JPH0374674B2

JPH0374674B2 -

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Publication number: JPH0374674B2
Application number: JP60070160A
Authority: JP
Priority date: 1984-04-04
Filing date: 1985-04-04
Publication date: 1991-11-27
Also published as: US4739082A; EP0162235A1; AT379812B; DE3567657D1; ATE40133T1; CA1310014C; NO851288L; EP0162235B1; ATA113684A; JPS60231671A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は、アセタールによりモノ−保護された
光学的対掌体的に純粋なジオール、それらの製造
方法およびフエロモンたる（1R−エクソ）−ブレ
ビコミン、（1S−エクソ）−ブレビコミン、（1R−
エンド）−ブレビコミンおよび（1S−エンド）−
ブレビコミンを製造するためのそれらの用途に関
する。

フエロモンは、その作用特異性および環境を汚
染しない点において植物保護において次第に重要
性を増しつつある。なかんずく、マツクイムシ
（Kieferborkenka¨fer）のフエロモン、すなわち
エクソ−ブレビコミン（exo−Brevicomin）お
よびエンド−ブレビコミン（endo−
Brevicomin）が特別な注目を受けている。フエ
ロモン、エクソ−ブレビコミンは、誘引物質とし
て作用するが、エンド−ブレビコミンは、忌避作
用を示す。ブレビコミンは、キラル構造を有す
る。それは光学的対掌体（＝左右対掌体）の出現
を意味する。生理学的に活性な化合物に対して全
く期待されるように、エクソ−ブレビコミンの場
合には、ｌ−対掌体、すなわち、（IR−エクソ）
−ブレビコミンのみが所望の誘引作用を示し、一
方他のものは不活性である。エンド−ブレビコミ
ンについては、対応する検討が行なわれていな
い。

ブレビコミンは、化合物６，７−ジヒドロキシ
−２−ノナノンから誘導され、それから酸の触媒
作用によつて環化の下に得られる。６，７−ジヒ
ドロキシ−２−ノナノンは２個の対掌性中心を有
するので、４種の異なつたブレビコミンが生じう
る。

それは下記のものである。

６，７−ジヒドロキシ−２−ノナニンの環化の
際に、これらのブレビコミンのうちの１種のみを
得るためには、両方のヒドロキシル基のそれぞれ
の空間的配置を決定することが前提となる。その
ためには、保護基を導入することが必要である。
保護された対掌体的にそしてジアステレオマー的
に純粋な、ヒドロキシ基の立体配置を有し、保護
基の脱離により両方の光学的対掌体的に純粋なエ
ンド−ブレビコミンのうちの１つに導かれるジヒ
ドロキシノナノンは、知られていない。エクソ−
ブレビコミンのうちの１種に導かれる保護された
ノナノンは、十分に記載されているが、合成によ
り得ることが困難であり、その場合大抵保護基の
脱離もまた比較的困難である。

エクソ−およびエンド−ブレビコミンの混合物
は、ベルナルデイ−（Bernardi）による立体選択
的でない合成法において得られる（テトラヘドロ
ン・レターズ（Tetrahedron Letters）第22巻
第40号第4021−4024頁（1981年）参照）。

メイヤー（Meyer）によれば（リービツヒス・
アンナーレン・デア・ヘミー（Liebigs Ann.
Chem.）1977年第732−736頁参照）、天然産の酒
石酸から出発して多段階合成によつて生物学的に
不活性な（Ｉ−Ｓ−エキソ）−ブレビコミンが得
られ、エンド−ブレビコミンをもたらす化合物は
記載されていない。

フエリア（Ferrier）によれば（J.Chem.Soc.
Perkin Trans I.1645−1647（1983）参照）、両方
のヒドロキシ基をベンゾイル基によつて保護する
ことによつてジヒドロキシノナノン（＋）エクソ
−ブレビコミンが得られるが、その際保護基の脱
離および環化は、２段階においてアルカリ性およ
び酸性で行なわれなければならない。保護された
ジヒドロキシノナノンは、選択的に保護された炭
水化物誘導体から得られることが困難である。

それに対して、この度本発明者らは、両方のヒ
ドロキシル基の可能な４つのすべての立体配置に
おいて容易に得られるジヒドロキシ基を保護され
たノナノンの化合物群を見出した。この化合物群
において、両方のエンド−ブレビコミンならびに
両方のエクソ−ブレビコミンは、それらの立体配
置において選択的に特徴付けられているので、酸
処理されると保護基の脱離および同時に自然に起
る環化によつて、それぞれ予め特徴付けられた保
護されたジヒドロキシノナノンから、正確に対応
する光学的対掌体的に純粋なブレビコミンが生成
する。

従つて、本発明の対象は、一般式（上式中、Ａ，Ｂ，ＣおよびＤは、任意の組合せ
において水素またはメチル基を意味し、ＭおよびＮは、ケタール型のケトン保護基を意
味し、ｍおよびｎは、０，１または２の数を意味し、
その際ｍおよびｎの合計は、１または２の数でな
ければならない。）で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセター
ルによつてモノ−保護されたジオールである。

一般式で表わされる化合物のうちで好ましい
ものは、ビシクロヘプタン環系がボルナン環系
（Ａ，Ｂ，Ｃ＝メチル、Ｄ＝Ｈ）である化合物で
ある。何となれば、そのような化合物は、慣用さ
れる天然物質（Ｄ−樟脳、Ｌ−ボルネオール）か
ら（Ｒ）−ならびに（Ｓ）−対掌体として比較的容
易に入手されうる。ｎについての好ましい意味
は、数０である。ケタール型のケトン保護基を意
味するＭおよびＮは、あまり大なるものではな
く、それらは、例えば脂肪族または芳香脂肪族炭
化水素を意味し、それらは好ましくは、それぞれ
１ないし５個の炭素原子を有するアルキル基また
は一緒で２ないし７個の炭素原子を有するアルキ
レン基、例えばエチレンまたはプロピレン基を意
味する。

本発明のもう一つの対象は、一般式で表わさ
れる光学的対掌体的に純粋な、アセタールにより
モノ−保護されたジオールの製造方法ならびにそ
れを光学的対掌体的に純粋なブレビコミンの製造
に使用することである。

三環式アセタール保護基は、欧州特許出願第
008335号に記載されており、一般式で表わされ
る出発化合物を製造するためには、まずラセミ体
の２−ヒドロキシブタンニトリルが欧州特許出願
第008335号に記載された光学的対掌体的に純粋
な、アノマーに対して選択的なラクトールまたは
その無水物と反応せしめられ、そして得られたジ
アステレオマーが分離される。

一般式で表わされる化合物の製造は、一般式
で表わされる光学的対掌体的に純粋なジアステ
レオマーを一般式で表わされるグリニヤール化
合物と、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフ
ランのようなグリニヤール反応に適した溶媒の存
在下し、ほぼ−20ないし＋30℃の温度において反
応せしめて一般式で表わされる光学的対掌体的
に純粋なケトンを得ることによつて行なわれる。
次の工程、すなわちケト基のヒドロキシ基への還
元（一般式）の際に、新たな不整中心の生成が
生ずる。還元の条件を選択することによつて、存
在する両方の不整中心における両方の水素原子が
互いにシス−配置で存在するか、またはトランス
−配置で存在するかの重要な選択性が達成され
る。

上記の還元が水素化アルミニウムリチウム、ナ
トリウム−ビス−（２−メトキシエトキシ）−アル
ミニウムヒドリドまたは特に水素化ホウ素亜鉛の
ような錯体水素化物によつて行なわれるならば、
還元後に両方の水素は、互いに好ましくはシス−
配置にあり、保護基の脱離および環化の後にエン
ド−ブレビコミンが生ずる。錯体水素化物による
還元は、エーテル中またはトルエンのような芳香
族炭化水素の中で行なわれる。特に好ましいもの
はジエチルエーテルのような非環状エーテルであ
る。還元は、ほぼ−100ないし＋40℃の温度にお
いて行なわれる。

還元がボラン化合物またはアラン化合物例えば
ジイソブチルアルミニウムヒドリド（ジバル
（Dibal）Ｈ）のような非錯体水素化物によつて
行なわれる場合には、還元後に両方の水素は、好
ましくは互いにトランス−配置にあり、そして保
護基の脱離および環化の後にエクソ−ブレビコミ
ンが生ずる。非錯体水素化物を用いる還元の場合
には、溶剤の選択は、比較的影響が少なく、適当
な溶剤は、トルエン、ヘキサンのような芳香族ま
たは脂肪族炭化水素あるいはテトラヒドロフラン
またはジエチルエーテルのような環状または非環
状エーテルである。還元は−100ないし＋40℃の
温度において行なわれる。

両方の形態の還元において、場合によつては、
副生成物として生成するジアステレオマーを分離
してもよい。この際、特に有利なことは、光学的
対掌体的に純粋な三環式アセタール保護基に帰す
ることのできるすぐれた分離性である。分離は、
好ましくはクロマトグラフイーによつて行なわれ
るが、結晶性化合物の場合には結晶化による分離
も可能である。

全部の保護基の脱離は、アセタール脱離に適し
た酸、例えば塩酸、トルエンスルホン酸、硫酸ま
たは強酸性のイオン交換体の触媒量の添加によつ
て１工程において行なわれ、その際直ちに自然発
生的な環化が起る。保護基の脱離は、好ましくは
メルカプト酸の存在下に行なわれ、この酸は好ま
しくはアセタール保護基と反応する。それによつ
て副生成物として生成したチオアセタールのアル
カリ性水性相中への抽出によつて、ブレビコミン
の簡単な精製が可能になる。このチオアセタール
から保護基として用いられた三環式の環系が容易
に回収され、その間にメタノールと反応して対応
するメチルアセタールが得られ、このものはラセ
ミ体２−ヒドロキシブタンニトリルによつて一般
式で表わされる出発化合物が再び得られる。

例１〔2R−（2α（R^*），3aα，4α，7α，7aα）〕−１−
（２−メチル−１，３−ジオキソラン−２−イ
ル）−５−〔（オクタヒドロ−７，８，８−トリ
メチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イ
ル）−オキシ〕−ヘプタン−４−オン（式
（Ｒ）で表わされる化合物）無水エーテル10ml中の〔2R（2α（R^*），3aα，
4α，7α，7aα）−２−〔（オクタヒドロ−７，８，
８，−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン
−２−イル）−オキシ〕−ブタンニトリル（式
（Ｒ）の化合物）0.9ｇを２−（３−クロルプロピ
ル）−２−メチル−１，３−ジオキソラン（式
の化合物、Ｘ＝Cl）の１モルのエーテル性グリニ
ヤール溶液７mlと混合する。それを０℃まで温め
そしてこの温度で３時間攪拌する。石油エーテル
10mlで希釈しそして10％の酢酸20mlに注ぐ。水性
相を石油エーテルで抽出し、一緒にされた有機相
を炭酸水素ナトリウム溶液で洗滌し、乾燥し、蒸
発濃縮しそして残渣をトリエチルアミンを含浸さ
せたシリカゲル（粒径0.04−0.063）50ｇ上でク
ロマトグラフイーにかける。上記の式の化合物
0.93ｇ（論理量の69％）が得られる。無色の油状
物、沸点100℃／0.005mm（空気浴）；〔α〕²⁰ _D＝＋
105.6゜（Ｃ＝1.40（ジクロルメタン中）；1H−NMR
（CDCl₃）：δ＝5.25（dd，1H）4.24（dd，J₁＝9.5
Hz，J₂＝１Hz，1H），4.03（dd；1H），3.92（ｓ；
4H），3.2−2.77（ｍ；1H），2.6−2.4（ｍ；2H），
2.0−1.2（ｍ；3H），1.31（ｓ；3H），0.92（ｔ；
3H），0.98／0.92／0.87（3s，9H）。

一般式で表わされる出発生成物は、次のよう
に製造されうる。

ジクロメタン300ml中ラセミ体２−ヒドロキシ
ブタンニトリル10ｇおよびアセタール保護基19.6
ｇ（0.1モル）の溶液にｐ−トルエンスルホン酸
0.5ｇを添加した後に室温において20時間放置す
る。炭酸水素ナトリウム容液で洗滌し、有機相を
乾燥し、蒸発濃縮しそして残渣をトリエチルアミ
ンを含浸せしめたシリカゲル（粒径0.04−0.063）
660ｇ上でクロマトグラフイーにより分離する
（溶離剤：石油エーテル／エーテル＝15：１）。
〔2R−（2α（R^*），3aα＋4α，7α，7aα）〕−２−
〔（オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，
７−メタンベンゾフラン−２−イル）−オキシ〕−
ブタンニトリル（式（Ｒ）の化合物）11.5ｇが
得られる。

次いで〔2R−（2α（S^*）−3aα，4α，7α，7aα）
〕
−２−〔オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル
−４，７−メタノベンゾフラン−２−イル）−オ
キシ〕−ブタンニトリル（式（Ｓ）の化合物）
８ｇが得られる。溶離剤：石油エーテル／エーテ
ル＝８：１。

式（Ｒ）で表わされる化合物：無色の油状物、沸点80℃／0.005mm（空気浴）；
〔α〕²⁰ _D＝＋201゜（ｃ＝1.66、ジクロメタン中）；
¹H−NMR（CDCl₃）：δ＝5.52（ｄ，Ｊ＝4.4Hz；
1H），4.39（ｔ，Ｊ＝6.5Hz，1H），4.17（ｄ，Ｊ＝
9.3Hz；1H），2.7−3.1（ｍ；1H）2.0−1.1（ｍ；
9H），1.05（ｔ，Ｊ＝7.4Hz；3H），0.96／0.92／
0.87（3s；9H）。

式（Ｓ）で表わされる化合物：無色の結晶、融点56−57℃；〔α〕²⁰ _D＝＋95.3゜
（ｃ＝0.51、ジクロルメタン中）； ¹H−NMR
（CDCl₃）：δ＝5.38（ｄ，Ｊ＝４Hz；1H），4.45
（ｄ，Ｊ＝9.5Hz；1H），4.14（ｔ，Ｊ＝6.5Hz；
1H），3.2−2.7（ｍ；1H），1.9−1.2（ｍ；9H），
1.05（ｔ，Ｊ＝７Hz；3H），1.01／0.93／0.90（3s；
9H）。

例２〔2R−（2α（S^*），3aα，4α，7α，7aα）〕−１−
（２−メチル−１，３−ジオキソラン−２−イ
ル）−５−〔（オクタヒドロ−７，８，８−トリ
メチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イ
ル）−オキシ〕−ヘプタン−４−オン（式
（Ｓ）の化合物）無水エーテル10ml中の、例１に従つて製造され
た式（Ｓ）の化合物１ｇを、２−（３−クロル
プロピル）−２−メチル−１，３−ジオキソラン
（式の化合物、Ｘ＝Cl）の１モルのエーテル性
グリニヤール溶液7.5mlと混合す。それを０℃ま
で温めそしてこの時間で３時間攪拌する。石油エ
ーテル10mlで希釈し、10％酢酸溶液20mlを添加
し、そして更に10分間攪拌する。石油エーテルで
抽出し、一緒にされた有機相を重炭酸ナトリウム
飽和溶液で洗滌し、乾燥し（Na₂SO₄）そして減
圧で蒸発濃縮する。残渣をカラムクロマトグラフ
イーによりトリエチルアミンで含浸したシリカゲ
ル100ｇ上で精製する。上記の式（Ｓ）で表わ
される化合物1.32ｇ（88％）が無色の油状物とし
て得られる。沸点110℃／0.01mm（空気浴）；〔α〕
²⁰ _D＝＋57.0゜（ｃ＝2.81、ジクロルメタン中）； ¹H
−NMR（CDCl₃）：δ＝5.30（dd，1H），4.17（ｄ，
Ｊ＝11Hz；1H），3.92（ｓ；4H），3.81（ｔ，Ｊ＝
6.5Hz，1H），3.2−2.8（ｍ；1H）2.6−2.45（ｍ；
2H），2.0−1.1（ｍ；16H，その中：1.31：ｓ；
3H），0.92（ｔ；3H），0.98／0.90／0.85（3s；3H）例３ジバールＨを用いる還元無水トルエン50ml中の〔2R−（2α（R^*）−3aα，
4α，7α，7aα）〕−１−（２−メチル−１，３−ジ
オキソラン−２−イル）−５−〔（オクタヒドロ−
７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾ
フラン−２−イル）−オキシ〕−ヘプタン−４−オ
ン（式（Ｒ）の化合物）2.9ｇの溶液に、N₂下
に−60℃においてｎ−ヘキサン中のジバール
（Dibal）H1.2モルの溶液10mlを滴加する。−60℃
において45分の後に1NのNaCHを添加し、そし
て反応混合物をエーテルと希釈されたNaOHと
に分配し、有機相を乾燥しそして蒸発濃縮する。
残渣をトリエチルアミンを含浸させたシリカゲル
（粒径0.04−0.063）350ｇ上で溶離剤としての石
油エーテル／エーテル＝１：１を用いて分離す
る。

〔2R−（2α（（R^*，R^*）−3aα，4α，7α，7aα）
〕
−１−（２−メチル−１，３−ジオキソラン−２
−イル）−５−〔（オクタヒドロ−７，８，８−ト
リメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イ
ル）−オキシ〕−ヘプタン−４−オン（式（4R，
5R）の化合物）800mgおよび〔2R−（2α（R^*，
S^*），3aα，4α，7α，7aα）〕−１−（２−メチル−
１，３−ジオキソラン−２−イル）−５−〔（オク
タヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メ
タノベンゾフラン−２−イル）−オキシ〕−ヘプタ
ン−４−オン（式（4S，5R）の化合物）135mg
が純粋な留分として得られる。混合留分を更にカ
ラムクロマトグラフイーによる分離によつて式
（4R，5R）化合物、更に920mgおよび式（4S，
5R）の化合物550mgが純粋に単離されうる。

式（4R，5R）で表わされる化合物：無色の油状物、沸点130℃／0.003mm（空気
浴）；〔α〕²⁰ _D＝＋82.8°（ｃ＝0.58、ジクロメタ
ン）； ¹H−NMR（CDCl₃）：δ＝5.43（ｄ，Ｊ＝
2.9Hz；1H），4.31（ｄ，Ｊ＝9.5Hz；1H）3.93
（ｓ；4H），3.7−3.2（ｍ；2H），3.2−2.7（ｍ；
1H），2.15−1.1（ｍ；18H，その中1.3：ｓ；3H），
1.0（ｔ；3H）0.98／0.92／0.87（3s；9H）。

式（4S，5R）で表わされる化合物：無色の油状物、沸点130℃／0.003mm（空気
浴）；〔α〕²⁰ _D＝＋85.2゜（ｃ＝2.68ｇ、ジクロメタ
ン）； ¹H−NMR（CCl₄）：δ＝5.48（ｄ，Ｊ＝4.5
Hz；1H），4.29（ｄ，Ｊ＝10Hz；1H）3.92（ｓ；
4H），3.9−3.45（ｍ；2H），3.2−2.8（ｍ；1H），
2.1−1.1（ｍ；18H，その中1.28：ｓ；3H），0.9
（ｔ；3H）0.96／0.90／0.85（3s；9H）。

（IR−エクソ）ブレビコミンの製造：上記の式（4R，5R）の化合物330mgおよび
２−メルカプトプロパン酸352mgをジクロルメタ
ン10ml中に溶解し、そして触媒量のｐ−トルエン
スルホン酸の添加後、室温において１時間攪拌す
る。1NのNaOHを用いて抽出し、有機相を乾燥
し、そして塔を介して溶媒を留去する。粗生成物
を球管内で蒸留する。（IR−エクソ）−ブレビコ
ミン94mgが無色の油状物とて得られる。

〔α〕²⁰ _D＝＋83゜（エーテル中）； ¹H−NMR
（CDCl₃）：δ＝4.0（ブライト；1H），3.8（ｔ，6.5
Hz：1H），1.9−1.4（ｍ；8H），1.3（ｓ；3H），
0.88（ｔ，6.8Hz；3H））。

（IS−エンド）−ブレビコミンの製造：ジクロメタン30ml中の上記の式（4S，5R）
の化合物1.7ｇおよび２−メルカプトプロパン酸
1.4ｇを触媒量のｐ−トルエンスルホン酸の添加
後に室温において１時間放置する。次いで1Nの
NaOHを用いて抽出し、有機相を乾燥しそして
塔を介して溶媒を留去する。粗生成物を球形管内
で蒸留する。（IS−エンド）−ブレビコミン（Ｓ−
）540mgが得られる。

無色の油色の油状物；〔α〕²⁰ _D＝−71゜（エーテル中）；1H−NMR
（CDCl₃）：δ＝4.03（ブライト；1H），3.8（ｍ；
1H），1.9−1.4（ｍ；8H），1.3−（ｓ；3H），0.95
（ｔ；3H）。

例４チオビスメタンにおけるボランを用いる還元無水エーテル５ml中の例１に従つて製造された
式（Ｒ）の化合物150mgの溶液を、チオビスメ
タン中の１ミリモルのボランをN₂下で−55℃に
おいて混合する。−55℃において１時間の後にこ
の溶液を1NのNaOH10mlで加水分解し、エーテ
ルで抽出し、有機相を水と一緒に振り、乾燥しそ
して蒸発濃縮する。式（4R，5R）の化合物：
式（4R，5S）の化合物＝３：１の混合物140mg
（93％）が得られ、これから例３において記載さ
れた分離方法に従つて式（4R，5R）の化合物
95mgおよび式（4S，5R）の化合物32mgが得ら
れる。

例５水素化アルミニウムリチウムを用いる還元無水エーテル５ml中の水素化アルミニウムリチ
ウム12mgの懸濁液に、例１に従つて製造された。
無水エーテル20ml中に溶解された式（Ｒ）の化
合物210mgをN₂下に０℃において滴加する。０℃
において15分後に水を用いて加水分解し、生じた
沈殿をヒフロー（Hyflo）を用いて吸引濾過しそ
してエーテルで慎重に洗う。有機相を水で洗滌
し、乾燥しそして蒸発濃縮する。式（4R，
5R）の化合物と式（4S，5R）の化合物との
１：２の割合での混合物205mgが得られ、それか
ら例３において記載された分離方法に従つて式
（4R，5R）の化合物61mgおよび式（4S，5R）の
化合物122mgが得られる。

例６ナトリウム−ビス−（２−メトキシエトキシ）
アルミニウムヒドリドを用いる還元無水エーテル５ml中の、例１に従つて製造され
た式（Ｒ）で表わされる化合物205mgの溶液に、
N₂下に−20℃においてナトリウム−ビス（２−
メトキシエトキシ）−アルミニウムヒドリド（レ
ダル（Redal）1.2ミリモルを注入する。30分後に
1NのNaOHを用いて加水分解し、エーテルで抽
出し、有機相を乾燥しそして蒸発濃縮する。式
（4R，5R）の化合物と式（4S，5R）の化合物
との混合物200mg（97％）が得られ、このものか
ら例３において記載された分離方法に従つて式
（4R，5R）の化合物51mgおよび式（4S，5R）
の化合物129mgが得られる。

例７水素化ホウ素亜鉛を用いる還元無水エーテル７ml中の、例１に従つて製造され
た式（Ｒ）の化合物220mgの溶液を、エーテル
中の0.2モルの水素化ホウ素亜鉛６mlと混合する。
１時間後の1NのNaOHを用いて加水分解し、エ
ーテルで抽出し、有機相を水と一緒に振り、乾燥
しそして蒸発濃縮する。１：19の割合の式
（4R，5R）の化合物と式（4S，5R）の化合物
との混合物215mgが得られ、このものから例３に
おいて記載された分離方法に従つて式（4S，
5R）の化合物190mgが得られる。

例８水素化ホウ素亜鉛による還元無水エーテル５ml中の、例２に従つて製造され
た式（Ｓ）で表わされる化合物150mgの溶液を
エーテル中の0.2モルの水素化ホウ素亜鉛の溶液
４mlとN₂下０℃において混合する。0.5時間後に
1NのNaOHを用いて加水分解し、エーテルで抽
出し、有機相を水と一緒に振り、乾燥しそして蒸
発濃縮する。１：19の割合の式（4S，5S）の
化合物と式（4R，5S）の化合物との混合物145
mgが得られこのものから例３に記載された分離方
法に従つて純粋な式（4R，5S）で表わされる
化合物を得る。

〔2R−（2α（4R^*，5S^*）−3aα，4α，7α，7aα）
〕
−１（２−メチル−１，３−ジオキソラン−２−
イル）−５−〔（オクタヒドロ−７，８，８−トリ
メチル−４，７−メトキシベンゾフラン−２−イ
ル）−オキシ〕−ヘプタン−４−オン：無色の無状物、沸点130℃／0.003mm（空気
浴）； ¹H−NMR（CDCl₃）：δ＝5.33（dd；1H），
4.34（dd，J₁＝１Hz，J₂＝8.5Hz；1H），3.92（ｓ；
1H）3.8−3.2（ｍ；3H），3.2−2.7（ｍ；1H），2.1
−1.0（ｍ；15H），1.32（ｓ；3H），1.0−0.85（3H）
0.97／0.92／0.86（ｓ；9H）。

例９ジバール（Dibal）Ｈを用いる還元無水エーテル７ml中の、例２に従つて製造され
た式（Ｓ）で表わされる化合物185mgの溶液中
に、N₂下に−60℃においてｎ−ヘキサン中の1.2
モルのジバールＨ溶液0.5mlを注入する。20分後
に−60℃において1NのNaOHを添加し、反応混
合物をエーテルと希薄なNaOHとに分配し、有
機相を乾燥しそして蒸発濃縮する。２：１の割合
での式（4S，5S）の化合物と化合物（4R，
5S）の化合物との180mg（97％）が得られる。式
（4S，5S）で表わされる化合物がカラムクロ
マトグラフイーにより純粋な形で得られる。

〔2R−（2α（4S^*，5S^*）−3α，4α，7α，7aα）〕
−１−（２−メチル−１，３−ジオキソラン−２
−イル）−５−〔（オクタヒドロ−７，８，８−ト
リメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イ
ル）−オキシ〕−ヘプタン−４−オール：無色の油状物、沸点130℃／0.003mm（空気
浴）； ¹H−NMR（CDCl₃）：δ＝5.36（dd，1H），
4.36（ｄ，Ｊ＝9.3Hz；1H），3.92（ｓ；4H）3.9−
2.6（ｍ；3H），2.15−1.10（ｍ；16H）1.32（ｓ；
3H），1.0−0.85（3H），0.95／0.91／0.86（ｓ；
9H）。

Claims

【特許請求の範囲】１一般式（上式中、Ａ，Ｂ，ＣおよびＤは、任意の組合せ
において水素またはメチル基を意味し、Ｍおよび
Ｎは、ケタール型のケトン保護基を意味し、ｍおよびｎは０，１または２の数を意味し、そ
の際ｍおよびｎの合計は、１または２の数でなけ
ればならない）で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセター
ルによりモノ−保護されたジオール。２Ａ，ＢおよびＣがそれぞれメチル基を意味
し、Ｄが水素を意味し、Ｍ及びＮがそれぞれ１な
いし５個の炭素原子を有するアルキル基を意味す
るかまたはＭおよびＮは一緒で２ないし７個の炭
素原子を有するアルキレン基を意味しそしてｎが
数０を意味する特許請求の範囲第１項記載の一般
式で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセ
タールによりモノ−保護されたジオール。３一般式（上式中、Ａ，Ｂ，ＣおよびＤは、任意の組合せ
において水素またはメチル基を意味し、Ｍおよび
Ｎは、ケタール型のケトン保護基を意味し、ｍおよびｎは、０，１または２の数を意味し、その際ｍおよびｎの合計は、１または２の数で
なければならない）で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセター
ルによりモノ−保護されたジオールを製造すべ
く、ａ一般式（上式中、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ｍおよびｎは、前
記の意味を有する）で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセタ
ールにより保護された２−ヒドロキシブタンニ
トリルを一般式（上式中、Ｘは塩素または臭素を意味しそして
ＭおよびＮは前記の意味を有する）で表わされるグリニヤール化合物と反応せしめ
て一般式で表わされる光学的対掌体的に純粋なケトンを
得、そしてｂ上記のケトンを一般式で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセタ
ールによりモノ−保護されたジアステレオマー
へと還元し、その際それぞれの反応条件に応じ
て符号＊で示された不整中心にある両方の水素
原子は互いに好ましくはシス−配置またはトラ
ンス−配置に存在しており、そして場合によつ
ては副生成物として生成したジアステレオマー
を好ましくはクロマトグラフイーにより分離す
ることを特徴とする前記光学的対掌体的に純粋
な、アセタールによりモノー保護されたジオー
ルの製造方法。４一般式で表わされるケトンを、水素化ホウ
素亜鉛、水素化アルミニウムリチウムまたはナト
リウム−ビス−（２−メトキシエトキシ）−アルミ
ニウムヒドリドのような錯体水素化物を用いて、
エーテルまたは芳香族炭化水素、好ましくは非環
式エーテルのような適当な溶剤の存在下に還元し
て一般式で表わされる光学的対掌体的に純粋
な、化合物を得、その際符号＊で示された不整中
心にある両方の水素原子は好ましくは互いにシス
−配置に存在しており、そして場合によつては副
生成物として生成したジアステレオマーを好まし
くはクロマトグラフイーにより分離する特許請求
の範囲第３項記載の方法。５一般式で表わされるケトンを、ボランまた
はアラン化合物のような非錯体水素化物を用い
て、芳香族または脂肪族炭化水素またはエーテル
のような適当な溶剤の存在下に還元して一般式
で表わされる光学的対掌体的に純粋な化合物を
得、その際符号＊で示された不整中心にある両方
の水素原子は好ましくはトランス−配置に存在し
ており、そして場合によつては副生成物として生
成したジアステレオマーを好ましくはクロマトグ
ラフイーにより分離する特許請求の範囲第３項記
載の方法。６光学的対掌体的に純粋なフエロモンたる
（1R−エクソ）−ブレビコミン、（1S−エクソ）−
ブレビコミン、（1S−エンド）−ブレビコミンお
よび（1R−エンド）−ブレビコミンを製造するた
めに、一般式（上式中、Ａ，Ｂ，ＣおよびＤは、任意の組合せ
において水素またはメチル基を意味し、Ｍおよび
Ｎは、ケタール型のケトン保護基を意味し、ｍおよびｎは、０，１または２の数を意味し、その際ｍおよびｎの合計は、１または２の数で
なければならない）で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセター
ルによりモノ−保護されたジオールを使用する方
法において、上記一般式で表わされる光学的対
掌体的に純粋なジオールを触媒量の強酸で処理
し、その際同時に三環式アセタール保護基および
ケタール保護基を脱離せしめそして対応する光学
的対掌体的に純粋なブレビコミンへの閉環を生ぜ
しめることを特徴とする方法。７強酸による処理をメルカプト酸の存在下に行
なう特許請求の範囲第６項記載の方法。８光学的対掌体的に純粋なフエロモンたる
（1R−エクソ）−ブレビコミン、（1S−エクソ）−
ブレビコミン、（1S−エンド）−ブレビコミンお
よび（1R−エンド）−ブレビコミンの製造方法に
おいて、ａ一般式（上式中、Ａ，Ｂ，ＣおよびＤは、任意の組合
せにおいて水素またはメチル基を意味し、ＭおよびＮは、ケタール型のケトン保護基を
意味し、ｍおよびｎは、０，１または２の数を意味
し、その際ｍおよびｎの合計は、１または２の数
でなければならない）で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセタ
ールにより保護された２−ヒドロキシブタンニ
トリルを、一般式（上式中、Ｘは塩素または臭素を意味し、そし
てＭおよびＮは前記の意味を有する）で表わされるブリニヤール化合物と反応せしめ
て一般式で表わされる光学的対掌体的に純粋なケトンを
得、ｂ上記ケトンを一般式で表わされる光学的対掌体的に純粋な、アセタ
ールによりモノ−保護されたジアステレオマー
へと還元し、その際それぞれの反応条件に応じ
て符号＊で示された不整中心にある両方の水素
原子は互いに好ましくはシス−配置にまたはト
ランス−配置に存在しており、そして場合によ
つては副生成物として生成したジアステレオマ
ーを好ましくはクロマトグラフイーにより分離
し、そしてｃ生成した一般式で表わされる新規な光学的
対掌体的に純粋な、アセタールによりモノ−保
護されたジオールを触媒量の強酸で処理し、そ
の際同時に三環式アセタール保護基およびケタ
ール保護基を脱離せしめそして対応する特徴付
けられた光学的対掌体的に純粋なフエロモンへ
の閉環を起させることを特徴とする前記光学的
対掌体的に純粋なフエロモンの製造方法。