、以下の式に相当する錯体である。（式中、Ｒ’はフェニル、ビフェニル又はナフチルであり、Ｍはチタンであり、Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^*、−ＰＲ^*、−ＮＲ₂ ^*、又は−ＰＲ₂ ^*であり、Ｚ^* は、ＳｉＲ^* ₂、ＣＲ^* ₂、ＳｉＲ^* ₂ＳｉＲ^* ₂、ＣＲ^* ₂ＣＲ^* ₂、ＣＲ^*＝ＣＲ^*、ＣＲ^* ₂ ＳｉＲ^* ₂、又はＧｅＲ^* ₂であり、そしてＲ^*は、それぞれの場合独立して、水素であるか、又はヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール及びこれらの組合せから選ばれる一員であって、該Ｒ^*は、２０個以内の非水素原子を有し、そして所望により、Ｚからの２個のＲ^*基（但し、Ｒ^*は水素ではない）又はＺからのＲ^*基とＹからのＲ^*基とは、環系を形成してもよく；Ｘ，Ｘ’及びＸ’’は前記同様であり；ｐは０、１又は２であり；ｑは０又は１であり；そしてｒは０又は１であり；但し、ｐが２であり、ｑ及びｒが０のとき、Ｍは＋４形式酸化状態にあり（又はもしＹが−ＮＲ₂ ^*、又は−ＰＲ₂ ^*ならば、Ｍは＋３形式酸化状態にあり）、さらにＸは、ハライド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジ（ヒドロカルビル）アミド、ジ（ヒドロカルビル）ホスファイド、ヒドロカルビルスルフィド、及びシリル基、並びにそれらのハロゲン−、ジ（ヒドロカルビル）アミノ−、ヒドロカルビルオキシ−及びジ（ヒドロカルビル）ホスフィド−置換誘導体からなる群から選ばれるアニオン性リガンドであって、該Ｘ基は３０個以内の非水素原子を有し、ｒが１でありそしてｐ及びｑが０のとき、Ｍは＋４形式酸化状態にあり、そしてＸ’’は、ヒドロカルバシイル、オキシヒドロカルビル、及びヒドロカルビレンジオキシ基からなる群から選ばれるジアニオン性リガンドであって、該Ｘ基は３０個以内の非水素原子を有し、ｐが１でありそしてｑ及びｒが０のとき、Ｍは＋３形式酸化状態にあり、そしてＸはアリル、２−（Ｎ、Ｎ−シメチルアミノ）フェニル、２−（Ｎ、Ｎ−シメチルアミノメチル）フェニル及び２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンシルからなる群から選ばれる安定化アニオン性リガンド基であり、そしてｐ及びｒが０であり、ｑが１のとき、Ｍは＋２形式酸化状態にあり、そしてＸ’ は、１個以上のヒドロカルビル基により所望により置換されていてもよい中性の共投又は非共役ジエンであって、該Ｘ’は４０個以内の炭素原子を有しそしてＭとπ−錯体を形成する）。最も好ましい金属錯体は、Ｍ、Ｘ、Ｘ’、Ｘ’’、Ｒ’、Ｚ^*、Ｙ、ｐ、ｑ及びｒが前記同様であり、但しｐが２でありｑ及びｒが０のとき、Ｍは＋４形式酸化状態であり、そしてＸはそれぞれの場合独立してメチル、ベンジル、又はハライトであり；ｐ及びｑが０でありｒが１のとき、Ｍは＋４形式酸化状態にあり、Ｘ’’はＭとともにメタロシクロペンテン環を形成する１、４−ブタジエニル基であり；ｐが１でありｑ及びｒが０のとき、Ｍは＋３形式酸化状態にあり、そしてＸは２ −（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンシルであり；そしてｐ及びｒが０でありｑが１のとき、Ｍは＋２形式酸化状態にあり、そしてＸ’は１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン又は１、３−ペンタジエンである前記の式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）によるものである。特に好ましい配位錯体は、式（式中、Ｒ’’はｔ−ブチルでありそしてＸは塩素、メチル又はベンシルである）に相当するものである。本発明の実施に使用できる金属錯体の例は、以下のものを含む。３−フェニルインデニル錯体：（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジル、（ｎ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン、（ｎ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、３−ペンタジエン、（ｎ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンシル、（ｎ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｎ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジル、（シクロドデシルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン、（シクロドデシルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、３−ペンタジエン、（シクロドデシルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、（シクロドデシルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（シクロドデシルアミド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジル、（２、４、６−トリメチルアニリド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン、（２、４、６−トリメチルアニリド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、３−ペンタジエン、（２、４、６−トリメチルアニリド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミカベンジル、（２、４、６−トリメチルアニリド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（２、４、６−トリメチルアニリド）ジメチル（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジル、（ｔ−ブチルアミド）ジメトキシ（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩI）１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメトキシ（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメトキシ（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ，Ｎ−ジメトキシアミノ）ベンジル、（ｔ−ブチルアミド）ジメトキシ（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）ジメトキシ（η⁵−３−フェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジル、３−ナフチルインデニル錯体：（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ナフチルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ナフチルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ナフチルインデニル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ナフチルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ナフチルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジル、３−ビフェニルインデニル錯体：（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ビフェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、４−ジフェニル−１、３−ブタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ビフェニルインデニル）シランチタン（ＩＩ）１、３−ペンタジエン、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ビフェニルインデニル）シランチタン（ＩＩＩ）２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ビフェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジメチル、（ｔ−ブチルアミド）ジメチル（η⁵−３−ビフェニルインデニル）シランチタン（ＩＶ）ジベンジル。錯体は、周知の合成技術の使用により製造できる。任意に、還元剤を使用して低い酸化状態の錯体を生成することができる。この方法は、ＷＯ９５／００５２６号として公開された、１９９４年５月１３日に出願されたＵＳＳＮ０８／２４１５２３号に開示されている。反応は、−１００から３００℃、好ましくは−７８℃から１００℃、最も好ましくは０−５０℃の温度で、好適な非干渉性溶媒中で行われる。本明細書で使用される用語「還元剤」は、還元条件下で金属Ｍをして高い酸化状態から低いものに還元させる金属又は化合物を意味する。好適な金属還元剤の例は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム及び亜鉛、アルカリ金属或いはアルカリ土類金属の合金、例えばナトリウム／水銀アマルガム及びナトリウム／カリウム合金である。好適な還元剤化合物の例は、ナトリウムナフタレニド、カリウムグラファイト、リチウムアルキル、リチウム或いはカリウムアルカジエニル、及びグリニャール試薬である。最も好ましい還元剤は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属、特にリチウム及びマグネシウム金属である。錯体を形成するための好適な反応媒体は、脂肪族及び芳香族炭化水素、エーテル、及び環状エーテル、特に枝分かれ鎖炭化水素、例えばイソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びこれらの混合物；環状及び脂環状の炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタン、及びこれらの混合物；芳香族及びヒドロカルビル置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン、及びキシレン、Ｃ_1-4ジアルキルエーテル、（ポリ）アルキレングリコールのＣ_1-4ジアルキルエーテル誘導体、及びテトラヒドロフランを含む。前記の混合物も好適である。錯体は、活性化共触媒との組合せにより、又は活性化技術の使用により接触的に活性にされる。本発明で使用される好適な活性化共触媒は、ポリマー状又はオリゴマー状のアルモキサン、特にメチルアルモキサン、トリイソブチルアルミニウム変性メチルアルモキサン、又はイソブチルアルモキサン；中性ルイス酸、例えばＣ_1-30ヒドロカルビル置換１３族化合物、特にトリ（ヒドロカルビル）アルミニウム−又はトリ（ヒドロカルビル）硼素化合物及びこれらのハロゲン化（ペルハロゲン化を含む）誘導体であって、各ヒドロカルビル又はハロゲン化ヒドロカルビル基に１−１０個の炭素を有し、さらに特にペルフッ素化トリ（アリール）硼素化合物、そして最も特にトリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン；非ポリマー性の相溶性且つ非配位性のイオン形成化合物（酸化条件下のこれら化合物の使用を含む）、特に相溶性且つ非配位性のアニオンのアンモニウム−、ホスホニウム−、オキソニウム−、カルベニウム−、シリリウム−又はスルホニウム− 塩、又は相溶性且つ非配位性のアニオンのフェロセニウム塩の使用；バルク電解（以下にさらに詳細に説明される）；並びに前記の活性化共触媒及び技術の組合せを含む。前記の活性化共触媒及び活性化技術は、以下の文献において異なる金属錯体に関して既に教示されている。ヨーロッパ特許Ａ第２７７００３号、米国特許Ａ第５１５３１５７、５０６４８０２号、ヨーロッパ特許Ａ第４６８６５１，５２０７３２及び５２０７３２号。中性ルイス酸の組合せ、特に各アルキル基に１−４個の炭素を有するトリアルキルアルミニウム化合物及び各ヒドロカルビル基に１−２０個の炭素を有するハロゲン化トリ（ヒドロカルビル）硼素化合物特にトリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、さらにこれら中性ルイス酸混合物並びにポリマー性又はオリゴマー性アルモキサンの組合せ、そしてたった一つの中性ルイス酸、特にトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとポリマー性又はオリゴマー性のアルモキサンとの組合せが、特に望ましい活性化共触媒である。４族金属錯体：トリス（ペンタフルオロフエニル）ボラン：アルモキサンの奸ましいモル比は、１：１：１−１：５：２０、さらに好ましくは１：１：１．５−１：５：１０である。本発明の一つの態様における共触媒として有用な好適なイオン形成性化合物は、プロトンを供与できるブレンステッド酸であるカチオン、並びに相溶性且つ配位性のアニオンＡ^-からなる。本明細書で使用されるとき、用語「非配位性」は、４族金属を含むブレカーサ錯体及びそれから誘導される触媒性誘導体に配位しないアニオン又は物質、又はこれらの錯体にわずかに弱く配位してそれにより中性のルイス酸により十分に置換されやすいままであるアニオン又は物質の何れかを意味する。非配位性のアニオンは、特に、カチオン性金属錯体において電荷バランスアニオンとして機能するとき、アニオン性置換基又はそのフラグメントを該カチオンに輸送せずそれにより中性の錯体を形成するアニオンを言う。「相溶性アニオン」は、最初に形成された錯体が分解するとき中性に低下することなく、そして所望の後の重合又は錯体の他の使用に干渉しないアニオンである。好ましいアニオンは、そのアニオンが、二つの成分が組み合わされるとき形成できる活性触媒種（金属カチオン）の電荷をバランスできる、電荷をもつ金属又はメタロイドコアからなる単一の配位錯体を含むものである。また、該アニオンは、オレフィン性、ジオレフィン性及びアセチレン性不飽和の化合物又は他の中性のルイス酸例えばエーテル又はニトリルにより十分に置換されやすくなければならない。好適な金属は、アルミニウム、金及び白金を含むがこれらに限定されない。好適なメタロイドは、硼素、燐及び珪素を含むが、これらに限定されない。たった一つの金属又はメタロイド原子を含む配位錯体からなるアニオンを含む化合物は、もちろん、周知であり、そして多くのもの、特にアニオン部分にたった一つの硼素原子を含むこれら化合物は、市販されている。好ましくは、これらの共触媒は、以下の一般式（Ｌ^*−Ｈ）⁺ _d（Ａ）^d- （式中、Ｌ^*は中性のルイス塩基であり；（Ｌ^*−Ｈ）⁺はブレンステッド酸であり；Ａ^d-はｄ−の電荷を有する非配位性且つ相溶性のアニオンであり；ｄは１−３の整数である）により示すことができる。さらに好ましくはＡ^d-は、式［Ｍ’Ｑ₄］^- （但し、Ｍ’は＋３形式酸化状態の硼素又はアルミニウムであり；そしてＱはそれぞれの場合独立してヒドリド、ジアルキルアミド、ハライド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシド、ハロゲン置換ヒドロカルビル、ハロゲン置換ヒドロカルビルオキシ、及びハロゲン置換シリルヒドロカルビル基（ペルハロゲン化ヒドロカルビル−ペルハロゲン化ヒドロカルビルオキシ−及びペルハロゲン化シリルヒドロカルビル基を含む）から選ばれて、該Ｑは２０個以内の炭素を有するが、但し１回以下はＱハライドである）に相当する。好適なヒドロカルビルオキシドＱの例は、米国特許Ａ第５２９６４３３号に開示されている。さらに好ましい態様では、ｄは１であり、すなわち対イオンはたった一つの負の電荷を有しそしてＡ^-である。本発明の触媒の製造に特に有用な硼素を含む活性化共触媒は、以下の一般式（Ｌ^*−Ｈ）^*（ＢＱ₄）^- （式中、Ｌ^*は前記同様であり；Ｂは３の形式酸化状態の硼素であり；そしてＱは２０個以内の非水素原子のヒドロカルビル−、ヒドロカルビルオキシ−、フッ素化ヒドロカルビル−、フッ素化ヒドロカルビルオキシ−、又はフッ素化シリルヒドロカルビル−基であり、但し１回以下でＱヒドロカルビルである）により示すことができる。好ましいルイス塩基塩は、アンモニウム塩であり、さらに好ましくは１個以上のＣ_12-40アルキル基を含むトリアルキルアンモニウム塩である。最も好ましくは、Ｑはそれぞれの場合フッ素化アリール基、特にペンタフルオロフェニル基である。本発明の改良された触媒の製造において活性化共触媒として使用できる硼素化合物の例示であるが制限するものではない例は、以下の通りである。トリ−置換アンモニウム塩、例えばトリメチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｓｅｃ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリニウムｎ−ブチルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリニウムベンシルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（４−（ｔ−ブチルジメチルシリル） −２、３、５、６−テトラフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（４−（トリイソプロピルシリル）− ２、３、５、６−テトラフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリニウムペンタフルオロフェノキシトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ、Ｎ−ジメチル−２、４、６−トリメナルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルジオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジアルキルアンモニウム塩例えば；ジ−（ｉ−プロピル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルオクタドデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及びジオクタデシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート；トリ置換ホスホニウム塩例えば；トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルジオクタデシルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及びトリ（２、６−ジメチルフェニル）ホスホニウムデトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート；ジ−置換オキソニウム塩例えば：ジフェニルオキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジ（ｏ−トリル）オキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及びジ（オクタデシル）オキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、シ置換スルホニウム塩例えば；ジ（ｏ−トリル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及びメチルオクタデシルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート好ましい（Ｌ^*−Ｈ）⁺カチオンは、メチルシオクタデシルアンモニウム及びジメチルオクタデシルアンモニウムである。他の適好なイオン形成性の活性化共触媒は、式（Ｏｘ^e+）_d（Ａ^d-）_e （式中、Ｏｘ^e+はｅ＋の電荷を有するカチオン性酸化剤であり；ｅは１−３の整数であり；そしてＡ^d-及びｄは前記同様である）により示されるカチオン性酸化剤及び非配位性且つ相溶性のアニオンの塩からなる。カチオン性酸化剤の例は、以下のものを含む。フェロセニウム、ヒドロカルビル置換フェロセニウム、Ａｇ⁺又はＰｂ⁺²。Ａ^d-の好ましい態様は、ブレンステッド酸含有活性化共触媒について既に定義されたアニオン、特にテトラキス（ペンタフルオロ）ボレートである。他の好適なイオン形成性の活性化共触媒は、式（ｃ）⁺Ａ^- （式中、（ｃ）⁺はＣ_1-20カルベニウムイオンであり；そしてＡ^-は前記同様である）により示されるカルベニウムイオン及び非配位性且つ相溶性のアニオンの塩である化合物からなる。好ましいカルベニウムイオンは、トリチルカチオン、すなわちトリフェニルメチリウムである。さらなる好適なイオン形成性の活性化共触媒は、式Ｒ₃Ｓｉ（Ｘ'）_q ⁺Ａ^- （式中、ＲはＣ_1-10ヒドロカルビルであり、そしてＸ’、ｑ及びＡ^-は前記同様である）により示されるシリリウムイオン及び非配位性且つ相溶性のアニオンの塩である化合物からなる。好ましいシリリウム塩活性化共触媒は、トリメヂルシリリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリエチルシリリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、及びこれらのエーテル置換付加物である。シリリウム塩は、Ｊ．ＣｈｅｍＳｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．１９９３、３８３−３８４、並びにＬａｍｂｅｒｔ，Ｊ．Ｂ．ら、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，１９９４、１３、２４３０−２４４３に既に概括的に開示されている。付加重合触媒用の活性化共触媒としての上記のシリリウム塩の使用は、１９９６年３月２１日にＷＯ９６／０８５１９号として同じ形で公開された、１９９４年９月１２日に出願された米国特許出願第３０４３１４号に開示されている。アルコール、メルカプタン、シラノール及びオキシムとトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの或る錯体も、有効な触媒活性剤であり、そして本発明に従って使用できる。これらの共触媒は、米国特許第５２９６４３３号に開示されている。バルク電解の技術は、非配位性の不活性アニオンからなる支持電解質の存在下電解条件下金属錯体の電気化学的酸化を含む。その技術において、電解のための溶媒、支持電解質及び電解電圧は、金属錯体を接触的に不活性にするであろう電解副生物が反応中実質的に形成されないように使用される。さらに特に、好適な溶媒は、以下の物質である。支持電解質を溶解できそして不活性である、電解の条件（一般に０−１００℃の温度）の下で液体である。「不活性溶媒」は、電解に使用される反応条件下還元又は酸化されないものである。所望の電解に使用される電圧下に影響されない溶媒及び支持電解質を選ぶことは、一般に、所望の電解反応から可能である。好ましい溶媒は、ジフルオロベンゼン（全異性体）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）及びこれらの混合物を含む。電解は、陽極及び陰極（またそれぞれ作業電極及び対電極とよばれる）を含む標準電解槽で行うことができる。槽のための構築の好適な物質は、ガラス、プラスッチク、セラミック及びガラス被覆金属である。電極は、不活性の伝導性物質から製造され、それにより反応混合物又は反応条件により影響されない伝導性物質を意味する。白金又はパラジウムは好ましい不活性伝導性物質である。通常、イオン浸透性膜例えば細かいガラスフリットは、槽を別々のコンパートメント、作業電極コンパートメント及び対電極コンパートメントに分離する。作業電極は、活性されるべき金属錯体、溶媒、支持電解質、並びに電解をおだやかにするか又は得られる錯体を安定化するのに望まれる任意の他の物質を含む反応媒体中に浸漬される。対電極は、溶媒及び支持電解質の混合物中に浸漬される。所望の電圧は、理論的な計算により決定されるか、又は槽の電解質に浸漬された銀電極のような参照電極を使用して槽を掃引することにより実験的に決定される。パックグラウンド槽電流、所望の電解の不存在下の電流ドローも決定される。電解は、電流が所望のレベルからバックグラウンドレベルに低下したときに、完了する。このやり方では、最初の金属錯体の完全な転換は、容易に検出できる。好適な支持電解質は、カチオン及び相溶性且つ非配位性のアニオンＡ^-からなる塩である。好ましい支持電解質は、式Ｇ⁺Ａ^- （式中、Ｇ⁺は原料錯体及び生成錯体に対して非反応性であるカチオンであり、そしてＡ^-は前記同様である）に相当する塩である。カチオンＧ⁺の例は、４０個以内の非水素原子を有するテトラヒドロカルビル置換アンモニウム又はホスホニウムカチオンを含む。好ましいカチオンは、テトラｎ−ブチルアンモニウム−及びテトラエチルアンモニウム−カチオンである。バルク電解による本発明の錯体の活性化中、支持電解質のカチオンは、対電極に移動し、Ａ^-は作業電極に移動して得られる酸化された生成物のアニオンになる。溶媒又は支持電極のカチオンの何れかは、作業電極で形成された酸化された金属錯体の量と等しいモル量で対電極で還元される。好ましい支持電解質は、それぞれのヒドロカルビル又はペルフルオロアリール基に１−１０個の炭素を有するテトラキス（ペルフルオロアリール）ボレートのテトラヒドロカルビルアンモニウム塩、特にテトラｎ−ブチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。活性化共触媒の発生のためのさらなる最近発見された電気化学的技術は、非配位性且つ相溶性のアニオンの源の存在下のジシラン化合物の電解である。前記の技術のすべては、米国特許出願第３０４３１４号にさらに詳細に開示され請求されている。前記の活性化技術及びイオン形成性共触媒は、また好ましくは、組合せで使用できる。特に好ましい組合せは、各ヒドロカルビル基に１−４個の炭素を有するトリ（ヒドロカルビル）アルミニウム又はトリ（ヒドロカルビル）ボラン化合物とオリゴマー性又はポリマー性のアルモキサン化合物の混合物との組合せで使用される。使用される触媒／共触媒のモル比は、好ましくは、１：１００００−１００：１、さらに好ましくは１：５０００−１０：１、最も好ましくは１：１０００− １：１に及ぶ。アルモキサンは、活性化共触媒としてそれ自身で使用されるとき、モル基準で金属錯体の量より少なくとも１００倍多い、多量で使用される。トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランは、活性化共触媒として使用されるとき、０．５：１−１０：１、さらに好ましくは１：１−６：１、最も好ましくは１：１−５：１の金属錯体に対するモル比で使用される。残りの活性化共触媒は、一般に、金属錯体とほぼ等モルの量で使用される。触媒は、任意の前記の方法において支持されていても又はいなくても、２−１０００００個の炭素原子を有するエチレン性及び／又はアセチレン性不飽和モノマーを単独又は組合せの何れかで重合するのに使用できる。好ましいモノマーは、Ｃ_2-20α−オレフィン、特にエチレン、プロピレン、イソブチレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ペンデン、４−メチル−１ −ペンテン、１−オクテン、１−デセン、長鎖高分子α−オレフィン、及びこれらの混合物を含む。他の好ましいモノマーは、スチレン、Ｃ_1-4アルキル置換スチレン、テトラフルオロエチレン、ビニルベンソシクロブタン、エチリデンノルボルネン、１、４−ヘキサジエン、１、７−オクタジエン、ビニルシクロヘキサン、４−ビニルシクロヘキセン、ジビニルベンゼン、及びこれらのエチレンとの混合物を含む。長鎖高分子α−オレフィンは、連続溶液重合反応中その場で形成されるビニル末端ポリマー状残基である。好適な処理条件下では、これらの長鎖高分子単位は、エチレン及び他の短鎖オレフィンモノマーとともにポリマー生成物に容易に重合して、得られるポリマー中に少量の長鎖枝分かれを与える。好ましいモノマーは、モノビニル芳香族モノマー、４−ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン、ノルボルナジエン、エチリデンノルボルネン、Ｃ_3-10 脂肪族α−オレフィン（特にプロピレン、イソブチレン、１−ブテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、及び１−オクテン）及びＣ_4-40ジエンから選ばれる１種以上のコモノマーとエチレンとの組合せを含む。最も好ましいモノマーは、エチレンとスチレンとの混合物、エチレン、プロピレン及びスチレンの混合物、及びエチレン、スチレン及び非共投ジエン特にエチリデンノルボルネンの混合物である。一般に、重合は、チグラー・ナット又はカミンスキー・シンのタイプの重合反応に関する従来技術に周知の条件、すなわち、０−２５０℃、好ましくは３０− ２００℃の温度、及び大気圧−１００００気圧の圧力で達成できる。懸濁、溶液、スラリー、気相、固相粉末重合又は他の方法の条件が、もし所望ならば、使用できる。支持体、特にシリカ、アルミナ又はポリマー（特にポリ（テトラフルオロエチレン）又はポリオレフィン）が、使用でき、そして望ましくは、触媒が気相又はスラリー重合方法で使用されるとき、使用される。支持体は、好ましくは、１：１０００００−１：１０、さらに好ましくは１：５００００−１：２０さらに最も好ましくは１：１００００−１：３０の触媒（金属に基づく）：支持体の重量比をもたらす量で使用される。ほとんどの重合反応では、使用される触媒；重合可能な化合物のモル比は、１０^-12：１−１０^-1：１、さらに好ましくは１０^-9；１−１０^-5：１である。溶液重合のための好適な溶媒は、不活性液体である。その例は、直鎖及び枝分かれ鎖の炭化水素、例えばイソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、及びこれらの混合物；環状及び脂環状の炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘブタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘブタン、及びこれらの混合物：ペルフッ素化炭化水素、例えばペルフッ素化Ｃ_4-10アルカンなど、並びに芳香族及びアルキル置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどを含む。好適な溶媒は、またモノマー又はコモノマーとして作用できる液体オレフィンを含む。触媒は、所望の性質を有するポリマーブレンドを製造するために、直列又は並列で接続された別々の反応槽で少なくとも１種の追加の均一又は不均一の重合触媒と組み合わせて利用できる。この方法の例は、米国特許出願第０７／９０４７７０号に相当するＷＯ９４／００５００号、並びに１９９３年１月２９日に出願された米国特許出願第０８／１０９５８号に開示されている。本発明の触媒を利用して、０．８５−０．９６ｇ／ｃｍ³の密度及び０．００１−１０．０ｄｇ／分の溶融流れ速度のα−オレフインホモポリマー及びコポリマーが、高い能率の方法で容易に達成される。本発明の触媒は、高いレベルの長い鎖の枝分かれを有するエチレンホモポリマー及びエチレン／α−オレフィンコポリマーの製造に特に有利である。連続重合方法、特に連続溶液重合方法における本発明の触媒の使用は、成長するポリマーに配合されそれにより長い鎖の枝分かれを生ずるビニル末端ポリマー鎖の形成に有利な高い反応槽温度を得ることができる。本発明の触媒系の使用は、有利に、高圧、フリーラジカルで生成された低密度ポリエチレンと同様な加工性を有するエチレン／α−オレフィンコポリマーを経済的に製造させる。本発明の触媒系は、エチレン単独又はエチレン／α−オレフィン混合物を低レベルの「Ｈ」枝分かれを誘導するジエン、例えばノルボルナジエン、１、７−オクタジエン又は１、９−デカジエンと重合することにより、改良された加工性を有するオレフィンポリマーを製造するのに有利に使用できる。高い反応槽温度、高い反応槽温度における高分子量（又は低溶融指数）並びに高いコモノマー反応性の独特な組合せは、有利に、優れた物理的性質及び加工性を有するポリマーを経済的に生産させる。好ましくは、これらのポリマーは、エチレンを含むＣ_3-20 α−オレフィン及び「Ｈ」枝分かれコモノマーからなる。好ましくは、これらのポリマーは、溶液方法、最も好ましくは連続溶液方法で生産される。触媒組成物は、重合が溶液重合法により実施される溶媒に必要な成分を添加することにより均一な触媒として製造できる。触媒組成物は、また、不活性の無機又は有機の粒状の固体上に必要な成分を吸着することにより不均一な触媒として製造かつ使用できる。これらの固体の例は、シリカ、シリカゲル、アルミナ、トリアルキルアルミニウム化合物、及び無機又は有機のポリマー状物質、特にポリオレフィンを含む。好ましい態様では、不均一な触媒は、金属錯体、不活性の無機化合物及び活性剤特にヒドロキシ（トリスペンタフルオロフェニル）ボレートのアンモニウム塩、例えば（４−ヒドロキシ−３、５−ジ第三級ブチルフェニル）（トリスペンタフルオロフェニル）ボレートのアンモニウム塩を共沈澱することにより製造される。この態様で使用される好ましい不活性の無機の化台物は、トり（Ｃ_1-4アルキル）アルミニウム化合物である。不均一又は支持された形で製造されるとき、触媒組成物は、気相又はスラリー重合に使用される。実際上の制限として、スラリー重合は、ポリマー生成物が実質的に不溶な液体希釈剤中で生ずる。好ましくは、スラリー重合のための希釈剤は、５個より少ない炭素原子を有する１種以上の炭化水素である。所望ならば、飽和炭化水素、例えばエタン、プロパン、又はブタンが、希釈剤として全部又は一部で使用できる。同様に、α−オレフィンモノマー、又は異なるα−オレフィンモノマーの混合物が、希釈剤として全部又は一部で使用できる。最も好ましくは、希釈剤は、少なくとも主な部分で、重合されるべき１種以上のα−オレフィンモノマーからなる。常に、個々の成分並びに回収された触媒成分は、酸素及び水分から保護されねばならない。そのため、触媒成分及び触媒は、酸素及び水分のない雰囲気で製造かつ回収しなければならない。好ましくは、そのため、反応は乾燥且つ不活性な気体、例えば窒素の存在下で行われる。重合は、バッチ式又は連続の重合方法で行うことができる。連続法が好ましく、その場合、触媒、エチレン、α−オレフィン及び任意の溶媒及びジエンは、連続的に反応帯に供給され、ポリマー生成物は連続的にそれから取り出される。本発明の範囲を決して制限することなく、この重合方法を実施する一つの手段は、以下の通りである。撹拌するタンク反応槽に、プロピレンモノマーを、溶媒、ジエンモノマー及びエチレンモノマーとともに連続的に導入する。反応槽は、任意の溶媒又は追加の希釈剤とともに、エチレン、ブロピレン及びジエンモノマーから実質的になる液相を含む。所望ならば、少量の「Ｈ」枝分かれ鎖導入ジエン例えばノルボルネン、１、７−オクタジエン又は１、９−デカジエンも添加できる。触媒及び共触媒は、反応槽の液相に連続的に導入される。反応槽の温度及び圧力は、溶媒／モノマーの比、触媒の添加速度を調節することにより、並びにコイル、ジャケット又はその両者を冷却又は加熱することにより、コントロールできる。重合速度は、触媒の添加の速度によりコントロールされる。ポリマー生成物のエチレン含量は、反応槽のエチレン対プロピレンの比により決定され、それは、反応槽へのこれらの成分のそれぞれの供給速度を操作することによりコントロールされる、ポリマー生成物の分子量は、当業者に周知のように、任意に、他の重合変数例えば温度、モノマー濃度をコントロールすることにより、又は反応槽に導入される水素の流れにより、コントロールされる。反応槽の流出液は、殺触媒剤例えば水と接触する。ポリマー溶液は、任意に加熱され、そしてポリマー生成物はガス状のエチレン及びプロピレン、ならびに残存する溶媒又は希釈剤を減圧でフラッシングオフすることにより回収され、そしてもし必要ならば、装置のさらなる脱揮発化例えば脱揮発化押し出し機を行うことにより回収される。連続法では、反応槽中の触媒及びポリマーの平均滞留時間は、一般に、約５分−８時間そして好ましくは１０分−６時間である。多量の立体障害モノビニルモノマーを配合する触媒を使用することにより、残存量のモノマーから形成される立体障害モノビニルホモポリマーが実質的に減少する。本発明の方法は、オレフィンの気相共重合に有利に使用できる。オレフィンの重合のための気相法、特にエチレン及びプロピレンのホモ重合及び共重合、及びエチレンと高級α−オレフィン例えば１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル− １−ペンテンとの共重合は、当業者に周知である。これらの方法では、反応槽の冷却は、蒸発性の冷却効果をもたらす、床への揮発性液体として供給される再循環気体の使用によりもたらすことができる。この場合使用される揮発性液体は、例えば揮発性不活性液体例えば３−８好ましくは４−６個の炭素原子を有する飽和炭化水素である。モノマー又はコモノマーそれ自体が揮発性液体（又は凝縮してこの液体をあたえる）である場合、これは好適に床に供給されて蒸発性冷却効果をもたらすことができる。このやり方で使用できるオレフィンモノマーの例は、３−８好ましくは３−６個の炭素原子を含むオレフィンである。揮発性液体は、熱い流動床で蒸発して、流動する気体と混合する気体を形成する。もし揮発性液体がモノマー又はコモノマーであるならば、それは床で或る程度の重合を行うだろう。蒸発された液体は、次に熱いリサイクル気体の一部として反応槽から現れ、そしてリサイクルのループの圧縮／熱交換の部分に入る。リサイクル気体は、熱交換機で冷却され、そしてもし気体が冷却される温度が露点より低いならば、液体は気体から沈降するだろう。この液体は、望ましくは、流動床に連続的にリサイクルされる。リサイクル気体の流れで運ばれる液体の小滴として床に沈降した液体をリサイクルすることができる。このタイプの方法は、例えば、ヨーロッパ特許第８９６９１号、米国特許第４５４３３９９号、ＷＯ９４／２５４９５号及び米国特許第５３５２７４９号に記述されており、それらは本明細書に参考として引用される。床への液体のリサイクルの特に好ましい方法は、リサイクル気体の流れから液体を分離し、そして好ましくは床内に液体の細かい小滴を発生する方法を使用して床に直接この液体を再注入することである。このタイプの方法は、ＢＰＣｈｅｍｉｃａｌｓのＷＯ９４／２８０３２号に記述されている。気体流動床で生ずる重合反応は、触媒の連続又は半連続添加により接触化される。これらの触媒は、前記のように無機又は有機の支持物質に支持される。ポリマーは、床内の触媒、支持された触媒又はプレポリマーの流動粒子上のモノマー及び１種以上のコモノマーの接触共重合により流動床で直接生成される。重合反応の開始は、好ましくは目的ポリオレフィンと類似である予め形成されたポリマー粒子の床を使用し、そして当業者に周知である技術に従って床を調整することにより達成できる。これらの工程は、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びポリプロピレンの製造に大規模に工業的に使用されている。使用される気相法は、例えば、重合反応帯として機械的に撹拌される床又は気体流動床を使用するタイプのものである。好ましいのは、重合反応が、流動気体の流れにより流動グリッド、有孔プレートの上に支持又は懸濁されているポリマー粒子の流動床を含む垂直な円筒状の重合反応槽で実施される。床を流動するのに使用される気体は、重合されるべき１種以上のモノマーからなり、そしてまた床から反応熱を除くための熱交換媒体として働く。熱い気体は、流動床より広い直径を有する減速帯としても知られている静止帯を通常経て反応槽の頂部から現れ、気体の流れに随伴する細かい粒子は、床中に重力により沈下する機会を有する。熱い気体の流れから極めて細かい粒子を除くために、サイクロンを使用するのも有利である。気体は、次に通常ブローワ又はコンプレッサの手段により床にリサイクルされ、そして１個以上の熱交換機が重合熱を気体から取り去る。生成したポリマーは、所望により流動床から連続的又は不連続的に取り出される。本発明の実施に好適な気相法は、好ましくは、連続法であり、それは、反応槽の反応帯への反応物の連続的な供給、及び反応槽の反応帯からの生成物の除去をもたらし、それにより反応槽の反応帯でマクロスケールの定常状態の環境をもたらす。概して、気相法の流動床は、５０℃以上、好ましくは約６０−約１１０℃、さらに好ましくは約７０−約１１０℃の温度で操作される。概して、重合に使用されるコモノマー対モノマーのモル比は、生成される組成物の望ましい密度に依存し、約０．５以下である。望ましくは、約０．９１−約０．９３の密度範囲を有する物質を生成するとき、コモノマー対モノマーの比は、０．２より小さく、好ましくは０．０５より小さく、さらに好ましくは０．０２より小さく、そして０．０１より小さくてもよい。概して、水素対モノマーの比は、約０．５より小さく、好ましくは０．２より小さく、さらに好ましくは０．０５より小さく、特に好ましくは０．０２より小さく、そして０．０１より小さくてもよい。方法の変数の上記の範囲は、本発明の気相法には適切であり、そして本発明の実施に適合した他の方法に好適であろう。多数の特許及び特許出願が、気相法を記述しており、それらは、本発明の方法に使用するように適合できる。特に、米国特許第４５８８７９０、４５４３３９９、５３５２７４９、５４３６３０４、５４０５９２２、５４６２９９９、５４６１１２３、５４５３４７１，５０３２５６２、５０２８６７０、５４７３０２８、５１０６８０４号、ヨーロッパ特許出願第６５９７７３、６９２５００号、及びＰＣＴ出願ＷＯ９４／２９０３２、９４／２５４９７、９４／２５４９５、９４／２８０３２、９５／１３３０５、９４／２６７９３及び９５／０７９４２号がある。実施例当業者は、本明細書に開示された本発明が、特に開示されていないすべての成分の不存在下で実施できることを理解するだろう。以下の実施例は、本発明のさらなる説明として提供され、そして本発明を制限するものとして考えてはならない。逆のことを述べていない限り、すべての部及び％が、重量基準で表示される。 ¹Ｈ及び¹³ＣＮＭＲスペクトルは、ＶａｒｉａｎＸＬ（３００Ｍｈｚ）分光計で記録された。テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、トルエン及びヘキサンを、活性化されたアルミナ及び銅／マンガン混合酸化金属触媒( ＥｎｇｅｌｈａｒｄＣｏｒｐ．から入手)を装入したダブルカラムを経る通路を通って使用した。化合物、ｎ−ＢｕＬｉ、すべてのグリニャール試薬、ＫＨ、インデン、１−インダノン、及びＮｉ（ｄｐｐｐ）Ｃｌ₂はすべてＡｌｄｒｉｃｈから購入して使用した。２−ブロモインデン、２−メチル−４−フェニルインデン、及び２、４、６−トリメチルインダノンは、文献に記載されたようにすべて合成された。すべての合成は、グローブボックス及び高真空技術の組合せを使用して乾燥窒素雰囲気下で行った。実施例１シクロロ［Ｎ−（ｔ−ブチル）−１，１−シメチル−［３−フェニルインデン− １−イル］シラナミント（２−）−Ｎ］チタン（またジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミド）ＴｉＣｌ₂ともよばれる）１−フェニルインデンの製造ＰｈＭｇＢｒ（０．１５０モル、ジエチルエーテル中３．０Ｍ溶液５０．００ｍＬ）を添加して、１−インダノン（１３．３０ｇ，０．１００６モル）を−７８℃でジエチルエーテル（３００ｍＬ）中で撹拌した。混合物を次に２０−２５ ℃ に徐々に加温し、さらに１６時間撹拌した。反応時間後、混合物を氷に注ぎ、次に１ＭＨＣｌ（１×ｌ１００ｍＬ）、１ＭＮａＨＣＯ₃（１×１００ｍＬ）次にＨ₂Ｏ（１×１００ｍＬ）の水溶液により抽出した。有機層を次にＭｇＳＯ₄ によって乾燥した。濾過次に揮発物の除去すると黄色の油が単離し、それは、ＮＭＲによりなおいくらかの１−フェニル−１−インダノールを含むことが分かった。この油を次に真空下蒸留して淡黄色の油として所望の生成物を生じた（１８．５６ｇ、９５．９％）。リチウム−１−フェニルインデニドの製造１−フェニルインデン（６．００ｇ、０．０３１２モル）をヘキサン（３００ｍＬ）中で撹拌しつつ、ｎＢｕＬｉ（０．０３１２モル、ヘキサン中の２．５Ｍ溶液１２．５ｍＬ）を滴下した。混合物を次に２０−２５℃で４８時間撹拌し、その間固体が沈澱した。反応時間後、固体を真空濾過によって集め、そしてさらなる精製又は分析なしに使用した（５．５３ｇ、８９．４％）。ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミン）の製造ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のリチウム−１−フェニルインデニド（５．５３ｇ，０．０２７９モル）を、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のジメチルシリル（ｔ−ブチルアミノ）クロリド（４．６２ｇ、０．０２７９モル）の溶液に滴下した。この混合物を１６時間撹拌した。反応時間後、揮発物を除き、ヘキサンを用いて残留物を抽出しそして濾過した。ヘキサンを除くと、油として所望の生成物が単離した（８．６３ｇ、９６．２％）。ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミド）シリチドの製造ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミン）（８．６３ｇ、０．０２６８モル）をヘキサン（２００ｍＬ）中で撹拌しつつ、ＢｕＬｉ（０．０５３７モル、ヘキサン中２．５Ｍ溶液２１．５ｍＬ）を徐々に添加した。この混合物を次に１６時間撹拌し、その間粘着性の沈澱が形成された。揮発物を次に除き、生じた黄色の残留物をヘキサンにより洗った。反応時間後、固体を乾燥し、そして黄色の粉末として単離され、それをさらなる精製又は分析なしに使用した（８．１３ｇ、９１．０％）。ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミド）ＴｉＣｌ₂の製造ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミド）Ｌｉ₂（８．１３ｇ、０．０２４３モル）を、固体として、ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＴｉＣｌ₃（ＴＨＦ）₃（９．０３ｇ、０．０２４４モル）のスラリーに徐々に加えた。この混合物を３０分間撹拌した。ＰｂＣｌ₂（３．３８ｇ、０．０１２２モル）を次に固体として添加し、この混合物をさらに４５分間撹拌した。反応時間後、揮発物を除き、そして残留物をヘキサンを用いて抽出し、そして濾過した。トルエンを除くと、黒色の残留物が単離され、それを次にヘキサンにより抽出し、固体が沈澱するまで濃縮した。沈澱を次に波過により集め、冷ヘキサンにより洗い、赤褐色の結晶状固体が単離された（７．３９ｇ、６９．１％）。実施例２ジメチル［Ｎ−（ｔ−ブチル）−１、１−ジメチル−［３−フェニルインデン− １−イル］シランアミント（２−）−Ｎ］チタン（またジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミド）ＴｉＭｅ₂ともよばれる）の合成ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（ｔ−ブチルアミド）ＴｉＣｌ₂ （０．３３０ｇ，０．０００７５３モル）をジエチルエーテル（３０ｍＬ）中で撹拌しつつ、ＭｅＭｇＩ（０．００１５８モル、ジエチルエーテル中の３．０Ｍ溶液０．５２５ｍＬ）を滴下した。この混合物をさらに４０分間撹拌した。反応時間後、揮発物を除き、そして残留物をヘキサンを使用して抽出し、濾過した。ヘキサンを除くと、所望の生成物が単離された（０．２１０ｇ、７０．２％）。実施例３ジクロロ［Ｎ−（シクロヘキシル）−１、１−ジメチル−［３−フェニルインデン−１−イル］シランアミント（２−）−Ｎ］チタン（またジメチルシリル（３ −フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミド）ＴｉＣｌ₂ともよばれる）の合成ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）クロリドの製造ＴＨＦ（７５ｍＬ）中のＬｉ−１−フェニルインデニド（２１．８７３６ｇ、０．１１０４モル）を、ＴＨＦ（１５０ｍＬ）中のＭｅ₂ＳｉＣｌ₂（５１．３６７３モル）の溶液に滴下した。この混合物を次に１６時間撹拌した。反応時間後、揮発物を除き、そして残留物をヘキサンを使用して抽出し、濾過した。ヘサンを除くと、所望の生成物が黄赤色の油として単離された（２８．６１８３ｇ、９１．０％）。ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミン）の製造Ｍｅ₂Ｓｉ（３−フェニルインデニル）Ｃｌ（４．７３２７ｇ、０．０１６６１モル）をヘキサン（１００ｍＬ）中で撹拌しつつ、Ｎｅｔ₃（５．１７８６ｇ、０．０５１１８モル）及びシクロヘキシルアミン（１．６９６０ｇ、０．０１７１０モル）を加えた。この混合物を次に１６時間撹拌した。反応時間後、混合物を濾過しそして揮発物を除くと、黄色の油として所望の生成物を単離した（５．２８００ｇ、９１．７％）。ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミド）Ｌｉ₂ Ｍｅ₂Ｓｉ（３−フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミン）（５．２８００ｇ、０．００１５２４モル）をヘキサン（１５０ｍＬ）中で撹拌しつつ、ｎＢｕＬｉ（０．０３４モル、ヘキサン中２．５Ｍ溶液１７．００ｍＬ）を徐々に添加した。この混合物を１６時間撹拌し、その間混合物は濃い均一な油になった。反応時間後、揮発物を除くと、淡黄色の固体を単離した。この固体を次にヘキサンにより洗い、次に乾燥すると淡黄色の粉末が単離され、それをさらに精製又は分析することなく使用した（４．４４１０ｇ、８１．３％）。ジメチルシリル（３−フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミド）ＴｉＣｌ₂ の製造ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＭｅ₂Ｓｉ（３−フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミド）Ｌｉ₂（３．７３４６ｇ、０．０１０４２モル）を、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＴｉＣｌ₃（ＴＨＦ）₃（３．８６１３ｇ、０．０１０４２モル）のスラリーの滴下した。この混合物を２時間撹拌した。ＰｂＣｌ₂（１．４５１３ｇ、０．００５２１９モル）を次に固体として加え、混合物をさらに４５分間撹拌した。反応時間後、揮発物を除き、残留物をトルエンを使用して抽出しそして濾過した。トルエンを除くと、黒色の残留物が単離され、それを次にヘキサン中でスラリー化し、０℃に冷却した。所望の生成物を次に濾過により赤褐色の結晶性固体として集めた（２．７４７５ｇ、５６．８％）。実施例４ジメチル［Ｎ−（シクロヘキシル）−１、１−ジメチル−［３−フェニルインデン−１−イル］シランアミント（２−）−Ｎ］チタン（またジメチルシリル（３ −フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミド）ＴｉＭｅ₂ともよばれる）の合成Ｍｅ₂Ｓｉ（３−フェニルインデニル）（シクロヘキシルアミド）ＴｉＣｌ₂ （０．３９３６ｇ、０．０００８４７６モル）をジエチルエーテル（７５ｍＬ）中で撹拌しつつ、ＭｅＭｇＩ（０．００１７モル、ジエチルエーテル中３．０Ｍ溶液０．５７ｍＬ）を滴下した。この混合物を次に３時間撹拌した。反応時間後、揮発物を除き、ヘキサンを使用して残留物を抽出し濾過した。ヘキサンを除くと、黄赤色の残留物として所望の生成物が単離された（０．１４０４ｇ、３９．１％）。重合重合条件は以下の通りである。２Ｌ容のＰａｒｒ反応槽に、約３６０ｇのＩｓｏｐａｒ−Ｅ（商標）混合アルカン溶媒（ＥｘｘｏｎＣｈｅｍｉｃａｌＩｎｃ．から入手）及び４６０ｇのスチレンコモノマーを装入した。水素を、分子量コントロール剤として２５ｐｓｉｄ（２０７０ｋＰａ）で７５ｍＬ容の添加タンクから差圧膨脹により加えた。反応槽を９０℃に加熱し、２００ｐｓｉｇ（１．４Ｍｐａ）でエチレンにより飽和した。適切な量の触媒及び共触媒（トリスペンタフルオロフェニルボラン）を、トルエン中０．００５Ｍ溶液として、ドライボックス中で予備混合して１：１のモル比の触媒及び共触媒を作る。所望の予備混合時間後、溶液を触媒添加タンクに移し、反応槽に注入する。重合条件を、所望に応じエチレンにより３０分間維持する。追加の量の予備混合した触媒を周期的に添加する。得られる溶液を反応槽から取り出し、インプロピルアルコールにより停止し、そして立体障害フェノール抗酸化剤（Ｉｇａｎｏｘ（商標）１０１０、ＣｉｂａＧｅｉｇｙＣｏｐｏｒａｔｉｏｎから入手）を得られる溶液に加える。形成されたポリマーを２０時間１３５℃に設定した真空オーブン中で乾燥する。本発明の触媒及び比較触媒、（インデニル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチルを用いる結果を表１に示す。 ¹ （Ｎ−ｔ−ブチルアミド）（ジメチル）（３−フェニルインデニル）シランチタンジメチル；² （Ｎ−ｔ−ブチルアミド）（ジメチル）（インデニル）シランチタンジメチル；³ 比較例、本発明の実施例ではない；⁶ Ｔｉｌｇ当たりポリマーのｇ；⁷ モル％スチレン；⁸ 能率×％スチレン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ

Claims

【特許請求の範囲】１．式(Ｉ) （式中、Ｍは＋２、＋３又は＋４形式酸化状態のチタン、ジルコニウム又はハフニウムであり；Ｒ’はアリールリガンドであるか、又はそのハロゲン−、シリル−、アルキル− 、シクロアルキル−、ジヒドロカルビルアミノ−、ヒドロカルビルオキシ−又はヒドロカルビレンアミノ−置換誘導体であって、該Ｒ’は６−４０個の非水素原子を有し；Ｚは２価の基であるか、又はＭへの配位共有結合を形成できる中性の２個の電子対及び１つのσ結合をもつ基であり、該Ｚは硼素又は元素の周期律表の１４族の一員をもちそしてまた窒素、燐、硫黄又は酸素をもち；Ｘは環状の非局在化π−結合リガンド基であるリガンドの群を除いて６０個以内の原子を有する１価のアニオン性リガンド基であり；Ｘ’はそれぞれの場合独立して２０個以内の原子を有する中性のルイス塩基配位結合性化合物であり；Ｘ’’は６０個以内の原子を有する２価のアニオン性リガンド基であり；ｐは０、１、２又は３であり；ｑは０、１又は２であり、そしてｒは０又は１である）に相当することを特徴とする金属錯体。２．式（式中、Ｒ’はフェニル、ビフェニル又はナフチルであり、Ｍはチタンであり、Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^*、−ＰＲ^*、−ＮＲ₂ ^*、又は−ＰＲ₂ ^*であり、Ｚ^* は、ＳｉＲ^* ₂、ＣＲ^* ₂、ＳｉＲ^* ₂ＳｉＲ^* ₂、ＣＲ^* ₂ＣＲ^* ₂、ＣＲ^*＝ＣＲ^*、ＣＲ^* ₂ ＳｉＲ^* ₂、又はＧｅＲ^* ₂であり、Ｒ^*は、それぞれの場合独立して、水素であるか、又はヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール及びこれらの組合せから選ばれる一員であって、該Ｒ^*は、２０個以内の非水素原子を有し、そして所望により、Ｚからの２個のＲ^*基（但し、Ｒ^*は水素ではない）又はＺからのＲ^*基とＹからのＲ^*基とは、環系を形成してもよく；Ｘ、Ｘ’及びＸ’’は前記同様であり；ｐは０、１又は２であり；ｑは０又は１であり；そしてｒは０又は１であり；但し、ｐが２であり、ｑ及びｒが０のとき、Ｍは＋４形式酸化状態にあり（又はもしＹが−ＮＲ₂ ^*又は−ＰＲ₂ ^*ならば、Ｍは＋３形式酸化状態にあり）、さらにＸは、ハライド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジ（ヒドロカルビル）アミド、ジ（ヒドロカルビル）ホスファイド、ヒドロカルビルスルフィド、及びシリル基、並びにそれらのハロゲン−、ジ（ヒドロカルビル）アミノ−、ヒドロカルビルオキシ−及びジ（ヒドロカルビル）ホスフィノ−置換誘導体からなる群から選ばれるアニオン性リガンドであって、該Ｘ基は３０個以内の非水素原子を有し、ｒが１でありそしてｐ及びｑが０のとき、Ｍは＋４形式酸化状態にあり、そしてＸ’’は、ヒドロカルパジイル、オキシヒドロカルビル、及びヒドロカルビレンジオキシ基からなる群から選ばれるシアニオン性リガンドであって、該Ｘ基は３０個以内の非水素原子を有し、ｐが１でありそしてｑ及びｒが０のとき、Ｍは＋３形式酸化状態にあり、そしてＸはアリル、２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル、２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェニル及び２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジルからなる群から選ばれる安定化アニオン性リガンド基であり、そしてｐ及びｒが０であり、ｑが１のとき、Ｍは＋２形式酸化状態にあり、そしてＸ’ は、１個以上のヒドロカルビル基により所望により置換されていてもよい中性の共役又は非共投ジエンであって、該Ｘ’は４０個以内の炭素原子を有しそしてＭとπ−錯体を形成する）に相当する請求項１の金属錯体。３．(３−フェニルインデニル)−ジメチル(ｔ−ブチルアミド)シランチタンジクロリド、（３−フェニルインデニル）−ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチル、（３−フェニルインデニル）ジメチル（シクロヘキシルアミド）シランチタンジクロリド、又は（３−フェニルインデニル）ジメチル（シクロヘキシルアミド）シランチタンジメチルである請求項２の金属錯体。４．Ａ．１）請求項１の金属錯体及び２）活性化共触媒からなり、１）対２）のモル比がｌ：１００００−１００：１である組成物、又はＢ．活性化技術の使用により請求項１の金属錯体を活性触媒へ転換することにより形成した反応生成物からなるオレフィン重合用の触媒。５．活性化共触媒がトリスペンタフルオロフェニルボランからなる請求項４のオレフィン重合触媒。６．活性化共触媒が、１：１−５：１のモル比のアルモキサン及びトリスペンタフルオロフェニルボランからなる請求項５のオレフィン重合触媒。７．１種以上のＣ_2-100000α−オレフィンを重合条件下請求項４−６の何れか一つの項の触媒と接触させることからなるオレフィンの重合方法。８．エチレン及びスチレンを共重合することからなる請求項７の方法。９．溶液重合条件下で実施される請求項８の方法。