JP2001506244A - N−置換3−ヒドロキシピラゾールの製造方法 - Google Patents

N−置換3−ヒドロキシピラゾールの製造方法

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Abstract

(57)【要約】 下式I で表わされ、かつ式中のR1が非置換もしくは置換アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを、R2、R3が水素、シアノ、ハロゲン、非置換もしくは置換アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを意味する場合のN−置換3−ヒドロキシピラゾールを、ピラゾリジン−3−オンの酸化により製造する方法。

Description

【発明の詳細な説明】 N−置換3−ヒドロキシピラゾールの製造方法 本発明は、下式I で表わされ、かつ式中の R1が非置換もしくは置換アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキ ル、アリールまたはヘテロアリールを、 R2、R3が水素、シアノ、ハロゲン、非置換もしくは置換アルキル、アルケニ ル、アルキニル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを意味する場 合のN−置換3−ヒドロキシピラゾールを、下式II のピラゾリジン−3−オンの酸化により製造する方法に関する。 各種文献には、N−置換3−ヒドロキシピラゾールを、対応するピラゾリジノ ンの酸化により製造する方法が記載されている[J.Gen.Chem.USS R、英訳31(1961)1770、Chem.Heterocycl.Com p.(1969)527、J.Prakt.Chem.313(1971)1 15、J.Prakt.Chem.318(1976)253、J.Med.C hem.34(1991)1560、J.Prakt. Chem.313(1971)1118、西独特願公開3415385号公報、 PCT/EP96/2891号公報]。 これら公知方法において、酸化剤としては、以下のものが使用されている。 元素硫黄[J.Gen.Chem.USSR、英訳31(1961)1770 ]、 元素ハロゲン[Chem.Heterocycl.Comp.(1969) 527、J.Prakt.Chem.318(1976)253、同313(1 971)1118]、 過酸化物[J.Med.Chem.34(1991)1560、西独特願公開 3415385号公報]、 大気中酸素[J.Prakt.Chem.313(1971)115、同31 (1971)1118、PCT/EP96/2891]。 3−ヒドロキシピラゾールの工業的製造方法に関しては、元素硫黄による酸化 は、大量の硫黄還元生成物がもたらされこれは複雑な後処理の必要性と廃棄物の 問題から欠点がある。 元素ハロゲンの使用も、3−ヒドロキシピラゾールの工業的合成には同様に不 適当である。収率が低く、形成される副生成物の分離が複雑であることによる。 また酸化剤として大量の元素ハロゲンを使用することは、環境問題の点からして も、コストの点からしても不利である。 過酸化物を使用する公知の酸化方法は、一方において複雑な精製を必要とし、 他方において高コストの試薬を使用するにかかわらず不満足な収率をもたらすに 過ぎず、従って工業的製造方法としては不適当である。 酸化剤として大気中酸素を使用する方法[J.Prakt.Chem.313 (1971)115および同313(1971)1118]は、反応を極めて強 い酸性媒体中で行なわねばならないという欠点を有する。これは後処理の間に大 量の塩基を費消し、その結果、生態的、環境的観点から好ましくない大量の塩が もたらされる。 PCT/EP96/2891号公報には、鉄塩、銅塩の存在下に有機溶液の大 気中酸素を使用する酸化が記載されているが、この方法では酸化剤空気は、爆発 性の空気/溶媒蒸気混合物をもたらし、これは安全性の理由から懸念があり、厳 しい安全対策を講ずる必要性がある。 そこで、本発明の目的は、3−ヒドロキシピラゾールを製造するための経済的 で、技術的に安全かつ簡単な方法を提供することである。 しかるに、この目的は、下式I で表わされ、かつ式中の R1が非置換もしくは置換アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキ ル、アリールまたはヘテロアリールを、 R2、R3が水素、シアノ、ハロゲン、非置換もしくは置換アルキル、アルケニ ル、アルキニル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを意味する場 合のN−置換3−ヒドロキシピラゾールを、下式II のピラゾリジン−3−オンの酸化により製造する方法であって、この酸化反応を 、酸化剤として酸素を使用し、塩基の存在下に、水中で行なうことを特徴とする 方法により達成されることが本発明者らにより見出された。 上記ピラゾリジノンIIの酸化において、その塩基性水溶液は、一般的に空気 または純粋酸素ガスにより処理される。この塩基としては、pKa値が7より高 い無機または有機の塩基が適当である。 本発明方法は、必ずしも化合物IIの完全な脱プロトン化(deproton ation)を必要としない。化合物IIの脱プロトン化が 不完全な場合には、反応媒体のpH値は7以下である。本発明方法はpH値が7 より大きい状態で行なわれるのがことに好ましい。本発明方法において、塩基は 少なくとも等モル量で化合物IIに添加される。 塩基の添加により、ピラゾリジノンの溶解性は、水中における反応が行ない易 い程度に増大せしめられる。反応廃棄物としての水の炭素分を極めて低く維持す るためには、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物または炭酸塩のよ うな無機塩基、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウムヒドロキシド、カリ ウム、ナトリウムカルボナートを使用するのが好ましい。酸素ガスで処理する場 合に、溶液中の塩基が枯渇しないようにするため、非揮発性塩基を使用するのが 好ましい。 原則的に有機塩基を使用するのも適当であるが、この場合、反応条件下におい て揮発しない塩基が、上述の理由のみならず、安全性の理由からしても好ましい 。 本発明方法は、反応混合物の酸化が、触媒的量の金属塩の添加により加速され るように行なわれ得る。大抵の場合、これにより選択性も増大される。 ことに適当な金属塩は、二価ないし三価反応状態の鉄塩(例えば塩化鉄(II )、塩化鉄(III)、硫酸鉄(II)、硫酸鉄(III)、ヘキサシアノフェ ラート(II)カリウム、ヘキサシアノフェラート(III)カリウム)、一価 ないし二価酸化状態の銅塩(例えば塩化銅(I)、塩化銅(II)、硫酸銅(I )、硫酸銅(II))、二価ないし三価酸化状態のコバルト塩(例えば酢酸コバ ルト(II)、塩化コバルト(II)、弗化コバルト(III))、および遷移 金属主族のこれらに対応する塩である。その他種々の多数の塩が、これらの混合 物として使用され得る。 金属塩は、一般的に化合物(II)に対して、0.01から20モル%、好ま しくは0.3から10、ことに0.5から5モル%の割合で添加される。 本発明方法の好ましい実施態様においては、純粋酸素を使用して酸化を行なう が、この場合には金属塩触媒は不必要である。 酸化は、通常0℃から反応混合物の沸点までの温度、ことに20℃から100 ℃の温度で行なわれる。本発明方法が加圧下に行なわれる場合には、さらに高い 温度でもよい。 本発明方法は、例えば1から200バールの圧力下に行なわれ得る。この圧力 は、空気もしくは純粋酸素またはこれらの混合気体を圧搾することにより形成さ れ得る。この圧力は、1から50バール、ことに1から20バールであるのが好 ましい。 反応混合物は、慣用の態様、例えば抽出を行ないまたは行なうことなく、反応 溶液の中性化により生成物を沈澱させ、粗生成物のクロマトグラフィー精製を行 ないまたは行なうことなく、相分離することにより後処理される。中間生成物ま たは最終生成物の若干のものは、無色またはわずかに褐色を帯びる粘稠油状体と して得られるが、これは減圧、穏和な加熱下に揮発分を除去することにより精製 され得る。中間生成物、最終生成物が固体で得られる場合、精製は再結晶または 温浸により行なわれ得る。 本発明方法は、反応条件下に置換基が不活性であるならば、一定の態様で置換 されている化合物に限定されない。脂肪族基は直鎖または分岐のいずれでもよい 。置換基の連鎖長さも本発明方法において限定されないが、技術的理由から、1 0個までの炭素原子を有する置換基が選択される。すなわち、アルキルの炭素原 子数は、一般的に1から10、アルケニル、アルキニルのそれは、2から10、 シクロアルキルは3から10の環員を有するものとする。 アリールは、例えばフェニルまたはナフチル、ヘテロアリールは、例えばフリ ル、チエニル、ピロリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、オ キサゾリル、イミダゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、トリアジ ニルであり、ハロゲンは塩素、弗素、臭素、沃素である。 置換基は、反応条件下に不活性な他の基、例えばハロゲン、シアノ、SO3H 、COOH、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたはヘテロアリー ルを担持し得る。 本発明方法において得られる3−ヒドロキシピラゾールは、医薬または栽培植 物保護剤の分野における染料または有効化合物を製造するための中間生成物とし て適当である。 対比例 (1)FeCl3を使用するピラゾリジノンの酸化[J.Prakt.Ch. 313(1991)1118] 40mlのH2O中、23g(0.142モル)のFeCl3の溶液を、約25 ℃において、100mlの1規定HCl溶液と、14g(0.071モル)の1 −(4−クロロフェニル)ピラゾリジン−3−オンの混合物中に滴下、添加した 。一夜撹拌した後、24gのNaOHを少しづつ添加し、この混合物を90℃に 加熱し、この温度で吸引濾別し、沈澱物を沸騰水で洗浄した。 沈澱物をpH5〜6に酸性化してから、CHCl3で抽出し、有機相から少量 の黒色残渣を得たが、この残渣から生成物は検出され得なかった。 また水性相の固体生成物からも濾液からも、定量的もしくは定性的特性試験の ために充分な純度を有する生成物は単離され得なかった。 (2)CuCl2を使用するピラゾリジノンの酸化[J.Prakt.Ch. 213(1971)115] (2,1)19.6g(0.1モル)の1−(4−クロロフェニル)ピラゾリ ジン−3−オン、200mlの1規定HClおよび0.05gのCuCl2・2 H2O(0.293ミリモル)の混合物に、50℃において8時間にわたって、 酸素を導入、通過させた。この混合物を一夜撹拌し、生成褐色液を吸引濾別した 。4:1の割合のピラゾリノンとピラゾリジノンの混合物17.7gが得られた 。算出収率73%。 (2,2)上述(2,1)項で得られたのと同じ分光器データおよび物性を示 す混合物17.8gに、50℃において24時間酸素を導入、通過させる実験を 行なった。この反応の間に行なわれた薄層クロマトグラフィー分析の結果は、時 間の経過と共に副生成物の量が次第に増加することを示した。従って、反応時間 延長の試みは行なわなかった。 (3)塩素ガスを使用する酸化 49.2gの1−(4−クロロフェニル)ピラゾリジン−3−オンを、300 mlのメチレンクロリドに溶解させ、この溶液を氷浴中において10℃に冷却し つつ、これに18gの塩素ガスを導入、通過させた。HPLCにより測定(ピー ク帯域%)したところ、反応溶液は、ほぼ70%の1−(4−クロロフェ ニル)−3−ヒドロキシピラゾール、15%の出発材料および15%の4−クロ ロ−1−(4−クロロフェニル)−3−ヒドロキシピラゾールを含有することが 示された。 (4)臭素を使用する酸化[Chem.Heterocycl.Comp. (1969)527] 49.2gの1−(4−クロロフェニル)ピラゾリジン−3−オンを300m lのメチレンクロリドに溶解させ、氷浴でこの溶液を10℃に冷却しつつ、これ に40gの臭素を徐々に滴下、添加した。同様にHPLC測定したところ、この 反応溶液は、76%の1−(4−クロロフェニル)−3−ヒドロキシピラゾール 、8%の出発材料および21%の4−ブロモ−1−(4−クロロフェニル)−3 −ヒドロキシピラゾールを含有することが認められた。 本発明による実施例 (5)Co(II)触媒により、空気を使用する1−(4−クロロフェニル) −3−ヒドロキシ−4−メチルピラゾールの製造 92gの1−(4−クロロフェニル)−4−メチルピラゾリジン−3−オンお よび1.3gの酢酸コバルト(II)・4H2Oを、700mlの水と43.1 gの水酸化カリウム(85%)の混合液中に溶解させ、これを撹拌しつつ加熱し 、80℃で7時間空気を導入、通過させた。冷却後、反応混合物を濾別し、酢酸 でpH5.5まで酸性化、沈澱物を吸引、濾別し、水洗し、減圧下に乾燥した。 融点214℃の固体生成物78.9gが得られた。 (6)カリウムヘキサシアノフェラート(III)触媒により、空気を使用す る1−(4−クロロフェニル)−3−ヒドロキシピラゾールの製造 98.3gの1−(4−クロロフェニル)ピラゾリジン−3−オンを、641 .3gの水と、33.75gの水酸化カリウムとの混合液中に溶解させ、これに 0.98gのヘキサシアノフェラート(III)を添加した。混合物を80℃に 加熱し、毛細管を経て烈しい空気流をこれに導入、通過させ、この温度でさらに 酸化させた。冷却後、反応混合液を濃硫酸でpH2に酸性化した。固体沈澱物を 吸引濾別し、水とジイソプロピールエーテルで洗浄し、乾燥して、76gの明褐 色固体を得た。 (7)Fe(III)触媒により、空気を使用する1−(4−クロロフェニル )−3−ヒドロキシピラゾールの製造 9.06kgの1−(4−クロロフェニル)ピラゾリジン−3−オンを、3. 87kgの水酸化カリウムと、73.6kgの水との混合液中に溶解させ、これ に90gの塩化鉄(III)を添加した。この混合物を80〜85℃に加熱し、 烈しい空気流を導入、通過させた。ほぼ3時間後に反応は完了し、HPLC分析 により、8.72重量%(7.53kgに相当)の1−(4−クロロフェニル) −3−ヒドロキシピラゾールを含有する溶液が得られた。 (8)圧力下に、触媒を使用することなく、純粋酸素を使用する1−(4−ク ロロフェニル)−3−ヒドロキシピラゾールの製造 9.75gの1−(4−クロロフェニル)ピラゾリジン−3−オンを、150 gの水に溶解させ、この水溶液を300ml容積のオートクレーブに装填し、次 いで15バールの圧力下に酸素をこれに給送した。混合物を50℃に加熱し、こ の温度に6時間維持した。次いで混合物を冷却し、酢酸の添加によりそのpH値 を5に調整した。沈澱、析出した固体分を吸引濾別し、60℃で30分間水中に おける温浸処理に附し、再び吸引濾別し、95.4%の目的化合物を含有する無 色粉末9.4gが残渣として得られた。 (9)触媒の不存在下、純粋酸素の使用による1−(4−メチルフェニル)− 3−ヒドロキシピラゾールの製造 25.8gの1−(4−メチルフェニル)ピラゾリジン−3−オンを、10. 3gの水酸化カリウムと、196gの水との混合液に溶解させ、60℃において 酸素をこれに導入、通過させ、完全に吸収させた。ほぼ90分後、酸素は最早吸 収されず、そこで反応混合物を室温まで冷却した。酢酸により生成物を沈澱、析 出させ、吸引濾別し、水で洗浄し、乾燥した。これにより融点135〜137℃ の無色固体21.6gを残渣として得た。 (10)触媒の不存在下、純粋酸素の使用による1−(3,4−ジクロロフェ ニル)−3−ヒドロキシピラゾールの製造 11.8gの1−(3,4−ジクロロフェニル)ピラゾリジン−3−オンを、 5.9gの水酸化カリウムと、113gの水の混合液中に溶解させ、60℃にお いて、これに酸素を導入、通過させ、ほぼ60分後に反応は完結し、次いでこれ をHPLC分析に附した。反応混合物を室温まで冷却し、6gの酢酸で生成物を 沈澱、析出させ、吸引濾別し、水で洗浄し、乾燥し、融点168〜170℃の無 色固体7.3gを残渣として得た。 (11)触媒の不存在下、純粋酸素の使用による1−(3−クロロ−4−フル オロフェニル)−3−ヒドロキシピラゾールの製造 47.9gの1−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)ピラゾリジン−3− オンを、409gの水に溶解させた21.55gの水酸化カリウムの水溶液に添 加し、70℃においてこれに酸素を導入、通過させることにより酸化させた。ほ ぼ40分後に反応は完結し、混合物を室温まで冷却し、23gの酢酸を添加した 。析出した粘稠性固体を水およびジイソプロピルエーテル中で温浸処理し、吸引 濾過した。乾燥後、39gの固体残渣を、シクロヘキサンを使用し、シリカゲル クロマトグラフィーで精製した。融点157〜159℃の目的生成物21gを得 た。 (12)触媒の不存在下、純粋酸素の使用による1−(4−クロロフェニル) −3−ヒドロキシピラゾールの製造 5%濃度の水酸化カリウム中に1−(4−クロロフェニル)ピラゾリジン−3 −オンを溶解させた7.4%濃度の溶液850gを60℃に加熱し、毛細管を経 てこれに酸素を導入し、通過させ、完全に吸収させた。約90分後、HPLCに よる観測で反応は終結した。1−(4−クロロフェニル)−3−ヒドロキシピラ ゾールを7.3%含有する855gの溶液が得られた。 (13)Co(II)触媒の存在下、純粋酸素の使用による1−(4−クロロ フェニル)−3−ヒドロキシピラゾールの製造 5%濃度の水酸化カリウム溶液に溶解させた1−(4−クロロフェニル)ピラ ゾリジン−3−オンの6.9%濃度溶液900gを、600mgの酢酸コバルト (II)と混合し、室温において酸素を毛細管から導入、通過させて、これに酸 素を完全に吸出させる。ほぼ30分後に、HPLC測定により反応完了が確認さ れ、温度は40℃まで上昇した。6.7%の1−(4−クロロフェニル)−3− ヒドロキシピラゾールを含有する908gの溶液が得られた。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成10年10月6日(1998.10.6) 【補正内容】 請求の範囲 1.下式I で表わされ、かつ式中の R1がC1−C10アルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、C3 −C10シクロアルキル、フェニルおよびナフチルのいずれかのアリール、フリル 、チエニル、ピロリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、オキ サゾリル、イミダゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、およびトリ アジニルのいずれかのヘテロアリールを、 R2、R3が水素、シアノ、ハロゲン、C1−C10アルキル、C2−C10アルケニ ル、C2−C10アルキニル、C3−C10シクロアルキル、フェニルおよびナフチル のいずれかのアリール、フリル、チエニル、ピロリル、イソオキサゾリル、イソ チアゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、ピリジル、ピリダジニ ル、ピリミジニル、およびトリアジニルのいずれかのヘテロアリールを意味し、 かつR1、R2およびR3が反応条件下において不活性である場合のN−置換3− ヒドロキシピラゾールを、下式II のピラゾリジン−3−オンの酸化により製造する方法であって、 式IIの水溶性化合物の反応を、酸化剤として酸素を使用し、塩基の存在下に 、水中で行なうことを特徴とする方法。 2.上記R1が、反応条件下に不活性である以下の基、すなわちハロゲン、シ アノ、SO3H、COOH、C1−C10アルキル、C2−C10アルケニルまたはC2 −C10アルキニルにより置換されていてもよいフェニルであることを特徴とする 、請求項1の方法。 3.上記R2が水素であることを特徴とする、請求項1の方法。 4.上記R3が水素またはC1−C10アルキルであることを特徴とする、請求項 1の方法。 5.pKa値が7より大きい塩基を使用することを特徴とする、請求項1の方 法。 6.無機塩基を使用することを特徴とする、請求項1の方法。 7.化合物IIの酸化を、金属塩の存在下に行なうことを特徴とする、請求項 1の方法。 8.金属塩を触媒的量で添加することを特徴とする、請求項7の方法。 9.使用される金属塩が鉄塩であることを特徴とする、請求項7の方法。 10.使用される金属塩が銅塩であることを特徴とする、請求項7の方法。 11.使用される金属塩がコバルト塩であることを特徴とする、請求項7の方 法。 12.酸化剤として純粋酸素を使用して化合物IIを酸化させることを特徴と する、請求項1の方法。 13.酸化剤として大気中酸素を使用して化合物IIを酸化させることを特徴 とする、請求項7の方法。 14.1から50バールの圧力下に化合物IIを酸化させることを特徴とする 、請求項1の方法。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.下式I で表わされ、かつ式中の R1が非置換もしくは置換アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキ ル、アリールまたはヘテロアリールを、 R2、R3が水素、シアノ、ハロゲン、非置換もしくは置換アルキル、アルケニ ル、アルキニル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを意味する場 合のN−置換3−ヒドロキシピラゾールを、下式II のピラゾリジン−3−オンの酸化により製造する方法であって、この酸化反応を 、酸化剤として酸素を使用し、塩基の存在下に、水中で行なうことを特徴とする 方法。 2.pKa値が7より大きい塩基を使用することを特徴とする、請求項1の方 法。 3.無機塩基を使用することを特徴とする、請求項1の方法。 4.化合物IIの酸化を、金属塩の存在下に行なうことを特徴とする、請求項 1の方法。 5.金属塩を触媒的量で添加することを特徴とする、請求項4の方法。 6.使用される金属塩が鉄塩であることを特徴とする、請求項4の方法。 7.使用される金属塩が銅塩であることを特徴とする、請求項4の方法。 8.使用される金属塩がコバルト塩であることを特徴とする、請求項4の方法 。 9.酸化剤として純粋酸素を使用して化合物IIを酸化させることを特徴とす る、請求項1の方法。 10.酸化剤として大気中酸素を使用して化合物IIを酸化させることを特徴 とする、請求項4の方法。 11.1から50バールの圧力下に化合物IIを酸化させることを特徴とする 、請求項1の方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015129591A1 (ja) * 2014-02-28 2015-09-03 住友化学株式会社 ピラゾール化合物の製造方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2151433A1 (en) 2008-08-05 2010-02-10 Institut Pasteur Alkoxypyrazoles and the process for their preparation
CN102858735B (zh) 2010-03-18 2014-12-10 巴斯夫欧洲公司 N-甲氧羰基-n-甲氧基-(2-氯甲基)苯胺、其制备及其作为制备2-(吡唑-3'-基氧基亚甲基)酰替苯胺的前体的用途
US9744066B2 (en) 2011-06-10 2017-08-29 The Regents Of The University Of California Trunk supporting exoskeleton and method of use
EP2815647A1 (en) 2013-06-18 2014-12-24 Basf Se Novel strobilurin-type compounds for combating phytopathogenic fungi
EP3702355B1 (en) 2015-05-18 2022-01-12 Shenyang Sinochem Agrochemicals R&D Co., Ltd. Substituted pyrazole compounds containing pyrimidine, the preparation and application thereof
CN105061322B (zh) * 2015-07-27 2018-07-24 北京颖泰嘉和生物科技股份有限公司 N-取代的3-羟基吡唑化合物的制备方法
CN106008350A (zh) * 2016-07-21 2016-10-12 山东益丰生化环保股份有限公司 一种1-(4-氯苯基)-3-吡唑醇的制备方法
EP3541788B1 (en) 2016-11-17 2020-09-02 Basf Se Process for the purification of 1-(4-chlorophenyl)pyrazol-3-ol
CN107778246A (zh) * 2017-12-05 2018-03-09 利民化工股份有限公司 一种杀菌剂吡唑醚菌酯中间体吡唑醇的精制方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3415385A1 (de) * 1984-04-25 1985-11-07 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur herstellung von pyrazolen
UA48189C2 (uk) * 1995-07-14 2002-08-15 Басф Акцієнгезельшафт Спосіб одержання n-заміщених 3-гідроксипіразолів

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015129591A1 (ja) * 2014-02-28 2015-09-03 住友化学株式会社 ピラゾール化合物の製造方法
JPWO2015129591A1 (ja) * 2014-02-28 2017-03-30 住友化学株式会社 ピラゾール化合物の製造方法

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