JP2001356601A - 印画装置のための現像ステーション - Google Patents
印画装置のための現像ステーションInfo
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- G03G15/06—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing
- G03G15/08—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer
- G03G15/09—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer using magnetic brush
- G03G15/0942—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer using magnetic brush with means for preventing toner scattering from the magnetic brush, e.g. magnetic seals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 印画装置において印画粒子ダストを効果的に
シールしてダストによる汚染を防止できる磁気ブラシ式
現像ステーションを提供すること。 【解決手段】 本発明による磁気ブラシ式現像ステーシ
ョン１０は、現像材リザーバを含むハウジング１２と、
ハウジング１２を動かす機構と、現像材をリザーバに補
給する補給機構と、現像材を混合するための複数のオー
ガ２８及びその駆動装置と、現像材を搬送するための現
像ローラ１４と、現像材の量を制御するための計量掻取
り部２２と、現像ローラの両端部で掻取り部と組合わさ
れた磁気シールと、を備え、計量掻取り部２２は、シェ
ルの回転方向で現像領域２０に先行する上流側において
現像ローラ１４の軸線に対して平行に配置され、磁気シ
ールの磁界は、現像材が現像ローラ１４の端部から漏れ
出すことを防止するのに十分であるように構成されてい
ることを特徴とする。
シールしてダストによる汚染を防止できる磁気ブラシ式
現像ステーションを提供すること。 【解決手段】 本発明による磁気ブラシ式現像ステーシ
ョン１０は、現像材リザーバを含むハウジング１２と、
ハウジング１２を動かす機構と、現像材をリザーバに補
給する補給機構と、現像材を混合するための複数のオー
ガ２８及びその駆動装置と、現像材を搬送するための現
像ローラ１４と、現像材の量を制御するための計量掻取
り部２２と、現像ローラの両端部で掻取り部と組合わさ
れた磁気シールと、を備え、計量掻取り部２２は、シェ
ルの回転方向で現像領域２０に先行する上流側において
現像ローラ１４の軸線に対して平行に配置され、磁気シ
ールの磁界は、現像材が現像ローラ１４の端部から漏れ
出すことを防止するのに十分であるように構成されてい
ることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、概して印画装置の
現像ステーションに関するものであり、より詳しくは、
印画装置用磁気ブラシ式現像ステーションに関するもの
である。
現像ステーションに関するものであり、より詳しくは、
印画装置用磁気ブラシ式現像ステーションに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】商品化されている一般的な印画装置（電
子写真式コピー機／複写機、プリンタ、またはその類
い）においては、誘電性を有し一様に荷電された電荷保
持担持体または光導電性担持体（以下、誘電性担持体と
称する）上に潜像パターンが形成される。潜像荷電パタ
ーンに着色印画粒子が吸着され、誘電性担持体上に画像
を現像する。次いで、紙、透明シート、またはその他の
媒体といった受像体が誘電性担持体と接触状態に置か
れ、電界がかけられて、印画粒子によって現像された画
像が誘電性担持体から受像体へと転写される。転写の
後、転写画像を受けた受像体は誘電性担持体から離れる
ように移送され、熱及び圧力によって画像が受像体に定
着（融着）されて恒久的な画像が受像体上に形成され
る。
子写真式コピー機／複写機、プリンタ、またはその類
い）においては、誘電性を有し一様に荷電された電荷保
持担持体または光導電性担持体（以下、誘電性担持体と
称する）上に潜像パターンが形成される。潜像荷電パタ
ーンに着色印画粒子が吸着され、誘電性担持体上に画像
を現像する。次いで、紙、透明シート、またはその他の
媒体といった受像体が誘電性担持体と接触状態に置か
れ、電界がかけられて、印画粒子によって現像された画
像が誘電性担持体から受像体へと転写される。転写の
後、転写画像を受けた受像体は誘電性担持体から離れる
ように移送され、熱及び圧力によって画像が受像体に定
着（融着）されて恒久的な画像が受像体上に形成され
る。
【０００３】電子写真式印画装置において一般的に用い
られている現像ステーションの１つのタイプは、磁気ブ
ラシ式現像ステーションである。磁気ブラシ式現像ステ
ーションは、現像材を供給するリザーバとしてのハウジ
ングを備えている。現像材は、例えば、磁性担持粒子と
比較的微小な着色印画粒子とを備えた２成分材料であ
る。リザーバ内に設けられた翼体ホイール、オーガ、ま
たはリボン式混合機といった機構が担持粒子及び印画粒
子を攪拌し、摩擦電気を生じさせて担持粒子の表面に印
画粒子を付着させる。現像材は移送機構によって回転ス
リーブ（一般的にトーニングローラと称される）内の複
数の磁石で構成される磁界内へと移送される。回転スリ
ーブ及び磁界によって、印画粒子は、誘電性担持体上の
潜像荷電パターンに近接配置され、この潜像を現像す
る。
られている現像ステーションの１つのタイプは、磁気ブ
ラシ式現像ステーションである。磁気ブラシ式現像ステ
ーションは、現像材を供給するリザーバとしてのハウジ
ングを備えている。現像材は、例えば、磁性担持粒子と
比較的微小な着色印画粒子とを備えた２成分材料であ
る。リザーバ内に設けられた翼体ホイール、オーガ、ま
たはリボン式混合機といった機構が担持粒子及び印画粒
子を攪拌し、摩擦電気を生じさせて担持粒子の表面に印
画粒子を付着させる。現像材は移送機構によって回転ス
リーブ（一般的にトーニングローラと称される）内の複
数の磁石で構成される磁界内へと移送される。回転スリ
ーブ及び磁界によって、印画粒子は、誘電性担持体上の
潜像荷電パターンに近接配置され、この潜像を現像す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のような磁気ブラ
シ式現像ステーションは、現在商品化されている印画装
置での使用には適しているが、印画装置全部位におい
て、特に現像ステーションにおいて高速化が求められて
いる。例えば、上記のような磁気ブラシ式現像ステーシ
ョンは、増加する印画粒子ダストの形成及びその制御に
おいて、装置上の問題を有する場合がある。印画粒子ダ
ストには、いくつかの発生源がある。印画粒子ダストが
適切に収容されていないと、画質、信頼性、及び維持費
にマイナスの影響を及ぼす。すなわち、印画装置におけ
る他のサブシステムが印画粒子ダストによって汚染され
ると画質が影響を受ける。例えば、荷電装置が汚染され
ると、不均一な荷電状態によって画像濃度が不均一にな
る。露光装置が汚染されると、潜像が不均一になり、画
像濃度が不均一になる。印画粒子によって駆動装置、シ
ール部材、回路基板が汚染されると、信頼性に影響が出
る可能性がある。ユーザー及び／またはサービス作業者
が現像材の清掃にとられる時間が多いほど、装置の稼動
時間及び生産性が減少する。
シ式現像ステーションは、現在商品化されている印画装
置での使用には適しているが、印画装置全部位におい
て、特に現像ステーションにおいて高速化が求められて
いる。例えば、上記のような磁気ブラシ式現像ステーシ
ョンは、増加する印画粒子ダストの形成及びその制御に
おいて、装置上の問題を有する場合がある。印画粒子ダ
ストには、いくつかの発生源がある。印画粒子ダストが
適切に収容されていないと、画質、信頼性、及び維持費
にマイナスの影響を及ぼす。すなわち、印画装置におけ
る他のサブシステムが印画粒子ダストによって汚染され
ると画質が影響を受ける。例えば、荷電装置が汚染され
ると、不均一な荷電状態によって画像濃度が不均一にな
る。露光装置が汚染されると、潜像が不均一になり、画
像濃度が不均一になる。印画粒子によって駆動装置、シ
ール部材、回路基板が汚染されると、信頼性に影響が出
る可能性がある。ユーザー及び／またはサービス作業者
が現像材の清掃にとられる時間が多いほど、装置の稼動
時間及び生産性が減少する。
【０００５】近代の印画装置では、生成される印画粒子
ダストの削減は、主に担体粒子及び／または印画粒子の
材料変更によって行われてきた。ダスト生成を顕著に低
減する機械的な変更、すなわちコア及びシェル速度の変
更は、現像効率を低下させるという欠点を有している。
従って、ダスト汚染対策は能動手法で行われてきた。現
像ステーションのダスト対策は、能動制御または受動制
御で行うことができる。大部分の場合、これら２つの技
術を組合せることで最良の結果が得られる。能動制御方
式は、一般的に、より複雑であり、他のサブシステムに
影響を及ぼし、印画装置の大部分にわたって構成され、
聴覚可能な音を発し、よりコストがかかる。この種の制
御は、適切に組込まれていないとシステム内の空気の流
れに影響し、さらなる信頼性の問題の原因となったり、
印画粒子の収量低下の原因となったりする。受動制御方
式は、サブシステムレベルで組込まれ、他のサブシステ
ムに影響を及ぼす可能性は低くなる。受動方式の最も簡
単な対策は、現像ハードウェア内または現像ハードウェ
ア周りにおけるシール部材の配置、または空気流の変更
である。
ダストの削減は、主に担体粒子及び／または印画粒子の
材料変更によって行われてきた。ダスト生成を顕著に低
減する機械的な変更、すなわちコア及びシェル速度の変
更は、現像効率を低下させるという欠点を有している。
従って、ダスト汚染対策は能動手法で行われてきた。現
像ステーションのダスト対策は、能動制御または受動制
御で行うことができる。大部分の場合、これら２つの技
術を組合せることで最良の結果が得られる。能動制御方
式は、一般的に、より複雑であり、他のサブシステムに
影響を及ぼし、印画装置の大部分にわたって構成され、
聴覚可能な音を発し、よりコストがかかる。この種の制
御は、適切に組込まれていないとシステム内の空気の流
れに影響し、さらなる信頼性の問題の原因となったり、
印画粒子の収量低下の原因となったりする。受動制御方
式は、サブシステムレベルで組込まれ、他のサブシステ
ムに影響を及ぼす可能性は低くなる。受動方式の最も簡
単な対策は、現像ハードウェア内または現像ハードウェ
ア周りにおけるシール部材の配置、または空気流の変更
である。
【０００６】前述した対策における顕著な問題の１つ
は、現像ロール表面に接触しているシール部材によって
発生する熱である。その他の潜在的な問題は、シール材
の摩耗、シール材の不均一な接触、現像材の汚染などで
ある。現像ロール表面、または現像ロール表面周辺にお
ける熱によって印画粒子の薄片が生成される可能性が高
く、このような薄片は、高品質のカラーデジタル画像シ
ステムにおいては許容できないものである。米国特許第
5,472,875号明細書に記載されているように、現像ステ
ーションの少なくとも一部に延在する磁性シール部材を
組込むことは、現像ハウジング内の材料流れに支障をき
たすという潜在的な問題を含んでいる。
は、現像ロール表面に接触しているシール部材によって
発生する熱である。その他の潜在的な問題は、シール材
の摩耗、シール材の不均一な接触、現像材の汚染などで
ある。現像ロール表面、または現像ロール表面周辺にお
ける熱によって印画粒子の薄片が生成される可能性が高
く、このような薄片は、高品質のカラーデジタル画像シ
ステムにおいては許容できないものである。米国特許第
5,472,875号明細書に記載されているように、現像ステ
ーションの少なくとも一部に延在する磁性シール部材を
組込むことは、現像ハウジング内の材料流れに支障をき
たすという潜在的な問題を含んでいる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】以上のような背景のもと
に、印画装置のために用いられる次のような磁気ブラシ
式現像ステーションを提供する。すなわち、この磁気ブ
ラシ式現像ステーションは、現像材のために設けられ圧
力均衡化シールを有するリザーバを少なくとも部分的に
構成するハウジングと、印画装置に対してハウジングを
動かすためにハウジングに組合わされた機構と、現像材
の少なくとも一成分を、選択的かつ容易に、リザーバに
補給し、及び／または、リザーバから排出する補給機構
と、リザーバ内で現像材を混合するためにハウジング内
に設けられた複数のオーガ及びハウジングを貫通しシー
ル部材を有しオーガを駆動するために設けられた駆動装
置と、リザーバから現像領域へと現像材を搬送するため
にハウジング内に取付けられた現像ローラと、ハウジン
グのリザーバ部から現像領域へと供給される現像材の量
を制御するために現像ローラの長さにわたって延在する
計量掻取り部と、現像ローラの両端部で掻取り部と組合
わされた磁気シールと、を備え、現像ローラは、回転シ
ェル内にコア磁石を備え、該コア磁石及びシェルは相対
回転し、コア磁石は、シェル上の現像材起毛部が現像ロ
ーラの端部にまで延在しないように現像ローラの全長よ
り短い長さに延在し、計量掻取り部は、シェルの回転方
向で現像領域に先行する上流側において現像ローラの長
手軸線に対して平行に配置され、磁気シールの磁界は、
現像材が現像ローラの端部から漏れ出すことを防止する
のに十分であるように構成されていることを特徴とす
る。
に、印画装置のために用いられる次のような磁気ブラシ
式現像ステーションを提供する。すなわち、この磁気ブ
ラシ式現像ステーションは、現像材のために設けられ圧
力均衡化シールを有するリザーバを少なくとも部分的に
構成するハウジングと、印画装置に対してハウジングを
動かすためにハウジングに組合わされた機構と、現像材
の少なくとも一成分を、選択的かつ容易に、リザーバに
補給し、及び／または、リザーバから排出する補給機構
と、リザーバ内で現像材を混合するためにハウジング内
に設けられた複数のオーガ及びハウジングを貫通しシー
ル部材を有しオーガを駆動するために設けられた駆動装
置と、リザーバから現像領域へと現像材を搬送するため
にハウジング内に取付けられた現像ローラと、ハウジン
グのリザーバ部から現像領域へと供給される現像材の量
を制御するために現像ローラの長さにわたって延在する
計量掻取り部と、現像ローラの両端部で掻取り部と組合
わされた磁気シールと、を備え、現像ローラは、回転シ
ェル内にコア磁石を備え、該コア磁石及びシェルは相対
回転し、コア磁石は、シェル上の現像材起毛部が現像ロ
ーラの端部にまで延在しないように現像ローラの全長よ
り短い長さに延在し、計量掻取り部は、シェルの回転方
向で現像領域に先行する上流側において現像ローラの長
手軸線に対して平行に配置され、磁気シールの磁界は、
現像材が現像ローラの端部から漏れ出すことを防止する
のに十分であるように構成されていることを特徴とす
る。
【０００８】本発明が開示するものは、ａ）印画粒子が
現像材貯蔵部から空気流に載って逃げ出すのを防止し、
ｂ）印画粒子が現像ロール表面に蓄積することを防止す
る受動シール技術である。磁性シールは、適切に配置さ
れた磁石と、既に貯蔵部に収容された現像材とを用いて
構成される。
現像材貯蔵部から空気流に載って逃げ出すのを防止し、
ｂ）印画粒子が現像ロール表面に蓄積することを防止す
る受動シール技術である。磁性シールは、適切に配置さ
れた磁石と、既に貯蔵部に収容された現像材とを用いて
構成される。
【０００９】本発明の装置は、印画粒子が現像材貯蔵部
から空気流に載って放散されるのを防止する。現像シェ
ルの回転によって空気流が生起され、その空気流に載っ
て印画粒子が現像材貯蔵部から放散され得る。現像材起
毛部は現像ローラの端部にまでは延在していない。現像
ローラと計量掻取り部との間には隙間が存在するので、
印画粒子は現像ローラによって生起された空気流に載っ
て漏れ出し得る。この磁気シールは、前記隙間付近に配
置され、印画粒子を効果的に貯蔵部内に密封する。
から空気流に載って放散されるのを防止する。現像シェ
ルの回転によって空気流が生起され、その空気流に載っ
て印画粒子が現像材貯蔵部から放散され得る。現像材起
毛部は現像ローラの端部にまでは延在していない。現像
ローラと計量掻取り部との間には隙間が存在するので、
印画粒子は現像ローラによって生起された空気流に載っ
て漏れ出し得る。この磁気シールは、前記隙間付近に配
置され、印画粒子を効果的に貯蔵部内に密封する。
【００１０】本発明の装置は、印画粒子が現像ローラ上
に蓄積するのを防止する。予備現像領域では、印画粒子
ダストを捕集するために繊維シールが用いられる。現像
材起毛部／ＰＣ間の境界部は別のシールを構成する。現
像起毛部の外側では、現像ロールとＰＣとの間の隙間を
通じて印画粒子が現像ローラの端部へと移動し、現像ロ
ール表面上で凝集して蓄積され得る。ローラ外周面に大
量の印画粒子が凝集すると、他の面との干渉が起こり、
熱を発生して薄片が形成され得る。磁気シールはまた、
ローラ外周面を継続的に払拭するように機能する。
に蓄積するのを防止する。予備現像領域では、印画粒子
ダストを捕集するために繊維シールが用いられる。現像
材起毛部／ＰＣ間の境界部は別のシールを構成する。現
像起毛部の外側では、現像ロールとＰＣとの間の隙間を
通じて印画粒子が現像ローラの端部へと移動し、現像ロ
ール表面上で凝集して蓄積され得る。ローラ外周面に大
量の印画粒子が凝集すると、他の面との干渉が起こり、
熱を発生して薄片が形成され得る。磁気シールはまた、
ローラ外周面を継続的に払拭するように機能する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明、及びその目的と利点は、
好ましい実施形態に関する以下の詳細説明から、より明
瞭になる。
好ましい実施形態に関する以下の詳細説明から、より明
瞭になる。
【００１２】以下、添付図面を参照しながら本発明に係
る好ましい実施形態を詳細に説明する。
る好ましい実施形態を詳細に説明する。
【００１３】添付図面を参照すると、まず、図１（及び
分解図である図６）は、本発明による印画装置用磁気ブ
ラシ式現像ステーションを符号１０で示している。磁気
ブラシ式現像ステーション１０は、現像材用リザーバの
一部を構成するハウジング１２を備えている。ハウジン
グ１２のリザーバ内の現像材は、適切な混合用翼体を有
する複数のオーガ２８によって攪拌される。現像ステー
ションのハウジング１２内に設けられた現像ローラ１４
は、（図１では時計回りに回転する）回転シェル１８内
に、（図１では反時計回りに回転する）１４極コア磁石
１６を備えている。もちろん、コア磁石１６及びシェル
は、その他の相対回転関係を有していてもよい。ハウジ
ング１２のリザーバ部分から現像領域２０へと供給され
る現像材の量は、計量掻取り部２２によって制御され
る。計量掻取り部２２は、現像ローラ１４の長手方向軸
線と平行に、シェル回転方向で見て現像領域より先行し
て上流側に位置するように配置されている。計量掻取り
部２２は、現像ローラ１４の長さにわたって延在してい
る（図３参照）。コア磁石１６は現像ローラの全長にわ
たって延在してはおらず、シェル１８上の現像材起毛部
も現像ローラの端部にまで延在してはいない。
分解図である図６）は、本発明による印画装置用磁気ブ
ラシ式現像ステーションを符号１０で示している。磁気
ブラシ式現像ステーション１０は、現像材用リザーバの
一部を構成するハウジング１２を備えている。ハウジン
グ１２のリザーバ内の現像材は、適切な混合用翼体を有
する複数のオーガ２８によって攪拌される。現像ステー
ションのハウジング１２内に設けられた現像ローラ１４
は、（図１では時計回りに回転する）回転シェル１８内
に、（図１では反時計回りに回転する）１４極コア磁石
１６を備えている。もちろん、コア磁石１６及びシェル
は、その他の相対回転関係を有していてもよい。ハウジ
ング１２のリザーバ部分から現像領域２０へと供給され
る現像材の量は、計量掻取り部２２によって制御され
る。計量掻取り部２２は、現像ローラ１４の長手方向軸
線と平行に、シェル回転方向で見て現像領域より先行し
て上流側に位置するように配置されている。計量掻取り
部２２は、現像ローラ１４の長さにわたって延在してい
る（図３参照）。コア磁石１６は現像ローラの全長にわ
たって延在してはおらず、シェル１８上の現像材起毛部
も現像ローラの端部にまで延在してはいない。
【００１４】現像ローラ１４の各端部には、現像材が現
像ローラの端部から漏れ出すのを防止するためのシール
部材として、セラミック製単極永久磁石２４が用いられ
ている（一端を図２及び図３に示す）。磁石２４は、40
0〜1200ガウス、好ましくは900ガウスの磁界強度が得ら
れるように選択される。磁石２４の一端２４ａは、現像
ローラ１４の一端とほぼ面一に置かれ、ローラと（約10
mmの）オーバーラップを有する形で現像ローラの長手軸
線方向に延在している。単極磁石２４は計量掻取り部２
２の取付け部の下側に金属板２６及び締結部材によって
固定され、磁石の活性極は現像ローラの外周面に近接配
置されている。金属板２６は、磁石２４の現像ローラに
対面する領域以外の磁界を遮蔽するように機能する。
像ローラの端部から漏れ出すのを防止するためのシール
部材として、セラミック製単極永久磁石２４が用いられ
ている（一端を図２及び図３に示す）。磁石２４は、40
0〜1200ガウス、好ましくは900ガウスの磁界強度が得ら
れるように選択される。磁石２４の一端２４ａは、現像
ローラ１４の一端とほぼ面一に置かれ、ローラと（約10
mmの）オーバーラップを有する形で現像ローラの長手軸
線方向に延在している。単極磁石２４は計量掻取り部２
２の取付け部の下側に金属板２６及び締結部材によって
固定され、磁石の活性極は現像ローラの外周面に近接配
置されている。金属板２６は、磁石２４の現像ローラに
対面する領域以外の磁界を遮蔽するように機能する。
【００１５】上記に述べた磁石２４によって、現像材が
現像ローラの端部から漏れるのを防止する効果的なシー
ルが提供されることは明らかである。このシールは可動
部材をもたないので摩耗が生じることはなく、熱及び好
ましくない現像材薄片を生成する機械的摩擦が発生する
こともない。加えて、摩耗したり、現像材を汚染したり
するシール材も存在しない。
現像ローラの端部から漏れるのを防止する効果的なシー
ルが提供されることは明らかである。このシールは可動
部材をもたないので摩耗が生じることはなく、熱及び好
ましくない現像材薄片を生成する機械的摩擦が発生する
こともない。加えて、摩耗したり、現像材を汚染したり
するシール材も存在しない。
【００１６】現像ステーションのハウジング１２から現
像材が漏れ出すのをさらに防止する意味で、オーガ２８
の駆動シャフト５０のために保守容易な組立体３０が設
けられている（図４参照）。組立体３０は、（図１に示
すようにオーガ２８に近接した）現像ステーションのハ
ウジング１２を貫通して延在する略円筒状のハウジング
３２を備えている。円筒状ハウジング３２内には、スペ
ーサ３６を間に介して２つのベアリング３４ａ，３４ｂ
が配置されている。現像ステーションのハウジングリザ
ーバ内の現像材を移送するためのオーガ２８に接続され
た回転シャフト５０を取り囲むように、オーガ駆動部材
３８、２つのｅリング４０，４２、さらなるスペーサ４
４、波形ワッシャ、シール部材４８が設けられている。
シール部材４８は、シャフトが駆動部材３８によって回
転駆動されることを許容しながらシャフト５０との接触
を保持できるように緊迫可能な材料からなるリップシー
ル４８ａを備えている。この組立体は摩耗しにくく、熱
も発生しにくい。間にスペーサを介装した２つのベアリ
ングは、シャフト５０の半径方向変位を最小限に抑える
ために用いられている。シャフトは、回転駆動のため、
及び印画粒子配送オーガの一端を受容するヨークとして
機能する。シャフトは硬化処理が施されかつ研削され
て、シール界面における摩耗及び熱の発生を低減するよ
うに形成されている。オーガ２８は、ピン５２を介して
着脱可能な状態でシャフト５０に取付けられている。ピ
ン５２は、シャフトヨークの両側で保持されている。ワ
ッシャ及びｅリングによって組立体３０が完成し、保持
されている。組立体全体はワッシャのエンドプレートに
ねじ込まれ、ｅリングが組立体を完成させて保持する。
組立体全体は、駆動機構を分解し、ねじを取外すことに
より、取外すことができる。
像材が漏れ出すのをさらに防止する意味で、オーガ２８
の駆動シャフト５０のために保守容易な組立体３０が設
けられている（図４参照）。組立体３０は、（図１に示
すようにオーガ２８に近接した）現像ステーションのハ
ウジング１２を貫通して延在する略円筒状のハウジング
３２を備えている。円筒状ハウジング３２内には、スペ
ーサ３６を間に介して２つのベアリング３４ａ，３４ｂ
が配置されている。現像ステーションのハウジングリザ
ーバ内の現像材を移送するためのオーガ２８に接続され
た回転シャフト５０を取り囲むように、オーガ駆動部材
３８、２つのｅリング４０，４２、さらなるスペーサ４
４、波形ワッシャ、シール部材４８が設けられている。
シール部材４８は、シャフトが駆動部材３８によって回
転駆動されることを許容しながらシャフト５０との接触
を保持できるように緊迫可能な材料からなるリップシー
ル４８ａを備えている。この組立体は摩耗しにくく、熱
も発生しにくい。間にスペーサを介装した２つのベアリ
ングは、シャフト５０の半径方向変位を最小限に抑える
ために用いられている。シャフトは、回転駆動のため、
及び印画粒子配送オーガの一端を受容するヨークとして
機能する。シャフトは硬化処理が施されかつ研削され
て、シール界面における摩耗及び熱の発生を低減するよ
うに形成されている。オーガ２８は、ピン５２を介して
着脱可能な状態でシャフト５０に取付けられている。ピ
ン５２は、シャフトヨークの両側で保持されている。ワ
ッシャ及びｅリングによって組立体３０が完成し、保持
されている。組立体全体はワッシャのエンドプレートに
ねじ込まれ、ｅリングが組立体を完成させて保持する。
組立体全体は、駆動機構を分解し、ねじを取外すことに
より、取外すことができる。
【００１７】現像ステーションハウジング１２は、ハウ
ジングの側壁に設けられた穴１２ａ上に配置された薄膜
タイプのシール部材６０を備えている。シール部材６０
は、ハウジング内の圧力均衡化のために設けられてい
る。シール部材の表面は、十分な圧力均衡化効果を奏す
るように選択される。シール部材６０は、ハウジング１
２内部と外部との間に生じた圧力差によって生起される
空気流を、薄膜を通じて通すが、現像材がハウジングか
ら漏れ出すことは阻止する。シール部材の位置は、ハウ
ジング内の現像材が常に薄膜上を移動し、それによって
薄膜シール部材が清浄化され、薄膜シールの作用が維持
されるように決定される。
ジングの側壁に設けられた穴１２ａ上に配置された薄膜
タイプのシール部材６０を備えている。シール部材６０
は、ハウジング内の圧力均衡化のために設けられてい
る。シール部材の表面は、十分な圧力均衡化効果を奏す
るように選択される。シール部材６０は、ハウジング１
２内部と外部との間に生じた圧力差によって生起される
空気流を、薄膜を通じて通すが、現像材がハウジングか
ら漏れ出すことは阻止する。シール部材の位置は、ハウ
ジング内の現像材が常に薄膜上を移動し、それによって
薄膜シール部材が清浄化され、薄膜シールの作用が維持
されるように決定される。
【００１８】印画装置市場が白黒コピーからカラープリ
ンタへと移行するのに伴い、より多くの現像ステーショ
ンをほぼ同じ装置空間内に収容することが必要になって
きていることに留意されたい。そのために、適切な現像
材混合機能を有しかつ可能な限り大きな現像材容量を保
持しながらも、よりコンパクトな現像ステーションが求
められてきた。また、現像材補給及び交換までの時間を
延ばすために、ステーション容量の向上が求められてき
た。現像材の容量が大きければ、粒子材の取出し速度を
上げることができ、その場合でも全体に対する取出し粒
子材のパーセンテージは小さいものとなる。そのような
解決策として、現像ステーションハウジングのリザーバ
“底”面積を増加させ、現像材が好ましく攪拌されるよ
うにオーガを増設する試みがなされてきた。本発明によ
る磁気ブラシ式現像ステーション１０では、４本のオー
ガ２８を用いている（図１参照）が、異なる本数のオー
ガを用いてもよい。外側のオーガは、わずかに装置中心
側に向けて高い位置に配置されている。このような配置
によって、中心間距離を維持してオーガ翼体同士の干渉
を回避しながら、ステーションの幅を減少させることが
できる。リザーバ容量を増大させることによって２つの
主要利点が実現される。すなわち、現像材交換までの時
間が延長され、リザーバ内における混合のために、より
長い現像材の滞留時間が得られる（このことは、粒子材
の帯電及び分散性能を向上させダスト化を抑制する）。
ンタへと移行するのに伴い、より多くの現像ステーショ
ンをほぼ同じ装置空間内に収容することが必要になって
きていることに留意されたい。そのために、適切な現像
材混合機能を有しかつ可能な限り大きな現像材容量を保
持しながらも、よりコンパクトな現像ステーションが求
められてきた。また、現像材補給及び交換までの時間を
延ばすために、ステーション容量の向上が求められてき
た。現像材の容量が大きければ、粒子材の取出し速度を
上げることができ、その場合でも全体に対する取出し粒
子材のパーセンテージは小さいものとなる。そのような
解決策として、現像ステーションハウジングのリザーバ
“底”面積を増加させ、現像材が好ましく攪拌されるよ
うにオーガを増設する試みがなされてきた。本発明によ
る磁気ブラシ式現像ステーション１０では、４本のオー
ガ２８を用いている（図１参照）が、異なる本数のオー
ガを用いてもよい。外側のオーガは、わずかに装置中心
側に向けて高い位置に配置されている。このような配置
によって、中心間距離を維持してオーガ翼体同士の干渉
を回避しながら、ステーションの幅を減少させることが
できる。リザーバ容量を増大させることによって２つの
主要利点が実現される。すなわち、現像材交換までの時
間が延長され、リザーバ内における混合のために、より
長い現像材の滞留時間が得られる（このことは、粒子材
の帯電及び分散性能を向上させダスト化を抑制する）。
【００１９】本発明による磁気ブラシ式現像ステーショ
ン１０は、現像材としてハウジングリザーバに新しい印
画粒子を補給する。多点補給システムは、一点毎の補給
印画粒子量を最小限に抑えながら、トータルでは多くの
粒子材を供給し得る。このため、現像材への印画粒子の
混合が、より迅速に行われ、その結果、摩擦帯電が迅速
に行われる。このことによって、ダスト化が抑制され、
全貯蔵量にわたって印画粒子の均一な集積が実現され
る。
ン１０は、現像材としてハウジングリザーバに新しい印
画粒子を補給する。多点補給システムは、一点毎の補給
印画粒子量を最小限に抑えながら、トータルでは多くの
粒子材を供給し得る。このため、現像材への印画粒子の
混合が、より迅速に行われ、その結果、摩擦帯電が迅速
に行われる。このことによって、ダスト化が抑制され、
全貯蔵量にわたって印画粒子の均一な集積が実現され
る。
【００２０】図７に符号７０で示す多点補給システム
は、一連のポート７４を含むチューブ７２を備えてい
る。複数のポート７４は、特定の角度位置に配置される
と共にそれぞれ異なるサイズに形成され、こうして全て
の補給ポートを同量の粒子材が通るようになっている。
現像ステーション１０のハウジング１２に供給される印
画粒子は、複数のポート７４を通じて少しずつ排出され
る。過剰な粒子材は、補給傾斜ポート（図９参照）を通
じて排出される。複数のポート７４を通じて粒子材を小
分けにして拡散させることによって、既に存在する粒子
材との混合が、従来の現像ステーションの場合より迅速
に行われる。粒子材の迅速な混合によって、粒子材の迅
速な帯電も可能になり、それがダスト化の抑制につなが
る。鋼及びナイロン繊維を捩って形成されチューブ７２
内に配置されたオーガブラシによって、粒子材がチュー
ブに沿って搬送される。オーガブラシは、ギア対を介し
て独立モータ８０によって駆動され、チューブ内におい
て粒子材を適切な速度で移動させる。
は、一連のポート７４を含むチューブ７２を備えてい
る。複数のポート７４は、特定の角度位置に配置される
と共にそれぞれ異なるサイズに形成され、こうして全て
の補給ポートを同量の粒子材が通るようになっている。
現像ステーション１０のハウジング１２に供給される印
画粒子は、複数のポート７４を通じて少しずつ排出され
る。過剰な粒子材は、補給傾斜ポート（図９参照）を通
じて排出される。複数のポート７４を通じて粒子材を小
分けにして拡散させることによって、既に存在する粒子
材との混合が、従来の現像ステーションの場合より迅速
に行われる。粒子材の迅速な混合によって、粒子材の迅
速な帯電も可能になり、それがダスト化の抑制につなが
る。鋼及びナイロン繊維を捩って形成されチューブ７２
内に配置されたオーガブラシによって、粒子材がチュー
ブに沿って搬送される。オーガブラシは、ギア対を介し
て独立モータ８０によって駆動され、チューブ内におい
て粒子材を適切な速度で移動させる。
【００２１】多点補給装置７０の独立モータ８０は、現
像ステーション１０のための補給用主モータと電気的、
論理的に接続されており、これら２つのモータは互いに
関連して作動する。システム用補給主モータが始動する
と、多点補給装置用モータ８０も始動する。多孔チャン
バが過剰供給されないように、多孔式補給オーガブラシ
７８はシステム用主補給装置の２倍の速度で作動する。
像ステーション１０のための補給用主モータと電気的、
論理的に接続されており、これら２つのモータは互いに
関連して作動する。システム用補給主モータが始動する
と、多点補給装置用モータ８０も始動する。多孔チャン
バが過剰供給されないように、多孔式補給オーガブラシ
７８はシステム用主補給装置の２倍の速度で作動する。
【００２２】本発明によれば、磁気ブラシ式現像ステー
ション１０への現像材の供給工程においては、時々、使
用済み現像材をステーションから除去する必要がある。
使用済み現像材が除去された後、新しい現像材を補給し
なければならない。図８，９はそれぞれ、現像材排出装
置８０及び、それと現像ステーション１０との関係を示
し、図１０，１１はそれぞれ、充填補助器９０及び、そ
れと現像ステーションとの関係を示している。
ション１０への現像材の供給工程においては、時々、使
用済み現像材をステーションから除去する必要がある。
使用済み現像材が除去された後、新しい現像材を補給し
なければならない。図８，９はそれぞれ、現像材排出装
置８０及び、それと現像ステーション１０との関係を示
し、図１０，１１はそれぞれ、充填補助器９０及び、そ
れと現像ステーションとの関係を示している。
【００２３】排出装置８０は、ステーションプレート８
４と回収箱プレート８６との間に延在するシュート８２
を備えている。排出装置８０（図８，９参照）は、ステ
ーションをステーションプレート８４によって排出ドア
近傍に接続することによって、現像ステーション１０に
対して作用可能状態に取付けられている。排出シュート
を取付けることにより排出ドアが解除されて排出ドアが
開口し、使用済み現像材がシュート８２を通じて、適切
な部材でシュートに取付けられた回収バッグ及び／また
は回収箱８８へと落下する。排出ドアの開口を可能にす
る爪部材はまた、現像ステーション内で排出用シュート
を適切な位置に保持するように構成されている。回収箱
プレート８６は、回収箱８８の開口部内にフィットして
いる。回収箱はシュート８２から垂下され、使用済み現
像材を回収する。このようにして、作業者の介在なしに
ステーション１０から現像材を排出することができる。
プレート８６は、現像材ダストが回収バッグ及び／また
は回収箱から放出されることを防止する。
４と回収箱プレート８６との間に延在するシュート８２
を備えている。排出装置８０（図８，９参照）は、ステ
ーションをステーションプレート８４によって排出ドア
近傍に接続することによって、現像ステーション１０に
対して作用可能状態に取付けられている。排出シュート
を取付けることにより排出ドアが解除されて排出ドアが
開口し、使用済み現像材がシュート８２を通じて、適切
な部材でシュートに取付けられた回収バッグ及び／また
は回収箱８８へと落下する。排出ドアの開口を可能にす
る爪部材はまた、現像ステーション内で排出用シュート
を適切な位置に保持するように構成されている。回収箱
プレート８６は、回収箱８８の開口部内にフィットして
いる。回収箱はシュート８２から垂下され、使用済み現
像材を回収する。このようにして、作業者の介在なしに
ステーション１０から現像材を排出することができる。
プレート８６は、現像材ダストが回収バッグ及び／また
は回収箱から放出されることを防止する。
【００２４】磁気ブラシ式現像ステーション１０から現
像材が除去された後、排出ドアが閉じられ、排出装置８
０はステーションから取外される。次いで、ステーショ
ン１０に現像材を供給するために、充填補助器９０（図
１０，１１参照）が用いられる。充填補助器９０は、ホ
ッパー９２と、ハンドル９４と、充填プレート９６とを
備えている。充填カバーを外し、充填用開口部に充填プ
レート９６を配設することによって充填補助器が取付け
られる。充填用シュートは、充填スイッチを作動させる
ように構成されている。このスイッチは、充填カバーま
たは充填用シュートのいずれかが所定位置に配置され、
新しい現像材が現像ステーションのリザーバに入った際
に混合用オーガ２８が作動可能であることを表示する。
現像ステーションの充填用開口部及び充填プレートは、
充填プレートが傾いたり外れたりすることがないよう
に、互いに係合する形状とされている。充填プレートハ
ンドル９４は、新しい現像材をステーションに供給する
前に排出ドアを確実に閉鎖するような構成とされてい
る。
像材が除去された後、排出ドアが閉じられ、排出装置８
０はステーションから取外される。次いで、ステーショ
ン１０に現像材を供給するために、充填補助器９０（図
１０，１１参照）が用いられる。充填補助器９０は、ホ
ッパー９２と、ハンドル９４と、充填プレート９６とを
備えている。充填カバーを外し、充填用開口部に充填プ
レート９６を配設することによって充填補助器が取付け
られる。充填用シュートは、充填スイッチを作動させる
ように構成されている。このスイッチは、充填カバーま
たは充填用シュートのいずれかが所定位置に配置され、
新しい現像材が現像ステーションのリザーバに入った際
に混合用オーガ２８が作動可能であることを表示する。
現像ステーションの充填用開口部及び充填プレートは、
充填プレートが傾いたり外れたりすることがないよう
に、互いに係合する形状とされている。充填プレートハ
ンドル９４は、新しい現像材をステーションに供給する
前に排出ドアを確実に閉鎖するような構成とされてい
る。
【００２５】本発明による磁気ブラシ式現像ステーショ
ン１０を用いる場合、保守、修理、交換のために、印画
装置に対するステーションの挿入・取外しが容易である
ことが必要である。現像ステーションは、他の装置サブ
システム及びコンポーネントとの間に極めて高い精度を
有し、信頼性高くかつ繰返し可能に印画装置に対して取
付けられることも要求される。そのために、複数のロッ
ド１０４によって懸下されガイドされているスライドレ
ール１０２を含む低摩擦機構１００が設けられている。
扁平フランジ付きベアリング収容部を備えたスライドキ
ャリッジによって、傾いた光導電性ドラムに対して振り
子的整列配置が可能である。センターロッドがキャリッ
ジの動きをガイドし、外側に設けられた２つのロッドが
水平を保つ。電動モータによって駆動されるカムシャフ
トアッセンブリはサイドプレートの２つの構成部材間に
保持され、スライドレールを移動させる。カムシャフト
の位置は、２つの半導体スイッチとカム位置カップリン
グとを用いて制御される。カムが非係合位置から係合位
置へと回転すると、カムは、スライドレールアッセンブ
リの回り止め状態にあるカムリテーナプレートを押す。
スライドレールが係合位置へと移動すると、サイドプレ
ートに取付けられた振り子式負荷アームが傾き、トナー
サブシステムを所定位置へと押す弾性力を発生する。負
荷アーム上に設けられた２つの傾斜押圧パッドと、それ
に対応するトナーステーション上の傾斜ウェッジとを用
いることによって、正方向の鉛直持ち上げ力が発生す
る。（ステーションは下向きには移動できないので、持
ち上げられなければならない。）スライドレールはま
た、サブシステムが装置に挿入されてから全ての電気的
・機械的接続部が接続されるまでの間、サブシステムを
ガイドしながらスライドさせる軌道を備えている。回り
止め状態にあるカムリテーナプレートの係合によって、
低摩擦機構が係合位置にある際にカムシャフトが回転し
ないようになっている。
ン１０を用いる場合、保守、修理、交換のために、印画
装置に対するステーションの挿入・取外しが容易である
ことが必要である。現像ステーションは、他の装置サブ
システム及びコンポーネントとの間に極めて高い精度を
有し、信頼性高くかつ繰返し可能に印画装置に対して取
付けられることも要求される。そのために、複数のロッ
ド１０４によって懸下されガイドされているスライドレ
ール１０２を含む低摩擦機構１００が設けられている。
扁平フランジ付きベアリング収容部を備えたスライドキ
ャリッジによって、傾いた光導電性ドラムに対して振り
子的整列配置が可能である。センターロッドがキャリッ
ジの動きをガイドし、外側に設けられた２つのロッドが
水平を保つ。電動モータによって駆動されるカムシャフ
トアッセンブリはサイドプレートの２つの構成部材間に
保持され、スライドレールを移動させる。カムシャフト
の位置は、２つの半導体スイッチとカム位置カップリン
グとを用いて制御される。カムが非係合位置から係合位
置へと回転すると、カムは、スライドレールアッセンブ
リの回り止め状態にあるカムリテーナプレートを押す。
スライドレールが係合位置へと移動すると、サイドプレ
ートに取付けられた振り子式負荷アームが傾き、トナー
サブシステムを所定位置へと押す弾性力を発生する。負
荷アーム上に設けられた２つの傾斜押圧パッドと、それ
に対応するトナーステーション上の傾斜ウェッジとを用
いることによって、正方向の鉛直持ち上げ力が発生す
る。（ステーションは下向きには移動できないので、持
ち上げられなければならない。）スライドレールはま
た、サブシステムが装置に挿入されてから全ての電気的
・機械的接続部が接続されるまでの間、サブシステムを
ガイドしながらスライドさせる軌道を備えている。回り
止め状態にあるカムリテーナプレートの係合によって、
低摩擦機構が係合位置にある際にカムシャフトが回転し
ないようになっている。
【００２６】前述したように、本発明による磁気ブラシ
式現像ステーション１０が置かれる環境は、汚染の可能
性が高い環境である。現像ステーションは（図１２〜１
４を参照して説明したように）印画装置内の通常の作動
位置から定期的に取外す必要があるので、電源から現像
ステーション内のバイアス印加された現像ローラ１４へ
の信頼性の高い電気接続が必要である。そのために、一
対のブラシ１１２を含むアッセンブリ１１０が設けられ
ている。一対のブラシ１１２は、現像ローラ１４の内側
の導電性表面における汚染のない領域に接触する。２つ
のブラシは、ローラを行き来する電気の流れをモニター
し、バイアス電圧の不足や間欠的な中断が起きた場合に
それらを検出するために設けられている。２つのブラシ
は、共に、交換可能なカートリッジ１１４内に収容され
る。カートリッジ１１４は、現像ローラのインナーベア
リングレースの中央を貫通し、ローラ軸受け部に圧入さ
れた滑らかで清浄な導電性ディスク１１８に接触する。
式現像ステーション１０が置かれる環境は、汚染の可能
性が高い環境である。現像ステーションは（図１２〜１
４を参照して説明したように）印画装置内の通常の作動
位置から定期的に取外す必要があるので、電源から現像
ステーション内のバイアス印加された現像ローラ１４へ
の信頼性の高い電気接続が必要である。そのために、一
対のブラシ１１２を含むアッセンブリ１１０が設けられ
ている。一対のブラシ１１２は、現像ローラ１４の内側
の導電性表面における汚染のない領域に接触する。２つ
のブラシは、ローラを行き来する電気の流れをモニター
し、バイアス電圧の不足や間欠的な中断が起きた場合に
それらを検出するために設けられている。２つのブラシ
は、共に、交換可能なカートリッジ１１４内に収容され
る。カートリッジ１１４は、現像ローラのインナーベア
リングレースの中央を貫通し、ローラ軸受け部に圧入さ
れた滑らかで清浄な導電性ディスク１１８に接触する。
【００２７】カートリッジ１１４は、ばね付勢された２
つのブラシ１１２を収容している。交換可能なカートリ
ッジ１１４内に組込まれたブラシは、わずかな寸法差に
形成された穴の内部でスライドし、こうして軸線方向の
動きが許容されている。さらに、組付け状態では、ばね
に予備負荷が与えられ、ブラシ１１２の導電性ローラデ
ィスク１１８に対する一定力の接触が維持され、かつ使
用によってブラシが摩耗してもこの力が維持されるよう
になっている。アッセンブリ１１０は、現像ローラマウ
ント１２０内で支持・位置決めされ、２本のねじで固定
されている。カートリッジ１１４から延在するブラシ１
１２は、ブラシ直径よりわずかに大きくローラマウント
１２０に形成された対応する２つ貫通孔を通っている。
これらの貫通孔は、内方に延在して導電性ディスクに接
触しているブラシを支持している。バイアスブラシアッ
センブリは、組付け及び交換が容易な２本のコネクタを
備えている。
つのブラシ１１２を収容している。交換可能なカートリ
ッジ１１４内に組込まれたブラシは、わずかな寸法差に
形成された穴の内部でスライドし、こうして軸線方向の
動きが許容されている。さらに、組付け状態では、ばね
に予備負荷が与えられ、ブラシ１１２の導電性ローラデ
ィスク１１８に対する一定力の接触が維持され、かつ使
用によってブラシが摩耗してもこの力が維持されるよう
になっている。アッセンブリ１１０は、現像ローラマウ
ント１２０内で支持・位置決めされ、２本のねじで固定
されている。カートリッジ１１４から延在するブラシ１
１２は、ブラシ直径よりわずかに大きくローラマウント
１２０に形成された対応する２つ貫通孔を通っている。
これらの貫通孔は、内方に延在して導電性ディスクに接
触しているブラシを支持している。バイアスブラシアッ
センブリは、組付け及び交換が容易な２本のコネクタを
備えている。
【００２８】さらに、本発明による磁気ブラシ現像ステ
ーション１０を用いることで、近代の印画装置における
高画質の要求が厳しくなるにつれ適切な画像現像のため
の機械的作用ウィンドウが一般的に小さくなってきたこ
とが認識された。光導電性表面に対して現像ローラが有
する空間と、現像ステーションの製造性・信頼性・コス
トとの間には、常に軋轢が存在してきた。加えて、薄片
化及び塊状化に関する問題は、現像ローラから現像材を
除去して新たな現像材を再付着させる新規技術の開発を
余儀なくした。
ーション１０を用いることで、近代の印画装置における
高画質の要求が厳しくなるにつれ適切な画像現像のため
の機械的作用ウィンドウが一般的に小さくなってきたこ
とが認識された。光導電性表面に対して現像ローラが有
する空間と、現像ステーションの製造性・信頼性・コス
トとの間には、常に軋轢が存在してきた。加えて、薄片
化及び塊状化に関する問題は、現像ローラから現像材を
除去して新たな現像材を再付着させる新規技術の開発を
余儀なくした。
【００２９】現像ローラ１４上の現像材起毛部厚さをコ
ントロールして、現像ローラ／光導電性空間に対する敏
感さを低減する多くの異なる試みがなされてきた。現像
材起毛部が厚過ぎると現像ローラの磁性コア端部から現
像材が漏れ出して電子写真式印画装置の他の領域を汚染
する可能性がある。現像材起毛部が薄過ぎると、高画質
の現像に十分なトナーを確保することができない。現像
ローラ上の現像材起毛部厚さをコントロールする過去の
試みとして、チューブまたはプレートに設けたスロッ
ト、及び計量掻取り部があった。現像材起毛部をコント
ロールするためには、スロットの幅、または掻取り部の
隙間、及びそれらと現像ローラとの関係は、綿密に制御
されなければならない。
ントロールして、現像ローラ／光導電性空間に対する敏
感さを低減する多くの異なる試みがなされてきた。現像
材起毛部が厚過ぎると現像ローラの磁性コア端部から現
像材が漏れ出して電子写真式印画装置の他の領域を汚染
する可能性がある。現像材起毛部が薄過ぎると、高画質
の現像に十分なトナーを確保することができない。現像
ローラ上の現像材起毛部厚さをコントロールする過去の
試みとして、チューブまたはプレートに設けたスロッ
ト、及び計量掻取り部があった。現像材起毛部をコント
ロールするためには、スロットの幅、または掻取り部の
隙間、及びそれらと現像ローラとの関係は、綿密に制御
されなければならない。
【００３０】磁気ブラシ現像ステーションと共に回転現
像ローラシェル２２及び磁性コア１８が用いられる。こ
の変更実施形態では、計量掻取り部１３２と共に予備掻
取り部１３０が用いられている。現像材としての新たな
印画粒子の再付着を容易にするために、ローラの磁性コ
アが現像ローラの内側に偏心状態で設けられている。こ
うして、現像材は、下方の磁界に到達した際に現像ロー
ラから落下する。このような構成により、現像材をロー
ラから除去する掻取り部が不要になり、通常問題となる
トナーの薄片及び塊の形成が防止できる。
像ローラシェル２２及び磁性コア１８が用いられる。こ
の変更実施形態では、計量掻取り部１３２と共に予備掻
取り部１３０が用いられている。現像材としての新たな
印画粒子の再付着を容易にするために、ローラの磁性コ
アが現像ローラの内側に偏心状態で設けられている。こ
うして、現像材は、下方の磁界に到達した際に現像ロー
ラから落下する。このような構成により、現像材をロー
ラから除去する掻取り部が不要になり、通常問題となる
トナーの薄片及び塊の形成が防止できる。
【００３１】本発明において重要な部分は、現像ローラ
１４に対する計量掻取り隙間の位置である。計量掻取り
隙間は、現像ローラの磁性コアから遠い磁界強度最小の
点に配置される。この位置は、計量掻取り隙間に対する
現像材起毛高さの敏感さを顕著に低減する。
１４に対する計量掻取り隙間の位置である。計量掻取り
隙間は、現像ローラの磁性コアから遠い磁界強度最小の
点に配置される。この位置は、計量掻取り隙間に対する
現像材起毛高さの敏感さを顕著に低減する。
【００３２】本発明による現像ステーション１０は、現
像材を十分に混合して帯電させるための現像材混合部材
と、現像材を混合領域から現像ローラへと搬送するため
の磁性搬送ローラとを備えている。磁性コアは、その回
転中心が現像ローラシェルと一致しないように位置決め
されている。これは主として、使用済み現像材が下方磁
界に到達した際に現像ローラから落下させ、現像ローラ
から掻取り部によって現像材を除去する必要性を排除
し、掻取り部によるトナーの薄片化及び塊状化の問題を
軽減するためである。現像材予備掻取り部が設けられて
いるが、これは、ある程度の量の現像材が搬送ローラか
ら現像ローラシェルに到達することを許容する。この現
像材予備掻取り部なしでは大量の現像材が掻取り部に供
給され、その結果、大きな駆動トルクが必要になる。次
いで現像材は、現像材計量掻取り部によって、二度目の
掻取りを受ける。
像材を十分に混合して帯電させるための現像材混合部材
と、現像材を混合領域から現像ローラへと搬送するため
の磁性搬送ローラとを備えている。磁性コアは、その回
転中心が現像ローラシェルと一致しないように位置決め
されている。これは主として、使用済み現像材が下方磁
界に到達した際に現像ローラから落下させ、現像ローラ
から掻取り部によって現像材を除去する必要性を排除
し、掻取り部によるトナーの薄片化及び塊状化の問題を
軽減するためである。現像材予備掻取り部が設けられて
いるが、これは、ある程度の量の現像材が搬送ローラか
ら現像ローラシェルに到達することを許容する。この現
像材予備掻取り部なしでは大量の現像材が掻取り部に供
給され、その結果、大きな駆動トルクが必要になる。次
いで現像材は、現像材計量掻取り部によって、二度目の
掻取りを受ける。
【００３３】他の現像ステーション構成において、計量
掻取り隙間に対する現像材起毛高さが極端な敏感さを有
していることは実証されている。現像ローラの磁性コア
から遠い最も磁界強度の低い領域に計量掻取り隙間を設
けることによって、前記の敏感さを１／２〜１／４に低
減することができる。これによって、製造時における計
量掻取り隙間のセットアップが容易になり、現像ローラ
の長さ方向における掻取り隙間の相違の影響を受けにく
くなる。
掻取り隙間に対する現像材起毛高さが極端な敏感さを有
していることは実証されている。現像ローラの磁性コア
から遠い最も磁界強度の低い領域に計量掻取り隙間を設
けることによって、前記の敏感さを１／２〜１／４に低
減することができる。これによって、製造時における計
量掻取り隙間のセットアップが容易になり、現像ローラ
の長さ方向における掻取り隙間の相違の影響を受けにく
くなる。
【００３４】以上、本発明を特定の好ましい実施形態を
参照しながら説明してきたが、本発明の思想及び請求範
囲内において、変更及び改良が可能であることを理解さ
れたい。
参照しながら説明してきたが、本発明の思想及び請求範
囲内において、変更及び改良が可能であることを理解さ
れたい。
【図１】 印画装置に用いられる本発明の磁気ブラシ式
現像ステーションの側方断面図である。
現像ステーションの側方断面図である。
【図２】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーションの
現像ローラ及び計量掻取り部を示す拡大部分断面端面図
である。
現像ローラ及び計量掻取り部を示す拡大部分断面端面図
である。
【図３】 図２に示す現像ローラ及び計量掻取り部の拡
大部分断面底面図であり、特に、本発明による磁気シー
ルを示している。
大部分断面底面図であり、特に、本発明による磁気シー
ルを示している。
【図４】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーションの
オーガシャフトのためのベアリング及びシールアッセン
ブリを示す拡大側方断面図である。
オーガシャフトのためのベアリング及びシールアッセン
ブリを示す拡大側方断面図である。
【図５】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーションの
混合用オーガを示す斜視図である。
混合用オーガを示す斜視図である。
【図６】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーションの
分解斜視図である。
分解斜視図である。
【図７】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーションの
多孔補給システムを示す部分分解斜視図である。
多孔補給システムを示す部分分解斜視図である。
【図８】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーションに
組合わされる現像材排出装置を示す斜視図である。
組合わされる現像材排出装置を示す斜視図である。
【図９】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーションに
組合わされる現像材排出装置を示す斜視図である。
組合わされる現像材排出装置を示す斜視図である。
【図１０】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーション
に組合わされる充填補助器を示す斜視図である。
に組合わされる充填補助器を示す斜視図である。
【図１１】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーション
に組合わされる充填補助器を示す斜視図である。
に組合わされる充填補助器を示す斜視図である。
【図１２】 図１に示す磁気ブラシ式現像ステーション
のためのキャリッジアッセンブリを示す端面図である。
のためのキャリッジアッセンブリを示す端面図である。
【図１３】 図１２に示すキャリッジアッセンブリの斜
視図である。
視図である。
【図１４】 図１２に示すキャリッジアッセンブリの斜
視図である。
視図である。
【図１５】 現像ローラにバイアス電圧を供給するため
の一対のブラシの取付け状態を示す断面図である。
の一対のブラシの取付け状態を示す断面図である。
【図１６】 現像ローラにバイアス電圧を供給するため
の一対のブラシの取付け状態を示す部分分解斜視図であ
る。
の一対のブラシの取付け状態を示す部分分解斜視図であ
る。
【図１７】 現像ローラにバイアス電圧を供給するため
の一対のブラシの取付け状態を示す部分分解斜視図であ
る。
の一対のブラシの取付け状態を示す部分分解斜視図であ
る。
【図１８】 本発明による磁気ブラシ式現像ステーショ
ンに用いられる現像材掻取り機構の変更形態を示す部分
断面端面図である。
ンに用いられる現像材掻取り機構の変更形態を示す部分
断面端面図である。
１０ 磁気ブラシ式現像ステーション １２ 現像ステーションハウジング １２ａ ハウジング側壁の穴 １４ 現像ローラ １８ 回転シェル ２０ 現像領域 ２４ 単極永久磁石 ２６ 金属板 ２８ オーガ ３０ 組立体 ３２ 円筒状ハウジング ３４ａ，３４ｂ ベアリング ３６ スペーサ ３８ オーガ駆動部材 ４８ シール部材 ４８ａ リップシール ５０ 回転シャフト ６０ 薄膜タイプシール部材（圧力均衡化シール部材） ７０ 多点補給システム（補給機構） ７２ チューブ ７４ ポート ８０ 現像材排出装置（補給機構） ９０ 充填補助器（補給機構） １００ 低摩擦機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェリー・イー・リヴァダス アメリカ合衆国・14612・ニューヨーク・ ロチェスター・シュレーゲル・ロード・ 1484 (72)発明者 スコット・ティ・スラタリー アメリカ合衆国・14420・ニューヨーク・ ブロックポート・ホワイト・ロード・1069 (72)発明者 パトリシア・ディ・ルーシュル アメリカ合衆国・14468・ニューヨーク・ ヒルトン・ヒル・ロード・433 (72)発明者 ゲイリー・イー・ニコルズ アメリカ合衆国・14450・ニューヨーク・ フェアポート・ブレントウッド・レーン・ 31 (72)発明者 ミシェル・ディ・ワイズ アメリカ合衆国・14464・ニューヨーク・ ハムリン・ローズヴェルト・ハイウェイ・ 3241 (72)発明者 キャスリン・ワイ・ユー アメリカ合衆国・14526・ニューヨーク・ ペンフィールド・ケイデンス・コート・５ (72)発明者 ドナルド・エス・ヘンゼル アメリカ合衆国・14626・ニューヨーク・ ロチェスター・ケルティック・レーン・ 157 (72)発明者 ダニエル・エフ・ヴェスポーン アメリカ合衆国・14606・ニューヨーク・ ロチェスター・バーニー・レーン・108 (72)発明者 クリストファー・エス・ガルシア アメリカ合衆国・14618・ニューヨーク・ ロチェスター・ヴァリナ・ドライヴ・133 (72)発明者 トーマス・エス・アルブレヒト アメリカ合衆国・14424・ニューヨーク・ キャナンダイガ・シーダー・クリフ・ドラ イヴ・4606 (72)発明者 マイケル・イー・ジェイコブス アメリカ合衆国・14626・ニューヨーク・ ロチェスター・クリスティン・マリー・ド ライヴ・90 (72)発明者 ジェームズ・アール・キャリー アメリカ合衆国・14423・ニューヨーク・ カレドニア・ミドル・ロード・446 (72)発明者 ダブリュ・チャールズ・カシスキー アメリカ合衆国・14526・ニューヨーク・ ペンフィールド・ウェイシャイア・ドライ ヴ・５ (72)発明者 ティモシー・ジー・アームストロング アメリカ合衆国・14612・ニューヨーク・ グリース・ペブルヴュー・ドライヴ・431 (72)発明者 スティーヴン・ディ・ケプナー アメリカ合衆国・14424・ニューヨーク・ キャナンダイガ・モンクス・ロード・5935 Ｆターム(参考） 2H031 AA01 AB02 AC04 AC08 AC14 AC19 AC23 AC30 AC40 AE01 BA03 CA13 2H077 AA27 AB02 AB15 AB18 AC02 AC12 AC16 AD06 AD13 AD31 AD35 AE10 CA12 CA15 CA19
Claims (6)
- 【請求項１】 印画装置のための磁気ブラシ式現像ステ
ーションであって、該磁気ブラシ式現像ステーション
は、 現像材のために設けられ圧力均衡化シールを有するリザ
ーバを少なくとも部分的に構成するハウジングと、 前記印画装置に対して前記ハウジングを動かすために前
記ハウジングに組合わされた機構と、 現像材の少なくとも一成分を、選択的かつ容易に、前記
リザーバに補給し、及び／または、前記リザーバから排
出する補給機構と、 前記リザーバ内で現像材を混合するために前記ハウジン
グ内に設けられた複数のオーガ及び前記ハウジングを貫
通しシール部材を有し前記オーガを駆動するために設け
られた駆動装置と、 前記リザーバから現像領域へと現像材を搬送するために
前記ハウジング内に取付けられた現像ローラと、 前記ハウジングのリザーバ部から前記現像領域へと供給
される現像材の量を制御するために前記現像ローラの長
さにわたって延在する計量掻取り部と、 前記現像ローラの両端部で前記掻取り部と組合わされた
磁気シールと、を備え、 前記現像ローラは、回転シェル内にコア磁石を備え、該
コア磁石及び前記シェルは相対回転し、前記コア磁石
は、前記シェル上の現像材起毛部が前記現像ローラの端
部にまで延在しないように前記現像ローラの全長より短
い長さに延在し、 前記計量掻取り部は、前記シェルの回転方向で前記現像
領域に先行する上流側において前記現像ローラの長手軸
線に対して平行に配置され、 前記磁気シールの磁界は、現像材が前記現像ローラの端
部から漏れ出すことを防止するのに十分であるように構
成されていることを特徴とする磁気ブラシ式現像ステー
ション。 - 【請求項２】 前記磁気シールは、400〜1200ガウスの
磁界強度が与えられたセラミック製単極永久磁石を備
え、該磁石の一端は、前記現像ローラの対応する一端と
ほぼ面一に置かれ、かつ前記現像ローラとオーバーラッ
プを有する形で現像ローラの長手軸線方向に延在し、前
記単極磁石は、該単極磁石の活性極が前記現像ローラの
外周面に近接配置される形態で前記計量掻取り部に金属
板及び締結部材によって固定され、前記金属板は、前記
単極磁石の前記現像ローラに対面する領域以外の磁界を
遮蔽するように機能することを特徴とする請求項１に記
載の磁気ブラシ式現像ステーション。 - 【請求項３】 前記オーガのための前記駆動装置は、容
易に保守可能な組立体を含み、該組立体は、前記現像ス
テーションのハウジングを貫通して延在する略円筒状の
ハウジングと、スペーサを間に介装して前記円筒状ハウ
ジング内に配置された２つのベアリングと、オーガ駆動
部材と、オーガに接続された回転シャフトを取り囲むシ
ール部材と、を含み、前記シール部材は、前記シャフト
が前記駆動部材によって回転駆動されることを許容しな
がら前記シャフトとの接触を保持できるように緊迫可能
な材料からなるリップシールを備え、こうして前記組立
体は、摩耗しにくく、熱を発生しにくいように構成され
ていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ブラシ式
現像ステーション。 - 【請求項４】 前記圧力均衡化シール部材は、前記ハウ
ジングに設けられた穴を覆うように配置された薄膜タイ
プのシール部材であり、該シール部材は、前記ハウジン
グ内部と外部との間に生じた圧力差によって生起される
空気流を前記薄膜を通じて通すが、現像材が前記ハウジ
ングから漏れ出すことは阻止し、前記シール部材の位置
は、前記ハウジング内の現像材が常に前記薄膜上を移動
し、それによって薄膜シール部材が清浄化され、薄膜シ
ールの作用が維持されるように決定されていることを特
徴とする請求項１に記載の磁気ブラシ式現像ステーショ
ン。 - 【請求項５】 前記複数のオーガのうちの外側のオーガ
は、該現像ステーションの中心側に向けてわずかに高い
位置に配置され、このような配置によって、中心間距離
を維持してオーガ翼体同士の干渉を回避しながら、該ス
テーションの幅が低減されていることを特徴とする請求
項１に記載の磁気ブラシ式現像ステーション。 - 【請求項６】 前記補給機構は、一連のポートを含むチ
ューブを備え、前記一連のポートは、特定の角度位置に
配置されると共にそれぞれ異なるサイズに形成され、こ
うして全ての前記全てのポートを同量の粒子材が通り、
印画粒子は、前記複数のポートを通じて少しずつ排出さ
れて前記ハウジングの前記リザーバに供給されことを特
徴とする請求項１に記載の磁気ブラシ式現像ステーショ
ン。
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|---|---|---|---|
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