JP2001208945A - 光学部材を変形少なく支持する支持装置及び光学部材を変形少なく支持する支持方法 - Google Patents

光学部材を変形少なく支持する支持装置及び光学部材を変形少なく支持する支持方法

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ミカエル・エーベルト
Franz Sorg
フランツ・ゾルク
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ミカエル・トゥルンツ
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フランク・マリアネック
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カールフリート・オスターリート
Markus Kasparek
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学部材、特に半導体構成部材のための投影
装置に設けられるレンズのカバープレートを変形少なく
支持するための支持装置を提供する。 【解決手段】 本発明による支持装置は、ホルダー1を
有し、光学部材2は接合層を介して少なくとも部分的に
ホルダー1と結合しており、接合層はホルダー1と光学
部材2とが互いに隣接する円周壁4,5の間に設けられ
る。ホルダー1は、円周に配分された少なくとも3つの
支持基底部3を有し、支持基底部3に光学部材2が支持
される。接合層は、ホルダー1と光学部材2とが互いに
隣接する円周壁4,5の間に設けられる環状間隙6の少
なくとも一部に設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学部材、特に請
求項1のおいて書き部分に詳細に規定されるような、半
導体部材のための投影装置に用いられるレンズのカバー
プレートを、変形少なく支持するための支持装置に関す
るものである。本発明はまた、このような光学部材を変
形少なく支持する支持方法に関するものでもある。
【0002】
【従来の技術】この種の支持装置は、独国特許第41 13
956号公報から周知である。この文献によると、光学部
材と、この光学部材の周囲に設けられたホルダーとの間
の円周領域にだけ接合層を設けることが開示されてい
る。さらに、このホルダーには溝が設けられ、この溝に
よって例えば毛細管現象によって接合剤が本来の接合剤
による接触面を越えてはみ出さないようになっている。
円周領域全体にわたる接合に加えて、光学部材はある種
の予備ねじリングによって軸方向に保持または締め付け
られる。従来の装置の課題は、ホルダーと光学部材との
熱膨張差を吸収できるような限定的接合継ぎ目を設ける
ことである。
【0003】投影装置のレンズに設けられる周知のカバ
ープレートは、断面がL字形の回転対称な接合面を有し
ている。この接合面に接合剤が塗布される。接合剤が硬
化した後、前記接合面は、L字形の接合剤からなるベー
ス部分となるようにくり抜かれ、それによって均一な支
持面が作られる。この支持面に再度接合剤が塗布され、
続いてカバープレートが押し込まれる。接合剤はその後
硬化し、余剰分は除去される。
【0004】このような周知慣用の接合方法の不利点
は、L字形の接合箇所を介してモーメントが作用してカ
バープレートに変形が引き起こされることである。さら
に、前記の製造方法を用いると多大なコストがかかる点
も不利である。その理由は、カバープレートがホルダー
の金属のどこかに接触することを防止するために、確実
に円周全体が均一になるように最初の接合層を塗布しな
ければならないからである。さらに、接合層の硬化を待
ち、装置を治具に固定して支持面が均一になるようにく
り抜かなければならない。その後初めて本来の接合層が
L字形断面の接合面に塗布されるのである。
【0005】また、前記接合層を塗布する際に、光学部
材、特に投影装置のためのレンズのカバープレートに発
生している変形が時間的に変化することも確認されてい
る。このような光学部材における変形は、接合層が硬化
する時、またカバープレートが洗浄される時に変化す
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、光学
部材が、大幅に変形を受けずに、あるいは変形を防止さ
れた状態でホルダーに支持される前記のような種類の支
持装置を提供することであり、特に、時間的に変化する
ゆがみが大幅に低減されるような支持装置を提供するこ
とである。
【0007】
【課題を解決するための手段】このような課題は、本発
明の請求項1の特徴部分に記載の点によって解決され
る。変形の少ない支持方法は請求項7に記載されてい
る。
【0008】本発明によれば、ホルダーと、光学部材の
円周面または互いに隣接する円周壁のみを接合すること
によって、変形は大幅に低減される。光学部材に傷をつ
けないようにするために、また光学部材をより正確に位
置決めするため、ホルダーには少なくとも3つの支持基
底部が設けられ、これらの基底部にカバープレートが直
接的に設けられる。このようにして限定的な3点支持が
実現される。
【0009】ホルダーの円周壁の支持基底部領域には、
好適に接合剤ブリッジを形成することができる。このブ
リッジによって、接合層を塗布する前に、円周領域にお
いて光学部材をセンタリングできる。
【0010】接合ブリッジによって形成される接合剤ベ
ースが硬化し、くり抜かれた後に、接合層がホルダーと
光学部材とが互いに隣接する円周壁の間に形成された環
状間隙の円周領域全体にわたって設けられると、同時に
ホルダーと光学部材の間も密閉される。
【0011】本発明のさらなる非常に好適な実施の形態
では、支持基底部に接合剤受容部を設けることもでき
る。
【0012】接合剤受容部はホルダーに放射状の切り込
みを設けることによって、ホルダーの内部円周壁と支持
基底部との間に好適に凹所を形成する。このような凹所
に、接合剤ブリッジから接合剤が流入する。このように
して、接合剤が過剰に供給された場合のバッファ空間が
得られる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて原理的に説明する。
【0014】基本的に従来の構成を有し、光学部材、例
えば半導体構成部材のための投影装置のためのレンズの
カバープレート2などを支持するために用いられるホル
ダー1は、内側の円周領域に、円周上に均等に配分され
て設けられた3つの支持基底部3を有している。
【0015】これらの支持基底部3はホルダー1と一体
であり、ホルダー1の内側円周壁4を越えて突出してい
る。ホルダー1は、図2〜4で分かるように、内部円周
領域において横断方向断面が減少している。ホルダー1
の内部円周壁4、及び光学部材、すなわちカバープレー
ト2の円周壁5の直径は、その間に環状間隙6が形成さ
れるように互いに選択される。
【0016】図2から分かるように、支持基底部3には
接合剤受容部7が設けられている。接合剤受容部7は、
支持基底部3の領域において、ホルダー1の円周壁4に
放射状の切り込みを設けることによって形成されてい
る。
【0017】ホルダー1におけるカバープレート2の支
持は以下のように行われる。
【0018】支持基底部3の領域ではホルダー1の円周
壁4に、放射状の接合剤ブリッジ9が設けられている
(図2および3参照)。接合剤ブリッジ9が硬化した
後、このような方法で形成された3つの接合剤ベースが
くり抜かれ、それによって限定された環状間隙6が作ら
れる。3つの支持基底部3は、その際、金属用旋盤によ
ってくり抜かれ、カバープレートは基底部のないところ
に設けられる。それによってカバープレート2をセンタ
リングすることができる。従って、このような方法で作
られた接合剤ベース上にカバープレート2が配置され、
適切にセンタリングされる。その後、ホルダー1の円周
壁4とカバープレート2の円周壁5との間の環状間隙6
に円周状に接合剤層6′が設けられ、それによって同時
にホルダー1とカバープレート2の間も密閉される。支
持基底部3は、実際にはカバープレート2を軸方向にお
いてセンタリングするためにしか用いられていない。ホ
ルダー1とカバープレート2との間の本来の接合は、カ
バープレート2の円周部またはカバープレートの円周面
において、環状間隙6に設けられた接合剤層6′によっ
て行われる。
【0019】ホルダー1に設けられた凹所としての接合
剤受容部7によって、接合剤ブリッジ9を支持面4に設
ける際に、接合剤がどこかで意に反してあふれ出すのを
毛細管現象によって防止することができる。理想的な場
合には、これらの受容部には接合剤が入り込まない。
【0020】支持基底部3によってZ(光軸)方向(金
属/ガラスの接触)に限定された支持面が作られる。本
発明による支持装置によって、均一に設けられた環状間
隙6によって接合剤の収縮により発生する張力を円周に
均一に配分し、それによってカバープレート2の変形を
明らかに減少させることができる。カバープレート2の
中立線の位置で接合が行われることによって、接合剤の
収縮によってカバープレート2にモーメントが作用する
ことが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 光学部材のための支持基底部を備えた本発明
によるホルダーの斜視図である。
【図2】 ホルダーと光学部材としてのカバープレート
とを、支持基底部領域で示す部分拡大断面図である。
【図3】 ホルダーの支持基底部領域の部分斜視図であ
る。
【図4】 ホルダーと光学部材とを、支持基底部のない
領域で示す部分拡大断面図である。
【符号の説明】 1 ホルダー 2 カバープレート 3 支持基底部 4,5 円周壁 6 環状間隙 6′ 接合層 7 接合剤受容部 9 接合剤ブリッジ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミカエル・トゥルンツ ドイツ・D−73479・プファールハイム・ エリカシュトラーセ・9 (72)発明者 フランク・マリアネック ドイツ・D−73447・オーバーコッヒェ ン・ドライセンタルシュトラーセ・42 (72)発明者 カールフリート・オスターリート ドイツ・D−73431・アアレン・シュトイ フェンバーグシュトラーセ・40a (72)発明者 マルクス・カスパレック ドイツ・D−77704・オーバーキルヒ・バ ッハシュトラーセ・2

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光学部材、特に半導体構成部材のための
    投影装置に用いられるレンズのカバープレートを変形少
    なくホルダーに支持するための支持装置であり、前記光
    学部材が接合層を介して少なくとも部分的に前記ホルダ
    ーと結合し、前記接合層が、ホルダーと光学部材とが互
    いに隣接する円周壁に設けられている支持装置におい
    て、 前記ホルダー(1)は、前記円周上に配分された少なく
    とも3つの支持基底部(3)を有し、該支持基底部に前
    記光学部材(2)が支持され、前記接合層は、ホルダー
    (1)と光学部材(2)とが互いに隣接する円周壁の間
    に設けられる環状間隙(6)の少なくとも一部に形成さ
    れていることを特徴とする支持装置。
  2. 【請求項2】 前記ホルダー(1)の円周壁(4)の支
    持基底部(3)領域に、前記光学部材(2)をセンタリ
    ングするための接合剤ブリッジ(9)が設けられている
    ことを特徴とする請求項1に記載の装置。
  3. 【請求項3】 前記接合剤ブリッジ(9)は、前記光学
    部材(2)の中立線の領域に設けられていることを特徴
    とする請求項2に記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記接合層(6′)は、前記環状間隙
    (6)の円周全体にわたって設けられていることを特徴
    とする請求項1に記載の装置。
  5. 【請求項5】 前記支持基底部(3)には、接合剤受容
    部(7)が設けられていることを特徴とする請求項1に
    記載の装置。
  6. 【請求項6】 前記支持基底部(3)は、前記ホルダー
    (1)と一体的に形成され、前記接合剤受容部(7)
    は、前記ホルダー(1)に放射状に切り込みを設けるこ
    とによって形成されていることを特徴とする請求項5に
    記載の装置。
  7. 【請求項7】 光学部材、特に半導体構成部材のための
    投影装置に設けられるレンズのカバープレートを変形少
    なくホルダーに支持するための支持方法であり、前記ホ
    ルダーと前記光学部材とが互いに隣接する円周壁の間に
    少なくとも部分的に接合層を設けるタイプの支持方法に
    おいて、 前記支持基底部(3)を前記ホルダー(1)と一体的に
    形成し、接合剤ブリッジ(9)を設けた後に前記光学部
    材(2)を少なくとも3つの支持基底部(3)上に配置
    しかつ前記接合剤ブリッジを介してセンタリングし、前
    記光学部材(2)をセンタリングした後、前記ホルダー
    (1)と前記光学部材(2)とが互いに隣接する円周壁
    の間の環状間隙(6)の少なくとも一部に接合層
    (6′)を形成することを特徴とする支持方法。
  8. 【請求項8】 前記接合剤ブリッジ(9)を、前記ホル
    ダーの前記円周壁(4)における前記支持基底部(3)
    の領域に設けることを特徴とする請求項7に記載の方
    法。
  9. 【請求項9】 前記接合層(6′)を、前記ホルダー
    (1)と前記光学部材(2)との間の環状間隙(6)の
    円周全体にわたって設け、前記ホルダー(1)と前記光
    学部材(2)との間が密閉されることを特徴とする請求
    項7に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記接合剤ブリッジ(9)を、前記光
    学部材(2)の中立線の領域において前記ホルダー
    (1)の前記円周壁(4)に設けることを特徴とする請
    求項7に記載の方法。
JP2000367485A 1999-12-10 2000-12-01 光学部材を変形少なく支持する支持装置及び光学部材を変形少なく支持する支持方法 Withdrawn JP2001208945A (ja)

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