JP2001502329A - 2―アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物及びそのl―酒石酸塩の製造方法 - Google Patents

2―アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物及びそのl―酒石酸塩の製造方法

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Abstract

(57)【要約】 式(I)又は(I'): (式中、*はRのキラリティーを表し、*'はSのキラリティーを表し、Rは水素又はそれぞれ式(II)又は(II'): (式中、R1はアルキルであり、Arは適宜置換されたアリールである))で示される2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の製造方法であって、式(III)又は(III'):

Description

【発明の詳細な説明】 2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物及びそのL−酒石 酸塩の製造方法 本出願は、米国特許出願第08/655,395号(1996年5月30日出願)の 一部係属出願であり、前記出願は米国特許出願第08/476,156号(1995 年6月7日出願)の一部係属出願である。発明の属する技術分野 本発明は、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の製 造方法に向けられる。更に本発明は、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2. 1]ヘプタン化合物の(1R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩及びその製造方 法にも向けられる。更に本発明は、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1 ]ヘプタン化合物の(1R)ジアステレオマーのビスO−保護(bis O-protecti on)方法及び2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の( 1R)ジアステレオマーの誘導体を酸化し、対応のラクタム化合物にする方法に も向けられる。 米国特許第5,284,769号明細書は、本発明にしたがい製造されるラク タム化合物を含み、かつ薬学的に活性な薬剤の製造に有用なシントンであるラク タム化合物を開示している。J.Chenら(Tet.Lett.,30 5543(1989))は、本 発明にしたがい製造されるラクタム化合物を含み、かつアデノシンアゴニストと して活性な化合物の製造に使用されるラクタム化合物を開示している。報告されている発展 C.K.-F.Chui(Syn.Comm.26(3),577(1996))は、L−ジベンゾイル酒石酸を 使用した、すなわち分別結晶による式(i)及び(ii)で示されるビシクロヘプ テンアミン化合物のジアステレオマー混合物の分割を開示している。 しかし、Chuiの文献は、ジアステレオマー混合物のビスヒドロキシル化生成物 を分割する手段については開示していない。 S.J.C.Taylorら(Tetrahedron:Asymmetry,4(6),1117(1993))は、式(iii) : で示されるラクタムを酵素的に分割して、式(iv)及び(v): で示されるエナンチオマーを与えることを開示している。 しかし、S.J.C.Taylorらは、ラクタム(iii)のビスヒドロキシル化生成物を 分割する方法については全く開示していない。 米国特許第5,284,769号明細書は、式(vi): で示されるラクタムを酵素的に分割し、ラクタムのエナンチオマーを提供するこ とを開示している。しかし、米国特許第5,284,769号明細書は、ラクタ ム(vi)のビスヒドロキシル化生成物を分割する方法については全く開示してい ない。 発明の概要 本発明の方法は、式(I)又は(I'):(式中、*はRのキラリティーを表し、*'はSのキラリティーを表し、Rは水素 又はそれぞれ式(II)又は(II'): (式中、R1はアルキルであり、Arは適宜置換されたアリールである)である )で示される2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の製 造方法であって、 式(III)又は(III'): (式中、*及び*'並びにRは前記と同じである)で示されるビシクロ[2.2. 1]ヘプタン化合物を、約0.1〜約5mol%のメタルオスメート(metalosm ate)化合物又は約0.06〜約0.07mol%のオスミウムテトロキシド(o smium tetroxide)を再生することができる酸化剤の存在下でビスヒドロキシル 化する工程、 からなる方法に向けられる。 更に本発明は、式(I)で示される2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2. 1]ヘプタン化合物の(1R)ジアステレオマー(式中、Rは式IIで示される) をL−酒石酸で処理すること及びそのL−酒石酸塩生成物にも向けられる。更に 本発明は、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1 R)ジアステレオマー又はその塩を、イソプロパノール中、酸により促進される アセタール化又はケタール化(acid facilitated acetalizing or ketalizing) 反応に使用し、ジヒドロキシ部分を保護するすることに向けられる。更に本発明 は、2−アサジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1R)ジ アステレオマーのO−保護誘導体を、約0.01〜約1mol%のRuO2又は その水和物の存在下、約95%以上のエナンチオマー過剰率(ee)でラクタム 化合物を形成するための約3当量のオキシダントを用いて酸化し、対応のラクタ ム化合物にする方法にも向けられる。 発明の詳細な説明 前記及び本発明の説明を通して、以下に示す用語は、特に示さない限り、以下 に示す意味を有するものと理解されるだろう。 「アルキル」は、炭素数1〜約4の直鎖又は分岐した脂肪族炭化水素基を意味 する。例示的なアルキル基には、メチル、エチル、i−プロピル及びt−ブチル が含まれる。 「適宜置換されたメチレン」は、−CH2−又は、水素原子がアルキル又はフ ェニルから選ばれる同一又は異なっていてもよい1以上の基により個々に置換さ れている部分又は同時に置換されメチレンの炭素原子と一緒になってシクロアル キルを生成している部分を意味する。 「アリール」は、適宜置換されたフェニル又は適宜置換されたα−又はβ−ナ フチルを意味する。置換されたアリールは、1以上のアリール基置換基により置 換されている。アルキル基置換基は、ハロ、アルキル、アルコキシ及びニトロを 含み、同一又は異なっていてもよい。 「アルコキシ」は、アルキル−O−基を意味する。アルキル基は前記と同一で ある。例示的なアルコキシ基にはメトキシ、エトキシ、i−プロポキシ及びt− ブトキシが含まれる。 「シクロアルキル」は、炭素数約5〜約6の脂肪族環を意味する。例示的なシ クロアルキル基はシクロヘキシルである。 「アシル」は、アルキル−CO−基を意味する。アルキル基は前記と同一であ る。例示的なアシル基には、アセチル及びプロパノイルが含まれる。 「アロイル」は、アリール−CO−基を意味する。アリール基は前記と同一で ある。例示的なアロイル基はベンゾイルである。 「ハロ」は、フルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨードを意味する。好ましくは フルオロ及びクロロである。 「オスミウムテトロキシドを再生することができる酸化剤」は、メタルオスメ ートのオスミウム(Os+6)をオスミウムテトロキシド(Os+8)へ酸化するか 又はビスヒドロキシル化により還元したオスミウムテトロキシドをオスミウムテ トロキシド(Os+8)へ再酸化するオキシダントを意味する。オスミウムテトロ キシドを再生することができる酸化剤の代表例には、N−メチルモルホリンオキ シド又はトリエチルアミンオキシド及びフェリシアン化カリウム(K3FeCN6 )が含まれる。好ましくは、N−メチルモルホリンオキシドである。 「メタルオスメート」は、金属カチオンであるMn+(式中、nは1又は2であ る)及びオスミウムオキシドアニオン複合体[OsO4-2から形成する塩化合 物又はその水和物を意味する。好ましいメタルオスメートはアルカリ又はアルカ リ土類金属オスメートであり、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、 カルシウム及びバリウムオスメートが含まれる。好ましくは、K2OsO4・2H2 Oである。メタルオスメート製造に有用な方法の例は、B.N.Ivanov-Eminら(Zh .Neorg.Khim.31(5)1238(1986))、H.C.Jewiss(J.C.S.Dalton Trans.199(19 85))、B.N.Ivanov-Eminら(Zh.Neorg.Khim.29(4)1241(1984))及びB.N.Iva nov-Eminら(Zh.Neorg.Khim.28(5)1246(1983))に記載されている。 「その塩」は、酸により中和され対応の酸付加塩を形成する塩基部分を有する 化合物を意味する。酸付加塩を製造するために使用することができる酸には、好 ましくは、遊離の塩基と組合せたときに薬学的に許容し得る塩、すなわちアニオ ンが患者に対して無毒である塩(そのため、づづく酸付加塩の使用は、続く化学 反応性を禁止しない)を製造するものが含まれる。酸付加塩は、例えばアルカリ 等の塩基を用いての処理による塩基化合物の再生用、精製及び/又は同定の目的 用又はイオン交換手順による別の酸付加塩形態への相互変換用のソースとして有 用である。酸付加塩の例には、以下に示す酸を含むものが含まれる。臭化水素酸 、塩酸、硫酸、リン酸及びスルファミン酸等の無機酸;酢酸、クエン酸、乳酸、 酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、マロン酸、コハク酸、2,3−ジメトキシコハク 酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエン スル ホン酸、シクロヘキシルスルファミン酸及びキナ酸等の有機酸。好ましい態様 本発明のビスヒドロキシル化法の特別の態様では、Rは式II又はII’で示され る基である。 本発明のビスヒドロキシル化法の好ましい態様では、R1はメチル又はエチル であり、Arは適宜置換されたフェニルであり、置換されている場合、1以上の メチル又はメトキシで置換されている。 本発明のビスヒドロキシル化法のより好ましい態様では、R1はメチルであり 、Arはフェニルである。 ビスヒドロキシル化を行う好ましい態様では、オスミウムテトロキシドを、約 0.06〜約0.07mol%、より好ましくは約0.06mol%使用する。 ビスヒドロキシル化を行う別の好ましい態様では、メタルオスメートを、約0 .1〜約5mol%、より好ましくは約0.2〜約0.5mol%使用する。 更に、ビスヒドロキシル化を行う別の好ましい態様では、メタルオスメートと してアルカリ又はアルカリ土類金属オスメートより好ましくはK2OsO4・2H2 Oを使用する。 本発明の式: で示される、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の( 1R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩を製造するための特別の態様では、Rは 式IIで示される基である。 本発明の2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1 R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩の製造の好ましい態様では、R1がメチル であり、Arがフェニルである。 本発明の別の特別の態様は、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘ プタン化合物の(1S)ジアステレオマーの存在下、実質的に鏡像異性的に精製 された状態の2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の( 1R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩を製造することである。 本発明の2−アサジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1 R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩を製造するための好ましい態様では、製造 は水性−有機溶媒混合物中で行う。 本発明の2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1 R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩を製造するためのより好ましい態様では、 有機溶媒はイソプロパノール(IPA)である。 更に、本発明の2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物 の(1R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩を製造するためのより好ましい態様 では、製造は、水性−IPA混合物(容積比が約30:70〜約15:85、更 に好ましくは約25:75)中で行う。 本発明の酸により促進されるアセタール化又はケタール化反応法についての特 別の態様は、式IV: (式中、Rは前記と同一であり、R3'及びR3''は水素、アルキル又はフェニル であるか、又はR3'及びR3''はそれらが結合する炭素原子と一緒になってシク ロアルキルを形成している)で示される化合物の製造方法であって、 式v:(式中、R4'及びR4''はアルコキシであるか、又はそれらが結合する炭素原子 と一緒になってカルボニルを形成している)で示される化合物を、本明細書に記 載される2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1R )ジアステレオマー又はその塩を用いて、IPA中で、酸により促進されるアセ タ ール化又はケタール化反応させることからなる方法に向けられる。 酸により促進されるアセタール化又はケタール化反応の好ましい態様では、R4' 及びR4''がメトキシであり、R3'及びR3''がメチルである。 酸により促進されるアセタール化又はケタール化反応の別の好ましい態様では 、酸による促進がトリフルオロ酢酸(TFA)を使用して行われる。 酸により促進されるアセタール化又はケタール化反応についての更に別の態様 では、酸により促進されるアセタール化又はケタール化反応においてRが式IIで 示される基である。 酸により促進されるアセタール化又はケタール化反応についての更に好ましい 態様では、R1がメチルであり、Arがフェニルである。 酸により促進されるアセタール化又はケタール化反応についての更に別の好ま しい態様では、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の (1R)ジアステレオマーがL−酒石酸塩の形態である。 本発明のラクタム製造法についての特別の態様は、式VI: (式中、R’1及びR''1は独立してアシル又はアロイルであるか又は一緒になっ て適宜置換されたメチレンを形成し、G1は水素又はアミノ保護基である)で示 されるラクタム化合物の製造方法であって、 式VII: で示される2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物のO− 保護(1R)ジアステレオマーのビスO−保護誘導体を、約0.1〜約1mol %のRuO2又はその水和物の存在下、約95%以上のeeでラクタム化合物を 形成するための約3当量のオキシダントを用いて酸化する工程からなる方法に向 け られる。 ラクタム製造法の好ましい態様では、RuO2は約0.5mol%存在する。 ラクタム製造法についての別の好ましい態様では、ラクタム化合物は約99% 以上のeeで形成される。 製造方法についての一般的パラメーターは、前記及び以下に記載される。 一般的に、ビスヒドロキシル化は、V.VanRheenenら(Tetrahedron Letters, Vol.23,1973-1976(1976))に記載される条件下で行われる。オキシダントは、 エキソ型でビスヒドロキシル化に作用しなければならない。より詳細には、酸化 は、過マンガン酸カリウム又はオスミウムテトロキシド若しくはメタルオスメー トを用いて、N−メチルモルホリンオキシド又はトリエチルアミンオキシド又は フェリシアン化カリウム(K3FeCN6)の存在下で行うことができる。 本発明にしたがい、オスミウムテトロキシドは、生成物中でオスミウム残基の より効率的な制御を生じる触媒量で使用される。オスミウムを用いた反応は、約 0.06〜約0.1mol%の少量で起こり、この場合の反応時間は約21〜約 5時間である。好ましくは反応は、約0.06mol%のオスミウムテトロキシ ドを用いて起こる。酸化は、水性有機溶剤、例えば水とt−ブタノール又は水と アセトン、より好ましくは水とアセトン中で起こるだろう。酸化が水とアセトン 溶剤中で行われるとき、エーテル溶媒、例えばt−ブチルメチルエーテル又はジ −i−プロピルエーテルが更に存在していてもよい。エーテル:アセトン:水溶 媒混合物の容量の好ましい範囲は、エーテル/アセトンで約1.9:16.7: 1〜約11.1:7.4:1、より好ましくは11.1:16.7:1〜16. 7:16.7:1である。 ビスヒドロキシル化は、ジアステレオマー(I)及び(I')の混合物中、す なわちビスヒドロキシル化を行う前にこれらを分離する必要なしに、同様の方法 で行うことができる。 式I(式中、Rは式IIで示される基である)で示されるの(1R)ジアステレ オマーは、光学活性有機酸の塩として、より詳細には式I及びI’で示されるジ アステレオマー化合物の混合物のなかから、前記光学活性有機酸を使用してのジ アステレオ選択的結晶化により分離することができる。1つの有用な光学活性有 機酸は、L−ジメトキシコハク酸である。L−ジメトキシコハク酸を使用した塩 形成は、適切な有機溶媒、例えばケトン又は脂肪族アルコール中で行われる。特 に有利なのはIPAである。本発明にしたがうと、L−酒石酸は別の有用な光学 活性有機酸である。L−酒石酸を使用した塩形成は、溶媒、例えば水性−有機溶 媒混合物中で行われる。ここで有機溶媒は例えば脂肪族アルコールであり、例え ばIPAである。L−酒石酸の使用は、収率び所望のジアステレオマー(I)の エナンチオマー純度を改善する。 式I(式中、Rは水素又は式IIで示される基である)で示される化合物のジヒ ドロキシ部分を、エステル又はアセタール/ケタール形態で保護して、式VIII: (式中、Rは水素又は式IIで示されるであり、R’1及びR''1は前記と同一であ る)で示される生成物を得ることができる。 一般的に、ヒドロキシ基の保護は、エステル化又はアセタール化/ケタール化 条件のいずれかのもとで達成される。例えば、エステル化は、アシル含有基、例 えば酢酸又はプロピオン酸を、有機溶媒、例えば芳香族炭化水素、例えばベンゼ ン又はトルエン中のp−トルエンスルホン酸の存在下で反応させ、水を徐々に分 離、例えば共沸的(azeotropically)に分離することにより、そのままの状態で 起こる。例えば、アセタール化/ケタール化は、アルデヒド又はケトンを、おそ らくはケタール形態で、有機溶媒、例えば脂肪族アルコール、例えばIPA、芳 香族炭化水素、例えばベンゼン又はトルエン、又はエーテル、例えばt−ブチル メチルエーテル又はジ−i−プロピルエーテル中の酸、例えばTFAの存在下、 約50℃〜反応混合物の沸点付近の温度で反応させることにより行われる。エー テル溶媒を使用するとき、酢酸を存在させて、水中で抽出可能な式IVで示される 化合物の塩形態を得てもよい。本発明の好ましいケタール化媒体は、2,2−ジ メトキシプロパン、TFA及びIPAの使用を含んでおり、生成物の改善された 収率及び改善されたエナンチオマー過剰率を与える。反応は約70℃で起こる。 式VIII(式中、Rは式IIで示される基である)で示される生成物を、水素化分 解 により、式VIII(式中Rは水素である)で示される生成物で転換することができ る。一般的に、水素化分解は、適宜加圧した水素を用いて、有機溶媒、例えばア ルコール、例えばメタノール、エタノール又はIPA中の触媒、例えばチャコー ル中のパラジウムの存在下、約0〜約50℃で行われる。式VIII(式中、Rは水 素である)で示される生成物は、同一の水素化分解試薬及び条件を式・(式中、 Rは式IIで示される基である)で示される化合物の塩に使用しても形成される。 式VIII(式中、Rは水素である)で示される生成物を、適切な保護基の選択的 導入により、式IX: (式中、R’1及びR''1は前記と同一であり、G2はアミノ保護基である)で示 される生成物へ転換することができる。 保護基は、後に選択的に除去することができるものの中から選ばれる。特に適 した保護基には以下のものが含まれる。t−ブトキシカルボニル、クロロアセチ ル、メトキシメチル、トリクロロ−2,2,2−エトキシカルボニル、t−ブチ ル、ベンジル、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ジフェニルメチル 、トリアルキルシリル、アリルオキシカルボニル及びベンジルオキシカルボニル 基(ここで、フェニル環はハロ、アルキル又はアルコキシにより適宜置換されて いる)。特に適した保護基の中では、T.W.Greene & P.G.M.Wuis,”Protecting Groups in Organic Synthesis”,Chapter 7,2nd edition,John Wiley & Sons (1991)に記載されるものを挙げることができる。t−ブトキシカルボニル基が特 に興味の対象である。 式IX(式中、G2はt−ブトキシカルボニルである)で示される生成物は、式V III(式中、Rは式IIで示される基である)で示される生成物を水素化分解及び t−ブトキシカルボニル化を同時に行うことにより直接得ることができる。 例えば反応は、触媒、例えばパラジウム及びチャコール、並びにジ−t−ブチ ルジカーボネートの存在下、水素と式VIII(式中、Rは式IIで示される基である )で示される生成物とを、有機溶媒、例えばアルコール、例えばメタノール、エ タ ノール又はIPA中、約0〜約50℃で同時に反応させることにより行われる。 式中、R’1及びR''1が一緒になって適宜置換されたメチレンを形成している場 合、この反応は特に有用である。 代替として、式IX(式中、G2はt−ブトキシカルボニルである)で示される 生成物は、式VIII(式中、Rは式IIで示される基である)で示される生成物から 、第一に式IIで示される基の水素化分解による除去によりRが水素である対応の 化合物を得、第二にその生成物をt−ブトキシカルボニル化することにより、2 段階で得ることができる。水素化分解による除去は前記と同様にして行い、t− ブトキシカルボニル化は、(Boc)2Oを使用してアルカリ条件下、水中で行 われる。 次いで、式IXで示される生成物を酸化して、式X: (式中、R’1、R''1及びG2は前記と同一である)で示される生成物にする。 一般的に酸化は、過ヨウ素酸塩、例えば過ヨウ素酸ナトリウム、ヒポハライト (hypohalite)、例えば次亜塩素酸塩又は次亜臭素酸塩又は臭素酸塩、例えば臭素 酸ナトリウム又は有機三級アミンオキシド、例えばN−メチルモルホリンオキシ ド又はトリエチルアミンオキシドからなる群より選ばれるオキシダントの存在下 、前駆体、例えばRuO2又はRuCl3等から、原位置で適宜生成することがで きる酸化ルテニウム(RuO4)を使用して行われる。反応は、溶媒、例えば水 又は均一又は不均一の水性−有機媒体、例えば水−EtOAc混合物中で起こる 。 酸化は、次亜塩素酸ナトリウム単独を使用して、又はオキシダント、例えば次 亜塩素酸ナトリウム、過酸化水素又はアルキルヒドロペルオキシドの存在下で過 マンガン酸カリウム又はタングステン酸ナトリウムを使用して行うことができる 。 式Xで示される生成物は、式VIII(式中、Rは水素である)で示される化合物 を前記の条件下で酸化し、続いて式XI: (式中、R’1及びR''1は前記と同一である)で示されるラクタムの窒素原子を 前記の保護基により保護することにより、得ることができる。 式X及び式XIで示される生成物は、式XII:(式中、R2はカルボキシ、アルコキシカルボニル、N−アルキルアミノカルボ ニル、ヒドロキシメチル又はアルコキシメチルであり、R’及びR''は、同一又 は異なっていてもよく、水素、アシル又はアロイルであり、又はR’1及びR''1 はそれらが結合する炭素原子と一緒になって適宜置換されたメチレン基を形成す る(炭素原子は、アルキル又はフェニルの中から選ばれる同一又は異なっていて よい1又は2つの基により適宜置換されているか、又は2つのアルキルが一緒に なってシクロアルキルを形成している)、G1は水素又はアミノ基の保護基G2で ある)で示される炭水化物糖の製造に特に有用である。より詳細には、R2はエ チルアミノカルボニル基又はヒドロキシメチル基であり、R’及びR''は一緒に なってイソプロピリデンを形成する。 式Xで示される生成物は、導入されなければならない置換基R2の性質に適切 な条件下、式XIIで示される生成物へ転換することができる。 式XII(式中、R2はカルボキシである)で示される基は、無機塩基、例えば NaOHと、式Xで示される生成物とを反応させ、続いて保護基G2を水素によ り置換し、適宜R’1及びR''1を水素により置換することにより製造することが できる。 式XII(式中、R2はカルボキシである)で示される生成物は、式Xで示され る生成物の保護基G2を水素原子で置換し、続いて無機塩基、例えば炭酸ナトリ ウムを作用させ、適宜R’1及びR''1を水素により置換することにより得るこ とができる。 式XII(式中、R2はアルコキシカルボニルである)で示される生成物は、ア ルカリ金属アルコキシドと式Xで示される生成物とを反応させ、続いて保護基G2 を水素原子で置換し、適宜R’1及びR''1を水素により置換することにより得 ることができる。 式XII(式中、R2はアルコキシカルボニルである)で示される生成物は、式 Xで示される生成物の保護基G2を水素で置換し、続いてアルカリ金属アルコキ シドを作用させ、適宜R’1及びR''1を水素により置換することにより得ること ができる。 式XII(式中、R2はN−アルキルアミノカルボニルである)で示される生成 物は、アルキルアミンと式Xで示される生成物とを反応させ、続いて保護基G2 を水素で置換し、適宜R’1及びR''1を水素により置換することにより得ること ができる。 式XII(式中、R2はN−アルキルアミノカルボニルである)で示される生成 物は、式Xで示される生成物の保護基G2を水素で置換し、続いてアルキルアミ ンを作用させ、適宜R’1及びR''1を水素により置換することにより得ることが できる。 式XII(式中、R2はヒドロキシメチル基である)で示される生成物は、還元 剤、例えばホウ化水素、たとえばホウ化水素ナトリウム又はホウ化水素カリウム と、式Xで示される生成物とを反応させ、続いて保護基G2を水素原子で置換し 、適宜R’1及びR''1を水素により置換することにより得ることができる。 式XII(式中、R2はヒドロキシメチル基である)で示される生成物は、式X で示される生成物の保護基G2を水素原子で置換し、続いて還元剤、例えばホウ 化水素ナトリウム又はホウ化水素カリウムを作用させ、適宜R’1及びR''1を水 素により置換することにより得ることができる。 更に本発明は、式Iで示される化合物の(1R)ジアステレオマーを分離する ために記載されるものと反対の配置を有する光学活性有機酸を使用しての、式I ’で示される化合物の(1S)ジアステレオマーの分離を含んでいる。本発明に したがい、式I’で示される化合物の(1S)ジアステレオマーを、式IV、VI、 VII、VIII、IX及びXで示される化合物の(1R)ジアステレオマー化合物の製 造に使用する方法を使用して、式IV、VI、VII、VIII、IX及びXで示される化合 物の対応の(1S)ジアステレオマーへ転換することができる。 出発物質及び中間体は、既知の方法の適用又は適合することにより製造される 。 式XIII及び式XIII': (式中、**'、R1及びArは前記と同一である)で示される化合物は、以下の 式: (式中、**'、R1及びArは前記と同一である) で示されるホモキラルアミンの塩形態の混合物間で、好ましくは鉱酸、例えばH Cl、ホルムアミド及びシクロペンタジエンを用いて、S.D.Larsen & P.A.Gri eco,J.Amer.Chem.Soc.,Vol.107,1768-1769(1985)に記載される条件下で ディールス−アルダー反応をおこなうことにより得ることができる。この方法は 2つのジアステレオ異性体の混合物を導く。このジアステレオマーは、C.K.-F. Chiu,Syn.Comm.,26(3),577(1996)に記載されるようにして、L−ジベンゾイ ル酒石酸を使用して分離されるだろう。 式III及び式III'(式中、Rは水素である)で示される化合物は、2工程手順 を使用して、式XIII及び式XIII’で示される化合物を水素化分解することによ り得ることができる。第一に、化合物を、2,2,2−トリクロロエトキシカル ボニル(Troc)クロライド又はβ−(トリメチルシリル)エトキシカルボニ ル(Teoc)クロライドを用いて処理し、対応のTroc又はTeoc誘導体 (カルバメート)を得、次いでアルコール溶媒、例えばエタノール中、Znを用 いて加熱しながら処理、又は有機溶媒、例えば酢酸中、Znを用いて室温下で処 理する。 本発明は、本発明にしたがう化合物の製造を説明する以下に示す実施例により 更に説明されるが、これにより限定されるものではない。 核磁気共鳴(NMR)スペクトルにおいて、化学シフトはテトラメチルシラン に対してppmで表す。略語は以下に示す意味を有する。s=一重項、d=二重 項、t=三重項、m=多重項、dd=二重項の二重項、ddd=二重項の二重項 の二重項、dt=三重項の二重項、b=ブロード。 実施例1a 2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5 −エンの製造 2Lの反応器に、255gの(S)−(−)−α−メチルベンジルアミン及び 300mlの水を加えた。懸濁液を−5℃に冷却し、100mlの水中の濃縮H Cl溶液の185mlを、撹拌しながら1時間かけて添加した。混合物のpHを 5〜6.5に調節した。撹拌を30分間続け、37%ホルムアルデヒド溶液の2 42mlを加えた。更に40分間撹拌後、シクロペンタジエン(〜270ml) を、反応混合物中へ直接蒸留した。得られた混合物を−5℃で一晩激しく撹拌し た。反応の完了を、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により決定した。 得られた2層を分離し、水性層を250mlのヘプタンで洗浄し、50%NaO H溶液168ml及び砕いた氷を用いてpH11に塩基性化した。有機混合物を 、2×500ml及び2×300mlのEtOAcで抽出した。組合せた抽出物 を200mlの冷水、200mlの飽和NaCl溶液で洗浄し、無水Na2SO4 で乾燥し、ろ過した。透明なろ液を回転蒸発により濃縮し、2−(a−S−メチ ルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5−エンを黄色の油と して408.4g(97.4%)得た。所望の異性体に有利に、ジアステレオマ ー比は77.1:22.9であった。 実施例1b 2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5 −エンの製造 冷却装置及び撹拌システムを備える250mlの3首フラスコに、アルゴン雰 囲気下、溶液を導入した。前記溶液は、水60ml中の20gの(S)−(−) −α−メチルベンジルアミン(165mmol)(36%HCl(W/V)17 mlの添加によりpHを6.1に調節)から構成されていた。5℃に冷却後、3 7%(W/V)水性ホルムアミド溶液20mlを添加した。溶液を5℃で5分間 撹拌し、次いで21.8gのシクロペンタジエン(330mmol)を添加した 。混合物を−5〜0℃で16時間撹拌した。水性層をデカンテーションにより分 離し、50mlのペンタンで洗浄した。濃縮NaOHの添加によりpH8に中和 した。それぞれ70mlのEtOAcを用いて2回の抽出を行った。濃縮NaO Hの添加により水性層のpHを11に調節し、次いでそれぞれ70mlのEtO Acを用いて2回抽出した。有機層を組合せ、50mlの水で2回洗浄し、Na2 SO4で乾燥した。ろ過及び減圧下での乾燥するまでの濃縮後、33.1gの2 −(a−S−メチルーベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−5 −エンを僅かに黄色の油として得た。 実施例2 5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシク ロ−[2.2.1]ヘプタンの製造 冷却装置及び撹拌システムを備える500ml3首フラスコに、220mlの ブタノール中の20gの2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[ 2.2.1]ヘプタ−5−エン(75.34mmol)、32mlの水中の12g のN−メチルモルホリンオキシドの溶液を約25℃で添加し、次いでt−ブタノ ール中のオスミウムテトロキシド(OsO4)の25%(W/V)溶液6.3m lをゆっくりと添加した。撹拌を約20℃で2時間、65℃で3時間行った。減 圧下でのt−ブタノールの蒸発後、残渣を350mlのIPA中に再懸濁した。 減圧下で乾燥するまで蒸発した後、24gのシス−5,6−ジヒドロキシ−2− (a −S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンが油形態で 生成した。シクロヘキサン中での結晶化により、14gの5R,6S−ジヒドロ キシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプ タンが、95%をこえる異性体の純度で生成した。 ジュウテロクロロホルム中で測定したNMRスペクトルは以下に示す化学シフ ト(d)を示した。 実施例3a 5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシク ロ−[2.2.1]ヘプタンの製造 1mlのIPA中の5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチルベンジ ル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン及び5S,6R−ジヒドロキシ −2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン からなる混合物0.05mmol(モル基準で78/22)及びL−ジメトキシ −コハク酸0.05mmolからなる溶液を、始めは25℃〜5℃の範囲の温度 下で24時間撹拌した。得られた結晶をろ過により分離し、乾燥した。97%のエ ナンチオマー過剰率を有する5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチル ベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの110mgを得た。 5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシ クロ[2.2.1]ヘプタン及び5S,6R−ジヒドロキシ−2−(a−S−メ チルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの混合物(モル基準 で78/22)は以下に示す方法で得ることができるだろう。 冷却材及び撹拌システムを備える250mlの3首フラスコに、70mlのt −ブタノール中の7gの2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[ 2.2.1]ヘプタ−5−エン(35mmol)を約25℃で添加し、11ml の水中の4.12gのN−メチルモルホリンオキシド、次いでt−ブタノール中 のオスミウムテトロキシド(OsO4)の2.5%(p/v)溶液360mlを ゆっ くりと添加した。混合物を約20℃で1時間、65℃で4時間撹拌した。減圧下 でのt−ブタノールの蒸発後、残渣を150mlのIPA中に入れた。減圧下で 乾燥するまで濃縮した後、8.27gの生成物、プロトンのNMRスペクトルで は5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシ クロ[2.2.1]ヘプタンと5S,6R−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチ ルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの混合物(モル基準で 78/22)から構成されるものを得た。 実施例3b 5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシク ロ[2.2.1]ヘプタンの製造 マグネチックスターラ及び冷却材を備える50mlの1首丸底フラスコに、1 gの2−(α−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ −5−エン(5mmol)、2.5mlのジ−i−プロピルエーテル、2.5m lのアセトン、0.9mlの58wt%水性N−メチルモルホリンオキシド及び 0.15mlの水を入れた。混合物を5分間撹拌し、9mgの固体K2OsO4・ 2H2Oを一度に入れ、撹拌を室温下で25分間続けた。混合物を還流しながら 7.5時間撹拌した。その後のHPLCは酸化反応の95%の完了を示した。室 温まで冷却した褐色の混合物に、4mlの水中の亜硫酸ナトリウムの溶液630 mgを添加した。2相性混合物を室温下で1時間撹拌した。有機溶媒のほとんど を減圧下で蒸発させ、5mlのジ−i−プロピルエーテルを添加した。水性相を デカンテーションにより分離し、2×5mlジ−i−プロピルエーテルで再抽出 した。組合せた有機層を水性飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、Na2SO4で乾 燥し、ろ過し、減圧下で蒸発させ、1.04g(89%、補正した収率=86%) の5R,6S−ジヒドロキシ−2−(α−S−メチルベンジル)−2−アザビシ クロ[2.2.1]ヘプタンを静置すると沈澱する油として得た。CDCl3中 の1H NMRによると、生成物の純度は95mol%であった(4mol%のN −メチルモルホリン+0.6mol%の出発物質を含んでいた)。 実施例3c 5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシク ロ[2.2.1]ヘプタン L−酒石酸塩の製造 2Lの反応器に、210gの2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシ クロ[2.2.1]ヘプタ−5−エン、1200mlの2−メチル−2−プロパ ン及び182mlの4−メチルモルホリンN−オキシドを入れた。この混合物に 、t−ブタノール中のオスミウムテトロキシドの2.5%溶液の8mlを滴下し た。窒素雰囲気下、混合物を激しく撹拌しながら62℃で22時間加熱した。反応 混合物を60℃で回転蒸発させることにより濃縮した。300mlのIPAを入 れ、溶液を60℃で再び濃縮し、246gの5R,6S−ジヒドロキシ−2−( a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンを暗褐色 のシロップとして得た。粗生成物を40℃の1.8Lの75%IPA中に懸濁し た。懸濁液に、158.2gのL−酒石酸を激しく撹拌しながら添加した。撹拌 を40℃で2.5時間続けた。混合物を30℃に冷却し、ろ過し、500mlの 75%IPA及び200mlのIPAで洗浄し、減圧下、70℃で16時間乾燥し 、269.5gの所望のL−酒石酸塩をクリーム色の固体として得た(融点14 3〜145℃、ジアステレオマー比=94.2:5.8)。 実施例4a 5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2 −アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの製造 冷却装置及び撹拌システムを備える500mlの3首フラスコに、130ml のトルエン中の18.4gの5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S−メチル ベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン(76mmol)、31. 7gの2,2−ジメトキシプロパン(304mmol)、次いで13gのTFAを ゆっくりと添加した(114mmol)。混合物を65℃で4時間10分加熱した。 30℃に冷却し、回転蒸発器中で濃縮し、トルエン、過剰量の2,2−ジメ トキシプロパン及び部分的にTFAを除去した後、反応混合物をジクロロメタン 中に入れ、次いで2N NaOH100mlの添加により中和した。デカンテー ション後、有機層をNa2SO4で乾燥し、ろ過し、脱色用チャコール(30g) を用いてジクロロメタンの沸点下で30分間処理し、クラセル(登録商標) 6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザ ビシクロ[2.2.1]ヘプタンを得た。構造をジュウテリオクロロホルム中で 測定したプロトンNMRスペクトルにより確認した。化学シフト(d)は以下に 示す通りである。 実施例4b 5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2 −アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの製造 熱電対、オーバーヘッドスターラ及びコンデンサーを備える2Lの4首ジャケ ット付円筒形反応器に、223gの5R,6S−ジヒドロキシ−2−(a−S− メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン L−酒石酸塩、 続いて1200mlのIPAを入れた。撹拌を開始し、フラスコに286mlの 2,2−ジメトキシプロパン及び44.6mlのTFAを入れた。懸濁液を、全 ての固体が溶解するまで72℃に加熱した。5時間後、反応物を65℃に冷却し 、内容物を3Lの丸底フラスコに移した。約1100mlの溶媒を48℃、12 4ミリバールの減圧下で除去した。もとの2L、4首ジャケット付き円筒形反応 器に、1.2Lの2M NaOHを25℃で撹拌しながら添加した。NaOH溶 液に、前記の蒸留に由来する残渣(〜700mlの溶液)を入れた。黄褐色の溶 液を25℃へ40分間かけて冷却した。28℃において、溶液から固体が沈澱を はじめた。懸濁液を数時間撹拌した後、ワットマン(Whatman)#1ろ紙を用い た11cmブフナー漏斗でろ過した。フィルターケークを300mlの水で洗浄 し た。オフホワイト色の固体を水中で13時間スラリー化し、再ろ過し、水で洗浄 し、風乾した。固体を50℃で減圧乾燥し、112gの5R,6S−イソプロピ リデンジオキシ−2−(a−S−メチルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2 .1]ヘプタンを白色固体として得た。HPLCによると、ジアステレオマー的 に純粋であった。 実施例5a 5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシカルボニル)−2 −アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの製造 撹拌システムを備えた250mlの3首フラスコ中で、チャコール上の5%パ ラジウム0.5g、5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(a−S−メ チルベンジル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの5g、ジ−t−ブ チルジカーボネートの3.9g及び36mlのメタノールを組合せた。装置をア ルゴンでパージし、次いで水素でパージし、25℃下水素雰囲気下に置いた。1 5分毎に水素をパージし、形成する二酸化炭素を除去することにより、反応を5 時間続けた。 クラセル(登録商標)によるろ過及び減圧下における乾燥するまでの濃縮の後 、4.84gの5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシカ ルボニル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンを得た。構造はNMRス ペクトルにより確認し、ジメチルスルホキシド−d6中で測定したところ、以下 に示す化学シフト(d)を示した。実施例5b 5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシカルボニル)−2 −アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの製造 熱電対、オーバーヘッドスターラ、浮き袋(gas bladder)並びに窒素及び水 素の入口用セプタムを備える2Lの4首ジャケット付円筒形反応器に、140g の5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(a−S−メチルベンジル)− 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、13.4gの10gPd/C及び9 00mlのメタノールを連続的に入れた。撹拌した懸濁液に、窒素を10分間散 布し、続いて水素を25℃で10分間散布した。この手順を30分毎に繰り返し 、反応をTLC(シリカゲル、EtOAc、ヨウ素で可視化)によりモニターし た。TLCによると、3時間後に反応は50%完了した。この部分的に還元され た溶液に、56gのジ−t−ブチルジカルボキシレートを10分間かけて入れ、 次いで前記と同様にして窒素/水素の散布をした。30分毎に、追加のジ−t− ブチルジカルボキシレート10gを添加し、次いでジ−t−ブチルジカルボキシ レートの112gの全量を添加(56g+10g)するまで、窒素/水素の散布 をした。反応混合物を25℃で一晩撹拌した。Pd/C懸濁液を#54ろ紙を用 いた9cmブフナー漏斗及び5gのセライト(Celite)のベッドでろ過し、反応 器及びフィルターケークを100mlのメタノールで洗浄した。ろ液を2Lの1 首丸底フラスコに置き、750mlの溶媒を40℃、105ミリバールで除去し た(〜250mlの明るい黄色の溶液が残った)元の反応容器に、1Lの水を入れ 、10℃に冷却した。前記の蒸留に由来する黄色の残渣を、実質的に一度に冷水 中に添加した。溶液から、5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t− ブトキシカルボニル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンを白色固体と して沈澱させた。スラリーを6℃で30分間撹拌し、ろ過し、水で洗浄した。得 られた白色固体は60℃で減圧乾燥し、129.6gの白色固体を得た。キラル HPLCによると鏡像異性的に純粋であった。 実施例6a 5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシカルボニル)−2 −アザビシクロ−[2.2.1]ヘプタン−3−オンの製造 30mlの管に、270mgの5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2− (t−ブトキシカルボニル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン(1m mol)及び40mgのRuO2・H2O(0.3当量)を導入した。10mlの EtOAc及び720mgの水(40当量)を添加した。次いで、2.14gの 過ヨウ素酸ナトリウム(10当量)を添加し、管を密閉した。撹拌を50℃で1 6時間続けた。反応混合物をクラセル(登録商標)によりろ過し、それぞれ20 mlのEtOAcを用いて2回の抽出を行った。有機層をNa2SO4で乾燥した 。ろ過及び減圧下での乾燥するまでの濃縮の後、245mgの固体を得た。固体 は68%の5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシカルボ ニル)−2−アザビシクロ−[2.2.1]ヘプタン−3−オン及び32%の出 発物質を含んでいた。得られた生成物の構造はNMRスペクトルにより確認し、 ジメチルスルホキシドd6中で測定したところ、以下に示す化学シフト(d)を 示した。 実施例6b 5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシカルボニル)−2 −アザビシクロ−[2.2.1]ヘプタン−3−オンの製造 熱電対、オーバーヘッドスターラ及びコンデンサーを備える2Lの4首ジャケ ット付円筒形反応器に、120gの5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−( t−ブトキシカルボニル)−2−アザビシクロ−[2.2.1]ヘプタン、0. 3gのRuO2、201.2gの臭素酸ナトリウム、960mlのEtOAc及 び1000mlの水を撹拌しながら連続的に入れた。反応混合物を45℃に加熱 し、同一温度で15時間撹拌した。撹拌を中断し、水性層を廃棄した。飽和Na Cl (500ml)を反応容器に添加し、懸濁液を10分間撹拌した。撹拌を再び中 断し、層を分離し、水性層を除去した。33%のマレイン酸二ナトリウム塩溶液 (500ml)を反応容器に入れ、懸濁液を5分間撹拌し、層を再び分離した。 有機層をセライトベッドによりろ過し、触媒を除去し、溶媒を減圧下で除去した 。得られた固体を真空オーブン中で乾燥し、白色固体として117gの5R,6 S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシカルボニル)−2−アザビ シクロ−[2.2.1]ヘプタン−3−オンを5%の出発物質と共に得た。この 物質の115gのサンプルを350mlのヘプタンに85℃で溶解し、約3時間 かけて25℃に冷却し、5℃に冷却し、ろ過し、減圧下、60℃で乾燥した。9 2g(74%)の5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t−ブトキシ カルボニル)−2−アザビシクロ−[2.2.1]ヘプタン−3−オンを白色結 晶質固体として得た。 実施例7a 2R,3S−イソプロピリデンジオキシ−4R−アミノ−1S−エチルアミノカ ルボニル−シクロペンタンベンゾエートの製造 ベルグホッフ(Berghoff)管中に、568mgの5R,6S−イソプロピリデ ンジオキシ−2−(t−ブトキシカルボニル)−2−アザビシクロ−[2.2. 1]ヘプタン−3−オン及び10mlのエチルアミンの70%(重量基準)水溶 液を置いた。混合物を撹拌しながら60℃で約4時間加熱した。冷却後、過剰量 のエチルアミン及び水を減圧下で除去した。減圧下での乾燥後、2R,3S−イ ソプロピリデンジオキシ−4−R−t−ブトキシ−カルボニルアミノ−1−S− エチルアミノカルボニル−シクロペンタンの650mgを98%の収率で得た。 構造を、プロトンのNMRスペクトルにより確認した。旋光性は[a]D 20=1 5.0(c=1、メタノール)であった。 1.6mlの無水ジクロロメタン中の200mgの2R,3S−イソプロピリ デンジオキシ−4R−t−ブトキシカルボニルアミノ−1−S−エチルアミノカ ルボニルシクロペンタンの溶液へ、275mlのTFAを添加した。混合物をい 約−5℃で一晩撹拌した。反応混合物を4mlの2.5N水性炭酸ナトリウム中 へ注いだ。有機層を25℃よりも低い温度下かつ減圧下で濃縮した。125mg の生成物を得、0.5mlのテトラヒドロフラン中に溶解した。この溶液に、7 0mgの安息香酸を添加した。得られた溶液を約0℃に冷却した後、得られた結 晶をろ過により分離し、ペンタン中で洗浄した。138mgの2R,3S−イソ プロピリデンジオキシ−4R−アミノ−1S−エチルアミノカルボニル−シクロ ペンタンベンゾエートを得た。 実施例7b 2R,3S−イソプロピリデンジオキシ−4R−アミノ−1S−エチルアミノカ ルボニル−シクロペンタントリフルオロアセテートの製造 マグネチックスターラを備える25mlのオートクレーブ内に、10mlの無 水トルエン中の1.47gの5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−(t −ブトキシカルボニル)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オン 、続いて約0.7mlのエチルアミンを導入した。オートクレーブを閉め、90 〜100℃で21時間加熱した。冷却後、トルエンを蒸発させ、10mlのジク ロロメタン及び10mlの水を用いて溶解を行った。デカンテーション後、有機 層を10mlの水で洗浄した。組合せた水性層を10mlのジクロロメタン中で 洗浄した。組み合わせた有機層を10mlの飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、 Na2SO4で乾燥した。ろ過及び乾燥するまでの減圧下での濃縮の後、95%の 2R,3S−イソプロピリデン−ジオキシ−4R−t−ブトキシカルボニルアミ ノ−1−S−エチルアミノカルボニルシクロペンタンの1.58gの生成物を得 た。構造をNMRスペクトルにより確認し、ジメチルスルホキシド−d6中で測 定したNMRスペクトルは以下に示す化学シフトを示した。 25mlのフラスコ内に、1.22gの2R,3S−イソプロピリデンジオキ シ−4R−t−ブトキシ−カルボニルアミノ−1S−エチルアミノカルボニルシ クロペンタン及び10mlのジクロロメタンを導入した。約25℃で、0.85 gのTFAを撹拌しながら添加した。6時間の撹拌及び乾燥するまでの濃縮の後 、1.16gの2R,3S−イソプロピリデンジオキシ−4R−アミノ−1S− エチルアミノカルボニルシクロペンタントリフルオロアセテートを得た。構造を NMRスペクトルにより確認し、ジメチルスルホキシド−d6中で測定したNM Rスペクトルは以下に示す化学シフトを示した。 実施例7c 2R,3S−イソプロピリデンジオキシ−4R−アミノ−1S−エチルアミノ カルボニルシクロペンタンの製造 0℃に冷却した、1mlのジクロロメタン中の5R,6S−イソプロピリデン ジオキシ−2−(t−ブトキシカルボニル)−2−アザビシクロ[2.2.1] ヘプタン−3−オンの167mgの溶液に、90μLのTFAを添加した。温度 を23℃に40分間かけて上昇させ、次いでこの温度下で22時間撹拌した。更 に90μLのTFAを添加し、23℃で更に1時間撹拌した。減圧下での蒸発後 、123mgの5R,6S−イソプロピリデンジオキシ−2−アザビシクロ[2 .2.1]ヘプタン−3−オンを得た。HPLCにより測定した純度は約92% であった。構造を、プロトンのNMRスペクトルにより確認した。 エチルアミンの70%水溶液(重量基準)100ml中の5R,6S−イソプ ロピリデンジオキシ−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−3−オンの1 0gの溶液を、標準圧力下110℃で20時間加熱した。冷却後、過剰量のエチ ルアミンを減圧下で除去し、ジクロロメタンで洗浄し未反応の出発物質を除去し た。10.54gの2R,3S−イソプロピリデンジオキシ−4R−アミノ−1 S−エチルアミノカルボニルシクロペンタンを得た。 本発明は、その精神及びその本質から離れることなしに、その他の特定の態様 であることができるだろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT ,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA, CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,F I,GB,GE,GH,HU,IL,IS,JP,KE ,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS, LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,M X,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE ,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT, UA,UG,US,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 レオン パトリック フランス エフ―69169 タッサン ラ デミ ルーヌ シュマン ド ラ ヴェル ニク 9 (72)発明者 ラルゴー デニ フランス エフ―69440 タルイェール ルート デュ バタール(番地なし)レジ ダンス“ル コートー" (72)発明者 パワーズ マシュー アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 19504 バート ウェスト ブランチ ロ ード 178 (72)発明者 デュラン ティエリー フランス エフ―73190 シャール レ オー シュマン ド トリヴィエール 147

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式(I)又は(I'): (式中、*はRのキラリティーを表し、*'はSのキラリティーを表し、Rは水 素又はそれぞれ式(II)又は(II'): (式中、R1はアルキルであり、Arは適宜置換されたアリールである)であ る) で示される2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の製 造方法であって、 式(III)又は(III'): で示されるビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物を、約0.1〜約5mol %のメタルオスメート化合物又は約0.06〜約0.07mol%のオスミウ ムテトロキシド、及びオスミウムテトロキシドを再生することができる酸化剤 の存在下でビスヒドロキシル化する工程からなることを特徴とする方法。 2.Rが以下の式で示される、請求の範囲第1項に記載の方法。 3.R1がメチル又はエチルであり、Arが適宜置換されたフェニルであり、置 換されている場合は1以上のメチル又はメトキシにより置換されている、請求 の範囲第2項に記載の方法。 4.R1がメチルであり、Arがフェニルである、請求の範囲第3項に記載の方 法。 5.ビスヒドロキシル化を、約0.06〜約0.07mol%のオスミウムテト ロキシドを使用して行う、請求の範囲第1項に記載の方法。 6.オスミウムテトロキシドが約0.06mol%存在する、請求の範囲第5項 に記載の方法。 7.ビスヒドロキシル化を、約0.1〜約5mol%のメタルオスメートを使用 して行う、請求の範囲第1項に記載の方法。 8.メタルオスメートが約0.2〜約0.5mol%存在する、請求の範囲第7 項に記載の方法。 9.メタルオスメートがK2OsO4・2H2Oである、請求の範囲第1項に記載 の方法。 10.オスミウムテトロキシドを再生することができる酸化剤がN−メチルモルホ リンオキシドである、請求の範囲第1項に記載の方法。 11.請求の範囲第1項に記載の2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘ プタン化合物の(1R)ジアステレオマーのL−酒石酸塩を製造する方法であ って、 請求の範囲第1項に記載の2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘ プタン化合物の(1R)ジアステレオマー(式中、Rは式: である)を、L−酒石酸で処理する工程からなることを特徴とする方法。 12.R1がメチルであり、Arがフェニルである、請求の範囲第11項に記載の方 法。 13.更に、2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1 S)ジアステレオマーの存在下、実質的に鏡像異性的に精製された状態の2− アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1R)ジアステ レオマーのL−酒石酸塩を製造する工程を含む、請求の範囲第11項に記載の方 法。 14.処理が、水性−有機溶媒混合物中で起こる、請求の範囲第11項に記載の方法 。 15.有機溶媒がイソプロパノールである、請求の範囲第14項に記載の方法。 16.処理が、約30:70〜約15:85の容積比を有する水性−イソプロパノ ール溶媒混合物中で起こる、請求の範囲第14項に記載の方法。 17.容積比が約25:75である、請求の範囲第16項に記載の方法。 18.式: (式中、Rは請求の範囲第11項において定義されるものと同一である)で示さ れる化合物。 19.式: (式中、Rは請求の範囲第1項において定義されるものと同一であり、R3'及 びR3''は水素、アルキル又はフェニルであるか、又はそれらが結合する炭素 原子と一緒になってシクロアルキルを形成する)で示される化合物の製造方法 であって、 式: (式中、R4'及びR4''はアルコキシ、又はそれらが結合する炭素原子と一緒 になってカルボニルを形成する)で示される化合物を、イソプロパノール中、 請求の範囲第1項に記載の2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプ タン化合物の(1R)ジアステレオマー又はその塩を用いて酸により促進され るアセタール化又はケタール化する工程からなることを特徴とする方法。 20.R4'及びR4''がメトキシであり、R3'及びR3''がメチルである、請求の 範囲第19項に記載の方法。 21.酸による促進をトリフルオロ酢酸を使用して行う、請求の範囲第19項に記載 の方法。 22.Rが式: で示される基である、請求の範囲第19項に記載の方法。 23.R1がメチルであり、Arがフェニルである、請求の範囲第22項に記載の方 法。 24.2−アザジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプタン化合物の(1R)ジ アステレオマーがそのL−酒石酸塩形態である、請求の範囲第19項に記載の方 法。 25.式: (式中、R’1及びR''1は独立してアシル又はアロイルであるか、又は一緒に なって適宜置換されたメチレンを形成しており、G1は水素又はアミノ保護基 である)で示されるラクタム化合物の製造方法であって、 式: で示されるO−保護1R−2−アザジヒドロキシビシクロ−[2.2.1]ヘ プタン化合物を、約3当量のオキシダントの存在下、約0.1〜約1mol% のRuO2又はその水和物を用いて酸化し、約95%以上のエナンチオマー過 剰率を有するラクタム化合物を形成する工程からなることを特徴とする方法。 26.RuO2が約0.5mol%存在する、請求の範囲第25項に記載の方法。 27.約99%以上のエナンチオマー過剰率を有するラクタム化合物が形成する、 請求の範囲第25項に記載の方法。
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